JP2003268293A

JP2003268293A - 塗布用隠蔽組成物およびその製造方法

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Publication number: JP2003268293A
Application number: JP2002069400A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Goshi; 義広合志
Original assignee: Nippon Petrochemicals Co Ltd
Current assignee: Eneos Corp
Priority date: 2002-03-14
Filing date: 2002-03-14
Publication date: 2003-09-25
Anticipated expiration: 2022-03-14
Also published as: JP4387083B2

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布面の意匠性および／または所定箇所のシ
ール材の存否を確認することが可能で、製品の組立て時
等の肉眼的・光学的検査工程への対応性の向上を目的と
した、塗布適性、下地の光学的隠蔽性、シール性に優れ
た高機能性の塗布用隠蔽膜・シール材とその製造方法を
開発する。【解決手段】ポリブテン９８〜８０質量部と密度０.
９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレン２〜２０質量部（両
者を合わせて１００質量部とする。）からなる分散媒、
およびその中に分散した無機顔料０.１〜１０質量部か
らなる組成物を使用する。また、上記組成物を当該ポリ
ブテンおよび／または当該ポリエチレンを分散媒とする
２０質量％以上の無機顔料を含有するマスターバッチを
使用して製造する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学的隠蔽性があ
り、塗布適性、およびシール性に優れた塗布用隠蔽組成
物およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、塗布可能なシール材に光学的な隠
蔽性を付与して、各種材料表面に塗布することにより、
意匠性を向上したり、また例えば製品の組立て工程など
において、本シール材の塗布部が所定の箇所に存在する
ことを確認できる、肉眼的・光学的検査工程等での識別
容易性の向上を目的とした、塗布下地の隠蔽性、塗布適
性、シール性に優れた高機能性の塗布用隠蔽組成物の開
発が望まれている。また、さらに錆止め機能を有する無
機顔料を使用した高機能塗布用隠蔽組成物の開発が望ま
れている。

【０００３】本発明者らは、すでに、電池封口部の間隙
を封止する、塗布可能なシール材を例として、結晶性ポ
リプロピレン０.５〜１０重量％を含む平均分子量７０
０〜１００００であるポリブテンを主とする重合体から
なるシール材を特公平５−５８２２０号公報で提案し
た。

【０００４】上記シール材等に隠蔽性等を付与するため
には、高い隠蔽力を有する無機顔料を添加すれば良い
が、一般に、無機顔料の比重は２以上８以下であって、
分散媒との比重の差が大きくなり、その結果、分散媒中
での無機顔料の沈降により問題が生じる。また、無機顔
料の分散ムラは、シール面が凹凸化し、その結果シール
ムラを生じる。さらに、過度の添加は塗布性を悪化させ
る。沈降の問題を回避するためには、有機顔料を使用す
ればよいが、それらは無機顔料に比較して隠蔽力が小さ
い。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポリ
オレフィン系分散媒中の無機顔料の分散状態を均一に
し、かつ安定化することにより、上記意匠性および／ま
たは前記検査工程への対応性に優れた、隠蔽性、塗布
性、シール性に優れた塗布用隠蔽組成物を提供すること
にある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明では、特定のポリ
オレフィン組成物を分散媒とし、また、特定の無機顔料
の添加方法を用いることにより、分散媒中の無機顔料の
分散状態を均一かつ安定化した。

【０００７】

【発明の実施の形態】上述のように、本発明者らは平均
分子量７００〜１００００のポリブテンと結晶性ポリプ
ロピレン０.５〜１０重量％を主とする重合体組成物を
提案したが、これは、主としてシール材のフロー防止性
改良等の観点から選択されたものである。

【０００８】本発明においては、ポリブテン９８〜８０
質量部と密度０.９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレン２
〜２０質量部の両者を合わせて１００質量部とした混合
物を分散媒とする。

【０００９】ポリブテンはイソブテンを主たるモノマー
として重合してなる重合体であって、イソブテンのホモ
ポリマーまたはイソブテンとｎ−ブテンのコポリマーな
どがある。これらは、市場から容易に入手できる（例え
ば、日本石油化学(株)製：日石ポリブテン、テトラック
ス等。）。また、公知の製造方法で得られるものはすべ
て使用できる。ポリブテンは、主として、分散媒体に剪
断応力が加わった時の流動性と、シールした状態での形
状保持特性に関与し、数平均分子量は７００以上１００
００以下が好ましく、分散媒中に９８〜８０質量部含ま
れることが必要である。ポリブテンは、単独で使用して
も、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

【００１０】密度０.９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレ
ンは、主として、シール時の形状保持特性、無機顔料の
分散媒中での均一分散性および沈降防止に関与する。密
度０.９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレンは、結晶性ポ
リプロピレンと比較して、非晶部を多く含むためにポリ
イソブチレンとの相溶性に優れ、また、分岐を数多く含
むことから無機顔料の分散状態を均一化し、かつ安定化
する効果が大きいものと考えられる。密度０.９３ｇ／
ｃｍ^３以下のポリエチレンの中でも、ＤＳＣで測定され
る融点（ＪＩＳＫ７１２１）が１２０℃以下であるも
のが好ましく、また、非晶部に富むポリエチレン、非晶
部が多くかつ長鎖分岐を数多く含有する高圧法ポリエチ
レン、あるいはポリイソブチレンとの相溶性に優れるＭ
ＦＲ（１８０℃／２.１６ｋｇ荷重（ＪＩＳＫ６７６
０））が４ｇ／１０分以上であるポリエチレンが好まし
い。当該ポリエチレンは、エチレンと他のオレフィンと
の共重合体（例えば、エチレンと他のα−オレフィ
ン）、あるいは酢酸ビニル、アクリル酸、アクリル酸エ
ステル等との共重合体等であってもよい。これらは、単
独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよ
い。

【００１１】無機顔料としては、公知のものを使用す
る。以下、例示すれば、二酸化チタン（アナターゼ型、
および、ルチル型のいずれでもよい。）、二酸化チタン
被覆雲母、酸化亜鉛、モリブデンホワイト、リトポン、
バライト、炭酸カルシウム、鉛白、タルク等の無機白色
顔料；酸化鉄（ベンガラ）、モリブデン赤、チタン酸
鉄、銀朱、カドミウムレッド、アンチモン赤等の無機赤
色系顔料；γ−酸化鉄等の無機褐色系顔料；黄酸化鉄、
黄土、チタニウムイエロー、カドミウムイエロー、スト
ロンチウムイエロー、ジンククロメート等の無機黄色系
顔料；黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン、
チタンブラック等の無機黒色系顔料；マンゴバイオレッ
ト、コバルトバイオレット等の無機紫色系顔料；エメラ
ルド・グリーン、酸化クロム、水酸化クロム、チタン酸
コバルト等の無機緑色系顔料；群青、紺青等の無機青色
系顔料；酸化チタンコーテッドオキシ塩化ビスマス、酸
化チタンコーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッド
マイカ、オキシ塩化ビスマス、魚鱗箔等のパール顔料；
アルミニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末
顔料等が挙げられ、これらの一種または二種以上を混合
したものも含まれる。無機顔料の配合量は、分散媒１０
０質量部に対して０.１〜１０質量部の範囲とするのが
よく、０.１質量部未満であると充分な隠蔽性を付与で
きず、１０質量部を超えると塗布性が低下する。

【００１２】無機顔料は、分散媒中での均一分散性およ
び沈降防止の観点から、比重が６以下のものが好まし
い。特に、平均粒子径１μｍ以下で、かつ、比重が５以
下のものが好ましい。無機顔料の中では、特に、二酸化
チタンは、これらの条件を満たすことに加え、隠蔽力が
高く、最も好ましい例として挙げることができる。

【００１３】本発明の塗布用隠蔽組成物は、例えばロー
ルやハケ等による一般的な塗布に限らず、浸漬による展
開塗布、充填あるいは注入等による塗布等、各種の塗膜
を形成する方法により用いられる。すなわち、本発明の
組成物は適宜の剪断応力下に十分な流動性を有している
ので、塗布の他、浸漬、ハケ塗り、注入などのいずれの
方法によっても使用することができる。これらを各種材
料表面に塗布展開することにより、その優れた隠蔽性や
シール性により、意匠性や識別性を高め、例えばマーカ
ー等の用途や、封止剤等の用途等としての使用が可能で
ある。

【００１４】本発明の塗布用隠蔽組成物は、上記のポリ
ブテンおよびポリエチレンを分散媒とし、これらに無機
顔料を混合して分散させることにより製造する。これら
の混合方法、混合に用いる機器に制限はなく、公知の方
法から任意に選択でき、製造時に、本発明の効果を損な
わない範囲で、顔料の分散助剤、チキソトロピー剤、湿
潤剤、有機着色剤、有機顔料、粘度調整剤、防腐剤、酸
化防止剤、熱劣化防止剤等を添加してもよい。

【００１５】本発明の塗布用隠蔽組成物の効果を最も好
ましく発揮させるためには、製造工程において、当該ポ
リブテンおよび／または当該ポリエチレンを分散媒と
し、２０質量％以上の無機顔料を含有するマスターバッ
チを使用することが好ましい。マスターバッチ法は、分
散媒中での無機顔料の均一分散性および沈降防止に関与
するものと考えられる。

【００１６】マスターバッチは通常の樹脂混練機を用
い、または、液混合機を使用して製造する。またマスタ
ーバッチは、各成分を同時に配合して製造しても良い
が、各成分を順次別々に添加して製造しても差し支えな
い。これはマスターバッチを希釈して、本発明の組成物
を得る場合も同様である。例えば、まず、当該ポリエチ
レンと無機顔料を混合してマスターバッチを製造中、あ
るいは、製造後に別途の工程で、当該マスターバッチに
当該ポリブテンを練り込む方法も考えられる。これらの
方法は主として各成分の配合比率や無機顔料の性質によ
って適宜選択される。

【００１７】当該マスターバッチは、粒径が細かいほど
好ましく、特に、形状が金網篩２０メッシュ（ＪＩＳ
Ｚ８８０１：８４０μｍ）通過のもの、さらに好ましく
は、４０メッシュ通過のものであり、分散媒中での無機
顔料の均一分散性および沈降防止にきわめて有効に作用
する。本発明のマスターバッチはペレット形状あるいは
液状で得られるのが一般的であるが、ペレットの場合は
公知の方法により粉砕して粉末とし、上記金網篩を通過
させたものが好ましい。

【００１８】

【実施例】以下、この発明の実施例を比較例と対比して
具体的に説明する。なお、使用した各成分は次の通りで
ある。（Ａ）ポリブテン（ａ１）日石ポリブテン「ＨＶ−３００」（日本石油化
学(株)製）、数平均分子量＝１４００（ａ２）日石ポリブテン「ＨＶ−１９００」（日本石油
化学(株)製）、数平均分子量＝２９００

【００１９】（Ｂ）ポリエチレン（ｂ１）：ＪＺ６０６Ｎ（日本ポリオレフィン(株)製、
ＭＦＲ＝７ｇ／１０分、密度＝０.９１８ｇ／ｃｍ^３、
融点＝１０６℃、高圧法ポリエチレン）（ｂ２）：ＪＭＡ０７Ａ（日本ポリオレフィン(株)製、
ＭＦＲ＝４５ｇ／１０分、密度＝０.９１５ｇ／ｃ
ｍ^３、融点＝１０３℃、高圧法ポリエチレン）（ｂ３）：ＫＭ６９２Ａ（日本ポリオレフィン(株)製、
ＭＦＲ＝７ｇ／１０分、密度＝０.９６１ｇ／ｃｍ^３、
融点＝１３５℃、低圧法ポリエチレン）

【００２０】（Ｃ）無機顔料（ｃ１）二酸化チタン：ＫＡ−１０（アナターゼ型）
（チタン工業(株)製）比重＝３.９、平均粒径＝０.３〜
０.５μｍ（ｃ２）二酸化チタン：ＫＲ−３８０（ルチル型）（チ
タン工業(株)製）比重＝４.２、平均粒径＝０.３〜０.
５μｍ（ｃ３）ストロンチウムクロメート（ストロンチウムイ
エロー）（水澤化学(株)製）比重＝３.７、平均粒径＝０.３〜０.６μｍ（ｃ４）炭酸カルシウム（和光純薬(株)製）比重＝２.７、平均粒径＝１０.２μｍ

【００２１】〔分散媒中での無機顔料の沈降性の優劣評
価〕（１）５００ｃｃのビーカーの底面から２〜３ｍｍの位
置に攪拌羽（直径５０ｍｍ、羽数＝４）をセットした。（２）各分散媒３５０ｇをビーカーに投入した。（３）各分散媒を適宜攪拌しながら１４０℃まで加温
し、同温度で攪拌を６３０ｒｐｍに保持した。（４）無機顔料７ｇ（マスターバッチの場合は、無機顔
料７ｇ含むマスターバッチ）を添加し、所定時間攪拌を
継続した。（５）攪拌羽を停止して取り去り、１０分後に無機顔料
を含有する分散媒をビーカー外へ取り出した。（６）底部に残った無機顔料を秤量し、この質量を当初
添加量（７ｇ）で除して、沈降率とした。（７）前（５）で得られた無機顔料を含有する分散媒
（温度は１３０〜１５０℃）を鉄板上にハケで塗布し、
その特性を下記の４段階で評価した。（８）〔塗膜外観の優劣評価〕 ◎・・・塗布面がきわめて平滑で、圧力をかけても崩れ等
を生じない。 ○・・・塗布面が平滑で、圧力をかけても崩れ等を生じな
い。 △・・・塗布面が平滑であるが、圧力をかけるとやや崩れ
等を生じやすい。 ×・・・塗布面が凹凸で、圧力をかけると崩れ等を生じ
る。（９）〔塗装工程時の優劣評価（塗布適性）〕 ◎・・・極めて良好に伸展する。 ○・・・良好に伸展する。 △・・・やや伸展性が劣る。 ×・・・不連続な塗布面が発生する。

【００２２】前述のように、最終的に表１〜３に記載し
た分散媒３５０ｇおよび無機顔料７ｇの組成物になるよ
うに各成分を配合した。実施例１〜８、比較例２は表に
記載した分散媒および無機顔料からなるマスターバッチ
を使用し、実施例９および比較例１はマスターバッチを
使用しなかった。なお表中、マスターバッチ、形状の欄
のペレット５０個／ｇとは、ペレットの大きさが５０個
で１ｇであることを示す。以上の結果を表１〜３に示
す。

【００２３】

【表１】

【００２４】

【表２】

【００２５】

【表３】

【００２６】

【発明の効果】本発明に係る塗布用隠蔽組成物を使用す
ることにより、意匠性および／または所定箇所のシール
材の存否を確認することが可能で、製品の組立て時等の
肉眼的・光学的検査工程での識別性の向上を目的とした
光学的な隠蔽性、塗布適性、シール性に優れた高機能性
の塗布用隠蔽膜・シール材を得ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ポリブテン９８〜８０質量部と密度０.
９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレン２〜２０質量部（両
者を合わせて１００質量部とする。）からなる分散媒、
およびその中に分散した無機顔料０.１〜１０質量部、
からなる塗布用隠蔽組成物。
【請求項２】（１）ポリブテンの数平均分子量が７００以上１０００
０以下であること、（２）ポリエチレンのＭＦＲが４ｇ／１０分以上である
こと、（３）ポリエチレンのＤＳＣで測定される融点が１２０
℃以下であること、（４）ポリエチレンが高圧法ポリエチレンであること、
および、（５）無機顔料の比重が６以下であること、のいずれかを満たすことを特徴とする請求項１に記載の
塗布用隠蔽組成物。
【請求項３】ポリブテン９８〜８０質量部と密度０.
９３ｇ／ｃｍ^３以下のポリエチレン２〜２０質量部（両
者を合わせて１００質量部とする。）からなる分散媒、
およびその中に分散した無機顔料０.１〜１０質量部か
らなる塗布用隠蔽組成物の製造方法において、当該ポリブテンおよび／または当該ポリエチレンを分散
媒とし、２０質量％以上の無機顔料を含有するマスター
バッチを使用することを特徴とする塗布用隠蔽組成物の
製造方法。
【請求項４】前記マスターバッチが２０メッシュの金
網篩を通過するものであることを特徴とする請求項３に
記載の塗布用隠蔽組成物の製造方法。