JP2003262809A - マルチビーム光源装置 - Google Patents
マルチビーム光源装置Info
- Publication number
- JP2003262809A JP2003262809A JP2002062840A JP2002062840A JP2003262809A JP 2003262809 A JP2003262809 A JP 2003262809A JP 2002062840 A JP2002062840 A JP 2002062840A JP 2002062840 A JP2002062840 A JP 2002062840A JP 2003262809 A JP2003262809 A JP 2003262809A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- source device
- beams
- scanning
- optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクトで単純な構成でありながら露光間
位置精度の高いマルチビーム光源装置とマルチビーム走
査装置を提供する。 【解決手段】 互いに非平行な２本のレーザビーム(L1,
L2)を射出する光源部(10A)と、光源部(10A)から射出し
た２本のレーザビーム(L1,L2)を互いに異なる角度で集
光させる光源光学系(20A)を設ける。光源部(10A)はモノ
リシックに構成された２本の光導波路を有し、光源部(1
0A)からの２本のレーザビーム(L1,L2)の射出方向が光導
波路の配置によって設定されている。光源部(10A)から
互いに非平行に射出した２本のレーザビーム(L1,L2)
は、光源光学系(20A)に入射する前に互いに交差する。
位置精度の高いマルチビーム光源装置とマルチビーム走
査装置を提供する。 【解決手段】 互いに非平行な２本のレーザビーム(L1,
L2)を射出する光源部(10A)と、光源部(10A)から射出し
た２本のレーザビーム(L1,L2)を互いに異なる角度で集
光させる光源光学系(20A)を設ける。光源部(10A)はモノ
リシックに構成された２本の光導波路を有し、光源部(1
0A)からの２本のレーザビーム(L1,L2)の射出方向が光導
波路の配置によって設定されている。光源部(10A)から
互いに非平行に射出した２本のレーザビーム(L1,L2)
は、光源光学系(20A)に入射する前に互いに交差する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はマルチビーム光源装
置とマルチビーム走査装置に関するものであり、例えば
カラー画像形成装置(カラーレーザビームプリンタ，カ
ラーデジタル複写機等)において、複数のレーザビーム
又は複数のレーザビーム群を偏向走査することにより、
複数の感光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム
型のマルチビーム走査装置と、それに用いるマルチビー
ム光源装置に関するものである。
置とマルチビーム走査装置に関するものであり、例えば
カラー画像形成装置(カラーレーザビームプリンタ，カ
ラーデジタル複写機等)において、複数のレーザビーム
又は複数のレーザビーム群を偏向走査することにより、
複数の感光体のそれぞれに画像を露光記録するタンデム
型のマルチビーム走査装置と、それに用いるマルチビー
ム光源装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】デジタルＰＰＣ(Plain Paper Copier)や
レーザビームプリンタにおいて、カラー画像出力速度を
高速化するために、複数本の感光体ドラムを用いて複数
色を順次現像するタンデムカラー現像方式が知られてい
る。この方式を採用した場合、通常、イエロー(Ｙ)，マ
ゼンタ(Ｍ)，シアン(Ｃ)，ブラック(Ｋ)の４色に対応し
た４本の感光体ドラムのそれぞれに対し、半導体レーザ
又はＬＥＤ(Light Emitting Diode)アレイで各色の画像
に応じた露光及び現像が行われる。したがって、カラー
画像出力において各色画像間の画像位置ズレ(すなわち
色ズレ)をいかに抑えるかが重要になる。
レーザビームプリンタにおいて、カラー画像出力速度を
高速化するために、複数本の感光体ドラムを用いて複数
色を順次現像するタンデムカラー現像方式が知られてい
る。この方式を採用した場合、通常、イエロー(Ｙ)，マ
ゼンタ(Ｍ)，シアン(Ｃ)，ブラック(Ｋ)の４色に対応し
た４本の感光体ドラムのそれぞれに対し、半導体レーザ
又はＬＥＤ(Light Emitting Diode)アレイで各色の画像
に応じた露光及び現像が行われる。したがって、カラー
画像出力において各色画像間の画像位置ズレ(すなわち
色ズレ)をいかに抑えるかが重要になる。
【０００３】またタンデム型のマルチビーム走査装置と
して、複数(例えばＹＭＣＫ)のレーザビームを偏向装置
の同一面で偏向走査することにより各感光体ドラムに画
像を露光記録するタイプが知られている。このタイプに
おいて偏向装置等の大型化を避けようとすると、偏向装
置入射前の光路合成と偏向装置射出後の空間的な光路分
離とが必要になる(いわゆる合成・分離方式)。そのため
一般的には、偏向装置の同一面に対して複数のレーザビ
ームが副走査方向に互いに異なる角度で入射するように
構成される。その入射角度や入射位置の調整は通常各色
毎に行われるため、偏向装置の後に配置されている走査
光学系(ｆθレンズ等)に対する誤差感度は高く、所定の
性能を得るには複雑で高精度の調整作業が必要になる。
して、複数(例えばＹＭＣＫ)のレーザビームを偏向装置
の同一面で偏向走査することにより各感光体ドラムに画
像を露光記録するタイプが知られている。このタイプに
おいて偏向装置等の大型化を避けようとすると、偏向装
置入射前の光路合成と偏向装置射出後の空間的な光路分
離とが必要になる(いわゆる合成・分離方式)。そのため
一般的には、偏向装置の同一面に対して複数のレーザビ
ームが副走査方向に互いに異なる角度で入射するように
構成される。その入射角度や入射位置の調整は通常各色
毎に行われるため、偏向装置の後に配置されている走査
光学系(ｆθレンズ等)に対する誤差感度は高く、所定の
性能を得るには複雑で高精度の調整作業が必要になる。
【０００４】特開平８−２７１８１７号公報，特開平１
１−９５１４０号公報，特開平１１−１９４２８５号公
報，特開平１１−１１９１３１号公報等において、独立
した複数の単ビーム光源を備え、ミラーやプリズムの位
置，光学面の方向等を調整することにより前記色ズレを
抑えるマルチビーム走査装置が提案されている。また、
前記色ズレを抑える上で有効な光源装置として、モノリ
シックに形成された複数の光導波路からレーザビームを
放射状に射出するマルチビーム光源装置が、特開昭６２
−２６９９０７号公報で提案されている。
１−９５１４０号公報，特開平１１−１９４２８５号公
報，特開平１１−１１９１３１号公報等において、独立
した複数の単ビーム光源を備え、ミラーやプリズムの位
置，光学面の方向等を調整することにより前記色ズレを
抑えるマルチビーム走査装置が提案されている。また、
前記色ズレを抑える上で有効な光源装置として、モノリ
シックに形成された複数の光導波路からレーザビームを
放射状に射出するマルチビーム光源装置が、特開昭６２
−２６９９０７号公報で提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】特開平８−２７１８１
７号公報等で提案されているマルチビーム走査装置は、
各ビーム走査位置の初期調整(例えば、各レーザビーム
の相対位置・相対角度の調整，フォーカス調整)が非常
に複雑である。このため、調整時間が長くかかり、コス
トも高くなってしまう。さらに、ミラーやプリズム等の
反射面を含んでいるため、環境変動(温度・湿度変化等)
や経時変化により各ビーム走査位置が変化しやすいとい
った問題もある。環境変動や経時変化によって光学系の
初期設定値にズレが生じるのを防ぐために、各ビーム走
査位置を補正するための特殊なセンサを用いると(例え
ば特開平１０−１４８７７５号公報)、コストが更に高
くなってしまう。
７号公報等で提案されているマルチビーム走査装置は、
各ビーム走査位置の初期調整(例えば、各レーザビーム
の相対位置・相対角度の調整，フォーカス調整)が非常
に複雑である。このため、調整時間が長くかかり、コス
トも高くなってしまう。さらに、ミラーやプリズム等の
反射面を含んでいるため、環境変動(温度・湿度変化等)
や経時変化により各ビーム走査位置が変化しやすいとい
った問題もある。環境変動や経時変化によって光学系の
初期設定値にズレが生じるのを防ぐために、各ビーム走
査位置を補正するための特殊なセンサを用いると(例え
ば特開平１０−１４８７７５号公報)、コストが更に高
くなってしまう。
【０００６】特開昭６２−２６９９０７号公報で提案さ
れているようなマルチビーム光源装置を用いると、各ビ
ーム走査位置の複雑な初期調整は不要である。半導体製
造工程のフォトリソグラフィーにより、各レーザビーム
の相対位置や相対角度を高精度に設定することができる
からである。しかし、複数のレーザビームの広がり角度
を大きくしようとすると、光導波路の射出点間隔が大き
くなるため、レーザビームを偏向装置に導く光源光学系
が大型化してしまう。また、光源光学系の倍率を小さく
しなければならなくなるため、その収差補正が困難にな
る。光導波路の長さや射出点間隔を小さくしながら複数
のレーザビームの広がり角度を大きくしようとすると、
光導波路を複数箇所で曲げたりその曲率を強くしなけれ
ばならなくなるため、そこで生じる漏れ光が増大するこ
とになる。
れているようなマルチビーム光源装置を用いると、各ビ
ーム走査位置の複雑な初期調整は不要である。半導体製
造工程のフォトリソグラフィーにより、各レーザビーム
の相対位置や相対角度を高精度に設定することができる
からである。しかし、複数のレーザビームの広がり角度
を大きくしようとすると、光導波路の射出点間隔が大き
くなるため、レーザビームを偏向装置に導く光源光学系
が大型化してしまう。また、光源光学系の倍率を小さく
しなければならなくなるため、その収差補正が困難にな
る。光導波路の長さや射出点間隔を小さくしながら複数
のレーザビームの広がり角度を大きくしようとすると、
光導波路を複数箇所で曲げたりその曲率を強くしなけれ
ばならなくなるため、そこで生じる漏れ光が増大するこ
とになる。
【０００７】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであって、その目的は、コンパクトで単純な構成で
ありながら露光間位置精度の高いマルチビーム光源装置
と、それを用いて色ズレを抑えたマルチビーム走査装置
を提供することにある。
ものであって、その目的は、コンパクトで単純な構成で
ありながら露光間位置精度の高いマルチビーム光源装置
と、それを用いて色ズレを抑えたマルチビーム走査装置
を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１の発明のマルチビーム光源装置は、互いに非平
行な複数のビーム又はビーム群を射出する光源部を有
し、その光源部から射出した複数のビーム又はビーム群
を互いに異なる角度で集光させる光源光学系を前記光源
部と同数有するマルチビーム光源装置であって、前記光
源部から互いに非平行に射出した複数のビーム又はビー
ム群が、前記光源光学系に入射する前に互いに交差する
ことを特徴とする。
に、第１の発明のマルチビーム光源装置は、互いに非平
行な複数のビーム又はビーム群を射出する光源部を有
し、その光源部から射出した複数のビーム又はビーム群
を互いに異なる角度で集光させる光源光学系を前記光源
部と同数有するマルチビーム光源装置であって、前記光
源部から互いに非平行に射出した複数のビーム又はビー
ム群が、前記光源光学系に入射する前に互いに交差する
ことを特徴とする。
【０００９】第２の発明のマルチビーム光源装置は、上
記第１の発明の構成において、前記ビーム群が互いに平
行な複数のビームから成ることを特徴とする。
記第１の発明の構成において、前記ビーム群が互いに平
行な複数のビームから成ることを特徴とする。
【００１０】第３の発明のマルチビーム光源装置は、上
記第１又は第２の発明の構成において、前記光源部がモ
ノリシックに構成された複数の光導波路を有し、前記光
源部からのビーム又はビーム群の射出方向が前記光導波
路の配置によって設定されることを特徴とする。
記第１又は第２の発明の構成において、前記光源部がモ
ノリシックに構成された複数の光導波路を有し、前記光
源部からのビーム又はビーム群の射出方向が前記光導波
路の配置によって設定されることを特徴とする。
【００１１】第４の発明のマルチビーム光源装置は、上
記第１又は第２の発明の構成において、前記光源部が互
いに傾けて配置された複数の半導体レーザチップとそれ
らを一体に保持する基台とで構成され、前記光源部から
のビーム又はビーム群の射出方向が前記半導体レーザチ
ップの配置によって設定されることを特徴とする。
記第１又は第２の発明の構成において、前記光源部が互
いに傾けて配置された複数の半導体レーザチップとそれ
らを一体に保持する基台とで構成され、前記光源部から
のビーム又はビーム群の射出方向が前記半導体レーザチ
ップの配置によって設定されることを特徴とする。
【００１２】第５の発明のマルチビーム走査装置は、上
記第１〜第４のいずれか１つの発明に係るマルチビーム
光源装置と、そのマルチビーム光源装置からの複数のビ
ーム又はビーム群を同一偏向反射面に対し副走査方向に
互いに異なる角度で入射させることにより、主走査方向
への偏向走査とともに副走査方向への光路分離を行う偏
向装置と、偏向後の複数のビーム又はビーム群を対応す
る各被走査面上で結像させるｆθレンズと、光路分離後
の各ビーム又はビーム群を折り曲げる反射ミラーと、光
路分離後の各ビーム又はビーム群に対しアナモフィック
に作用する長尺アナモフィックレンズと、を有すること
を特徴とする。
記第１〜第４のいずれか１つの発明に係るマルチビーム
光源装置と、そのマルチビーム光源装置からの複数のビ
ーム又はビーム群を同一偏向反射面に対し副走査方向に
互いに異なる角度で入射させることにより、主走査方向
への偏向走査とともに副走査方向への光路分離を行う偏
向装置と、偏向後の複数のビーム又はビーム群を対応す
る各被走査面上で結像させるｆθレンズと、光路分離後
の各ビーム又はビーム群を折り曲げる反射ミラーと、光
路分離後の各ビーム又はビーム群に対しアナモフィック
に作用する長尺アナモフィックレンズと、を有すること
を特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施したマルチビ
ーム光源装置とマルチビーム走査装置を、図面を参照し
つつ説明する。図１〜図１２に、マルチビーム光源装置
の第１〜第６の実施の形態を副走査断面で示す。図１〜
図６は各マルチビーム光源装置の光源部(10A,10B,10C,1
0D,10E,10F)を示しており、図７〜図１２は各マルチビ
ーム光源装置の光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から
ポリゴンミラー(1)までの光学構成を示している。また
図１３に、マルチビーム走査装置の実施の形態を副走査
断面で示す。図１３はマルチビーム走査装置におけるポ
リゴンミラー(1)から各感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)まで
の光学構成を示しており、これを構成するマルチビーム
光源装置(不図示)としては第３，第４，第６の実施の形
態が用いられる。なお、第１，第２，第５の実施の形態
のマルチビーム光源装置は、２組でＹＭＣＫの各色に対
応したマルチビーム走査装置に適用可能である。
ーム光源装置とマルチビーム走査装置を、図面を参照し
つつ説明する。図１〜図１２に、マルチビーム光源装置
の第１〜第６の実施の形態を副走査断面で示す。図１〜
図６は各マルチビーム光源装置の光源部(10A,10B,10C,1
0D,10E,10F)を示しており、図７〜図１２は各マルチビ
ーム光源装置の光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から
ポリゴンミラー(1)までの光学構成を示している。また
図１３に、マルチビーム走査装置の実施の形態を副走査
断面で示す。図１３はマルチビーム走査装置におけるポ
リゴンミラー(1)から各感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)まで
の光学構成を示しており、これを構成するマルチビーム
光源装置(不図示)としては第３，第４，第６の実施の形
態が用いられる。なお、第１，第２，第５の実施の形態
のマルチビーム光源装置は、２組でＹＭＣＫの各色に対
応したマルチビーム走査装置に適用可能である。
【００１４】図１〜図１２中、10A,10B,10C,10D,10E,10
Fは光源部、11はＬＤ(Laser Diode)チップ、12A,12B,12
C,12Dは光導波路基板、13は基台、14はＰＤ(Photo Diod
e)、W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4bは
光導波路、L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,
L4bはレーザビーム、M1,M2,M3,M4はレーザビーム群、20
A,20B,20C,20D,20E,20Fは光源光学系、G1は集光レン
ズ、G2はシリンダレンズである。図７〜図１３中、1は
回転により偏向走査を行うポリゴンミラー(偏向装置)、
1Sは偏向反射面(ミラー面から成る偏向面)、axはポリゴ
ンミラー(1)の回転軸である。図１３中、2はポリゴンウ
ィンドウ、3,4はｆθレンズ、Hはハウジング、LY,LM,L
C,LKはレーザビーム、AXはｆθレンズ(3,4)の光軸、5Y,
5M,5C,5K;6M,6C,6Kは光路分離後の各レーザビーム(LY,L
M,LC,LK)を折り曲げる反射ミラー、7Y,7M,7C,7Kは光路
分離後の各レーザビーム(LY,LM,LC,LK)に対しアナモフ
ィックに作用する長尺アナモフィックレンズ、8Y,8M,8
C,8Kはプリントヘッドウィンドウ、9Y,9M,9C,9Kは感光
体ドラムである。なお、主走査方向はレーザビーム(LY,
LM,LC,LK)が偏向反射面(1S)で偏向することにより各感
光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)を走査する方向であり、副走
査方向は主走査方向に対して垂直な方向である。
Fは光源部、11はＬＤ(Laser Diode)チップ、12A,12B,12
C,12Dは光導波路基板、13は基台、14はＰＤ(Photo Diod
e)、W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4bは
光導波路、L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,
L4bはレーザビーム、M1,M2,M3,M4はレーザビーム群、20
A,20B,20C,20D,20E,20Fは光源光学系、G1は集光レン
ズ、G2はシリンダレンズである。図７〜図１３中、1は
回転により偏向走査を行うポリゴンミラー(偏向装置)、
1Sは偏向反射面(ミラー面から成る偏向面)、axはポリゴ
ンミラー(1)の回転軸である。図１３中、2はポリゴンウ
ィンドウ、3,4はｆθレンズ、Hはハウジング、LY,LM,L
C,LKはレーザビーム、AXはｆθレンズ(3,4)の光軸、5Y,
5M,5C,5K;6M,6C,6Kは光路分離後の各レーザビーム(LY,L
M,LC,LK)を折り曲げる反射ミラー、7Y,7M,7C,7Kは光路
分離後の各レーザビーム(LY,LM,LC,LK)に対しアナモフ
ィックに作用する長尺アナモフィックレンズ、8Y,8M,8
C,8Kはプリントヘッドウィンドウ、9Y,9M,9C,9Kは感光
体ドラムである。なお、主走査方向はレーザビーム(LY,
LM,LC,LK)が偏向反射面(1S)で偏向することにより各感
光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)を走査する方向であり、副走
査方向は主走査方向に対して垂直な方向である。
【００１５】第１〜第６の実施の形態のマルチビーム光
源装置は、図７〜図１２に示すように、光源部(10A,10
B,10C,10D,10E,10F)と光源光学系(20A,20B,20C,20D,20
E,20F)とで構成されている。また、第１〜第４の実施の
形態における光源部(10A,10B,10C,10D)は、図１〜図４
に示すように、副走査方向に沿って等間隔で配列された
複数のＬＤチップ(11)と、その複数のＬＤチップ(11)と
一体的に固定保持される１つの光導波路基板(12A,12B,1
2C,12D)と、で構成されている。第１の実施の形態には
２個のＬＤチップ(11)が用いられているので、光導波路
基板(12A)にも２本の光導波路(W1,W2)が形成されてお
り、第２，第３の実施の形態には４個のＬＤチップ(11)
が用いられているので、光導波路基板(12B,12C)にも４
本の光導波路(W1a,W1b,W2a,W2b;W1,W2,W3,W4)が形成さ
れている。また、第４の実施の形態には８個のＬＤチッ
プ(11)が用いられているので、光導波路基板(12D)にも
８本の光導波路(W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)が
形成されている。
源装置は、図７〜図１２に示すように、光源部(10A,10
B,10C,10D,10E,10F)と光源光学系(20A,20B,20C,20D,20
E,20F)とで構成されている。また、第１〜第４の実施の
形態における光源部(10A,10B,10C,10D)は、図１〜図４
に示すように、副走査方向に沿って等間隔で配列された
複数のＬＤチップ(11)と、その複数のＬＤチップ(11)と
一体的に固定保持される１つの光導波路基板(12A,12B,1
2C,12D)と、で構成されている。第１の実施の形態には
２個のＬＤチップ(11)が用いられているので、光導波路
基板(12A)にも２本の光導波路(W1,W2)が形成されてお
り、第２，第３の実施の形態には４個のＬＤチップ(11)
が用いられているので、光導波路基板(12B,12C)にも４
本の光導波路(W1a,W1b,W2a,W2b;W1,W2,W3,W4)が形成さ
れている。また、第４の実施の形態には８個のＬＤチッ
プ(11)が用いられているので、光導波路基板(12D)にも
８本の光導波路(W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)が
形成されている。
【００１６】光導波路基板(12A,12B,12C,12D)において
コアに相当する各光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W
2b,W3a,W3b,W4a,W4b)は、その周囲に隣接するクラッド
と共にシリコン基板上に形成されている。そして、各Ｌ
Ｄチップ(11)に対応して入射端部及び射出端部が副走査
方向に沿って等間隔で配列されており、また、射出側の
間隔が入射側よりも狭くなっている。したがって、ＬＤ
チップ(11)から互いに平行に射出した複数のレーザビー
ム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)
は、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W
4a,W4b)に入射して伝播することにより、副走査方向に
沿ってビーム間隔が狭められることになる。第２，第４
の実施の形態のようにレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を
射出する光導波路基板(12B,12D)では、各レーザビーム
群(M1,M2,M3,M4)を構成する一対のレーザビーム(L1a,L1
b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4b)が、ビーム間隔を狭めなが
ら射出端面に到達するまでに互いに平行になる。そし
て、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W
4a,W4b)の射出端部に到達した各レーザビーム(L1,L2,L
3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)は、発散ビー
ムとして射出することになる。
コアに相当する各光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W
2b,W3a,W3b,W4a,W4b)は、その周囲に隣接するクラッド
と共にシリコン基板上に形成されている。そして、各Ｌ
Ｄチップ(11)に対応して入射端部及び射出端部が副走査
方向に沿って等間隔で配列されており、また、射出側の
間隔が入射側よりも狭くなっている。したがって、ＬＤ
チップ(11)から互いに平行に射出した複数のレーザビー
ム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)
は、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W
4a,W4b)に入射して伝播することにより、副走査方向に
沿ってビーム間隔が狭められることになる。第２，第４
の実施の形態のようにレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を
射出する光導波路基板(12B,12D)では、各レーザビーム
群(M1,M2,M3,M4)を構成する一対のレーザビーム(L1a,L1
b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4b)が、ビーム間隔を狭めなが
ら射出端面に到達するまでに互いに平行になる。そし
て、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W
4a,W4b)の射出端部に到達した各レーザビーム(L1,L2,L
3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)は、発散ビー
ムとして射出することになる。
【００１７】第５，第６の実施の形態における光源部(1
0E,10F)は、図５，図６に示すように、互いに傾けて配
置された複数のＬＤチップ(11)と、それらを一体的に固
定保持する基台(13)と、ＰＤ(14)と、で構成されてい
る。ＬＤチップ(11)の後方に配置されているＰＤ(14)
は、ＬＤチップ(11)から出力されるモニター光を検出す
るセンサである。ＬＤチップ(11)から常に一定光量のレ
ーザビーム(L1,L2,L3,L4)が出力されるように、ＰＤ(1
4)の検出結果に基づいてレーザビーム(L1,L2,L3,L4)光
量の自動パワー補正が行われる。
0E,10F)は、図５，図６に示すように、互いに傾けて配
置された複数のＬＤチップ(11)と、それらを一体的に固
定保持する基台(13)と、ＰＤ(14)と、で構成されてい
る。ＬＤチップ(11)の後方に配置されているＰＤ(14)
は、ＬＤチップ(11)から出力されるモニター光を検出す
るセンサである。ＬＤチップ(11)から常に一定光量のレ
ーザビーム(L1,L2,L3,L4)が出力されるように、ＰＤ(1
4)の検出結果に基づいてレーザビーム(L1,L2,L3,L4)光
量の自動パワー補正が行われる。
【００１８】第１〜第４の実施の形態では、モノリシッ
クに構成された複数の光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W
2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)の配置によって、光源部(10A,
10B,10C,10D)からのレーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレ
ーザビーム群(M1,M2,M3,M4)の射出方向が設定されてい
る。また第５，第６の実施の形態では、光源部(10E,10
F)からのレーザビーム(L1,L2,L3,L4)の射出方向がＬＤ
チップ(11)の配置によって設定されている。それらの設
定によると、第１，第５の実施の形態の光源部(10A,10
E)は、互いに非平行な２本のレーザビーム(L1,L2)を射
出し、第３，第６の実施の形態の光源部(10C,10F)は、
互いに非平行な４本のレーザビーム(L1,L2,L3,L4)を射
出する。また第２の実施の形態の光源部(10B)は、互い
に平行な２本のレーザビーム(L1a,L1b;L2a,L2b)から成
るレーザビーム群(M1,M2)を２群互いに非平行に射出
し、第４の実施の形態の光源部(10D)は、互いに平行な
２本のレーザビーム(L1a,L1b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4
b)から成るレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を４群互いに
非平行に射出する。なお、ＬＤチップ(11)の配置によっ
てレーザビーム群(M1,…)の射出方向を設定することも
勿論可能である。
クに構成された複数の光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W1b,W
2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)の配置によって、光源部(10A,
10B,10C,10D)からのレーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレ
ーザビーム群(M1,M2,M3,M4)の射出方向が設定されてい
る。また第５，第６の実施の形態では、光源部(10E,10
F)からのレーザビーム(L1,L2,L3,L4)の射出方向がＬＤ
チップ(11)の配置によって設定されている。それらの設
定によると、第１，第５の実施の形態の光源部(10A,10
E)は、互いに非平行な２本のレーザビーム(L1,L2)を射
出し、第３，第６の実施の形態の光源部(10C,10F)は、
互いに非平行な４本のレーザビーム(L1,L2,L3,L4)を射
出する。また第２の実施の形態の光源部(10B)は、互い
に平行な２本のレーザビーム(L1a,L1b;L2a,L2b)から成
るレーザビーム群(M1,M2)を２群互いに非平行に射出
し、第４の実施の形態の光源部(10D)は、互いに平行な
２本のレーザビーム(L1a,L1b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4
b)から成るレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を４群互いに
非平行に射出する。なお、ＬＤチップ(11)の配置によっ
てレーザビーム群(M1,…)の射出方向を設定することも
勿論可能である。
【００１９】光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)
は、図７〜図１２に示すように、集光レンズ(G1)とシリ
ンダレンズ(G2)から成っている。発散する各レーザビー
ム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)
は、集光レンズ(G1)により略平行光に変換され、シリン
ダレンズ(G2)により収束する。光源部(10A,10B,10C,10
D,10E,10F)と光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)と
は同数(つまり１つずつ)設けられているので、光源部(1
0A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出したレーザビーム(L
1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)は、全て
光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)に入射すること
になる。ただし、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)か
ら互いに非平行に射出した複数のレーザビーム(L1,L2,L
3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)は、図１〜図６
に示すように、光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)
に入射する前に互いに交差する。
は、図７〜図１２に示すように、集光レンズ(G1)とシリ
ンダレンズ(G2)から成っている。発散する各レーザビー
ム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)
は、集光レンズ(G1)により略平行光に変換され、シリン
ダレンズ(G2)により収束する。光源部(10A,10B,10C,10
D,10E,10F)と光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)と
は同数(つまり１つずつ)設けられているので、光源部(1
0A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出したレーザビーム(L
1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)は、全て
光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)に入射すること
になる。ただし、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)か
ら互いに非平行に射出した複数のレーザビーム(L1,L2,L
3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)は、図１〜図６
に示すように、光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)
に入射する前に互いに交差する。
【００２０】上記のように複数のレーザビーム(L1,L2,L
3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を互いに交差さ
せるために、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)におけ
る射出点間隔及び射出角度は、光源光学系(20A,20B,20
C,20D,20E,20F)の集光力に見合う量に設定されている。
光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)の倍率にもよる
が、最大の射出角度{つまり、光源光学系(20A,20B,20C,
20D,20E,20F)の光軸に対してレーザビーム(L1,L2,L3,L
4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)の中心光線が成す
角度の最大値}は１５〜２０度程度である。最も良く用
いられる設定射出角度は８度以下であり、この程度の射
出角度ならば光ファイバー先端等でも実施可能であるた
め、品質上の影響(ビーム歪み等)は生じない。
3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)を互いに交差さ
せるために、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)におけ
る射出点間隔及び射出角度は、光源光学系(20A,20B,20
C,20D,20E,20F)の集光力に見合う量に設定されている。
光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)の倍率にもよる
が、最大の射出角度{つまり、光源光学系(20A,20B,20C,
20D,20E,20F)の光軸に対してレーザビーム(L1,L2,L3,L
4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)の中心光線が成す
角度の最大値}は１５〜２０度程度である。最も良く用
いられる設定射出角度は８度以下であり、この程度の射
出角度ならば光ファイバー先端等でも実施可能であるた
め、品質上の影響(ビーム歪み等)は生じない。
【００２１】第１〜第４の実施の形態において、光源部
(10A,10B,10C,10D)の射出点間隔及び射出角度を上記の
ように設定する場合でも、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W
1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)を複数箇所で曲げたりそ
の曲率を強くしたりする必要はない。したがって、漏れ
光が大きく生じることもない。また、複数のレーザビー
ム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)の広
がり角度を大きくしながら光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W
1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)の射出点間隔を小さくす
ることができるため、光源光学系(20A,20B,20C,20D)の
倍率を小さくしなくても光源光学系(20A,20B,20C,20D)
の小型化を達成することが可能である。
(10A,10B,10C,10D)の射出点間隔及び射出角度を上記の
ように設定する場合でも、光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W
1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)を複数箇所で曲げたりそ
の曲率を強くしたりする必要はない。したがって、漏れ
光が大きく生じることもない。また、複数のレーザビー
ム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)の広
がり角度を大きくしながら光導波路(W1,W2,W3,W4,W1a,W
1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b)の射出点間隔を小さくす
ることができるため、光源光学系(20A,20B,20C,20D)の
倍率を小さくしなくても光源光学系(20A,20B,20C,20D)
の小型化を達成することが可能である。
【００２２】光源光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)
は、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出した各
レーザビーム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L
4a,L4b)をポリゴンミラー(1)の偏向反射面(1S)近傍で副
走査方向に収束させて結像させるとともに、複数のレー
ザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M
4)を互いに異なる角度で集光させる。その集光方向は、
光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出される複数
のレーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M
2,M3,M4)の広がり方向(つまり副走査方向)である。光源
光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)から射出した各レー
ザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M
4)は、ポリゴンミラー(1)の同一偏向反射面(1S)に対し
副走査方向に互いに異なる角度で、しかも互いに所定の
間隔を保ちながら入射して反射される。その結果、主走
査方向への偏向走査とともに副走査方向への光路分離が
行われることになる。
は、光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出した各
レーザビーム(L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L
4a,L4b)をポリゴンミラー(1)の偏向反射面(1S)近傍で副
走査方向に収束させて結像させるとともに、複数のレー
ザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M
4)を互いに異なる角度で集光させる。その集光方向は、
光源部(10A,10B,10C,10D,10E,10F)から射出される複数
のレーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M
2,M3,M4)の広がり方向(つまり副走査方向)である。光源
光学系(20A,20B,20C,20D,20E,20F)から射出した各レー
ザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M
4)は、ポリゴンミラー(1)の同一偏向反射面(1S)に対し
副走査方向に互いに異なる角度で、しかも互いに所定の
間隔を保ちながら入射して反射される。その結果、主走
査方向への偏向走査とともに副走査方向への光路分離が
行われることになる。
【００２３】各実施の形態のマルチビーム光源装置は、
上記のようにコンパクトで単純な構成でありながら、各
ビーム位置の複雑な初期調整が不要であり、相対的なビ
ーム間隔及びビーム角度を高い精度で実現することがで
きる。したがって、各レーザビーム(L1,L2,L3,L4,L1a,L
1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)による像面上での露光間
位置精度を向上させることができる。また、光源光学系
(20A,20B,20C,20D,20E,20F)はミラーやプリズムのよう
な角度誤差感度の高い反射面を持たないので、環境変動
(温度・湿度変化等)や経時変化に伴う像面上でのレーザ
ビーム走査位置変動を最小限に抑制することができる。
このため、各色画像間の画像位置ズレ(すなわち色ズレ)
を抑えることができる。さらに、ポリゴンミラー(1)の
偏向反射面(1S)近傍で複数のレーザビーム(L1,L2,L3,L
4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)がすべて集光する
ので、いたずらに偏向反射面(1S)のサイズを大きくする
必要がない。例えば、単ビームレーザ走査装置用のポリ
ゴンミラーをそのまま転用することができるので、より
単純な光学構成で低コスト化を達成することができる。
上記のようにコンパクトで単純な構成でありながら、各
ビーム位置の複雑な初期調整が不要であり、相対的なビ
ーム間隔及びビーム角度を高い精度で実現することがで
きる。したがって、各レーザビーム(L1,L2,L3,L4,L1a,L
1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b)による像面上での露光間
位置精度を向上させることができる。また、光源光学系
(20A,20B,20C,20D,20E,20F)はミラーやプリズムのよう
な角度誤差感度の高い反射面を持たないので、環境変動
(温度・湿度変化等)や経時変化に伴う像面上でのレーザ
ビーム走査位置変動を最小限に抑制することができる。
このため、各色画像間の画像位置ズレ(すなわち色ズレ)
を抑えることができる。さらに、ポリゴンミラー(1)の
偏向反射面(1S)近傍で複数のレーザビーム(L1,L2,L3,L
4)又はレーザビーム群(M1,M2,M3,M4)がすべて集光する
ので、いたずらに偏向反射面(1S)のサイズを大きくする
必要がない。例えば、単ビームレーザ走査装置用のポリ
ゴンミラーをそのまま転用することができるので、より
単純な光学構成で低コスト化を達成することができる。
【００２４】次に、ポリゴンミラー(1)以降のマルチビ
ーム走査装置の構成を、図１３に基づいて説明する。図
１３に示すマルチビーム走査装置は、感光体ドラム(9Y,
9M,9C,9K)以外の部分がハウジング(H)内に位置決めされ
た状態で取り付けられており、ハウジング(H)に設けら
れているプリントヘッドウィンドウ(8Y,8M,8C,8K)から
射出したレーザビーム(LY,LM,LC,LK)で、ＹＭＣＫの各
色に対応した４つの感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)に対す
る画像の露光記録を同時に行う構成になっている。
ーム走査装置の構成を、図１３に基づいて説明する。図
１３に示すマルチビーム走査装置は、感光体ドラム(9Y,
9M,9C,9K)以外の部分がハウジング(H)内に位置決めされ
た状態で取り付けられており、ハウジング(H)に設けら
れているプリントヘッドウィンドウ(8Y,8M,8C,8K)から
射出したレーザビーム(LY,LM,LC,LK)で、ＹＭＣＫの各
色に対応した４つの感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)に対す
る画像の露光記録を同時に行う構成になっている。
【００２５】４本(ＹＭＣＫの４色)のレーザビーム(LY,
LM,LC,LK)は、第３，第４，第６の実施の形態のマルチ
ビーム光源装置(図９，図１０，図１２)から射出するレ
ーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M
3,M4)に対応しており、ポリゴンミラー(1)において同一
位置にある１つの偏向反射面(1S)に対し、副走査方向に
互いに異なる角度で入射し、異なる角度で同時に偏向反
射される。偏向反射された４本のレーザビーム(LY,LM,L
C,LK)は、空間的に光路分離されながら、ポリゴンウィ
ンドウ(2)とｆθレンズ(3,4)を通過する。ｆθレンズ
(3,4)は、偏向後の４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を
対応する各感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)上で結像させ
る。
LM,LC,LK)は、第３，第４，第６の実施の形態のマルチ
ビーム光源装置(図９，図１０，図１２)から射出するレ
ーザビーム(L1,L2,L3,L4)又はレーザビーム群(M1,M2,M
3,M4)に対応しており、ポリゴンミラー(1)において同一
位置にある１つの偏向反射面(1S)に対し、副走査方向に
互いに異なる角度で入射し、異なる角度で同時に偏向反
射される。偏向反射された４本のレーザビーム(LY,LM,L
C,LK)は、空間的に光路分離されながら、ポリゴンウィ
ンドウ(2)とｆθレンズ(3,4)を通過する。ｆθレンズ
(3,4)は、偏向後の４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)を
対応する各感光体ドラム(9Y,9M,9C,9K)上で結像させ
る。
【００２６】ｆθレンズ(3,4)を通過した４本のレーザ
ビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、Ｙのレーザビーム(LY)は
反射ミラー(5Y)で反射された後、長尺アナモフィックレ
ンズ(7Y)とプリントヘッドウィンドウ(8Y)を通って感光
体ドラム(9Y)上で結像する。Ｍのレーザビーム(LM)は反
射ミラー(5M,6M)で反射された後、長尺アナモフィック
レンズ(7M)とプリントヘッドウィンドウ(8M)を通って感
光体ドラム(9M)上で結像する。Ｃのレーザビーム(LC)は
反射ミラー(5C,6C)で反射された後、長尺アナモフィッ
クレンズ(7C)とプリントヘッドウィンドウ(8C)を通って
感光体ドラム(9C)上で結像する。Ｋのレーザビーム(LK)
は反射ミラー(5K,6K)で反射された後、長尺アナモフィ
ックレンズ(7K)とプリントヘッドウィンドウ(8K)を通っ
て感光体ドラム(9K)上で結像する。以上のようにして、
４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)により４つの感光体
ドラム(9Y,9M,9C,9K)に対する露光走査が同時に行われ
る。
ビーム(LY,LM,LC,LK)のうち、Ｙのレーザビーム(LY)は
反射ミラー(5Y)で反射された後、長尺アナモフィックレ
ンズ(7Y)とプリントヘッドウィンドウ(8Y)を通って感光
体ドラム(9Y)上で結像する。Ｍのレーザビーム(LM)は反
射ミラー(5M,6M)で反射された後、長尺アナモフィック
レンズ(7M)とプリントヘッドウィンドウ(8M)を通って感
光体ドラム(9M)上で結像する。Ｃのレーザビーム(LC)は
反射ミラー(5C,6C)で反射された後、長尺アナモフィッ
クレンズ(7C)とプリントヘッドウィンドウ(8C)を通って
感光体ドラム(9C)上で結像する。Ｋのレーザビーム(LK)
は反射ミラー(5K,6K)で反射された後、長尺アナモフィ
ックレンズ(7K)とプリントヘッドウィンドウ(8K)を通っ
て感光体ドラム(9K)上で結像する。以上のようにして、
４本のレーザビーム(LY,LM,LC,LK)により４つの感光体
ドラム(9Y,9M,9C,9K)に対する露光走査が同時に行われ
る。
【００２７】図１３に示すように、第３，第４，第６の
実施の形態のマルチビーム光源装置(図９，図１０，図
１２)については、１組でＹＭＣＫの各色に対応したマ
ルチビーム走査装置に適用可能である。これに対し、第
１，第２，第５の実施の形態のマルチビーム光源装置
(図７，図８，図１１)については、前述したように２組
でＹＭＣＫの各色に対応したマルチビーム走査装置(例
えば特開平１１−１１９１３１号公報参照。)に適用可
能である。なお、第２，第４の実施の形態のようにレー
ザビーム群(M1,M2,M3,M4)を射出するタイプのマルチビ
ーム光源装置(図８，図１０)では、感光体ドラム(9Y,9
M,9C,9K)の各々に対して複数本のレーザビーム(L1a,L1
b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4b)で露光走査を行うことがで
きるため、カラー画像形成の更なる高速化が可能であ
る。
実施の形態のマルチビーム光源装置(図９，図１０，図
１２)については、１組でＹＭＣＫの各色に対応したマ
ルチビーム走査装置に適用可能である。これに対し、第
１，第２，第５の実施の形態のマルチビーム光源装置
(図７，図８，図１１)については、前述したように２組
でＹＭＣＫの各色に対応したマルチビーム走査装置(例
えば特開平１１−１１９１３１号公報参照。)に適用可
能である。なお、第２，第４の実施の形態のようにレー
ザビーム群(M1,M2,M3,M4)を射出するタイプのマルチビ
ーム光源装置(図８，図１０)では、感光体ドラム(9Y,9
M,9C,9K)の各々に対して複数本のレーザビーム(L1a,L1
b;L2a,L2b;L3a,L3b;L4a,L4b)で露光走査を行うことがで
きるため、カラー画像形成の更なる高速化が可能であ
る。
【００２８】レーザビーム(LY,LM,LC,LK)毎の副走査方
向の焦点調整は、光路分離後のレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)が入射する光学要素、つまり長尺アナモフィックレ
ンズ(7Y,7M,7C,7K)や反射ミラー(5Y,5M,5C,5K;6M,6C,6
K)の位置や角度をそれぞれ調整することにより行うこと
ができる。例えば、各長尺アナモフィックレンズ(7Y,7
M,7C,7K)は副走査方向にパワーを有しているので、各レ
ーザビーム(LY,LM,LC,LK)間に波長差がある場合でも、
各長尺アナモフィックレンズ(7Y,7M,7C,7K)の設定位置
を調整することにより、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)毎
に副走査方向の焦点調整を行うことができる。
向の焦点調整は、光路分離後のレーザビーム(LY,LM,LC,
LK)が入射する光学要素、つまり長尺アナモフィックレ
ンズ(7Y,7M,7C,7K)や反射ミラー(5Y,5M,5C,5K;6M,6C,6
K)の位置や角度をそれぞれ調整することにより行うこと
ができる。例えば、各長尺アナモフィックレンズ(7Y,7
M,7C,7K)は副走査方向にパワーを有しているので、各レ
ーザビーム(LY,LM,LC,LK)間に波長差がある場合でも、
各長尺アナモフィックレンズ(7Y,7M,7C,7K)の設定位置
を調整することにより、レーザビーム(LY,LM,LC,LK)毎
に副走査方向の焦点調整を行うことができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るマルチ
ビーム光源装置によれば、コンパクトで単純な構成であ
りながら、各ビーム位置の複雑な初期調整が不要であ
り、さらに環境変動や経時変化によるビーム位置の変動
も抑えられる。したがって、高い露光間位置精度を達成
することができる。そして、これをマルチビーム走査装
置に用いることにより、環境変動や経時変化によるビー
ム走査位置の変動を抑えることが可能となるため、各色
画像間の画像位置ズレ(すなわち色ズレ)を抑えることが
できる。
ビーム光源装置によれば、コンパクトで単純な構成であ
りながら、各ビーム位置の複雑な初期調整が不要であ
り、さらに環境変動や経時変化によるビーム位置の変動
も抑えられる。したがって、高い露光間位置精度を達成
することができる。そして、これをマルチビーム走査装
置に用いることにより、環境変動や経時変化によるビー
ム走査位置の変動を抑えることが可能となるため、各色
画像間の画像位置ズレ(すなわち色ズレ)を抑えることが
できる。
【図１】第１の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図２】第２の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図３】第３の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図４】第４の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図５】第５の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図６】第６の実施の形態の光源部を示す副走査断面
図。
図。
【図７】第１の実施の形態のマルチビーム光源装置から
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図８】第２の実施の形態のマルチビーム光源装置から
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図９】第３の実施の形態のマルチビーム光源装置から
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
ポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図１０】第４の実施の形態のマルチビーム光源装置か
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図１１】第５の実施の形態のマルチビーム光源装置か
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図１２】第６の実施の形態のマルチビーム光源装置か
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
らポリゴンミラーまでの光学構成を示す副走査断面図。
【図１３】マルチビーム走査装置の実施の形態における
ポリゴンミラーから各感光体ドラムまでの光学構成を示
す副走査断面図。
ポリゴンミラーから各感光体ドラムまでの光学構成を示
す副走査断面図。
1 …ポリゴンミラー(偏向装置)
1S …偏向反射面
3,4 …ｆθレンズ
5Y,5M,5C,5K,6M,6C,6K …反射ミラー
7Y,7M,7C,7K …長尺アナモフィックレンズ
9Y,9M,9C,9K …感光体ドラム(被走査面)
10A,10B,10C,10D,10E,10F …光源部
11 …ＬＤチップ(半導体レーザチップ)
12A,12B,12C,12D …光導波路基板
W1,W2,W3,W4 …光導波路
W1a,W1b,W2a,W2b,W3a,W3b,W4a,W4b …光導波路
13 …基台
20A,20B,20C,20D,20E,20F …光源光学系
L1,L2,L3,L4,L1a,L1b,L2a,L2b,L3a,L3b,L4a,L4b …レ
ーザビーム M1,M2,M3,M4 …レーザビーム群 LY,LM,LC,LK …レーザビーム
ーザビーム M1,M2,M3,M4 …レーザビーム群 LY,LM,LC,LK …レーザビーム
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ
Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA14 BA82
2H045 BA22 BA33 CB42
2H047 KA03 KA12 MA07 RA04 TA47
5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB22
DB24 DB25 DB30 DC02 DC04
DC05 DC07 EA01 FA01
5C072 AA03 BA01 BA02 BA19 HA02
HA06 HA09 HA13 QA14 XA01
XA05
Claims (5)
- 【請求項１】 互いに非平行な複数のビーム又はビーム
群を射出する光源部を有し、その光源部から射出した複
数のビーム又はビーム群を互いに異なる角度で集光させ
る光源光学系を前記光源部と同数有するマルチビーム光
源装置であって、 前記光源部から互いに非平行に射出した複数のビーム又
はビーム群が、前記光源光学系に入射する前に互いに交
差することを特徴とするマルチビーム光源装置。 - 【請求項２】 前記ビーム群が互いに平行な複数のビー
ムから成ることを特徴とする請求項１記載のマルチビー
ム光源装置。 - 【請求項３】 前記光源部がモノリシックに構成された
複数の光導波路を有し、前記光源部からのビーム又はビ
ーム群の射出方向が前記光導波路の配置によって設定さ
れることを特徴とする請求項１又は２記載のマルチビー
ム光源装置。 - 【請求項４】 前記光源部が互いに傾けて配置された複
数の半導体レーザチップとそれらを一体に保持する基台
とで構成され、前記光源部からのビーム又はビーム群の
射出方向が前記半導体レーザチップの配置によって設定
されることを特徴とする請求項１又は２記載のマルチビ
ーム光源装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１項に記載のマ
ルチビーム光源装置と、そのマルチビーム光源装置から
の複数のビーム又はビーム群を同一偏向反射面に対し副
走査方向に互いに異なる角度で入射させることにより、
主走査方向への偏向走査とともに副走査方向への光路分
離を行う偏向装置と、偏向後の複数のビーム又はビーム
群を対応する各被走査面上で結像させるｆθレンズと、
光路分離後の各ビーム又はビーム群を折り曲げる反射ミ
ラーと、光路分離後の各ビーム又はビーム群に対しアナ
モフィックに作用する長尺アナモフィックレンズと、を
有することを特徴とするマルチビーム走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002062840A JP2003262809A (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | マルチビーム光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002062840A JP2003262809A (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | マルチビーム光源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003262809A true JP2003262809A (ja) | 2003-09-19 |
Family
ID=29196411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002062840A Pending JP2003262809A (ja) | 2002-03-08 | 2002-03-08 | マルチビーム光源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003262809A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103576313A (zh) * | 2012-07-31 | 2014-02-12 | 日立视听媒体股份有限公司 | 光束扫描装置以及光束扫描型图像放映装置 |
-
2002
- 2002-03-08 JP JP2002062840A patent/JP2003262809A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103576313A (zh) * | 2012-07-31 | 2014-02-12 | 日立视听媒体股份有限公司 | 光束扫描装置以及光束扫描型图像放映装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5034053B2 (ja) | 光走査装置および画像形成装置 | |
| US8451307B2 (en) | Optical scanning device and image forming apparatus | |
| JPH09189872A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2002202472A (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
| US8081363B2 (en) | Optical beam scanning apparatus and image forming apparatus | |
| JP4015249B2 (ja) | マルチビーム露光装置 | |
| JP2009145569A (ja) | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JP2006184750A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP3778970B2 (ja) | 印刷装置用ラスタ出力走査器 | |
| EP1113305A2 (en) | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image forming apparatus using the same | |
| US6963433B2 (en) | Multibeam scanning optical device and image forming apparatus using the same | |
| KR100683189B1 (ko) | 레이저 스캐닝 장치 | |
| JP4578361B2 (ja) | マルチビーム光走査装置 | |
| JP2008040136A (ja) | 光走査装置及びそれを用いたカラー画像形成装置 | |
| JP4715418B2 (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
| JP2005164997A (ja) | 光走査装置およびそれに用いる同期検知方法 | |
| JP2003262809A (ja) | マルチビーム光源装置 | |
| US5930020A (en) | Beam scan device | |
| US20080158329A1 (en) | Light scanning unit and image forming apparatus having the same | |
| JP4411054B2 (ja) | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JP2006251403A (ja) | 光走査装置 | |
| JP2004301974A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2010066679A (ja) | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 | |
| JPH1164752A (ja) | 光走査装置及び画像形成装置 | |
| JP3798619B2 (ja) | マルチビーム露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050614 |
|
| A072 | Dismissal of procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072 Effective date: 20051018 |