JP2003251732A - 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム - Google Patents
透明ガスバリア薄膜被覆フィルムInfo
- Publication number
- JP2003251732A JP2003251732A JP2002061483A JP2002061483A JP2003251732A JP 2003251732 A JP2003251732 A JP 2003251732A JP 2002061483 A JP2002061483 A JP 2002061483A JP 2002061483 A JP2002061483 A JP 2002061483A JP 2003251732 A JP2003251732 A JP 2003251732A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal compound
- atom
- thin film
- transparent gas
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 43
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims abstract description 42
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 32
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 31
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 12
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002897 polymer film coating Substances 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N tetraphosphorus decaoxide Chemical compound O1P(O2)(=O)OP3(=O)OP1(=O)OP2(=O)O3 DLYUQMMRRRQYAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
ア性がより高く、かつ透明性を有する透明ガスバリア薄
膜被覆フィルムを提供する。 【解決手段】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであってその金属化合物が金属原子
(M)、酸素原子(O)、硫黄原子(S)、あるいは金
属原子(M)、酸素原子(O)、リン原子(P)より構
成され、かつ金属化合物MOX SY において、その組成
比X/Yが、(1.2〜1.7)/(0.3〜0.
8)、あるいは金属化合物MOX PY において、その組
成比X/Yが、(1.5〜2.0)/(0.3〜1.
0)である。
Description
や、有機エレクトロルミネッセンス(以下有機EL)に
対する水蒸気バリア層等として利用するプラスチックフ
ィルムを基材とした水蒸気バリアに優れた透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムに関する。
能を有する薄膜をコーティングした透明ガスバリア薄膜
被覆フィルムは食品や医薬品などの包装材として従来利
用されてきた。最近では液晶や有機EL素子を用いた表
示装置への応用が注目されている。
上に前記素子が形成される構造となっている。近年、こ
れら表示装置の小型化・薄型化への要求に伴いその軽量
性、易加工性、形態の多様性の観点から、ガラス基材の
代替品として透明ガスバリア薄膜コーティングを施した
ポリマーフィルム基材が注目されている。
ーティングを施した例としては、特開平07−2334
63や特開平11−262969に見られるような酸化
ケイ素(SiOX )、酸化アルミ(AlOX )薄膜のコ
ーティングが良く知られており、高い透明性であり、か
つ水蒸気透過速度2〜5gm-2day-1程度のバリア性
を有している。しかしながら、この範囲の水蒸気バリア
性は、基材をガラスとした場合と比較して非常に低い。
液晶や有機ELの素子は、水蒸気劣化し易いため、表示
機能の劣化を引き起こすことがわかってきた。したがっ
て、従来に比べより高い水蒸気バリア性を有する薄膜の
コーティングを施す必要があり、様々な提案がなされて
きた。
AlOX 薄膜より、従来の網状構造の緻密さを高め、透
過する水分子を低下させることが考えられた。例えば特
開平8−62590に見られるように窒素原子を含有さ
せた酸窒化物(例えばSiO X NY )が提案された。こ
の提案により、バリア性が著しく高くなり、水蒸気透過
速度0.2〜0.6gm-2day-1、酸素透過速度0.
1〜0.4ccm-2day-1まで高くなった。しかし表
示装置の水蒸気バリア層としては依然として不充分なバ
リア性であった。
らの問題を解決し、従来の透明ガスバリア薄膜に比べ水
蒸気バリアがより高く、かつ透明性を有する透明ガスバ
リア薄膜被覆フィルムを提供することにある。
り検討した結果、以下のことを見出した。酸素を始めと
するガスの透過速度は、コーティングする薄膜の欠陥
(空孔やクラック)の密度、サイズに強く寄与してお
り、すなわち膜の網状構造が緻密であるほど高いガスバ
リア性を示す。しかし水蒸気透過速度については、いま
だはっきりしたことは解明されていないが、薄膜の欠陥
(あるいは緻密さ)を制御するだけでなく、薄膜と水蒸
気(水分子)との相互作用を高めることが重要であるこ
とがわかった。したがって水蒸気(水分子)相互作用が
強い硫黄原子あるいはリン原子を組成として含有させた
金属酸化物薄膜のコーティングにより、劇的に高い水蒸
気バリア性を得ることができた。
1に係る発明は、金属化合物を少なくとも片面に被覆し
たポリマーフィルムであって、その金属化合物が金属原
子(M)、酸素原子(O)、硫黄原子(S)より構成さ
れ、かつ金属化合物MOX SY において、その組成比X
/Yが、(1.2〜1.7)/(0.3〜0.8)であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルムで
ある。
項1に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記硫黄原子と酸素原子との組成比X/Yが、
1.5〜6.0であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
物を少なくとも片面に被覆したポリマーフィルムであっ
て、その金属化合物が金属原子(M)、酸素原子
(O)、リン原子(P)より構成され、かつ金属化合物
MOX PY において、その組成比X/Yが、(1.5〜
2.0)/(0.3〜1.0)であることを特徴とする
透明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
項3に係る透明ガスバリア薄膜被覆フィルムの発明にお
いて、前記リン原子と酸素原子との組成比X/Yが、
1.5〜8.0であることを特徴とする透明ガスバリア
薄膜被覆フィルムである。
項1乃至4のいずれか1項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物中の金属
が、シリコン(Si)、アルミニウム(Al)、インジ
ウム(In)、スズ(Sn)、チタン(Ti)、ニオブ
(Nb)、タンタル(Ta)のいずれかであり、これら
の金属を含む金属化合物薄膜のいずれか単層あるいは2
種類以上の積層体であることを特徴とする透明ガスバリ
ア薄膜被覆フィルムである。
項1乃至5のいずれか1項に係る透明ガスバリア薄膜被
覆フィルムの発明において、前記金属化合物を被覆した
ポリマーフィルムの水蒸気透過速度が、0.1gm-2d
ay-1以下であり、かつ酸素透過速度が、0.05cc
m-2day-1以下であり、かつ光波長550nmにおけ
る光線透過率が、85%以上であることを特徴とする透
明ガスバリア薄膜被覆フィルムである。
ィルム基材としては、不飽和ポリエステル(ポリエチレ
ンテレフタレート)、ポリオレフィン、ポリイミド、ポ
リビニルアルコール、ポリエーテルサルファイドなど、
透明性が高く、かつその厚さが、50〜200μmのフ
ィルムであれば、本発明の目的を逸脱するものではな
い。またポリマーフィルム基材上に、表面処理あるいは
ラミネートが施してあっても構わない。
蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、
化学気相堆積法(CVD)などが挙げられる。
は、その酸素原子Oと硫黄原子(S)の組成比X/Y
は、(1.2〜1.7)/(0.3〜0.8)であるこ
とが望ましい。硫黄原子の割合が、この範囲以上になる
と、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、また、
この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下するという欠
点をもつ。
その酸素原子(O)とリン原子(P)の組成比X/Y
は、(1.5〜2.2)/(0.3〜1.0)であるこ
とが望ましい。リン原子(P)の割合が、この範囲以上
になると、薄膜への光吸収が増加し、透明性が低下し、
また、この範囲以下では、水蒸気バリア性が低下すると
いう欠点をもつ。
200nmが望ましい。この厚みがこの範囲以上では、
その圧縮応力のためクラックが生じ易くなり、水蒸気バ
リア性低下の原因となる。また、この範囲以下では十分
な厚さではない。
する。 <実施例1>反応性スパッタリング法により、ポリエス
テルフィルム上に、それぞれSiO X SY 、AlOX S
Y の薄膜を被覆した。ターゲットにSi,Al、反応ガ
スに硫化水素と酸素の混合ガスを用いた。基材として不
飽和ポリエステルフィルム(厚さ100μm)を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を1×10-4
Paまで排気した後に、アルゴンガスを2×10-1Pa
まで導入し、続いて、酸素ガスを3×10-1Paまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が5×10-1Paにな
るまで導入して、金属ターゲットのスパッタリングによ
り、上記基材上に、それぞれSiOX SY 、AlOX S
Y の薄膜を被覆した。
テルフィルム上に、それぞれSiOX PY 、InOX P
Y の薄膜を被覆した。蒸着材料としてSi,Inを用
い、電子ビームにて蒸発させ、また、五酸化リン(P2
O5 )を抵抗加熱にて蒸発させ成膜した。基材として不
飽和ポリエステルフィルム(厚さ100μm)を用い
た。成膜方法としては、真空チェンバー内を1×10-4
Paまで排気した後に、電子ビームにより、金属材料を
5×10-2Paになるまで蒸発させ、同時に抵抗加熱に
より、五酸化リンを7×10-3Paになるまで蒸発さ
せ、上記基材上に、それぞれSiOX PY 、InOX P
Y の薄膜を被覆した。
ゲットにAlを用い、酸素ガスを3×10-1Paまで導
入し、さらに硫化水素ガスを全圧が3.5×10-1Pa
になるまで導入する以外は、実施例1と同様にして、上
記基材上に、それぞれSiOX SY 、AlOX SY の薄
膜を被覆した。
材料にSiを用い、金属材料を5×10-2 Paになる
まで蒸発させ、同時に抵抗加熱により、五酸化リンを9
×10-3Paになるまで蒸発させた以外は、実施例2と
同様にして、上記基材上に、それぞれSiOX PY 、I
nOX PY の薄膜を被覆した。
及び比較例1、比較例2から得られた各々サンプルの水
蒸気透過速度を、水蒸気透過速度測定装置(モダンコン
トロール社製:PERMATRAN)を用い、湿度90
%RH、温度40℃の雰囲気下で測定した。また、前記
各々サンプルの酸素透過速度を、酸素透過速度測定装置
(モダンコントロール社製:OXTRAN)を用い、湿
度0%、温度40℃の雰囲気下で測定した。また、その
各々サンプルの光線透過率を分光光度計にて測定した。
また、金属化合物中の組成比X/Y(組成比X:Y)
は、X線光電子分光測定装置(島津製作所製)にて測定
した。上記測定結果は表1に併せて示した。
及びT%は、それぞれ水蒸気透過速度(単位gm-2da
y-1)、酸素透過速度(単位ccm-2day-1)、及び
光線透過率(単位%、光波長550nm)を表してい
る。また膜厚の単位はnm。
ムは、金属酸化物に硫黄原子あるいはリン原子を含有さ
せることで、今までに無い高水蒸気バリア性を持ち、か
つ透明性の高いガスバリア薄膜被覆フィルムが得られる
Claims (6)
- 【請求項1】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであって、その金属化合物が金属原子
(M)、酸素原子(O)、硫黄原子(S)より構成さ
れ、かつ金属化合物MOX SY において、その組成比X
/Yが、(1.2〜1.7)/(0.3〜0.8)であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項2】前記硫黄原子と酸素原子との組成比X/Y
が1.5〜6.0であることを特徴とする請求項1記載
の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項3】金属化合物を少なくとも片面に被覆したポ
リマーフィルムであって、その金属化合物が金属原子
(M)、酸素原子(O)、リン原子(P)より構成さ
れ、かつ金属化合物MOX PY において、その組成比X
/Yが、(1.5〜2.0)/(0.3〜1.0)であ
ることを特徴とする透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項4】前記リン原子と酸素原子との組成比X/Y
が、1.5〜8.0であることを特徴とする請求項3記
載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項5】前記金属化合物中の金属が、シリコン(S
i)、アルミニウム(Al)、インジウム(In)、ス
ズ(Sn)、チタン(Ti)、ニオブ(Nb)、タンタ
ル(Ta)のいずれかであり、これらの金属を含む金属
化合物薄膜のいずれか単層あるいは2種類以上の積層体
であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
記載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。 - 【請求項6】前記金属化合物を被覆したポリマーフィル
ムの水蒸気透過速度が、0.1gm -2day-1以下であ
り、かつ酸素透過速度が、0.05ccm-2day-1以
下であり、かつ光波長550nmにおける光線透過率
が、85%以上であることを特徴とする請求項1から5
に記載の透明ガスバリア薄膜被覆フィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002061483A JP4106931B2 (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002061483A JP4106931B2 (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003251732A true JP2003251732A (ja) | 2003-09-09 |
JP4106931B2 JP4106931B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=28670344
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002061483A Expired - Fee Related JP4106931B2 (ja) | 2002-03-07 | 2002-03-07 | 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4106931B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013075428A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Kuraray Co Ltd | 複合構造体、それを用いた包装材料および成形品、ならびに複合構造体の製造方法 |
WO2013183093A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | パナソニック株式会社 | 有機el素子とその製造方法、有機elパネル、有機el発光装置、および有機el表示装置 |
WO2014122942A1 (ja) | 2013-02-08 | 2014-08-14 | 株式会社クラレ | 多層構造体およびその製造方法 |
KR20160133553A (ko) | 2014-03-18 | 2016-11-22 | 주식회사 쿠라레 | 전자 디바이스 |
KR20170018041A (ko) | 2014-07-02 | 2017-02-15 | 주식회사 쿠라레 | 다층 구조체 및 그 제조 방법, 이를 사용한 포장재 및 제품, 및 전자 디바이스 |
KR20170041873A (ko) | 2014-08-13 | 2017-04-17 | 주식회사 쿠라레 | 대전 방지 시트, 및 이를 포함하는 포장재 및 전자 디바이스 |
KR20170041836A (ko) | 2014-08-13 | 2017-04-17 | 주식회사 쿠라레 | 다층 구조체, 이를 포함하는 포장재 및 상기 다층 구조체의 제조 방법 |
KR20170097766A (ko) | 2014-12-24 | 2017-08-28 | 주식회사 쿠라레 | 전자 디바이스 및 이의 제조 방법 |
US10406787B2 (en) | 2014-12-24 | 2019-09-10 | Kuraray Co., Ltd. | Multilayer structure and packaging material including same |
-
2002
- 2002-03-07 JP JP2002061483A patent/JP4106931B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013075428A (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-25 | Kuraray Co Ltd | 複合構造体、それを用いた包装材料および成形品、ならびに複合構造体の製造方法 |
JPWO2013183093A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2016-01-21 | 株式会社Joled | 有機el素子とその製造方法、有機elパネル、有機el発光装置、および有機el表示装置 |
WO2013183093A1 (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | パナソニック株式会社 | 有機el素子とその製造方法、有機elパネル、有機el発光装置、および有機el表示装置 |
US9105868B2 (en) | 2012-06-04 | 2015-08-11 | Joled Inc. | Organic EL element including a hole injection layer with a proportion of sulphur atoms relative to metal atoms |
US10273379B2 (en) | 2013-02-08 | 2019-04-30 | Kuraray Co., Ltd. | Multilayer structure and method for producing same |
KR20150119010A (ko) | 2013-02-08 | 2015-10-23 | 가부시키가이샤 구라레 | 다층 구조체 및 이의 제조 방법 |
WO2014122942A1 (ja) | 2013-02-08 | 2014-08-14 | 株式会社クラレ | 多層構造体およびその製造方法 |
KR20160133553A (ko) | 2014-03-18 | 2016-11-22 | 주식회사 쿠라레 | 전자 디바이스 |
KR20170018041A (ko) | 2014-07-02 | 2017-02-15 | 주식회사 쿠라레 | 다층 구조체 및 그 제조 방법, 이를 사용한 포장재 및 제품, 및 전자 디바이스 |
KR20170041873A (ko) | 2014-08-13 | 2017-04-17 | 주식회사 쿠라레 | 대전 방지 시트, 및 이를 포함하는 포장재 및 전자 디바이스 |
KR20170041836A (ko) | 2014-08-13 | 2017-04-17 | 주식회사 쿠라레 | 다층 구조체, 이를 포함하는 포장재 및 상기 다층 구조체의 제조 방법 |
US10240062B2 (en) | 2014-08-13 | 2019-03-26 | Kuraray Co., Ltd. | Antistatic sheet, and packaging material and electronic device including the same |
US10391743B2 (en) | 2014-08-13 | 2019-08-27 | Kurray Co., Ltd. | Multilayer structure, packaging material including the same, and method for producing said multilayer structure |
KR20170097766A (ko) | 2014-12-24 | 2017-08-28 | 주식회사 쿠라레 | 전자 디바이스 및 이의 제조 방법 |
US10406787B2 (en) | 2014-12-24 | 2019-09-10 | Kuraray Co., Ltd. | Multilayer structure and packaging material including same |
US10584282B2 (en) | 2014-12-24 | 2020-03-10 | Kuraray Co., Ltd. | Electronic device and method for producing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4106931B2 (ja) | 2008-06-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2330123C (en) | Transparent conductive laminate, its manufacturing method, and display comprising transparent conductive laminate | |
JP2002260848A (ja) | 有機el素子に用いるフィルム及び有機el装置 | |
JP3859518B2 (ja) | 透明水蒸気バリアフィルム | |
JP2005035128A (ja) | 透明ガスバリアフィルムおよびそれを用いた表示装置 | |
JP2007062305A (ja) | 透明ガスバリア基板 | |
JP2003251732A (ja) | 透明ガスバリア薄膜被覆フィルム | |
Gasonoo et al. | Parylene C-AlN multilayered thin-film passivation for organic light-emitting diode using a single deposition chamber | |
CN101743267B (zh) | 多层膜及其制造方法 | |
JP4287001B2 (ja) | 透明導電積層体 | |
JP2000144379A (ja) | 透明導電積層体の製造方法 | |
JP4097947B2 (ja) | 透明水蒸気バリアフィルム | |
US8404353B2 (en) | Barrier laminate and device sealed with it, and method of sealing device | |
JP3933894B2 (ja) | 透明水蒸気バリアフィルム | |
CN101065239B (zh) | 阻气型透明塑料基板、其制造方法和使用其的柔性显示元件 | |
JP4289116B2 (ja) | ガスバリア基材、表示デバイス用基板および表示デバイス | |
TW201841736A (zh) | 無機膜及氣體障壁膜 | |
JPH0862590A (ja) | 透明電極用基板 | |
JP4180414B2 (ja) | 透明バリアフィルム | |
JP3654841B2 (ja) | 透明導電性フィルムおよびその製造方法 | |
JP2004042412A (ja) | 透明ガスバリア性薄膜被覆フィルム | |
KR102252112B1 (ko) | 은 계열 금속 합금 조성 기반 투명 전도성 산화물 박막 및 그 제조방법 | |
JP4567127B2 (ja) | 透明導電積層体 | |
JP2004174879A (ja) | コンバーティング適性を有するバリアフィルム | |
JP2004071171A (ja) | タッチパネル用透明導電積層体 | |
JP5206111B2 (ja) | イオンプレーティング用蒸発源材料の原料粉末、イオンプレーティング用蒸発源材料及びその製造方法、ガスバリア性シートの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041216 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070123 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070319 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070502 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070807 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080311 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080324 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120411 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130411 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140411 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |