JP2003260881A - 平版印刷版原版の製造方法 - Google Patents

平版印刷版原版の製造方法

Info

Publication number
JP2003260881A
JP2003260881A JP2002062219A JP2002062219A JP2003260881A JP 2003260881 A JP2003260881 A JP 2003260881A JP 2002062219 A JP2002062219 A JP 2002062219A JP 2002062219 A JP2002062219 A JP 2002062219A JP 2003260881 A JP2003260881 A JP 2003260881A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
printing plate
recording layer
acid
lithographic printing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002062219A
Other languages
English (en)
Inventor
Keitaro Aoshima
桂太郎 青島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2002062219A priority Critical patent/JP2003260881A/ja
Publication of JP2003260881A publication Critical patent/JP2003260881A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エッジ汚れ防止効果に優れた赤外線レーザ対
応のネガ型平版印刷版原版の製造方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に、赤外線レーザの露光により
露光部が疎水性領域となる記録層を設けてなるネガ型平
版印刷版原版の製造方法において、前記ネガ型平版印刷
版原版を所望のサイズに裁断する際に、裁断用スリッタ
ーの上刃と下刃との隙間を、0μm〜30μmに設定す
ることを特徴とするネガ型平版印刷版原版の製造方法で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、平版印刷版原版の
製造方法に関し、詳しくは印刷時のエッジ汚れ防止効果
に優れた赤外線レーザ対応のネガ型平版印刷版原版の製
造方法に関する。 【0002】 【従来の技術】平版印刷は、インキを受容する親油性領
域と、インキを受容せず湿し水を受容する撥インク領域
(親水性領域)を有する版材を利用する印刷方法であ
り、現在では広く感光性の平版印刷版原版(PS版)が
用いられている。このPS版を製造する方法としては、
一般にシート状或いはコイル状のアルミニウム版に、例
えば、砂目立て、陽極酸化、化成処理などの表面処理を
単独又は適宜組み合わせて施し、ついで記録層塗布液の
塗布、乾燥を行って記録層を形成した後に所望のサイズ
に裁断する方法が取られている。 【0003】一方、このようなPS版に画像露光及び現
像等の処理を施して得られた印刷版を用いた印刷には、
一般商業印刷機を用いて印刷版の巾サイズよりも小さな
紙に印刷を施す場合と、例えば、新聞印刷のように印刷
版の巾サイズより大きい印刷紙に印刷する場合がある。
後者においては、印刷版の全面が印刷面として扱われ
る。このため、印刷版の裁断面(エッジ部)に付着した
インクが印刷紙面に印刷されて汚れとなり(通称「エッ
ジ汚れ」と呼んでいる)、印刷物の商品価値を損なうこ
とがある。特に、赤外線レーザ対応の平版印刷版原版に
おいては、裁断持に瞬間的に発生した熱により、裁断面
が硬膜又は融着を起こすことがある。このように硬膜又
は融着が生じた部分は、現像後も除去されずに残膜とな
るため、印刷時にインクが付着しエッジ汚れを引き起こ
す場合があった。 【0004】エッジ汚れを防止する方法として、例え
ば、特公昭57−46754号公報に記載されているよ
うに、アルミニウムからなる支持体のエッジ部の角をヤ
スリやナイフで削り取る方法、或いは、特公昭62−6
1946号公報に記載されているように裁断面に不感脂
化液を塗布する方法が知られている。 【0005】また、裁断時に発生するバリもエッジ汚れ
の原因の一つとなっており、特開昭62−19315号
公報には、印刷面側にバリを発生させない方法が記載さ
れている。さらに、特開平7−32758号公報には、
裁断端面を印刷面と逆側に曲がった形状にすること、ま
た特開平10−35130号公報には裁断端面を印刷面
と逆側にたらし、かつ側面粗さを粗くすることにより、
印刷紙面の汚れを改善する提案がなされている。 【0006】しかし、支持体の裁断面の角をヤスリやナ
イフで削り取る方法では、印刷版を1枚ずつ取り出して
削り取らなければならず、大量処理には不適である。ま
た、バリやキズなどインクの付着を引き起こす欠陥があ
ると、削り取った部分にインクが絡んでしまい、結局こ
のインクで印刷紙面が汚れてしまうこともある。また、
裁断面に不感脂液を塗布する方法も、印刷版同士がくっ
ついて取扱いが悪くなったり、現像不良を引き起こす場
合がある。 【0007】また、裁断のバリを印刷紙面側に発生させ
ないだけでは、印刷条件により汚れ発生が見られること
あがある。また、裁断端部が下方(印刷面と逆側)に曲
がった形状は、汚れは良化傾向にあるものの露光現像を
行う製版機上で搬送中、引っかかる問題など、搬送不良
の原因となる。 【0008】さらに、裁断端面を垂らした形状では、墨
インクに対しては改善効果が顕著にみられるが、マゼン
タインク等の一部のインクでは裁断してから時間がたっ
たサンプルに汚れが発生する場合がある。裁断辺角のイ
ンク付着を防止するために裁断端面にだれを形成する
と、必然的に表面層が伸びて変形が発生し、記録層及び
支持体の表面処理層にクラックが発生することがある。 【0009】表面処理層のクラックに関しては、特開平
5−104872号公報に、表面処理層のクラックが汚
れの原因(以下、「クラック汚れ」と称する)になるこ
とが開示されいる。このようなクラックは発生しないこ
とが望ましいが、形状変形にともなう表面層の伸び、ひ
いてはクラック発生は逆相関の関係となることから、ク
ラックに起因する汚れを減少させることは困難であり改
善が望まれていた。 【0010】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける問題を解決し、以下の目的を達成することを課題
とする。即ち、本発明は、エッジ汚れ防止効果に優れた
赤外線レーザ対応のネガ型平版印刷版原版の製造方法を
提供することを目的とする。 【0011】 【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、平版印刷版原版を裁断する際に用いられる裁断
用スリッターの上刃と下刃との間隔を、所定の範囲に制
御することにより、上記目的が達成されることを見出
し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、支持
体上に、赤外線レーザの露光により露光部が疎水性領域
となる記録層を設けてなるネガ型平版印刷版原版の製造
方法において、前記平版印刷版原版を所望のサイズに裁
断する際に、裁断用スリッターの上刃と下刃との隙間
を、0μm〜30μmに設定することを特徴とする。本
発明においては、裁断用スリッターの上刃と下刃との隙
間を上記範囲に設定することにより、平版印刷版原版の
裁断時に、エッジ部をクラックの発生を防止し得る形状
に裁断することが可能となり、これにより裁断時に発生
するクラックに起因する汚れを効果的に防止できる。さ
らには、裁断時におけるエッジ部の硬膜又は融着の発生
をも抑制できる。 【0012】本発明の作用機構は明確でないが、以下の
ように推測される。支持体を裁断する際、裁断刃により
支持体への剪断応力が印加され、支持体が異常に変形す
る。この変形により支持体が発熱し、発生した熱により
記録層の硬膜や融着を引き起こす。また、異常変形によ
りクラックが発生すると、支持体内部のアルミニウムが
表面に露呈し、記録層成分と接触し、高活性のアルミニ
ウムと記録層とが反応し、硬膜や融着を引き起こす。本
発明におけるスリッター条件は、剪断応力を緩和し、支
持体の異常変形を抑制するものと考えられる。 【0013】なお、本発明により得られる平版印刷版原
版におけるネガ型の記録層としては、以下のものが好適
に挙げられる。 (1:重合硬化層)赤外線吸収剤と、ラジカル発生剤
(ラジカル重合開始剤)と、発生したラジカルにより重
合反応を引き起こすラジカル重合性化合物と、を含有す
るもの。 (2:酸架橋層)赤外線吸収剤と、光又は熱により酸を
発生する化合物(以下、適宜、酸発生剤と称する)と、
発生した酸により架橋する化合物(以下、適宜、架橋剤
と称する)と、を含有するもの。 (3:熱溶融型無処理系)親水性高分子化合物を含むマ
トリックス中に分散された疎水性熱溶融性樹脂微粒子を
含有することを特徴とするもの。 【0014】 【発明の実施の形態】本発明のネガ型平版印刷版原版の
製造方法について詳細に説明する。先ず、本発明の特徴
である平版印刷版原版の裁断方法について説明する。 【0015】〔平版印刷版原版の裁断〕本発明の方法に
より製造される平版印刷版原版は、通常、支持体上に記
録層等を塗設した後、コイル状に巻き取られるので、こ
れを裁断用スリッターで所望の大きさに裁断する必要が
ある。 【0016】以下、好ましい裁断用スリッターの実施の
形態を示す図面とともに本発明の平版印刷版原版の裁断
方法を詳説する。図1は、平版印刷版原版を裁断する裁
断用スリッター10の裁断部の正面図である。同図に示
す裁断用スリッター10には、材質SKH11の上刃1
2、14、12と、材質粉末ハイスの下刃16、18、
16とが所定の間隔をもって設置され、これらの刃によ
って2条の平版印刷版原版20、22の対向する2辺部
が裁断される。この裁断用スリッター10は、1条の原
反ウエブから2条の平版印刷版原版20、22を裁断す
る構造となっている。また、両側に配置された上刃1
2、12と下刃16、16とは、コラム24に支持され
ている。このコラム24は、基台26上に設置されたレ
ール28上に支持されており、レール28に沿って平版
印刷版原版20、22の幅方向にスライド移動自在とな
っている。したがって、平版印刷版原版20、22のサ
イズに対応してコラム24がスライド移動される。 【0017】平版印刷版原版20、22の印刷面(この
場合上側)にバリを発生させないため、下刃16、1
8、16が製品面を受ける位置よりも、上刃12、1
4、12が耳屑側に配置される。また、中央部は平版印
刷版原版20、22の耳屑を抜く形態となるため上刃1
4は相反した向きに合わされた位置に刃組され、それぞ
れ下刃18に向かって刃先を向けるよう刃組される。 【0018】図2は、上刃12と下刃16との位置関係
を示す正面図である。図2において、下刃16には上刃
12との間隔を規定するスペーサ32が配置されてい
る。このスペーサ32は外径が下刃16と略同径であ
り、上刃12の食い込み分だけ凹状の逃げ溝32Aが形
成されている。 【0019】本発明においては、図3に示す上刃12と
下刃16の隙間(CL)、及び上刃14と下刃18の隙
間(CL)を、0μm〜30μmとすることを要し、こ
れにより、図4に示す平版印刷版原版20上側のエッジ
部4における記録層及び支持体の表面処理層部分にクラ
ックが入らない形状とすることができる。上刃12と下
刃16の隙間(CL)及び上刃14と下刃(18)の隙
間(CL)は、0μm〜10μmとすることが好まし
く、0μm〜5μmとすることがより好ましい。 【0020】図4おいて、Yは断面形状のダレ高さを示
し、本発明においては、0μm〜50μmとすることが
好ましく、0μm〜20μmとすることがより好まし
い。 【0021】本発明の製造方法により、平版印刷版原版
20を上記の如く裁断することで、平版印刷版原版20
のエッジ部4における記録層及び支持体の表面処理層に
クラックが入ることを防止することができ、記録層の不
要な残膜が発生して印刷汚れが生じることを防ぐことが
できる。また、裁断時のエッジ部4における硬膜又は融
着の発生をも抑制できる。 【0022】クラックの観察にはSEM 走査型電子顕
微鏡S−800型((株)日立製作所製)を使用するこ
とができる。図4に示す断面形状のダレ高さ(Y)は、
超深度形状測定顕微鏡VK−8500(キーエンス製)
で測定可能である。 【0023】次に、本発明の製造方法により得られるネ
ガ型平版印刷版原版について詳細に説明する。 【0024】〔記録層〕本発明の製造方法により得られ
る平版印刷版原版は、赤外線レーザの露光により露光部
が疎水性領域となる記録層を設けてなる。該記録層は、
赤外線レーザ照射部が硬化、或いは表面性状の変化によ
り画像部(親油性領域)を形成するネガ型の記録層であ
れば、いずれのものも適用することができるが、本発明
においては、重合硬化層、酸架橋層、及び、熱溶融型無
処理系が好適に挙げられる。 【0025】(1:重合硬化層)本発明における記録層
の好適な態様である重合硬化層について説明する。前記
重合硬化層には、(A)赤外線吸収剤と、(B)ラジカ
ル発生剤(ラジカル重合開始剤)と、発生したラジカル
により重合反応を起こして硬化する(C)ラジカル重合
性化合物と、を含有し、好ましくは(D)バインダーポ
リマーを含有する。赤外線吸収剤が吸収した赤外線を熱
に変換し、この際発生した熱により、オニウム塩等のラ
ジカル重合開始剤が分解し、ラジカルを発生する。ラジ
カル重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽
和二重結合を有し、末端エチレン性不飽和結合を少なく
とも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ば
れ、発生したラジカルにより連鎖的に重合反応が生起
し、硬化する。以下、この重合硬化層に含有される各化
合物について詳細に述べる。 【0026】(A)赤外線吸収剤 前記重合硬化層には、赤外線を発するレーザで画像記録
可能な構成を有する。このような記録層には、赤外線吸
収剤を用いることが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収し
た赤外線を熱に変換する機能を有している。この際発生
した熱により、ラジカル発生剤や酸発生剤が分解し、ラ
ジカルや酸を発生する。本発明において使用される赤外
線吸収剤は、波長760nmから1200nmに吸収極
大を有する染料又は顔料である。 【0027】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、例えば、特開平10−39509号公報の段落番
号[0050]〜[0051]に記載のものを挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。 【0028】 【化1】 【0029】一般式(I)中、X1は、ハロゲン原子、
又はX2−L1を示す。ここで、X2は酸素原子又は、硫
黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素
基を示す。R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数
1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定
性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素
基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互いに
結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に好
ましい。Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なってい
てもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基
を示す。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていても
よく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキル
メチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異な
っていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数
20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基として
は、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ
ル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR
8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子
又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の
入手性から、好ましくは水素原子である。また、
(Z1-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、(Z1-
必要ない。好ましい(Z1-は、記録層塗布液の保存安
定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフ
ルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイ
オン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、
過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオ
ン、及びアリールスルホン酸イオンである。 【0030】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特開2001−133969明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。 【0031】本発明において使用される顔料としては、
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。 【0032】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。これらの顔料の詳細
は、特開平10−39509号公報の段落番号[005
2]〜[0054]に詳細に記載されており、これらを
本発明にも適用することができる。これらの顔料のうち
好ましいものはカーボンブラックである。 【0033】本態様の記録層中における、上述の染料又
は顔料の含有量としては、記録層の全固形分質量に対
し、0.01〜50質量%が好ましく、0.1〜10質
量%がより好ましく、さらに染料の場合には、0.5〜
10質量%が最も好ましく、顔料の場合には、1.0〜
10質量%が最も好ましい。前記含有量が、0.01質
量%未満であると、感度が低くなることがあり、50質
量%を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部
に汚れが発生することがある。 【0034】(B)ラジカル発生剤 前記重合硬化層に好適に用いられるラジカル発生剤(ラ
ジカルを発生する化合物)としては、オニウム塩が挙げ
られ、具体的には、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、
スルホニウム塩である。これらのオニウム塩は酸発生剤
としての機能も有するが、後述するラジカル重合性化合
物と併用する際には、ラジカル重合の開始剤として機能
する。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、
下記一般式(II)〜(IV)で表されるオニウム塩であ
る。 【0035】 【化2】 【0036】一般式(II)中、Ar3とAr4は、それぞ
れ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以
下のアリールオキシ基が挙げられる。(Z2-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホ
ン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表し、
好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフ
ェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 【0037】一般式(III)中、Ar5は、置換基を有し
ていてもよい炭素原子数20個以下のアリール基を示
す。好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ
基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数1
2個以下のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリ
ールオキシ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ
基、炭素原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数
12個以下のジアリールアミノ基が挙げられる。
(Z3-は(Z2-と同義の対イオンを表す。 【0038】一般式(IV)中、R9、R10及びR11は、
それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有して
いてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。
好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭
素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以
下のアルコキシ基、又は炭素原子数12個以下のアリー
ルオキシ基が挙げられる。(Z4-は(Z2-と同義の
対イオンを表す。 【0039】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、特開2001−133
969明細書の段落番号[0030]〜[0033]に
記載されたものを挙げることができる。 【0040】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、
さらに360nm以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。 【0041】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し0.1〜50質量%、好ましくは0.5〜
30質量%、特に好ましくは1〜20質量%の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が0.1
質量%未満であると感度が低くなり、また50質量%を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併
用してもよい。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。 【0042】(C)ラジカル重合性化合物 前記重合硬化層に使用されるラジカル重合性化合物は、
少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラ
ジカル重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合
を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物か
ら選ばれる。この様な化合物群は当該産業分野において
広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特
に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリ
ゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体
などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の
例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が
あげられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価
アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。ま
た、ヒドロキシル基や、アミノ基、メルカプト基等の求
核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド
類と単官能若しくは多官能イソシアネート類、エポキシ
類との付加反応物、単官能若しくは、多官能のカルボン
酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イ
ソシアナート基やエポキシ基等の親電子性置換基を有す
る不飽和カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能若
しくは多官能のアルコール類、アミン類及びチオール類
との付加反応物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基
等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又
はアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、
アミン類及びチオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わり
に、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物
群を使用することも可能である。 【0043】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物である
アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、イタコン
酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エス
テル、マレイン酸エステルの具体例は、特開2001−
133969明細書の段落番号[0037]〜[004
2]に記載されており、これらを本発明にも適用するこ
とができる。 【0044】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭46−27926号、特公昭51−47334号、
特開昭57−196231号の各公報に記載の脂肪族ア
ルコール系エステル類や、特開昭59−5240号、特
開昭59−5241号、特開平2−226149号の各
公報に記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1−1
65613号公報に記載のアミノ基を含有するもの等も
好適に用いられる。 【0045】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭4
8−41708号公報中に記載されている1分子に2個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式(V)で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 【0046】一般式(V) CH2=C(R12)COOCH2CH(R13)OH (ただし、R12及びR13は、H又はCH3を示す。) 【0047】これらのラジカル重合性化合物について、
どの様な構造を用いるか、単独で使用するか併用する
か、添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終
的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設定でき
る。例えば、次のような観点から選択される。感度の点
では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好まし
く、多くの場合、2官能以上がこのましい。また、画像
部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以
上のものがよく、さらに、異なる官能数・異なる重合性
基を有する化合物(例えば、アクリル酸エステル系化合
物、メタクリル酸エステル系化合物、スチレン系化合物
等)を組み合わせて用いることで、感光性と強度の両方
を調節する方法も有効である。大きな分子量の化合物
や、疎水性の高い化合物は感度や膜強度に優れる反面、
現像スピードや現像液中での析出といった点で好ましく
無い場合がある。また、記録層中の他の成分(例えばバ
インダーポリマー、開始剤、着色剤等)との相溶性、分
散性に対しても、ラジカル重合化合物の選択・使用法は
重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2
種以上化合物の併用によって、相溶性を向上させうるこ
とがある。また、支持体、オーバーコート層等の密着性
を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり
得る。画像記録層中のラジカル重合性化合物の配合比に
関しては、多い方が感度的に有利であるが、多すぎる場
合には、好ましくない相分離が生じたり、画像記録層の
粘着性による製造工程上の問題(例えば、記録層成分の
転写、粘着に由来する製造不良)や、現像液からの析出
が生じる等の問題を生じうる。これらの観点から、ラジ
カル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの場合、組
成物全成分に対して5〜80質量%、好ましくは20〜
75質量%である。また、これらは単独で用いても2種
以上併用してもよい。そのほか、ラジカル重合性化合物
の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、か
ぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構
造、配合、添加量を任意に選択でき、さらに場合によっ
ては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施し
うる。 【0048】(D)バインダーポリマー 重合硬化型の記録層には、さらにバインダーポリマーを
使用することが親水性向上の観点から好ましい。バイン
ダーとしては線状有機ポリマーを用いることが好まし
い。このような「線状有機ポリマー」としては、どれを
使用しても構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカ
リ水現像を可能とするために、水或いは弱アルカリ水可
溶性又は膨潤性である線状有機ポリマーが選択される。
線状有機ポリマーは、記録層を形成するための皮膜形成
剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或いは有機溶剤
現像剤としての用途に応じて選択使用される。例えば、
水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能になる。
このような線状有機ポリマーとしては、側鎖にカルボン
酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭59−44
615号、特公昭54−34327号、特公昭58−1
2577号、特公昭54−25957号、特開昭54−
92723号、特開昭59−53836号、特開昭59
−71048号の各公報に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無
水物を付加させたものなどが有用である。 【0049】特にこれらの中で、ベンジル基又はアリル
基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリル
樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。 【0050】また、特公平7−12004号、特公平7
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等の各公報に記載される酸
基を含有するウレタン系バインダーポリマーは、非常
に、強度に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利
である。 【0051】さらにこの他に水溶性線状有機ポリマーと
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。 【0052】本発明で使用されるポリマーの質量平均分
子量については、好ましくは5000以上であり、さら
に好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量
については好ましくは1000以上であり、さらに好ま
しくは2000〜25万の範囲である。多分散度(質量
平均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さら
に好ましくは1.1〜10の範囲である。 【0053】これらのポリマーは、ランダムポリマー、
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。 【0054】本発明で使用されるバインダーポリマーは
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、記録層塗布液の全固形分に対し20〜95質量%、
好ましくは30〜90質量%の割合で記録層中に添加さ
れる。添加量が20質量%未満の場合は、画像形成した
際、画像部の強度が不足する。また添加量が95質量%
を越える場合は、画像形成されない。またラジカル重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状
有機ポリマーは、質量比で1/9〜7/3の範囲とする
のが好ましい。 【0055】(2:酸架橋層)本発明における記録層の
他の好適な態様である酸架橋層について説明する。前記
酸架橋層には、(E)光又は熱により酸を発生する化合
物(酸発生剤)と、(F)発生した酸により架橋する化
合物(架橋剤)とを含有し、さらに、これらを含有する
層を形成するための、酸の存在下で架橋剤と反応しうる
(G)アルカリ可溶性ポリマーを含む。この酸架橋層に
おいては、光照射又は加熱により、酸発生剤が分解して
発生した酸が、架橋剤の働きを促進し、架橋剤同士或い
は架橋剤とバインダーポリマーとの間で強固な架橋構造
が形成され、これにより、アルカリ可溶性が低下して、
現像剤に不溶となる。このとき、赤外線レーザのエネル
ギーを効率よく使用するため、記録層中には前記(A)
赤外線吸収剤が配合される。以下、この酸架橋層に含有
される各化合物について詳細に述べる。 【0056】(E)酸発生剤 本実施の形態において、熱により分解して酸を発生する
酸発生剤は、200〜500nmの波長領域の光を照射
する又は100℃以上に加熱することにより、酸を発生
する化合物をいう。前記酸発生剤としては、光カチオン
重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の
光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使
用されている公知の酸発生剤等、熱分解して酸を発生し
うる、公知の化合物及びそれらの混合物、酸を発生する
基又は化合物をポリマーの主鎖若しくは側鎖に導入した
化合物等が挙げられる。酸発生剤としては、下記一般式
(1)〜(5)で表される化合物が好ましい。 【0057】 【化3】 【0058】一般式(1)〜(5)中、R1、R2、R4
及びR5は、同一でも異なっていてもよく、置換基を有
していてもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。R
3は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素数
10以下の炭化水素基又は炭素数10以下のアルコキシ
基を表す。Ar1、Ar2は、同一でも異なっていてもよ
く、置換基を有していてもよい炭素数20以下のアリー
ル基を表す。R6は、置換基を有していてもよい炭素数
20以下の2価の炭化水素基を表す。nは、0〜4の整
数を表す。前記式中、R1、R2、R4及びR5は、炭素数
1〜14の炭化水素基が好ましい。 【0059】一般式(1)〜(5)で表される酸発生剤
の好ましい態様は、本発明者らが先に提案した特開20
01−142230明細書段落番号[0197]〜[0
222]に詳細に記載されている。これらの化合物は、
例えば、特開平2−100054号、特開平2−100
055号に記載の方法により合成することができる。 【0060】また、(E)酸発生剤として、ハロゲン化
物やスルホン酸等を対イオンとするオニウム塩も挙げる
ことができ、中でも、下記一般式(6)〜(8)で表さ
れるヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩
のいずれかの構造式を有するものを好適に挙げることが
できる。 【0061】 【化4】 【0062】一般式(6)〜(8)中、X-は、ハロゲ
ン化物イオン、ClO4 -、PF6 -、SbF6 -、BF4 -
はR7SO3 -を表し、ここで、R7は、置換基を有してい
てもよい炭素数20以下の炭化水素基を表す。Ar3
Ar4は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい
炭素数20以下のアリール基を表す。R8、R9、R
10は、置換基を有していてもよい炭素数18以下の炭化
水素基を表す。このようなオニウム塩は、特開平10−
39509号公報の段落番号[0010]〜[003
5]に一般式(I)〜(III)の化合物として記載され
ている。 【0063】前記酸発生剤の添加量としては、記録層の
全固形分質量に対し0.01〜50質量%が好ましく、
0.1〜25質量%がより好ましく、0.5〜20質量
%が最も好ましい。上記添加量が、0.01質量%未満
であると、画像が得られないことがあり、50質量%を
超えると、平版印刷用原版とした時の印刷時において非
画像部に汚れが発生することがある。上述の酸発生剤は
単独で使用してもよいし、2種以上を組合わせて使用し
てもよい。 【0064】(F)架橋剤 次に、架橋剤について説明する。架橋剤としては、以下
のものが挙げられる。 (i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基若しくはN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 【0065】以下、前記(i)〜(iii)の化合物につ
いて詳述する。 (i)ヒドロキシメチル基若しくはアルコキシメチル基
で置換された芳香族化合物としては、例えば、ヒドロキ
シメチル基、アセトキシメチル基若しくはアルコキシメ
チル基でポリ置換されている芳香族化合物又は複素環化
合物が挙げられる。但し、レゾール樹脂として知られる
フェノール類とアルデヒド類とを塩基性条件下で縮重合
させた樹脂状の化合物も含まれる。ヒドロキシメチル基
又はアルコキシメチル基でポリ置換された芳香族化合物
又は複素環化合物のうち、中でも、ヒドロキシ基に隣接
する位置にヒドロキシメチル基又はアルコキシメチル基
を有する化合物が好ましい。また、アルコキシメチル基
でポリ置換された芳香族化合物又は複素環化合物では、
中でも、アルコキシメチル基が炭素数18以下の化合物
が好ましく、下記一般式(9)〜(12)で表される化
合物がより好ましい。 【0066】 【化5】【0067】 【化6】 【0068】一般式(9)〜(12)中、L1〜L8は、
それぞれ独立に、メトキシメチル、エトキシメチル等
の、炭素数18以下のアルコキシ基で置換されたヒドロ
キシメチル基又はアルコキシメチル基を表す。これらの
架橋剤は、架橋効率が高く、耐刷性を向上できる点で好
ましい。 【0069】(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アル
コキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル基を有
する化合物としては、欧州特許公開(以下、「EP−
A」と示す)第0,133,216号、西独特許第3,
634,671号、同第3,711,264号の各明細
書に記載の、単量体及びオリゴマー−メラミン−ホルム
アルデヒド縮合物並びに尿素−ホルムアルデヒド縮合
物、EP−A第0,212,482号明細書に記載のア
ルコキシ置換化合物等が挙げられる。なかでも、例え
ば、少なくとも2個の遊離N−ヒドロキシメチル基、N
−アルコキシメチル基若しくはN−アシルオキシメチル
基を有するメラミン−ホルムアルデヒド誘導体が好まし
く、N−アルコキシメチル誘導体が最も好ましい。 【0070】(iii)エポキシ化合物としては、1以上
のエポキシ基を有する、モノマー、ダイマー、オリゴマ
ー、ポリマー状のエポキシ化合物が挙げられ、例えば、
ビスフェノールAとエピクロルヒドリンとの反応生成
物、低分子量フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とエピ
クロルヒドリンとの反応生成物等が挙げられる。その
他、米国特許第4,026,705号、英国特許第1,
539,192号の各明細書に記載され、使用されてい
るエポキシ樹脂を挙げることができる。 【0071】前記架橋剤として、前記(i)〜(iii)
の化合物を用いる場合の添加量としては、記録層の全固
形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10〜75
質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も好まし
い。上記添加量が、5質量%未満であると、得られる画
像記録材料の記録層の耐久性が低下することがあり、8
0質量%を超えると、保存時の安定性が低下することが
ある。 【0072】本態様においては、架橋剤として、(iv)
下記一般式(13)で表されるフェノール誘導体も好適
に使用することができる。 【0073】 【化7】 【0074】一般式(13)中、Ar5は、置換基を有
していてもよい芳香族炭化水素環を表し、R11、R12
びR13は、水素原子又は炭素数12以下の炭化水素基を
表す。mは2〜4の整数を表し、nは1〜3の整数を表
す。原料の入手性の点で、前記Ar5で表される芳香族
炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環又はア
ントラセン環が好ましい。また、その置換基としては、
ハロゲン原子、炭素数12以下の炭化水素基、炭素数1
2以下のアルコキシ基、炭素数12以下のアルキルチオ
基、炭素数12以下のアルキルカルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、トリフルオロメチル基等が好ましい。上
記のうち、高感度化が可能である点で、Ar5として
は、置換基を有していないベンゼン環、ナフタレン環、
或いは、ハロゲン原子、炭素数6以下の炭化水素基、炭
素数6以下のアルコキシ基、炭素数6以下のアルキルチ
オ基又はニトロ基等を置換基として有するベンゼン環又
はナフタレン環がより好ましい。 【0075】前記R11及びR12としては、合成が容易で
あるという理由から、水素原子又はメチル基であること
が好ましい。R13としては、感度が高いという理由か
ら、水素原子又は炭素数7以下の炭化水素基(メチル
基、ベンジル基、等)が好ましい。さらに、合成の容易
さから、mは2又は3であることが好ましく、nは1又
は2であることが好ましい。 【0076】架橋剤として、前記(iv)の化合物を用い
る場合の添加量としては、記録層の全固形分質量に対し
3〜70質量%が好ましく、10〜60質量%がより好
ましく、15〜50質量%が最も好ましい。 【0077】(G)アルカリ水可溶性高分子化合物 本発明に係る酸架橋層に使用可能なアルカリ水可溶性高
分子化合物としては、ノボラック樹脂や側鎖にヒドロキ
シアリール基を有するポリマー等が挙げられる。前記ノ
ボラック樹脂としては、フェノール類とアルデヒド類を
酸性条件下で縮合させた樹脂が挙げられる。 【0078】中でも、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドから得られるノボラック樹脂、m−クレゾールと
ホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、p−ク
レゾールとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹
脂、o−クレゾールとホルムアルデヒドから得られるノ
ボラック樹脂、オクチルフェノールとホルムアルデヒド
から得られるノボラック樹脂、m−/p−混合クレゾー
ルとホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂、フ
ェノール/クレゾール(m−,p−,o−又はm−/p
−,m−/o−,o−/p−混合のいずれでもよい)の
混合物とホルムアルデヒドから得られるノボラック樹脂
や、フェノールとパラホルムアルデヒドとを原料とし、
触媒を使用せず密閉状態で高圧下、反応させて得られる
オルソ結合率の高い高分子量ノボラック樹脂等が好まし
い。前記ノボラック樹脂は、質量平均分子量が800〜
300,000で、数平均分子量が400〜60,00
0のものの中から、目的に応じて好適なものを選択して
用いればよい。 【0079】また、前記側鎖にヒドロキシアリール基を
有するポリマーも好ましく、該ポリマー中のヒドロキシ
アリール基としては、OH基が1以上結合したアリール
基が挙げられる。前記アリール基としては、例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナント
レニル基等が挙げられ、中でも、入手の容易性及び物性
の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましい。本
実施の形態に使用可能な、側鎖にヒドロキシアリール基
を有するポリマーとしては、例えば、下記一般式(1
4)〜(17)で表される構成単位のうちのいずれか1
種を含むポリマーを挙げることができる。但し、本発明
においては、これらに限定されるものではない。 【0080】 【化8】【0081】一般式(14)〜(17)中、R14は、水
素原子又はメチル基を表す。R15及びR16は、同じでも
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
10以下の炭化水素基、炭素数10以下のアルコキシ基
又は炭素数10以下のアリールオキシ基を表す。また、
15とR16が結合、縮環してベンゼン環やシクロヘキサ
ン環を形成していてもよい。R17は、単結合又は炭素数
20以下の2価の炭化水素基を表す。R18は、単結合又
は炭素数20以下の2価の炭化水素基を表す。R19は、
単結合又は炭素数10以下の2価の炭化水素基を表す。
Yは、単結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エス
テル結合又はアミド結合を表す。pは、1〜4の整数を
表す。q及びrは、それぞれ独立に0〜3の整数を表
す。 【0082】これらのアルカリ可溶性高分子としては、
本願出願人らが先に提案した特開2001−14223
0明細書の段落番号[0130]〜[0163]に詳細
に記載されている。本実施の形態に使用可能なアルカリ
水可溶性高分子化合物は、1種類のみで使用してもよい
し、2種類以上を組合わせて使用してもよい。 【0083】アルカリ水可溶性高分子化合物の添加量と
しては、記録層の全固形分に対し5〜95質量%が好ま
しく、10〜95質量%がより好ましく、20〜90質
量%が最も好ましい。アルカリ水可溶性樹脂の添加量
が、5質量%未満であると、記録層の耐久性が劣化する
ことがあり、95質量%を超えると、画像形成されない
ことがある。 【0084】また、本発明の方法が適用できる公知の記
録材料としては、特開平8−276558号公報に記載
のフェノール誘導体を含有するネガ型画像記録材料、特
開平7−306528号公報に記載のジアゾニウム化合
物を含有するネガ型記録材料、特開平10−20303
7号公報に記載されている環内に不飽和結合を有する複
素環基を有するポリマーを用いた、酸触媒による架橋反
応を利用したネガ型画像形成材料などが挙げられ、これ
らに記載の記録層を本発明に係るネガ型記録層としての
酸架橋層に適用することができる。 【0085】このような態様の記録層に、先に述べた
(A)赤外線吸収剤を含有させることにより、赤外線レ
ーザ照射等による画像形成が可能となる。ここで用いら
れる赤外線吸収剤とは、前記重合硬化層において説明し
た(A)赤外線吸収剤と同様のものを用いることができ
る。本態様における(A)赤外線吸収剤の含有量として
は、記録層の全固形分質量に対し、0.01〜50質量
%が好ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、さ
らに染料の場合には、0.5〜10質量%が最も好まし
く、顔料の場合には、1.0〜10質量%が最も好まし
い。上記含有量が、0.01質量%未満であると、感度
が低くなることがあり、50質量%を超えると、平版印
刷用原版とした場合の非画像部に汚れが発生することが
ある。 【0086】(3:熱溶融型無処理系)次に、本発明に
おける記録層の他の好適な態様である熱溶融型無処理系
記録層について説明する。前記熱溶融型無処理系記録層
は、(H)疎水性熱溶融性ポリマーが(J)親水性高分
子マトリックス中に分散され、露光部の熱により疎水性
のポリマーが溶融し、互いに融着してポリマーによる疎
水性(親インク性)領域、即ち、画像部を形成する記録
層である。以下、この熱溶融型無処理系記録層に含有さ
れる各化合物について詳細に述べる。 【0087】(H)疎水性熱溶融性樹脂微粒子 本発明に係る熱溶融型無処理系記録層に使用できる微粒
子ポリマーは、微粒子ポリマー同志が熱により溶融合体
するものが好ましく、その表面は親水性で、湿し水等の
親水性成分に分散するものが好ましい。微粒子を形成す
る樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ(メ
タ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチ
ル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル、ポリアクリロニト
リル、ポリ酢酸ビニルや、それらの共重合体のラテック
ス等が好ましいものとして挙げられる。このような親水
性表面を有する微粒子ポリマーとしては、微粒子を構成
するポリマー自体が親水性であるもの、ポリマーの主鎖
或いは側鎖に親水性基を導入して親水性を付与したもの
など、ポリマー自体が表面親水性であるものや、ポリビ
ニルアルコール、ポリエチレングリコールなどの親水性
ポリマー又はオリゴマー、又は親水性低分子化合物を微
粒子ポリマー表面に吸着させて表面を親水化したものを
包含するが、これらに限定されるものではない。 【0088】本発明に係る記録層中の微粒子ポリマーの
他の好ましい特性として、画像部の膜強度を向上させる
という観点から、微粒子ポリマーが熱反応性官能基を有
するポリマーにより構成されることが挙げられる。上記
の熱反応性官能基としては、重合反応を行うエチレン性
不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル
基、ビニル基、アリル基など)、付加反応を行うイソシ
アナート基又はそのブロック体、その反応相手である活
性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロ
キシル基、カルボキシル基など)、同じく付加反応を行
うエポキシ基、その反応相手であるアミノ基、カルボキ
シル基又はヒドロキシル基、縮合反応を行うカルボキシ
ル基とヒドロキシル基若しくはアミノ基、開環付加反応
を行う酸無水物とアミノ基若しくはヒドロキシル基など
を挙げることができる。しかし、加熱により化学結合が
形成される機能を有するものであれば、どのような反応
を行う官能基でもよい。これらの官能基のポリマー微粒
子への導入は、重合時に行ってもよいし、重合後に高分
子反応を利用して行ってもよい。 【0089】また、微粒子ポリマーの添加量は、記録層
固形分の50質量%〜99質量%の範囲が好ましく、6
0質量%〜95質量%の範囲であることがさらに好まし
い。 【0090】本発明の記録層に、上記のような熱反応性
官能基を有する微粒子ポリマーを用いる場合、必要に応
じてこれらの反応を開始又は促進する化合物を添加して
もよい。反応を開始又は促進する化合物としては、熱に
よりラジカル又はカチオンを発生するような化合物を挙
げることができ、例えば、ロフィンダイマー、トリハロ
メチル化合物、過酸化物、アゾ化合物、ジアゾニウム塩
又はジフェニルヨードニウム塩などを含んだオニウム
塩、アシルホスフィン、イミドスルホナートなどが挙げ
られる。これらの化合物は、記録層固形分の1〜20質
量%の範囲で添加することができる。好ましくは3〜1
0質量%の範囲である。この範囲内で、機上現像性を損
なわず、良好な反応開始又は促進効果が得られる。 【0091】(J)親水性高分子マトリックス 上記疎水性樹脂微粒子は親水性樹脂からなるマトリック
ス中に分散させることで、機上現像性が良好となり、さ
らに記録層自体の皮膜強度も向上する。親水性樹脂とし
ては、例えばヒドロキシル、カルボキシル、ヒドロキシ
エチル、ヒドロキシプロピル、アミノ、アミノエチル、
アミノプロピル、カルボキシメチルなどの親水基を有す
るものが好ましい。 【0092】親水性樹脂の具体例として、アラビアゴ
ム、カゼイン、ゼラチン、澱粉誘導体、カルボキシメチ
ルセルロース及びそのナトリウム塩、セルロースアセテ
ート、アルギン酸ナトリウム、酢酸ビニル−マレイン酸
コポリマー類、スチレン−マレイン酸コポリマー類、ポ
リアクリル酸類及びそれらの塩、ポリメタクリル酸類及
びそれらの塩、ヒドロキシエチルメタクリレートのホモ
ポリマー及びコポリマー、ヒドロキシエチルアクリレー
トのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロキシプロピル
メタクリレートのホモポリマー及びコポリマー、ヒドロ
キシプロピルアクリレートのホモポリマー及びコポリマ
ー、ヒドロキシブチルメタクリレートのホモポリマー及
びコポリマー、ヒドロキシブチルアクリレートのホモポ
リマー及びコポリマー、ポリエチレングリコール類、ヒ
ドロキシプロピレンポリマー類、ポリビニルアルコール
類、ならびに加水分解度が少なくとも60質量%、好ま
しくは少なくとも80質量%の加水分解ポリビニルアセ
テート、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルピロリドン、アクリルアミドのホモポリ
マー及びコポリマー、メタクリルアミドのホモポリマー
及びポリマー、N−メチロールアクリルアミドのホモポ
リマー及びコポリマー等を挙げることができる。 【0093】親水性樹脂の記録層への添加量は、記録層
固形分の5〜40質量%が好ましく、10〜30質量%
がさらに好ましい。この範囲内で、良好な機上現像性と
皮膜強度が得られる。このような態様の記録層に、先に
述べた(A)赤外線吸収剤を含有させることにより、赤
外線レーザ照射等による画像記録が可能となる。用いる
赤外線吸収剤は先に例示したものと同様であり、赤外線
吸収剤は、本態様では、記録層中に30質量%まで添加
することができる。好ましくは5〜25質量%であり、
特に好ましくは7〜20質量%である。この範囲内で、
良好な感度が得られる。 【0094】〔その他の成分〕本発明では、さらに必要
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料も好適に用いることができる。これらの着色剤
は、画像形成後、画像部と非画像部の区別がつきやすい
ので、添加する方が好ましい。なお、添加量は、記録層
塗布液全固形分に対し、0.01〜10質量%の割合で
ある。 【0095】また、本発明においては、記録層が重合硬
化層である場合、塗布液の調製中或いは保存中において
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を有する
化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防
止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合防止剤と
してはハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−
t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチ
ルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3
−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メ
チレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノー
ル)、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミン
アルミニウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量
は、全組成物の質量に対して約0.01質量%〜約5質
量%が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻
害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような
高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で
記録層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の
添加量は、全組成物の約0.1質量%〜約10質量%が
好ましい。 【0096】また、本発明における記録層塗布液中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭62−251740号公報や特開平3−208514
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭59−121044号公報、特開平4−13149
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。 【0097】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。 【0098】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。 【0099】上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性
剤の記録層塗布液中に占める割合は、0.05〜15質
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5質量%であ
る。 【0100】さらに、本発明に係る記録層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。 【0101】本発明の平版印刷版原版を製造するには、
通常、記録層塗布液に必要な上記各成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する
溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノ
ン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プ
ロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、
1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシエチル
アセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、
ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、N,N−
ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリドン、ジメ
チルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、
トルエン、水等を挙げることができるがこれに限定され
るものではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用
される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形分)の
濃度は、好ましくは1〜50質量%である。 【0102】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版
印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0g/
2が好ましい。塗布する方法としては、種々の方法を
用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回
転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、
エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げ
ることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、画像記録の機能を果たす記録層の
皮膜特性は低下する。 【0103】〔支持体〕本発明の平版印刷版原版の製造
方法において前記記録層及び保護膜を塗布可能な支持体
としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、紙、
プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板
(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチック
フィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上
記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙又はプ
ラスチックフィルム等が挙げられる。好ましい支持体と
しては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が挙
げられる。 【0104】前記支持体としては、軽量で表面処理性、
加工性、耐食性に優れたアルミニウム板を使用すること
が好ましい。この目的に供されるアルミニウム材質とし
ては、JIS 1050材、JIS 1100材、JI
S 1070材、Al−Mg系合金、Al−Mn系合
金、Al−Mn−Mg系合金、Al−Zr系合金。Al
−Mg−Si系合金などが挙げられる。 【0105】アルミニウム板は表面に粗面化処理等の表
面処理を行い、記録層を塗布して平版印刷版原版とする
ことが出来る。粗面化処理には、機械的粗面化、化学的
粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせて行わ
れる。また、表面のキズ付き難さを確保するための陽極
酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を行うこ
とも好ましい。 【0106】以下に支持体の表面処理について説明す
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行
われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。 【0107】次いで支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト等の機械的砂目立て方法があり、またアルカリ
又は酸或いはそれらの混合物からなるエッチング剤で表
面を粗面化処理する化学的砂目立て方法がある。また、
電気化学的砂目立て方法、支持体材料に、粒状体を接着
剤又はその効果を有する方法で接着させて表面を粗面化
する方法や、微細な凹凸を有する連続帯やロールを支持
体材料に圧着させて凹凸を転写する粗面化方法等公知の
方法を適用できる。 【0108】これらのような粗面化方法は複数を組み合
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。前述のような粗面化処理すな
わち砂目立て処理して得られた支持体の表面には、スマ
ットが生成しているので、このスマットを除去するため
に適宜水洗或いはアルカリエッチング等の処理を行うこ
とが一般的に好ましい。 【0109】アルミニウム支持体を用いる場合には、前
述のような前処理を施した後、通常、耐摩耗性、耐薬品
性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持
体に酸化皮膜を形成させる。 【0110】アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられ
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸或いはこれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流密
度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間1
0秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜の
量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましく
は2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮膜
が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であった
り、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷
時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が
生じ易くなる。 【0111】このようなアルミニウム支持体は陽極酸化
処理後に有機酸又はその塩による処理又は、記録層塗布
の下塗り層を適用して用いることができる。 【0112】なお支持体と記録層との密着性を高めるた
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の記録層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、
5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100質量%、好ま
しくは60〜100質量%である。 【0113】平版印刷版用支持体として好ましい特性と
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと記録層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしまう。 【0114】本発明の方法により製造された平版印刷版
原版は、赤外線レーザで記録できる。また、紫外線ラン
プやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本
発明においては、波長760nmから1200nmの赤
外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像
露光されることが好ましい。レーザの出力は100mW
以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビー
ムレーザデバイスを用いることが好ましい。また、1画
素あたりの露光時間は20μ秒以内であることが好まし
い。記録材料に照射されるエネルギーは10〜300m
J/cm2であることが好ましい。 【0115】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。また、(H)熱溶融性微粒子と(J)
親水性高分子マトリックスを含む記録層の場合には、印
刷に使用する湿し水により容易に未露光部が除去される
ため、このような現像工程を経ずに直接印刷機に装着し
て印刷を行なうこともできる。現像液として、アルカリ
性水溶液を用いる場合、本発明の画像記録材料の現像液
及び補充液としては、従来公知のアルカリ水溶液が使用
できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第3
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第2
リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウム及び同リチウム等の無
機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロ
ピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピル
アミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジ
エタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプ
ロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレ
ンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカ
リ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独又は2種
以上を組み合わせて用いられる。 【0116】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強
度の高い水溶液(補充液)を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。 【0117】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。 【0118】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水
素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元
剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。 【0119】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理されたのち、本発明の平版印刷版原版に特有
の工程である後加熱工程に付される。 【0120】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。 【0121】以上のようにして得られた平版印刷版は、
所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供
することができる。本発明の方法により、所定の工程を
経て画像形成された平版印刷版はオフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。本発明により製
造された平版印刷版原版より得られる印刷版は、裁断に
よるクラック発生等が抑制されることにより、新聞紙の
ようなロール紙を使用して連続的に印刷する場合におい
ても、エッジ汚れを効果的に防止できる。 【0122】 【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。 〔実施例1〕 (架橋剤A−1の合成)p−アミノフェノール(1mo
l)、酢酸ナトリウム(1mol)をアセトン(1リッ
トル)と共にフラスコに入れ、ギ酸クロリド(1mo
l)を氷冷下、滴下する。5時間後、氷水中に投入して
結晶析出させ、結晶をろ取し、A−1−xを収率75%
で得た。このA−1−x(0.75mol)とKOH
(0.75mol)、水500ml、37%ホルマリン
水溶液(4.0mol)をフラスコに入れ、50℃で5
時間加熱後、アセトン5リットル中に投入し、結晶析出
させ、結晶をろ取し、水100mlにこの結晶を溶解
後、硫酸水素カリウムで中和すると結晶化する。これを
ろ取し、目的物A−1を全収率60%で得た。架橋剤A
−1の構造は以下の通りである。 【0123】 【化9】 【0124】(支持体の作製)厚さ0.30mmのアル
ミニウム板(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄
して脱脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパ
ミストン−水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく
水で洗浄した。この板を45℃の25%水酸化ナトリウ
ム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さ
らに2%HNO 3に20秒間浸漬して水洗した。この時
の砂目立て表面のエッチング量は約3g/m2であっ
た。次にこの板を7%H2SO4を電解液として電流密度
15A/dm2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた
後、水洗乾燥した。次にこのアルミニウム板に下記下塗
り液を塗布し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被
覆量は10mg/m2であった。 <下塗り液> ・β−アラニン 0.1g ・フェニルホスホン酸 0.05g ・メタノール 40g ・純水 60g 【0125】(記録層の形成)次に、下記感光層塗布液
1を調製し、上記の下塗り済みのアルミニウム板にワイ
ヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて100℃
で1分間乾燥して記録層を形成した。乾燥後の被覆量は
1.4g/m2であった。 【0126】 <感光層塗布液1> ・架橋剤(A−1/A−2の質量比50/50の混合物) 0.6g ・バインダーポリマー(BX−1) 1.4g ・酸発生剤(SX−1) 0.2g ・赤外線吸収剤(IR−1) 0.2g ・着色剤(VPB−Naps:保土ヶ谷化学(株)製) 0.04g ・ケイ素系界面活性剤 0.03g (TEGO GLIDE100(商品名) テゴケミーサービス社(Tego Chemie Service GmbH)製) ・メチルエチルケトン 1.2g ・メタノール 15.8g ・1−メトキシ−2−プロパノール 10.0g 【0127】なお、バインダーポリマー(BX−1)
は、ポリ−p−ヒドロキシスチレン(商品名:マルカリ
ンカーMH2P、丸善石油化学(株)製)を示す。上記
感光層塗布液1に使用した架橋剤(A−2)、酸発生剤
(SX−1)及び赤外線吸収剤(IR−1)の構造は以
下に示す通りである。 【0128】 【化10】【0129】(裁断)上記記録層を形成したコイル状の
アルミニウム支持体(厚さ0.3mm、幅900mm)
を幅800mmに、図1の裁断用スリッターと図2の裁
断刃を用いて、上刃と下刃との隙間(CL)を1μm
に、上刃と下刃のかみ込み量(S)を300μmに設定
して、両端を連続してスリットした。その後、カット長
1100mmのシートに切断し、幅800mm、長さ1
100mm(新聞4頁版サイズ)の実施例1の平版印刷
版原版(1)を得た。なお、裁断断面のダレ高さ(Y)
を、超深度形状測定顕微鏡VK−8500(キーエンス
製)にて測定したところ、5μmであった。 【0130】(露光)得られた平版印刷版原版(1)
を、波長830〜850nm程度の赤外線を発する半導
体レーザで版面エネルギーが10mJ/cm2〜220
mJ/cm2の範囲で、10mJ/cm2づつ変化するよ
うに、走査露光した。露光後、パネルヒーターにて、1
10℃で15秒間加熱処理した。 【0131】(現像処理)露光後、富士写真フイルム
(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理
し、平版印刷版(1)を得た。現像液は、仕込み液に富
士写真フイルム(株)製現像液、DP−4(1:8の水
希釈液)、補充液に富士写真フイルム(株)製、DP−
4RW(1:4の水希釈液)を用いた。現像浴の温度は
30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイ
ルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。 【0132】〔実施例2〕実施例1において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を25μmに変更した以外
は実施例1と同様にして、実施例2の平版印刷版原版
(2)及び平版印刷版(2)を得た。なお、裁断断面の
ダレ高さ(Y)は、20μmであった。 【0133】〔比較例1〕実施例1において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を55μmに変更した以外
は実施例1と同様にして、比較例1の平版印刷版原版
(3)及び平版印刷版(3)を得た。裁断断面のダレ高
さ(Y)は、100μmであった。 【0134】〔実施例3〕実施例1で用いたものと同様
のアルミニウム支持体上に、下記下塗り液を塗布し、8
0℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/
2であった。 <下塗り液> ・2−アミノエチルホスホン酸 0.5g ・メタノール 40g ・純水 60g 【0135】(ポリマーの合成)2−ヒドロキシエチル
メタクリレート、N−(p−スルフアモイルフェニル)
メタクリルアミド及びメタクリル酸を、通常の方法によ
りラジカル重合しポリマーとした。さらに、得られたポ
リマーを2−メタクリロイルオキシエチルイソシアナー
トと反応させ、下式に示すポリマー(RB−1)を得
た。組成比はモル比でx:y:z=50:30:20で
ある。質量平均分子量は12万(ポリスチレン標準)で
あった。 【0136】(記録層の形成)下記感光層塗布液2を前
記下塗り層を形成した支持体上に、ワイヤーバーで塗布
し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間乾燥して記
録層を形成した。乾燥後の塗布量は1.4g/m2であ
った。なお、感光層塗布液2の調製に用いた赤外線吸収
剤などの構造は以下に示す通りである。 【0137】 <感光層塗布液2> ・赤外線吸収剤(IR−2) 0.08g ・開始剤[オニウム塩](KO−1) 0.20g ・開始剤[オニウム塩](KO−2) 0.10g ・ジベンタエリスリトールヘキサアクリレート 0.50g ・モノマー(TM−1) 0.50g ・ポリマー(RB−1) 1.00g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・p−メトキシフェノール 0.001g ・フッ素系界面活性剤 0.03g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 10g ・γ−ブチロラクトン 5g ・メタノール 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 5g 【0138】 【化11】【0139】(裁断)上記記録層を形成したコイル状の
アルミニウム支持体(厚さ0.3mm、幅900mm)
を幅800mmに、図1の裁断用スリッターと図2の裁
断刃を用いて、上刃と下刃との隙間(CL)を1μm
に、上刃と下刃のかみ込み量(S)を300μmに設定
して、両端を連続してスリットした。その後、カット長
1100mmのシートに切断し、幅800mm、長さ1
100mm(新聞4頁版サイズ)の実施例3の平版印刷
版原版(4)を得た。裁断断面のダレ高さ(Y)は、5
μmであった。 【0140】(露光及び現像)得られた平版印刷版原版
(4)をCreo社(株)製Trendsetter3
244VFSにて、版面エネルギー量80mJ/cm2
にて露光した。露光後、露光後、富士写真フイルム
(株)製スタブロン900NPを自動現像機に用いて、
実施例3の平版印刷版(4)を得た。現像液には、下記
現像液[D−1]を仕込み液として投入し、下記現像液
[D−2]を補充液とし、さらに、富士写真フイルム
(株)製FP−2Wの1:1水希釈液をフィニッシャー
として用い、現像温度を30℃、現像時間を12秒で処
理した。 【0141】 <現像液[D−1]> ・水酸化カリウム 3g ・炭酸水素カリウム 1g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩 8g ・水 785g 【0142】 <現像液[D−2]> ・水酸化カリウム 6g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩 4g ・シリコンTSA−731(東芝シリコーン社(株)製) 0.1g ・水 786.9g 【0143】〔実施例4〕実施例3において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を25μmに変更した以外
は実施例3と同様にして、実施例4の平版印刷版原版
(5)及び平版印刷版(5)を得た。裁断断面のダレ高
さ(Y)は、20μmであった。 【0144】〔比較例2〕実施例3において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を55μmに変更した以外
は実施例1と同様にして、比較例2の平版印刷版原版
(6)及び平版印刷版(6)を得た。裁断断面のダレ高
さ(Y)は、100μmであった。 【0145】〔実施例5〕 (支持体の作製)厚さ0.30mmのアルミニウムウエ
ッブ(材質1050)を、表面の圧延油を除去するため
10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処
理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、ス
マット除去処理を行った。 【0146】次いで支持体と記録層の密着性を良好に
し、砂目立て処理を行った。1%の塩酸と0.5%の硝
酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェ
ブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密
度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形で
アノード側電気量240C/dm2を与えることで電解
砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶
液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸
水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行っ
た。 【0147】さらに、電解質として硫酸20%水溶液を
35℃で用い、アルミウェブを電解質中に通搬しなが
ら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処
理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作製し
た。作製したアルミニウム支持体に下記下塗り液をワイ
ヤーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で
30秒間乾燥した。乾燥後の被服量は20mg/m2
あった。 【0148】 <下塗り液> ・2−メタクリロイルオキシエチルリン酸 0.4g ・メタノール 20g ・イオン交換水 80g 【0149】(記録層の形成)次に、下記感光層塗布液
3を、前記下塗り層を形成した支持体上に、ワイヤーバ
ーで塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で45秒間乾
燥して記録層を形成し、さらに、下記オーバーコート層
塗布液をスライドホッパーを用いて塗布し、温風式乾燥
装置にて120℃で75秒間乾燥た。尚、画像記録層の
塗布量は2.0g/m2であり、オーバーコート層の塗
布量は2.3g/m2であった。用いた赤外線吸収剤
(IR−3)と開始剤(KO−3)を以下に示す。 【0150】 <感光層塗布液3> ・赤外線吸収剤(IR−3) 0.10g ・開始剤(KO−3) 0.15g ・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート 0.20g ・イソホロンジイソシナネートと 0.60g 2−ヒドロキシエチルアクリレートの付加物 ・ジフェニルメタンジイソシアネートと 1.20g ヘキサメチレンジイソシアネートと ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸と テトラエチレングリコールから得られるポリウレタン (組成モル比=30:20:20:30、質量平均分子量=12万) ・クリスタルバイオレット染料 0.06g ・重合禁止剤(クペロンAl、和光純薬(株)製) 0.005g ・フッ素系界面活性剤 0.03g (メガファックKF309、大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 10g ・γ−ブチロラクトン 5g ・メタノール 7g ・1−メトキシ−2−プロパノール 5g 【0151】 <オーバーコート層用塗布液> ・ポリビニルアルコール 2.5g (ケン化度98.5モル%、重合度500) ・ポリビニルピロリドン 0.5g (K30、東京化成工業(株)製 分子量4万) ・非イオン性界面活性剤 0.05g (EMAREX NP−10 日本エマルジョン社(株)製) ・イオン交換水 96.95g 【0152】 【化12】 【0153】(裁断)上記記録層を形成したコイル状の
アルミニウム支持体(厚さ0.3mm、幅900mm)
を幅800mmに、図1の裁断用スリッターと図2の裁
断刃を用いて、上刃と下刃との隙間(CL)を1μm
に、上刃と下刃のかみ込み量(S)を300μmに設定
して、両端を連続してスリットした。その後、カット長
1100mmのシートに切断し、幅800mm、長さ1
100mm(新聞4頁版サイズ)の実施例5の平版印刷
版原版(7)を得た。裁断断面のダレ高さ(Y)は、5
μmであった。 【0154】(露光及び現像)版材供給装置(SA−L
8000)、露光装置(Luxel T−9000CT
P)、コンベア(T−9000 Conveyor)、
プレ加熱とプレ水洗機構付き自動現像機(FLP−12
5NFS)、ストッカー(ST−1160)より成る冨
士写真フイルム(株)CTP出力システムを用いて、画
像形成を行い、平版印刷版(7)を得た。プレ加熱は、
版面温度が120℃になるように設定し、プレ水洗は水
道水を用いた。また、自動現像機の現像部に、下記組成
の現像液組成物(V−1)を仕込み、30℃に保温し
た。水洗部には、水道水を仕込み、フィニッシャー部に
は、FP−2W(富士写真フイルム(株)製):水=
1:1希釈したフィニッシングガム液を仕込んで用い
た。 【0155】 <現像液(V−1)> ・ケイ酸カリウム 0.2質量% ・炭酸カリウム 0.2質量% ・エチレングリコールモノナフチルエーテル 3.8質量% ・ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム 1.0質量% ・EDTAの4Na塩 0.1質量% ・水 94.7質量% 【0156】〔実施例6〕実施例5において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を25μmに変更した以外
は実施例1と同様にして、実施例6の平版印刷版原版
(8)及び平版印刷版(8)を得た。裁断断面のダレ高
さ(Y)は、20μmであった。 【0157】〔比較例3〕実施例5において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を55μmに変更した以外
は実施例5と同様にして、比較例3の平版印刷版原版
(9)及び平版印刷版(9)を得た。裁断断面のダレ高
さ(Y)は、100μmであった。 【0158】〔印刷及び評価〕 <印刷>上記で得られた平版印刷版(1)を、オフセッ
ト輪転印刷機にて、新聞用インキ(阪田インキ(株)
製)と湿し水(東洋アルキー、東洋インキ(株)製)と
を用いて、10万枚/時のスピードで2万枚印刷した。 【0159】<評価>評価は、上記実施例1〜8及び比
較例1〜4において、エッジ部のクラック及びエッジ部
の汚れ性を観察することにより行った。評価の詳細を以
下に示す。また、結果を表1に示す。 【0160】1.エッジ部のクラック エッジ部のクラックについては、裁断後の平版印刷版原
版(1)〜(9)のエッジ部(記録層及び支持体の表面
処理層部分)に対し、SEM 走査型電子顕微鏡S−8
00型((株)日立製作所製)を用いてクラックの有無
を目視で観察することにより評価した。 【0161】2.エッジ部の汚れ性 エッジ部の汚れ性については、上記で得られた印刷物上
のエッジ部に対応する印刷紙面における汚れの発生を、
目視で観察することにより評価した。評価基準は以下の
通りである。 −評価基準− ○ 汚れが発生していない △ 汚れが少し発生している × 汚れが発生している 【0162】〔実施例7〕 (支持体の作製)厚さが0.30mmのアルミニウム板
を、50℃において5g/lの水酸化ナトリウムを含有
する水溶液に浸漬し、脱イオン水で濯ぐことにより脱脂
処理を行なった。次いで、35℃の温度及び1200A
/m2の電流密度において交流を用い、4g/lの塩
酸、4g/lの硼酸及び5g/lのアルミニウムイオン
を含有する水溶液中でアルミニウム板を電気化学的に粗
面化し、0.5mmの平均中心線粗さ(Ra)を有する
表面性状とした。粗面化したアルミニウム板を脱イオン
水で洗浄した後、300g/lの硫酸を含有する水溶液
を用い、60℃において180秒間、エッチング処理
し、25℃において30秒間、脱イオン水で洗浄した。 【0163】次に、200g/lの硫酸を含有する水溶
液中で、45℃の温度、約10Vの電圧及び150A/
2の電流密度において約300秒間、陽極酸化処理し
て、表面に3.00g/m2のAl23陽極酸化層を形
成し、脱イオン水で洗浄した後、ポリビニルホスホン酸
を含有する溶液を用いて後処理し、脱イオン水を用いて
20℃で120秒間洗浄し、乾燥してアルミニウム支持
体を得た。 【0164】(記録層の形成)下記感光層塗布液4を調
製し、支持体表面に30g/m2(湿潤コーティング
量)の量でコーティングし、35℃でそれを乾燥するこ
とにより記録層を形成した。 <感光層塗布液4> ・ポリスチレン(粒径60nm)の20質量%分散液 7.5g (ポリスチレン微粒子に対して1.5質量%の界面活性剤を加え、 脱イオン水中に分散安定化した分散液) ・赤外線吸収剤(下記シアニン染料(I)の1質量%溶液) 20g ・ポリアクリル酸 6g (CARBOPOL WS801(商品名)、 Goodrich社製の5質量%水溶液) ・脱イオン水 66.5g 【0165】 【化13】【0166】(裁断)上記記録層を形成したコイル状の
アルミニウム支持体(厚さ0.3mm、幅900mm)
を幅800mmに、図1の裁断用スリッターと図2の裁
断刃を用いて、上刃と下刃との隙間(CL)を1μm
に、上刃と下刃のかみ込み量(S)を300μmに設定
して、両端を連続してスリットした。その後、カット長
1100mmのシートに切断し、幅800mm、長さ1
100mm(新聞4頁版サイズ)の実施例7の平版印刷
版原版(10)を得た。裁断断面のダレ高さ(Y)は、
5μmであった。 【0167】(露光)得られたネガ型平版印刷版原版
(10)を830nmで発光する走査ダイオードレーザ
ーで、走査速度 1m/秒、解像度2540dpi、版
表面上の出力44mWの条件で露光した。 【0168】〔実施例8〕実施例7において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を25μmに変更した以外
は実施例1と同様にして、実施例8の平版印刷版原版
(11)を得た。裁断断面のダレ高さ(Y)は、20μ
mであった。 【0169】〔比較例4〕実施例7において、裁断用ス
リッターの上刃と下刃の隙間を55μmに変更した以外
は実施例7と同様にして、比較例4の平版印刷版原版
(12)を得た。裁断断面のダレ高さ(Y)は、100
μmであった。 【0170】〔印刷及び評価〕 <印刷>上記画像形成後の平版印刷版原版(10)〜
(12)を、現像処理することなく、印刷機Heide
lberg GTO46に装着し、ゴムベース(rub
berbase)VS2329インキ(Van Son
社製)及び湿し液(Rotamatic)を供給してそ
のまま印刷を行なったところ、印刷の初期に未露光部が
除去された。さらに、10万枚/時のスピードで2万枚
印刷した。 【0171】<評価>上記実施例1〜8及び比較例1〜
3の場合と同様にして、エッジ部のクラック、及び、エ
ッジ部の汚れ性について評価した。結果を表1に示す。 【0172】 【表1】 【0173】表1に示されるように、実施例1〜8は、
裁断用スリッターの上刃と下刃の隙間を0〜30μmに
設定することにより、平版印刷版原版の裁断時にクラッ
クの発生を防止することができ、また、印刷物上のエッ
ジ部に対応する印刷紙面における汚れの発生を防止でき
ることが確認された。 【0174】 【発明の効果】本発明によれば、エッジ汚れ防止効果に
優れた赤外線レーザ対応のネガ型平版印刷版原版の製造
方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】 【図1】裁断用スリッターの一例を示す正面図である。 【図2】上刃と下刃との位置関係を示す正面図である。 【図3】図2のA部の拡大図である。 【図4】平版印刷版原版の裁断部を示す要部拡大図であ
る。 【符号の説明】 10 裁断用スリッターを示す正面図 12、14 上刃 16、18 下刃 20、22 平版印刷版原版 24 コラム 26 基台 28 レール

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体上に、赤外線レーザの露光により
    露光部が疎水性領域となる記録層を設けてなるネガ型平
    版印刷版原版の製造方法において、 前記ネガ型平版印刷版原版を所望のサイズに裁断する際
    に、裁断用スリッターの上刃と下刃との隙間を、0μm
    〜30μmに設定することを特徴とするネガ型平版印刷
    版原版の製造方法。
JP2002062219A 2002-03-07 2002-03-07 平版印刷版原版の製造方法 Pending JP2003260881A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002062219A JP2003260881A (ja) 2002-03-07 2002-03-07 平版印刷版原版の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002062219A JP2003260881A (ja) 2002-03-07 2002-03-07 平版印刷版原版の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003260881A true JP2003260881A (ja) 2003-09-16

Family

ID=28670566

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002062219A Pending JP2003260881A (ja) 2002-03-07 2002-03-07 平版印刷版原版の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003260881A (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7851129B2 (en) 2004-10-29 2010-12-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, resist pattern forming method and compound
US7862981B2 (en) 2005-06-17 2011-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, positive resist composition and method of forming resist pattern
US7897319B2 (en) 2004-07-28 2011-03-01 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and method of forming resist pattern
US7901865B2 (en) 2004-09-08 2011-03-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition and process for formation of resist patterns
US7923192B2 (en) 2004-02-20 2011-04-12 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Base material for pattern-forming material, positive resist composition and method of resist pattern formation
JP2011073212A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及び製版方法
US7981588B2 (en) 2005-02-02 2011-07-19 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Negative resist composition and method of forming resist pattern
JP2011177983A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法
US8206887B2 (en) 2005-05-17 2012-06-26 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and resist pattern forming method
WO2012098828A1 (ja) * 2011-01-21 2012-07-26 三菱瓦斯化学株式会社 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法
US8389197B2 (en) 2005-07-05 2013-03-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, positive resist composition and resist pattern forming method

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7923192B2 (en) 2004-02-20 2011-04-12 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Base material for pattern-forming material, positive resist composition and method of resist pattern formation
US7897319B2 (en) 2004-07-28 2011-03-01 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and method of forming resist pattern
US7901865B2 (en) 2004-09-08 2011-03-08 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition and process for formation of resist patterns
US7851129B2 (en) 2004-10-29 2010-12-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Resist composition, resist pattern forming method and compound
US7981588B2 (en) 2005-02-02 2011-07-19 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Negative resist composition and method of forming resist pattern
US8206887B2 (en) 2005-05-17 2012-06-26 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Positive resist composition and resist pattern forming method
US7862981B2 (en) 2005-06-17 2011-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, positive resist composition and method of forming resist pattern
US8389197B2 (en) 2005-07-05 2013-03-05 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Compound, positive resist composition and resist pattern forming method
JP2011073212A (ja) * 2009-09-29 2011-04-14 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及び製版方法
JP2011177983A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Fujifilm Corp 新聞印刷用平版印刷版原版及びその製造方法
WO2012098828A1 (ja) * 2011-01-21 2012-07-26 三菱瓦斯化学株式会社 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法
JPWO2012098828A1 (ja) * 2011-01-21 2014-06-09 三菱瓦斯化学株式会社 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法
JP6007793B2 (ja) * 2011-01-21 2016-10-12 三菱瓦斯化学株式会社 低分子化合物、感放射線性組成物、およびレジストパターン形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1354701B1 (en) Photosensitive resin composition and planographic printing plate using the same
US6838222B2 (en) Photopolymerizable composition
JP4216494B2 (ja) 平版印刷版原版
JP3317574B2 (ja) ネガ型画像記録材料
JPH10293401A (ja) ネガ型画像記録材料
JP2003107720A (ja) 平版印刷版用原版
EP1245405B1 (en) Image recording material
JP2003260881A (ja) 平版印刷版原版の製造方法
JP2011502844A (ja) 仕上げ剤溶液中の親水性ポリマーを用いた平版印刷版の処理
JP2009244835A (ja) ネガ型感光性材料及びネガ型平版印刷版原版
JP2003262953A (ja) 平版印刷版原版
JP3903085B2 (ja) 平版印刷版原版
JP2002225453A (ja) 平版印刷版原版
JP2003291551A (ja) 平版印刷版
DE602004003645T2 (de) Flachdruckplattenvorläufer
JP2003266964A (ja) 平版印刷版原版
EP1072401B1 (en) Method of manufacturing a planographic printing plate
US7226715B2 (en) Image recording material
JP2003307843A (ja) 平版印刷版原版
JP2003307844A (ja) 平版印刷版原版
JP2003307836A (ja) 画像記録材料
JP4234901B2 (ja) 平版印刷版の画像形成方法
JP2003295425A (ja) 画像記録材料
JP2003307842A (ja) 平版印刷版原版
JP2003262954A (ja) 平版印刷版原版

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040914

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041110

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050118

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050412

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050802