JP3721836B2 - 光走査装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は光走査装置に係り、詳細には、レーザプリンタやディジタル複写機等の画像形成装置に装備され、レーザ光源とビーム整形レンズとの位置調整機構を備えた光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、レーザプリンタやディジタル複写機等の画像形成装置に使用される光源装置は、感光体ドラム上に静電潜像を形成するためのレーザビームをレーザ光源から出射し、そのレーザビームをコリメータレンズや開口絞り等からなる光学系によって所定形状の光束にするものである。
【0003】
図8に、このような光源装置が装備された画像形成装置の一例として、レーザプリンタを示す。
【0004】
レーザプリンタ100は、定速回転する感光体ドラム102と、感光体ドラム102の周囲に配置され感光体ドラム102の表面を一様に帯電させる帯電装置104と、画像データに基づき感光体ドラム102表面に静電潜像を形成する光走査装置106と、静電潜像を現像する現像装置108と、現像で得られたトナー像を記録用紙110に転写する転写装置112と、転写されたトナー像を記録用紙110に定着させる定着装置114と、レーザプリンタ100全体を制御する装置制御部116(Main Control Unit)とを備えている。
【0005】
またレーザプリンタ100は、例えばコンピュータに代表されるプリンタ制御装置118とケーブル119で接続されており、このプリンタ制御装置118から伝送される画像データに基づいてプリントアウトする構成である。
【0006】
図9には、このレーザプリンタに搭載されている光走査装置部分を示す。
【0007】
光走査装置106は、光源としての半導体レーザ素子120と、装置制御部116に制御され、半導体レーザ素子120を画像信号に応じてオンオフ制御(変調)する半導体レーザ制御装置122と、半導体レーザ120から出射されたレーザビーム(発散光束)をほぼ平行光束にするコリメータレンズ130と、ほぼ平行光束とされたレーザビームを整形する開口絞り132と、整形されたレーザビームが通過するシリンドリカルレンズ134と、シリンドリカルレンズ134からのレーザビームを反射して回転多面鏡138に入射させる第一の平面ミラー136と、矢印E方向に定速回転し、画像信号に応じて出射されるレーザビームを繰り返し偏向する回転多面鏡138と、偏向されたレーザビームを感光体ドラム102表面に結像し、主走査方向(矢印F方向)に走査する走査レンズ群140と、走査レンズ群140からの走査ビームを感光体ドラム102に導く第二の平面ミラー142及びシリンドリカルミラー144と、感光体ドラム102部への塵埃等の進入を防ぐ防塵用ガラス145と、走査ビームを検出し、各走査における画像信号の変調及び走査開始タイミングを決定するためのSOS(Start of Scan)センサー148と、走査レンズ群140からの走査ビームをSOSセンサー148に入射させる第三の平面ミラー150とで構成されている。
【0008】
このような光走査装置では、一般的に、レーザ光源からのレーザビームをコリメータレンズの光軸に合わせる光軸合わせ、及び、感光体ドラム上に結像されるレーザビームのスポット径を所定径にする焦点位置合わせ(フォーカス調整)が必要であり、これら調整機構は、光走査装置に設けられた光源装置に備えられている。
【0009】
すなわち、光源装置に設置されるレーザ光源及びコリメータレンズは、その相対位置を変更可能な状態に構成されており、両部品の位置関係を所定精度内に合わせることで、光軸及びフォーカス調整が行われる。
【0010】
またこれら調整では、レーザビーム特性を検出する治具(光検出器等)を用い、感光体ドラム表面と等価な位置に設置したこの治具にレーザ光源から出射され光走査光学系を通過したレーザビームを結像させ、このときの出力をモニタして行う方法が一般的である。
【0011】
このような調整方式とすることで、光走査装置を構成する光学箱や光学部品等の精度誤差が吸収でき、装置のコストアップが押さえられるメリットがある。
【0012】
図10及び図11に、調整機構を備えた光源装置の例を示す。
【0013】
図10(従来例1:特開平5−297303参照)の光源装置72は、コリメータレンズ41を保持したコリメータレンズユニット91が、図示しないピンで位置決めされ光学箱側壁に固定されている。
【0014】
また、コリメータレンズ41の略光軸上に所定の間隔で配置された半導体レーザ25は、板金等の弾性変形が可能な材料で、なお且つ、コリメータレンズ41の光軸方向での変形を容易にするための切り欠き部が形成されたLD取付部材81に取り付けられている。また半導体レーザ25の背面に設けられた間隔部材96には、調整ネジ保持部材82に螺合した調整ネジ86が当接しており、この調整ネジ保持部材82は、調整ネジ保持部材固定ネジ83、84によってLD取付部材81に固定されている。
【0015】
これにより、調整ネジ86を進退させ、半導体レーザ25が取り付けられたLD保持部87を光軸方向(図中矢印Z1方向)に変形させることで、コリメータレンズ41と半導体レーザ25との間隔調整(フォーカス調整)を行う。
【0016】
またLD取付部材81は、コリメータレンズ41の光軸に垂直な平面内での移動(図中矢印X1、Y1方向)を可能としてコリメータレンズユニット91に取り付けられており、このLD取付部材81を移動させることによって、コリメータレンズ41と半導体レーザ25との光軸を合わせる光軸調整を行う。
【0017】
また最近では、図11(従来例2)に示すような、光源装置の構成をさらに簡素化し、同時に不要電波ノイズ(半導体レーザに電流や信号を供給するケーブルから発生する電波ノイズ)の発生を押さえるため、レーザ光源本体を制御用回路基板に取り付けた光源一体基板型の装置も広く採用されている。
【0018】
この光源装置124における光軸調整は、光学箱107の側壁107Aに調整ネジ126で取り付けられた回路基板123(光源一体基板)を、光学箱107内の台座131上に配置されたコリメータレンズ130の光軸に垂直な平面内で移動(図中矢印X2、Y2方向)させ、側壁107Aの取付孔107Bを通して光学箱107の内側に向けられた半導体レーザ121のレーザ出射光軸をコリメータレンズ130の光軸に合わせることで行う。
【0019】
またフォーカス調整は、光軸方向(図中矢印Z2方向)にのみ移動可能とされたコリメータレンズ130にレンズ調整用治具(治具フィンガー等)によってアクセスすることで半導体レーザ121との間隔調整を行う。なおこのフォーカス調整後には、コリメータレンズ130を接着剤等で固定している。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年の画像形成装置はさらなる高解像度化が求められており、この高解像度化に対応した小ビームスポット径の光走査装置では、上記の光軸及びフォーカス調整を数十ミクロン〜数ミクロンといった更に高い精度に調整する必要が生じている。
【0021】
また最近の高速高解像度化に対応した光走査装置には、一つの光学箱にレーザ光源を複数個設け複数走査を行うタイプがあり、また複数個設けられたレーザ光源の各走査線をカラー画像形成のための各色[Y(イエロー)、M(マゼンタ)、C(シアン)、Bk(ブラック)]に対応させたカラー画像形成装置用の光走査装置も開発されている。
【0022】
これらレーザ光源を複数個備えた光走査装置において光学系も複数とされる場合は、画像形成装置の限られたスペース内(光学箱内部)に光学系の各構成部品を収納するため、構成部品の実装密度が高くならざるをえず、またこれにより、構成部品のレイアウトやレーザビームの光路も複雑になってくる。すなわち、コリメータレンズ等のビーム整形レンズ周辺には、光学系を形成する種々の光学部品、及びそれらの保持部材が配置され、また、ビーム整形レンズを透過するレーザビームの光路以外にもこれら光学部品により形成される種々の光路が存在することになる。
【0023】
したがってこのような光走査装置では、複数個のレーザ光源や光学系を実装密度が高くされたスペース(狭い空間)内で高い精度に調整するという、より困難な作業が求められる。
【0024】
これに対し、前述した従来例1(図9、10)の光源装置による光軸及びフォーカス調整は、光学箱外側からレーザ光源部側だけを操作し移動(X1、Y1、Z1方向)させられるので、光学箱内に配置される光学部品等の実装密度には影響されず調整可能である。しかしその調整精度が厳しくなると、各調整での相互影響による調整ずれが無視できなくなってくる。
【0025】
つまりこれは、半導体レーザ25の光軸方向での移動(フォーカス調整)が半導体レーザ25を保持しているLD保持部87の変形を利用する構造であるため、この変形によって生じるLD保持部87等のねじれによりレーザ光のレーザ出射光軸がコリメータレンズ41の光軸に対し僅かにずれてしまうことである。このずれ量が光軸調整の許容精度内に収まらない場合、光軸及びフォーカス調整を繰り返し行うことになり、作業性の低下を招く問題がある。
【0026】
また従来例2(図11)の場合、制御用の回路基板123に一体化された半導体レーザ121と光学箱107内に取り付けられたコリメータレンズ130とが各々独立して移動できる構造であるため、調整時に起こる相互影響の問題はない。
【0027】
しかしフォーカス調整時には、光学箱107内のコリメータレンズ130を光学箱107上方からレンズ調整用治具等でアクセスして光軸方向に移動させるため、多数設置される光学部品や複雑に形成される光路等によって、コリメータレンズ130にアクセスしにくくなる問題が生じる。ここで、これら光路を遮るのであれば調整部品に容易にアクセスすることもできる。しかしそうすると、前述した光検出治具等(または感光体ドラム)による像面上の特性値を検出しながらのリアルタイムな調整ができなくなるため、作業時間が大幅に増えることになる。
【0028】
また調整後には、コリメータレンズを接着剤等で固定する必要もあるため、作業性も悪かった。
【0029】
本発明は上記事実を考慮して、光源部とビーム整形レンズとの光軸及び焦点位置合わせを、高い精度においても容易に調整でき、特に光源部を複数個備えた画像形成装置においても調整可能な光走査装置を提供することを課題とする。
【0030】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の光走査装置は、光学箱と、前記光学箱の外側に配置されるとともに光軸に垂直な平面内を移動可能とされ、その取付位置を調整可能な光源部と、前記光学箱の内側に配置されるとともに前記光源部とは独立して光軸方向に移動可能とされ、前記光軸上に配置されるビーム整形レンズを保持する保持部材と、前記保持部材を前記光源部側から操作して前記ビーム整形レンズの焦点位置を調整する調整手段と、を備え、前記調整手段は、前記保持部材を前記光源部方向へ付勢する弾性部材と、前記光源部側からねじ込まれて前記保持部材に当接するネジ部材と、を有することを特徴としている。
【0031】
すなわち本発明では、光源部は、光軸に垂直な平面内を移動することができ、光学箱の外側から取付位置を調整することができる。また、光学箱の内側に配置されて光源部の光軸上にビーム整形レンズを配置するための保持部材は、光源部とは独立して光軸方向に移動することができ、さらに本発明の光走査装置には、光源部側から保持部材を操作して光源部に対するビーム整形レンズの焦点位置を調整するための調整手段が設けられている。
【0032】
これにより、光源部とビーム成形レンズとの相対位置を合わせる各調整において、光軸合わせは、光源部を光学箱の外側から操作し光軸に垂直な平面内を移動させることにより行われる。また焦点位置合わせは、光源部側から操作できる調整手段により、保持部材を光軸方向に移動させることにより行われる。
【0033】
このように、光源部及びビーム成形レンズの位置調整を光源部側(光学箱外側)から操作する構成としたことにより、光学箱内部での調整操作は要らなくなる。これは例えば、光学箱の内部に配置された光源部、あるいはビーム成形レンズを操作するために、調整用の治具等をそれら部品に近づけたり接触させる必要がなくなることである。
【0034】
したがって、複数個の光源部を有し、光路が複雑に形成されるカラー画像形成装置等においても、調整時に治具等で光路を遮ったり、光源部、あるいはビーム成形レンズ近傍に配置される他の光学系部品等と治具等とが干渉して部品が操作しにくくなるといった不具合がなくなり、像面上のレーザビーム特性(結像されるスポット光)を確認しながらの調整が可能となる。よって、これら調整作業が容易になり、また、調整に用いる治具等の構造も簡単にできる。
【0035】
さらに、光源部とビーム成形レンズとは各々が独立した状態で設けられており、個別に移動する構成としたことにより、光源部、あるいはビーム成形レンズのどちらか一方を移動させることで、もう一方の取付位置が影響されることはない。よって、調整精度が高い画像形成装置においても、繰り返し調整(光軸及び焦点位置合わせ)等による無駄がなくなり、作業時間が短縮される。
【0036】
またここでは、保持部材が弾性部材によって光源部方向へ付勢されており、この保持部材には、光源部側からねじ込まれたネジ部材が当接しているため、ネジ部材を進退させる操作のみで保持部材を容易に移動させることができ、光源部とビーム成形レンズとの焦点位置が合わせられる。さらに調整手段をネジ部材としたことで微調整が可能になり、精度良く調整する場合でも容易に行える。
【0037】
また、ビーム整形レンズを保持する保持部材は弾性部材とネジ部材とによって挟持されるため、調整後の位置が簡単にずれることはない。さらにビーム整形レンズを固定するための接着等の作業も要らなくなり、作業時間も短縮される。
【0038】
請求項2に記載の発明は、請求項1記載の光走査装置において、複数の前記光源部を有するとともにその複数の光源部のうちの少なくとも一つは前記光学箱の天板に取り付けられ、その光源部から出射され前記ビーム整形レンズを通過した光ビームは反射ミラーで反射されて他の光源部から出射された光ビームに近接するよう光路が設定されていることを特徴としている。
【0039】
すなわち請求項2の発明では、複数の光源部のうちの少なくとも一つが光学箱の天板に取り付けられており、その光源部から出射され、ビーム整形レンズを通過した光ビームは反射ミラーで反射されて、他の光源部から出射された光ビームに近接するよう光路が設定される。
【0040】
これにより、光学箱側壁での光源部取り付けスペースに制約がある場合や、光学系部品等のレイアウトにより実装密度が高くなる複数の光源部を有する画像形成装置においても、光学箱上部の空きスペースを利用し光源部を光学箱の天板に配置することにより、所定スペース内での収納が可能となる。またこの場合、反射ミラーを設けるだけの簡単な構造により、光源部から下方へ出射されるビームを光学系(横方向)に案内することができる。
【0041】
さらに請求項1の発明により、光軸及び焦点位置合わせの各調整が光源部側(光学箱外側)からできることで、光源部が光学箱の天板に取り付けられた状態でも調整可能であり、例えば、調整用治具等を光学箱内へ挿入し各部品を操作するために、光学箱側壁あるいは光学箱の天板に治具挿入用の孔等を設ける必要がなく、光学箱や天板の構造を簡単にできる。
【0042】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を説明する。
【0043】
図1〜図4には、本発明の実施形態に係る光走査装置の全体構成が示されている。なおここでの光走査装置は、カラー画像形成装置に搭載されるカラー化に対応させたタイプであり、各色(Y、M、C、Bk)用の感光体ドラムを走査するための複数の光学系、及び複数の光源装置が装備されている。
【0044】
光走査装置60の光学箱62内部に配置された光学系の概略は、光源装置10を含む光源ブロック11と、平面ミラー64、74と、Fθレンズ群66と、偏向器68に設けられた回転多面鏡70と、シリンドリカルミラー保持プレート76に設置されたシリンドリカルミラー78とから構成されており、また、光走査装置60の下方には、各色に対応した感光体ドラム80が設置されている。
【0045】
まず、本実施形態に係る光源装置を詳細に説明する。ただし本形態では、装備された4個の光源ブロックが2個で一組とされ、回転多面鏡の両側に対称に配置されているため、片側の組を用い、さらに光学箱の側壁に設置された光源ブロックにて説明を行う。
【0046】
図5〜図7に示す光源装置10は、光学箱62の側壁63に、半導体レーザ12のレーザビームを点灯制御するための回路部(図示省略)を備え、その半導体レーザ12を取付面14Aの略中央に設けた回路基板14が取り付けられている。半導体レーザ12は略円柱形であり、取付面14Aに対するレーザビームの出射光軸(以下、「レーザ光軸」と称する)がほぼ垂直に合わせられている。
【0047】
また、回路基板14の長手方向(図中矢印X方向)における半導体レーザ12の両側方には取付孔14Bが設けられ、さらに取付孔14Bの外側には調整用孔14Cが設けられている。
【0048】
側壁63における半導体レーザ12との対応位置には、内径を半導体レーザ12の外径よりも所定寸法大きくされた孔63Aが設けられており、この孔63Aに半導体レーザ12を貫通させた状態で、回路基板14が側壁63に取り付けられている。したがって、半導体レーザ12のレーザビームは、光学箱62の内部に向け、側壁63に対して略垂直方向に出射される。
【0049】
さらに側壁63には、回路基板14に設けられた取付孔14Bとの対応位置に、径を取付孔14Bの内径よりも小さくされたネジ孔63Bが形成されている。このネジ孔63Bには、頭部フランジ16Aを設けた固定フランジ付調整ネジ16のネジ部16Bが螺合する。したがって、側壁63に沿って移動可能(図中矢印X、Y方向)な回路基板14は、この固定フランジ付調整ネジ16によって、その取り付け位置を所定範囲内で調整可能とされ、側壁63に固定される。
【0050】
また固定フランジ付調整ネジ16の芯部には、軸方向に貫通する雌ネジ16Cが形成され、この雌ネジ16Cには、固定フランジ付調整ネジ16より全長が長い調整ネジ18が螺合される。
【0051】
調整ネジ18と固定フランジ付調整ネジ16との位置関係は、図7に示すように、調整ネジ18の先端側が固定フランジ付調整ネジ16の先端16Dから突出した状態とされる。
【0052】
一方、半導体レーザ12の前方には、半導体レーザ12のレーザ光軸上に、レーザビームを整形するコリメータレンズ22(ビーム整形レンズ)を配置するためのレンズ保持基台20が設置されている。このレンズ保持基台20に設けられたレンズ孔20Aの光軸方向(図中矢印Z方向)略中央に、コリメータレンズ22が取り付けられている。またレンズ保持基台20の下面には、幅方向(図中矢印X方向)両端部に凸設された脚部20Bによって凹部20Cが形成されている。
【0053】
レンズ保持基台20が光学箱62の底面61に載置される所定の位置には、幅を凹部20Cの幅寸法よりも僅かに狭くして凸設された案内部61Aが、側壁63に対して略垂直方向に形成されている。この案内部61Aにレンズ保持基台20の凹部20Cが摺動自在に嵌合されることにより、レンズ保持基台20は、光学箱62の側壁63に対して略垂直方向に移動可能(図中矢印Z方向)となる。
【0054】
したがってレンズ保持基台20の移動方向は、半導体レーザ12のレーザ光軸とほぼ平行になり、また半導体レーザ12とコリメータレンズ22との光軸方向での間隔が調整可能となる。
【0055】
また、凹部20Cと案内部61Aとの嵌合部分の寸法差が僅かであることにより、レンズ保持基台20がレーザ光軸に対して傾いたり、光軸方向以外(例えば光軸に直交する方向等)へ位置ずれすることはない。
【0056】
レンズ保持基台20(コリメータレンズ22)のレーザビーム透過出口側(半導体レーザ12とは反対側)には、板状のバネ30がバネ取付ネジ32によって、光学箱62の底面61に取り付けられている。
【0057】
このバネ30の幅方向(図中矢印X方向)寸法は、レンズ保持基台20の幅寸法とほぼ等しくされており、バネ30の半導体レーザ12側縁の幅方向両側部分からは、板バネ部30Aが半導体レーザ12側に向けて斜め上方に延出している。
【0058】
この板バネ部30Aの長手方向の途中に形成された屈曲部30Bはレンズ保持基台20に接触しており、よってレンズ保持基台20は、板バネ部30Aの弾性力(所定力量)により半導体レーザ12側へ付勢され、固定フランジ付調整ネジ16の先端16Dから突出する調整ネジ18の先端18Aに当接して保持される。
【0059】
これにより、調整ネジ18を進退させることで、レンズ保持基台20は光軸方向へ移動し、さらに板バネ部30Aがレンズ保持基台20の幅方向での両側縁をほぼ等しい力量で付勢することにより、凹部20Cと案内部61Aとでの引掛かり等がなくスムーズに摺動できる。
【0060】
以上が、光学箱62の側壁63に設置された光源装置10の構成であり、この光源装置10に、レンズ保持基台20のレーザビーム透過出口側に順に配置された開口絞り36、及びシリンドリカルレンズ38(図4)を加えて、光源ブロック11が構成される。
【0061】
また、シリンドリカルミラー保持プレート76の上面に配置された光源装置10についても、以上説明した構成とほぼ同様である。
【0062】
半導体レーザ12を保持する回路基板14がシリンドリカルミラー保持プレート76の上面に、調整ネジ18を螺合した固定フランジ付調整ネジ16によって取り付けられており、また、コリメータレンズ22を取り付けたレンズ保持基台20、さらにバネ30は、光学箱62の内部立壁(図示省略)に設置されている。
【0063】
ただし、レンズ保持基台20のレーザビーム透過出口側(下側)には、光軸に対して所定角度傾斜して配置され、レーザビームを光学箱62内部に案内する平面ミラー40が設置されている。
【0064】
以下、光走査装置60の各光学部品の配置とレーザビームの光路について説明する。なお、上記の光源ブロック11を含む光学系は、前述のように回転多面鏡70の両側に対称となる光学系を構成しているので、ここでも片側の光学系で説明する。また便宜的に、光学箱62の側壁63に設置された光源装置10からのレーザビームを「ビームA」、シリンドリカルミラー保持プレート76に設置された光源装置10からのレーザビームを「ビームB」と称する。
【0065】
図4に示すように、各光源ブロック11において、半導体レーザ12から出射されたビームA、B(発散光束)は、コリメータレンズ22によってビーム整形され(略平行光束)、開口絞り36で光束幅が規制された後、シリンドリカルレンズ38によって所定形状(副走査方向には集束し主走査方向には長い)の線状光束とされる。
【0066】
シリンドリカルレンズ38を透過後、ビームAは平面ミラー64に直接入射し、ビームBは平面ミラー40での反射によってビームAとほぼ同じ向きとされて平面ミラー64に入射する。ただし、ここでのビームA、Bは、副走査方向で所定の角度差を有して平面ミラー64に入射し、回転多面鏡70側へ反射される。
【0067】
またここでは、両ビームが回転多面鏡70へ入射するときと回転多面鏡70で反射偏向された後に、主走査方向において共にFθレンズ群66を透過し、さらに、反射偏向されるビームが成す走査角の中心から回転多面鏡70ヘビームを入射させる構成である(正面入射ダブルパス光学系)。
【0068】
なお、平面ミラー64で反射され、斜め上方から回転多面鏡70に入射するビームA、Bは、回転多面鏡70上での高さ方向の入射位置を、副走査方向での入射角を大きくされたビームBが、入射角を小さくされたビームAより下側とされている。これにより、回転多面鏡70上における両ビームの副走査方向での間隔が確保される。さらに回転多面鏡70で反射し偏向されたビームA、Bの副走査方向での間隔は徐々に広がることになり、Fθレンズ群66を通過した後に確保される両ビームの間隔が広くされることで、各光学部品の配置が容易となるよう構成されている。
【0069】
回転多面鏡70で偏向され、Fθレンズ群66を透過したビームA、Bは、両ビームに対応して設けられた平面ミラー74によって、図3に示すように副走査方向に所定の角度で反射され、回転多面鏡70の上方を通過して各シリンドリカルミラー78に至る。
【0070】
シリンドリカルミラー78により下方へ反射されたビームA、Bは、Fθレンズ群66の側方を通過し、すなわち光走査装置60の内部を縦方向に再度通過するようにして、各感光体ドラム80に至る。
【0071】
以上が片側の光学系、及びその光学系によるレーザビームの光路であり、説明は省略するが、回転多面鏡70の反対側に位置するもう一方の光学系についても、各光学部品の配置やレーザビームの光路は同様である。なお、図2及び図3においての「ビームC」は「ビームA」と、「ビームD」は「ビームB」と対応している。
【0072】
このように、本実施形態の光走査装置60における光学系では、回転多面鏡70の片側で2本のビームを両側で計4本として同時に偏向走査し、各光源装置10から出射されるこれらのレーザビームにより、ブラック(Bk)、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)の各色に対応した感光体ドラム80上を走査する構成である。
【0073】
また本形態の光走査装置60は、小型化も考慮に入れ、各光学部品を上記のような無駄のない配置として各レーザビームの光路を形成することで、高さ方向の寸法を小さくすると共に、感光体ドラム80と近接させて配置するようにしている。
【0074】
ただしこの場合、光学箱62内の実装密度は高くされることで、各光学部品の間を走査されるレーザビームを遮ることなく光学部品の保持部を構成し、同時に、前述したような各調整を行うことは容易ではない。
【0075】
またシリンドリカルミラー78は、光走査装置60全体の剛性、及び、組立、調整の作業性を考慮して、光学箱62本体ではなく、上部に配置されたシリンドリカルミラー保持プレート76に取り付けられた構成であり、このシリンドリカルミラー保持プレート76は、光学箱62に対して精度良く固定されている。したがって本形態では、シリンドリカルミラー保持プレート76を光学箱62に載置することにより、半導体レーザ12から感光体ドラム80までのレーザビームの光路が形成される。
【0076】
このため、フォーカス調整におけるコリメータレンズ22の移動調整において、前述した従来例2の構成では、光学箱62内部のコリメータレンズ22に治具等でアクセスすることが困難である。
【0077】
次に光源装置10の光軸及びフォーカス調整の調整方法について説明する。
【0078】
光軸調整は、図1及び図2に示される光走査装置60のシリンドリカルミラー78の間8(図中矢印G方向)から光検出器を有する治具を回転多面鏡70近傍に配置し、回転多面鏡70に入射する偏向前のレーザビームの位置情報を元に、光学箱62外側より治具フィンガーを回路基板14の調整用孔14Cに挿入して回路基板14を光軸と垂直な平面内(X、Y方向)で移動させ、半導体レーザ12のレーザ光軸がコリメータレンズ22を含めた光学系の光軸と一致するよう調整する。
【0079】
調整後は、回路基板14を固定フランジ付調整ネジ16によって、光学箱62の側壁63、又はシリンドリカルミラー保持プレート76に固定する。
【0080】
次にフォーカス調整は、感光体ドラム80上と等価な位置に設置した光検出器によって検出されるビームスポットが所定のスポット径になるよう、固定フランジ付調整ネジ16に螺合した調整ネジ18を進退させ、レンズ保持基台20をレーザ光軸方向に移動させて行う。
【0081】
以上説明したように、本実施形態の光源装置10では、半導体レーザ12及びコリメータレンズ22の位置調整を半導体レーザ12側(光学箱外側)から操作する構成としたことにより、光学箱62内部での調整操作は要らなくなる。
【0082】
したがって、本形態のような複数個の半導体レーザ12を有し、光路が複雑に形成されるカラー画像形成装置等においても、調整時に治具等で光路を遮ったり、半導体レーザ12、あるいはコリメータレンズ22のレンズ保持基台20近傍に配置される他の光学系部品等と治具等とが干渉して部品が操作しにくくなるといった不具合がなくなり、光検出治具等に結像されるスポット光を確認しながらの調整が可能となる。
【0083】
また、レンズ保持基台20はバネ30によって半導体レーザ12方向へ付勢され、半導体レーザ12側からねじ込まれた調整ネジ18に当接していることにより、調整ネジ18を進退させる操作のみでレンズ保持基台20を移動させることができ、高い調整精度に対する微調整も可能となる。
【0084】
さらに、コリメータレンズ22を保持するレンズ保持基台20はバネ30と調整ネジ18とによって挟持されるため、調整後の位置が容易にずれることはなく、コリメータレンズ22を固定するための接着等の作業も要らなくなる。
【0085】
また、半導体レーザ12とコリメータレンズ22とは各々が独立した状態で設けられており、個別に移動する構成としたことにより、回路基板14(半導体レーザ12)、あるいはレンズ保持基台20(コリメータレンズ22)のどちらか一方を移動させることで、もう一方の取付位置が影響されることはない。よって、調整精度が高い画像形成装置においても、繰り返し調整(光軸及び焦点位置合わせ)等による無駄がなくなる。
【0086】
よってこれらのことにより、光軸及びフォーカス調整作業が容易になり、作業時間が短縮される。また、調整に用いる治具等の構造も簡単にできる。
【0087】
また、調整ネジ18が半導体レーザ12部の取付位置を調整する固定フランジ付調整ネジ16の芯部に形成された雌ネジ16Cに螺合し貫通して配置され、調整ネジ18が固定フランジ付調整ネジ16と一体的に設けられていることにより、調整ネジ18の設置スペースを別途設ける必要がなく、回路基板14を小型化できる。
【0088】
さらに、光源ブロックを2個一組として片側の光学系を形成した本実施形態では、各組内の一方の光源ブロック11をシリンドリカルミラー保持プレート76に取り付けたことにより、光学系部品等のレイアウトによって実装密度が高くされたカラー画像形成装置においても、所定スペース内での収納が可能となる。またこの場合、平面ミラー40を設けるだけの簡単な構造により、半導体レーザ12から下方へ出射されるレーザビームを光学系(横方向)に案内することができる。
【0089】
ここで、光軸及び焦点位置合わせの各調整が半導体レーザ12側(光学箱外側)からできることにより、半導体レーザ12が光学箱62の上面に配置された状態でも調整可能であり、例えば、調整用治具等を光学箱内へ挿入し各部品を操作するために、光学箱62の側壁63あるいはシリンドリカルミラー保持プレート76に治具挿入用の孔等を設ける必要がなく、光学箱62やシリンドリカルミラー保持プレート76の構造を簡単にできる。
【0090】
なお、本実施形態では、回路基板14の固定時の安定性を考慮し、固定フランジ付調整ネジ16を2個としたが、固定フランジ付調整ネジ16の設置数はこれに限定されるものではなく、1個、あるいは3個以上とすることも可能であり、またそれらの数に合わせて調整ネジ18の数も変更できるものである。
【0091】
さらに本形態では、コリメータレンズ22を光軸方向に摺動可能なレンズ保持基台20に取り付けて移動調整する構成としたが、ビーム整形の機能を有するシリンドリカルレンズの移動調整が必要とされる場合においても、同様の構成にて調整することができる。
【0092】
【発明の効果】
本発明の光走査装置は上記構成としたので、光源部とビーム整形レンズとの光軸及び焦点位置合わせを、高い精度においても容易に調整できるようになり、特に光源部を複数個備えた画像形成装置においても調整が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施形態に係る光源装置を搭載した光走査装置の斜視図である。
【図2】 本発明の一実施形態に係る光源装置を搭載した光走査装置の全体構成を示した透視図である。
【図3】 本発明の一実施形態に係る光走査装置の光学系及びレーザビームの光路を表した説明図である。
【図4】 本発明の一実施形態に係る光源装置を搭載した光走査装置の片側の光学系及びレーザビームの光路を表した透視図である。
【図5】 本発明の一実施形態に係る光源装置の斜視図である。
【図6】 本発明の一実施形態に係る光源装置の光学箱外側から見た斜視図である。
【図7】 本発明の一実施形態に係る光源装置の組立て状態を示した上面図である。
【図8】 従来の画像形成装置の全体構成を示した概略図である。
【図9】 図8の画像形成装置に搭載された従来の光走査装置の全体構成を示した概略図である。
【図10】 従来の光源装置(従来例1)の構成を説明する図であり、(A)は(B)図のA−A線での断面図であり、(B)は調整ネジ側から見た平面図であり、(C)はLD取付部材の平面図である。
【図11】 従来の光源装置(従来例2)の構成を説明する図であり、(A)は光学箱外側から見た斜視図であり、(B)は光学箱側方から見た断面図である。
【符号の説明】
10 光源装置
12 半導体レーザ(光源部)
14 回路基板(光源部)
18 調整ネジ18(調整手段/ネジ部材)
20 レンズ保持基台
22 コリメータレンズ(ビーム整形レンズ)
30 バネ(調整手段)
40 平面ミラー(反射ミラー)
62 光学箱
76 シリンドリカルミラー保持プレート(光学箱の天板)
Claims (2)
- 光学箱と、
前記光学箱の外側に配置されるとともに光軸に垂直な平面内を移動可能とされ、その取付位置を調整可能な光源部と、
前記光学箱の内側に配置されるとともに前記光源部とは独立して光軸方向に移動可能とされ、前記光軸上に配置されるビーム整形レンズを保持する保持部材と、
前記保持部材を前記光源部側から操作して前記ビーム整形レンズの焦点位置を調整する調整手段と、を備え、
前記調整手段は、前記保持部材を前記光源部方向へ付勢する弾性部材と、前記光源部側からねじ込まれて前記保持部材に当接するネジ部材と、を有することを特徴とする光走査装置。 - 複数の前記光源部を有するとともにその複数の光源部のうちの少なくとも一つは前記光学箱の天板に取り付けられ、その光源部から出射され前記ビーム整形レンズを通過した光ビームは反射ミラーで反射されて他の光源部から出射された光ビームに近接するよう光路が設定されていることを特徴とする請求項1記載の光走査装置。
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