JP2003255248A - マルチビーム光源装置及びそれを用いた走査光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】同期検知手段と光学素子との相対位置を精度良
く位置決めすることにより、同期検知手段が確実にレー
ザ光束を検知できるようなマルチビーム光源装置及びそ
れを用いた走査光学装置を提供する。 【解決手段】半導体レーザ光源９ａとコリメータレンズ
９ｃを位置決め保持するホルダ９ｂと、ホルダ９ｂに固
定された半導体レーザの駆動制御部を有する回路基板９
ｄと、回路基板９ｄ上に搭載された同期検知器１８とを
有するマルチビーム光源装置において、同期検知器１８
の少なくとも一部を前記ホルダ９ｂに係合することによ
り位置決め保持し、更に、前記レーザ光の入射側で前記
同期検知器１８と対向する位置に同期検知器１８にレー
ザ光を集光する光学素子１７を設け、光学素子１７を前
記ホルダ９ｂに係合させて位置決め保持する構成とし
た。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレ−ザビ−ムプリン
タやレ−ザファクシミリ等の画像形成装置に用いられる
走査光学装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図８は画像形成装置に使用される走査光
学装置の斜視図を示し（例えば特開２０００−１３１６
３４参照）、半導体レーザユニット１０１の前方の光路
上には、シリンドリカルレンズ１０２、回転多面鏡１０
３、回転多面鏡１０３を回転駆動するモータ１０４が順
次に配列され、回転多面鏡１０３の反射方向の光路上に
は、Ｆθレンズ１０５、感光体ドラム１０６が配列され
ている。また、感光体ドラム１０６の有効画像領域外で
偏向走査されるレーザ光束の一部の光路上には同期検知
用光学系１０７と同期検知規制部１０１ｅと同期検知器
１０８が設けられている。同期検知器１０８は半導体レ
ーザ光源１０１ａが搭載された回路基板１０１ｂと同一
基板に搭載されており、これにより同期検知器１０８専
用の別体の回路基板を設ける必要がない。別体の回路基
板を設けると部品点数の増大と基板が複数にわたるため
電気回路基板が複雑になり、配線を取り回す作業が増え
るなど、コストアップの要因となるため、一つの改善手
段として特開２０００−１３１６３４が提案されてい
る。

【０００３】半導体レーザユニット１０１は半導体レー
ザ光源１０１ａと半導体レーザ光源１０１ａを発光させ
るための回路基板１０１ｄとレーザホルダ１０１ｂとコ
リメータレンズ１０１ｃから成っており、半導体レーザ
光源１０１ａは光軸Ｌとレーザホルダ１０１ｂとが同心
になるようにレーザホルダ１０１ｂに圧入されている。
またレーザホルダ１０１ｂの先端には半導体レーザ光源
１０１ａからのレーザ光を平行光または収束光とするコ
リメータレンズ１０１ｃが内蔵されている。

【０００４】半導体レーザ光源１０１ａから発せられた
レーザ光束は、コリメータレンズ１０１ｃによって平行
光束または収束光束に変えられ、シリンドリカルレンズ
１０２によって回転多面鏡１０３上に線状に結像する。
そして、このレーザ光束は回転多面鏡１０３をモータ１
０４により回転させることによって偏向され、Ｆθレン
ズ１０５によって感光体ドラム１０６上に結像走査され
る。回転多面鏡１０３の回転によって、感光体ドラム１
０６においては光束による主走査が行われ、また感光体
ドラム１０６がその円筒の軸線まわりに回転駆動するこ
とによって副走査が行われる。このようにして感光体の
表面には静電潜像が形成される。

【０００５】Ｆθレンズ１０５は、回転多面鏡１０３に
おいて反射される光束が感光体ドラム１０６上において
スポットを形成するように集光され、またスポットの走
査速度が等速に保たれるように設計されている。このよ
うなＦθレンズ１０５の特性を得るために、Ｆθレンズ
１０５は球面レンズもしくはトーリックレンズ１０５ａ
とトーリックレンズ１０５ｂの２つのレンズで構成され
ている。

【０００６】また、偏向されたレーザ光束の一部は画像
領域外の部分を利用して、同期検知用光学系１０７に入
射する。同期検知用光学系１０７は主走査断面内と副走
査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有しており、該
主走査断面内と副走査断面内にそれぞれに対して同期検
知規制部１０１ｅに集光するよう適したパワーが与えら
れている。同期検知規制部１０１ｅを通過したレーザ光
束は同期検知器１０８に検知され、書き出し位置調整が
行われる。

【０００７】また、従来、画像形成装置に使用される走
査光学装置では、複数のレーザ光束を同時に書き込む方
式を採用して記録速度を上昇させている。このような走
査光学装置においては、マルチビーム光源ユニットを有
しており、マルチビーム光源は複数の発光点を光軸Ｌに
直交する面にアレイ状に配置され、発光点からは複数本
のレーザ光が同時に出射されるようになっている。ま
た、光軸Ｌは複数のレーザ光の仮想中心軸であり、マル
チビーム光源は光軸Ｌとレーザホルダ１０１ｂとが同心
になるようにレーザホルダ１０１ｂに圧入されている。
マルチビーム光源の複数の発光点を副走査方向に縦に並
べて配置すると、感光体ドラム１０６上で副走査方向の
それぞれの線の間隔が記録密度よりも大幅に開いてしま
う。

【０００８】このために通常は複数の発光点を斜めに配
置し、その傾斜角度を所定の値に調整することによって
感光体ドラム１０６上の副走査方向の各線の間隔を記録
密度に合わせて、正確な調整を行っている。

【０００９】具体的には、マルチビーム光源ユニットを
シリンドリカルレンズ１０２、回転多面鏡１０３、回転
多面鏡１０３を回転駆動するモータ１０４、Ｆθレンズ
１０５、同期検知用光学系１０７を収容する図示しない
光学箱に取り付ける際に、マルチビーム光源ユニットを
光軸Ｌの回りに回転調整することにより、感光体ドラム
１０６上に走査される複数本のレーザ光束の副走査方向
間隔を所定の間隔に調整する。

【００１０】なお、同期検知器１０８の位置に関して
は、部品点数の削減やコストダウンのために半導体レー
ザ光源１０１ａを発光させるための回路基板１０１ｄ上
に配した工夫がなされているが、マルチビーム光源ユニ
ットの場合、複数の光源により副走査方向に間隔をおい
て同時に書き込みを行っていくために、その間隔を調整
する手段としてマルチビーム光源ユニットを光軸Ｌを回
転軸として回転させている。

【００１１】このため同期検知器１０８も光軸Ｌを回転
中心として回転してしまい、レーザ光束が同期検知器１
０８に検知されない恐れがあった。そこで特願番号２０
０１−２３１２４２では、光学素子を同期検知規制部１
０１ｅと同期検知器１０８の間に追加し、マルチビーム
光源ユニットに一体に保持することによりマルチビーム
光源ユニットを回転調整する際にも同期検知器１０８と
一体に回転移動させることにより、回転調整後もレーザ
光束が同期検知器１０８に検知されるような構成を提案
している。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】前述したように画像形
成装置に使用される走査光学装置では、複数のレーザ光
束を同時に書き込む方式を採用して記録速度を上昇させ
ているが、更なる高速化に向けて回転多面鏡１０３も高
速回転で回転している。したがって例えば２ビーム光源
の場合、最初のレーザ光束が同期検知器１０８に検知さ
れてから次のレーザ光束が同期検知器１０８に検知され
るまでの時間は、回転多面鏡１０３が高速で回転する程
短い時間になる。この場合、同期検知器１０８は高速な
応答性のものが必要となり、そのためにはレーザ光束の
受光面はなるべく小さなものが要求される。

【００１３】特願２００１−２３１２４２号において、
マルチビーム光源ユニットの回転調整後もレーザ光束が
同期検知器１０８に確実に検知されるためには、同期検
知器１０８にレーザ光束を導光するための光学素子と同
期検知器１０８の相対位置関係が重要である。

【００１４】同期検知器１０８の受光面が大きい場合に
は、同期検知器１０８に対する光学素子の位置はそれほ
ど厳密でなくても良いが、同期検知器１０８の受光面が
小さい場合は、同期検知器１０８と光学素子の相対位置
は精度良く位置決めされていないと同期検知器１０８で
レーザ光束が検知できないおそれがある。

【００１５】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、
同期検知手段と光学素子との相対位置を精度良く位置決
めすることにより、同期検知手段が確実にレーザ光束を
検知できるようなマルチビーム光源装置及びそれを用い
た走査光学装置を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、画像情報に応じて各々独立に変調された
レーザ光を発振する複数の発光点を有する半導体レーザ
と、該半導体レーザから出射されたレーザ光を略平行光
とするコリメータレンズと、該半導体レーザと該コリメ
ータレンズを位置決め保持するホルダと、該ホルダに固
定された半導体レーザの駆動制御部を有する回路基板
と、該回路基板上に搭載された同期検知手段とを有する
マルチビーム光源装置において、前記同期検知手段の少
なくとも一部を前記ホルダに係合することにより位置決
め保持し、更に、前記レーザ光の入射側で前記同期検知
手段と対向する位置に該同期検知手段にレーザ光を集光
する光学素子を設け、該光学素子を前記ホルダに係合さ
せて位置決め保持する構成としたことを特徴とする。

【００１７】前記同期検知手段はレーザ光を検知する光
電変換部と、該光電変換部を保護し精度良く形成された
パッケージ部を有し、該パッケージ部の少なくとも一部
を前記ホルダに係合することにより位置決め保持するこ
とが好ましい。

【００１８】また、本発明の光学走査装置は、前記マル
チビーム光源装置と、マルチビーム光源装置より出射さ
れたレーザ光を偏向走査する偏向手段と、偏向手段によ
って偏向走査されたレーザ光を被走査面上に集光する結
像光学系と、前記同期検知手段にレーザ光を導光する同
期検知用光学系と、前記マルチビーム光源装置と前記偏
向手段と前記結像光学系と前記同期検知用光学系とを収
容する光学箱とを有し、マルチビーム光源装置を前記半
導体レーザから出射されたレーザ光の光軸周りに回転可
能で光学箱に任意の角度で取付けられていることを特徴
とする。

【００１９】前記光学箱は、前記同期検知手段と前記同
期検知用光学系との間に配置されて同期検知手段へのレ
ーザ光の入射を規制する同期検知規制部を有することが
好ましい。

【００２０】上記構成の走査光学装置は、マルチビーム
光源装置において同期検知手段と光学素子を精度良く位
置決めすることが可能であるため、マルチビーム光源装
置を回転調整しても確実にレーザ光を光学素子を介して
同期検知手段へ導光することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。

【００２２】（実施の形態１）図１、図２、図３、図
４、図５は、本発明の実施の形態１に係る走査光学装置
の構成図等であり、図１は斜視図、図２、図３はマルチ
ビーム光源ユニットを回転調整した際の同期検知器まで
の光路を示した図、図４は同期検知器の位置決め手段を
示した図、図５はマルチビーム光源ユニットの斜視図で
ある。

【００２３】まず図１の走査光学装置の斜視図を用い
て、本実施例の走査光学装置の実施例を記述する。

【００２４】すなわち、走査光学装置は、マルチビーム
光源ユニット９と、このマルチビーム光源ユニット９よ
り出射されたレーザ光を偏向走査する偏向手段としての
回転多面鏡１２と、この回転多面鏡１２によって偏向走
査されたレーザ光を被走査面上に集光する結像光学系と
してのｆθレンズ１４と、マルチビーム光源ユニット９
の同期検知器１８にレーザ光を導光する同期検知用光学
レンズ１５とを有し、これらマルチビーム光源ユニット
９，前記回転多面鏡１２，Ｆθレンズ１４および同期検
知用光学レンズ１５が光学箱１６に収容されている。

【００２５】マルチビーム光源ユニット９は、画像情報
に応じて各々独立に変調されたレーザ光を発振する複数
の発光点を有するマルチビーム光源９ａと、マルチビー
ム光源９ａから出射されたレーザ光を略平行光とするコ
リメータレンズ９ｃと、マルチビーム光源９ａとコリメ
ータレンズ９ｃを位置決め保持するホルダとしてのレー
ザホルダ９ｂと、レーザホルダ９ｂに固定されたマルチ
ビーム光源９ａの駆動制御部を有する回路基板９ｄと、
回路基板９ｄ上に搭載された同期検知器１８とを有する
構成となっている。

【００２６】この同期検知器１８の少なくとも一部がレ
ーザホルダ９ｂに係合することにより置決め保持され、
更に、前記レーザ光の入射側で前記同期検知器１８と対
向する位置に同期検知器１８にレーザ光を集光する光学
素子１７が設けられ、この光学素子１７をレーザホルダ
９ｂに係合させて位置決め保持する構成となっている。

【００２７】前記同期検知器１８はレーザ光を検知する
光電変換部１８ａと、この光電変換部１８ａを保護し精
度良く形成されたパッケージ１８ｂを有し、このパッケ
ージ１８ｂの少なくとも一部が前記レーザホルダ９ｂに
係合することにより位置決め保持する。

【００２８】マルチビーム光源９ａの発光点から複数本
のレーザ光が同時に出射され、コリメータレンズ９ｃに
よってレーザ光を平行光または収束光として、シリンド
リカルレンズ１０によって副走査方向のみ収束し、開口
絞り１１を通って光束幅が制限されて、偏光手段として
の回転多面鏡１２の偏向反射面上において主走査方向に
長く伸びる焦線状に結像する。

【００２９】本実施形態における開口絞り１１は回転多
面鏡１２の近傍に配置されており、これにより回転多面
鏡１２の偏向反射面上での光束の不一致を低減し、走査
線間での収差の発生度合いを極力差が出ないようにして
いる。そして回転多面鏡１２によって反射され偏向走査
された光束は、Ｆθレンズ１４によって感光体ドラム上
にスポット状に集光して一定速度で走査される。

【００３０】マルチビーム光源ユニット９から出射され
たレーザ光は、回転多面鏡１２で反射され画像領域に入
る前に同期検知用光学系１５を通過し、同期検知規制部
１６ａを主走査方向に通過し光学素子１７を介して同期
検知器１８で検知される。同期検知は各光束それぞれに
ついて独立に行い、その検知信号から所定の遅延時間後
を主走査方向の書き出し開始位置とする。

【００３１】マルチビーム光源９ａの場合、副走査方向
の走査線間隔を所定の間隔に調整する必要があるためマ
ルチビーム光源ユニット９は光軸Ｌを中心に回転調整さ
れた後、走査光学装置の各部品を収容する光学箱１６に
図示しないネジ等で組み付けられる。このとき同期検知
器１８はマルチビーム光源９ａを発光させるための回路
基板９ｄ上に搭載されており、マルチビーム光源ユニッ
ト９と一体となっているため光軸Ｌを中心として回転し
た位置で光学箱１６に組み付けられる。

【００３２】この状態で、仮に光学素子１７がないとし
た場合、同期検知規制部１６ａを主走査方向に通過した
レーザ光束は同期検知器１８に入らない場合があり、同
期信号（書き出し位置信号）を得ることができなくな
る。

【００３３】同期検知器１８は、複数のレーザ光束の信
号を検知する場合、高速な応答性を有したものが要求さ
れる。そのため同期検知器受光面の面積はなるべく小さ
くするのが良い。例えば、同期検知器受光面の大きさが
φ１ｍｍ、光軸Ｌからセンサ受光面までの距離が２０ｍ
ｍとすると、マルチビーム光源ユニット１を光軸Ｌ周り
に約１．５°回転させると同期検知器受光面が約０．５
２ｍｍ（２０×ｔａｎ１．５°）ほど副走査方向に移動
してしまいレーザ光束が同期検知器受光面に入らず、書
き出し位置信号を検知できなくなる。

【００３４】回転調整角度は、部品の加工誤差や組立誤
差、あるいは収差から発生する集光位置のずれなどから
設計上の角度に配置されず、ピッチ間隔がずれてしまう
ことが起こる。これを調整するためにマルチビーム光源
９ａを保持しているマルチビーム光源ユニット９を光軸
周りに回転させ微調する手法をとっているが、その回転
調整量のばらつきはおよそ±３°程度であるため、組立
てラインにおいては光学素子１７がないと同期検知がで
きない走査光学装置が発生し、歩留まりの向上を妨げる
こととなる。

【００３５】図２、図３に示すように、光学素子１７を
レーザホルダ９ｂに一体に保持した構成で、マルチビー
ム光源ユニット９を回転調整した際の同期検知器１８ま
での光路を示す。

【００３６】図２に示すように、マルチビーム光源ユニ
ット９を回転調整しない場合、同期検知規制部１６ａを
通過したレーザ光束は光学素子１７の光軸を通過し、同
期検知器１８で検知される。

【００３７】図３はマルチビーム光源ユニット９を回転
調整した後の状態を示し、同期検知規制部１６ａを通過
したレーザ光束は光学素子１７の光軸外（図では下側）
に入射された場合を示している。このとき、光学素子１
７と同期検知器１８の相対位置関係は回転調整前と同じ
であり、光学素子１７は光学素子１７へ入射するレーザ
光束に対して光軸と垂直方向に平行に移動しただけであ
るため、レーザ光束は光学素子１７の集光機能によって
同期検知器１８に集光される。したがって同期検知器１
８と光学素子１７が一体となって回転するため、マルチ
ビーム光源ユニット９の回転調整後も同期検知器１８で
レーザ光束を検知することができる。

【００３８】同期検知規制部１６ａは光学箱１６に一体
で形成されており、レーザ光束が同期検知用光学系１５
で集光される位置に配置されている。レーザ光束の集光
点に同期検知規制部１６ａを配置することにより、同期
検知器１８での信号検知タイミングを精度良く検出でき
る。

【００３９】また、同期検知器１８において高速な応答
性が要求されるものは受光面の面積がなるべく小さい方
が良いことを前述したが、この場合、レーザ光束を確実
に受光面で検知するためには、同期検知器１８と光学素
子１７の相対位置関係が重要であり精度良く位置決めす
る必要がある。図４は同期検知器１８の主走査断面を示
した図である。同期検知器１８は、レーザ光束を検知す
る光電変換部（受光面）１８ａと光電変換部１８ａを保
護し光電変換部１８ａから位置精度良く形成された透明
な樹脂部（パッケージ部）１８ｂを有している。

【００４０】従来、同期検知器１８のレーザホルダ９ｂ
に対する位置決めは、同期検知器１８を半田付けした回
路基板９ｄをレーザホルダ９ｂに係合して行っている場
合があったが、同期検知器１８の足（端子）と回路基板
９ｄの半田付け部は作業性の観点からガタの多い係合を
行っており、同期検知器１８が回路基板９ｄに対してあ
まり位置精度の良い状態では半田付けされていなかっ
た。そのため回路基板９ｄをレーザホルダ９ｂに係合し
て位置決めを行う方法では、レーザホルダ９ｂに対して
同期検知器１８が精度良く位置決めされる保証はなかっ
た。

【００４１】そこで本実施の形態では、受光面１８ａか
ら位置精度良く形成されたパッケージ部１８ｂのテーパ
部を直接レーザホルダ９ｂに係合させることにより、レ
ーザホルダ９ｂに対して受光面１８ａが精度良く位置決
めされる構成とする。回路基板９ｄは同期検知器１８と
レーザホル９ｂが係合した状態でレーザホルダ９ｂに図
示しないネジ等によって締結され保持される。同期検知
器１８のテーパ部は型抜き上、付いていることが好まし
いが、テーパがない場合はレーザホルダ９ｂ側にテーパ
部を形成し同期検知器１８の位置決め時のガイド機能を
持たせても良い。

【００４２】図５は光学素子１７の保持方法を示してお
り、レーザホルダ９ｂにスナップフィットで保持する手
段を示している。レーザホルダ９ｂには光軸方向に弾性
変形可能なスナップフィット部９ｅと９ｆが形成されて
おり、光学素子１７を矢印方向から組み付け、レーザホ
ルダ９ｂにスナップフィット部９ｅ、９ｆで付勢するよ
うになっている。光学素子１７の光軸方向と垂直面内の
位置は、同期検知器１８の受光面１８ａにレーザ光束が
検知されるよう精度良く位置決めされる必要がある。そ
のため、光学素子１７の両脇にはレーザホルダ９ｂから
位置決めリブ９ｇと９ｈを突出させて、その間に光学素
子１７を嵌合気味で挿入するようになっている。

【００４３】光学素子１７の組付け方向における位置決
めは、光学素子１７から半球状の突起部１７ａ、１７
ｂ、１７ｃ、１７ｄを突出させレーザホルダ９ｂからは
引掛け部９ｉ、９ｊを突出させることによって突起部１
７ａ、１７ｃを引掛け部９ｉ、９ｊに係合させることに
より行う。スナップフィット部９ｅ、９ｆは、突起部１
７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄの間を対向側から付勢し
ており、光学素子１７の光軸方向の位置と光軸と垂直方
向の軸周りの回転を規制している。

【００４４】また、光学素子１７のレーザホルダ９ｂへ
の保持方法はスナップフィットに限らず、レーザホルダ
９ｂまたは光学素子１７から位置決め部材を突出させ
て、レーザホルダ９ｂに対する光学素子１７の位置決め
を行い、固定は別体の弾性部材で行ってもよい。更にレ
ーザホルダ９ｂのスナップフィット部９ｅ、９ｆは光軸
方向に弾性変形可能な形態としたが、光軸と垂直方向に
弾性変形可能な形態でも良く、その場合は光学素子１７
は位置決めリブ９ｇ、９ｈのどちらかに付勢される構成
となる。

【００４５】なお、光学素子１７の該レンズを通過する
レーザ光束に対する姿勢は、レーザ光束に対して光学素
子１７が正対しているとマルチビーム光源への戻り光が
発生する場合があるため、光学素子１７はレーザ光束に
対して傾けて配置するのがよい。

【００４６】本実施の形態では、同期検知器１８が同期
検知器１８に検知されるレーザ光束がＦθレンズ１４を
介さない位置に配置されている構成としたが、Ｆθレン
ズ１４を通過したレーザ光束を同期検知器１８で検知す
る構成でも良い。図６はその構成を示した走査光学装置
の斜視図である。この図において１９は同期検知ミラー
であり、その他の構成は本実施例と同様であり、同じ符
号は同じ部材を表している。同期検知規制部１６ａはＦ
θレンズ１４の集光点に配置されており、これにより各
々のレーザ光束の書き出し位置の相対ずれ量をなるべく
抑えることができる。

【００４７】例えば、Ｆθレンズ１４を通さず、同期検
知用光学系１５の集光点に同期検知規制部１６ａが配置
された構成では、各レーザ光束の画像上での書き出し位
置の相対ずれは、Ｆθレンズ１４の焦点距離と同期検知
用光学系１５の焦点距離との比率に比例する。例えば上
記比率が３：１の場合、同期検知器１８で生じた各レー
ザ光束の検知タイミングの相対ずれ量が、画像上では３
倍の書き出し位置ずれ量となる。しかし同期検知規制部
１６ａがＦθレンズ１４の集光点に配置された構成で
は、同期検知規制部１６ａで生じた各レーザ光束の検知
タイミングの相対ずれ量と画像上での書き出し位置の相
対ずれ量が同じになるため、書き出し位置の相対ずれ量
をなるべく抑えることができる。

【００４８】このように、同期検知器１８のパッケージ
部１８ｂの外形を直接レーザホルダ９ｂに係合させて同
期検知器１８をレーザホルダ９ｂに位置決めし、その対
向側に光学素子１７をレーザホルダ９ｂに位置決めする
ための位置決めリブ９ｇ、９ｈとスナップフィット９
ｅ、９ｆを設けることにより、レーザホルダ９ｂに対す
る同期検知器１８と光学素子１７の位置を精度良く位置
決めすることが可能となり、加えて同期検知器１８と光
学素子１７との相対位置を精度良く位置決めすることが
可能となる。したがってマルチビーム光源ユニット９の
回転調整後もレーザ光束を確実に同期検知器１８の受光
面１８ａに取り込むことができる。

【００４９】（実施の形態２）図７は本発明の実施の形
態２に係るマルチビーム光源ユニットの斜視図である。

【００５０】この図において２０ａ、２０ｂはレーザホ
ルダ９ｂに光学素子１７を固定するための接着剤であ
り、その他の構成は実施の形態１と同様であり、同じ符
号は同じ部材を表し説明は省略する。

【００５１】上述の構成において、光学素子１７は実施
の形態１と同様にレーザホルダ９ｂから突出したスナッ
プフィット部９ｅと９ｆによってレーザホルダ９ｂに付
勢されている。マルチビーム光源において、同期検知器
１８で各々のレーザ光束を検知する必要がある場合、同
期検知器１８は高速な応答性を有したものが要求され
る。

【００５２】そのため、信号検知センサ受光部の大きさ
はなるべく小さなものが良い。センサ受光部の大きさが
小さくなると、レーザ光束を同期検知器受光部へ集光さ
せるための光学素子１７の同期検知器１８に対する位置
決め精度も高精度に行う必要があり、単純に光学素子１
７をレーザホルダ９ｂに組み付けただけでは位置精度を
出すことが困難になる。

【００５３】そこで、光学素子１７をスナップフィット
９ｅと９ｆでレーザホルダ９ｂへ付勢した後、光軸方向
と垂直な面内で移動可能な構成として、光学素子１７を
通過したレーザ光束が同期検知器１８の受光面に全て入
るような位置に光学素子１７の位置調整を行い、その位
置で接着剤２０ａ、２０ｂを用いて光学素子１７とレー
ザホルダ９ｂを固定する。接着剤２０ａ、２０ｂは少時
間で硬化する紫外線硬化型接着剤などが良い。

【００５４】このように、同期検知器１８の受光部が小
さく光学素子１７のレーザホルダ９ｂへの位置決めが困
難な場合は、光学素子１７の位置調整を行い、その後に
光学素子１７とレーザホルダ９ｂを接着剤で固定するこ
とにより、実施例１と同様な構成となり、同様の作用を
得ることができる。

【００５５】

【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。

【００５６】マルチビーム光源ユニットの回転調整後も
レーザ光を同期検知器で確実に検知することが可能なた
め、組立てラインにおいて回転調整量のばらつきによる
歩留まりの悪化をなくすことができより低コストな走査
光学装置を実現できる。また、同期検知器と光学素子を
マルチビーム光源ユニットに精度良く位置決め保持する
ことにより、同期検知器をマルチビーム光源と同一基板
に取付けることができるため、同期検知器専用の回路基
板が必要なく部品点数を削減でき走査光学装置の低コス
ト化を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態１に係る走査光学装置全体
の斜視図である。

【図２】本発明の実施の形態１に係る走査光学装置のマ
ルチビーム光源ユニットを回転調整しない場合の同期検
知器までの光路を示した図である。

【図３】本発明の実施の形態１に係る走査光学装置のマ
ルチビーム光源ユニットを回転調整した場合の同期検知
器までの光路を示した図である。

【図４】本発明の実施の形態１に係る走査光学装置の同
期検知器の位置決め手段を示した主走査断面図である。

【図５】本発明の実施の形態１に係る走査光学装置のマ
ルチビーム光源ユニットの斜視図である。

【図６】実施の形態１の走査光学装置の他の例である。

【図７】本発明の実施の形態２に係るマルチビーム光源
ユニットの斜視図である。

【図８】従来例の走査光学装置の斜視図である。

【符号の説明】

９ マルチビーム光源ユニット ９ａ 半導体レーザ光源 ９ｂ レーザホルダ ９ｃ コリメータレンズ ９ｄ 回路基板 ９ マルチビーム光源ユニット ９ｅ、９ｆ スナップフィット部 ９ｇ、９ｈ 位置決めリブ １６ａ 同期検知規制部 １０ シリンドリカルレンズ １２ 回転多面鏡 １３ モータ １４ Ｆθレンズ ６ 感光体ドラム １５ 同期検知用光学系 １８ 同期検知器 １１ 開口絞り １６ 光学箱 １６ａ 同期検知規制部 １７ 光学素子 １８ａ 受光面 １８ｂ パッケージ １９ 同期検知ミラー ２０ａ、２０ｂ 接着剤

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA03 AA14 AA43 AA45 AA48 BA56 BA69 BA84 BA89 BA90 BB30 DA02 DA03 2H043 AA02 AB02 AB05 AB11 AB32 AC01 AE16 AE24 2H045 AA01 BA22 BA32 CA88 DA02 5C051 AA02 CA07 DA02 DB04 DB22 DB24 DB30 DC07 5C072 AA03 BA03 DA02 DA04 HA02 HA06 HA09 HA13 HB13 XA05

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】画像情報に応じて各々独立に変調されたレ
   ーザ光を発振する複数の発光点を有する半導体レーザ
   と、該半導体レーザから出射されたレーザ光を略平行光
   とするコリメータレンズと、該半導体レーザと該コリメ
   ータレンズを位置決め保持するホルダと、該ホルダに固
   定された半導体レーザの駆動制御部を有する回路基板
   と、該回路基板上に搭載された同期検知手段とを有する
   マルチビーム光源装置において、 前記同期検知手段の少なくとも一部を前記ホルダに係合
   することにより位置決め保持し、更に、前記レーザ光の
   入射側で前記同期検知手段と対向する位置に該同期検知
   手段にレーザ光を集光する光学素子を設け、該光学素子
   を前記ホルダに係合させて位置決め保持する構成とした
   ことを特徴とするマルチビーム光源装置。
2. 【請求項２】前記同期検知手段はレーザ光を検知する光
   電変換部と、該光電変換部を保護し精度良く形成された
   パッケージ部を有し、該パッケージ部の少なくとも一部
   を前記ホルダに係合することにより位置決め保持するこ
   とを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム光源装
   置。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載のマルチビーム光
   源装置と、該マルチビーム光源装置より出射されたレー
   ザ光を偏向走査する偏向手段と、該偏向手段によって偏
   向走査されたレーザ光を被走査面上に集光する結像光学
   系と、前記同期検知手段にレーザ光を導光する同期検知
   用光学系と、前記マルチビーム光源装置と前記偏向手段
   と前記結像光学系と前記同期検知用光学系とを収容する
   光学箱とを有し、 前記マルチビーム光源装置を前記半導体レーザから出射
   されたレーザ光の光軸周りに回転可能で前記光学箱に任
   意の角度で取付けられていることを特徴とする走査光学
   装置。
4. 【請求項４】前記光学箱は、前記同期検知手段と前記同
   期検知用光学系との間に配置されて同期検知手段へのレ
   ーザ光の入射を規制する同期検知規制部を有することを
   特徴とする請求項３に記載の走査光学装置。