JP2003245545A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応または気相接触アンモ酸化反応に用いる、テルルおよびアンチモンから選ばれる少なくとも１種以上の元素、モリブデン、バナジウムおよびニオブを含む酸化物触媒の調製方法において、ＴｅまたはＳｂから選ばれる少なくとも１種以上の化合物、Ｍｏ化合物、Ｖ化合物、Ｎｂ化合物を含む水性混合液を乾燥し、実質的に酸素不存在下に焼成する方法であって、焼成工程において一旦焼成を中断し、触媒前駆体を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下に保持した後、焼成を行って焼成を完了することを特徴とする触媒の調製方法。
2. 焼成を中断して触媒前駆体を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下に保持する操作を少なくとも１回行うことを特徴とする請求項１記載の触媒の調製方法。
3. 焼成を中断した後に触媒前駆体を回収し、酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で保管した後、焼成工程に戻して焼成を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の触媒の調製方法。
4. 触媒前駆体の回収を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下の雰囲気下で行うことを特徴とする請求項３に記載の触媒の調製方法。
5. 該酸素濃度が１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の触媒の調製方法。
6. 該酸化物触媒が、下記の一般組成式（１）で示されることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の触媒の調製方法。
   Ｍｏ₁Ｖ_aＮｂ_bＸ_cＯ_n （１）
   （式中、成分ＸはＴｅおよびＳｂから選ばれる少なくとも１種以上の元素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｎはＭｏ１原子当たりの原子比を表し、０．１≦ａ≦１、０．０１≦ｂ≦１、０．０１≦ｃ≦１、そしてｎは構成金属の酸化状態によって決まる数である。）
7. 成分ＸがＳｂであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の触媒の調製方法。
8. 該酸化物触媒が、触媒構成元素の酸化物とシリカの全重量に対し、ＳｉＯ2換算で２０〜６０重量％のシリカに担持されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の触媒の調製方法。
9. 該ニオブ化合物が、ジカルボン酸とニオブ化合物を含み、ジカルボン酸／ニオブのモル比が１〜４であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の触媒の調製方法。
10. プロパンまたはイソブタンの気相接触酸化反応または気相接触アンモ酸化反応させて、対応する不飽和カルボン酸または不飽和ニトリルを製造するに当たり、請求項１〜９のいずれかに記載の調製方法で調製された触媒を用いることを特徴とする不飽和酸または不飽和ニトリルの製造方法。