JP2003332699A - 光集積素子、光源装置、レーザビーム走査装置及び画像形成装置 - Google Patents

光集積素子、光源装置、レーザビーム走査装置及び画像形成装置

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JP2003332699A
JP2003332699A JP2002131875A JP2002131875A JP2003332699A JP 2003332699 A JP2003332699 A JP 2003332699A JP 2002131875 A JP2002131875 A JP 2002131875A JP 2002131875 A JP2002131875 A JP 2002131875A JP 2003332699 A JP2003332699 A JP 2003332699A
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photodiode
laser
optical
scanning
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JP2002131875A
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Hideyo Makino
英世 牧野
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型・薄型のパッケージを有する光集積素子
より構成されるコンパクトな光源装置を提供する。 【解決手段】 レーザビームの一部を入射してレーザビ
ームの光出力モニタ信号を生成するフォトダイオード3
07と、複数のレーザビームを出射する半導体レーザア
レイチップ302と、前記フォトダイオード307の信
号処理回路および半導体レーザアレイチップの駆動回路
を有するフォトダイオード回路301と、半導体レーザ
アレイチップ302から出射された複数のレーザビーム
をパッケージ外に偏向するマイクロプリズム303と、
これらを収納するパッケージ300と、レーザビーム出
射面に形成されパッケージ300内に塵埃の進入を防止
するカバーガラス305から構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光集積素子に関
し、さらに詳しくは、複数のレーザビームを出射する光
集積素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、レーザプリンタやデジタル複写
機、ファクシミリなどの情報記録装置は、記録速度の高
速化と共に、記録密度の高密度化が要求されており、複
数のレーザビームにより感光体等記録媒体上を同時に走
査するマルチビーム走査装置や光源装置が多く採用され
ている。ここで、複数のレーザビームを持つ光源として
は、複数の発光点を同一基板上にアレイ状に並べた半導
体レーザアレイが使用されているものもある。この半導
体レーザアレイを用いた従来技術として、特開昭56−
42248号公報、特開平9−26550号公報、及び
特開平8−136841号公報による発明がある。これ
らの公報による発明では、それぞれのレーザ同士の相互
干渉が大きくなることを防止するために半導体レーザア
レイの発光点間隔は100μm以上に設定されていた
が、最近ではアイソレーション技術や半導体製造技術が
向上し、発光点間隔が20μm以下の半導体レーザアレ
イも供給できるようになっている。この半導体レーザア
レイの発光点間隔は、半導体プロセス技術により形成さ
れるため、サブミクロンの高精度が容易に得ることがで
きるようになった。このような発光点間隔の狭い半導体
レーザアレイを光源として用いた場合の利点は、発光点
間隔が狭い場合、各々のビームとビームを整形するコリ
メートレンズの光軸が近接しているので、良好なビーム
径を感光体等の記録媒体上に形成し高画質を得ることが
可能となる点にある。また記録速度の高速化および記録
密度の高密度化を達成するために、半導体レーザアレイ
の発光点が増える場合には、発光点間隔が狭いことは特
に有利である。
【0003】そこで、特開2000−57611公報に
よる発明には、光学記録媒体に向けてレーザ光を発射す
ると共に光学記録媒体からの戻りレーザ光を受光する集
積型受発光素子をハンダ付けでスライドベースに固定す
る方法について開示されている。これによると、光学記
録媒体に対して接近及び離反可能に支持されるスライド
ベースと、このスライドベースに取り付けられ且つ光学
記録媒体に向けてレーザ光を発射すると共に光学記録媒
体からの戻りレーザ光を受光する集積型受発光素子とを
備え、光学記録媒体に対して情報信号の記録及び/又は
再生を行う光学ピックアップ装置において、集積型受発
光素子又は集積型受発光素子を収納するパッケージの少
なくとも一部をハンダ付けの可能な部材で形成すると共
に、この集積型受発光素子が取り付けられるスライドベ
ースの素子取付部には、ハンダ付けの可能なハンダ付け
部を設け、このハンダ付け部にハンダ付けを行って集積
型受発光素子をスライドベースに固定するようにした。
しかし、本公報による発明はレーザカプラをハンダ付け
部によりハンダ付けして、スライドベースに固定するも
のであり、取り付け方法を本願発明とは異にするもので
ある。また、特開平11−273138号公報による発
明には、フロントAPC駆動法により半導体レーザチッ
プの光出力制御を行うことができ、光学ピックアップな
ど他の装置に用いた場合に、その装置の小型化および薄
型化ならびに部品点数の削減および低コスト化をともに
実現することができるとともに、迷光の増加などの特性
の劣化を抑制することができる光半導体装置について開
示されている。これによると、半導体レーザチップと、
半導体レーザチップを収納するパッケージと、パッケー
ジの上面に設けられ、半導体レーザチップのフロント側
の端面からの出射光が取り出される封止用透明部材とを
有する光半導体装置において、封止用透明部材に半導体
レーザチップからの出射光の強度をモニタするための受
光素子が設けられ、受光素子のモニタ電流に応じて半導
体レーザチップの光出力が制御されることを特徴とする
ものである。しかし、本公報による発明は、半導体レー
ザチップからの出射光の強度をモニタするための受光素
子が、カバーガラスの上面に設けられているため、半導
体製造プロセスにより同時に製作することができず、製
造コストが高くなるといった問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来技
術による発光点間隔の狭い半導体レーザアレイでは、そ
れなりに利点はあるが、発光点が多くなると信号ピン数
が多くなり、ボンディングパッドの配置のためパッケー
ジ直径を大きくする必要性が生じ、汎用のCANパッケ
ージでは収まらなくなり、新規に専用のパッケージを必
要とするために開発期間とコストがより多くかかるよう
になり、光源装置自体も大きくなってしまうという問題
がある。そこで、開発期間とコストを節約するために、
光集積素子等に使用されている小型・薄型のパッケージ
を流用する場合もあるが、その欠点としては、駆動信号
の電気接点がピンでないために駆動回路との接続も単純
でなくなり、信号線が長くなってしまう傾向にある。そ
の結果、光出力の立ち上がりが鈍り、ノイズが入りやす
くなり高速駆動には不利になってしまう。本発明は、か
かる課題に鑑み、小型・薄型のパッケージを有する光集
積素子より構成されるコンパクトな光源装置を提供する
ことを目的とする。また、他の目的は、光集積素子の電
気接点とハンダ付けにより取り付けられた小基板を介し
て、機械的・電気的に光集積素子の姿勢を保持固定し、
安定した良好な画像を得ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するために、請求項1は、複数のレーザビームを出射
する半導体レーザアレイチップと、前記レーザビームの
一部を入射して該レーザビームの光出力モニタ信号を生
成するフォトダイオードと、前記フォトダイオードの信
号処理回路および半導体レーザアレイチップの駆動回路
を有するフォトダイオード回路と、前記半導体レーザア
レイチップから出射された複数のレーザビームを前記パ
ッケージ外に偏向するマイクロプリズムと、前記フォト
ダイオード、半導体レーザアレイチップ、マイクロプリ
ズム、フォトダイオード回路を保持、収納するパッケー
ジと、を備えたことを特徴とする。従来のマイクロプリ
ズムを使用した光集積素子は、レーザビームの光出力を
モニタする信号を検出する受光部を、カバーガラスの上
部に別に設けていたり、光学系の一部にその受光部を設
けていた。そのため、専用の受光部を別途作製しなけれ
ばならず、半導体プロセスにより一体化して作製するこ
とができなかった。そこで、マイクロプリズムの反射面
をハーフミラーにしてそのレーザビームの一部を内部に
取り込み、その光をフォトダイオードでモニタする。こ
れにより、レーザビームの発光パワーを間接的にモニタ
して、レーザパワーを一定に制御することができる。か
かる発明によれば、マイクロプリズムの反射面から取り
込んだレーザビームをフォトダイオードでモニタするこ
とにより、レーザパワーを一定に制御可能な小型の光集
積素子を安価に提供することができる。
【0006】請求項2は、前記マイクロプリズムは、前
記レーザビームを偏向する傾斜面を有し、該傾斜面の一
部がハーフミラー機能を有し、該ハーフミラー部の端面
を通して前記フォトダイオードに前記レーザビームの一
部を照射することを特徴とする。マイクロプリズムの傾
斜面をハーフミラーにした場合、傾斜面から反射するレ
ーザビームは一部内部に取り込まれる。従って、その取
り込むレーザビームは可能な限り少ないほうが好まし
い。従来のレーザパワーをモニタする方法は、走査光学
系により主走査方向のデータ以外の端部までビームを走
査して、その部分に受光素子を設置し、その受光素子か
らのビーム強度をモニタして制御していた。そのため、
余分な部品が必要となりコスト的に高い構成であった。
そこで、走査する前のレーザビームそのものをモニタす
る方法として、ハーフミラーによりレーザビームの一部
をモニタすることにより、部品点数を削減してコストの
安価な光集積素子を実現することができる。かかる発明
によれば、マイクロプリズムの傾斜面をハーフミラーに
することにより、レーザビームの偏向とモニタが同時に
実現可能となる。請求項3は、前記フォトダイオードは
前記フォトダイオード回路の端部にその受光面を上にし
て形成され、該フォトダイオードに隣接して前記マイク
ロプリズムと半導体レーザアレイチップが前記フォトダ
イオード回路上に形成されていることを特徴とする。フ
ォトダイオード回路は、信号光検出用のフォトダイオー
ドのほか、これらのフォトダイオード用の信号処理回路
および半導体レーザアレイチップの駆動回路などがIC
化されたものである。従って、フォトダイオード、マイ
クロプリズム、半導体レーザアレイチップはその上に形
成するのが適当である。また、半導体レーザアレイチッ
プはマイクロプリズムとの高さを合わせるために、Si
スペーサ上に形成される。これにより、半導体レーザア
レイチップのフロント側の端面から出射されるレーザ光
が、フォトダイオード回路の表面で反射されて雑音光と
なるのを防止することができる。かかる発明によれば、
フォトダイオード回路上にフォトダイオード、マイクロ
プリズム、半導体レーザアレイチップが隣接されて形成
されるので、レーザビームの偏向とモニタが同時に実現
可能となる。
【0007】請求項4は、請求項1乃至3の何れか一項
に記載の光集積素子と、該光集積素子を機械的、電気的
に一体化する小基板と、該小基板に設けられたピンコン
タクトにより導通され外部の制御信号に基づいて前記光
集積素子を制御、駆動する制御駆動回路部と、前記小基
板を保持固定するホルダと、該ホルダに設けられたツバ
部に固定され前記光集積素子から出射されるレーザビー
ムを平行光とするコリメートレンズと、前記ツバ部に被
せ前記レーザビームの光束を規制するアパーチャと、前
記小基板、光集積素子を搭載したホルダを保持固定する
ブラケットと、を備えたことを特徴とする。複数の発光
点を有する光集積素子は、電気的な回路パターンが形成
された小基板上にハンダ付けされる。また、この小基板
は機械的に保持するためにホルダにねじ止めされ、更
に、小基板には外部からの信号の授受のためのピンが備
えられ、そのピンを介して制御駆動回路部と接続され
る。また、ホルダに開口された穴にコリメートレンズと
アパーチャが固定される。このように、ホルダ、光集積
素子、小基板、制御駆動回路部が有機的に一体化され一
つのサブユニットを形成する。このサブユニットをブラ
ケットに保持固定する。かかる発明によれば、各部品が
サブユニットとしてホルダに固定されるので、サブユニ
ット単位で調整が可能となり、メンテナンスも容易とな
る。請求項5は、前記小基板が、レーザビームの副走査
方向に対して所定の角度傾けて配置することを特徴とす
る。複数の発光点を備えた光集積素子の発光点間隔は一
定であるが、副走査方向に対して傾けることにより、レ
ーザスポットのピッチ間隔を狭くすることができる。つ
まり、光集積素子の副走査方向に対する傾斜角により、
任意にレーザスポットのピッチ間隔を設定することが可
能であることを意味している。かかる発明によれば、光
集積素子の副走査方向に対する傾斜角を調整することに
より、レーザスポットのピッチ間隔を変更できるので、
光集積素子を作製することが容易となり、しかも、画素
密度に対応したピッチ間隔を設定することができる。
【0008】請求項6は、請求項4又は5に記載の光源
装置と、該光源装置から出射されたレーザビームを偏向
走査する光学系と、該光学系により偏向走査並びに収束
されたレーザビームにより露光される記録媒体と、該記
録媒体の有効走査領域外に設けられ1走査毎の走査方向
に前記レーザビームを検知して書き出し位置の同期をと
る光検出器と、を備えたことを特徴とする。光集積素子
の副走査方向に対する傾斜角が装置の記録密度に応じて
設定され、その光源装置から出射される複数のレーザビ
ームを光学系により偏向走査される。その偏向走査され
たレーザビームが記録媒体上を走査することにより、潜
像が形成される。また、レーザパワーの制御は光集積素
子内のフォトダイオードの信号に基づいて制御される
が、主走査方向の書き出し位置の同期は、別の光検出器
の信号に基づいて行なわれる。かかる発明によれば、複
数のレーザビームからなる光源装置を備えたことによ
り、各種記録密度に対応したレーザビーム走査装置を実
現することができる。請求項7は、請求項6に記載のレ
ーザビーム走査装置と、該レーザビーム走査装置により
形成された潜像に基づいてトナー像を形成する現像装置
と、該トナー像を記録用紙に転写する転写装置と、前記
記録用紙上に転写されたトナー像を固着する定着装置
と、を備えたことを特徴とする。複数のレーザビームを
備えたレーザビーム走査装置により、感光体上に形成さ
れた潜像にトナーを付着させてトナー像を形成し、この
トナー像を記録用紙側に転写、定着することにより画像
が形成される。そして、レーザビーム走査装置が記録密
度に対応してレーザスポットのピッチ間隔を設定する。
かかる発明によれば、画像形成装置が複数のレーザビー
ムを備えたレーザビーム走査装置を備えるので、記録密
度の異なる画像を適宜形成することができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示した実施形
態を用いて詳細に説明する。但し、この実施形態に記載
される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配
置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそ
れのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎな
い。図1は、本発明の実施形態に係る光集積素子の斜視
図である。また、図2はその断面図である。図に示され
るようにこの光集積素子は、レーザビームの一部を入射
してレーザビームの光出力モニタ信号を生成するフォト
ダイオード307と、複数のレーザビームを出射する半
導体レーザアレイチップ302と、前記フォトダイオー
ド307の信号処理回路および半導体レーザアレイチッ
プの駆動回路を有するフォトダイオード回路301と、
半導体レーザアレイチップ302から出射された複数の
レーザビームをパッケージ外に偏向するマイクロプリズ
ム303と、これらを収納するパッケージ300と、レ
ーザビーム出射面に形成されパッケージ300内に塵埃
の進入を防止するカバーガラス305から構成されてい
る。ここで、半導体レーザアレイチップ302は、そこ
から出射するレーザビームの位置とマイクロプリズム3
03の斜面303aが合うように、Siスペーサ306
上に形成される。
【0010】この動作について図1、2を参照して説明
する。半導体レーザアレイチップ302の端面から出射
される複数のレーザビーム304は、隣接するマイクロ
プリズム303の斜面303aで略90°屈折されて上
方に出射され、封止用透明部材であるカバーガラス30
5を透過してパッケージ外に出射される。一方斜面30
3aはハーフミラー構造であり入射したレーザビームの
一部が透過する働きを有している。従って、レーザビー
ム304の一部は反射されずにマイクロプリズム303
の背面に位置したフォトダイオード307に入射され、
これにより得られるモニタ電流に応じて半導体レーザア
レイチップ302の光出力が制御される。ここで、モニ
タ電流は周囲の環境(温度や湿度)の変化や電圧変動に
より変化するので、図示しない帰還回路によりモニタ電
流が少なくなったらレーザビームの光量が減少したと判
断して、光量が増加するようにレーザ駆動電流が制御さ
れる。また、従来のマイクロプリズムを使用した光集積
素子は、レーザビームの光出力をモニタする信号を検出
する受光部を、カバーガラス305の上部に別に設けて
いたり、図示しない光学系の一部にその受光部を設けて
いた。そのため、専用の受光部を別途作製しなければな
らず、半導体プロセスにより一体化して作製することが
できなかった。そこで、マイクロプリズム303の反射
面303aをハーフミラーにして、そのレーザビーム3
04の一部を内部に取り込み、その光をフォトダイオー
ド307でモニタする。これにより、レーザビーム30
4の発光パワーを間接的にモニタして、レーザパワーを
一定に制御することができる。また、マイクロプリズム
303の傾斜面303aをハーフミラーにした場合、傾
斜面303aにより反射するレーザビームは一部内部に
取り込まれる。従って、その取り込むレーザビームは可
能な限り少ないほうが好ましい。従来のレーザパワーを
モニタする方法では、走査光学系により主走査方向のデ
ータ以外の端部までビームを走査して、その部分に受光
素子を設置し、その受光素子からのビーム強度をモニタ
して制御していた。そのため、余分な部品が必要となり
コスト的に高い構成であった。そこで、走査する前のレ
ーザビームそのものをモニタする方法として、ハーフミ
ラーによりレーザビームの一部をモニタすることによ
り、部品点数を削減してコストの安価な光集積素子を実
現することができる。
【0011】図3は本発明の一実施形態に係る8ビーム
走査装置の光源装置の構成図である。ここで矢印のA方
向は主走査方向、B方向は副走査方向、C方向は光軸方
向を示すものとする。この光源装置は、図1、図2で説
明した光集積素子1と、この光集積素子1を機械的、電
気的に一体化する小基板4と、この小基板4に設けられ
たピンコンタクト4bにより導通され、外部の制御信号
に基づいて光集積素子1を制御、駆動する制御駆動回路
部3と、小基板4を保持固定するホルダ2と、このホル
ダ2に設けられたツバ部2aに固定され、光集積素子1
から出射されるレーザビームを平行光とするコリメート
レンズ5と、ツバ部2aに被せレーザビームの光束を規
制するアパーチャ6と、小基板4と、光集積素子1を搭
載したホルダ2を保持固定するブラケット7より構成さ
れている。光集積素子1は小基板4にその電気接点1a
と小基板4上のパッド4aとをハンダによりハンダ付け
され、機械的・電気的に一体化されている。また、小基
板4には外部の回路との信号接続のためのピンコンタク
ト4bがあり、これを介して制御駆動回路部3との信号
のやり取りを行い光集積素子1を制御・駆動する。ま
た、光集積素子1と一体化した小基板4はネジ8により
ホルダ2に取り付けられる。この時、図3(b)のよう
に光集積素子1の8つの発光点P1〜P8はB方向の副
走査方向に対して角度θだけ傾けて配置されるように、
図示しない位置決め治具や位置決めボスなどを用いて小
基板4がホルダ2に固定される。また、コリメートレン
ズ5は、ホルダ2のツバ部2aに紫外線硬化樹脂10を
用いて固定されるが、その方法は半導体レーザアレイ1
を発光させながらコリメートレンズ5をA,B,Cの3
方向に微小量移動させながら光軸位置とコリメート調整
位置を決定する。その後、紫外線を照射してコリメート
レンズ5をツバ部2aに固定し、そしてその上からアパ
ーチャ6を被せサブアッセンブリが完成する。次に、こ
のサブアッセンブリはブラケット7の嵌合穴7aに、ホ
ルダ2の嵌合軸2bが挿入されてネジ9により固定され
る。このとき、8つの発光点P1〜P8がB方向の副走
査方向に対して角度θだけ傾けられて配置されるはずで
あるが、サブアッセンブリ全体を嵌合穴7aを軸として
ネジ9のネジ穴に挿入する時に、多少のガタがあるため
そのガタを利用して再補正することは可能である。ここ
で、図3(b)で光集積素子1の発光点間隔をPLD
すると、見かけの発光点間隔PはP=PLD・co
sθとなる。この調整は例えばCCDカメラを用いて発
光点位置を計測することにより容易に可能である。この
後、制御駆動回路部3を取り付けて光源装置は完成す
る。
【0012】図4は本発明の一実施形態に係る光源装置
の搭載したレーザビーム走査装置の概略構成図である。
このレーザビーム走査装置は、図3で説明した光源装置
100と、この光源装置100から出射されたビームを
整えるシリンダレンズ11と、ミラー18と、レーザビ
ームを偏向走査するポリゴンミラー12と、走査ビーム
径を補正するfθレンズ13と、ビームの走査速度を補
正するトロイダルレンズ14と、走査ビームの経路を偏
向するミラー15と、カバーガラス20と、レーザビー
ムの潜像を記録する記録媒体16と、この記録媒体16
の有効走査領域外に設けられ1走査毎の走査方向にレー
ザビームを検知して書き出し位置の同期をとる光検出器
17から構成されている。このレーザビーム走査装置は
公知のレーザビーム走査装置の構成であり、これ以外の
構成であっても構わない。このレーザビーム走査装置の
概略動作では、光源装置100内の光集積素子1から発
光した各々のレーザビームは、コリメートレンズ5によ
ってビームを整形され、アパーチャ6にて光束が規制さ
れて、シリンダレンズ11、ミラー18を介してポリゴ
ンミラー12からなる偏向走査手段に入射される。この
ポリゴンミラー12を回転させることにより、主走査方
向に繰り返し走査される。ポリゴンミラー12で反射さ
れたレーザビームは、結像系であるfθレンズ13とト
ロイダルレンズ14により収束光となり、ミラー15、
カバーガラス20を介してビームウェスト位置である結
像位置に配置された記録媒体16等の被走査面22上に
光スポットとして投影される。図示した例では、有効走
査巾の領域外にミラー19、光検知器17を設けてお
り、一走査毎の走査方向にレーザビームを検知し書き出
し位置の同期をとっている。
【0013】図5は、図3の光源装置より射出された記
録媒体16上の8つのレーザスポットを示している。図
示した例は書き出し位置でのレーザスポットの静止位置
を示している。レーザスポット(ch1〜ch8)は副
走査方向に対して角度θだけ傾けられて配置されてい
る。ここでPは副走査方向のレーザスポットのピッチ間
隔であり、画像密度間隔(1200dpiの場合は2
1.2μm、600dpiの場合は42.3μmにな
る)に相当するように角度θが決められ、画像密度が高
くなるほど角度θが大きくなるように調整配置されてい
る。また、光集積素子1の発光点間隔PLDは、主走査
方向のch1のビームを基準として等間隔に配置され、
ch2〜ch8はそれぞれ、a〜gの間隔に配置され
る。ここで理想的にはbの間隔はaの2倍、cの間隔は
aの3倍、のように同様にgの間隔はaの7倍になるよ
うにするのが好ましい。例として、発光点間隔P
LD(aの間隔)を14μmとすると、今回の走査装置
においては1200dpiの場合、P0=21.2μm
であるから、PLD=50μm程度となった。このよう
に、複数のレーザビームを備えたレーザビーム走査装置
により、感光体16上に形成された潜像にトナーを付着
させてトナー像を形成し、このトナー像を記録用紙側に
転写、定着することにより画像が形成される。そして、
レーザビーム走査装置が記録密度に対応してレーザスポ
ットのピッチ間隔を設定することにより、記録密度の異
なる画像を適宜形成することができる画像形成装置を提
供することができる。
【0014】
【発明の効果】以上記載のごとく請求項1の発明によれ
ば、マイクロプリズムの反射面から取り込んだレーザビ
ームをフォトダイオードでモニタすることにより、レー
ザパワーを一定に制御することが可能な小型の光集積素
子を安価に提供することができる。また請求項2では、
マイクロプリズムの傾斜面をハーフミラーにすることに
より、レーザビームの偏向とレーザパワーのモニタが同
時に実現可能となる。また請求項3では、フォトダイオ
ード回路上にフォトダイオード、マイクロプリズム、半
導体レーザアレイチップが隣接されて形成されるので、
レーザビームの偏向とモニタが同時に実現可能な光集積
素子を小型に構成することができる。また請求項4で
は、各部品がサブユニットとしてホルダに固定されるの
で、サブユニット単位で調整が可能となり、工数の低減
とメンテナンスを容易にすることができる。また請求項
5では、光集積素子の副走査方向に対する傾斜角を調整
することにより、レーザスポットのピッチ間隔を変更で
きるので、光集積素子を作製することが容易となり、し
かも、画素密度に対応したピッチ間隔を設定することが
できる。また請求項6では、複数のレーザビームからな
る光源装置を備えたことにより、各種記録密度に対応し
たレーザビーム走査装置を実現することができる。また
請求項7では、画像形成装置が複数のレーザビームを備
えたレーザビーム走査装置を備えるので、記録密度の異
なる画像を適宜形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る光集積素子の斜視図で
ある。
【図2】本発明の実施形態に係る光集積素子の断面図で
ある。
【図3】本発明の一実施形態に係る8ビーム走査装置の
光源装置の構成図である。
【図4】本発明の一実施形態に係る光源装置の搭載した
レーザビーム走査装置の概略構成図である。
【図5】本発明の光源装置より射出された記録媒体上の
8つのレーザスポットを示す図である。
【符号の説明】
300 パッケージ、301 フォトダイオード回路、
302 半導体レーザアレイチップ、303 マイクロ
プリズム、305 カバーガラス、307 フォトダイ
オード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H04N 1/036 B41J 3/00 D 1/113 H04N 1/04 104A Fターム(参考) 2C362 AA07 AA13 AA45 BA82 BA89 DA03 DA08 2H045 BA23 BA33 CA88 CB33 CB42 5C051 AA02 CA07 DA02 DB02 DB04 DB21 DB30 DC02 DC04 DC05 DC07 DE29 FA01 5C072 AA03 BA01 BA03 DA10 HA02 HA06 HA09 HA10 HA13 HB08 HB11 XA01 XA05 5F073 AB05 AB29 BA07 EA14 EA15 EA29 FA03 FA06 FA30

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のレーザビームを出射する半導体レ
    ーザアレイチップと、前記レーザビームの一部を入射し
    て該レーザビームの光出力モニタ信号を生成するフォト
    ダイオードと、前記フォトダイオードの信号処理回路お
    よび半導体レーザアレイチップの駆動回路を有するフォ
    トダイオード回路と、前記半導体レーザアレイチップか
    ら出射された複数のレーザビームをパッケージ外に偏向
    するマイクロプリズムと、これらを保持、収納するパッ
    ケージと、を備えたことを特徴とする光集積素子。
  2. 【請求項2】 前記マイクロプリズムは、前記レーザビ
    ームを偏向する傾斜面を有し、該傾斜面の一部がハーフ
    ミラー機能を有し、該ハーフミラー部の端面を通して前
    記フォトダイオードに前記レーザビームの一部を照射す
    ることを特徴とする請求項1に記載の光集積素子。
  3. 【請求項3】 前記フォトダイオードは、前記フォトダ
    イオード回路の端部にその受光面を上にして形成され、
    該フォトダイオードに隣接して前記マイクロプリズムと
    半導体レーザアレイチップが前記フォトダイオード回路
    上に形成されていることを特徴とする請求項1又は2に
    記載の光集積素子。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3の何れか一項に記載の光
    集積素子と、該光集積素子を機械的、電気的に一体化す
    る小基板と、該小基板に設けられたピンコンタクトによ
    り導通され外部の制御信号に基づいて前記光集積素子を
    制御、駆動する制御駆動回路部と、前記小基板を保持固
    定するホルダと、該ホルダに設けられたツバ部に固定さ
    れ前記光集積素子から出射されるレーザビームを平行光
    とするコリメートレンズと、前記ツバ部に被せ前記レー
    ザビームの光束を規制するアパーチャと、前記小基板、
    光集積素子を搭載したホルダを保持固定するブラケット
    と、を備えたことを特徴とする光源装置。
  5. 【請求項5】 前記小基板を、レーザビームの副走査方
    向に対して所定の角度傾けて配置することを特徴とする
    請求項4に記載の光源装置。
  6. 【請求項6】 請求項4又は5に記載の光源装置と、該
    光源装置から出射されたレーザビームを偏向走査する光
    学系と、該光学系により偏向走査並びに収束されたレー
    ザビームにより露光される記録媒体と、該記録媒体の有
    効走査領域外に設けられ1走査毎の走査方向に前記レー
    ザビームを検知して書き出し位置の同期をとる光検出器
    と、を備えたことを特徴とするレーザビーム走査装置。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載のレーザビーム走査装置
    と、該レーザビーム走査装置により形成された潜像に基
    づいてトナー像を形成する現像装置と、該トナー像を記
    録用紙に転写する転写装置と、前記記録用紙上に転写さ
    れたトナー像を固着する定着装置と、を備えたことを特
    徴とする画像形成装置。
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