JP2003223993A - Elカラー表示装置 - Google Patents

Elカラー表示装置

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JP2003223993A
JP2003223993A JP2002022852A JP2002022852A JP2003223993A JP 2003223993 A JP2003223993 A JP 2003223993A JP 2002022852 A JP2002022852 A JP 2002022852A JP 2002022852 A JP2002022852 A JP 2002022852A JP 2003223993 A JP2003223993 A JP 2003223993A
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organic
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layer
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electrode
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JP2002022852A
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English (en)
Inventor
Yoshifumi Kato
祥文 加藤
Kazuyoshi Takeuchi
万善 竹内
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Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyota Industries Corp
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02BCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
    • Y02B20/00Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
    • Y02B20/72Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps in street lighting

Abstract

(57)【要約】 【課題】 信頼性を向上できるとともに、外光の反射に
よる画質の低下を抑制することができるELカラー表示
装置を提供する。 【解決手段】 有機ELカラー表示装置11は、基板12の
表面に形成された有機EL素子13と、基板12と別体の透
明なカバー板14上に形成されたカラーフィルタ15とを備
えている。カラーフィルタ15は有機EL素子13に対して
基板12と反対側に配置され、発光の取り出し方向がカバ
ー板14側になっている。有機EL素子13は、第1電極層
17(陽極)、発光層としての有機EL層18、第2電極層
19(陰極)の順に基板12上に積層され、両電極層17,19
は透明に形成されている。基板12の表面と、有機EL素
子13との間に反射防止層12aが形成されている。反射防
止層12aは反射率が10%以下に形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ELカラー表示装
置に係り、詳しくはエレクトロルミネッセンス(以下、
単にELという)を利用し、EL材料の薄膜からなる発
光層を備えたELカラー表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】有機EL素子を用いたカラー表示装置は
優れた表示性能から近年注目されている。有機ELカラ
ー表示装置として、例えば、図6に示すような装置があ
る。有機ELカラー表示装置51は、ガラス製の基板5
2の上にカラーフィルタ53a及び平坦化膜53bから
なるカラーフィルタ構造体53が形成され、カラーフィ
ルタ構造体53の上に陽極54、有機EL層55及び陰
極56が順次積層形成されている。また、有機EL材料
は酸素や水分との反応性が高いため、有機EL層55を
外気から遮断するための封止カバー(封止缶)57が基
板52上に接着されている。封止カバー57内にゲッタ
ー剤57aが収容されている。なお、ゲッター剤とは、
水分や酸素など、有機EL層55に有害な成分を吸収、
吸着する作用をなす物質を意味し、吸湿剤や乾燥剤、あ
るいは酸素吸着剤等が単独あるいは混合した状態で使用
される。
【0003】ところが、屋外等の照度の高い場所での使
用においては、外光の反射によりコントラストが低下
し、画質が低下する。特開平8−8065号公報には、
EL素子の背面電極の外光反射率を抑え、明るい部屋で
も見やすい薄膜型EL素子として、EL層を挟んで基板
と反対側に設けられる背面電極を、吸光性電極層と導電
性補助電極層とから構成したものが提案されている。図
7に示すように、このEL素子は、透光性基板58上に
透光性電極59、正孔注入輸送層60、有機発光層6
1、背面電極62、封止層63、接着材料層64及び封
止板65が順次配設された構造を有する。背面電極62
は吸光性電極層62aと導電性補助電極層62bとから
構成されるとともに、吸光性電極層62aが有機発光層
61側に配置されている。この構成により、背面電極6
2の電気抵抗を増大させることなく、背面電極62の外
光反射率を低減させることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前記図6に示す構成の
有機ELカラー表示装置に、前記特開平8−8065号
公報に記載の薄膜型EL素子と同様な構成を採用して、
陰極56を吸光性電極層と導電性補助電極層とで構成し
て外光反射率を低減させることは可能である。
【0005】しかし、カラーフィルタを形成する場合
は、R(赤)、G(緑)、B(青)の画素を塗り分ける
必要があるため段(凹凸)が生じ、その段を平坦化する
ために樹脂系の平坦化膜がカラーフィルタの上に形成さ
れる。ところが、カラーフィルタや平坦化膜は、有機E
L層に比較して厚く、ミクロ的に見ると、平坦化膜の表
面がうねった状態となり易い。その結果、従来技術のよ
うに、カラーフィルタを被覆した平坦化膜上に有機EL
素子を形成する構成では、薄い有機EL層を挟んで配置
される陽極と陰極とがショートする場合があり、信頼性
が悪くなるとともに歩留まりが悪くなるという問題があ
る。この問題はカラーフィルタが有機カラーフィルタ、
無機カラーフィルタに拘わらず起こる。
【0006】本発明は、前記従来の問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的は信頼性を向上できるととも
に、外光の反射による画質の低下を抑制することができ
るELカラー表示装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明では、EL材料の薄膜からな
る発光層を挟む状態で透明又は半透明の第1電極及び第
2電極が積層されたEL素子を基板上に形成している。
前記EL素子に対して前記基板と反対側に透明なカバー
板上に形成されたカラーフィルタを、前記EL素子と対
応する状態で配置し、前記EL素子の発光の取り出し方
向を前記カバー板側にする。そして、前記基板の反射率
を金属電極より小さくした。
【0008】ここで基板とは、単純な板材に限らず、例
えば、EL素子をアクティブ・マトリックス方式により
駆動するための、薄膜トランジスタ(TFT)を含む回
路が形成されたもののように、板材上に回路層や他の層
が形成されたものを含む。
【0009】この発明では、EL素子からの発光は基板
と反対側から取り出される。そして、基板の反射率が金
属電極より小さく、かつ電極が透明電極のため、屋外等
の照度の高い場所で使用する場合に、外光が反射される
割合が少なくなって、コントラストが良くなり画質が向
上する。また、EL素子は従来のELカラー表示装置の
場合と異なり、基板上に形成されたカラーフィルタの上
に形成されるのではなく、基板上に形成される。一方、
カラーフィルタは基板と別体の透明なカバー板上に形成
される。従って、EL素子は平坦な基板上に形成される
ため、EL層が薄くても、EL層を挟んで形成される両
電極のショートの危険性が少なくなり、信頼性が向上す
る。また、カラーフィルタの凹凸を平坦化する平坦化膜
が不要となり、その分コストを低減できる。
【0010】請求項2に記載の発明では、請求項1に記
載の発明において、前記基板は少なくとも前記EL素子
と対応する側の表面が黒色に形成されている。この発明
では、基板での外光の反射率を効率良く低下させること
ができ、画質を向上させ易い。
【0011】請求項3に記載の発明では、請求項2に記
載の発明において、前記基板はアルマイト処理されたア
ルミニウム板である。この発明では、表面に黒色膜が形
成された基板を容易に、低コストで入手することができ
る。
【0012】請求項4に記載の発明では、請求項1〜請
求項3のいずれか一項に記載の発明において、前記EL
材料は有機EL材料である。この発明では、無機EL材
料を使用する場合に比較して、カラー表示装置に使用で
きるEL材料の多様性から、EL材料の選択の自由度が
高く、きれいな色を再現するのが容易になる。
【0013】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、本発
明をパッシブ・マトリックス駆動方式の有機ELカラー
表示装置に具体化した第1の実施の形態を図1(a),
(b)に従って説明する。図1(a)は有機ELカラー
表示装置の模式断面図、図1(b)は1個の画素の模式
図である。
【0014】図1(a)に示すように、ELカラー表示
装置としての有機ELカラー表示装置11は、基板12
の表面に形成されたEL素子としての有機EL素子13
と、基板12とは別体の透明なカバー板14上に形成さ
れたカラーフィルタ15とを備えている。カラーフィル
タ15は有機EL素子13から離間した位置に有機EL
素子13と対応する状態で配置され、発光の取り出し方
向がカバー板14側(反基板12側)になっている。
【0015】カバー板14はシール材16を介して基板
12に固定されている。即ち、有機EL素子13は基板
12、シール材16及びカバー板14により囲繞され、
外部(外気)と隔離されている。カバー板14は、例え
ばガラス板で形成されている。シール材16は、例えば
エポキシ樹脂で形成されている。
【0016】有機EL素子13は、第1電極としての第
1電極層17、発光層としての有機EL層18、第2電
極としての第2電極層19の順に基板12上に積層され
ている。この実施の形態では第1電極層17が陽極を、
第2電極層19が陰極を構成している。そして、有機E
L素子13は、基板12と対向する面を除いてパッシベ
ーション膜20により被覆されている。パッシベーショ
ン膜20は水分の透過を防止する材質、例えば窒化ケイ
素SiNxや酸化ケイ素SiOxで形成されている。
【0017】第1電極層17は基板12の表面に複数、
平行なストライプ状に形成され、図1(a)において、
紙面に対して垂直方向に延びるように形成されている。
第1電極層17は透明に形成され、この実施の形態では
ITO(インジウム錫酸化物)で形成されている。
【0018】有機EL層18は図示しない絶縁性の隔壁
により隔てられた状態で第1電極層17と直交する方向
に延びる複数の平行なストライプ状に形成されている。
第2電極層19はストライプ状に形成された有機EL層
18の上に積層され、第1電極層17と直交する状態に
形成されている。有機EL素子13を構成する画素は、
第1電極層17及び第2電極層19の交差部分において
基板12上にマトリックス状に配置されている。第2電
極層19は有機EL層18の発光を透過可能とするため
透明に形成され、この実施の形態ではITO(インジウ
ム錫酸化物)で形成されている。
【0019】有機EL層18には例えば公知の構成のも
のが使用され、第1電極層17側から順に、正孔注入
層、発光層及び電子注入層の3層で構成されている。有
機EL層18は白色発光層で構成されている。図1
(b)に示すように、有機EL層18の各画素(ピクセ
ル)21は3個のサブピクセル21aで構成され、各サ
ブピクセル21aに対応して第1電極層17及び第2電
極層19の交差部が形成されている。
【0020】カラーフィルタ15には有機カラーフィル
タが使用されている。カラーフィルタ15のR(赤)、
G(緑)、B(青)の画素(図示せず)はそれぞれ前記
サブピクセル21aに対応して形成されている。
【0021】基板12の反射率を、一般のEL素子の金
属電極より小さくするため、基板12の第1電極層17
と対向する表面に反射防止層12aが形成されている。
反射防止層12aは、反射率が例えば30%以下で好ま
しくは10%以下となるように形成されている。この実
施の形態では反射防止層12aはクロムの金属酸化物被
膜で形成され、黒色で反射率が10%以下になってい
る。
【0022】前記のように構成された有機ELカラー表
示装置11を製造する際は、基板12の片面に反射防止
層12aを形成し、その上に有機EL素子13を形成す
る。有機EL素子13は例えば公知の方法で形成され
る。
【0023】一方、カラーフィルタ15は基板12とは
別体のカバー板14上に形成する。そして、カラーフィ
ルタ15が有機EL素子13と対応し、有機EL素子1
3とカラーフィルタ15との間に隙間を有する状態で、
カバー板14をシール材16を介して基板12上に接着
して固着する。基板12、シール材16及びカバー板1
4で囲繞された空間には他の物質と反応しにくい物質
(ガス)、例えば窒素が充填されている。
【0024】次に前記のように構成された有機ELカラ
ー表示装置11の作用を説明する。発光させるべき画素
21のサブピクセル21aと対応する両電極層17,1
9間に電圧が印加されると、そのサブピクセル21aが
白色に発光する。そして、そのサブピクセル21aから
の白色光がカラーフィルタ15を透過してカバー板14
側から出射される。白色光がカラーフィルタ15のR
(赤)、G(緑)、B(青)の画素を透過した後、対応
する色の光となる。R(赤)、G(緑)、B(青)の画
素の組合せにより所望の色が再現される。
【0025】有機EL素子13からの発光は基板12と
反対側、図1(a)では有機ELカラー表示装置11の
上側から取り出される。そして、基板12の反射率が金
属電極より小さく、かつ第1電極層17が透明のため、
有機ELカラー表示装置11を屋外等の照度の高い場所
で使用する場合に、外光が基板12で反射される割合が
少なくなって、コントラストが良くなり画質が向上す
る。
【0026】また、従来技術のように、有機EL素子が
カラーフィルタ上に平坦化膜を介して連続して積層され
た構成では、ミクロ的に見ると、平坦化膜の表面がうね
った状態となり易く、薄い有機EL層を挟んで配置され
る陽極と陰極とがショートする場合がある。その結果、
信頼性が悪くなるとともに歩留まりが悪くなる。しか
し、この実施の形態では有機EL素子13は基板12上
に形成されるため、有機EL層18が薄くても、有機E
L層18を挟んで形成される両電極層17,19のショ
ートの危険性が少なくなり、信頼性が向上する。
【0027】この実施の形態では以下の効果を有する。 (1) 有機EL層18を挟む状態で透明の第1電極
(第1電極層17)及び第2電極(第2電極層19)が
積層された有機EL素子13を基板12上に形成し、有
機EL素子13の発光の取り出し方向を反基板12側に
し、基板12の反射率を金属電極より小さくした。従っ
て、屋外等の照度の高い場所で有機ELカラー表示装置
11使用する際に、外光が反射される割合が少なくなっ
て、コントラストが良くなり画質が向上する。
【0028】(2) 基板12の反射率を金属電極より
小さくするため、有機EL素子13と対応する側の基板
12の表面に反射防止層12aが形成されている。従っ
て、簡単な構成で基板12の反射率を金属電極より小さ
く(例えば、30%以下、好ましくは10%以下に)す
ることができる。
【0029】(3) 反射防止層12aが黒色に形成さ
れることにより、基板12は有機EL素子13と対応す
る側の表面が黒色に形成されている。従って、外光が反
射防止層12aで吸収され易くなり、基板12での外光
の反射率を効率良く低下させることができ、画質を向上
させ易い。
【0030】(4) 基板12の有機EL素子13と対
応する側の表面に形成された反射防止層12aがクロム
の金属酸化物被膜で形成されているため、基板12の表
面に容易に黒色膜を形成することができ、反射率を10
%以下にすることができる。
【0031】(5) 従来のELカラー表示装置の場合
と異なり、カラーフィルタ15は基板12と別体の透明
なカバー板14上に形成され、有機EL素子13は基板
12上に形成される。従って、有機EL素子13は平坦
な基板12上に形成されるため、有機EL層18が薄く
ても、有機EL層18を挟んで形成される第1及び第2
電極層17,19のショートの危険性が少なくなり、信
頼性が向上する。また、カラーフィルタ15の凹凸を平
坦化する平坦化膜が不要となり、その分コストを低減で
きる。
【0032】(6) EL層として有機EL層18が使
用されているため、無機EL層を使用する場合に比較し
て、カラー表示装置に使用できるEL材料の多様性か
ら、EL材料の選択の自由度が高く、きれいな色を再現
するのが容易になる。
【0033】(7) 有機EL素子13がカラーフィル
タ15と密着していないため、カラーフィルタ15とし
て有機カラーフィルタを使用しても、カラーフィルタ1
5から発生する水分やガス成分による有機EL層18の
劣化を抑制することができる。
【0034】(8) 有機EL素子13がパッシベーシ
ョン膜20で被覆されているため、有機EL素子13が
カラーフィルタ15から発生する水分やガス成分による
影響をより受け難くなる。
【0035】(9) カバー板14がシール材16を介
して基板12に固定されており、基板12、シール材1
6及びカバー板14により囲繞された空間内に有機EL
素子13が収容されている。従って、カバー板14及び
シール材16が、有機EL素子13を外気から遮断する
役割も果たし、有機ELカラー表示装置11の使用環境
における水分やガス成分による有機EL層18の劣化を
防止することができる。
【0036】(10) カラーフィルタ15として有機
カラーフィルタが使用されている。従って、無機カラー
フィルタを使用した場合に比較して色再現性が良くな
る。 (11) 発光層として白色発光層が使用されているた
め、カラーフィルタ15として赤、緑、青のフィルタを
形成すれば、光の三原色が得られる。従って、白色光以
外の発光(例えば、青色発光)と色変換層との組合せ
で、必要な三原色を得る構成に比較してカラーフィルタ
15の構成が簡単になる。
【0037】(第2の実施の形態)次に第2の実施の形
態を図2に従って説明する。この実施の形態は、基本的
構成は前記第1の実施の形態と同様で、アクティブ・マ
トリックス方式の構成とするため、アクティブ駆動素子
としての薄膜トランジスタ(TFT)を備えている点が
前記第1の実施の形態と異なっている。前記実施の形態
と同様の部分については同一符号を付して詳細な説明を
省略する。
【0038】基板12上に積層された反射防止層12a
の上に、アクティブ駆動用素子としての薄膜トランジス
タ22を含む回路層23が形成されている。薄膜トラン
ジスタ22は有機EL素子13の各サブピクセル21a
と対応して形成されている。この実施の形態では、有機
EL素子13を構成する基板12側の電極としての第1
電極層17は、対応する各薄膜トランジスタ22を覆う
ように形成されている。
【0039】この実施の形態では基板12上に積層され
た反射防止層12aの上に、薄膜トランジスタ22を含
む回路層23が形成された後、その回路層23の上に有
機EL素子13が形成される。即ち、従来のアクティブ
・マトリックス方式により駆動される有機EL素子と異
なり、薄膜トランジスタ22を含む回路はカラーフィル
タ上に形成されるのではなく、カラーフィルタ15と独
立して基板12上(この実施の形態では反射防止層12
a上)に形成される。
【0040】この実施の形態の有機ELカラー表示装置
11では、前記実施の形態の(1)〜(11)と同様な
効果を有する他に、次の効果を有する。 (12) 有機EL素子13がアクティブ・マトリック
ス方式で駆動されるためクロストークが防止され、画素
数が多くなった場合にパッシブ・マトリックス方式で駆
動される構成に比較してきれいな画面が得られる。
【0041】(13) 薄膜トランジスタ22を含む回
路をカラーフィルタ15上に形成する必要がないため、
薄膜トランジスタ22を形成する際に発生する熱により
カラーフィルタ15を破損する虞がない。従って、アク
ティブ・マトリックス方式で駆動される液晶を製造する
際に使用される従来からの工法で、薄膜トランジスタ2
2を含む回路を形成することが可能になる。即ち、熱に
よるカラーフィルタ15の破損を回避する特別な設備を
設ける必要がなくなる。
【0042】(14) 有機EL素子13の発光の取り
出し方向が基板12と反対の方向であるため、有機EL
素子13を形成する領域が薄膜トランジスタ22を形成
する領域と重ならないようにする必要がない。そして、
有機EL素子13を構成する基板12側の画素電極(第
1電極層17)が、薄膜トランジスタ22を覆うように
形成されている。従って、同じ面積の基板12を使用し
た場合に、有機EL素子13を薄膜トランジスタ22と
同一平面上に形成する場合に比較して、有機EL素子1
3の面積を大きくすることができる。
【0043】なお、実施の形態は前記に限らず、例えば
次のように構成してもよい。 ○ 第1の実施の形態において、反射防止層12aを基
板12の第1電極層17と対向する側に設ける構成に代
えて、図3に示すように、基板12の反第1電極層17
側に形成してもよい。この場合も反射防止層12aの存
在により、屋外等の照度の高い場所で有機ELカラー表
示装置11使用する際に、外光が反射される割合が少な
くなって、コントラストが良くなり画質が向上する。ま
た、第1電極層17が反射防止層12a上に直接形成さ
れないため、反射防止層12aが第1電極層17の形成
工程でダメージを受け難く、反射防止層12aを構成す
る材料の自由度が大きくなる。また、反射防止層12a
の形成あるいは貼付工程を有機ELカラー表示装置11
の製造工程の最後にすることもできる。
【0044】○ 基板12の表面に反射防止層12aを
形成する代わりに、図4に示すように、基板12全体を
低反射性の材料で形成してもよい。低反射性の材料とし
ては、着色ガラス、着色(黒色)セラミックス、着色樹
脂等が考えられるが、反射率が30%以下、好ましくは
10%以下であれば、特に材質は限定されない。第2の
実施の形態のようにアクティブ・マトリックス方式の構
成の場合も、同様に全体が低反射性の材料で形成された
基板12上に、回路層23及び有機EL層18等を順次
形成してもよい。
【0045】○ 反射防止層12aを基板12上に蒸着
等で形成する代わりに、基板12の表面を改質して反射
防止層12aを形成した基板12を使用して有機ELカ
ラー表示装置11を構成してもよい。例えば、基板12
としてアルマイト処理されたアルミニウム板を使用す
る。図5は、アルマイト処理を片面に施したアルミニウ
ム板を基板12に使用した、アクティブ・マトリックス
方式の構成の有機ELカラー表示装置11を示す。アル
マイト処理により黒色や茶色等反射率が10%以下にな
る反射防止層12aを簡単に形成できる。また、反射防
止層12aをアルミニウム板の片面だけでなく、アルミ
ニウム板の全面に形成してもよい。全面にアルマイト処
理を行う方が、マスキングの手間が不要になる。これら
の場合、反射率が10%以下の基板12を容易に、低コ
ストで入手することができる。もちろん、パッシブ・マ
トリックス方式の有機ELカラー表示装置11に適用し
てもよい。
【0046】○ 基板12に反射防止フィルムを貼付し
て反射防止層12aを形成してもよい。この場合、所望
の反射率の反射防止層12aを容易に形成することがで
きる。
【0047】○ 基板12の表面に限らず、基板12の
中間部に反射防止層12aを設けてもよい。また、複数
層の反射防止層12aと、反射防止層12a以外の複数
の層とを交互に積層して基板12を形成してもよい。
【0048】〇 基板12は反射率が金属電極の反射率
より小さな材質で、有機EL素子13や無機EL素子あ
るいは回路層23を支障無く形成することができる材質
であればよく、ガラスや金属、セラミックス等の硬質材
に限らず、樹脂等のフレキシブル基板を使用してもよ
い。
【0049】○ カラーフィルタ15として有機カラー
フィルタに代えて無機のカラーフィルタを使用してもよ
い。しかし、有機カラーフィルタの方がきれいに色を再
現できる。
【0050】〇 有機EL素子13がパッシベーション
膜20で被覆された構成の場合は、カラーフィルタ15
が形成されたカバー板14をシール材16を介して基板
12に固着する構成に限らず、カラーフィルタ15が有
機EL素子13と離間した状態となるように配設すれば
よい。
【0051】○ 有機EL層18は白色発光層に限ら
ず、青色発光層を使用してもよい。この場合、カラーフ
ィルタ15として色変換層を備えたカラーフィルタを使
用することにより、カラーフィルタ15を透過後の光が
R(赤)、G(緑)、B(青)の画素に対応する色の光
となる。従って、白色発光層の場合と同様に、同一色の
発光層で所望の色を再現することができる。
【0052】○ 有機EL層18に代えて無機EL層を
使用したEL素子を備えた無機ELカラー表示装置に適
用してもよい。この場合、有機ELカラー表示装置11
と異なり、有機EL素子13を水分や酸素から保護する
ための保護手段、例えばパッシベーション膜20等が不
要になる。
【0053】〇 基板12側に配設される第1電極層1
7を陰極とし、第2電極層19を陽極としてもよい。 〇 カバー板14は透明であればよく、その材質はガラ
スに限らず、透明な樹脂(例えば、アクリル樹脂)を使
用してもよい。
【0054】○ パッシベーション膜20の材質は、窒
化ケイ素SiNxや酸化ケイ素SiOxに限らず、透明で
水分や酸素等のガスの透過率の小さな他の材質、例えば
ダイヤモンド・ライク・カーボンであってもよい。
【0055】〇 アクティブ・マトリックス方式により
有機EL素子13を駆動する構成において、基板12上
にアクティブ駆動用素子と有機EL素子13とが同一面
上に位置するように形成してもよい。この場合、アクテ
ィブ駆動用素子と対応する箇所には有機EL素子13を
形成できないため、前記第2の実施の形態のように、ア
クティブ駆動用素子(薄膜トランジスタ22)の上に有
機EL素子13を形成する方が好ましい。
【0056】〇 アクティブ駆動用素子として薄膜トラ
ンジスタ22に代えて、MIM(Metal-Insulator-Meta
l )素子を使用してもよい。前記実施の形態から把握さ
れる発明(技術的思想)について、以下に記載する。
【0057】(1) 請求項1〜請求項4のいずれか一
項に記載の発明において、前記基板には反射防止層が形
成されている。 (2) 前記技術的思想(1)に記載の発明において、
前記反射防止層は前記基板に貼付された反射防止フィル
ムにより構成されている。
【0058】(3) 請求項1又は請求項2に記載の発
明において、前記基板は全体が着色されている。 (4) 請求項1〜請求項4及び前記技術的思想(1)
〜(3)のいずれか一項に記載の発明において、前記基
板の反射率が10%以下である。
【0059】(5) 請求項1〜請求項4及び前記技術
的思想(1)〜(4)のいずれか一項に記載の発明にお
いて、前記発光層は白色発光層である。
【0060】
【発明の効果】以上詳述したように請求項1〜請求項4
に記載の発明によれば、信頼性を向上できるとともに、
外光の反射による画質の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a)は第1の実施の形態の有機EL表示装
置の模式断面図、(b)は画素を示す模式図。
【図2】 第2の実施の形態の有機EL表示装置の模式
断面図。
【図3】 別の実施の形態の有機EL表示装置の模式断
面図。
【図4】 別の実施の形態の有機EL表示装置の模式断
面図。
【図5】 別の実施の形態の有機EL表示装置の模式断
面図。
【図6】 従来技術の有機EL表示装置の模式断面図。
【図7】 別の従来技術の薄膜型EL素子の模式断面
図。
【符号の説明】
12…基板、13…EL素子としての有機EL素子、1
4…カバー板、15…カラーフィルタ、17…第1電極
としての第1電極層、18…発光層としての有機EL
層、19…第2電極としての第2電極層。
フロントページの続き Fターム(参考) 3K007 AB04 AB08 AB12 AB13 AB17 AB18 BB01 BB04 BB06 CA04 DB03 FA02

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 EL材料の薄膜からなる発光層を挟む状
    態で透明又は半透明の第1電極及び第2電極が積層され
    たEL素子を基板上に形成し、前記EL素子に対して前
    記基板と反対側に透明なカバー板上に形成されたカラー
    フィルタを前記EL素子と対応する状態で配置し、前記
    EL素子の発光の取り出し方向を前記カバー板側とする
    とともに、前記基板の反射率を金属電極より小さくした
    ELカラー表示装置。
  2. 【請求項2】 前記基板は少なくとも前記EL素子と対
    応する側の表面が黒色に形成されている請求項1に記載
    のELカラー表示装置。
  3. 【請求項3】 前記基板はアルマイト処理されたアルミ
    ニウム板である請求項1又は請求項2に記載のELカラ
    ー表示装置。
  4. 【請求項4】 前記EL材料は有機EL材料である請求
    項1〜請求項3のいずれか一項に記載のELカラー表示
    装置。
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