JP2003251732A - 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム - Google Patents
透明ガスバリア薄膜被覆フィルムInfo
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- JP2003251732A JP2003251732A JP2002061483A JP2002061483A JP2003251732A JP 2003251732 A JP2003251732 A JP 2003251732A JP 2002061483 A JP2002061483 A JP 2002061483A JP 2002061483 A JP2002061483 A JP 2002061483A JP 2003251732 A JP2003251732 A JP 2003251732A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】従来の透明ガスバリア薄膜に比べ、水蒸気バリ
ア性がより高く、かつ透明性を有する透明ガスバリア薄
膜被覆フィルムを提供する。 【解決手段】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであってその金属化合物が金属原子
（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）、あるいは金
属原子（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、リン原子（Ｐ）より構
成され、かつ金属化合物ＭＯX ＳY において、その組成
比Ｘ／Ｙが、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．
８）、あるいは金属化合物ＭＯX ＰY において、その組
成比Ｘ／Ｙが、（１．５〜２．０）／（０．３〜１．
０）である。
ア性がより高く、かつ透明性を有する透明ガスバリア薄
膜被覆フィルムを提供する。 【解決手段】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであってその金属化合物が金属原子
（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）、あるいは金
属原子（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、リン原子（Ｐ）より構
成され、かつ金属化合物ＭＯX ＳY において、その組成
比Ｘ／Ｙが、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．
８）、あるいは金属化合物ＭＯX ＰY において、その組
成比Ｘ／Ｙが、（１．５〜２．０）／（０．３〜１．
０）である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置内の液晶
や、有機エレクトロルミネッセンス（以下有機ＥＬ）に
対する水蒸気バリア層等として利用するプラスチックフ
ィルムを基材とした水蒸気バリアに優れた透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムに関する。
や、有機エレクトロルミネッセンス（以下有機ＥＬ）に
対する水蒸気バリア層等として利用するプラスチックフ
ィルムを基材とした水蒸気バリアに優れた透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックフィルム上にガスバリア機
能を有する薄膜をコーティングした透明ガスバリア薄膜
被覆フィルムは食品や医薬品などの包装材として従来利
用されてきた。最近では液晶や有機ＥＬ素子を用いた表
示装置への応用が注目されている。
能を有する薄膜をコーティングした透明ガスバリア薄膜
被覆フィルムは食品や医薬品などの包装材として従来利
用されてきた。最近では液晶や有機ＥＬ素子を用いた表
示装置への応用が注目されている。
【０００３】現状では、これらの表示装置はガラス基材
上に前記素子が形成される構造となっている。近年、こ
れら表示装置の小型化・薄型化への要求に伴いその軽量
性、易加工性、形態の多様性の観点から、ガラス基材の
代替品として透明ガスバリア薄膜コーティングを施した
ポリマーフィルム基材が注目されている。
上に前記素子が形成される構造となっている。近年、こ
れら表示装置の小型化・薄型化への要求に伴いその軽量
性、易加工性、形態の多様性の観点から、ガラス基材の
代替品として透明ガスバリア薄膜コーティングを施した
ポリマーフィルム基材が注目されている。
【０００４】ポリマーフィルム基材に透明バリア薄膜コ
ーティングを施した例としては、特開平０７−２３３４
６３や特開平１１−２６２９６９に見られるような酸化
ケイ素（ＳｉＯX ）、酸化アルミ（ＡｌＯX ）薄膜のコ
ーティングが良く知られており、高い透明性であり、か
つ水蒸気透過速度２〜５ｇｍ-2ｄａｙ-1程度のバリア性
を有している。しかしながら、この範囲の水蒸気バリア
性は、基材をガラスとした場合と比較して非常に低い。
液晶や有機ＥＬの素子は、水蒸気劣化し易いため、表示
機能の劣化を引き起こすことがわかってきた。したがっ
て、従来に比べより高い水蒸気バリア性を有する薄膜の
コーティングを施す必要があり、様々な提案がなされて
きた。
ーティングを施した例としては、特開平０７−２３３４
６３や特開平１１−２６２９６９に見られるような酸化
ケイ素（ＳｉＯX ）、酸化アルミ（ＡｌＯX ）薄膜のコ
ーティングが良く知られており、高い透明性であり、か
つ水蒸気透過速度２〜５ｇｍ-2ｄａｙ-1程度のバリア性
を有している。しかしながら、この範囲の水蒸気バリア
性は、基材をガラスとした場合と比較して非常に低い。
液晶や有機ＥＬの素子は、水蒸気劣化し易いため、表示
機能の劣化を引き起こすことがわかってきた。したがっ
て、従来に比べより高い水蒸気バリア性を有する薄膜の
コーティングを施す必要があり、様々な提案がなされて
きた。
【０００５】水蒸気バリア性を高めるため、ＳｉＯX 、
ＡｌＯX 薄膜より、従来の網状構造の緻密さを高め、透
過する水分子を低下させることが考えられた。例えば特
開平８−６２５９０に見られるように窒素原子を含有さ
せた酸窒化物（例えばＳｉＯ X ＮY ）が提案された。こ
の提案により、バリア性が著しく高くなり、水蒸気透過
速度０．２〜０．６ｇｍ-2ｄａｙ-1、酸素透過速度０．
１〜０．４ｃｃｍ-2ｄａｙ-1まで高くなった。しかし表
示装置の水蒸気バリア層としては依然として不充分なバ
リア性であった。
ＡｌＯX 薄膜より、従来の網状構造の緻密さを高め、透
過する水分子を低下させることが考えられた。例えば特
開平８−６２５９０に見られるように窒素原子を含有さ
せた酸窒化物（例えばＳｉＯ X ＮY ）が提案された。こ
の提案により、バリア性が著しく高くなり、水蒸気透過
速度０．２〜０．６ｇｍ-2ｄａｙ-1、酸素透過速度０．
１〜０．４ｃｃｍ-2ｄａｙ-1まで高くなった。しかし表
示装置の水蒸気バリア層としては依然として不充分なバ
リア性であった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
らの問題を解決し、従来の透明ガスバリア薄膜に比べ水
蒸気バリアがより高く、かつ透明性を有する透明ガスバ
リア薄膜被覆フィルムを提供することにある。
らの問題を解決し、従来の透明ガスバリア薄膜に比べ水
蒸気バリアがより高く、かつ透明性を有する透明ガスバ
リア薄膜被覆フィルムを提供することにある。
【０００７】本発明は、これらの問題を解決するにあた
り検討した結果、以下のことを見出した。酸素を始めと
するガスの透過速度は、コーティングする薄膜の欠陥
（空孔やクラック）の密度、サイズに強く寄与してお
り、すなわち膜の網状構造が緻密であるほど高いガスバ
リア性を示す。しかし水蒸気透過速度については、いま
だはっきりしたことは解明されていないが、薄膜の欠陥
（あるいは緻密さ）を制御するだけでなく、薄膜と水蒸
気（水分子）との相互作用を高めることが重要であるこ
とがわかった。したがって水蒸気（水分子）相互作用が
強い硫黄原子あるいはリン原子を組成として含有させた
金属酸化物薄膜のコーティングにより、劇的に高い水蒸
気バリア性を得ることができた。
り検討した結果、以下のことを見出した。酸素を始めと
するガスの透過速度は、コーティングする薄膜の欠陥
（空孔やクラック）の密度、サイズに強く寄与してお
り、すなわち膜の網状構造が緻密であるほど高いガスバ
リア性を示す。しかし水蒸気透過速度については、いま
だはっきりしたことは解明されていないが、薄膜の欠陥
（あるいは緻密さ）を制御するだけでなく、薄膜と水蒸
気（水分子）との相互作用を高めることが重要であるこ
とがわかった。したがって水蒸気（水分子）相互作用が
強い硫黄原子あるいはリン原子を組成として含有させた
金属酸化物薄膜のコーティングにより、劇的に高い水蒸
気バリア性を得ることができた。
【０００８】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明の請求項
１に係る発明は、金属化合物を少なくとも片面に被覆し
たポリマーフィルムであって、その金属化合物が金属原
子（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）より構成さ
れ、かつ金属化合物ＭＯX ＳY において、その組成比Ｘ
／Ｙが、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．８）であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルムで
ある。
１に係る発明は、金属化合物を少なくとも片面に被覆し
たポリマーフィルムであって、その金属化合物が金属原
子（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）より構成さ
れ、かつ金属化合物ＭＯX ＳY において、その組成比Ｘ
／Ｙが、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．８）であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルムで
ある。
【０００９】本発明の請求項２に係る発明は、上記請求
項１に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記硫黄原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙが、
１．５〜６．０であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
項１に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記硫黄原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙが、
１．５〜６．０であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
【００１０】本発明の請求項３に係る発明は、金属化合
物を少なくとも片面に被覆したポリマーフィルムであっ
て、その金属化合物が金属原子（Ｍ）、酸素原子
（Ｏ）、リン原子（Ｐ）より構成され、かつ金属化合物
ＭＯX ＰY において、その組成比Ｘ／Ｙが、（１．５〜
２．０）／（０．３〜１．０）であることを特徴とする
透明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
物を少なくとも片面に被覆したポリマーフィルムであっ
て、その金属化合物が金属原子（Ｍ）、酸素原子
（Ｏ）、リン原子（Ｐ）より構成され、かつ金属化合物
ＭＯX ＰY において、その組成比Ｘ／Ｙが、（１．５〜
２．０）／（０．３〜１．０）であることを特徴とする
透明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
【００１１】本発明の請求項４に係る発明は、上記請求
項３に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記リン原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙが、
１．５〜８．０であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
項３に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記リン原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙが、
１．５〜８．０であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
【００１２】本発明の請求項５に係る発明は、上記請求
項１乃至４のいずれか１項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物中の金属
が、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、インジ
ウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ
（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）のいずれかであり、これら
の金属を含む金属化合物薄膜のいずれか単層あるいは２
種類以上の積層体であることを特徴とする透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムである。
項１乃至４のいずれか１項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物中の金属
が、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、インジ
ウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ
（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）のいずれかであり、これら
の金属を含む金属化合物薄膜のいずれか単層あるいは２
種類以上の積層体であることを特徴とする透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムである。
【００１３】本発明の請求項６に係る発明は、上記請求
項１乃至５のいずれか１項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物を被覆した
ポリマーフィルムの水蒸気透過速度が、０．１ｇｍ-2ｄ
ａｙ-1以下であり、かつ酸素透過速度が、０．０５ｃｃ
ｍ-2ｄａｙ-1以下であり、かつ光波長５５０ｎｍにおけ
る光線透過率が、８５％以上であることを特徴とする透
明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
項１乃至５のいずれか１項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物を被覆した
ポリマーフィルムの水蒸気透過速度が、０．１ｇｍ-2ｄ
ａｙ-1以下であり、かつ酸素透過速度が、０．０５ｃｃ
ｍ-2ｄａｙ-1以下であり、かつ光波長５５０ｎｍにおけ
る光線透過率が、８５％以上であることを特徴とする透
明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明で使用する上記ポリマーフ
ィルム基材としては、不飽和ポリエステル（ポリエチレ
ンテレフタレート）、ポリオレフィン、ポリイミド、ポ
リビニルアルコール、ポリエーテルサルファイドなど、
透明性が高く、かつその厚さが、５０〜２００μｍのフ
ィルムであれば、本発明の目的を逸脱するものではな
い。またポリマーフィルム基材上に、表面処理あるいは
ラミネートが施してあっても構わない。
ィルム基材としては、不飽和ポリエステル（ポリエチレ
ンテレフタレート）、ポリオレフィン、ポリイミド、ポ
リビニルアルコール、ポリエーテルサルファイドなど、
透明性が高く、かつその厚さが、５０〜２００μｍのフ
ィルムであれば、本発明の目的を逸脱するものではな
い。またポリマーフィルム基材上に、表面処理あるいは
ラミネートが施してあっても構わない。
【００１５】上記金属化合物の形成方法としては、真空
蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、
化学気相堆積法（ＣＶＤ）などが挙げられる。
蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、
化学気相堆積法（ＣＶＤ）などが挙げられる。
【００１６】例えば、金属化合物ＭＯX ＳY において
は、その酸素原子Ｏと硫黄原子（Ｓ）の組成比Ｘ／Ｙ
は、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．８）であるこ
とが望ましい。硫黄原子の割合が、この範囲以上になる
と、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、また、
この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下するという欠
点をもつ。
は、その酸素原子Ｏと硫黄原子（Ｓ）の組成比Ｘ／Ｙ
は、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．８）であるこ
とが望ましい。硫黄原子の割合が、この範囲以上になる
と、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、また、
この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下するという欠
点をもつ。
【００１７】また、金属化合物ＭＯX ＰY においては、
その酸素原子（Ｏ）とリン原子（Ｐ）の組成比Ｘ／Ｙ
は、（１．５〜２．２）／（０．３〜１．０）であるこ
とが望ましい。リン原子（Ｐ）の割合が、この範囲以上
になると、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、
また、この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下すると
いう欠点をもつ。
その酸素原子（Ｏ）とリン原子（Ｐ）の組成比Ｘ／Ｙ
は、（１．５〜２．２）／（０．３〜１．０）であるこ
とが望ましい。リン原子（Ｐ）の割合が、この範囲以上
になると、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、
また、この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下すると
いう欠点をもつ。
【００１８】金属化合物の薄膜の厚みとしては、１０〜
２００ｎｍが望ましい。この厚みがこの範囲以上では、
その圧縮応力のためクラックが生じ易くなり、水蒸気バ
リア性低下の原因となる。また、この範囲以下では十分
な厚さではない。
２００ｎｍが望ましい。この厚みがこの範囲以上では、
その圧縮応力のためクラックが生じ易くなり、水蒸気バ
リア性低下の原因となる。また、この範囲以下では十分
な厚さではない。
【００１９】
【実施例】以下に、本発明の具体的実施例について説明
する。 ＜実施例１＞反応性スパッタリング法により、ポリエス
テルフィルム上に、それぞれＳｉＯ X ＳY 、ＡｌＯX Ｓ
Y の薄膜を被覆した。ターゲットにＳｉ，Ａｌ、反応ガ
スに硫化水素と酸素の混合ガスを用いた。基材として不
飽和ポリエステルフィルム（厚さ１００μｍ）を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を１×１０-4
Ｐａまで排気した後に、アルゴンガスを２×１０-1Ｐａ
まで導入し、続いて、酸素ガスを３×１０-1Ｐａまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が５×１０-1Ｐａにな
るまで導入して、金属ターゲットのスパッタリングによ
り、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＳY 、ＡｌＯX Ｓ
Y の薄膜を被覆した。
する。 ＜実施例１＞反応性スパッタリング法により、ポリエス
テルフィルム上に、それぞれＳｉＯ X ＳY 、ＡｌＯX Ｓ
Y の薄膜を被覆した。ターゲットにＳｉ，Ａｌ、反応ガ
スに硫化水素と酸素の混合ガスを用いた。基材として不
飽和ポリエステルフィルム（厚さ１００μｍ）を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を１×１０-4
Ｐａまで排気した後に、アルゴンガスを２×１０-1Ｐａ
まで導入し、続いて、酸素ガスを３×１０-1Ｐａまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が５×１０-1Ｐａにな
るまで導入して、金属ターゲットのスパッタリングによ
り、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＳY 、ＡｌＯX Ｓ
Y の薄膜を被覆した。
【００２０】＜実施例２＞真空蒸着法により、ポリエス
テルフィルム上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、ＩｎＯX Ｐ
Y の薄膜を被覆した。蒸着材料としてＳｉ，Ｉｎを用
い、電子ビームにて蒸発させ、また、五酸化リン（Ｐ2
Ｏ5 ）を抵抗加熱にて蒸発させ成膜した。基材として不
飽和ポリエステルフィルム（厚さ１００μｍ）を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を１×１０-4
Ｐａまで排気した後に、電子ビームにより、金属材料を
５×１０-2Ｐａになるまで蒸発させ、同時に抵抗加熱に
より、五酸化リンを７×１０-3Ｐａになるまで蒸発さ
せ、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、ＩｎＯX Ｐ
Y の薄膜を被覆した。
テルフィルム上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、ＩｎＯX Ｐ
Y の薄膜を被覆した。蒸着材料としてＳｉ，Ｉｎを用
い、電子ビームにて蒸発させ、また、五酸化リン（Ｐ2
Ｏ5 ）を抵抗加熱にて蒸発させ成膜した。基材として不
飽和ポリエステルフィルム（厚さ１００μｍ）を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を１×１０-4
Ｐａまで排気した後に、電子ビームにより、金属材料を
５×１０-2Ｐａになるまで蒸発させ、同時に抵抗加熱に
より、五酸化リンを７×１０-3Ｐａになるまで蒸発さ
せ、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、ＩｎＯX Ｐ
Y の薄膜を被覆した。
【００２１】＜比較例１＞上記実施例１において、ター
ゲットにＡｌを用い、酸素ガスを３×１０-1Ｐａまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が３．５×１０-1Ｐａ
になるまで導入する以外は、実施例１と同様にして、上
記基材上に、それぞれＳｉＯX ＳY 、ＡｌＯX ＳY の薄
膜を被覆した。
ゲットにＡｌを用い、酸素ガスを３×１０-1Ｐａまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が３．５×１０-1Ｐａ
になるまで導入する以外は、実施例１と同様にして、上
記基材上に、それぞれＳｉＯX ＳY 、ＡｌＯX ＳY の薄
膜を被覆した。
【００２２】＜比較例２＞上記実施例２において、蒸着
材料にＳｉを用い、金属材料を５×１０-2 Ｐａになる
まで蒸発させ、同時に抵抗加熱により、五酸化リンを９
×１０-3Ｐａになるまで蒸発させた以外は、実施例２と
同様にして、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、Ｉ
ｎＯX ＰY の薄膜を被覆した。
材料にＳｉを用い、金属材料を５×１０-2 Ｐａになる
まで蒸発させ、同時に抵抗加熱により、五酸化リンを９
×１０-3Ｐａになるまで蒸発させた以外は、実施例２と
同様にして、上記基材上に、それぞれＳｉＯX ＰY 、Ｉ
ｎＯX ＰY の薄膜を被覆した。
【００２３】＜測定と結果＞上記実施例１、実施例２、
及び比較例１、比較例２から得られた各々サンプルの水
蒸気透過速度を、水蒸気透過速度測定装置（モダンコン
トロール社製：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）を用い、湿度９０
％ＲＨ、温度４０℃の雰囲気下で測定した。また、前記
各々サンプルの酸素透過速度を、酸素透過速度測定装置
（モダンコントロール社製：ＯＸＴＲＡＮ）を用い、湿
度０％、温度４０℃の雰囲気下で測定した。また、その
各々サンプルの光線透過率を分光光度計にて測定した。
また、金属化合物中の組成比Ｘ／Ｙ（組成比Ｘ：Ｙ）
は、Ｘ線光電子分光測定装置（島津製作所製）にて測定
した。上記測定結果は表１に併せて示した。
及び比較例１、比較例２から得られた各々サンプルの水
蒸気透過速度を、水蒸気透過速度測定装置（モダンコン
トロール社製：ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）を用い、湿度９０
％ＲＨ、温度４０℃の雰囲気下で測定した。また、前記
各々サンプルの酸素透過速度を、酸素透過速度測定装置
（モダンコントロール社製：ＯＸＴＲＡＮ）を用い、湿
度０％、温度４０℃の雰囲気下で測定した。また、その
各々サンプルの光線透過率を分光光度計にて測定した。
また、金属化合物中の組成比Ｘ／Ｙ（組成比Ｘ：Ｙ）
は、Ｘ線光電子分光測定装置（島津製作所製）にて測定
した。上記測定結果は表１に併せて示した。
【００２４】
【表１】
【００２５】表１中の第一段記載のＷＶＴＲ、ＯＴＲ、
及びＴ％は、それぞれ水蒸気透過速度（単位ｇｍ-2ｄａ
ｙ-1）、酸素透過速度（単位ｃｃｍ-2ｄａｙ-1）、及び
光線透過率（単位％、光波長５５０ｎｍ）を表してい
る。また膜厚の単位はｎｍ。
及びＴ％は、それぞれ水蒸気透過速度（単位ｇｍ-2ｄａ
ｙ-1）、酸素透過速度（単位ｃｃｍ-2ｄａｙ-1）、及び
光線透過率（単位％、光波長５５０ｎｍ）を表してい
る。また膜厚の単位はｎｍ。
【００２６】
【発明の効果】本発明の透明ガスバリア薄膜被覆フィル
ムは、金属酸化物に硫黄原子あるいはリン原子を含有さ
せることで、今までに無い高水蒸気バリア性を持ち、か
つ透明性の高いガスバリア薄膜被覆フィルムが得られる
ムは、金属酸化物に硫黄原子あるいはリン原子を含有さ
せることで、今までに無い高水蒸気バリア性を持ち、か
つ透明性の高いガスバリア薄膜被覆フィルムが得られる
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ
Ｆターム(参考） 2H090 JB03 JC07 JD12
3K007 AB12 AB13 AB14 BA07 CA06
DB03
4F100 AA04B AA04C AA07B AA07C
AA09B AA09C AA17B AA17C
AA33B AA33C AK01A AK41A
BA03 BA06 BA10B BA10C
EH66 EJ58 JD03 JD04 JN01A
JN08 YY00
4K029 AA11 AA25 BA41 BB02 BC00
BC08
Claims (6)
- 【請求項１】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであって、その金属化合物が金属原子
（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、硫黄原子（Ｓ）より構成さ
れ、かつ金属化合物ＭＯX ＳY において、その組成比Ｘ
／Ｙが、（１．２〜１．７）／（０．３〜０．８）であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項２】前記硫黄原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙ
が１．５〜６．０であることを特徴とする請求項１記載
の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項３】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであって、その金属化合物が金属原子
（Ｍ）、酸素原子（Ｏ）、リン原子（Ｐ）より構成さ
れ、かつ金属化合物ＭＯX ＰY において、その組成比Ｘ
／Ｙが、（１．５〜２．０）／（０．３〜１．０）であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項４】前記リン原子と酸素原子との組成比Ｘ／Ｙ
が、１．５〜８．０であることを特徴とする請求項３記
載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項５】前記金属化合物中の金属が、シリコン（Ｓ
ｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、インジウム（Ｉｎ）、ス
ズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタ
ル（Ｔａ）のいずれかであり、これらの金属を含む金属
化合物薄膜のいずれか単層あるいは２種類以上の積層体
であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項
記載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項６】前記金属化合物を被覆したポリマーフィル
ムの水蒸気透過速度が、０．１ｇｍ -2ｄａｙ-1以下であ
り、かつ酸素透過速度が、０．０５ｃｃｍ-2ｄａｙ-1以
下であり、かつ光波長５５０ｎｍにおける光線透過率
が、８５％以上であることを特徴とする請求項１から５
に記載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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