JP2003238129A - 炭素ナノチューブの製造方法 - Google Patents
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Abstract
記強酸溶液を所定温度に加熱しつつ還流させて前記炭素
ナノ粒子から炭素ナノチューブを製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 炭素ナノ粒子を強酸溶液に分散させた
後、前記強酸性の溶液を所定の温度に加熱して還流さ
せ、前記炭素ナノ粒子を炭素ナノチューブに形成させ
る。これにより、強酸性の溶液を用いて既存の炭素ナノ
粒子を用いて炭素ナノチューブを簡便かつ安価に量産で
きる。
Description
製造方法に係り、詳細には、炭素ナノ粒子を原料として
炭素ナノチューブを生成する炭素ナノチューブの製造方
法で、前記炭素ナノ粒子を強酸性の溶液に分散させた
後、前記強酸性の溶液を所定の温度で加熱しながら還流
させて炭素ナノチューブを生成させる炭素ナノチューブ
の製造方法に関する。
的な方法として、物理的方法たるアーク放電法やレーザ
蒸発法等が挙げられ、化学的方法たる化学気相蒸着法
(CVD:Chemical Vapor Depos
ition)が挙げられる。
アーク放電装置を示す。アーク放電させるために、ま
ず、陰極11及び陽極13にそれぞれグラファイト棒を
設けて、これらの2電極間に電圧を加えて放電を生起さ
せる。放電が生じると、陽極として用いられるグラファ
イト棒から脱離した炭素粒子が、低温に保持されている
陰極グラファイト棒に引き付けられて付着する。
ーザ蒸発装置を示す図面である。まず、反応炉27を1
200℃程度に維持し、反応炉27内に設けられたグラ
ファイト23にレーザビーム21を照射して、グラファ
イト23を蒸発させる。蒸発したグラファイトの蒸気
は、低温に保たれているコレクタ25上に吸着する。
法(PECVD:Plasma Enhanced C
hemical Vapor Deposition)
で使用される装置を示す。このプラズマ誘起化学気相蒸
着法は、2つの電極間に印加される直流または高周波電
界のエネルギによって真空中で反応ガス等を放電させて
化学反応を誘起させ、蒸着を行う方法である。
長させるための基板31を、接地された下部電極32上
に置き、反応ガスを上部電極34と下部電極32との間
に供給する。抵抗加熱ヒータ33を下部電極32の下方
に配置する、あるいはフィラメント35を上部電極34
と下部電極32との間に配置して、反応ガスを分解す
る。反応ガスを分解し、炭素ナノチューブを合成するの
に必要なエネルギは、高周波電源37から供給される。
反応ガスとしては、たとえば、CH4、C2H2、H2等が
用いられる。
ち、炭素ナノチューブの製造するためのアーク放電法や
レーザ蒸発法のような従来の物理的な方法においては、
単層または多層炭素ナノチューブを生成するために、純
粋な陽極グラファイト棒に空洞を形成してCo、Ni、
Fe、Y等の金属粉末を埋め込んだものが用いられる。
しかしながら、このようにすると、特定の触媒金属を一
定量含有するグラファイト棒を製造して使用しなければ
ならないので、炭素ナノチューブの全体の製造工程が複
雑化され、したがって、物理的な方法を、工業的規模で
炭素ナノチューブを製造するのに応用することは困難で
あった。さらに、物理的な方法で製造された単層炭素ナ
ノチューブは、非晶質炭素または金属粉末といった不純
物を比較的多く含有するために、精製工程が別途必要と
なる。
気相蒸着法は、量産に有利であり、かつ、精製過程が別
途必要としないという長所がある。しかしながら、従来
の物理的な方法と同様に、触媒を注入して制御すること
が容易ではなかった。さらに、この従来の化学気相蒸着
法においても、高温成長過程を要するので、工程が複雑
であり、エネルギ消費とコストが増加する。
であって、その目的は、炭素ナノ粒子を強酸性の溶液に
分散させた後、この強酸性の溶液を所定の温度で加熱し
ながら還流させて炭素ナノチューブを製造する全く新規
な方法を提供することにある。
るための本発明に係る炭素ナノチューブの製造方法は、
炭素ナノ粒子を原料として炭素ナノチューブを生成する
炭素ナノチューブの製造方法であって、前記炭素ナノ粒
子を強酸性の溶液に分散させた後、前記強酸性の溶液を
所定温度に加熱しつつ還流させて前記炭素ナノ粒子から
炭素ナノチューブを生成するように構成される。
製造方法において、炭素ナノ粒子がレーザ蒸発法または
アーク放電法で製造されてもよい。
ーブの製造方法において、強酸性の溶液が、硝酸溶液、
硫酸溶液、及び燐酸溶液からなる群の中から選択された
1種を含んで構成されることが望ましい。
ューブの製造方法において、強酸性の溶液の濃度が30
%であることが望ましい。
ューブの製造方法において、硝酸溶液中に、炭素ナノ粒
子の含有量が1質量%となるように分散させることが望
ましい。
ューブの製造方法において、所定の温度が、110℃〜
140℃であることが望ましい。
の実施の形態について詳細に説明する。図4は、本発明
に係る1実施形態の炭素ナノチューブの製造方法で用い
られる還流装置の構成を模式的に示す断面図である。図
4に示すように、還流装置60を用いて炭素ナノチュー
ブを製造するに際して、丸底フラスコ51に炭素ナノ粒
子が分散された強酸性の溶液50を注いだ後、丸底フラ
スコ51をヒータ53で加熱する。この加熱の過程で
は、丸底フラスコ51中で、強酸性の溶液50に含まれ
る溶媒がコンデンサ55内に向けて次第に蒸発する。
するが、コンデンサ55の内部には内壁に沿って冷却水
が流れているため、コンデンサ55の内壁は比較的低温
に保持されている。このため前記のように蒸発した強酸
性の溶液50に含まれる溶媒はコンデンサ55の内壁で
冷却されて液化され、再び丸底フラスコ51に流れ落ち
る。
れる溶媒が、及び丸底フラスコ51とコンデンサ55と
の間で上昇と下降とを反復しながら蒸発と液化を繰り返
す過程で、丸底フラスコ51内の炭素ナノ粒子は解離さ
れて原子状の炭素となり、この炭素が次第に凝集して炭
素ナノチューブが生成される。
たとえば、単原子層の炭素から構成される炭素ナノ粒
子、または、多層の炭素原子から構成される炭素ナノ粒
子(「炭素ナノオニオン」ともいう)等の従来公知の炭
素ナノ粒子の全てを包含する。本発明で用いられるこの
ような炭素ナノ粒子は、従来公知の前記アーク放電法、
または図5に示す装置(後記する)を用いた従来公知の
レーザ加熱法を用いて生成することができる。
硝酸、硫酸、及び燐酸からなる群の中から選択された1
種で、その濃度を30容積%とした溶液を使用する。ま
た、炭素ナノ粒子は、好ましくは、1質量%の濃度で強
酸性の溶液中に分散させる。このような丸底フラスコ5
1内の強酸性の溶液の系で生じる化学反応の詳細につい
ては明らかとなっていないが、前記強酸性の溶液中の強
酸が、炭素ナノ粒子を構成する炭素原子間の結合を切断
する作用を発揮するものと考えられる。
た強酸性の溶液50の加熱温度を110〜140℃に設
定することが望ましい。そして、この加熱温度で、少な
くとも5時間、オイルバス等を用いて丸底フラスコ51
内の前記炭素ナノ粒子が分散された強酸性の溶液50を
加熱して還流させる。強酸性の溶液50は適切な温度を
保持させながら還流が繰り返され、加熱された強酸性の
溶液中の炭素ナノ粒子は、強酸性の溶液との化学的反応
を通して再配列されて炭素ナノチューブに形成される。
ナノチューブの製造方法で、レーザ加熱法を用いて、炭
素ナノ粒子を製造するための装置を示す図面である。図
5に示す装置は、レーザ源から発振されたレーザ光を用
いて行われる火炎堆積法(FHD:Flame Hyd
rolysis Deposition)により、その
火炎の内部で炭素ナノ粒子を生成させて成長させる装置
である。この装置の原理は、韓国特許2001−519
09号公報で開示された装置と同様であり、選択的に所
望の炭素ナノ粒子の焼結を行うことができるものであ
る。
火炎を生成させるために、燃料としてO264及びH26
2を燃焼させる。そして、炭素粒子の原料としてC2H2
66がバーナ61に供給されると、前記のように生成さ
れた火炎によってC2H266が燃焼して炭素ナノ粒子が
生成される。また、バーナ61の火炎の上方には、基板
65が配置されて、前記火炎の内部で生成された炭素粒
子が基板65上に吸着するようになっている。
を加熱して焼結させるために、基板65とバーナ61と
の間には、レーザビームを発生させる比較的高いパワー
を有するレーザ源63が配置されている。ここでは、最
大出力が2600W程度のCO2レーザを用いたが、必
要に応じて、その他のレーザを使用してもよい。このレ
ーザビームの波長は、前記火炎の内部で生成させる炭素
ナノ粒子が有する主要な吸収波長帯と一致させることが
好ましい。さらに、本発明では、前記炭素粒子の原料と
して、前記C2H266に代えてCH4を使用することが
できる。
にはレーザビームが照射され、その結果、炭素ナノ粒子
の温度が上昇して、炭素ナノ粒子または炭素ナノ粒子同
士の各種の化学反応及びそれらの衝突が促進される。そ
して、多数の炭素ナノ粒子が凝集したり融解したりし
て、炭素ナノ粒子のクラスタが次第に形成される。
アーク放電法に比べて、炭素ナノ粒子を所望の大きさに
制御できる点で利点を有する方法である。さらに、レー
ザ加熱法によれば、室温、常圧で炭素ナノ粒子を生成さ
せることができるので、安価かつ大量に炭素ナノチュー
ブを生産する場合に好適な方法ある。
にあっては、従来の炭素のナノチューブの製造方法、た
とえば、前記したレーザ蒸発法またはアーク放電法によ
って得られた炭素ナノ粒子を使用することができる。こ
の炭素ナノ粒子は、炭素原子間の結合が比較的弱いの
で、強酸性の溶液中に分散された炭素ナノ粒子は、種々
のドライビングフォースによって解離され易い。このた
め、強酸性の溶液中に分散された炭素ナノ粒子は解離さ
れて原子状(またはクラスタ状)となった後、この原子
状の炭素が次第に凝集して炭素ナノチューブへと成長す
る。
炭素ナノ粒子の状態を示すTEM(Transmiss
ion Electron Microscopy)観
察写真であり、図7は本発明に係る1実施形態の炭素ナ
ノチューブの製造方法によって製造された炭素ナノチュ
ーブ70を示すTEM観察写真である。図6では炭素ナ
ノチューブが全く観察されていないが、図7では棒状の
炭素ナノチューブ70が明瞭に観察されることがわか
る。
粒子との化学反応を通して、炭素ナノチューブをより効
率かつ経済的に製造することができる。本発明に係る炭
素ナノチューブの製造方法は、従来の炭素ナノチューブ
の製造方法と全く異なる新規な炭素ナノチューブの製造
方法である。
及び燐酸溶液からなる群の中から選択された1種を含ん
で構成される強酸性の溶液の純度を高くすることによ
り、不純物の含有量が比較的低く抑えられた炭素ナノチ
ューブを提供することが可能となる。
代えて、求電子性を有する、あるいは、化学的・熱的安
定性の異なる材料を用いて、同様にして炭素ナノ粒子の
結合を切断することができる。したがって、本発明の技
術的範囲は、以上のように説明した実施形態のみに限定
されものではなく、本明細書の特許請求の範囲に記載さ
れた技術的思想によって決定されるべきである。
よれば、以下の効果を奏する。すなわち、本発明に係る
炭素ナノチューブの製造方法によれば、強酸性の溶液中
に既存の炭素ナノ粒子を分散させた後、還流装置を用い
て還流させることにより、所望の炭素ナノチューブが得
られるので、炭素ナノチューブの製造工程が簡便であ
り、したがって、炭素ナノチューブを安価に大量生産す
ることが可能になる。また、本発明によれば、不純物の
含有量が比較的低く抑えられた炭素ナノチューブを提供
することが可能となる。
法を実施するための装置を示す図面である。
法を実施するための装置を示す図面である。
着法を実施するための装置を示す図面である。
製造方法を実施するための装置を示す図面である。
製造方法に用いられる炭素ナノ粒子を製造する装置を示
す図面である。
製造方法に用いられる炭素ナノ粒子を示すTEM観察写
真である。
製造方法により製造された炭素ナノチューブを示すTE
M観察写真である。
Claims (6)
- 【請求項1】 炭素ナノ粒子を原料として炭素ナノチュ
ーブを生成する炭素ナノチューブの製造方法であって、 前記炭素ナノ粒子を強酸性の溶液に分散させた後、前記
強酸性の溶液を所定の温度に加熱しながら還流させて前
記炭素ナノ粒子から炭素ナノチューブを生成することを
特徴とする炭素ナノチューブの製造方法。 - 【請求項2】 前記炭素ナノ粒子はレーザ蒸発法または
アーク放電法で製造することを特徴とする請求項1に記
載の炭素ナノチューブの製造方法。 - 【請求項3】 前記強酸性の溶液は、硝酸溶液、硫酸溶
液、及び燐酸溶液からなる群の中から選択された1種を
含んで構成されることを特徴とする請求項2に記載の炭
素ナノチューブの製造方法。 - 【請求項4】 前記強酸性の溶液は、濃度が30容積%
であることを特徴とする請求項2に記載の炭素ナノチュ
ーブの製造方法。 - 【請求項5】 前記硝酸溶液中に、前記炭素ナノ粒子
を、この炭素ナノ粒子の濃度が1質量%になるように分
散させることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチ
ューブの製造方法。 - 【請求項6】 前記所定の温度は、110℃〜140℃
であることを特徴とする請求項1に記載の炭素ナノチュ
ーブの製造方法。
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