JP2003214773A - ガラス基板用熱処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 効率的に、かつ連続してガラス基板を加熱乾
燥できるコンパクトな乾燥炉を提供すること。 【構成】 ガラス基板用の搬入口と搬出口とを備え、内
周面にヒータを配設した加熱室内に、ガラス基板を立て
た状態で一枚毎保持する複数の基板保持セッターを、前
記搬入口から搬出口を経由して循環移動させながら蓄熱
できるように配設するとともに、同基板保持セッターを
加熱室内で水平移動させる水平移動機構を設けて、前記
搬入口より順次連続搬入したガラス基板を基板保持セッ
ターに立て掛けた状態で加熱しながら水平移動させ、前
記搬出口より搬出可能とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ガラス基板用熱
処理装置に関し、例えば、液晶パネル用のガラス基板
や、同液晶パネルに取付けられるカラーフィルター用の
ガラス基板の焼成や乾燥などに用いられる熱処理装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、配向膜や偏向膜が形成された液晶
ディスプレイ（ＬＣＤ）用のガラス基板や同ＬＣＤに用
いられるカラーフィルター(ＣＦ)用のガラス基板などの
焼成や乾燥に用いる電子具品用の熱処理装置として、図
４及び図５に示すように、熱の放射伝導を利用した遠赤
外線放射加熱方式の熱処理装置Ｘがあった。

【０００３】図４及び図５において、100は箱型の炉本
体であり、断熱材(図示せず)を貼設した側壁101の内側
に、仕切板111により上下方向に多段に区切られた多数
の基板収納室110を設けている。

【０００４】前記側壁101及び各基板収納室110の内側面
には、それぞれ面状ヒータ200が張設されており、各ガ
ラス基板Ｂを均一に加熱できるようにしている。また、
炉本体100の前面部には、前記各基板収納室110にそれぞ
れ対応する開閉蓋120が設けられている。なお、同開閉
蓋120は図示しないアクチュエータに連動連結されてい
る。

【０００５】基板収納室110内には水平方向に伸延する
石英管130が配設されており、ガラス基板Ｂを水平に保
持可能としている。

【０００６】さらに、図５に示すように、一側側壁に給
気口300を設けるとともに、他側側壁に排気口310を設
け、少量ずつ給気しながらガラス基板Ｂからの揮発性塵
類を排出するようにしている。

【０００７】かかる遠赤外線放射加熱方式の熱処理装置
Ｘは、熱源からのダスト発生がなく、クリーン度も高い
ので電子部品に用いられるガラス基板Ｂの熱処理には適
した方式といえる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した従
来の遠赤外線放射加熱方式の熱処理装置Ｘは、未だ下記
に示す課題が残されていた。

【０００９】すなわち、上記したように、ガラス基板Ｂ
を個別に収納する基板収納室110を多数設けているため
に、各収納室110の仕切壁111全てに面状ヒータ200を設
けなければならないので、イニシャルコストはもとよ
り、電力消費の面からランニングコストが高くなってい
た。また、前面部には、全体にわたって、基板収納室11
0毎の開閉蓋120を設けなければならないので、炉本体10
0の前面部分からの加熱ができなかった。

【００１０】さらに、ガラス基板Ｂを個別に収納する基
板収納室110を設けるために、所要面積当たりの処理量
が制限されてしまい、生産性を高めることができなかっ
た。

【００１１】本発明は、上記課題を解決しながら、省ス
ペースでかつ高清浄度雰囲気での生産性の高い連続熱処
理を行えるガラス基板用熱処理装置を提供することを目
的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】そこで、請求項１記載の
本発明では、ガラス基板用の搬入口と搬出口とを備え、
内周面にヒータを配設した加熱室内に、ガラス基板を立
てた状態で一枚毎保持する複数の基板保持セッターを、
前記搬入口から搬出口を経由して循環移動させながら蓄
熱できるように配設するとともに、同基板保持セッター
を加熱室内で水平移動させる水平移動機構を設けて、前
記搬入口より順次連続搬入したガラス基板を基板保持セ
ッターに立て掛けた状態で加熱しながら水平移動させ、
前記搬出口より搬出可能とした。

【００１３】また、請求項２記載の本発明では、上記基
板保持セッターは、加熱室内では自立した状態で搬送さ
れることとした。

【００１４】また、請求項３記載の本発明では、上記基
板保持セッターは、加熱室内において、保持したガラス
基板が隣接する他の基板保持セッターと接触しないだけ
の所定間隔を保持しながら搬送されることとした。

【００１５】

【発明の実施の形態】本発明に係るガラス基板用熱処理
装置は、ガラス基板用の搬入口と搬出口とを備え、内周
面にヒータを配設した加熱室を、水平方向に伸延する矩
形箱形状に形成し、同加熱室内に、ガラス基板を立てた
状態で一枚毎保持する複数の基板保持セッターを、前記
搬入口から搬出口を経由して循環移動させながら蓄熱で
きるように配設するとともに、同基板保持セッターを加
熱室内で水平移動させる水平移動機構を設けて、前記搬
入口より順次連続搬入したガラス基板を基板保持セッタ
ーに立て掛けた状態で加熱しながら水平移動させ、前記
搬出口より搬出可能としたものである。

【００１６】なお、本熱処理装置の熱処理対象となるガ
ラス基板は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やＬＣＤ用の
カラーフィルター(ＣＦ)などであり、本熱処理装置は、
かかる電子部品用途のものを熱処理する場合に好適に用
いることができる。

【００１７】前記ヒータとしては、例えば遠赤外線を放
射する面状ヒータを用いることができ、かかるヒータに
よって基板保持セッターを加熱することにより、同基板
保持セッターを蓄熱状態にしてあたかもホットプレート
のように用いることができ、基板保持セッターからの加
熱と、ヒータからの遠赤外線放射による加熱とで、加熱
室内のガラス基板を効率よく均一に加熱することができ
る。しかも、基板保持セッターは加熱室内を通って循環
移動するので蓄熱状態が良好に保たれており、ガラス基
板を効率よく加熱することができる。なお、基板保持セ
ッターとしては蓄熱性の高いアルミニウム製などの金属
板を用いることができる。

【００１８】このように、本ガラス基板用熱処理装置で
は、蓄熱した基板保持セッターを用いてガラス基板を全
体的に均一に加熱しているので、ガラス基板を効率よく
加熱することができ、加熱室の内周面に設けたヒータへ
の通電量を低減することができる。

【００１９】また、基板保持セッターを水平移動機構に
よって水平移動させて、それに伴って基板保持セッター
に保持したガラス基板も水平移動させているので、ガラ
ス基板自体が水平移動機構などに触れてガラス基板に外
的損傷が加わるおそれがなく、ガラス基板を安全に移動
させることができる。なお、水平移動機構は周知の構造
で構わないが、駆動機構を加熱室外に配設して、摺動に
よる塵芥の発生などを可及的に防止することが望まし
い。

【００２０】また、基板保持セッターは水平方向に伸延
した矩形箱状の加熱室内において水平移動するので、加
熱室の高さ及び奥行は少なくとも起立状態の基板保持セ
ッターが入る寸法を確保すればよく、加熱室の高さを低
くすることができるとともに奥行を短くすることができ
る。従って、加熱室をコンパクトに形成することができ
るとともに、加熱室の上下部における温度差を小さくす
ることができ、温度差によるガラス基板の撓みや歪みを
防ぐことができる。

【００２１】さらに、搬入口より順次連続搬入したガラ
ス基板をそのまま水平移動させて前記搬出口より搬出す
る連続処理を行うので、生産性がきわめて良好であると
ともに、ガラス基板を垂直移動させる必要がないので、
ガラス基板を安定して安全に搬送することができる。

【００２２】加えて、基板保持セッターを加熱室内にお
いて自立した状態で搬送するようにすれば、基板保持セ
ッターを起立状態に支持するための支持材等を加熱室内
からなくして、加熱室内の構造を簡潔なものとすること
ができ、加熱室のメンテナンスを行いやすくすることが
できる。しかも、基板保持セッター単独でガラス基板を
支持することもできるので、ガラス基板をより安定した
状態に保つことができ、移動時などに基板保持セッター
が不安定に傾いてガラス基板が傷つく危険性を回避する
ことができる。

【００２３】また、基板保持セッターを加熱室内で搬送
する際に、同基板保持セッターが保持したガラス基板
と、隣接する他の基板保持セッターとが接触しないだけ
の所定間隔を保持しながら搬送するようにすれば、他の
基板保持セッターとの接触によってガラス基板が損傷す
るのを防止することができるとともに、他の基板保持セ
ッターとガラス基板との間に緩やかに空気を通して、ガ
ラス基板を加熱した際に発生する揮発性塵類がガラス基
板に付着するのを防止することもできる。

【００２４】ところで、上記基板保持セッターの循環移
動経路は、加熱室内に配設することができる。この場
合、基板保持セッターは加熱室から外部へ出ることがな
いので、常時蓄熱された状態を維持できる。

【００２５】あるいは、循環移動経路のうち、搬入口か
ら搬出口に至る経路を加熱室内とし、搬出口から搬入口
に至る経路を加熱室外に設けることもできる。

【００２６】この場合にあっては、加熱室外といっても
クリーンな雰囲気を保持した通路を確保しておくことが
好ましい。また、加熱室外を通過するときに、基板保持
セッターは温度が低下するので、移動経路上にホットプ
レートを配設しておき、基板保持セッターを加温可能と
して、再度加熱室内に搬入されてガラス基板を載置する
際には十分な温度を有する状態にしておくとよい。

【００２７】また、上記加熱室には、給気口と排気口と
を設け、加熱室内に発生した塵芥などを速やかに排出で
きるようにしておくことが望ましい。

【００２８】

【実施例】（第一実施例）以下、本発明の第一実施例
を、図面を参照しながら説明する。図１は本実施例に係
るガラス基板用熱処理装置としての乾燥炉Ａの斜視によ
る説明図、図２は同乾燥炉Ａの側面視による説明図であ
る。

【００２９】図示するように、本実施例に係る乾燥炉Ａ
は、被処理物としてのガラス基板Ｂを熱処理する炉本体
２と、ガラス基板Ｂを一枚毎保持する基板保持セッター
１とを具備しており、前記炉本体２の内部に基板保持セ
ッター１に保持された状態のガラス基板Ｂを通過させな
がら熱処理を行うものである。

【００３０】また、炉本体２の内部に、前記基板保持セ
ッター１を炉本体２の搬入口11から搬出口12まで移動さ
せるための炉内移動機構３を配設するとともに、炉本体
２の外部に、前記基板保持セッター１を炉本体２の搬出
口12から搬入口11まで移動させるための炉外移動機構４
を配設しており、基板保持セッター１を炉本体２の内部
から外部へ、外部から内部へと循環させるべく構成して
いる。

【００３１】基板保持セッター１は、ガラス基板Ｂを立
て掛けるプレート体５の下端部に平面視「八」字状とな
るように２本の足体６,６を取り付けて自立可能に形成
しており、本実施例ではアルミニウム板を用いて形成し
ている。なお、アルミニウム板以外にも蓄熱性の高い金
属を用いることができ、例えば、銅、ステンレス、ガラ
ス、セラミックなどを用いることができる。

【００３２】炉本体２は、金属製の外枠パネルと内枠パ
ネルとの間に断熱材（図示せず）を充填した構造の壁体
７によって左右方向に伸延する矩形箱状に形成してお
り、基台８上に載置している。

【００３３】壁体７の内側面略全体には面状赤外線放射
ヒータ９を配設して、炉本体２の内部を加熱・保温機能
を備た加熱室10にしており、同加熱室10において、ガラ
ス基板Ｂを所定の温度（本実施例では２３０℃）で所定
時間（本実施例では３０分）熱処理するようにしてい
る。

【００３４】また、炉本体２の前壁７aの左側端部には
搬入口11を形成するとともに、炉本体２の前壁７aの右
側端部には搬出口12を形成しており、同基板搬入・搬出
口11,12を通して炉本体２の内外へ基板保持セッター１
ごとガラス基板Ｂを搬入・搬出できるようにしている。

【００３５】さらに、炉本体２の天壁7bには通気口13を
設けており、同通気口13より炉本体２の加熱室10に少量
ずつ外気を供給しながら、加熱室10でガラス基板Ｂを加
熱した際に発生する揮発性塵類を加熱室10の外部（炉本
体２の外部）へ迅速に排出して、加熱室10の空気を循環
させている。そして、これにより揮発性塵類がガラス基
板Ｂに付着するのを防止している。

【００３６】炉内移動機構３は、本実施例では、固定ビ
ーム14と同固定ビーム14に沿って左右方向に前進・後退
を行う移動ビーム15との組合せによって被処理物を搬送
するウォーキングビーム方式を用いており、移動ビーム
15上に載置した基板保持セッター１を搬入口11から搬出
口12へと水平方向へ循環移動させるようにしている。

【００３７】なお、炉内移動機構３によって移動させる
基板保持セッター１は移動ビーム15上に自立しており、
しかも、移動ビーム15上の基板保持セッター１,１同士
は、図２に示すように、先に加熱室10に搬入された右側
の基板保持セッター１の平面視「八」字状の両足体６,
６に、後に加熱室10に搬入された左側の基板保持セッタ
ー１の平面視「八」字状の両足体６,６がはめ合わされ
て、右側の基板保持セッター１の両足体６,６と左側の
基板保持セッター１の両足体６,６とが前後に当接した
状態となっている。

【００３８】しかもこのとき、右側の基板保持セッター
１のプレート体５と左側の基板保持セッター１のプレー
ト体５とは、右側の基板保持セッター１が保持している
ガラス基板Ｂが左側の基板保持セッター１に接触しない
だけの所定間隔を空けて位置している。

【００３９】このように、加熱室10の内部において、保
持されたガラス基板Ｂが隣接する他の基板保持セッター
１に接触しないだけの所定間隔をあけながら、基板保持
セッター１,１同士をできる限り接近させるようにした
ので、他の基板保持セッター１との接触によってガラス
基板Ｂが損傷するのを防ぎながらも、複数の基板保持セ
ッター１をコンパクトにまとめることができ、乾燥炉Ａ
の所要面積当たりの処理量を多くして、生産性を高める
ことができる。しかも、基板保持セッター１,１同士を
接近させるので、ガラス基板Ｂは、同ガラス基板Ｂを保
持している基板保持セッター１だけでなく、隣接する他
の基板保持セッター１によっても加熱されるので、効率
よくガラス基板Ｂを熱処理することができる。

【００４０】また、炉内移動機構３は、直接的には基板
保持セッター１を移動させるものであり、同基板保持セ
ッター１を移動させることにより基板保持セッター１に
保持したガラス基板Ｂも移動させるものであるから、ガ
ラス基板Ｂは前記炉内移動機構３に触れることがなく、
炉内移動機構３との接触によってガラス基板Ｂに外的損
傷が加わるおそれはない。従って、傷などによるガラス
基板Ｂの不良品の発生も抑制できる。

【００４１】なお、炉内移動機構３は上記したウォーキ
ングビーム方式に限られず、加熱室10の内部において基
板保持セッター１を搬入口11から搬出口12まで水平方向
へ循環移動させる水平移動機構としての機能を有するも
のであれば周知の構造のものを用いることができる。そ
して、炉内移動機構３の駆動機構部分は少なくとも加熱
室10の外部に配設して、摺動による塵芥の発生などを可
及的に防止することが望ましい。

【００４２】炉外移動機構４は、上記炉本体２の前壁７
aの前方に配置しており、左右に配設した両基台16,16の
前部間に左右方向に伸延する移動用ガイドレール17を懸
架するとともに、同移動用ガイドレール17に、基板保持
セッター１を炉本体２の内部へ搬入するための搬入機構
体18と、基板保持セッター１を炉本体２から外部へ搬出
するための搬出機構体19とを摺動自在に取り付ける一
方、前記左右基台16,16間に、基板保持セッター１に保
持するガラス基板Ｂが搬送されてくるまでの間、基板保
持セッター１を待機させる支持台としてのホットプレー
ト20を横一列に水平に３枚並設して構成している。

【００４３】搬入機構体18と搬出機構体19とは同一の構
成であり、移動用ガイドレール17に摺動自在に取り付け
た左右方向スライド体21に、前後方向に伸延する搬入用
ガイドレール22（搬出用ガイドレール23）を取り付ける
一方、同搬入用ガイドレール22（搬出用ガイドレール2
3）に摺動自在に取り付けた前後方向スライド体24に、
前後方向に伸延する軸線廻りに回動自在な回動体25を取
り付け、同回動体25に上下方向に伸縮するシリンダー26
を取り付け、さらに、同シリンダー26の先端に搬入用ガ
イドレール22（搬出用ガイドレール23）と平行に伸延す
るとともに基板保持セッター１を支持する支持アーム27
を取り付けて形成している。

【００４４】従って、左右方向スライド体21を移動用ガ
イドレール17に沿って摺動させることにより搬入機構体
18（搬出機構体19）全体を左右方向に水平移動させるこ
とができ、前後方向スライド体24を搬入用ガイドレール
22（搬出用ガイドレール23）に沿って摺動させることに
より支持アーム27を前後方向に水平移動させることがで
き、回動体25を軸線廻りに回動させることにより支持ア
ーム27を軸線廻りに回動させることができ、シリンダー
26を伸縮させることにより支持アーム27を上下（左右）
方向に移動させることができる。

【００４５】なお、両機構体18,19は、搬入機構体18が
搬出機構体19よりも左側となるように移動用ガイドレー
ル17に取り付けており、搬入機構体18が炉本体２の搬入
口11の直前方に、搬出機構体19が炉本体２の搬出口12の
直前方に移動できるようにしている。

【００４６】上記構成の炉外移動機構４によれば、搬出
機構体19の支持アーム27によって炉本体２の加熱室10に
収納されている起立状態の基板保持セッター１を把持し
て、同基板保持セッター１と基板保持セッター１に保持
されたガラス基板Ｂとを搬出口12から炉本体２の外部へ
搬出し、続いて、搬出機構体19の回動体25を作動させて
基板保持セッター１及びガラス基板Ｂを水平に倒し、ガ
ラス基板Ｂのみを図示しない基板搬送装置に受け渡すと
ともに基板保持セッター１については搬入機構体18の支
持アーム27に受け渡して、同支持アーム27により基板保
持セッター１を横一列に並んだ３つのホットプレート20
のうちの右側のホットプレート20に水平に載置し、基板
保持セッター１を加熱しながら待機させることができ
る。

【００４７】そして、所定時間経過後に、搬入機構体18
の支持アーム27により基板保持セッター１を把持して基
板保持セッター１を水平状態のまま右側のホットプレー
ト20から中央のホットプレート20へと移動させ、同基板
保持セッター１上に図示しない基板搬送装置により乾燥
炉Ａへと搬送されてきたガラス基板Ｂを水平に載置して
同ガラス基板Ｂを予熱し、その後、再び搬入機構体18の
支持アーム27により基板保持セッター１を把持して同基
板保持セッター１及びガラス基板Ｂを水平状態のまま中
央のホットプレート20から左側のホットプレート20へと
移動させ、さらに、搬入機構体18の回動体25を作動させ
て基板保持セッター１及びガラス基板Ｂを立ち上げて起
立状態とし、同起立状態のまま炉本体２の搬入口11から
基板保持セッター１ごとガラス基板Ｂを加熱室10へ搬入
することができる。

【００４８】なお、炉外移動機構４は上記構成に限るも
のではなく、加熱室10の内部から基板保持セッター１を
搬出するとともに、搬出した基板保持セッター１を搬出
口12から搬入口11まで水平方向へ循環移動させ、さら
に、加熱室10の内部に基板保持セッター１を搬入する機
能を有するものであれば、周知の構造のものを用いても
よい。

【００４９】このように、本実施例では、乾燥炉Ａに炉
本体２の外部から炉本体２の内部の加熱室10を通って再
び炉本体２の外部へと循環移動する基板保持セッター１
を設けたので、コンパクトな構成でありながらガラス基
板Ｂを次々と連続して効率よく乾燥させることができ
る。

【００５０】しかも、本実施例では、基板保持セッター
１を待機させる支持台としてホットプレート20を用いて
いるので、基板保持セッター１は、ホットプレート20→
加熱室10→ホットプレート20と循環移動しており、加熱
室10から出た後もホットプレート20によりすぐに加熱さ
れるので、基板保持セッター１は、常時必要十分な熱量
が蓄熱された予熱体として機能するものとなっており、
効率よくガラス基板Ｂを乾燥させることができる。

【００５１】なお、基板保持セッター１の蓄熱性が落ち
るものの、基板保持セッター１を待機させる支持台とし
てホットプレート20の代わりに通常のプレートを用いる
こともできる。

【００５２】また、ホットプレート20を設けずに、搬出
機構体19から搬入機構体18へと受け渡された基板保持セ
ッター１をそのまま搬入口11の直前方まで移動させ、図
示しない基板搬送装置により乾燥炉Ａへと搬送されてき
たガラス基板Ｂを基板保持セッター１に立て掛けてガラ
ス基板Ｂを基板保持セッター１により予熱し、続いて、
炉本体２の搬入口11から基板保持セッター１ごとガラス
基板Ｂを加熱室10へ搬入することもできる。

【００５３】この場合は、基板保持セッター１は加熱室
10の外部に位置する時間が短いので、ホットプレート20
を用いなくても基板保持セッター１の蓄熱性が高く、十
分にガラス基板Ｂを予熱することができる。

【００５４】本実施例における乾燥炉Ａは上記構成であ
り、以下に一枚のガラス基板Ｂが本乾燥炉Ａへ搬入され
て乾燥処理され、その後、搬出されて次工程に受け渡さ
れるまでの工程を説明する。

【００５５】なお、ここでは、ガラス基板Ｂを液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）用のカラーフィルター(ＣＦ)として
おり、同ガラス基板Ｂの流れR1を細矢印で示している。
また、基板保持セッター１の循環移動経路Ｒを太矢印で
示すとともに、基板保持セッター１がガラス基板Ｂを載
置した状態での移動経路を太矢印中に細矢印を含んだ矢
印で示している。さらに、ガラス基板Ｂの乾燥炉Ａへの
搬送経路r1、及び乾燥炉Ａから次工程への搬送経路r2を
一点鎖線で示している。

【００５６】図示しない所定の基板搬送装置により搬送
経路r1に沿って本乾燥炉Ａまで搬送されてきたガラス基
板Ｂは、移動用ガイドレール17の上方へ持ち上げられて
横一列に並んだ３枚のホットプレート20のうちの中央の
ホットプレート20上の基板保持セッター１上に水平に載
置され、先ず予熱される。

【００５７】次いで、基板保持セッター１ごと左側のホ
ットプレート20に移動し、ここで、基板保持セッター１
とともに立ち上げられて同基板保持セッター１に立てか
かり、基板保持セッター１に起立状態に保持される。

【００５８】そして、起立状態のまま基板保持セッター
１ごと搬入口11より加熱室10に搬入され、炉内移動機構
３により予め定めれられた所定時間（３０分）をかけて
漸次右方へと水平移動して加熱される。

【００５９】このとき、ガラス基板Ｂは、蓄熱した基板
保持セッター１により全体的に均一に予熱されているの
で、加熱室10の内部においては効率よく加熱されること
になり、加熱室10の内壁全面に設けた面状赤外線放射ヒ
ータ９への通電量も低減できる。

【００６０】しかも、ガラス基板Ｂは、その側面全体が
基板保持セッター１に保持されているので、撓んだりす
ることなく均一に加熱される。したがって、熱履歴が異
なって歪んだりするおそれもない。

【００６１】さらに、ガラス基板Ｂは、同ガラス基板Ｂ
を保持している基板保持セッター１だけでなく近接する
他の基板保持セッター１によっても加熱することができ
るので、効率よく短時間でガラス基板Ｂの熱処理を行う
ことができる。なお、加熱中に発生する揮発性塵類は通
気口13から排出される。

【００６２】加熱室10の内部で前記面状赤外線放射ヒー
タ９により十分加熱されて乾燥したガラス基板Ｂは、起
立状態のまま基板保持セッター１ごと搬出口12から加熱
室10の外部（炉本体２の外部）に搬出され、その後、基
板保持セッター１とともに水平に倒されて、図示しない
基板搬送装置により搬送経路r2に沿って次工程へ搬送さ
れる（図１参照）。

【００６３】このように、本実施例によれば、コンパク
トで、かつ省エネルギーであり、しかもガラス基板Ｂを
効率よく連続して乾燥処理できる乾燥炉Ａを構築するこ
とができる。しかも、ガラス基板Ｂは、前記基板保持セ
ッター１上でむらなく加熱されるので、熱履歴が異なっ
て歪んだりすることがなく、かかる基板変形による不良
品発生も抑制され、歩留まりの向上も見込まれる。

【００６４】（第二実施例）次に、図３を参照しながら
本発明の第二実施例について説明する。

【００６５】本実施例における乾燥炉Ａ'は、第一実施
例における炉外移動機構４に、搬出機構体19によって炉
本体２から搬出された基板保持セッター１を搬入機構体
18に受け渡すための受渡機構体28を新たに設けて、同受
渡機構体28を搬出機構体19と搬入機構体18との間の移動
用ガイドレール17に摺動自在に取り付けたことに特徴を
有するものである。また、乾燥炉Ａにおいてガラス基板
Ｂを常に起立状態に保持したことにも特徴を有するもの
である。

【００６６】なお、本実施例における乾燥炉Ａ'は、前
記受渡機構体28以外の構成要素は第一実施例と同様なの
で、第一実施例と同一の符号を付して説明を省略し、以
下に受渡機構体28について説明する。

【００６７】受渡機構体28は、本実施例では搬入機構体
18及び搬出機構体19と略同一に形成しており、移動用ガ
イドレール17に摺動自在に取り付けた左右方向スライド
体21'に、前後方向に伸延する基礎杆22'を取り付ける一
方、同基礎杆22'に、前後方向に伸延する軸線廻りに回
動自在な回動体25'を取り付け、同回動体25'に上下方向
に伸縮するシリンダー26'を取り付け、さらに、同シリ
ンダー26'の先端に前後方向に伸延するとともに基板保
持セッター１を支持する支持アーム27'を取り付けて形
成している。

【００６８】従って、搬入機構体18及び搬出機構体19と
同様に、左右方向スライド体21'を移動用ガイドレール1
7に沿って摺動させることにより受渡機構体28全体を左
右方向に水平移動させることができ、回動体25'を軸線
廻りに回動させることにより支持アーム27'を軸線廻り
に回動させることができ、シリンダー26'を伸縮させる
ことにより支持アーム27'を上下（左右）方向に移動さ
せることができる。

【００６９】上記受渡機構体28を炉外移動機構４に設け
たことにより、本実施例における炉外移動機構４は、搬
出機構体19の支持アーム27によって炉本体２の加熱室10
に収納されている起立状態の基板保持セッター１を把持
して、同基板保持セッター１と基板保持セッターに保持
されたガラス基板Ｂとを搬出口12から炉本体２の外部へ
搬出し、続いて、ガラス基板Ｂのみを図示しない基板搬
送装置に受け渡すとともに基板保持セッター１について
は受渡機構体28の支持アーム27'に受け渡すことができ
る。

【００７０】そして、同受渡機構体28の支持アーム27'
により基板保持セッター１を横一列に並んだ３つのホッ
トプレート20の右から左へと順に移動させながら、同基
板保持セッター１を各ホットプレート20にそれぞれ所定
時間水平に載置して、基板保持セッター１をホットプレ
ート20により加熱することができる。

【００７１】また、左側のホットプレート20まで移動し
た基板保持セッター１については、搬入機構体18の支持
アーム27によって把持するとともに、搬入機構体18の回
動体25を作動させて把持した基板保持セッター１を立ち
上げ、この立ち上げて起立状態となった基板保持セッタ
ー１に図示しない基板搬送装置により乾燥炉Ａへと搬送
されてきたガラス基板Ｂを立て掛けて同ガラス基板Ｂを
基板保持セッター１により予熱し、続いて、炉本体２の
搬入口11から起立状態のままの基板保持セッター１及び
ガラス基板Ｂを加熱室10へ搬入することができる。

【００７２】このように、本実施例では炉外移動機構４
に受渡機構体28を設けたので、ホットプレート20間にお
ける基板保持セッター１の移動を受渡機構体28によって
行うことができ、搬出口12から搬入口11への基板保持セ
ッター１の移動をより円滑に行うことができる。

【００７３】また、本実施例においても、コンパクト
で、かつ省エネルギーであり、しかもガラス基板Ｂを効
率よく連続して乾燥処理できる乾燥炉Ａ'を構築するこ
とができる。

【００７４】本実施例における乾燥炉Ａ'は上記構成で
あり、以下に一枚のガラス基板Ｂが本乾燥炉Ａ'へ搬入
されて乾燥処理され、その後、搬出されて次工程に受け
渡されるまでの工程を説明する。

【００７５】なお、ここでも、ガラス基板Ｂの流れR1を
細矢印で示すとともに、基板保持セッター１の循環移動
経路Ｒを太矢印で示し、基板保持セッター１がガラス基
板Ｂを載置した状態での移動経路を太矢印中に細矢印を
含んだ矢印で示している。さらに、ガラス基板Ｂの乾燥
炉Ａ'への搬送経路r1、及び乾燥炉Ａ'から次工程への搬
送経路r2を一点鎖線で示している。

【００７６】図示しない所定の基板搬送装置により搬送
経路r1に沿って本乾燥炉Ａ'まで搬送されてきたガラス
基板Ｂは、搬入機構体18の支持アーム27に把持された基
板保持セッター１に立て掛けられて、基板保持セッター
１により起立状態に保持されるとともに予熱される。

【００７７】次いで、起立状態のまま基板保持セッター
１ごと搬入口11より加熱室10に搬入され、炉内移動機構
３により、予め定めれられた所定時間（３０分）をかけ
て漸次右方へと水平移動して加熱される。

【００７８】そして、加熱室10の内部で前記面状赤外線
放射ヒータ９により十分加熱されて乾燥したガラス基板
Ｂは、起立状態のまま基板保持セッター１ごと搬出口12
から加熱室10の外部（炉本体２の外部）に搬出され、図
示しない基板搬送装置により搬送経路r2に沿って次工程
へ搬送される（図１参照）。

【００７９】このように、本実施例では、ガラス基板Ｂ
が乾燥炉Ａにおいて基板保持セッター１により常に起立
状態に保たれているので、移動中であってもガラス基板
Ｂが常に一定の姿勢に保たれており、ガラス基板Ｂが基
板保持セッター１からずれ落ちて損傷したりするおそれ
がなく、ガラス基板Ｂを安定した状態で安全に搬送する
ことができる。

【００８０】また、本実施例においても、ガラス基板Ｂ
は加熱された基板保持セッター１により全体的に均一に
予熱され、加熱室10の内部においてさらに効率よく加熱
されるので、加熱室10の内壁全面に設けた面状赤外線放
射ヒータ９への通電量も低減でき、省エネルギーとな
る。

【００８１】しかも、ガラス基板Ｂは、その一側面全体
が基板保持セッター１に保持されているので、撓んだり
することなく均一に加熱され、熱履歴が異なって歪んだ
りするおそれもないことから、基板変形による不良品発
生も抑制され、歩留まりの向上が見込まれる。

【００８２】さらに、加熱室の内部において、ガラス基
板Ｂは同ガラス基板Ｂを保持している基板保持セッター
１だけでなく近接する他の基板保持セッター１によって
も加熱されるので、ガラス基板Ｂを効率よく短時間で熱
処理することができる。

【００８３】

【発明の効果】本発明は、上記してきた態様で実施され
るものであり、下記の効果を奏する。

【００８４】（１）請求項１記載の本発明では、ガラス
基板用の搬入口と搬出口とを備え、内周面にヒータを配
設した加熱室内に、ガラス基板を立てた状態で一枚毎保
持する複数の基板保持セッターを、前記搬入口から搬出
口を経由して循環移動させながら蓄熱できるように配設
するとともに、同基板保持セッターを加熱室内で水平移
動させる水平移動機構を設けて、前記搬入口より順次連
続搬入したガラス基板を基板保持セッターに立て掛けた
状態で加熱しながら水平移動させ、前記搬出口より搬出
可能としたので、ガラス基板の加熱乾燥を連続して行え
るとともに、ガラス基板は基板保持セッターにより全体
的に均一に予熱されて、加熱室内においては効率よく加
熱されることになり、加熱室の内側面に設けたヒータへ
の通電量も低減できる。しかも、ガラス基板は、その一
側面全体が基板保持セッターに面で保持されているの
で、撓んだりすることがなく均一に加熱され、熱履歴が
異なって歪んだりするおそれもなく、歩留まり向上が見
込まれる。

【００８５】また、水平移動機構により基板保持セッタ
ーを水平に移動させるので、加熱室の高さ及び奥行は少
なくともガラス基板を保持した状態の基板保持セッター
が入る寸法を確保すればよく、加熱室の高さを低くする
ことができるとともに奥行を短くすることができる。従
って、加熱室をコンパクトに形成することができるとと
もに、加熱室の上下部における温度差を小さくすること
ができ、温度差によるガラス基板の撓みや歪みを防ぐこ
とができる。

【００８６】（２）請求項２記載の本発明では、上記基
板保持セッターは、加熱室内では自立した状態で搬送さ
れることとしたので、基板保持セッターを立てるための
支持材等を加熱室内に改めて取り付ける必要がなく、加
熱室内の構造を簡潔なものとしてメンテナンスを行いや
すくすることができる。しかも、基板保持セッター単独
でガラス基板を支持することができるので、ガラス基板
を常に安定した状態で支持することができ、移動時など
に基板保持セッターが傾いてガラス基板が傷つくのを防
ぐことができる。

【００８７】（３）請求項３記載の本発明では、上記基
板保持セッターは、加熱室内において、保持したガラス
基板が隣接する他の基板保持セッターと接触しないだけ
の所定間隔を保持しながら搬送されることとしたので、
他の基板保持セッターとの接触によってガラス基板が損
傷するのを防止することができるとともに、他の基板保
持セッターとガラス基板との間に緩やかに空気を通し
て、ガラス基板を加熱した際に発生する揮発性塵類がガ
ラス基板に付着するのを防止することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第一実施例に係る乾燥炉の斜視による説明図で
ある。

【図２】同乾燥炉の側面視による説明図である。

【図３】第二実施例に係る乾燥炉の斜視による説明図で
ある。

【図４】従来の乾燥炉の一例を示す側面視による説明図
である。

【図５】同従来の乾燥炉の平面視による説明図である。

【符号の説明】

Ａ,Ａ' 乾燥炉 Ｂ ガラス基板 １ 基板保持セッター ２ 炉本体 ３ 炉内移動機構 ４ 炉外移動機構 ９ 面状赤外線放射ヒータ 10 加熱室 11 搬入口 12 搬出口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今田 健一 福岡県粕屋郡久山町大字久原2781 昭和鉄 工株式会社サーモデバイス事業部内 Ｆターム(参考） 4K050 AA02 BA07 BA16 CF01 CF11 CG28 4K055 AA06 HA01 HA11

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板用の搬入口と搬出口とを備
   え、内周面にヒータを配設した加熱室内に、ガラス基板
   を立てた状態で一枚毎保持する複数の基板保持セッター
   を、前記搬入口から搬出口を経由して循環移動させなが
   ら蓄熱できるように配設するとともに、同基板保持セッ
   ターを加熱室内で水平移動させる水平移動機構を設け
   て、前記搬入口より順次連続搬入したガラス基板を基板
   保持セッターに立て掛けた状態で加熱しながら水平移動
   させ、前記搬出口より搬出可能としたことを特徴とする
   ガラス基板用熱処理装置。
2. 【請求項２】 基板保持セッターは、加熱室内では自立
   した状態で搬送されることを特徴とする請求項１記載の
   ガラス基板用熱処理装置。
3. 【請求項３】 基板保持セッターは、加熱室内におい
   て、保持したガラス基板が隣接する他の基板保持セッタ
   ーと接触しないだけの所定間隔を保持しながら搬送され
   ることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス基板
   用熱処理装置。