JP2003236334A - 排煙処理液浄化システム - Google Patents

排煙処理液浄化システム

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JP2003236334A
JP2003236334A JP2002041149A JP2002041149A JP2003236334A JP 2003236334 A JP2003236334 A JP 2003236334A JP 2002041149 A JP2002041149 A JP 2002041149A JP 2002041149 A JP2002041149 A JP 2002041149A JP 2003236334 A JP2003236334 A JP 2003236334A
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flue gas
sulfuric acid
gypsum
dilute sulfuric
purification system
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JP2002041149A
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Akinori Yasutake
昭典 安武
Kiyoshi Tatsuhara
潔 龍原
Takafuru Kobayashi
敬古 小林
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  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 排煙脱硫による石膏製造法で排出される排水
の処理を提供する。 【解決手段】 脱硫塔4から排出ポンプ10を介して希
硫酸(H2 SO4 )20を貯蔵すると共に該希硫酸中の
有害物質を除去する希硫酸処理槽61と、有害物質を分
離した処理希硫酸52に石灰スラリー51を供給してC
aSO4 (石膏)を析出させる石膏析出槽52と、得ら
れた石膏55を沈降させる沈降槽(シックナー)53
と、石膏スラリー54から水分を排水(濾液)57を除
去して石膏55を得る脱水器56とを備えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、排煙脱硫による石
膏製造法で排出される排水を浄化する排煙処理液浄化シ
ステムに関する。
【0002】
【背景技術】従来、排ガス中の硫黄酸化物の除去方法と
して、石灰石または消石灰スラリーを吸収剤として用い
て、排ガス中の硫黄分を石膏として回収する石灰−石膏
法が採用されている。他の方法としては、乾式法の活性
炭による吸着法が知られている。
【0003】上記従来の石灰−石膏法では、石灰石また
は消石灰スラリーを排ガス中にスプレーすることによ
り、排ガスの増湿冷却及びSOx の吸収を同時に行って
いる。このため、多量のスラリーを循環する必要があ
り、スラリーを循環するための動力及び多量の水が必要
となる。また、生成した石膏は、スラリー状態であるた
め、水を分離し、石膏として回収するための装置が必要
になる。このように、石灰−石膏法では、脱硫設備の大
型化や複雑化が避けられない。
【0004】一方、乾式法の場合、活性炭に吸着した硫
黄分を加熱によって脱離させるため、大量の熱を必要と
する。しかも、この方法の場合、生成した希硫酸の廃棄
や、吸着材の損耗等が問題になる。したがって、硫黄酸
化物の吸収剤や大型の脱硫設備を必要とせず、しかも脱
硫の際に高い濃度の硫酸を得ることのできる脱硫装置の
出現が望まれている。
【0005】このため、排ガス中のSOxを除去する装
置として活性炭素繊維等の多孔質炭素材料に排ガス中の
SOxを吸着させ、多孔質炭素材料の触媒作用を利用し
て排ガス中に含まれる酸素により硫黄成分を酸化させ、
これを水分に吸収させて硫酸として多孔質炭素材料から
除去することが提案されている(特開平11−3473
50号公報参照)。
【0006】この活性炭素繊維を用いた従来の排煙処理
装置では、排ガス中のSOxを吸着するための活性炭素
繊維槽を吸着塔内に配設し、排ガスを下方から供給して
活性炭素繊維の表面でSO2 をSO3 に酸化し、生成し
たSO3 が供給された水と反応して、硫酸(H2
4 )を生成するようにしている。
【0007】ここで、石炭や重油等の燃料を燃焼させる
ボイラからの排ガスには煤塵や水銀、セレン、砒素、ホ
ウ素、弗素、塩素成分等の有害物質が含まれていること
があり、この有害物質が希硫酸中に混入していると、石
膏システムにおいて、石膏スラリー中又は上澄水中に含
有するおそれがある。
【0008】本発明は、上記問題に鑑み、石膏処理シス
テムの石膏又は上澄水中に有害物質の混入のない排煙処
理液浄化システムを提供することを課題とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
第1の発明は、硫黄酸化物を含有する排ガスを触媒層に
接触させ、排煙処理して希硫酸を製造する排煙脱硫装置
と、該排煙脱硫装置からの希硫酸と石灰スラリーとを反
応させ、石膏スラリーを得る石膏反応槽と、該石膏反応
槽により得られた石膏スラリーから水分を分離して石膏
を得る脱水器と、上記希硫酸中の有害物質を除去する希
硫酸処理槽とを設けてなり、上記排煙処理により得られ
た希硫酸を浄化することを特徴とする排煙処理液浄化シ
ステムにある。
【0010】第2の発明は、第1の発明において、上記
希硫酸処理槽が上澄水中の有害物質をイオン吸着するイ
オン吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化シ
ステムにある。
【0011】第3の発明は、第1の発明において、上記
希硫酸処理槽が希硫酸中の有害物質を金属吸着する金属
吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システ
ムにある。
【0012】第4の発明は、第1の発明において、上記
希硫酸処理槽が希硫酸中の有害物質を膜分離する膜分離
手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システムに
ある。
【0013】第5の発明は、硫黄酸化物を含有する排ガ
スを触媒層に接触させて希硫酸を製造する排煙脱硫装置
と、該排煙脱硫装置からの希硫酸と石灰スラリーとを反
応させ、石膏スラリーを得る石膏反応槽と、該石膏反応
槽により得られた石膏スラリーから水分を分離して石膏
を得る脱水器とを備えた排煙処理液浄化システムであっ
て、上記石膏反応槽からの上澄水中の有害物質を除去す
る上澄水処理槽を設けたことを特徴とする排煙処理液浄
化システムにある。
【0014】第6の発明は、第5の発明において、上記
上澄水処理槽が上澄水中の有害物質をイオン吸着するイ
オン吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化シ
ステムにある。
【0015】第7の発明は、第5の発明において、上記
上澄水処理槽が上澄水中の有害物質を金属吸着する金属
吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システ
ムにある。
【0016】第8の発明は、第5の発明において、上記
上澄水処理槽が上澄水中の有害物質を膜分離する膜分離
手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システムに
ある。
【0017】第9の発明は、第1又は5の発明におい
て、上記有害物質が水銀、セレン、砒素、ホウ素、弗
素、塩素の少なくとも一種であることを特徴とする排煙
処理液浄化システムにある。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明による排煙脱硫装置の実施
の形態を以下に説明するが、本発明はこれらの実施の形
態に限定されるものではない。
【0019】[第1の実施の形態]図1に基づいて排煙
処理装置を備えた排ガス処理システムを説明する。
【0020】図1は、排煙脱硫による石膏製造方法を実
施するシステムの概略図である。図1に示すように、蒸
気タービンを駆動する蒸気を発生させるボイラ1と、該
ボイラ1からの排ガス100中の煤塵を除去する除塵機
2と、除塵された排ガスを脱硫塔4内に供給する押込み
ファン3と、脱硫塔内又は塔に供給する前に排ガス10
0を冷却すると共に増湿を行う増湿冷却装置16と、触
媒層6を内部に配設し、塔下部側壁の導入口5から排ガ
ス100を供給すると共に、触媒層6の上方から散水ノ
ズルで水を供給して、排ガス中のSOxを希硫酸(H2
SO4 )まで脱硫反応させる脱硫塔4と、塔頂部の排出
口12から脱硫された浄化排ガスを外部へ排出する煙突
13と、脱硫塔4から排出ポンプ10を介して希硫酸
(H2SO4 )20を貯蔵すると共に該希硫酸中の有害
物質を除去する希硫酸処理槽61と、有害物質を分離し
た処理希硫酸52に石灰スラリー51を供給してCaS
4 (石膏)を析出させる石膏析出槽52と、得られた
石膏55を沈降させる沈降槽(シックナー)53と、石
膏スラリー54から水分を排水(濾液)57を除去して
石膏55を得る脱水器56とを備えてなる。なお、脱硫
塔4から排出される浄化された排ガスを排出するライン
には必要に応じてミストエリミネータ19を介装し、排
ガス中の水分を分離するようにしてもよい。
【0021】上記希硫酸処理槽61としては、例えばイ
オン吸着材又は金属吸着材を内部に充填又は配設してな
るものを挙げることができる。また、有害物質を化合物
として固定分離する処理槽としてもよい。さらに、膜分
離により有害物質を除去するようにしてもよい。この処
理槽61で希硫酸中の有害物質を除去することで、有害
物質フリーの石膏55及び上澄水58を得ることができ
る。
【0022】ここで、上記ボイラ1では、例えば、火力
発電設備の図示しない蒸気タービンを駆動するための蒸
気を発生させるために、石炭や重油等の燃料fが炉で燃
焼されるようになっている。ボイラ1の排ガスには硫黄
酸化物(SOx )が含有され、排ガスは図示しない脱硝
装置で脱硝されてガスガスヒータで冷却された後に集塵
機2で除塵される。
【0023】上記除塵された排ガス100は押込みファ
ン3により下部側壁の導入口5から脱硫塔4内に導入さ
れる。脱硫塔4の内部には活性炭素繊維層で形成される
触媒層6が備えられ、該触媒層6には硫酸生成用の水が
水供給手段17から供給される。水が上部から供給され
た触媒層6の内部に排ガスを下部から通過させることに
より、排ガス100からSOxを反応除去する。触媒層
6を通過した排ガスは排出口12から排出され、煙突1
3を通して大気に放出される。
【0024】上記触媒層6は複数の活性炭素繊維層から
なる触媒を備え、各々の活性炭素繊維層の表面では、例
えば、以下の反応により脱硫反応が生じる。この反応メ
カニズムを図6に示す。即ち、図6に示すように、 (1) 触媒の活性炭素繊維層111への排ガス100中の
酸素(O2 :別途供給することも可能である)の吸着。 (2) 吸着した酸素O2 と排ガス中の二酸化硫黄SO2
の反応による三酸化硫黄SO3 への酸化。 (3) 酸化した三酸化硫黄SO3 の水H2 Oへの溶解によ
る硫酸H2 SO4 の生成。 (4) 生成された硫酸H2 SO4 の活性炭素繊維層111
からの離脱。
【0025】この時の反応式は以下の通りである。 SO2 +1/2O2 +H2 O→H2 SO4
【0026】上記反応除去された硫酸H2 SO4 は希硫
酸となって排出ポンプ10を介して硫酸処理槽61に排
出される。このようにして、触媒層6の活性炭素繊維層
の中で排ガス100中の二酸化硫黄SO2 を吸着して酸
化し、水H2 Oと反応させて硫酸H2 SO4 を生成して
離脱除去することにより、排ガス流の脱硫が行われる。
【0027】ここで、本発明で用いる活性炭素繊維の一
例及びその製造例の一例を下記に示す。本発明で用いら
れる活性炭素繊維としては、例えばピッチ系活性炭素繊
維、ポリアクリロニトリル系活性炭素繊維、フェノール
系活性炭素繊維、セルロース系活性炭素繊維を挙げるこ
とができるが、本発明はこれらに限定されるものではな
く、上記触媒作用を奏する活性炭素繊維であれば何等限
定されるものではない。
【0028】図2及び図3に基づいて排煙脱硫装置の構
成を以下に説明する。 [排煙脱硫装置の構成]図2に示すように、排煙脱硫装
置は、硫黄酸化物を含有する排ガス100の導入口5を
上記装置塔の側壁(又は下部)に有し、該排ガス100
の排出口12を上部に有すると共に、該脱硫塔4内に設
けられた活性炭素繊維層からなる触媒層6の上方に硫酸
生成用の水の供給器である散水ノズル7を備えている。
【0029】図3は触媒層の斜視図である。図3に示す
ように、触媒層6の一単位を形成する活性炭素繊維層2
0は、平板状の平板活性炭素繊維シート21と仕切り用
活性炭素繊維シート22とが配置され、間に形成される
直線状の空間が上下に延びた状態で断面矩形状の通路1
5を複数形成している。なお、図2においては、活性炭
素繊維層6が1層であるが、これは模式的に示したもの
であり、図3に示すように複数層から形成されている。
図3中、hは通路23の高さ(平板活性炭素繊維シート
21,21間の距離)、pは通路23のピッチ(仕切り
用活性炭素繊維シート22,22間の距離)である。
【0030】また、エンボス形状等、排ガスが活性炭素
繊維シートに対して平行に通過する形状に成形するよう
にしてもよい。
【0031】そして、散水ノズル7から水が噴霧されて
供給されると共に排ガス100が下から送られ、活性炭
素繊維層20を流通した水は粒径が数mm程度となって下
部に落下する。排ガス100は、平板活性炭素繊維シー
ト21及び仕切り用活性炭素繊維シート22で形成され
る比較的小さな通路15を流通するようになっているの
で、圧力損失の増大が抑制されている。
【0032】[第2の実施の形態]図4は、排煙脱硫に
よる石膏製造方法を実施するシステムの概略図である。
図4に示すように、蒸気タービンを駆動する蒸気を発生
させるボイラ1と、該ボイラ1からの排ガス100中の
煤塵を除去する除塵機2と、除塵された排ガスを脱硫塔
4内に供給する押込みファン3と、脱硫塔内又は塔に供
給する前に排ガス100を冷却すると共に増湿を行う増
湿冷却装置16と、触媒層6を内部に配設し、塔下部側
壁の導入口5から排ガス100を供給すると共に、触媒
層6の上方から散水ノズルで水を供給して、排ガス中の
SOxを希硫酸(H2 SO4 )まで脱硫反応させる脱硫
塔4と、塔頂部の排出口12から脱硫された浄化排ガス
を外部へ排出する煙突13と、脱硫塔4から排出ポンプ
10を介して希硫酸(H2SO4 )20を貯蔵すると共
に該希硫酸20に石灰スラリー51を供給してCaSO
4 (石膏)を析出させる石膏析出槽52と、得られた石
膏55を沈降させる沈降槽(シックナー)53と、石膏
スラリー54から水分を排水(濾液)57を除去して石
膏55を得る脱水器56と、上記沈降槽53の上澄水5
8中の有害物質を除去する上澄水処理槽71とを備えて
なる。
【0033】上記上澄水処理槽71としては、例えばイ
オン吸着材又は金属吸着材を内部に充填又は配設してな
るものを挙げることができる。また、有害物質を化合物
として固定分離する処理槽としてもよい。さらに、膜分
離により有害物質を除去するようにしてもよい。
【0034】この処理槽71で上澄水58中の有害物質
を除去することで、有害物質フリーの上澄水72を得る
ことができ、その後排水処理で外部に放出することがで
きる。
【0035】[第3の実施の形態]図5は、排煙脱硫に
よる石膏製造方法を実施するシステムの概略図である。
図5に示すように、蒸気タービンを駆動する蒸気を発生
させるボイラ1と、該ボイラ1からの排ガス100中の
煤塵を除去する除塵機2と、除塵された排ガスを脱硫塔
4内に供給する押込みファン3と、脱硫塔内又は塔に供
給する前に排ガス100を冷却すると共に増湿を行う増
湿冷却装置16と、触媒層6を内部に配設し、塔下部側
壁の導入口5から排ガス100を供給すると共に、触媒
層6の上方から散水ノズルで水を供給して、排ガス中の
SOxを希硫酸(H2 SO4 )まで脱硫反応させる脱硫
塔4と、塔頂部の排出口12から脱硫された浄化排ガス
を外部へ排出する煙突13と、脱硫塔4から排出ポンプ
10を介して希硫酸(H2SO4 )20を貯蔵する共に
該希硫酸中の有害物質を除去する希硫酸処理槽61と、
有害物質を分離した処理希硫酸52に石灰スラリー51
を供給してCaSO 4 (石膏)を析出させる石膏析出槽
52と、得られた石膏55を沈降させる沈降槽(シック
ナー)53と、石膏スラリー54から水分を排水(濾
液)57を除去して石膏55を得る脱水器56と、上記
沈降槽53の上澄水58中の有害物質を除去する上澄水
処理槽71とを備えてなる。
【0036】上記希硫酸処理槽61及び上澄水処理槽7
1を備えることにより、希硫酸20中の有害物質と上澄
水58中の有害物質を共に除去することができる。
【0037】
【発明の効果】以上の説明したように、本発明の排煙処
理液浄化システムによれば、脱硫装置での排煙処理によ
り得られた希硫酸中の有害物質を分離除去するので、有
害物質石膏及び上澄水を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態にかかる排煙処理装置を備え
た排ガス処理システム(石膏製造)の概略図である。
【図2】本実施の形態にかかる排煙脱硫装置の構成図で
ある。
【図3】活性炭素繊維層の斜視図である。
【図4】第2の実施の形態にかかる排煙処理装置を備え
た排ガス処理システム(石膏製造)の概略図である。
【図5】第3の実施の形態にかかる排煙処理装置を備え
た排ガス処理システム(石膏製造)の概略図である。
【図6】活性炭素繊維の脱硫のメカニズムを示す図であ
る。
【符号の説明】
1 ボイラ 100 排ガス 2 除塵機 3 押込みファン 4 脱硫塔 5 導入口 6 触媒層 7 散水ノズル 10 排出ポンプ 11 硫酸タンク 12 排出口 13 煙突 16 増湿冷却装置 19 ミストエリミネータ 51 石灰スラリー 52 石膏析出槽 53 沈降槽(シックナー) 54 石膏スラリー 55 石膏 56 脱水器 57 排水(濾液) 61 希硫酸処理槽 62 処理希硫酸 71 上澄水処理槽 72 上澄水
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 53/77 B01D 53/34 ZAB 53/86 125R C01B 17/775 136A 17/90 120A 134B C01F 11/46 102 134D 53/36 D (72)発明者 小林 敬古 東京都千代田区丸の内二丁目5番1号 三 菱重工業株式会社内 Fターム(参考) 4D002 AA02 AA18 AA28 AA29 BA02 BA05 BA13 BA14 BA16 CA01 CA07 CA13 DA05 DA16 DA35 DA44 EA02 EA07 EA13 FA03 4D048 AA02 AB01 AC10 BA05X BB08 CC61 CD03 4G076 AA14 AB26 AC10 BA15 BC02 BD01 BD04 BE20

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 硫黄酸化物を含有する排ガスを触媒層に
    接触させ、排煙処理して希硫酸を製造する排煙脱硫装置
    と、 該排煙脱硫装置からの希硫酸と石灰スラリーとを反応さ
    せ、石膏スラリーを得る石膏反応槽と、 該石膏反応槽により得られた石膏スラリーから水分を分
    離して石膏を得る脱水器と、 上記希硫酸中の有害物質を除去する希硫酸処理槽とを設
    けてなり、 上記排煙処理により得られた希硫酸を浄化することを特
    徴とする排煙処理液浄化システム。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 上記希硫酸処理槽が上澄水中の有害物質をイオン吸着す
    るイオン吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄
    化システム。
  3. 【請求項3】 請求項1において、 上記希硫酸処理槽が希硫酸中の有害物質を金属吸着する
    金属吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化シ
    ステム。
  4. 【請求項4】 請求項1において、 上記希硫酸処理槽が希硫酸中の有害物質を膜分離する膜
    分離手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システ
    ム。
  5. 【請求項5】 硫黄酸化物を含有する排ガスを触媒層に
    接触させて希硫酸を製造する排煙脱硫装置と、 該排煙脱硫装置からの希硫酸と石灰スラリーとを反応さ
    せ、石膏スラリーを得る石膏反応槽と、 該石膏反応槽により得られた石膏スラリーから水分を分
    離して石膏を得る脱水器とを備えた排煙処理液浄化シス
    テムであって、 上記石膏反応槽からの上澄水中の有害物質を除去する上
    澄水処理槽を設けたことを特徴とする排煙処理液浄化シ
    ステム。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 上記上澄水処理槽が上澄水中の有害物質をイオン吸着す
    るイオン吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄
    化システム。
  7. 【請求項7】 請求項5において、 上記上澄水処理槽が上澄水中の有害物質を金属吸着する
    金属吸着手段であることを特徴とする排煙処理液浄化シ
    ステム。
  8. 【請求項8】 請求項5において、 上記上澄水処理槽が上澄水中の有害物質を膜分離する膜
    分離手段であることを特徴とする排煙処理液浄化システ
    ム。
  9. 【請求項9】 請求項1又は5において、 上記有害物質が水銀、セレン、砒素、ホウ素、弗素、塩
    素の少なくとも一種であることを特徴とする排煙処理液
    浄化システム。
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