JP2003213867A - クリーンルームの階段 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のクリーンルームの階段は、踏み面が鉄
板で構成されているため、鉄板の上に埃がたまりやす
く、半導体製造等においてのトラブルの原因となる埃の
浮遊が多くなり、しかも複数の踏み面を掃除するのが大
変である。また、鉄板の表面に電荷が蓄積され、静電気
により埃がすいつけられて鉄板の面に埃がたまりやすく
なり、この溜まった埃がクリーンルーム内に埃が浮遊し
てしまったり、静電気スパークにより有機物反応を起こ
すことによってガスが発生してしまい、半導体製造等に
おいてトラブルの原因となる。 【解決手段】 ささら３に設けた固定板（アングル２）
に複数の孔１ａを有する踏み面１を固定し、また、踏み
面１の表面と固定板の表面とささら３の表面に導電処理
を施して、踏み面と固定板とささらとが導通するように
構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造等に使
用されるクリーンルームの階段に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造工場等のクリーンルー
ム内のプロセスエリア、床下エリア、天井エリアを繋ぐ
階段では鉄板で踏み面を構成している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来のクリーンルーム
の階段は、踏み面が鉄板で構成されているため、鉄板の
上に埃が溜まりやすく、半導体製造等においてのトラブ
ルの原因となる埃の浮遊が多くなり、しかも複数の踏み
面を掃除するのが大変である。また、鉄板の表面に電荷
が蓄積され、静電気により埃がすいつけられて鉄板の面
に埃が溜まりやすくなり、この溜まった埃がクリーンル
ーム内に浮遊してしまったり、静電気スパークにより有
機物反応を起こすことによってガスが発生してしまい、
半導体製造等においてトラブルの原因となるという課題
があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
クリーンルームの階段は、ささらに設けた固定板に複数
の孔を有する踏み面を固定した。請求項２は、踏み面の
表面と固定板の表面とささらの表面に導電処理を施し
て、踏み面と固定板とささらとが導通するように構成し
た。請求項３は、導電処理としてガス発散の少ない導電
性塗装を施した。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図
１，図２に基づき説明する。まず、本実施の形態による
階段を採用する半導体製造工場のクリーンルームの概要
を図２に基づいて説明する。クリーンルームは３層構造
となっている。即ち、半導体製造や検査などに必要な精
密機器が設置されるプロセスエリア１０と、床下エリア
２０と、天井エリア３０とを備える。プロセスエリア１
０の床は有孔床（グレーチング）１１となっており、プ
ロセスエリア１０の天井は有孔天井１２となっている。
天井エリア３０には、空調機３１と空気洗浄フィルタ３
２が設けられている。プロセスエリア１０の横には空気
循環空間１０Ａが設けられ、これにより、空気が空気洗
浄フィルタ３２で浄化されて、矢示のように各エリア１
０，２０，３０を循環する構造となっている。また、出
入口４０と外部との間にはエアーシャワーが装備された
前室が設けられており、クリーンルームへの入室者は前
室で空気洗浄を行った後にクリーンルーム内に入る。前
室は、クリーンルーム側のドア４０ａと外部側のドアと
で密閉空間となる。尚、４１は空気循環空間１０Ａとプ
ロセスエリア１０との間の出入口、４１ａはこの出入口
４１のドア、４２は柱、４３、４４は耐火被覆梁、４５
は二重窓、４６は廊下、４７は配線を収納する配線ピッ
トである。尚、例えば上記出入口４１を介してプロセス
エリア１０の外側に階段室が形成されている。

【０００６】次に、上記各エリア１０，２０，３０を繋
ぐ本実施の形態による階段について説明する。この階段
の施工は、まず、図１に示すように、踏み面１を固定す
るための固定板としてのアングル２が溶接等の手段で取
付けられたささら３を構成する鉄骨を組み、一方のささ
ら３を構成する鉄骨と延長するように設けた下地ボード
の表面にクロス４を取付けて壁を施工する。そして、図
示しない他方のささら３を構成する鉄骨には溶接等で図
示しない手摺を取付ける。手摺とささら３とアングル２
の表面には導電性塗料を塗って導電処理を施し、踏み面
１は、図１に示すように、複数の孔１ａを有する有孔
（グレーチング）踏み面の表面に溶融亜鉛メッキが施さ
れたものを用いる。尚、導電性塗料としては、ガス発散
の少ない導電性エポキシ樹脂塗料等を用いる。そして、
踏み面１の両端側を、対向するささら３，３に設けられ
たアングル２，２にボルト５等で固定する。尚、踊り場
の踏み面も上記踏み面１と同様な有孔（グレーチング）
踏み面とし、ささらに設けたアングルにボルト等で固定
する。これにより、導電性塗装を施した手摺，ささら
３，アングル２の表面と、溶融亜鉛メッキが施された踏
み面１及び踊り場の踏み面の表面とが導通する。

【０００７】以上によれば、有孔（グレーチング）踏み
面で構成された踏み面１及び踊り場の踏み面の上に埃が
溜りにくく、階段室内の埃の浮遊を少なくできる。ま
た、埃は床に落ちるので、階段室の清掃が容易になる。
また、導電性塗料により導電処理を施した手摺，ささら
３，アングル２の表面と、溶融亜鉛メッキが施された踏
み面１及び踊り場の踏み面の表面とが導通するように構
成したので、ささら３をアースすることにより、階段に
帯電した帯電電流をアースに素早く効率的に逃がすこと
ができ、階段の帯電防止効果が得られる。これにより、
踏み面，手摺，アングル２，ささら３に対する埃の付
着、及び、静電気スパークによるガスの発生を少なくで
き、半導体製造等においてのトラブルの原因を除去でき
る。また、階段表面の導電処理をガス発散の少ない導電
性塗料で施したので、半導体製造においてトラブルの原
因となるガスの発生を抑えることができる。

【０００８】尚、床に導電性塗料等を塗って導電処理を
施したり、壁に導電性クロス等を貼って導電処理を施し
たりして、これら導電処理床や導電処理壁とささら３と
を導通するように構成して、上記導電処理床や導電処理
壁をアースするようにしてもよい。

【０００９】

【発明の効果】本発明の請求項１によれば、踏み面の上
に埃が溜りにくくなり、半導体製造等においてのトラブ
ルの原因となる埃の浮遊を少なくできて、しかも階段室
の清掃を容易にできるクリーンルームの階段が得られ
る。請求項２によれば、踏み面の帯電防止効果が図れ、
踏み面に対する埃の付着、及びガスの発生を少なくで
き、半導体製造等においてのトラブルの原因を少なくで
きるクリーンルームの階段が得られる。請求項３によれ
ば、固定板とささらの表面の導電処理をガス発散の少な
い導電性塗料で施したので、半導体製造においてトラブ
ルの原因となるガスの発生を抑えることができるクリー
ンルームの階段が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態によるクリーンルームの
階段の一部を下側から見た斜視図。

【図２】 実施の形態によるクリーンルームの階段が採
用されるクリーンルームの概要を示す断面図。

【符号の説明】

１ 踏み面、１ａ 孔、２ アングル（固定板）、３
ささら。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 高久 東京都新宿区津久戸町２番１号 株式会社 熊谷組東京本社内 (72)発明者 角濱 浩 宮城県仙台市青葉区立町26番20号 株式会 社熊谷組東北支店内 (72)発明者 中沢 克典 宮城県仙台市青葉区立町26番20号 株式会 社熊谷組東北支店内 (72)発明者 鈴木 宏和 東京都新宿区津久戸町２番１号 株式会社 熊谷組東京本社内 (72)発明者 村岡 憲司 宮城県仙台市青葉区立町26番20号 株式会 社熊谷組東北支店内 (72)発明者 三浦 正泰 北海道札幌市中央区北２条西13丁目１番地 株式会社熊谷組北海道支店内 Ｆターム(参考） 2E101 DD17 DD24 3L058 BF09

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ささらに設けた固定板に複数の孔を有す
   る踏み面を固定したことを特徴とするクリーンルームの
   階段。
2. 【請求項２】 踏み面の表面と固定板の表面とささらの
   表面に導電処理が施されていて、踏み面と固定板とささ
   らとが導通するように構成されていることを特徴とする
   請求項１に記載のクリーンルームの階段。
3. 【請求項３】 導電処理としてガス発散の少ない導電性
   塗装が施されていることを特徴とする請求項１又は請求
   項２に記載のクリーンルームの階段。