JP2003253034A - 多孔質粒子及びその製造方法 - Google Patents
多孔質粒子及びその製造方法Info
- Publication number
- JP2003253034A JP2003253034A JP2002058333A JP2002058333A JP2003253034A JP 2003253034 A JP2003253034 A JP 2003253034A JP 2002058333 A JP2002058333 A JP 2002058333A JP 2002058333 A JP2002058333 A JP 2002058333A JP 2003253034 A JP2003253034 A JP 2003253034A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- low
- cellulose ether
- porous particles
- substituted
- substituted cellulose
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Biological Depolymerization Polymers (AREA)
Abstract
ル基によるモル置換度が0.05〜1.0である低置換
度セルロースエーテルからなる多孔質粒子。 【効果】 本発明によれば、製造段階において毒性の強
い二硫化炭素を使用する必要がなく、硫黄の残存に伴う
臭いの問題もないことから、抗菌剤、芳香剤、消臭剤等
の吸着材、バイオリアクターの固定担体あるいは室内園
芸用培土等、従来からビスコース由来の再生セルロース
多孔質粒子が使用されていた分野での代替が可能な多孔
質粒子を得ることができる。
Description
スエーテルからなる多孔質粒子及びその製造方法に関す
る。
ら、セルロース、タンパク質等の天然高分子を材質とし
た多孔質粒子が抗菌剤、芳香剤、消臭剤等の吸着材、バ
イオリアクターの固定担体あるいは室内園芸用培土等に
使用されている。このうちセルロースの多孔質粒子につ
いては、特開平9−176327号公報でビスコースに
多糖類をアルカリ水溶液にて混合したものを酸性水溶液
中で凝固・再生して製造される再生セルロースの多孔質
粒子が報告されている。
は、ビスコースに炭酸カルシウムを混合させた溶液を酸
性水溶液中で凝固・再生させることによって製造される
多孔質粒子が報告されている。
スを毒性の強い二硫化炭素で処理して作られるセルロー
スザンテートをアルカリ水溶液に溶かしたビスコースを
原材料として使用するため、その製造段階で作業者が二
硫化炭素に暴露される危険性があると指摘されている。
また、精製を十分に行わないと、多孔質粒子に微量の硫
黄分が残存し、製品自体の機能を低下させたり、臭気が
出たりする可能性もある。
で、従来のビスコース由来の多孔質粒子に代替し得る性
能を有し、かつその製造工程において毒性の強い二硫化
炭素を使用することなく、硫黄臭を伴わない多孔質粒子
及びその製造方法を提供することを目的とする。
明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、
一定のモル置換度を有する低置換度セルロースエーテル
からなる多孔質粒子が、従来のビスコース由来の多孔質
粒子に代替し得る性能を有し、かつその製造工程におい
て毒性の強い二硫化炭素を使用することなく、硫黄臭を
伴わないで得られることを知見し、本発明をなすに至っ
たものである。
/又はヒドロキシアルキル基によるモル置換度が0.0
5〜1.0である低置換度セルロースエーテルからなる
多孔質粒子、(II)空隙率が30〜98%である請求
項1記載の低置換度セルロースエーテルの多孔質粒子、
(III)低置換度セルロースエーテルと水溶性高分子
物質又は炭酸塩とをアルカリ水溶液に溶解した混合液を
酸と接触させ、低置換度セルロースエーテルを凝固・再
生することを特徴とする請求項1又は2記載の低置換度
セルロースエーテルの多孔質粒子の製造方法を提供す
る。
と、本発明に係る低置換度セルロースエーテルはセルロ
ースを構成しているグルコース環の水酸基の水素原子を
アルキル基及び/又はヒドロキシアルキル基で置換した
セルロースエーテルのうち、モル置換度が0.05〜
1.0、好ましくは0.1〜0.7と低いもので、水に
は溶解しないが、アルカリ水溶液に溶解するものであ
る。モル置換度が0.05よりも低いとアルカリ水溶液
に溶解しにくく、多孔質粒子の製造が困難になり、1.
0を超えると水への溶解性が高くなり、多孔質粒子とし
ての機能が失われるためである。
置換度メチルセルロース、低置換度エチルセルロース等
の低置換度アルキルセルロース、低置換度ヒドロキシエ
チルセルロース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロー
ス等の低置換度ヒドロキシアルキルセルロース、低置換
度ヒドロキシプロピルメチルセルロース、低置換度ヒド
ロキシエチルメチルセルロース、低置換度ヒドロキシエ
チルエチルセルロース等の低置換度ヒドロキシアルキル
アルキルセルロースが例示できる。
含むものであり、空隙の多少、すなわち空隙率(粒子体
積中に占める空隙の体積割合)は用途によって適宜選択
すればよく、特に制限はないが、空隙率が30〜98
%、特に50〜98%であることが好ましい。空隙率が
30%未満であると多孔質粒子としての機能を発揮する
ことができず、また98%を超えると粒子の機械的強度
が弱くなり、実用に供することができない場合があるか
らである。
て、低置換度セルロースエーテルと水溶性高分子物質と
をアルカリ水溶液に溶解した混合液を酸と接触させ、低
置換度セルロースエーテルを凝固・再生することにより
製造することができる。この場合、凝固・再生した低置
換度セルロースエーテルから水溶性高分子物質が酸水溶
液あるいはその後の水洗工程で除去されることにより、
多孔質粒子が形成される。
溶液、苛性カリ水溶液等が挙げられ、そのアルカリ水溶
液濃度は、使用する低置換度セルロースエーテルの置換
基の種類やモル置換度によって異なるので適宜決定すれ
ばよいが、通常は苛性アルカリの量として、2〜25重
量%、特に3〜15重量%が好ましい。典型的な例とし
ては、モル置換度0.2の低置換度ヒドロキシプロピル
セルロースは10重量%濃度の苛性ソーダ水溶液に溶解
する。
解するものであれば特に制限はなく、デンプン、プルラ
ン、グアーガム、アラビアガム、アルギン酸等の天然高
分子、セルロース、デンプン等の天然高分子の誘導体で
あるメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルデンプン、デキストリン、酸化デンプン
等の半合成高分子、あるいはポリビニルアルコール、ポ
リビニルピロリドン、ポリエチレンオキサイド、ポリア
クリル酸ソーダ等の合成高分子が例示できる。
子物質との混合比率及びアルカリ水溶液中におけるこれ
らの成分の合計濃度についても特に制限はなく、目的と
する多孔質粒子の物性及び操作性を勘案して適宜選択す
ればよいが、通常は低置換度セルロースエーテルの濃度
が2〜20重量%、特に3〜15重量%が好ましい。ま
た、水溶性高分子物質は低置換度セルロース量1重量部
に対して0.1〜5重量部添加することが好ましい。低
置換度セルロースエーテルと水溶性高分子物質をアルカ
リ水溶液に混合する場合、最初に低置換度セルロースエ
ーテルと水溶性高分子物質を別個にアルカリ水溶液に溶
解したものを調製し、その後それぞれを混合してもよい
し、予め低置換度セルロースエーテルをアルカリ水溶液
に溶かし、その後水溶性高分子物質を添加してもかまわ
ない。
酸、リンゴ酸、酢酸等の水溶液を使用することができ
る。この場合、酸の濃度は1〜20重量%が好ましい。
高分子物質とのアルカリ混合液を酸と接触する方法とし
ては、特に制限されるものではないが、酸水溶液にアル
カリ混合液を除々に滴下していく方法が好適に採用され
る。この場合、アルカリ混合液の滴下速度は1〜60m
l/分が好ましい。なお、この接触は0〜30℃にて行
うことが好ましい。
テルと炭酸塩とをアルカリ水溶液に溶解した液を液滴と
して酸に接触させ、低置換度セルロースエーテルを凝固
・再生させて、低置換度セルロースエーテル多孔質粒子
を製造する方法を提供するものである。この場合、低置
換度セルロースエーテルが凝固・再生される際に炭酸塩
が酸と反応して二酸化炭素を発生して多孔質粒子が形成
される。ここで、アルカリ水溶液及び酸は上記したもの
と同じものが使用できる。
ルシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸マグネシウム等が
例示できるが、特に水不溶性の炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウムが好ましい。低置換度セルロースエーテルと
炭酸塩との混合比率及びアルカリ水溶液中におけるこれ
らの成分の合計濃度についても特に制限はなく、目的と
する多孔質粒子の物性、及び操作性を勘案して適宜選択
すればよいが、通常は低置換度セルロースエーテルの濃
度が2〜20重量%、特に3〜15重量%が好ましい。
また、炭酸塩は低置換度セルロース量1重量部に対して
0.1〜10重量部添加することが好ましい。低置換度
セルロースエーテルと炭酸塩とを混合する場合、最初に
低置換度セルロースエーテルをアルカリ水溶液に溶か
し、その後炭酸塩を添加してもかまわない。
酸水溶液との接触方法・条件は、上記と同様である。ま
た、上記いずれの製造方法においても、凝固・再生され
た多孔質粒子は、ろ過や遠心分離機等で母液から分離し
た後、水洗、凍結真空乾燥等により乾燥される。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。なお、下記例で部は重量部を示す。
ルロースエーテル6部を10重量%の苛性ソーダ水溶液
95部に溶解して試料液を調製し、ヒドロキシプロピル
スターチ6部を10重量%の苛性ソーダ水溶液95部に
溶解した試料液と混合した。この混合液を攪拌下、3.
6重量%の塩酸水溶液にノズル(口径:1mmφ)から
毎分2mlの速度で滴下した。
後、水洗し、その後、凍結真空乾燥した。得られた粒子
について、空隙率及び硫黄臭の有無について調べた。結
果を表2に示す。
めた試料粒子100個の平均粒径から粒子の平均体積
(A)を求めた。別に上記の試料粒子100個の平均重
量(B)を求め、かさ密度d(B÷A)を算出した。予
め液体置換法によって求めた粒子原料の真比重(D)及
びdより下記の式から空隙率を求めた。 空隙率=1−d/D
を苛性ソーダ水溶液に溶解した試料液の代わりに、セル
ロース換算濃度6%、苛性ソーダ濃度10重量%のビス
コースを使用する以外は、実施例1〜6と同様に処理し
て、再生セルロースの多孔質粒子を調製し、空隙率及び
硫黄臭の有無について調べた。結果を表2に示す。
セルロースエーテル6部を10重量%の苛性ソーダ水溶
液95部に溶解し、これに18部の炭酸カルシウムを加
え攪拌して試料分散液を調製した。この分散液を攪拌
下、10重量%の塩酸水溶液にノズル(口径:1mm
φ)から毎分5mlの速度で滴下した。凝固・再生した
粒子はろ過法で分離した後、水洗し、その後、凍結乾燥
した。得られた粒子についてその空隙率及び硫黄臭の有
無について調べた。結果を表2に示す。
を苛性ソーダ水溶液に溶解した試料液の代わりに、セル
ロース換算濃度6%、苛性ソーダ濃度10重量%のビス
コースを使用する以外は、実施例7〜12と同様に処理
して、再生セルロースの多孔質粒子を調製し、その空隙
率及び硫黄臭の有無について調べた。結果を表2に示
す。
の強い二硫化炭素を使用する必要がなく、硫黄の残存に
伴う臭いの問題もないことから、抗菌剤、芳香剤、消臭
剤等の吸着材、バイオリアクターの固定担体あるいは室
内園芸用培土等、従来からビスコース由来の再生セルロ
ース多孔質粒子が使用されていた分野での代替が可能な
多孔質粒子を得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 アルキル基及び/又はヒドロキシアルキ
ル基によるモル置換度が0.05〜1.0である低置換
度セルロースエーテルからなる多孔質粒子。 - 【請求項2】 空隙率が30〜98%である請求項1記
載の低置換度セルロースエーテルの多孔質粒子。 - 【請求項3】 低置換度セルロースエーテルと水溶性高
分子物質又は炭酸塩とをアルカリ水溶液に溶解した混合
液を酸と接触させ、低置換度セルロースエーテルを凝固
・再生することを特徴とする請求項1又は2記載の低置
換度セルロースエーテルの多孔質粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002058333A JP4099640B2 (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 多孔質粒子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002058333A JP4099640B2 (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 多孔質粒子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003253034A true JP2003253034A (ja) | 2003-09-10 |
JP4099640B2 JP4099640B2 (ja) | 2008-06-11 |
Family
ID=28668334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002058333A Expired - Lifetime JP4099640B2 (ja) | 2002-03-05 | 2002-03-05 | 多孔質粒子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4099640B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008517076A (ja) * | 2004-10-15 | 2008-05-22 | ヘンケル コマンディットゲゼルシャフト アウフ アクチエン | 吸収性粒子 |
CN108350091A (zh) * | 2015-10-30 | 2018-07-31 | 东丽株式会社 | 醚系纤维素衍生物微粒 |
GB2560915A (en) * | 2017-03-27 | 2018-10-03 | Futamura Chemical Uk Ltd | Packaging material |
-
2002
- 2002-03-05 JP JP2002058333A patent/JP4099640B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008517076A (ja) * | 2004-10-15 | 2008-05-22 | ヘンケル コマンディットゲゼルシャフト アウフ アクチエン | 吸収性粒子 |
CN108350091A (zh) * | 2015-10-30 | 2018-07-31 | 东丽株式会社 | 醚系纤维素衍生物微粒 |
GB2560915A (en) * | 2017-03-27 | 2018-10-03 | Futamura Chemical Uk Ltd | Packaging material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4099640B2 (ja) | 2008-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3287798B2 (ja) | 球状セルロース微粒子の製造方法 | |
CN108350092B (zh) | 纤维素纳米纤维分散液的过滤方法和制造方法 | |
EP0132983A1 (en) | Production of gelatin spherical gels and their use | |
CN110559956B (zh) | 一种中空多孔纤维素微球及其制备方法和应用 | |
WO2007023513A1 (ja) | 溶解性の改善されたセルロース誘導体の製造製法 | |
KR20010080592A (ko) | 저점도의 수용성 셀룰로오스 에테르의 제조 방법 | |
JP2003252902A (ja) | 低置換度セルロースエーテル粉末とその製造方法 | |
CN114870065B (zh) | 一种基于阳离子化多糖的复合止血材料的制备方法 | |
EP0176225B1 (en) | Porous chitin shaped article and production thereof | |
JPH0643447B2 (ja) | 粒状多孔質キトサンの製造方法 | |
EP3981798B1 (en) | Modified chitosan, preparation method thereof, and additive for tile adhesive and use thereof | |
JP2003253034A (ja) | 多孔質粒子及びその製造方法 | |
US3879377A (en) | Purification of chitin | |
JP4410581B2 (ja) | 溶解性の改善されたセルロース誘導体の製造製法 | |
JP2018505269A (ja) | 水不溶性粒子の含有量を減少させた水溶性セルロース誘導体を生成するための方法 | |
US20030236398A1 (en) | Water-soluble cellulose ether having improved filtering characteristics and selection method | |
CA1039272A (en) | Water soluble cellulose ethers | |
JP2007084680A (ja) | 水易溶性高分子化合物及びその製造方法 | |
JP4021980B2 (ja) | セルロース系粒子体及びその製造方法 | |
JPH0662781B2 (ja) | 多孔性微小セルロ−ズ粒子およびその製造法 | |
JPH02235944A (ja) | 多孔性セルロース及びセルロース誘導体粒子の製造方法 | |
JP2754162B2 (ja) | キチンスポンジ,キチン紙,キチンフィルムの製造方法 | |
JPH0730203B2 (ja) | セルロ−ス粒子の製造方法 | |
JPH02261838A (ja) | 多孔質キトサン材料の製造方法 | |
JP5196151B2 (ja) | ヒドロキシアルキルアルキルセルロースの選定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040628 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060728 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060802 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070418 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070607 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071010 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20071120 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Effective date: 20071217 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080220 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080304 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 3 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328 |