KR20120045722A - 인라인 다단 원적외선 열처리 장치 및 시스템 - Google Patents

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KR20120045722A
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Abstract

인라인 다단 원적외선 열처리 장치가 개시된다. 본 발명의 열처리 장치는 종래의 열처리 장치에서 실질적인 열처리 공정 이전에 기판을 미리 일정 온도까지 가열하는 공정을 둔 것과 달리, 하나의 공정으로 열처리가 가능하게 하며 이를 통해 전체 시스템의 공간적 효율도 극대화한다. 이를 위한 열처리 장치는 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트에 구비하여 기판을 상부와 하부에서 동시에 가열하며, 장력 조절이 가능한 고온용 고속 기판이송부를 이용하여 기판이 가열부로 진입하는 과정에서 발생할 수 있는 열적 불균형을 제거한다.

Description

인라인 다단 원적외선 열처리 장치 및 시스템{In Line Type Multi Layer Heat Treating Apparatus and System}
본 발명은 평판 디스플레이용 기판을 열처리할 수 있는 열처리 장치 및 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 열처리 장치는 히터를 이용하여 열처리 대상물을 대류, 전도, 복사 가열의 방법으로 열을 가하는 장치로서, 산업계에 널리 사용된다. 예컨대, 엘시디(LCD)와 같은 평판 디스플레이 패널 제조공정 중에는 베이킹(Baking), 건조, 화학결합 촉진 등의 이유로 글라스를 가열하여 열처리할 필요가 있다.
종래의 평판 디스플레이용 열처리 장치는 열풍(Hot Air)을 사용하는 오븐(Oven) 방식, 글라스에 핫 플레이트(Hot Plate)를 직접 접촉시켜 가열하는 핫 플레이트 방식 등이 있다.
열풍 방식의 경우, 글라스의 이송을 위해 이송로봇을 사용해야 하며 일반적으로 에너지 효율이 낮은 문제점이 있다. 더구나 평판 디스플레이 패널이 5세대 이상으로 가면서 대형화함에 따라 파티클(Particle)이 발생하는 문제점도 발생하고 있다.
종래의 핫 플레이트 방식은 글라스를 직접 가열하기 때문에 전반적으로 열 효율이 개선된다. 그러나 글라스가 대형화되면서, 글라스를 이송하는 이송수단은 글라스의 처짐을 방지할 수 있어야 할 뿐만 아니라 고온 상태의 열처리 공간에서의 열변형을 대응해야 하기 때문에, 이송수단에 사용되는 샤프트 등이 매우 크고 굵은 것을 사용할 수 밖에 없었다. 따라서 이송수단 자체의 무게 등의 이유로 열처리 공간으로 글라스를 이송하는 속도는 대략 10m/min의 속도로 매우 느렸다. 이러한 상태에서, 먼저 진입된 패널 부분과 마지막으로 진입된 패널 부분 사이에는 온도 편차가 발생할 수 밖에 없다.
이러한 문제를 해결하기 위해 종래의 핫 플레이트 방식은 미리 일정한 온도까지 미리 가열하는 전(前) 공정을 두었으며, 패널을 이송하는 이송로봇, 컨베이어 시스템과 합쳐져 전체 시스템의 크기가 매우 클 수 밖에 없었으며, 여러가지 비효율적인 문제를 야기할 수 밖에 없었다.
본 발명의 목적은, 인라인(In-Line) 형태의 핫 플레이트를 다단으로 구성하여 복수 개의 평판 디스플레이용 기판을 동시에 열처리할 수 있는 원적외선 열처리 장치 및 시스템을 제공함에 있다.
상기 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 인라인 다단 원적외선 열처리장치는 내부로 이송되어 진입한 기판을 열처리하는 복수 개의 가열부가 다단으로 배치된 열처리장치와, 상기 열처리장치와 인라인으로 배치되어 상기 복수 개의 가열부로 상기 기판을 이송하는 로더(Loader)를 포함한다.
여기서, 상기 가열부는, 고온의 원적외선을 방출하는 상부 핫 플레이트 및 하부 핫 플레이트와, 기판이송부를 포함한다. 기판이송부는 상기 기판을 상기 로더로부터 제공받아 수평 이송하여 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트 사이에 위치시킨 다음, 열처리 공정동안 상기 기판을 지지한다.
또한, 상기 기판이송부는, 상호 평행하게 배치되어 회전하는 복수 개의 메인 샤프트; 상기 복수 개의 메인 샤프트 각각을 관통하여 양단이 기판이송부 프레임에 고정되는 보조 샤프트; 상기 보조 샤프트와 메인 샤프트 사이에 마련되어 상기 메인 샤프트를 회전 가능하게 지지하는 복수 개의 지지부재; 상기 보조 샤프트의 단부에 마련되어 상기 보조 샤프트의 장력을 조절하는 인장수단; 상기 보조 샤프트의 다른 단부와 프레임 사이에 마련되어, 상기 고정된 보조 샤프트가 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트에 의해 가열됨에 따른 열변형으로 인한 장력의 변화를 완충하는 스프링; 및 상기 메인 샤프트에 끼움 장착되어 회전하면서 상기 기판을 지지하는 롤러를 포함함으로써 열처리 대상 기판을 충분히 빠른 속도로 이송시킴으로써 기판이 진입하는 중에 발생할 수 있는 열적 불균형을 최소화한다.
또한, 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트는, 상기 기판을 향해 일면이 노출되어, 가열될 경우 원적외선을 상기 기판으로 방출하는 가열판; 상기 가열판의 후면에 무기물계 내열성 절연재료를 코팅하여 형성한 절연층; 교류 또는 직류 전기에 의해 발열하여 상기 절연층을 통해 상기 가열판을 가열하는 발열층; 및 상기 발열층의 일측에 형성되어 상기 발열층으로 교류 또는 직류 전기를 제공하는 배선부를 포함하여 상기 기판으로 원적외선을 방출함으로써 기판을 급속 가열함에도 불구하고 기판상에 핀홀 현상이 발생하지 않도록 한다.
본 발명의 열처리장치는 글라스의 이송을 위해 고온용 텐션 샤프트 구조의 기판이송수단을 사용함으로써 기판(글라스 등)을 핫 플레이트로 빠르게 이송시킬 수 있으며, 이에 따라 미리 일정한 온도까지 기판을 가열하기 위한 별도의 전 공정이 필요없게 되어 공정이 단순화되고, 전체적인 시스템의 크기를 줄일 수 있다.
또한, 본 발명의 열처리장치는 텐션 샤프트 구조의 기판이송부를 가짐으로써, 대형 기판의 경우에도 샤프트를 지지하기 위한 별도의 하부구조가 필요 없게 되어 다단의 가열부(또는 다단의 핫 플레이트 시스템)를 구성할 수 있다.
또한, 본 발명의 열처리 장치는 히터를 기판의 상하에 모두 배치하여 열처리 효율을 개선하였으며, 원적외선을 방출하는 히터를 사용함으로써 히터의 상하 배치에 따라 발생할 수 있는 기판 상의 핀홀(Pinhole) 형상을 제거하였다.
또한, 본 발명의 열처리 장치는 핫 플레이트와 같은 평판형 히터를 사용하면서도 OLED(Organic Light Emitting Diode)와 같이 250℃ 이상의 고온의 열처리공정에 적용할 수 있다.
따라서, 본 발명의 열처리 장치는 미리 가열하는 공정없이 단일 공정으로 열처리 함과 동시에, 가열부를 다단으로 배치하여 공간적 효율을 극대화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 인라인 다단 원적외선 열처리 시스템을 개략적으로 도시한 도면,
도 2는 도 1의 열처리장치의 가열부를 개략적으로 도시한 도면,
도 3은 도 1의 가열부의 하부 핫 플레이트와 기판이송부를 도시한 도면,
도 4는 본 발명에 적용되는 핫 플레이트의 구조를 도시한 단면도,
도 5는 본 발명의 기판이송부의 구조를 도시한 사시도, 그리고
도 6은 도 5의 기판이송부의 구조를 도시한 단면도이다.
이하 도면을 참조하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 열처리장치(100)는 평판 패널 디스플레이(FPD: Flat Panel Display)용 기판을 열처리장치(100)로 이송하는 로더(Loader)(10)와 결합되어 열처리 시스템을 구성하며, 평판 패널 디스플레이용 기판 등에 대한 열처리를 수행한다.
열처리장치(100)는 복수 개의 가열부(110, 130, 150)가 적층된 다단으로 형성되며, 실시 예에 따라 가열부(HP Unit: Hot Plate Unit)와 냉각부(CP Unit: Cool Plate Unit)가 교번적으로 적층된 형태를 가질 수도 있다. 이하에서 가열부(110, 130, 150)가 핫 플레이트(HP)를 이용하는 것처럼, 냉각부도 쿨 플레이트(CP)를 이용하는 것이 바람직하며, 종래에 알려진 다양한 형태의 쿨 플레이트 및 그를 이용한 냉각부 구조를 사용할 수 있다. 도 1은 복수 개의 가열부(110, 130, 150)가 다단으로 적층된 구조를 도시하고 있다.
로더(10)는 열처리 대상이 되는 기판(20)을 열처리장치(100) 각 단의 가열부(110)로 진입시키기 위한 이송수단으로서, 원하는 높이로 승강시키는 수직이송수단(11)과 열처리장치(100) 내부로 기판(20)을 수평 이송하기 위한 수평 이송수단(13)을 구비한다. 이 밖에도, 승강식 컨베이어(Convoyer) 시스템도 로더(10)로 가능하다.
도 2를 참조하면, 가열부(110)는 열처리를 위해 로더(10)에 의해 내부로 진입하는 기판(20)을 고속으로 수평 이송하여 열처리 위치에 정위치시킴과 동시에 열처리 공정 동안 기판(20)을 지지하는 기판이송부(111)를 포함한다.
예를 들어 엘시디용 글라스 기판과 같은 평판 패널 디스플레이용 기판은 점점 대형화되어, 8세대에 이르러서는 1장의 기판(20)이 대략 2200mm×2500mm의 크기를 가진다. 따라서 기판이송부(111)도 대형화될 수 밖에 없으며, 대형의 무거운 기판(20)을 휨없이 지지하기 위한 구조를 가져야 한다. 본 발명이 제시하는 기판이송부(111)는 상호 평행하게 나란히 배치된 복수 개의 샤프트(113)에 의해 지지되는 복수 개의 롤러(Roller)(115)가 기판(20)을 지지하는 구조를 가진다. 기판이송부(111)는 로더(10)에 의해 진입하는 기판(20)을 적어도 대략 40m/min 이상의 빠른 속도로 진입시킴으로써 진입 중인 기판(20)에 발생할 수 있는 열적 불균형을 차단한다. 이에 따라, 종래에 글라스의 진입과정에서 발생하는 열적 불균형을 제거하기 위해 기판(20)을 미리 일정한 온도까지 가열하는 전(前) 공정이 불필요하게 되어 공정이 단순화될 뿐만 아니라, 열처리를 위한 전체 시스템의 크기도 소형화되고 공간 효율이 좋아질 수 있다. 기판이송부(111)의 세부 구성은 아래에서 다시 설명한다.
가열부(110)는 기판(20)을 상부 또는 하부 일측에서만 가열하는 것이 아니라, 상부와 하부에서 동시에 가열한다. 이를 위해, 가열부(110)는 기판(20)의 윗쪽에 위치하여 기판(20)을 가열하는 상부 핫 플레이트(117)와, 기판(20)의 아랫쪽에 위치하여 기판(20)의 아랫면을 가열하는 하부 핫 플레이트(119)를 구비한다. 하부 핫 플레이트(119)는 기판이송부(111)의 구조 및 위치에 불구하고 열처리 대상인 기판(20)이 위치할 공간의 아랫쪽에 형성되면 족하나, 도 2 및 도 3에 도시된 것처럼 롤러(115)가 형성하는 기판 지지면(a)과 샤프트(113) 사이에 마련되는 것이 바람직하다.
앞서 설명한 것처럼 기판(20)이 대형화됨에 따라 하나의 핫 플레이트로 구현하기 어렵게 되었으며, 도 3에 도시된 것처럼 복수 개의 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119)가 동일 평면상에 나란히 배치되어 핫 플레이트를 형성함으로써 기판(20)을 한꺼번에 가열하는 것이 바람직하다.
도 4를 참조하면, 본 발명에 적용되는 핫 플레이트(117, 119)는 원적외선을 방출하는 얇은 평판형 원적외선 히터가 바람직하다. 스테인리스 또는 세라믹 소재의 가열판(401)상에 내열성이 우수한 무기물계 절연재료를 코팅하여 절연층(403)을 형성하고, 절연층(403) 상에 히터 기능을 수행하는 발열층(405)을 형성한다. 발열층(405)은 소정 패턴의 전기적 회로로 형성하여 전체적으로 소정의 저항 값을 가지도록 함으로써 직류 또는 교류 전기 에너지에 의해 발열할 수 있도록 하며, 페러디엄(Palladium)과 같은 저항 온도 계수가 높은 재료를 스크린 인쇄 등의 방법을 이용하여 절연층(403)상에 형성한다.
발열층(405)의 일측에는 발열층(405)으로 직류 또는 교류 전기를 공급하기 위한 배선부(407)가 형성된다. 발열층(405) 상에는 단열 기타, 전기적 절연 등의 목적으로 보호층(409)을 형성한다.
배선부(407)를 통해 공급되는 전기 에너지에 의해 발열층(405)이 발열하여 가열판(401)을 데움으로써, 가열판(401)이 히터로서 동작하면서 원적외선을 방출한다.
본 발명에 적용된 핫 플레이트(117, 119)의 가열판(401)이 원적외선을 방출함으로써 기판(20)에 핀홀(Pinhole) 형상이 발생하지 않도록 할 수 있다. 이에 따라, 핀홀 형상 때문에 상부 또는 하부 일측에만 핫 플레이트를 배치하였던 종래기술과 달리, 본 발명은 핀홀 형상을 제거함으로써 기판(20)의 상부와 하부 모두에 핫 플레이트(117, 119)를 배치하여 급속 열처리 할 수 있다. 본 발명의 열처리장치(100)는 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119)를 사용함으로써, 가열부(110) 공간 내의 온도 제어를 매우 빠른 속도로 전개할 수 있으며, 결국 핫 플레이트의 열 효율을 극대화할 수 있다.
이하에서는, 도 5 및 도 6을 참조하여 본 발명의 가열부(110)에 적용된 기판이송부(111)의 세부 구조를 설명한다.
도 5를 참조하면, 기판이송부(111)는 기판이송부 프레임(501)에 평행하게 배치된 파이프(Pipe) 형상의 복수 개 메인 샤프트(113)와, 샤프트 구동부(미도시)를 통해 메인 샤프트(113)에 회전력을 공급하는 모터(503)를 포함하고, 각 메인 샤프트(113)에는 복수 개의 롤러(115)가 끼움 장착됨으로써 메인 샤프트(113)의 회전에 따라 회전하면서 기판(20)을 수평으로 이송하고, 열처리 공간 내에서는 기판(20)을 수평 지지한다.
도 6을 참조하면, 기판이송부(111)는, 대형화된 기판(20)을 지지함에 따라 파이프 형상의 메인 샤프트(113)에 발생할 수 있는 처짐 또는 휘어짐을 방지하기 위해, 각각의 메인 샤프트(113)를 관통하는 보조 샤프트(601)를 구비한다.
보조 샤프트(601)는 메인 샤프트(113)를 관통하여 양단이 기판이송부 프레임(501)에 고정되고, 보조 샤프트(601)와 메인 샤프트(113) 사이에는 보조 샤프트(601)에 끼움 장착되는 베어링(Bearing) 같은 복수 개의 지지부재(603)가 일정간격 이격되어 구비됨으로써 메인 샤프트(113)를 복수 개의 점에서 슬라이딩 가능하게 지지한다.
또한, 보조 샤프트(601)는 기준값 이상의 장력(Tension)을 유지하도록 기판이송부 플레임(501)에 고정되며, 보조 샤프트(601)의 양끝 부분 중 적어도 하나에는 보조 샤프트(601)의 장력을 조절하는 인장수단(605)이 구비되어 고온에 의해 열변형됨에 따라 보조샤프트(601)의 장력이 약해지는 것을 방지한다. 도 6의 예를 참조하면, 인장수단(605)은 보조 샤프트(601)의 선단에 형성된 볼트(Bolt)부(607)와, 볼트부(607)에 체결되는 정도에 따라 보조 샤프트(601)를 인장하여 장력을 유지하는 너트(Nut)(609)로 구성될 수 있다. 너트(609)의 조임 정도에 따라 보조 샤프트(601)의 장력이 미세하게 조절된다.
도 5 및 도 6에서 처럼, 다른 실시 예에 따른 인장수단(605)은 보조 샤프트(601)의 다른 선단과 프레임(501) 사이에 마련되어 장력을 완충하기 위한 스프링(505)을 포함할 수 있다.
본 발명의 기판이송부(111)에 사용되는 보조 샤프트(601)는 마치 단단한 프레임처럼 마련되고 보조 샤프트(601) 상의 지지부재(603)는 메인 샤프트(113)를 다중 점(Multi Point)에서 지지하기 때문에, 메인 샤프트(113)를 종래의 샤프트 구조에 비하여 충분히 작고 가벼운 소재로 제작하더라도 8세대 평판 패널 디스플레이에서처럼 대형화된 기판(20)도 충분히 지지할 수 있다. 이러한 결과로 가벼워진 본 발명의 기판이송부(111)는 기판(20)의 보다 빠른 속도로 이송시킬 수 있으며, 이러한 특징은 가열부(110)로 진입하는 기판(20)의 선단이 먼저 데워짐에 따라 발생할 수 있는 열적 불균형을 최소화하여, 열처리를 위해 기판(20)을 미리 일정한 온도까지 가열할 필요가 없도록 한다.
또한, 본 발명의 기판이송부(111)는 메인 샤프트(113)를 지지하기 위한 별도의 하부 구조가 불필요하므로, 복수 개의 가열부(110, 130, 150)를 다단으로 구성할 수 있도록 한다.
정리하면, 본 발명의 열처리장치(100)는 기판(20)을 미리 가열할 필요 없도록 하여 1회 공정으로 기판(20)의 크기에 대응되는 하나의 열처리장치 내지 가열부 내에서 모든 열처리 과정을 완료할 수 있으며, 이것은 다음에 의해 가능해진다. 첫 째, 기판이송부(111)가 충분히 빠른 속도로 기판(20)을 이송시킴으로써 기판(20)에 발생할 수 있는 열적 불균형을 제거함으로써 기판(20)을 미리 가열할 필요가 없도록 한다. 둘 째, 요구되는 열처리 속도를 획득하기 위하여 기판(20)의 상부와 하부 모두에서 동시에 기판(20)을 가열함으로써 미리 가열할 필요가 없도록 한다. 세번 째, 본 발명의 가열부(110)는 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119)에 의해 고온으로 급속 가열함에 따라 발생할 수 있는 핀홀 현상을 제거하기 위해, 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119)로 평판형 원적외선 히터를 사용한다. 이러한 특징의 조합에 의해, 본 발명의 열처리장치(100)는 기판(20)을 미리 가열할 필요없이 1회 공정으로 하나의 시스템 내에서 모든 열처리 과정을 완료할 수 있으며, 다단으로 배치한 복수 개의 가열부(110, 130, 150)를 구비함으로써 그 공간적 효율을 극대화 하였다.
로더(10)가 기판(20)을 이송하여 제1 가열부(110)의 기판이송부(111)에게 기판(20)을 제공하면, 기판이송부(111)는 기판(20)을 수평 이송시켜 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119) 사이에 안착시킨다. 기판(20)은 상부 핫 플레이트(117)와 하부 핫 플레이트(119)에 의해 가열됨으로써 열처리 과정이 수행된 다음, 다시 로더(10)에 의해 배출되거나 다른 배출수단에 의해 배출될 것이다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.
10: 로더(Loader) 11: 수직이송수단
13: 수평이송수단 20: 기판
100: 열처리장치 110, 130, 150: 가열부
111: 기판이송부 113: 샤프트, 메인 샤프트
115: 롤러 117: 상부 핫 플레이트
119: 하부 핫 플레이트 401: 가열판
403: 절연판 405: 발열층
407: 배선부 409: 보호층
501: 기판이송부 프레임 503: 모터
601: 보조 샤프트 603: 지지부재
605: 인장수단 607: 볼트부
609: 너트 611: 스프링

Claims (4)

  1. 고온의 원적외선을 방출하는 상부 핫 플레이트;
    고온의 원적외선을 방출하는 하부 핫 플레이트; 및
    열처리 대상이 되는 기판을 인라인으로 배치된 로더(Loader)로부터 제공받아 수평 이송하여 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트 사이에 위치시킨 다음, 열처리 공정동안 상기 기판을 지지하는 기판이송부를 구비한 복수 개의 가열부를 다단으로 배치하여 상기 기판을 열처리하며,
    상기 기판이송부는,
    상호 평행하게 배치되어 회전하는 복수 개의 메인 샤프트;
    상기 복수 개의 메인 샤프트 각각을 관통하여 양단이 기판이송부 프레임에 고정되는 보조 샤프트;
    상기 보조 샤프트와 메인 샤프트 사이에 마련되어 상기 메인 샤프트를 회전 가능하게 지지하는 복수 개의 지지부재;
    상기 보조 샤프트의 단부에 마련되어 상기 보조 샤프트의 장력을 조절하는 인장수단;
    상기 보조 샤프트의 다른 단부와 프레임 사이에 마련되어, 상기 고정된 보조 샤프트가 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트에 의해 가열됨에 따른 열변형으로 인한 장력의 변화를 완충하는 스프링; 및
    상기 메인 샤프트에 끼움 장착되어 회전하면서 상기 기판을 지지하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 다단 원적외선 열처리장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트는,
    상기 기판을 향해 일면이 노출되어, 가열될 경우 원적외선을 상기 기판으로 방출하는 평판의 가열판;
    상기 가열판의 후면에 무기물계 내열성 절연재료를 코팅하여 형성한 절연층;
    교류 또는 직류 전기에 의해 발열하여 상기 절연층을 통해 상기 가열판을 가열하는 발열층; 및
    상기 발열층의 일측에 형성되어 상기 발열층으로 교류 또는 직류 전기를 제공하는 배선부를 포함하는 것을 특징으로 하는 다단 원적외선 열처리장치.
  3. 내부로 이송되어 진입한 기판을 열처리하는 복수 개의 가열부가 다단으로 배치된 열처리장치와, 상기 열처리장치와 인라인으로 배치되어 상기 복수 개의 가열부로 상기 기판을 이송하는 로더(Loader)를 포함하고,
    상기 가열부는,
    고온의 원적외선을 방출하는 상부 핫 플레이트;
    고온의 원적외선을 방출하는 하부 핫 플레이트; 및
    상기 로더로부터 상기 기판을 제공받아 수평 이송하여 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트 사이에 위치시킨 다음, 열처리 공정동안 상기 기판을 지지하는 기판이송부를 구비하며,
    상기 기판이송부는,
    상호 평행하게 배치되어 회전하는 복수 개의 메인 샤프트;
    상기 복수 개의 메인 샤프트 각각을 관통하여 양단이 기판이송부 프레임에 고정되는 보조 샤프트;
    상기 보조 샤프트와 메인 샤프트 사이에 마련되어 상기 메인 샤프트를 회전 가능하게 지지하는 복수 개의 지지부재;
    상기 보조 샤프트의 단부에 마련되어 상기 보조 샤프트의 장력을 조절하는 인장수단;
    상기 보조 샤프트의 다른 단부와 프레임 사이에 마련되어, 상기 고정된 보조 샤프트가 상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트에 의해 가열됨에 따른 열변형으로 인한 장력의 변화를 완충하는 스프링; 및
    상기 메인 샤프트에 끼움 장착되어 회전하면서 상기 기판을 지지하는 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 다단 원적외선 열처리 시스템.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 상부 핫 플레이트와 하부 핫 플레이트는,
    상기 기판을 향해 일면이 노출되어, 가열될 경우 원적외선을 상기 기판으로 방출하는 평판 가열판;
    상기 가열판의 후면에 무기물계 내열성 절연재료를 코팅하여 형성한 절연층;
    교류 또는 직류 전기에 의해 발열하여 상기 절연층을 통해 상기 가열판을 가열하는 발열층; 및
    상기 발열층의 일측에 형성되어 상기 발열층으로 교류 또는 직류 전기를 제공하는 배선부를 포함하는 것을 특징으로 하는 인라인 다단 원적외선 열처리 시스템.

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101371707B1 (ko) * 2012-08-06 2014-03-07 주식회사 선익시스템 어닐링장치
KR101416588B1 (ko) * 2012-07-23 2014-07-08 주식회사 선익시스템 고진공 챔버 내에서의 기판 가열장치, 이를 포함한 기판 얼라인 장치 및 원적외선을 이용한 가열장치
WO2023113249A1 (ko) * 2021-12-16 2023-06-22 재단법인 한국탄소산업진흥원 세포배양을 위한 원적외선 방출 및 온도조절이 가능한 카본시트 면상발열체 장치

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