JP2003270403A

JP2003270403A - 光学部品の製造方法

Info

Publication number: JP2003270403A
Application number: JP2002069169A
Authority: JP
Inventors: Kimio Shiozawa; 喜三雄塩沢; Daisuke Ariga; 大助有賀
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-03-13
Filing date: 2002-03-13
Publication date: 2003-09-25

Abstract

(57)【要約】【課題】カバーウインドウ等の光学部品に反射防止膜
等の各種の処理を施して製造するに際し、簡易な設備を
用いて材料の無駄が少なく、しかも少量生産効率に優れ
た光学部品の製造方法を提供する。【解決手段】光学部品に施すプライマー処理、ハード
コート膜形成、印刷、反射防止膜形成、撥水処理、粘着
剤層形成の各工程の一つ以上、好ましくは全部をインク
ジェットによる液状組成物の塗布方法に切り替える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品の製造方
法に関し、特に、携帯機器のカバーウインドウ等の光学
部品の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】携帯電話等の液晶表示装置を備えた携帯
機器では、液晶表示装置の表示面は薄い無機ガラスで構
成されているため、携帯機器の外面に液晶表示装置が露
出していると、使用中の外力や衝撃により液晶が割れて
しまうおそれがある。そのため、液晶表示装置を筐体内
のやや奥まった位置に収納し、筐体に表示面を視認でき
る窓部を設け、この窓部を閉塞するように透明なカバー
ウインドウを固定し、カバーウインドウで液晶表示装置
の表示面を保護する構成が採用される。

【０００３】このようなカバーウインドウの従来の製造
方法は、例えばカバーウインドウの形状に成形されたカ
バーウインドウ基材の外面側又は内外両面に必要により
プライマー処理を施した後、耐擦傷性を付与するハード
コート膜を設ける。このハードコート膜の形成は、ディ
ッピングやスピンコートなどの塗装方法でハードコート
液をカバーウインドウ基材に塗布し、硬化させて行われ
る。次に、カバーウインドウ基材の内面側に額縁状の装
飾部を印刷する。装飾部は、例えば遮光性を考慮して厚
手の印刷ができるスクリーン印刷で形成される。多色刷
りの装飾部ではスクリーン印刷は数回行われる。次に、
カバーウインドウ基材の内外両面に真空蒸着等で反射防
止膜を形成する。必要により、反射防止膜に撥水処理を
行う。最後に、両面粘着テープをカバーウインドウ基材
の内面の外周部に貼り付ける。その後、外表面に保護シ
ート、内面の両面粘着テープを覆って剥離紙を貼り付け
る。これらの工程によって製造されたカバーウインドウ
が、携帯電話の筐体の液晶パネルの表示面を視認できる
開口部に両面粘着テープを介して貼り付けられ、固定さ
れる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のカバーウインドウの製造方法は、多大な設備を
必要とするだけでなく、材料の無駄が大きい上、少量生
産に対して生産効率が低いという問題がある。

【０００５】即ち、ハードコート膜形成のディッピング
法やスピンコート法では、カバーウインドウ基材に付着
する量よりも遙かに多量のハードコート液を廃却してお
り、ハードコート液の利用効率が低い。また、印刷工程
のスクリーン印刷は、多色刷りの場合、印刷・乾燥の工
程を繰り返さなければならないため、能率が悪く、機種
切り替えも容易ではない。反射防止膜形成では、真空装
置等の大型の高価な装置を使用し、設備コストが高い
上、少量生産に対応が困難である。更に、両面粘着テー
プを貼る工程では、両面粘着テープはカバーウインドウ
の外周面にのみ貼り付けられ、中央部分は廃棄すること
になるため、材料の無駄が大きい。

【０００６】そのため、簡易な設備を用いて材料の無駄
が少なく、しかも少量生産に対する生産効率が良く、カ
バーウインドウの製造コストを低減できる製造方法が要
望されている。

【０００７】本発明は、上記要望に鑑みてなされたもの
で、カバーウインドウ等の光学部品に反射防止膜等の各
種の処理を施して製造するに際し、簡易な設備を用いて
材料の無駄が少なく、しかも少量生産効率に優れた光学
部品の製造方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成するため、鋭意検討した結果、カバーウインドウを
製造する工程のプライマー処理、ハードコート膜形成、
印刷、反射防止膜形成、撥水処理、粘着剤層の形成等
は、全て液状組成物の塗布により行うことが可能である
こと、液状組成物の塗布方法としてインクジェットを用
いることが可能であることを知見した。

【０００９】インクジェットを用いることによって、真
空装置等の大きな設備は不要になり、製造装置がコンパ
クトになる。そのため、製造工程全体をクリーンルーム
内に収納することが可能になり、ゴミの付着等の不良品
の発生を低減することができる。しかも、必要な部分に
必要な量だけ塗布することが可能であるため、材料の無
駄が少ない。また、枚葉処理であるため、少量生産に対
して生産効率が高い。

【００１０】従って、請求項１記載の発明は、反射防止
膜を形成できる液状組成物をインクジェット方式の微小
ノズルから微小液滴として光学部品の一方の面又は両面
の所定の箇所に吐出して塗装する反射防止膜形成工程を
有することを特徴とする光学部品の製造方法を提供す
る。

【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の光
学部品の製造方法において、更に、ハードコート膜を形
成できる液状組成物をインクジェット方式の微小ノズル
から微小液滴として光学部品の一方の面又は両面の所定
の箇所に吐出して塗装するハードコート膜形成工程を有
することを特徴とする光学部品の製造方法を提供する。

【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の光学部品の製造方法において、更に、インクをイン
クジェット方式の微小ノズルから微小液滴として光学部
品の一方の面又は両面の所定の箇所に吐出して印刷する
印刷工程を有することを特徴とする光学部品の製造方法
を提供する。

【００１３】請求項４記載の発明は、粘着剤層を形成で
きる液状組成物をインクジェット方式の微小ノズルから
微小液滴として光学部品の一方の面又は両面の所定の箇
所に吐出して塗装する粘着剤層形成工程を有することを
特徴とする光学部品の製造方法を提供する。

【００１４】請求項５記載の発明は、請求項１〜３いず
れかに記載の光学部品の製造方法において、更に、請求
項４記載の粘着剤層形成工程を有することを特徴とする
光学部品の製造方法を提供する。

【００１５】請求項６記載の発明は、請求項１〜５いず
れかに記載の光学部品の製造方法において、更に、プラ
イマーを形成できる液状組成物をインクジェット方式の
微小ノズルから微小液滴として光学部品の一方の面又は
両面の所定の箇所に吐出して塗装するプライマー処理工
程を有することを特徴とする光学部品の製造方法を提供
する。

【００１６】請求項７記載の発明は、請求項１〜６いず
れかに記載の光学部品の製造方法において、更に、前記
光学部品の最外層を構成するハードコート膜又は反射防
止膜の上に、撥水処理を施す液状組成物をインクジェッ
ト方式の微小ノズルから微小液滴として吐出して塗装す
る撥水処理工程を有することを特徴とする光学部品の製
造方法を提供する。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光学部品の製造方
法の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実
施の形態に限定されるものではない。

【００１８】本発明の光学部品の製造方法は、光学部品
に施すプライマー処理、ハードコート膜形成、印刷、反
射防止膜形成、撥水処理、粘着剤層形成の各工程の一つ
以上、好ましくは全部をインクジェットによる塗布方法
に切り替えるものである。

【００１９】本発明の光学部品の製造方法の対象となる
光学部品としては、例えば、眼鏡レンズ、調光用レン
ズ、サングラス、カメラレンズ、望遠鏡レンズ、拡大鏡
レンズ、プロジェクターレンズ、ピックアップレンズ、
マイクロレンズ等の各種光学レンズおよび光学ミラー、
光学フィルター、半導体露光用のステッパー、携帯機器
のカバーウインドウ等の光学物品に適用することができ
る。

【００２０】特に、上記工程のほとんどの工程が必要と
なるカバーウインドウの製造に適している。以下では、
カバーウインドウの製造方法について説明するが、本発
明では、光学部品に必要とされる処理を選択して上記工
程を組み合わせることができる。

【００２１】カバーウインドウは、携帯機器の筐体の窓
部に固定されて筐体の内部を透視する用途に用いられる
もので、携帯機器の表示装置の表示面に直接物が当たら
ないように、筐体内部に収納した液晶表示装置の表示面
を被覆して表示面を保護し、表示面を視認するために用
いられる用途が代表的である。

【００２２】携帯機器としては、携帯電話、携帯ゲーム
機、デジタルカメラ、携帯無線通信機、携帯ラジオ、腕
時計、携帯音響機器等の表示装置の表示面の保護に用い
ることができる。表示装置としては、液晶表示装置が代
表的である。

【００２３】図２に、カバーウインドウの一例を示す。
図２（ａ）はカバーウインドウの一例を示す平面図、
（ｂ）〜（ｅ）はカバーウインドウの断面構造の例を示
す。

【００２４】カバーウインドウ１は、図２（ａ）に示す
ように、表示装置の表示面を視認するための中央の透視
部２と透視部２の周囲の額縁状の装飾部３を有する。装
飾部３は遮光性を有する印刷やホットスタンプ等の加飾
法で形成される。装飾部３は、図２（ａ）に示すよう
に、最外周の第１装飾部３ａとその内側の第２装飾部３
ｂのように、２色以上で形成される場合が多い。

【００２５】カバーウインドウ１の構造としては、図２
（ｂ）に示すように、透明なカバーウインドウ基材４の
外面に第１ハードコート膜５ａ、内面に第２ハードコー
ト膜５ｂが設けられている。ハードコート膜５ａ、５ｂ
は、耐擦傷性を付与すると共に、反射防止膜の密着性を
良好にするために設けられる。図示していないが、ハー
ドコート膜５ａ、５ｂの基材４に対する密着性を良好に
するために、ハードコート膜５ａ、５ｂと基材４の間に
プライマー層が設けられる場合がある。外面のハードコ
ート膜５ａの上に第１反射防止膜６ａが設けられ、内面
のハードコート膜５ｂの外周部に装飾部３が設けられ、
中央の透視部２に対応する部分に第２反射防止膜６ｂが
設けられている。内面の装飾部３の上には粘着剤層７が
設けられる。

【００２６】図２（ｃ）に示すように、内面側のハード
コート膜５ｂは省略されることもある。また、図２
（ｄ）に示すように、外面側の反射防止膜６ａもコスト
の面から省略されることがある。更に、図２（ｅ）に示
すように、外面側のハードコート膜を省略して反射防止
膜６ａを形成し、内面側の反射防止膜６ｂを省略する場
合もある。

【００２７】また、図示していないが、カバーウインド
ウ１の最外層を構成する反射防止膜６ａやハードコート
膜５ａに、汚れの付着防止などの目的で防汚性、撥水
性、撥油性等の性質を付与する撥水処理が行われる場合
がある。

【００２８】カバーウインドウ基材４は、軽量で耐衝撃
性に優れ、かつ、熱可塑性の透明樹脂が選択される。透
明樹脂としては、例えば、ポリ（メチル）メタクリレー
ト樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレン、ポリプ
ロピレンなどのポリオレフィン樹脂等が用いられる。

【００２９】カバーウインドウの製造方法としては、予
め射出成形等でカバーウインドウの形状に成形した個々
のカバーウインドウ基材に所定の処理を施す方法と、大
判のカバーウインドウ基材に所定の処理を施した後、切
断等で個々のカバーウインドウの形状に形成する方法と
がある。

【００３０】本発明の光学部品の製造方法の一実施形態
のフローチャートを図１に示す。本発明の光学部品の製
造方法は、図１に示すように、カバーウインドウ基材
に、インクジェットによるプライマー処理工程、インク
ジェットによるハードコート膜形成工程、インクジェッ
トによる印刷工程、インクジェットによる反射防止膜形
成工程、インクジェットによる撥水処理工程、インクジ
ェットによる粘着剤層形成工程を必要に応じて順次選択
してこれらの処理が行われた光学部品を得る。これらの
工程後に、剥離紙・保護シート貼り付け工程を行う。こ
れらの工程のどの工程もインクジェットを用いない通常
の工程に変更可能であるが、全てインクジェットを用い
る工程とすることにより、製造装置がコンパクトにな
り、全体の装置をクリーンルーム９内に配置することが
できるようになる。

【００３１】カバーウインドウ基材としては、後に個々
のカバーウインドウに切り出す大判の板状基材と射出成
形等により個々のカバーウインドウの形状に成形された
基材とがある。

【００３２】上記各工程の説明の前に上記各工程に共通
するインクジェット方式について説明する。インクジェ
ットによる液体組成物の塗布は、インクジェット方式の
微小ノズルから微小液滴として液体組成物を吐出して基
材上に塗布し、塗膜を形成するものである。

【００３３】インクジェット方式は、１０〜１００μｍ
径の微小なノズル開口部と圧力発生素子とが設けられた
圧力室にインクが充填され、圧力発生素子を電子的に制
御することによって圧力室内のインクを加圧し、その圧
力で、ノズル開口部からインクを微小な液滴として吐出
するものである。

【００３４】圧力発生素子の種類により、ピエゾ素子に
よる圧電振動子を用いたピエゾ方式や、発熱素子を用
い、インクを加熱して気泡を発生させ、その圧力を利用
するいわゆるバブルジェット（登録商標）方式など、種
々の方式がある。本発明では、いずれのインクジェット
方式も用いることができる。

【００３５】図３は、ピエゾ方式のインクジェットヘッ
ドのノズル部分を示した断面図である。このインクジェ
ットヘッド１０は、インクを収納するケース２０の先端
の収納空間２１を閉塞してノズルプレート３１と流路形
成基板３２で構成される流路ユニット３０が取り付けら
れている。流路ユニット３０と収納空間２１の間は樹脂
フィルムで構成されるダイヤフラム４０で分離されてい
る。ノズルプレート３１には内方へ行くに従い拡径する
ノズル開口部５１が設けられている。ダイヤフラム４０
と流路形成基板３２の間には、ノズル開口部５１と共通
インク室５２とを連通させるノズル連通口５３、圧力室
５４、インク供給口５５が設けられている。アクチュエ
ーターとして圧電振動子６０が収納空間２１に固定さ
れ、その自由端面は圧力室５４に臨んでおり、ステンレ
ス鋼板４１を介してダイヤフラム４０に固定されてい
る。圧電振動子６０は、圧電体６１と内部電極６２とが
交互に積層され、矢印で示すように、縦方向に伸縮し、
ダイヤフラム４０を押したり引いたりすることで圧力室
５４を加圧したり減圧することができるようになってい
る。そして、圧電振動子６０が伸長したときに、圧力室
５４の中のインクが加圧され、その圧力でノズル開口部
５１よりインクが液滴として吐出される。なお、ノズル
プレート３１のノズル開口部５１は、目詰まりが起き難
くなるように撥水処理がされている。このようなインク
ジェット方式では、ノズル開口部５１で、インクが増粘
したり、乾燥すると、ノズル開口部５１が目詰まりし、
安定吐出ができなくなる。

【００３６】インクジェットヘッド１０は、このような
ノズルが等ピッチで列状に配置されており、それぞれの
ノズルの液滴の吐出が間欠的に制御される。

【００３７】液状組成物をインクジェット方式によって
基材に塗布する方法としては、インクジェットヘッドに
液状組成物を充填し、インクジェットヘッドを基材の表
面と概ね等間隔を保ちながら、基材との相対位置を制御
しつつ、基材の表面を走査させ、インクジェットヘッド
のノズルから吐出を制御することによって、基材の必要
な部分に液状組成物を均一に塗布することができる。こ
の場合、インクジェットヘッドだけを動かしてもよく、
あるいはインクジェットヘッドをＸ軸方向に移動させ、
基材をタイミングをとってＹ軸方向に移動させる方法で
も良い。また、眼鏡レンズのような曲面を有する基材で
は、基材を支持するステージに首振り運動させること
で、インクジェットヘッドと基材の表面との間隔を概ね
一定にすることができる。

【００３８】また、インクジェットヘッドで液状組成物
を必要量よりやや多く塗布し、余分の液状組成物を基材
を高速回転させることにより除いて均一な塗膜を形成す
る塗布方法も可能である。この場合、インクジェットヘ
ッドからの吐出を間欠的ではなくほぼ連続的にする塗装
方法も可能である。また、基材の両面に対して塗布する
ときは、片面に塗布した後、もう一方の片面に塗布する
か、あるいは基材の両面側にインクジェットヘッドを配
置し、同時に両方のヘッドを用いて塗布する方法が採用
される。

【００３９】図４に、基材の両面にインクジェットヘッ
ドを配置し、基材の両面を同時に塗布することができる
塗布装置の一例の概要を示す。

【００４０】この塗布装置１００は、固定して配置した
板状基材４の両面側に水平なＸＹ方向に移動が制御され
るインクジェットヘッド１０，１０がそれぞれ配置さ
れ、それぞれのインクジェットヘッド１０，１０の位置
はＸ方向駆動モーター１０１、１０１、Ｙ方向駆動モー
ター１０２，１０２によって独立して駆動制御される。
装置全体を制御する中央処理装置１１０が設けられ、こ
の中央処理装置１１０には入力装置１１１から各種の情
報が入力され、メモリー１１２に蓄積される。また、入
力された情報などを表示する表示部１１３が設けられて
いる。それぞれのインクジェットヘッド１０，１０のイ
ンクの吐出の制御は、ヘッドドライバー１１４，１１４
を介して行われる。また、インクジェットヘッド１０，
１０のＸＹ方向の位置の制御は、ＸＹ方向モータードラ
イバー１１５，１１５を介してＸ方向駆動モーター１０
１，１０１、Ｙ方向駆動モーター１０２，１０２をそれ
ぞれ制御することによって行われる。

【００４１】インクジェットヘッド１０は、交換可能で
あり、基材４両面のインクジェットヘッド１０には、そ
れぞれ同じ液状組成物を充填しても良く、あるいは異な
る液状組成物を充填しても良い。例えば、図２（ｂ）に
示したように、基材４の両面にハードコート膜５ａ、５
ｂを形成する場合は、両方のインクジェットヘッド１
０，１０にハードコート用の液状組成物を充填すること
ができる。反射防止膜形成でも同様にすることができ
る。また、基材の外面側のインクジェットヘッド１０に
はハードコート用又は反射防止膜用の液状組成物を充填
し、内面側のインクジェットヘッド１０には印刷用又は
粘着剤層用の液状組成物を充填することができる。

【００４２】塗布の対象となる基材は、処理を行う前
に、基材と被膜の密着性及び濡れ性を向上させる目的
で、基材表面を予めアルカリ処理、酸処理、界面活性剤
処理、無機あるいは有機物の微粒子による研磨処理、紫
外線照射処理、アルゴン又は酸素雰囲気下で高周波放電
によるプラズマ処理、アルゴン、酸素又は窒素などのイ
オンビーム処理などを行うことが好ましい。

【００４３】次に、図１を参照しながら各工程について
説明する。まず、基材に対してイオナイザー等の除電、
エアブロー、粘着ロール等でのゴミの除去等の処理を行
う。この処理は各工程の前に行っても良い。

【００４４】インクジェットによるプライマー処理工程
は、ハードコート膜に対する基材の密着性の向上が必要
な場合に行われ、基材の外面又は内外両面に行われる。
プライマーとして、例えばポリカーボネートやポリメチ
ルメタクリレートなどに対してシリコーン系ハードコー
ト用として用いられているものを使用できる。例えば、
ポリウレタン系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ア
クリル酸系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、アミノ系樹脂、シ
リコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ビニルアルコール系樹脂、スチ
レン系樹脂、メラミン系樹脂およびこれらの混合物もし
くは共重合体等が挙げられる。プライマーを有機溶剤に
０．１〜２０重量％程度に溶解してプライマー用液体組
成物として用いられる。

【００４５】有機溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、ジアセトンアルコール等のアルコール類、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ブタン
ジオール、ヘキサンジオール等のグリコール類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族類、酢酸エチル、酢酸ブチルの
エステル類、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ等のケトン類、クロロホ
ルム、塩化メチル等の塩素系、更に水等の溶剤の１種を
単独で又は２種以上を混合して用いることができる。こ
の場合、プライマー用液体組成物の粘度は、インクジェ
ットの微小ノズルから吐出するために１００ｃｐ以下で
あることが望ましい。プライマー層の厚さは、１０〜４
００ｎｍ程度である。１回の塗布で必要な厚さに形成で
きないときは、複数回の重ね塗りを行うことができる。

【００４６】プライマー用液体組成物をインクジェット
ヘッドに充填し、ノズルから吐出して基材表面の必要な
部分に塗布した後、加熱して溶剤を除去することにより
プライマー層を形成することができる。

【００４７】インクジェットによる塗布方法は、必要な
部分に必要な量を塗布できるため、プライマー用液状組
成物の無駄がなくなり、製造コストの低減が可能にな
る。

【００４８】次に、インクジェットによるハードコート
膜形成工程は、基材の外面又は内外両面にハードコート
膜を形成する。インクジェット方式に用いられるハード
コート用液状組成物は、微小ノズルで目詰まりを生じに
くい安定吐出性と基材表面で均一な塗膜を形成できる均
一塗布性を両立する必要がある。

【００４９】ハードコート用液状組成物としては、スピ
ンコート法やディッピング法に用いられるハードコート
用液状組成物と同様に、メラミン樹脂系、ウレタン樹脂
系、アルキッド樹脂系、アクリル樹脂系、オルガノアル
コキシシランあるいはその加水分解縮合物を主体とした
シリコーン樹脂系に、溶媒として水及び有機溶剤を含有
するものが挙げられるが、より好ましくは、重合性有機
化合物、無機微粒子並びに溶媒として水及び有機溶剤を
含有するものが望ましい。但し、溶媒を構成する水分量
と有機溶剤の種類は、スピンコート法やディッピング法
に用いられる組成物とは異なる。

【００５０】水分量は組成物全体の３０重量％以上とす
ることが好ましい。水分の配合量を多くすることによっ
て、インクジェット方式のノズル開口部５１での乾燥や
増粘を抑制し、かつ撥水処理されているノズル開口部５
１で撥水されることにより、ノズル開口部５１での目詰
まりを防止し、安定吐出が可能となる。水分量の上限は
８０重量％以下が好ましい。より好ましい水分量の範囲
は４０〜８０重量％、最も好ましい水分量の範囲は５５
〜６５重量％である。水分量が多すぎると、有機溶剤の
配合量が少なくなり、塗布性が悪くなる場合がある。

【００５１】また、安定吐出性と均一塗布性を両立させ
るため、固形分は、１〜３０重量％、特に５〜１８重量
％、最適には７〜１３重量％の範囲が好ましい。固形分
を多くすると、ノズルで目詰まりしやすくなり、吐出性
が低下する。また、有機溶剤の配合量は、組成物全体の
１０〜６９重量％、特に１５〜５５重量％、最適には２
０〜５０重量％の範囲が好ましい。有機溶剤の配合量が
少なすぎると、塗布性が悪くなる場合があり、一方、配
合量が多すぎると、水分量が少なくなって吐出性が悪く
なる場合がある。

【００５２】有機溶剤としては、イソプロピルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ等の高沸点の有機溶剤が好まし
い。高沸点溶剤に低沸点溶剤を適宜混合して用いること
ができる。低沸点溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、ＩＰＡ、ブタノール等のアルコール類、ＭＥＫ、２
−ペンタノン、ＭＩＢＫ、２−ヘプタノン等のケトン
類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソ
プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ｓｅｃブ
チル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸メチル、プロピ
オン酸ブチル、３−メトキシブチルアセテート等のエス
テル類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，４
−ジオキサン等の低沸点溶剤の１種を単独で又は適宜混
合して用いることができる。なお、セロソルブとは、エ
チレングリコールモノアルキルエーテルの通称である。

【００５３】重合性有機化合物はハードコート膜におけ
る、いわゆるバインダーとして機能するものである。重
合性有機化合物としては、例えば、一分子中にビニル
基、アリル基、アクリル基、メタクリル基、エポキシ
基、メルカプト基、シアノ基、イソシアノ基、アミノ基
等の重合可能な重合性基とアルコキシ基等の加水分解性
基とを含む有機けい素化合物を用いることができる。重
合性有機化合物としてかかる有機ケイ素化合物を用いる
ことによってシリコン系ハードコート膜を形成すること
ができる。

【００５４】一分子中に重合性基と加水分解性基とを含
む有機けい素化合物としては、ビニルトリアルコキシシ
ラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリ（β−メト
キシ−エトキシ）シラン、アリルトリアルコキシシラ
ン、アクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メ
タクリルオキシプロピルトリアルコキシシラン、メタク
リルオキシプロピルジアルコキシメチルシラン、メルカ
プトプロピルトリアルコキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリアルコキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルメチルジアルコキシシラン等を例示す
ることができる。

【００５５】また、一分子中にエポキシ基と加水分解性
基とを含む有機けい素化合物としては、モノエポキシ基
含有トリアルコキシシランが好ましい。モノエポキシ基
含有トリアルコキシシランとしては、グリシドキシメチ
ルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキ
シシラン、グリシドキシメチルトリプロポキシシラン、
グリシドキシメチルトリブトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリプ
ロポキシシラン、α−グリシドキシエチルトリブトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、
β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルトリプロポキシシラン、β−グリシドキ
シエチルトリブトキシシラン、α−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリプロポ
キシシラン、α−グリシドキシプロピルトリブトキシシ
ラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−グリシ
ドキシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリ
プロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリブト
キシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、α−
グリシドキシブチルトリプロポキシシラン、α−グリシ
ドキシブチルトリブトキシシラン、β−グリシドキシブ
チルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリ
エトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリプロポキ
シシラン、β−グリシドキシブチルトリブトキシシラ
ン、γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシド
キシブチルトリプロポキシシラン、γ−グリシドキシブ
チルトリブトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリ
メトキシシラン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシ
シラン、δ−グリシドキシブチルトリプロポキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−
メチルグリシドキシメチルトリメトキシシラン、β−メ
チルグリシドキシメチルトリエトキシシラン、β−メチ
ルグリシドキシメチルトリプロポキシシラン、β−メチ
ルグリシドキシメチルトリブトキシシラン、β−メチル
−α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−メ
チル−α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β
−メチル−α−グリシドキシエチルトリプロポキシシラ
ン、β−メチル−α−グリシドキシエチルトリブトキシ
シラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリメト
キシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチルトリ
エトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシエチル
トリプロポキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシ
エチルトリブトキシシラン、β−メチル−α−グリシド
キシプロピルトリメトキシシラン、β−メチル−α−グ
リシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−メチル−
α−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、β−
メチル−α−グリシドキシプロピルトリブトキシシラ
ン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキシプロピ
ルトリプロポキシシラン、β−メチル−β−グリシドキ
シプロピルトリブトキシシラン、β−メチル−γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、β−メチル−γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−メチ
ル−γ−グリシドキシプロピルトリプロポキシシラン、
β−メチル−γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシ
ラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルトリエ
トキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブチルト
リプロポキシシラン、β−メチル−α−グリシドキシブ
チルトリブトキシシラン、β−メチル−β−グリシドキ
シブチルトリメトキシシラン、β−メチル−β−グリシ
ドキシブチルトリエトキシシラン、β−メチル−β−グ
リシドキシブチルトリプロポキシシラン、β−メチル−
β−グリシドキシブチルトリブトキシシラン、β−メチ
ル−γ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−
メチル−γ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリプロポキシシ
ラン、β−メチル−γ−グリシドキシブチルトリブトキ
シシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルトリメ
トキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキシブチ
ルトリプロポキシシラン、β−メチル−δ−グリシドキ
シブチルトリブトキシシラン等の脂肪族エポキシ化合
物、あるいは、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メ
チルトリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）メチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）メチルトリプロポキシシラン、
（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリブトキ
シシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリメトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシ
クロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリ
メトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）
プロピルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）プロピルトリプロポキシシラン、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリブトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメ
トキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブ
チルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）ブチルトリプロポキシシラン、（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）ブチルトリブトキシシラン等の脂
環式エポキシ化合物を例示することができる。

【００５６】重合性有機化合物の配合量は、ハードコー
ト用液状組成物の固形分の１０〜９０重量％、特に２０
〜８０重量％、最適には３０〜７０重量％の範囲が好ま
しい。配合量が少なすぎるとプラスチック基材や後に成
膜する反射防止膜との密着性が悪くなる場合があり、一
方、配合量が多すぎると硬化被膜にクラックが生じる場
合がある。

【００５７】無機微粒子は、ハードコート膜のいわゆる
フィラーとして機能するもので、一般に粒径が１〜１０
０ｍμｍ程度のものが用いられる。具体的には、Ｓｉ，
Ａ１，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｗ，Ｚ
ｒ，Ｉｎ，Ｔｉから選ばれる１種以上の金属酸化物から
なる微粒子及び／又はＳｉ，Ａ１，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔａ，
Ｃｅ，Ｌａ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ｗ，Ｚｒ，Ｉｎ，Ｔｉから選
ばれる２種以上の金属酸化物から構成される複合微粒子
を例示することができる。

【００５８】無機微粒子の具体例としては、ＳｉＯ₂，
ＳｉＯ，Ａｌ₂Ｏ₃，Ｆｅ₂Ｏ₃，ＣｅＯ₂，ＳｎＯ₂，Ｓｂ
₂Ｏ₅，Ｔａ₂Ｏ₅，ＣｅＯ₂，ＷＯ₃，ＺｒＯ₂，ＴｉＯ，
Ｔｉ₂Ｏ₃，Ｔｉ₂Ｏ₅，ＴｉＯ₂等の微粒子が、分散媒た
とえば水、アルコール系もしくはセロソルブ類その他の
有機溶剤にコロイド状に分散したものである。または、
Ｓｉ，Ａ１，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｔａ，Ｃｅ，Ｌａ，Ｆｅ，Ｚ
ｎ，Ｗ，Ｚｒ，Ｉｎ，Ｔｉの無機酸化物の２種以上によ
って構成される複合微粒子が水、アルコール系もしくは
セロソルブ類その他の有機溶剤にコロイド状に分散した
ものである。

【００５９】ハードコート膜の膜厚としては、０．０５
〜３０μｍの範囲が好ましい。膜厚が薄すぎると基本と
なる性能がでない場合があり、一方、厚すぎると表面の
平滑性が損なわれたり、光学的歪みが発生する場合があ
る。インクジェット方式による１回の塗布で十分な塗膜
の厚みが得られない場合は、複数回の重ね塗りを行うこ
とができる。

【００６０】本発明のハードコート用液状組成物を用い
てインクジェット方式で基材の必要な部分を塗装した
後、４０〜２００℃、好ましくは８０〜１３０℃の温度
で、３０分〜８時間乾燥させることにより、ハードコー
ト膜を基材表面に形成することができる。

【００６１】また、上述した重合性有機化合物に代えて
紫外線硬化型又は電子ビーム硬化型の重合性有機化合物
を用いることが好ましい。

【００６２】例えば、紫外線の照射によりシラノール基
を生成するシリコーン化合物とシラノール基と縮合反応
するハロゲン原子やアミノ基等の反応基を有するオルガ
ノポリシロキサンとを主成分とする光硬化性シリコーン
組成物、三菱レイヨン（株）製のＵＫ−６０７４等のア
クリル系紫外線硬化型モノマー組成物を例示することが
できる。

【００６３】従来のスピンコート法及びディッピング法
では、ハードコート液の利用効率が低く、塗布される量
よりも遙かに多量を廃棄している。これに対して、イン
クジェットによる塗布方法は、必要な部分に必要なだけ
塗布することができるため、ハードコート液の利用効率
が高い。

【００６４】インクジェットによる印刷工程では、例え
ば基材４の内面側にカバーウインドウ１の装飾部３を形
成する。用いるインクとしては、インクジェット用に用
いられている従来の油性インク又は水性インクを用いる
ことができる。印刷の対象となるカバーウインドウ基材
又はハードコート膜はインク非吸収性であるため、水性
インクを用いる場合は、基材を加熱する等して塗布され
たインク中の溶媒を速やかに除去し、液滴の移動を抑制
するか、あるいは印刷面にインク受容層を形成すること
が好ましい。インク受容層としては、ポリビニルアルコ
ール、アセタール変性ポリビニルアルコール等の水溶性
樹脂を溶媒に溶かしたものやエマルジョンを基材に塗布
して形成されたものを例示することができる。このイン
ク受容層もインクジェットによる塗装で形成することが
できる。なお、インク受容層に顔料、染料等の着色剤を
含有させることができる。水溶性インクは、紙を印刷媒
体とするインクジェットに用いられている従来のインク
を利用することができる。水溶性インクは、顔料、染料
等の色材、界面活性剤等の分散剤、多価アルコール等の
湿潤剤、溶媒の水等を含有する。

【００６５】油性インクは、顔料、染料等の色材、分散
樹脂、非水溶媒等を含有する。油性インクはウインドウ
基材表面にそのまま塗布することが可能である。

【００６６】インクをインクジェットヘッドに充填し、
ノズルから吐出して基材表面の必要な部分に塗布して印
刷した後、加熱等で溶媒を除去したり、インクを硬化さ
せる。インクジェット方式の印刷では、スクリーン印刷
ほど厚塗りができないので、遮光性が不足するときは、
重ね塗りを行う。

【００６７】スクリーン印刷方法で多色刷りを行う場合
は、印刷・乾燥の工程を繰り返す必要があり、手間がか
かり能率が悪く、しかも機種切り替えが面倒である。こ
れに対して、インクジェットによる塗布方法は、多色刷
りであっても１回の塗布で行えるため、能率がよい。ま
た、機種切り替えもインクジェットヘッドを交換するこ
となく制御プログラムの変更により容易に行うことがで
きる。

【００６８】インクジェットによる反射防止膜形成工程
は、基材の外面又は内面側に、基材の光透過率を向上さ
せ、表示装置の表示を見易くする反射防止膜を形成す
る。反射防止膜の形成は、液状組成物の塗布と硬化によ
り、単層の場合は低屈折率の硬化被膜を所定の膜厚で形
成し、多層膜構成とする場合は高屈折率の硬化被膜と低
屈折率の硬化被膜とを所定の膜厚で設けることにより可
能である。

【００６９】低屈折率の硬化被膜を形成する場合は、低
屈折率の微粒子、硬化性樹脂及び溶媒等を含有する液状
組成物を用い、高屈折率の硬化被膜を形成する場合は、
高屈折率の微粒子、硬化性樹脂及び溶媒等を含有する液
状組成物を用いる。

【００７０】低屈折率の微粒子としては、ＳｉＯ₂、Ｍ
ｇＦ₂、ＬｉＦ、フッ素樹脂を例示することができる。
また、高屈折率の微粒子としては、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂、
Ｉｎ₂Ｏ₃、ＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、チタン酸バリウム、硫化
亜鉛等を例示することができる。微粒子の粒径は、１〜
１００ｍμの範囲が好ましい。具体的には、上述した微
粒子が分散媒たとえば水、アルコール系もしくはその他
の有機溶媒にコロイド状に分散したものを好適に用いる
ことができる。

【００７１】硬化性樹脂としては、上述したハードコー
ト膜における、いわゆるバインダーとして機能する重合
性有機化合物を例示することができる。溶媒もハードコ
ート膜を形成する液状組成物と同様で良く、その調製方
法も同様である。即ち、反射防止膜を形成する液状組成
物としては、ハードコート膜を形成する液状組成物と基
本的な組成は同じである。液状組成物中の固形分に占め
る微粒子の割合として、１０〜６５重量％、特に５５重
量％以下であることが望ましい。６５重量％を超える
と、液状組成物が白濁し外観が悪化する場合がある。

【００７２】インクジェットによる塗布性を確保するた
め、水分量、固形分量も上述したハードコート膜の形成
と同様の範囲とすることが望ましい。

【００７３】このような反射防止膜形成用液体組成物を
インクジェットヘッドに充填し、ノズルから吐出して基
材表面の必要な部分に塗布した後、加熱して溶剤の除去
及び硬化を行うことにより反射防止膜を形成することが
できる。

【００７４】このようなハードコート膜と実質的に同じ
成分で形成される微粒子を含む有機膜で構成される反射
防止膜は、ハードコート膜と同じく耐擦傷性を有する。
また、有機膜の反射防止膜は密着性も良好である。その
ため、図２（ｅ）に示したように、ハードコート膜形成
を省略し、反射防止膜６ａで耐擦傷性膜と反射防止機能
を兼用することが可能である。

【００７５】また、硬化性樹脂を用いずに、例えばフッ
化マグネシウムＭｇＦ₂の水性ゾルを用いて塗布、乾燥
することにより、フッ化マグネシウムの反射防止膜を形
成することができる。

【００７６】反射防止膜を形成する場合の膜厚は、λ／
４（λ：光の波長、通常５２０ｎｍが用いられる）が最
適である。多層膜とする場合は、基材側から、高屈折率
層、低屈折率層の順に積層する。

【００７７】従来の反射防止膜の形成は、真空装置を用
いる物理的成膜装置で行われている。真空装置は多大な
設備費が必要で、維持するにも多大な費用が必要であ
る。また、多数の基材を並べて同時に成膜する方法であ
るため、少量生産に適していない。しかも、蒸着材料の
無駄も多い。これに対して、インクジェットを用いる塗
布方法では、設備費はわずかであり、枚様式であるた
め、多品種の製造に適している上、材料の無駄もほとん
どない。

【００７８】インクジェットによる撥水処理工程は、カ
バーウインドウの外面側又は内外両面の最外層を構成す
るハードコート膜５ａ又は反射防止膜６ａを撥水処理す
ることにより、カバーウインドウの表面に防汚性、撥水
性、撥油性等の性質を付与することができる。

【００７９】撥水処理方法としては、ポリフルオロアル
キル基、ポリフルオロエーテル等の疎水性基及びＳｉＯ
Ｈ基と縮合反応するアルコキシ基、ハロゲン原子、アミ
ノ基等の反応性基を有する有機化合物などをプライマー
用組成物で説明した有機溶剤に溶解した撥水処理用液状
組成物を用いてハードコート膜又は反射防止膜表面に塗
布処理することにより行うことができる。撥水処理用液
体組成物の粘度は、インクジェットの微小ノズルから吐
出するために１００ｃｐ以下であることが望ましい。反
射防止膜に撥水処理する場合、反射防止膜の最外層は撥
水処理効果の高いＳｉＯ₂とすることが好ましい。

【００８０】インクジェットによる粘着剤層形成工程
は、粘着剤層を形成できる液状組成物をインクジェット
のノズルから基材表面の必要な部分に塗布した後、乾
燥、硬化等することにより行うことができる。粘着剤に
は、貼って剥がせる再剥離型と貼って剥がれない永久型
とがあり、いずれでもよいが、カバーウインドウでは永
久型が用いられる。また、市販の粘着剤は、使用材料別
ではゴム系、アクリル系、シリコーン系等があり、状態
別では有機溶剤溶液、エマルジョン、水溶液などがあ
る。ゴム系では主として有機溶剤溶液、アクリル系では
有機溶剤溶液とエマルジョン、シリコーン系では主とし
て有機溶剤溶液である。溶剤が指定されている粘着剤に
は、指定されている溶剤を用い、溶剤が指定されていな
いときはプライマーの希釈に例示した溶剤の中から選定
して希釈し、インクジェットの吐出に適した、例えば１
００ｃｐ以下の粘度に調節して液状組成物を調整するこ
とができる。シリコーン系の粘着剤は、使用可能温度範
囲が広く、難粘着材質にも良く粘着するという特長があ
るが、硬化温度が付加反応型では９０〜１３０℃、過酸
化物硬化型では１５０〜１８０℃と高いため、基材の耐
熱性に留意する必要がある。粘着剤層の厚さは、１０〜
５０μｍ程度とすることができる。

【００８１】従来の両面粘着テープを用いる方法では、
カバーウインドウの外周部のみに貼り付け、中央の部分
は廃却するため、材料の無駄が大きい。これに対して、
インクジェットを用いる塗布方法では、粘着剤が必要な
部分だけ塗布することができるため、材料の無駄がな
い。

【００８２】このような工程により製造されたカバーウ
インドウは、粘着剤層を覆って剥離紙を貼り付け、外面
には保護シートを貼り付けて製品とすることができる。
大判の基材の場合は、切断加工により個々のカバーウイ
ンドウに形成して完成品となる。

【００８３】本発明の光学部品の製造方法は、インクジ
ェットによる塗布方法であり、インクジェットヘッドを
変更するだけで製造工程を切り替えることができるた
め、工程の自由度が高く、工程の順序を自由にできる。
例えば、印刷工程をハードコート膜形成工程の前に行っ
たり、反射防止膜形成工程を印刷工程の前に行うことが
可能である。また、粘着剤層の形成と反射防止膜の形成
のように、同じ面への塗布であっても塗布位置が重複し
ない場合は、ヘッドを交換するか、基材を移動させて塗
布することにより、乾燥を経ずに連続して塗布すること
が可能である。更に、基材の両面から異なる液状組成物
を同時に塗布することが可能となる。例えば、基材の一
方の面に印刷又は粘着剤層の形成を行いながら、基材の
反対面にハードコート膜形成や反射防止膜形成を行うこ
とが可能である。そのため、乾燥をまとめて行えること
と合わせて能率良く生産することができる。

【００８４】上記の各工程は、適宜従来の製造方法とす
ることができる。例えば、ハードコート膜の形成工程
は、従来のスピンコート法やディッピング法で行うこと
ができる。また、反射防止膜形成工程も、物理的成膜方
法で行うこともできる。更に、粘着剤層形成工程では、
溶剤で希釈してもインクジェットで吐出できる程度まで
粘度が低下しないような粘着剤の場合や、希釈すると極
端に粘着力が低下するような粘着剤の場合は、インクジ
ェット以外の、例えばロールコーター、スクリーン印
刷、ディスペンサーによる塗布方法を採用することがで
きる。

【００８５】

【発明の効果】本発明の光学部品の製造方法によれば、
各工程にインクジェットによる塗布方法を採用したこと
により、簡易な製造装置で済み、材料のロスが少なく、
生産効率が高いため、光学部品の生産コストを低減する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カバーウインドウの製造工程の一例を示すフロ
ーチャートである。

【図２】カバーウインドウの一例を示すもので、（ａ）
は平面図、（ｂ）〜（ｅ）は断面構造を示す断面図であ
る。

【図３】ピエゾ方式のインクジェットヘッドのノズル部
分を拡大した断面図である。

【図４】基材の両面をそれぞれインクジェットヘッドで
同時に塗布することができる塗布装置の一実施形態を示
すブロック図である。

【符号の説明】

１カバーウインドウ２透視部３装飾部４基材５ａ、５ｂハードコート膜６ａ、６ｂ反射防止膜７粘着剤層９クリーンルーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2C056 FB01 2H091 FA37X FA50X FB02 FC12 FC17 FD01 FD11 FD13 GA16 LA02 LA07 LA12 LA13 LA16 2K009 AA04 AA15 BB24 CC03 CC06 CC09 CC23 CC24 CC33 CC35 CC42 DD02 DD06 DD08 EE00 4D075 AC01 CA36 CA47 DC24 EA41

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】反射防止膜を形成できる液状組成物をイ
ンクジェット方式の微小ノズルから微小液滴として光学
部品の一方の面又は両面の所定の箇所に吐出して塗装す
る反射防止膜形成工程を有することを特徴とする光学部
品の製造方法。
【請求項２】請求項１記載の光学部品の製造方法にお
いて、更に、ハードコート膜を形成できる液状組成物をインク
ジェット方式の微小ノズルから微小液滴として光学部品
の一方の面又は両面の所定の箇所に吐出して塗装するハ
ードコート膜形成工程を有することを特徴とする光学部
品の製造方法。
【請求項３】請求項１又は２記載の光学部品の製造方
法において、更に、インクをインクジェット方式の微小ノズルから微
小液滴として光学部品の一方の面又は両面の所定の箇所
に吐出して印刷する印刷工程を有することを特徴とする
光学部品の製造方法。
【請求項４】粘着剤層を形成できる液状組成物をイン
クジェット方式の微小ノズルから微小液滴として光学部
品の一方の面又は両面の所定の箇所に吐出して塗装する
粘着剤層形成工程を有することを特徴とする光学部品の
製造方法。
【請求項５】請求項１〜３いずれかに記載の光学部品
の製造方法において、更に、請求項４記載の粘着剤層形成工程を有することを
特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項６】請求項１〜５いずれかに記載の光学部品
の製造方法において、更に、プライマーを形成できる液状組成物をインクジェ
ット方式の微小ノズルから微小液滴として光学部品の一
方の面又は両面の所定の箇所に吐出して塗装するプライ
マー処理工程を有することを特徴とする光学部品の製造
方法。
【請求項７】請求項１〜６いずれかに記載の光学部品
の製造方法において、更に、前記光学部品の最外層を構成するハードコート膜
又は反射防止膜の上に、撥水処理を施す液状組成物をイ
ンクジェット方式の微小ノズルから微小液滴として吐出
して塗装する撥水処理工程を有することを特徴とする光
学部品の製造方法。