JP2003263721A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
た磁気記録媒体を提供する。 【解決手段】 支持体上にCuAu型あるいはCu3A
u型硬磁性規則合金からなるナノ粒子を含むナノ粒子層
が形成され、該ナノ粒子層上に保護層が形成されている
ことを特徴とする磁気記録媒体である。
Description
し、特にナノ粒子層を磁性層とする磁気記録媒体に関す
る。 【0002】 【従来の技術】粒子サイズを小さくすることは、磁気記
録密度を高くするうえで必要である。例えば、ビデオテ
ープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用
いられている磁気記録媒体では、磁性層に含有される強
磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていっ
た方がノイズは下がる。 【0003】かかる観点から、CuAu型あるいはCu
3Au型硬磁性規則合金は、規則化時に発生する歪みの
ために結晶磁気異方性が大きく、粒子サイズが小さい、
いわゆるナノ粒子と呼ばれる状態としても硬磁性を示す
ことから磁気記録密度向上に有望な素材である。 【0004】CuAu型あるいはCu3Au型硬磁性規
則合金を形成し得るナノ粒子を液相法あるいは気相法で
合成した直後は、不規則相で軟磁性あるいは常磁性であ
る。この状態では磁気記録媒体に用いる事ができない。
規則合金相を得るためには500℃程度の温度でアニー
ルする必要がある。磁気記録媒体の走行耐久性を確保す
るために潤滑剤あるいは高分子結合剤が用いられるが、
このアニール温度では炭化してしまい走行耐久性を確保
することが不可能である。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】以上から、本発明は、
耐腐食性や強度が高い等、走行耐久性に優れた磁気記録
媒体を提供することを目的とする。 【0006】 【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく鋭
意検討の結果、本発明者は、支持体上にCuAu型ある
いはCu3Au型硬磁性規則合金を含むナノ粒子層を形
成し、その層上に保護層が形成された磁気記録媒体によ
れば、上記課題を解決することができることを見出し
た。すなわち、本発明は、支持体上にCuAu型あるい
はCu3Au型硬磁性規則合金からなるナノ粒子を含む
ナノ粒子層が形成され、該ナノ粒子層上に保護層が形成
されていることを特徴とする磁気記録媒体である。 【0007】 【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、支持体
上にナノ粒子層が形成され、該ナノ粒子層上に保護層が
形成されている。ナノ粒子層には、CuAu型あるいは
Cu3Au型硬磁性規則合金からなるナノ粒子が含有さ
れている。液相法もしくは気相法で作製されたナノ粒子
は、不規則相であるが、後述するように、アニール処理
もしくはレーザー加熱処理を施すことにより規則相に変
態させることが可能で、硬磁性を発現させることができ
る。従って、当該ナノ粒子層を有する本発明の磁気記録
媒体では、保磁力が、例えば、95.5〜398kA/
m(記録ヘッドが対応できるという観点から、好ましく
は、95.5〜278.6kA/m)の硬磁性が示さ
れ、良好な記録特性が発揮される。 【0008】また、保護層をナノ粒子層上に形成するこ
とで、磁気記録媒体の表面の強度を向上させること、
空気を遮断すること、外力をそらすこと、が可能
で、耐食性や走行安定性などを付与することができる。
ここで、「保護層」とは、磁性層であるナノ粒子層を外
的な損傷から保護し、走行安定性を高める層をいい、例
えば、後述する無機材料からなる層や、潤滑剤を塗布し
て形成される層や、これらの層を組合せた層をいう。か
かる保護層をナノ粒子層上に形成することで、良好な硬
磁性を維持しながら、走行耐久性を向上させることが可
能となる。 【0009】前記無機材料からなる層を保護層とした場
合、使用される無機材料としては、シリカ、アルミナ、
チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルな
どの酸化物;窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素など
の窒化物;炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭
化物;グラファイト、無定型カーボンなどの炭素;等が
挙げられる。なかでも、前記炭素からなるカーボン保護
層が好ましく、特に、ダイヤモンドライクカーボンと呼
ばれる硬質の非晶質カーボンからなるカーボン保護層が
好ましい。 【0010】カーボン保護層が好ましい理由としては、
当該カーボン保護層は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗
性を有し、摺動部材に対し焼き付きを生じ難いからであ
る。カーボン保護層の形成方法としては、スパッタ法、
プラズマCVD法、プラズマインジェクションCVD
(PI−CVD)法等がある(例えば、特開昭61−1
30487号公報、特開昭63−279426号公報、
特開平3−113824号公報等に記載の方法)。 【0011】カーボン保護層は、ビッカース硬度で、1
000Kg/mm2以上の硬度を有することが好まし
く、2000Kg/mm2以上の硬度を有することがよ
り好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造で
あり、かつ非導電性であることが好ましい。 【0012】カーボン保護層として、ダイヤモンドライ
クカーボンと呼ばれる硬質の前記非晶質カーボンを適用
した場合、その構造はラマン光分光分析によって確認す
ることができる。具体的には、1520〜1560cm
-1にピークが検出されることによって確認することがで
きる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてく
ると、ラマン光分光分析により検出されるピークが上記
範囲からずれるとともに、炭素膜の硬度も低下する。 【0013】カーボン保護層を形成するための原料とし
ては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカ
ン;エチレン、プロピレン等のアルケン;アセチレン等
のアルキン;をはじめとした炭素含有化合物を挙げるこ
とができる。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリ
アガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを
加えることができる。 【0014】カーボン保護層が厚すぎると電磁変換特性
の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じることがあ
り、薄すぎると耐磨耗性が不足することがあるため、膜
厚は、2.5〜20nmとすることが好ましく、5〜1
0nmとすることがより好ましい。また、カーボン保護
層と磁性層となるナノ粒子層(磁性ナノ粒子層)との密
着性を向上させるために、あらかじめ磁性ナノ粒子層表
面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガ
スのプラズマ中にさらして表面改質してもよい。 【0015】前記潤滑剤を塗布して形成される層を保護
層とした場合、使用される前記潤滑剤としては、走行安
定性の向上させるという観点から、フッ素系潤滑剤を使
用することが好ましい。平均分子量3000〜1500
0a.m.u.、動粘度(20℃)20〜1000cs
t、流動点−100〜−50℃、表面張力10〜30d
yne/cmといった特性を有するフッ素系潤滑剤が好
ましい。 【0016】上記フッ素系潤滑剤としては、ステアリン
酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル
等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン
酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、
ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコ
ール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、
ステアリルアミン等のアミン類、等の炭化水素系潤滑剤
のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基も
しくはパーフルオロポリエーテル基で置換したフッ素系
潤滑剤を1種もしくは2種以上を混合して用いること好
ましい。 【0017】前記パーフルオロポリエーテル基として
は、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオ
ロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピ
レンオキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフ
ルオロイソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)
CF2O)nまたはこれらの共重合体等が挙げられる。
また、末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシ
ル基などの極性官能基を有する化合物が摩擦力を低減す
る効果が高いため好適である。さらに、フッ素系潤滑剤
の分子量は500〜5000であることが好ましく、1
000〜3000であることがより好ましい。分子量が
500未満では揮発性が高くなり、また潤滑性が低くな
ることがある。分子量が5000を超えると、粘度が高
くなるため、スライダーとディスクが吸着しやすく、走
行停止やヘッドクラッシュなどを発生しやすくなる。 【0018】特に、パーフルオロポリエーテル基で置換
したフッ素系潤滑剤は、例えば、アウジモンド社からF
OMBLIN、デュポン社からKRYTOXなどの商品
名で市販されている。 【0019】前記潤滑剤の塗布量としては、0.01〜
10g/mm2とすることが好ましく、0.1〜3g/
mm2とすることがより好ましい。 【0020】また、既述のように、前記潤滑剤を塗布し
て形成される層と無機材料からなる層とを組合せてもよ
い。すなわち、カーボン保護層のような無機材料からな
る層上に潤滑剤を塗布して形成される層を形成してもよ
い。このように2つの層を組合せて保護層とすること
で、無機材料の有する強度と潤滑剤の有する潤滑性とが
表面に付与されるため、耐傷性と走行安定性をより向上
させることができる。潤滑剤を塗布して形成される層と
無機材料からなる層とを組合せた場合、保護層全体とし
ての厚さが厚いと磁性層とヘッドの間が広くなり、電磁
変換特性上好ましくない。従って、厚さは2〜100n
mとすることが好ましく、2〜50nmとすることがよ
り好ましく、2〜10nmとすることがさらに好まし
い。 【0021】本発明の磁気記録媒体は、表面の中心線平
均粗さが、カットオフ値0.25mmにおいて0.1〜
5nm、好ましくは1〜4nmの範囲という極めて優れ
た平滑性を有する表面であることが高密度記録用の磁気
記録媒体として好ましい。かかる表面の中心線平均粗さ
を得る方法としては、磁性ナノ粒子層を形成した後にカ
レンダー処理を施すことにより行われる。また、バーニ
ッシュ処理を施してもよい。 【0022】<磁気記録媒体の製造方法>上記本発明の
磁気記録媒体は、すくなくとも、下記〜の製造工程
を経て製造されることが好ましい。すなわち、CuA
u型あるいはCu3Au型硬磁性規則合金相を形成し得
るナノ粒子を調製するナノ粒子調製工程、調製したナ
ノ粒子を支持体上に塗布してナノ粒子層を形成するナノ
粒子層形成工程、形成したナノ粒子層上に保護層を形
成する保護層形成工程、を経て本発明の磁気記録媒体が
製造されることが好ましい。以下、各製造工程について
説明する。 【0023】ナノ粒子調製工程:CuAu型あるいは
Cu3Au型硬磁性規則合金相を形成し得るナノ粒子を
調製するには、気相法や液相法、その他公知のナノ粒子
調製法を用いることが出来る。量産性に優れることを考
慮すると、液相法が好ましい。液相法における溶媒は、
有機溶剤でも水でもよく、また有機溶剤と水との混合液
を用いてもかまわない。 【0024】CuAu型強磁性規則合金としては、Fe
Ni、FePd、FePt、CoPt等が挙げられ、な
かでもFePd、FePt、CoPtであることが好ま
しい。なかでも、FePtが最も磁気異方性定数が大き
い事から特に好ましい。Cu3Au型強磁性規則合金と
しては、Ni3Fe、FePd3、Fe3Pt、FeP
t3、CoPt3、Ni3Pt、CrPt3、Ni3Mnが
挙げられ、なかでもFePd3、FePt3、CoP
t3、Fe3Pd、Fe3Pt、Co3Ptを使用すること
が好ましい。 【0025】液相法でナノ粒子を調製するには種々の方
法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属(以
下、単に「卑な金属」ということがある)と、酸化還元
電位が貴な金属(以下、単に「貴な金属」ということが
ある)と、を液相中で還元剤等を使用して還元する方法
を適用することが好ましい。卑な金属と貴な金属との還
元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。前
記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を
使用することが可能で、アルコールとしては、メタノー
ル、エタノール、ブタノール等が挙げられ、ポリアルコ
ールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙
げられる。なお、貴な金属を先に析出させてナノ粒子を
調製する方法としては、特願2001−269255号
の段落18〜30等に記載の方法等を適用することがで
きる。 【0026】酸化還元電位が貴な金属としては、Pt、
Pd、Rh等が好ましく用いることができ、H2PtC
l6・6H2O、Pt(CH3COCHCOCH3)2、R
hCl 3・3H2O、Pd(OCOCH3)2、PdC
l2、Pd(CH3COCHCOCH 3)2等を溶媒に溶解
して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、0.
1〜1000μmol/mlが好ましく、0.1〜10
0μmol/mlがより好ましい。 【0027】また、酸化還元電位が卑な金属としては、
Co、Fe、Ni、Crを好ましく用いることができ、
特に好ましくは、Fe、Coである。このような金属
は、FeSO4・7H2O、NiSO4・7H2O、CoC
l2・6H2O、Co(OCOCH3)2・4H2O等を溶
媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度
は、0.1〜1000μmol/mlが好ましく、0.
1〜100μmol/mlがより好ましい。 【0028】また、2元系合金に、Sb、Pb、Bi、
Cu、Ag、Zn等の第三元素を加える事で硬磁性規則
合金への変態温度を下げる事が好ましい。添加量として
は全体量(2元合金+第三元素)に対し、1〜20at
%が好ましく、5〜15at%がより好ましい。 【0029】例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金
属をこの順に還元して析出させる場合、−0.2V(v
s.N.H.E)より卑な還元電位を持つ還元剤を用い
て卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元し
たものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−0.2V
(vs.N.H.E)より貴な還元剤を用いて還元した
後、−0.2V(vs.N.H.E)より卑な還元電位
を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。酸化還元
電位は系のpHに依存するが、酸化還元電位が−0.2
V(vs.N.H.E)より貴な還元剤には、1,2−
ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン
類、H2、HCHOが好ましく用いられる。−0.2V
(vs.N.H.E)より卑な還元剤にはS2O6 2-、H
2PO2 -、BH4 -、N2H5 +、H2PO3 -が好ましく用い
る事ができる。なお、卑な金属の原料として、Feカル
ボニル等の0価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な
金属の還元剤は必要ない。 【0030】貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存
在させる事でナノ粒子を安定して調製することができ
る。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用するこ
とが好ましい。前記ポリマーとしては、ポリビニルアル
コール(PVA)、ポリN−ビニル−2ピロリドン(P
VP)、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ま
しくはPVPである。また、分子量は2万〜6万が好ま
しく、より好ましくは3万〜5万である。ポリマーの量
は生成する硬磁性ナノ粒子の質量の0.1〜10倍であ
ることが好ましく、0.1〜5倍がより好ましい。 【0031】吸着剤として好ましく用いられる界面活性
剤は、一般式:R−X、で表される長鎖有機化合物であ
る「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中
のRは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオ
ロカーボン鎖である「テール基」であり、通常8〜22
個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のXは、ナノ
粒子表面に特定の化学結合を提供する部分(X)である
「ヘッド基」であり、スルフィネート(−SOOH)、
スルホネート(−SO2OH)、ホスフィネート(−P
OOH)、ホスホネート(−OPO(OH)2)、カル
ボキシレート、およびチオールのいずれかであることが
好ましい。 【0032】前記有機安定剤としては、スルホン酸(R
−SO2OH)、スルフィン酸(R−SOOH)、ホス
フィン酸(R2POOH)、ホスホン酸(R−OPO
(OH)2)、カルボン酸(R−COOH)、チオール
(R−SH)等のいずれかであることが好ましい。これ
らのなかでも、オレイン酸が特に好ましい。 【0033】オレイン酸はコロイドの安定化において周
知の界面活性剤であり、鉄系ナノ粒子の保護に好適であ
る。オレイン酸は18炭素鎖を有し、その長さは〜20
オングストローム(〜2nm)である。また、オレイン
酸には脂肪族ではなく二重結合が1つ存在する。そし
て、オレイン酸の比較的長い鎖は粒子間の強い磁気相互
作用を打ち消す重要な立体障害を与える。エルカ酸やリ
ノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に
(たとえば、8〜22の間の炭素原子を有する長鎖有機
酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる)用
いられてきが、オレイン酸は(オリーブ油など)容易に
入手できる安価な天然資源であるので、特に好ましい。 【0034】前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ
(トリオルガノホスフィン/酸等)は、粒子の成長およ
び安定化に対する優れた制御性を提供することができ
る。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用い
ることができるが、フェニルエーテルまたはn−オクチ
ルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒とし
て好適に用いられる。 【0035】反応は必要なナノ粒子および溶媒の沸点に
より80℃〜360℃の範囲の温度で行うことが好まし
く、80℃〜240℃がより好ましい。温度がこの温度
範囲より低いと粒子が成長しないことがある。温度がこ
の範囲より高いと粒子は制御されないで成長し、望まし
くない副産物の生成が増加することがある。 【0036】ナノ粒子の粒径は1〜100nmが好まし
く、より好ましくは3〜20nmであり、さらに好まし
くは3〜10nmである。粒子サイズ(粒径)を大きく
する方法としては種晶法が有効である。磁気記録媒体と
して用いるにはナノ粒子を最密充填することが記録容量
を高くする上で好ましく、そのためには、ナノ粒子のサ
イズの標準偏差は10%未満が好ましく、より好ましく
は5%以下である。 【0037】粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり
好ましくない。そこで粒子サイズを大きくするため既述
のように、種晶法を用いることが好ましい。その際、粒
子を構成する金属より貴な金属を析出させるケースが出
てくる。このとき、粒子の酸化が懸念されるため、予め
粒子を水素化処理することが好ましい。 【0038】ナノ粒子の最外層は酸化防止の観点から貴
な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本
発明では貴な金属と卑な金属との合金であることが好ま
しい。かかる構成は、既述のような、液相法によれば容
易かつ効率良く実現させることができる。 【0039】ナノ粒子合成後に溶液から塩類を除くこと
は、ナノ粒子の分散安定性を向上させる意味から好まし
い。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こ
し、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に
除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じ
やすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。 【0040】ナノ粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡
(TEM)を用いることができる。ナノ粒子の結晶系を
決めるにはTEMによる電子回折でもよいが、X線回折
を用いた方が精度が高いため好ましい。ナノ粒子の内部
の組成分析には、電子線を細く絞ることができるFE−
TEMにEDAXを付け評価することが好ましい。ま
た、ナノ粒子の磁気的性質の評価はVSMを用いて行う
ことができる。 【0041】ナノ粒子層形成工程:液相法あるいは気
相法で作製したCuAu型あるいはCu3Au型硬磁性
規則合金を形成しうるナノ粒子は不規則相である。一般
に、不規則相では硬磁性は得られない。そこで、規則相
とするためには、支持体上にナノ粒子を含有する塗布液
を塗布して、熱処理(アニール)を施す必要がある。前
記熱処理は、示差熱分析(DTA)を用い、ナノ粒子を
構成する合金が規則不規則変態する変態温度(通常は5
00℃以上)を求め、その温度以上で行う事が必要であ
る。 【0042】前記支持体としては、磁気記録媒体に使用
される支持体であれば、無機物および有機物のいずれで
もよい。無機物の支持体としては、Al、Al−Mg、
Mg−Al−Zn等のMg合金、ガラス、石英、カーボ
ン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの
支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適し
た剛性を有する。また、有機物支持体と比較して、熱に
強い特徴を有している。 【0043】有機物の支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル類;ポリオレフィン類;セルロ−ストリアセテー
ト、ポリカ−ボネート、ポリアミド(脂肪族ポリアミド
やアラミド等の芳香族ポリアミドを含む)、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオ
キサゾール;等を用いる事ができる。 【0044】ナノ粒子を含有する塗布液としては、既述
のナノ粒子の調製工程(液相法)によって得られたナノ
粒子を含んだ状態の溶液を使用することができる。実際
には、このナノ粒子を含有する塗布液に公知の添加剤を
加えたり、既述の溶媒などを加えてナノ粒子の含有量を
所望の濃度(0.01〜0.1mg/ml)として、支
持体上に塗布することが好ましい。塗布する方法として
は、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコ
ート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコー
ト、含浸コート、リバースロールコート、トランスファ
ーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャス
トコート、スプレイコート、スピンコート等が利用でき
る。 【0045】気相法で調製したナノ粒子を前記支持体上
に塗布する場合は、まず、前記ナノ粒子を公知の混練法
あるいは、公知の微分散法をもちいて溶媒などに分散し
て塗布液を調製し、液相法の場合と同様にして、支持体
上に塗布し、塗布膜を形成する。塗布液のナノ粒子の含
有量等の条件については、液相法の場合と同様である。 【0046】支持体上にナノ粒子を塗布した後は、熱処
理を施すことで規則化を行う。既述のように、塗布後の
熱処理温度は、ナノ粒子を構成する合金の規則化に必要
な温度(変態温度)以上とすることが好ましい。かかる
変態温度は、第三元素の添加などにより低くすることが
できる。具体的には、150℃以上であることが好まし
く、支持体の耐熱性等を考慮して150〜300℃であ
ることがより好ましい。 【0047】ここで、支持体として無機物を使用する場
合は、上記のように通常の熱処理を行うことが可能であ
るが、有機物を使用する場合は、熱による変形や変質が
問題となる。そこで、有機物を支持体として使用する場
合は、レーザー加熱を適用することが好ましい。レーザ
ー加熱により、支持体上のナノ粒子だけを選択的に加熱
することができるので、支持体への熱の影響を少なく
し、効率よくナノ粒子を構成する合金を規則化させるこ
とができる。 【0048】レーザーの波長は、紫外から赤外まで用い
る事ができるが、有機物の支持体は紫外域に吸収を持つ
事から、可視から赤外域のレーザー光を用いる事が好ま
しい。レーザー出力は、塗布膜を短時間で加熱するた
め、0.1W以上が好ましく、0.3W以上がより好ま
しい。出力が高すぎると有機物支持体も熱の影響を受け
ることがあるため、3W以下が好ましい。レーザーの波
長及び出力の観点から、好ましく用いられるレーザとし
ては、Arイオンレーザー、Cu蒸気レーザー、HF化
学レーザー、色素レーザー、ルビーレーザー、YAGレ
ーザー、ガラスレーザー、チタンサファイアレーザー、
アレキサンドライトレーザー、GaAlAsアレイ半導
体レーザー等が挙げられる。 【0049】レーザー光を走査する際の線速度は、相変
態が十分に起こり、かつ、アブレーションを起こさない
といった効果を得るため、1〜10m/sとすることが
好ましく、2〜5m/sとすることがより好ましい。 【0050】以上のような熱処理を施すことによって、
支持体上に合金が規則化されたナノ粒子層が形成され
る。形成されるナノ粒子層は、適用される磁気記録媒体
などの種類にもよるが、乾燥後の厚さが5nm〜1μm
であることが好ましく、5nm〜0.2μmであること
がより好ましい。 【0051】保護層形成工程:熱処理後のナノ粒子層
上に保護層を形成する方法は、保護層を構成する材料に
より適宜選択することが好ましい。無機材料からなる層
を保護層とする場合は、化学蒸着法、スパッタ法等の方
法を適用することが好ましい。 【0052】潤滑剤を塗布して形成される層を保護層と
する場合は、既述のフッ素系潤滑剤を有機溶剤に溶解
し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、デ
ィップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって形
成することが好ましい。 【0053】以上のような工程を経ることによって、支
持体上にナノ粒子層が形成され、該ナノ粒子層上に保護
層が形成された本発明の磁気記録媒体が製造される。な
お、必要に応じて、他の層を形成してもよい。例えば、
支持体とナノ粒子層との間に、接着力強化あるいは支持
体からの不純物拡散を防止するための非磁性層を形成し
てもよい。また、ディスクでは支持体の反対側の面にも
同様に磁性層、必要に応じ磁性層と非磁性層を設けるこ
とができる。テープの場合、磁性層の反対側の支持体面
上にはバック層を設けることができる。 【0054】また、本発明の磁気記録媒体の表面に、防
錆剤を付与してもよい。防錆剤としてはベンゾトリアゾ
ール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒
素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を
導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メルカプトン
ベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウ
ラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこ
の誘導体等が挙げられる。 【0055】さらに、支持体のナノ粒子層が形成されて
いない面にバックコート層(バッキング層)が設けられ
ていてもよい。バックコート層は、支持体のナノ粒子層
が形成されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒
状成分と結合剤とを有機溶剤に分散したバックコート層
形成塗料を塗布して設けられる層である。粒状成分とし
て各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することが
でき、また結合剤としてはニトロセルロース、フェノキ
シ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単
独またはこれらを混合して使用することができる。な
お、支持体のナノ粒子層およびバックコート層が形成さ
れる面には、接着性向上の為に接着剤層が設けられてい
てもよい。 【0056】以上のようにして製造された本発明の磁気
記録媒体は、必要に応じて、打ち抜き機で打ち抜くか、
あるいは裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して
使用することができる。 【0057】 【実施例】以下の実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 【0058】(FePtナノ粒子分散液の調製)高純度
Arガス中で下記の操作を行った。まず、プラチナ(I
I)アセチルアセトナート[CH3COCH=C(O
−)CH3]2Ptを0.5mmolと、1,2−ヘキサ
デカンジオールを1.5mmolと、ジオクチルエーテ
ル20mlと、を混合し100℃で加熱した。オレイン
酸0.5mmolと、オレイルアミン0.5mmol
と、Fe(CO)51mmolと、を加え297℃で3
0分間還流した。 【0059】冷却後、エタノールを40ml加え、析出
物を沈降させた後、上澄みを取り除いた。オレイン酸
0.16mmolと、オレイルアミン0.15mmol
と、を加えた後に25mlのヘキサンを加え分散した。
再びエタノールを20ml加え、析出物を沈降させた後
上澄みを取り除いた。オレイン酸0.16mmol、オ
レイルアミン0.15mmolを加えた後に20mlの
ヘキサンを加え分散した。また、エタノールを15ml
加え、析出物を沈降させた後上澄みを取り除いた。オレ
イン酸0.16mmol、オレイルアミン0.15mm
olを加えた後に5mlのヘプタンを加え分散し、Cu
Au型硬磁性規則相を形成し得るナノ粒子が分散したF
ePtナノ粒子分散液を調製した。 【0060】(ナノ粒子である事の確認)調製したナノ
粒子分散液をTEM観察用のメッシュに乗せ乾燥する事
でTEMサンプルを作製した。加速電圧300KVの日
立製作所製透過電子顕微鏡(TEM)を用い粒子サイズ
を調べた。この結果、Fe−Ptのナノ粒子であること
が確認され、調製したナノ粒子分散液中のナノ粒子の体
積平均粒径は、5nmであることが確認され、変動係数
は5%であった。 【0061】(実施例1) ナノ粒子層の形成 N2雰囲気下で下記の操作を行った。前記Fe−Ptナ
ノ粒子分散液を塗布液とし、外径6cm、内径3cmの
SiO2/Si基板(支持体)に、ナノ粒子(Pt−F
e合金)が0.5mg/m2となるように塗布し、55
0℃の電気炉で30分間加熱し、ナノ粒子層(厚さ:
0.1μm)を形成した。 【0062】保護層の形成 ASTeX社製のプラズマインジェクションCVD装置
において、反応管先端−基板間距離が22mmとなるよ
うに、ナノ粒子層が形成されたガラス基板を設置した。
次に真空槽を排気し、399×10-5Pa(3×10-5
Torr)とした後、ガス導入管よりエチレンガス15
0sccm、アルゴンガス50sccmを導入し、反応
管内を1.33Pa(0.01Torr)とした。この
状態で反応管の励起コイルに13.56MHzの高周波
を450Wの電力で印加し、原料ガス(エチレンガス)
をプラズマ化した。ガラス基板には−400V、アノー
ド電極には+500Vのバイアスを印加した。中心部の
膜厚が5nmとなるようにカーボン保護層を形成した。 【0063】潤滑剤塗布 形成したカーボン保護層上に、リン酸モノラウリルエス
テルおよびパーフルオロオクタン酸ステアリルエステル
の混合物を、それぞれ3mg/m2となるように、ワイ
ヤーバー法により塗布し、磁気記録媒体を作製した。な
お、塗布後の保護層の厚さは、10nmであった。 【0064】(実施例2)カーボン保護層の厚さを2.
5nmとし、潤滑剤塗布後の保護層の厚さを、8nmと
した以外は、実施例1と同様にして、磁気記録媒体を作
製した。 【0065】(実施例3)カーボン保護層を形成せず、
潤滑剤(リン酸モノラウリルエステルおよびパーフルオ
ロオクタン酸ステアリルエステルの混合物)を、それぞ
れ3mg/m2となるように塗布した以外は、実施例1
と同様にして、磁気記録媒体を作製した。 【0066】(比較例1)カーボン保護層を形成せず、
潤滑剤を塗付しなかった以外は、実施例1と同様にし
て、磁気記録媒体を作製した。 【0067】(膜強度の評価)実施例1〜3および比較
例1で作製した磁気記録媒体を、ハードディスク電磁変
換特性評価用のスピンスタンド(協同電子製 SS−6
0,Guzik RWA−1601)に設置し、傷のつ
きやすさで膜強度を評価した。結果を下記表1に示す。
なお、傷の数は、光学顕微鏡(100倍)により、内径
3cm〜外径6cmの範囲を半径方向に連続的に3ヶ所
観察し、それらの平均により求めた。 【0068】 【表1】 【0069】上記表1より、保護層を形成することで、
傷が発生しにくい磁気記録媒体とすることができた。特
に、実施例1および2にように、カーボン保護膜上に潤
滑剤を付与した形態を保護層とすることで、当該保護層
の耐傷性をより向上させることができた。 【0070】 【発明の効果】以上、本発明によれば、耐腐食性や強度
が高い等、走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供する
ことができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体上にCuAu型あるいはCu3A
u型硬磁性規則合金からなるナノ粒子を含むナノ粒子層
が形成され、該ナノ粒子層上に保護層が形成されている
ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002063475A JP2003263721A (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002063475A JP2003263721A (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003263721A true JP2003263721A (ja) | 2003-09-19 |
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---|---|---|---|
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JP (1) | JP2003263721A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010285644A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 微粒子の表面処理方法及び微粒子 |
-
2002
- 2002-03-08 JP JP2002063475A patent/JP2003263721A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010285644A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 微粒子の表面処理方法及び微粒子 |
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