JP2003266777A

JP2003266777A - マルチビーム光源装置及びこのマルチビーム光源装置を備えた光走査装置

Info

Publication number: JP2003266777A
Application number: JP2002075836A
Authority: JP
Inventors: Katsuyuki Yanagisawa; 勝之柳沢
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 2002-03-19
Filing date: 2002-03-19
Publication date: 2003-09-24

Abstract

(57)【要約】【課題】半導体レーザアレイの各発光点位置の誤差を
小さくし、良質な画質を得ることができるマルチビーム
光源装置及びこれを備えた光走査装置を得る。【解決手段】半導体レーザ保持体１６を用いて、一つ
の半導体レーザ１２を位置決めした後、位置決めされた
半導体レーザ１２の発光素子３４の位置に対して光軸方
向に沿って相対的に、半導体レーザ１４を調整すること
で、半導体レーザ１２の発光素子３４と半導体レーザ１
４の発光素子３４との光軸方向の位置を一致させること
ができる。このため、発光素子３４と発光素子３６との
光軸方向の位置ずれを小さくすることができ、レーザビ
ームのＷａｉｓｔ位置の深度ずれをなくし、複数のレー
ザビーム間で感光体上でのビーム径を一致させることが
できるので、良好な画質を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はレーザビームプリン
タやデジタル複写機等の画像形成装置の走査光学系に使
用されるマルチビーム光源装置およびこのマルチビーム
光源装置を備えた光走査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、画像記録に用いられる光走査
装置において、記録速度を上げる手段として、複数のレ
ーザビームを同時に書き込む装置が開発されており、例
えば特開平１１−２４２１７０号公報では、複数の発光
素子が配設された半導体レーザアレイを利用した光走査
装置が示されている。

【０００３】また、特開２０００−７５２２６号公報で
は、複数の発光素子を近接させた状態で、複数のレーザ
ビームを同時に書き込む方式の光走査装置が示されてお
り、何れも光偏向器の回転速度を上げることなく記録速
度又は、記録密度を向上させる目的を達成している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
１１−２４２１７０号公報で示された例では、１つの半
導体レーザアレイから出射される複数のレーザビームの
波長は、製造過程のバラツキによりそれぞれ異なってし
まう場合があり、異なる波長のレーザビームで共通の光
学系を通過させ感光体上を走査すると、図５に示すよう
に、走査幅（Ｌ₁、Ｌ₂）が違ってしまうという不具合が
発生する。

【０００５】また、図６（Ａ）に示すように、半導体レ
ーザアレイ１００製造過程のバラツキにより発生する発
光素子１０３、１０５の光軸方向の誤差ｔの影響は、図
６（Ｂ）に示すように、レーザビームのＷａｉｓｔ位置
の深度ずれとなって現れ、感光体（図示省略）上でビー
ム径が一致せず、良好な画質が得られ難くなってしま
う。

【０００６】さらに、図７（Ａ）、（Ｂ）に示すように
（なお、図７（Ａ）は平面図であり、図７（Ｂ）は
（Ａ）の右側面図である）、発光素子１０３、１０５の
位置は、半導体レーザアレイ１００の製造上の理由によ
り規格化されてしまうため、通常の光学系で使用する場
合、画像形成装置（図示省略）の書込み密度と光学倍率
により、発光素子１０３、１０５はいわゆる主走査方向
と略平行に並べられた位置関係で使用される。

【０００７】この場合、図７（Ｃ）に示すように、発光
素子１０３、１０５の接合面１０３Ａ、１０５Ａは、主
走査方向と略平行となり、出射されるレーザビームは、
図７（Ｄ）に示すように、一般的に縦長のレーザビーム
が重なりあった状態となるが、倒れ補正光学系の場合、
主走査方向に横長な開口１０７を設けるため、出射光量
を有効に使うことが難しいという問題が発生する。

【０００８】一方、特開２０００−７５２２６号公報で
示された例では、図８に示すように、半導体レーザ１１
０、１１２の光偏向器１２０への入射角が異なってお
り、感光体１２４上の走査幅は同一でも、走査位置が異
なってしまう。

【０００９】このため、複数のレーザビームＬ₃、Ｌ₄を
共通に使える領域（Ｌ）が狭くなってしまい、光偏向器
１２０やｆθレンズ１２２などを大型化する必要があ
り、コストが上昇する。光偏向器１２０を大型化する
と、光偏向器１２０の負荷が大きくなり、騒音の増大、
消費電力の増大による発熱量が高まり、結果的に光偏向
器１２０の軸受の寿命が短くなるなどの問題が発生す
る。

【００１０】また、シリンドリカルレンズ１１８を通過
後の光学部品は共通ではあるが、コリメートレンズ１１
４、１１６は半導体レーザ１１０、１１２の数だけ必要
となるため、レンズ精度のバラツキの影響は避けられ
ず、それぞれ調整が必要となる。

【００１１】このため、図示はしないが、コリメートレ
ンズをできるだけ近接させるため、コリメートレンズ保
持用のホルダーを用いて、直接コリメートレンズを保持
し、コリメートレンズの位置調整ができるようにしてい
るが、コリメートレンズの位置決めを行った後、接着剤
が硬化するまでその位置を維持しなければならないた
め、非常に高価な生産設備を必要とする。

【００１２】さらに、コリメートレンズを並べて配置す
るため、発光素子の間隔は、少なくとも１０ｍｍ程度は
必要となってしまう。このため、発光素子の間隔が、熱
変形によりその影響を受けてしまうという問題も有して
いる。

【００１３】本発明は上記事実を考慮し、半導体レーザ
アレイの各発光点位置の誤差を小さくし、また、良質な
画質を得ることができるマルチビーム光源装置及びこの
マルチビーム光源装置を備えた光走査装置を得ることを
目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明で
は、複数の光源を一体的に保持する保持体が備えられて
いる。この保持体には調整手段が設けられており、複数
の光源の発光点位置を光源の光軸方向に沿って相対的に
調整可能としている。

【００１５】これにより、一つの光源の発光点位置を位
置決めした後、位置決めされた光源の発光点位置に対し
て光源の光軸方向に沿って相対的に、他の光源の発光点
位置を調整することで、複数の光源の光軸方向に沿って
発光点位置を正確にそろえることができる。

【００１６】このため、発光点位置の光軸方向の誤差を
小さくすることができ、レーザビームのウエスト位置の
深度ずれをなくし、複数のレーザビーム間でビーム径も
揃い、良好な画質を得ることができる。また、光源を波
長によって選択的に組み合わせることで、光源の波長差
による走査幅のバラツキを防止することができる。

【００１７】請求項２に記載の発明では、光源のフレー
ムからはフランジが張り出している。一方、保持体には
光源の光軸方向に沿って溝部が形成されており、この溝
部にフランジが圧入される。

【００１８】このように、保持体に対して光源を圧入し
て位置調整を行うことで、位置調整を行うために駆動装
置等を必要としないため、低コストで実現できる。ま
た、部品点数を最小限に抑えることができるため、生産
時の精度のバラツキも小さくなり、結果的に効果の維持
性も高い。

【００１９】請求項３に記載の発明では、複数の光源の
発光部の接合面を平行にしている。これにより、レーザ
ビームの広がり角が広い方向を各レーザビームで同一に
することができるため、光学部品の反射角による光量比
を全てのレーザビームで略同一とすることができ、良好
な画質を得ることができる。

【００２０】請求項４に記載の発明では、光源を発光素
子開放型半導体レーザとし、発光部の接合面を主走査方
向と略直交する方向にしている。光源を発光素子開放型
半導体レーザとすることで、発光部を対向させた状態で
半導体レーザを保持体に位置決めさせることができ、発
光点間隔を充分近接させることが可能となる。

【００２１】このため、温度上昇による保持体の熱変形
により発光点間隔に影響を及ぼすことはない。また、発
光点間隔を充分近接させることで、複数の発光点で一つ
のコリメートレンズを共有させることができる。

【００２２】さらに、発光部の接合面を主走査方向と略
直交する方向にすることで、レーザビームの広がり角が
広い方向を偏向方向と平行にすることができるので、有
効走査幅を単一のレーザビームの時とほぼ同等に利用す
ることができる。このため、光学絞りの開口による光量
低下を最小限に留めることができる。

【００２３】請求項５に記載の発明では、光走査装置に
請求項１〜４の何れかに記載のマルチビーム光源装置を
備えている。これにより、走査幅のバラツキが小さい、
良好な画質を得ることができる。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係るマルチ
ビーム光源装置について説明する。

【００２５】図１及び図２（Ａ）、（Ｂ）には、マルチ
ビーム光源装置１０（図３参照）に備えられた発光素子
開放型半導体レーザ１２、１４（以下、「半導体レーザ
１２、１４」という）及び半導体レーザ１２、１４が保
持される半導体レーザ保持体１６が示されている（な
お、図２（Ａ）は半導体レーザ保持体１６の裏面図であ
り、図２（Ｂ）は半導体レーザ保持体１６の縦断面図で
ある）。

【００２６】半導体レーザ保持体１６は、略矩形状を成
しており、中央部には略直方体状の半導体レーザ収容部
１８が形成されている。この半導体レーザ収容部１８の
上面１６Ａ側の周縁からは、外壁を環状にしたリブ２０
が立設しており、半導体レーザ収容部１８の内壁には、
一対の溝部２２、２４が対面してそれぞれ形成されてい
る。

【００２７】溝部２２は半導体レーザ保持体１６の上面
１６Ａに対して直交する方向に、半導体レーザ保持体１
６の裏面１６Ｂからリブ２０の先端面に架けて形成され
ており、溝部２４は溝部２２に対して平行に、半導体レ
ーザ保持体１６の裏面１６Ｂから所定の位置まで形成さ
れ、溝部２２よりも短くなっている。

【００２８】一方、半導体レーザ１２、１４は、半導体
レーザ収容部１８内に収容可能となっており、直方体に
形成されたフレーム２６、２８をそれぞれ備えている。
このフレーム２６、２８の後端には、３本のリード３
０、３２がそれぞれ半田付けされており、フレーム２
６、２８の先端中央部には、表面２６Ａ、２８Ａ側に発
光素子３４、３６（後述する）がそれぞれ配設され、大
気中に露出している（いわゆる発光素子開放型）。さら
に、フレーム２６、２８の両側面側からは、フランジ部
３８、４０がそれぞれ張り出している。

【００２９】ここで、半導体レーザ収容部１８の溝部２
２、２４が形成された内壁の離間距離は、フレーム２
６、２８が挿通可能な幅となっており、溝部２２及び溝
部２４には、フランジ部３８及びフランジ部４０が係合
可能となっている。溝部２２及び溝部２４の幅は、フラ
ンジ部３８及びフランジ部４０の肉厚と略同一にしてい
る。

【００３０】次に、マルチビーム光源装置の組立・調整
方法について説明する。

【００３１】図１及び図２（Ｂ）に示す半導体レーザ１
２のフレーム２６の表面２６Ａを、次に半導体レーザ収
容部１８内へ収容させる半導体レーザ１４と対面可能と
なる向きにした状態で、フレーム２６の先端側を半導体
レーザ保持体１６の裏面１６Ｂ側から挿入し、フランジ
部３８を溝部２４へ係合させる。

【００３２】ここで、溝部２４の幅は、フランジ部３８
の肉厚と略同一であるため、半導体レーザ１２のフラン
ジ部３８を溝部２４内へ圧入する。また、この溝部２４
は、半導体レーザ保持体１６の裏面１６Ｂから所定の位
置までしか形成されていないため、フランジ部３８が溝
部２２の奥壁へ当接するまで半導体レーザ１２を移動さ
せ、半導体レーザ１２を半導体レーザ収容部１８内で固
定させる。

【００３３】次に、半導体レーザ１４のフレーム２８の
表面２８Ａの向きを、既に半導体レーザ収容部１８内へ
収容された半導体レーザ１２のフレーム２６の表面２６
Ａと対面可能な向きに合わせ、半導体レーザ１２の表面
２６Ａに配設された発光素子３４と半導体レーザ１４の
表面２８Ａに配設された発光素子３６とが対面可能とな
るようにする。

【００３４】この状態で、半導体レーザ１４のフレーム
２８の先端側を半導体レーザ保持体１６の裏面１６Ｂ側
から挿入し、フランジ部４０を溝部２２へ係合させる。
ここで、溝部２２の幅は、フランジ部４０の肉厚と略同
一であるため、半導体レーザ１４のフランジ部４０を溝
部２２内へ圧入する。また、溝部２２は半導体レーザ保
持体１６の裏面１６Ｂからリブ２０の先端面に架けて形
成されているため、半導体レーザ１４の移動量は溝部２
２の間でフリーとなっている。

【００３５】このため、図示しない光学顕微鏡やＣＣＤ
カメラなど非接触の状態で発光素子３４、３６の位置を
検出できる装置によって、半導体レーザ１２の発光素子
３４を観察しながら半導体レーザ１４を移動させて、発
光素子３６と発光素子３４とのレーザビームの光軸方向
の位置が一致したら、半導体レーザ１４を移動停止して
半導体レーザ１４を固定する。

【００３６】半導体レーザ１４が固定されると、図３
（Ａ）、（Ｂ）に示すように（なお、図３（Ａ）はマル
チビーム光源装置１０の裏面図を示し、図３（Ｂ）はマ
ルチビーム光源装置１０の縦断面図を示している）、略
平板状の半導体レーザ駆動回路基板４２に形成されたリ
ード挿通用孔部３５内に半導体レーザ１２、１４のリー
ド３０、３２をそれぞれ挿通し、半導体レーザ駆動回路
基板固定ネジ４４で固定した後、リード３０、３２を半
導体レーザ駆動回路基板４２にそれぞれ半田付けして固
定する。

【００３７】この状態で、半導体レーザ１２、１４は、
図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように（なお、図４（Ａ）は
平面図であり、図４（Ｂ）は（Ａ）の右側面図であ
る）、発光素子３４と発光素子３６とが互いに対面して
配置される。図４（Ｃ）には、発光素子３４、３６を拡
大した図が示されており、ＰＮ接合の接合面３４Ａ、３
６Ａが互いに平行となるようにしている。

【００３８】ところで、図３に示すように、コリメート
レンズ４６を保持するコリメートレンズ保持体４８は、
略矩形状を成しており、コリメートレンズ保持体４８の
上面１６Ａ側の中央には、略円筒状の保持壁５０が突設
している。

【００３９】この保持壁５０内には、保持壁５０の基部
側に略直方体状の半導体レーザアレイ収容部５２が設け
られ、保持壁５０の先端側に略円柱状のコリメートレン
ズ収容部５４が設けられている。このコリメートレンズ
収容部５４には、一つのコリメートレンズ４６及び光学
絞り５６とが組み込まれたレンズ鏡筒５８が仮止めされ
る（なお、光学絞り５６はコリメートレンズ４６の近傍
にある必要はない）。

【００４０】一方、半導体レーザアレイ収容部５２に
は、半導体レーザ保持体１６の半導体レーザ収容部１８
が収容可能となっており、半導体レーザアレイ収容部５
２内に半導体レーザ収容部１８を収容させた状態で、半
導体レーザ保持体１６の上面１６Ａとコリメートレンズ
保持体４８の裏面４８Ｂとが面接可能となっている。

【００４１】半導体レーザ保持体１６の上面１６Ａとコ
リメートレンズ保持体４８の裏面４８Ｂとを面接させた
状態で、半導体レーザ駆動回路基板４２と半導体レーザ
保持体１６とコリメートレンズ保持体４８とを、半導体
レーザ保持体固定ネジ６０で仮止めする。

【００４２】この状態で、半導体レーザ保持体１６を半
導体レーザ１２、１４のレーザビームの出射方向と直交
する方向で移動させ、半導体レーザ１２、１４とコリメ
ートレンズ４６のアライメント調整を行った後、半導体
レーザ保持体１６を半導体レーザ保持体固定ネジ６０で
固定する。そして、レンズ鏡筒５８をレーザ出射方向に
沿って移動させ、フォーカス調整を行った後、レンズ鏡
筒５８を接着剤又はネジなどで固定する。

【００４３】以上のようにして、組み立てられたマルチ
ビーム光源装置１０を光学箱６２に取付ける。光学箱６
２にはコリメートレンズ保持体４８が嵌合可能な円形の
開口部６２Ａが形成されており、開口部６２Ａ内へコリ
メートレンズ保持体４８を嵌合させるとき、マルチビー
ム光源装置１０を矢印θ方向に回転調整して、感光体
（図示省略）上の２本のビーム間隔を微調整し、コリメ
ートレンズ保持体固定ネジ６３でマルチビーム光源装置
１０を光学箱６２に固定させる。

【００４４】このとき、半導体レーザ１２、１４の発光
素子３４、３６の接合面３４Ａ、３６Ａは、感光体上に
潜像が形成される方向（いわゆる主走査方向）に対して
略直交する方向となるように配置されるようにする。

【００４５】なお、本形態では、アライメント調整及び
フォーカス調整を、マルチビーム光源装置１０の組立と
並行して行ったが、マルチビーム光源装置１０を光学箱
６２に仮組した状態で、図示しないシリンドリカルレン
ズ等の光学部品を通過させたレーザビームを感光体に相
当する位置で観察しながらアライメント調整及びフォー
カス調整を行うことも勿論可能である。

【００４６】また、半導体レーザ１２、１４を発光させ
てコリメートレンズ４６などの光学素子を通過させ、レ
ーザビームのＷａｉｓｔ位置を観察しながら半導体レー
ザ１４を移動させて、半導体レーザ１２の発光素子３４
との相対位置を調整することもできる。

【００４７】次に、マルチビーム光源装置及びこれを備
えた光走査装置の作用について説明する。

【００４８】図１に示すように、一つの半導体レーザ１
２を位置決めした後、位置決めされた半導体レーザ１２
の発光素子３４の位置に対して光軸方向に沿って相対的
に、半導体レーザ１４を調整することで、半導体レーザ
１２の発光素子３４と半導体レーザ１４の発光素子３４
との光軸方向の位置を一致させることができる。

【００４９】このため、発光素子３４と発光素子３６と
の光軸方向の位置ずれを小さくすることができ、レーザ
ビームのＷａｉｓｔ位置の深度ずれをなくし、複数のレ
ーザビーム間で感光体（図示省略）上でのビーム径を一
致させることができるので、良好な画質を得ることがで
きる。

【００５０】ここで、使用する半導体レーザ１２、１４
は予め発振波長を選別しておき、互いに近似する波長の
ものを選択的に組み合わせることで、半導体レーザ１
２、１４で波長差をなくし、走査幅のバラツキを防止す
ることができる。

【００５１】また、半導体レーザ保持体１６に対して半
導体レーザ１２、１４を圧入して位置調整を行うこと
で、位置調整を行うために駆動装置等を必要としないた
め、低コストで実現できる。また、部品点数を最小限に
抑えることができるため、生産時の精度のバラツキも小
さくなり、結果的に効果の維持性も高い。

【００５２】さらに、図４（Ｃ）に示すように、半導体
レーザ１２、１４の発光素子３４、３６のＰＮ接合の接
合面３４Ａ、３６Ａを互いに平行となるようにすること
で、レーザビームの広がり角が広い方向を各レーザビー
ムで同一にすることができるため、光学部品の反射角に
よる光量比を全てのレーザビームで略同一とすることが
でき、良好な画質を得ることができる。

【００５３】また、発光素子３４、３６の接合面３４
Ａ、３６Ａの方向を主走査方向と略直交する方向とする
ことで、図４（Ｄ）に示すように、レーザビームの広が
り角が広い方向を偏向方向と平行にすることができるの
で、有効走査幅を単一のレーザビームの時とほぼ同等に
利用することができる。このため、光学絞り５６の開口
５６Ａによる光量低下を最小限に留めることができる。

【００５４】また、発光素子開放型の半導体レーザ１
２、１４を用いることで、図８に示すように、缶タイプ
の半導体レーザ１１０、１１２を並べる場合と異なり、
図４（Ｂ）に示すように、発光素子３４、３６を直接対
向させることができ、この状態で半導体レーザ１２、１
４を半導体レーザ保持体１６に位置決めさせることで、
発光素子３４、３６同士を充分近接させることが可能と
なる。

【００５５】このため、温度上昇による半導体レーザ保
持体１６の熱変形により発光素子３４、３６の離間距離
に影響を及ぼすことはない。また、発光素子３４、３６
同士を充分近接させることで、図３（Ｂ）に示すよう
に、複数の発光素子３４、３６で一つのコリメートレン
ズ４６を共有させることができる。

【００５６】

【発明の効果】本発明は、上記構成としたので、請求項
１に記載の発明では、複数の光源の光軸方向に沿って発
光点位置を正確にそろえることができるため、発光点位
置の光軸方向の誤差を小さくすることができ、レーザビ
ームのウエスト位置の深度ずれをなくし、複数のレーザ
ビーム間でビーム径も一致し、良好な画質を得ることが
できる。また、光源を波長によって選択的に組み合わせ
ることで、光源の波長差による走査幅のバラツキを防止
することができる。

【００５７】請求項２に記載の発明では、保持体に対し
て光源を圧入して位置調整を行うことで、位置調整を行
うために駆動装置等を必要としないため、低コストで実
現できる。また、部品点数を最小限に抑えることができ
るため、生産時の精度のバラツキも小さくなり、結果的
に効果の維持性も高い。

【００５８】請求項３に記載の発明では、レーザビーム
の広がり角が広い方向を各レーザビームで同一にするこ
とができるため、光学部品の反射角による光量比を全て
のレーザビームで略同一とすることができ、良好な画質
を得ることができる。

【００５９】請求項４に記載の発明では、光源を発光素
子開放型半導体レーザとすることで、発光部を対向させ
た状態で半導体レーザを保持体に位置決めさせることが
でき、発光点間隔を充分近接させることが可能となるた
め、温度上昇による保持体の熱変形により発光点間隔に
影響を及ぼすことはない。また、発光点間隔を充分近接
させることで、複数の発光点で一つのコリメートレンズ
を共有させることができる。

【００６０】さらに、発光部の接合面を主走査方向と略
直交する方向にすることで、レーザビームの広がり角が
広い方向を偏向方向と平行にすることができるので、有
効走査幅を単一のレーザビームの時とほぼ同等に利用す
ることができる。このため、光学絞りの開口による光量
低下を最小限に留めることができる。

【００６１】請求項５に記載の発明では、走査幅のバラ
ツキが小さい、良好な画質を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態に係るマルチビーム光源装
置に備えられた半導体レーザ及び半導体レーザ保持体を
斜視図である。

【図２】本発明の実施の形態に係るマルチビーム光源装
置に備えられた半導体レーザ保持体を示す図であり、
（Ａ）は半導体レーザ保持体の裏面図を示し、（Ｂ）は
半導体レーザ保持体の縦断面図を示している。

【図３】本発明の実施の形態に係るマルチビーム光源装
置を示す図であり、（Ａ）はマルチビーム光源装置の裏
面図を示し、（Ｂ）はマルチビーム光源装置の縦断面図
を示している。

【図４】本発明の実施の形態に係るマルチビーム光源装
置に備えられた半導体レーザを示す図であり、（Ａ）は
平面図、（Ｂ）は（Ａ）の右側面図を示し、（Ｃ）は発
光素子の接合面を示して、（Ｄ）はレーザビームの広が
り方向を示している。

【図５】従来のマルチビーム光源装置の問題点を示す説
明図である。

【図６】従来のマルチビーム光源装置に備えられた半導
体レーザを示す説明図であり、（Ａ）は発光素子の位置
ずれを示す図であり、（Ｂ）は、レーザビームのＷａｉ
ｓｔ位置の深度ずれを示す図である。

【図７】従来のマルチビーム光源装置に備えられた半導
体レーザを示す図であり、（Ａ）は平面図、（Ｂ）は
（Ａ）の右側面図を示し、（Ｃ）は発光素子の接合面を
示して、（Ｄ）はレーザビームの広がり方向を示してい
る。

【図８】従来のマルチビーム光源装置の問題点を示す説
明図である。

【符号の説明】

１０マルチビーム光源装置１２半導体レーザ（光源）１４半導体レーザ（光源）１６半導体レーザ保持体（保持体）２２溝部（調整手段）２４溝部（調整手段）３４Ａ接合面３４発光素子（発光部）３６発光素子（発光部）３６Ａ接合面３８フランジ部（調整手段）４０フランジ部（調整手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ＡＦターム(参考） 2C362 AA07 AA10 AA43 AA48 2H045 AA01 BA22 BA32 CB01 CB33 DA02 5C051 AA02 CA07 DB30 DC05 DE22 5C072 AA03 CA06 DA02 HA02 HA06 HA13 HB01 XA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光源と、前記複数の光源を一体的
に保持する保持体と、を備え、前記複数の光源の発光点位置を光源の光軸方向に沿って
相対的に調整可能とする調整手段を設けたことを特徴と
するマルチビーム光源装置。
【請求項２】前記調整手段が、前記光源のフレームから張り出すフランジと、前記保持体に形成され、前記光源の光軸方向に沿って前
記フランジが圧入される溝と、で構成されたことを特徴とする請求項1に記載のマルチ
ビーム光源装置。
【請求項３】複数の光源の発光部の接合面を平行にし
たことを特徴とする請求項１又は２に記載のマルチビー
ム光源装置。
【請求項４】前記光源を発光素子開放型半導体レーザ
とし、光源の発光部を対面させ、前記発光部の接合面を
主走査方向と略直交する方向としたことを特徴とする請
求項３に記載のマルチビーム光源装置。
【請求項５】請求項１〜４の何れかに記載のマルチビ
ーム光源装置を備えた光走査装置。