JP2003212609A - 光ファイバー被覆用樹脂組成物及びそれを用いた光ファイバー - Google Patents
光ファイバー被覆用樹脂組成物及びそれを用いた光ファイバーInfo
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- JP2003212609A JP2003212609A JP2002011471A JP2002011471A JP2003212609A JP 2003212609 A JP2003212609 A JP 2003212609A JP 2002011471 A JP2002011471 A JP 2002011471A JP 2002011471 A JP2002011471 A JP 2002011471A JP 2003212609 A JP2003212609 A JP 2003212609A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光ファイバーの伝送損失を発生させず、破断
強度を長期間維持しうる単層被覆用あるいは１次被覆用
の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた
光ファイバーを提供する。特に、高温高湿雰囲気下でも
初期の特性を保持しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用
あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、
およびそれを用いた光ファイバーを提供する。更に、同
一製品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを発生さ
せない単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー被
覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを提
供する。 【解決手段】 ラジカル重合性化合物（Ａ）、カップリ
ング剤（Ｂ）及び０．０３〜２質量％の水（Ｃ）を含有
する光ファイバー被覆用樹脂組成物を用いる。
強度を長期間維持しうる単層被覆用あるいは１次被覆用
の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた
光ファイバーを提供する。特に、高温高湿雰囲気下でも
初期の特性を保持しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用
あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、
およびそれを用いた光ファイバーを提供する。更に、同
一製品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを発生さ
せない単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー被
覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを提
供する。 【解決手段】 ラジカル重合性化合物（Ａ）、カップリ
ング剤（Ｂ）及び０．０３〜２質量％の水（Ｃ）を含有
する光ファイバー被覆用樹脂組成物を用いる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバーのガ
ラス心材と直に接する単層被覆用、あるいは１次被覆用
の光ファイバー被覆用樹脂組成物及び該組成物の硬化物
で被覆された光ファイバー心線に関する。
ラス心材と直に接する単層被覆用、あるいは１次被覆用
の光ファイバー被覆用樹脂組成物及び該組成物の硬化物
で被覆された光ファイバー心線に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバーケーブルは大容量情報の伝
送媒体として実用化され、現在、光ファイバーケーブル
による広帯域情報通信網が建設されつつある。光ファイ
バーには、導波ガラスに紫外線等の放射線硬化型樹脂に
よる１次被覆層および２次被覆層を施した２層被覆構造
のものと、単層の被覆層を施した単層被覆構造の形態の
ものがある。
送媒体として実用化され、現在、光ファイバーケーブル
による広帯域情報通信網が建設されつつある。光ファイ
バーには、導波ガラスに紫外線等の放射線硬化型樹脂に
よる１次被覆層および２次被覆層を施した２層被覆構造
のものと、単層の被覆層を施した単層被覆構造の形態の
ものがある。
【０００３】２層被覆構造を有する光ファイバーの１次
被覆層は、通常、ヤング率が０．０１から１．０ｋｇ／
ｍｍ２の柔軟な被覆層であり、２次被覆層は、通常、２
０から２００ｋｇ／ｍｍ２の比較的堅い被覆層である。
また、単層被覆構造における被覆層は、ヤング率が０．
５から数１０ｋｇ／ｍｍ２の被覆層である。１次被覆層
は、ちり、ホコリ、あるいは湿気から、導波路であるガ
ラスを保護し、ガラスの破断を防止すること、また、光
ファイバーの外部からかかる力により、ガラスが微少変
形（マイクロベンド）をおこして光の伝送損失が発生す
ることを防止する役割を持っている。
被覆層は、通常、ヤング率が０．０１から１．０ｋｇ／
ｍｍ２の柔軟な被覆層であり、２次被覆層は、通常、２
０から２００ｋｇ／ｍｍ２の比較的堅い被覆層である。
また、単層被覆構造における被覆層は、ヤング率が０．
５から数１０ｋｇ／ｍｍ２の被覆層である。１次被覆層
は、ちり、ホコリ、あるいは湿気から、導波路であるガ
ラスを保護し、ガラスの破断を防止すること、また、光
ファイバーの外部からかかる力により、ガラスが微少変
形（マイクロベンド）をおこして光の伝送損失が発生す
ることを防止する役割を持っている。
【０００４】光ファイバー被覆用樹脂組成物には、それ
を塗工し、該組成物の硬化膜により被覆した光ファイバ
ーが、伝送損失を発生せず、破断強度を長期間維持する
ための十分な保護作用を有することが求められている。
特に、実際の光ファイバーが敷設される環境において
も、光の伝送特性やファイバーの破断強度を長期に亘り
維持するための耐久性を光ファイバーに対し付与するこ
とが要求されており、中でも、高温高湿雰囲気下におけ
る耐久性が重要である。以下、このような特性を「湿熱
耐久性」と記載する。
を塗工し、該組成物の硬化膜により被覆した光ファイバ
ーが、伝送損失を発生せず、破断強度を長期間維持する
ための十分な保護作用を有することが求められている。
特に、実際の光ファイバーが敷設される環境において
も、光の伝送特性やファイバーの破断強度を長期に亘り
維持するための耐久性を光ファイバーに対し付与するこ
とが要求されており、中でも、高温高湿雰囲気下におけ
る耐久性が重要である。以下、このような特性を「湿熱
耐久性」と記載する。
【０００５】また、更に、光ファイバーを製造する際に
は、同一の光ファイバー被覆用樹脂組成物を用いて、同
一の製品を複数回、繰り返し製造する場合がある。その
ような場合には、各製品ロット間の特性にばらつきが生
じないように製造することが必要である。しかしなが
ら、現実には、原料ロット間の不純物含有量のばらつ
き、塗工条件のばらつき、温度・湿度等の変動により、
製造される光ファイバーの特性がかなり変動してしま
う。このような製品ロット間の特性変動を起こさないた
めの工夫も光ファイバー被覆用樹脂組成物に対して求め
られている。特に、このような特性変動は高温高湿下に
置かれた場合に顕著であり、同一製品ロット間での「湿
熱耐久性」の向上及びばらつきの解消も光ファイバー被
覆用樹脂組成物を設計する上で重要な項目である。
は、同一の光ファイバー被覆用樹脂組成物を用いて、同
一の製品を複数回、繰り返し製造する場合がある。その
ような場合には、各製品ロット間の特性にばらつきが生
じないように製造することが必要である。しかしなが
ら、現実には、原料ロット間の不純物含有量のばらつ
き、塗工条件のばらつき、温度・湿度等の変動により、
製造される光ファイバーの特性がかなり変動してしま
う。このような製品ロット間の特性変動を起こさないた
めの工夫も光ファイバー被覆用樹脂組成物に対して求め
られている。特に、このような特性変動は高温高湿下に
置かれた場合に顕著であり、同一製品ロット間での「湿
熱耐久性」の向上及びばらつきの解消も光ファイバー被
覆用樹脂組成物を設計する上で重要な項目である。
【０００６】上記のような光ファイバーの湿熱耐久性を
改善するために、従来から種々の技術が検討されてきて
いる。例えば、特開昭５９−９２９４７号や特公平６−
１３６６５号においては、特定のポリアルコキシシラン
を含有する光ファイバー被覆用樹脂組成物が開示されて
いる。しかしながら、これらの技術においても高温高湿
雰囲気下で光ファイバーの破断強度を安定的に維持させ
る技術が不十分である。また、単にポリアルコキシシラ
ンを含有するのみでは、上記の同一製品ロット間での特
性変動を抑えることができず、したがって、これまでの
技術においては、光ファイバーのガラス心材と直に接す
る単層被覆用、あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆
用樹脂組成物として、現在要求されている特性を十分に
満足するものは得られていない。
改善するために、従来から種々の技術が検討されてきて
いる。例えば、特開昭５９−９２９４７号や特公平６−
１３６６５号においては、特定のポリアルコキシシラン
を含有する光ファイバー被覆用樹脂組成物が開示されて
いる。しかしながら、これらの技術においても高温高湿
雰囲気下で光ファイバーの破断強度を安定的に維持させ
る技術が不十分である。また、単にポリアルコキシシラ
ンを含有するのみでは、上記の同一製品ロット間での特
性変動を抑えることができず、したがって、これまでの
技術においては、光ファイバーのガラス心材と直に接す
る単層被覆用、あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆
用樹脂組成物として、現在要求されている特性を十分に
満足するものは得られていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光フ
ァイバーの伝送損失を発生させず、破断強度を長期間維
持しうる単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー
被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを
提供することにある。特に、高温高湿雰囲気下でも初期
の特性を保持しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用ある
いは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およ
びそれを用いた光ファイバーを提供することにある。更
に、同一製品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを
発生させない単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイ
バー被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバ
ーを提供することにある。
ァイバーの伝送損失を発生させず、破断強度を長期間維
持しうる単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー
被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを
提供することにある。特に、高温高湿雰囲気下でも初期
の特性を保持しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用ある
いは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およ
びそれを用いた光ファイバーを提供することにある。更
に、同一製品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを
発生させない単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイ
バー被覆用樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバ
ーを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な状況に鑑み上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、
カップリング剤と一定量の水を含有する光ファイバー被
覆用樹脂組成物を用いることにより、前記課題を解決す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、ラジカル重合性化合物（Ａ）、カップリ
ング剤（Ｂ）及び０．０３〜２質量％の水（Ｃ）を含有
する光ファイバー被覆用樹脂組成物を提供するものであ
る。
な状況に鑑み上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、
カップリング剤と一定量の水を含有する光ファイバー被
覆用樹脂組成物を用いることにより、前記課題を解決す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明は、ラジカル重合性化合物（Ａ）、カップリ
ング剤（Ｂ）及び０．０３〜２質量％の水（Ｃ）を含有
する光ファイバー被覆用樹脂組成物を提供するものであ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明を以下に詳しく説明する。
本発明のラジカル重合性化合物（Ａ）とは、末端にビニ
ル基、アクリル基、メタクリル基等重合性不飽和基を有
する化合物であり、比較的高分子量のラジカル重合性オ
リゴマー（Ａ１）と比較的低分子量のラジカル重合性モ
ノマー（Ａ２）とがある。ラジカル重合性オリゴマー
（Ａ１）としては、従来公知のものが使用可能である
が、ポリオール（ａ１）、ポリイソシアネート（ａ
２）、及び同一分子内に重合性不飽和基と水酸基とを有
する化合物（ａ３）から合成されるウレタンアクリレー
ト、グリシジルエーテル化合物と（メタ）アクリル酸等
の重合性不飽和基を有するカルボン酸類の反応生成物で
あるエポキシアクリレート、およびビニルエーテルがあ
り、本発明においては、これらを用いることが好まし
い。
本発明のラジカル重合性化合物（Ａ）とは、末端にビニ
ル基、アクリル基、メタクリル基等重合性不飽和基を有
する化合物であり、比較的高分子量のラジカル重合性オ
リゴマー（Ａ１）と比較的低分子量のラジカル重合性モ
ノマー（Ａ２）とがある。ラジカル重合性オリゴマー
（Ａ１）としては、従来公知のものが使用可能である
が、ポリオール（ａ１）、ポリイソシアネート（ａ
２）、及び同一分子内に重合性不飽和基と水酸基とを有
する化合物（ａ３）から合成されるウレタンアクリレー
ト、グリシジルエーテル化合物と（メタ）アクリル酸等
の重合性不飽和基を有するカルボン酸類の反応生成物で
あるエポキシアクリレート、およびビニルエーテルがあ
り、本発明においては、これらを用いることが好まし
い。
【００１０】上記ポリオール（ａ１）としては、多塩基
酸と多価アルコールを重縮合して得られるポリエステル
ポリオール、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトン
等のラクトン類を開環重合して得られるポリエステルポ
リオール、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブ
チレンオキシド等のアルキレンオキシド、テトラヒドロ
フラン、アルキル置換テトラヒドロフラン等の環状エー
テルの重合体またはこれらの２種以上の共重合体である
ポリエーテルポリオール、ポリブタジエンポリオール、
水添ポリブタジエンポリオール、ポリカーボネートジオ
ール等が挙げられる。
酸と多価アルコールを重縮合して得られるポリエステル
ポリオール、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトン
等のラクトン類を開環重合して得られるポリエステルポ
リオール、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブ
チレンオキシド等のアルキレンオキシド、テトラヒドロ
フラン、アルキル置換テトラヒドロフラン等の環状エー
テルの重合体またはこれらの２種以上の共重合体である
ポリエーテルポリオール、ポリブタジエンポリオール、
水添ポリブタジエンポリオール、ポリカーボネートジオ
ール等が挙げられる。
【００１１】またポリイソシアネート（ａ２）として
は、トリレンジイソシアネート、４，４´−ジフェニル
メタンジイソシアネート、水添４，４´−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
水添キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−
ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト、ｐ−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロ
ヘキサン１，４−ジイソシアネート、リジンジイソシア
ネート、テトレメチルキシレンジイソシアネート、リジ
ンエステルトリイソシアネート、１，６，１１−ウンデ
カントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−
４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキ
サメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリ
イソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート、ノルボルネンジイソシアネート等のポリイソシ
アネートが挙げられる。
は、トリレンジイソシアネート、４，４´−ジフェニル
メタンジイソシアネート、水添４，４´−ジフェニルメ
タンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
水添キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，５−
ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネー
ト、ｐ−フェニレンジイソシアネート、トランスシクロ
ヘキサン１，４−ジイソシアネート、リジンジイソシア
ネート、テトレメチルキシレンジイソシアネート、リジ
ンエステルトリイソシアネート、１，６，１１−ウンデ
カントリイソシアネート、１，８−ジイソシアネート−
４−イソシアネートメチルオクタン、１，３，６−ヘキ
サメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリ
イソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート、ノルボルネンジイソシアネート等のポリイソシ
アネートが挙げられる。
【００１２】次に、同一分子内に重合性不飽和基と水酸
基とを有する化合物（ａ３）としては、例えば、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチル
フタル酸、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロキシ−３
−（メタ）アクリロキシプロパン、グリセリンジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ポリε−カプロラクトンモノ（メ
タ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、ε−カプロラクトンモノ（メタ）アクリレー
ト等が挙げられる。
基とを有する化合物（ａ３）としては、例えば、２−ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ
プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メ
タ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチル
フタル酸、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ート、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロキシ−３
−（メタ）アクリロキシプロパン、グリセリンジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メ
タ）アクリレート、ポリε−カプロラクトンモノ（メ
タ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、ε−カプロラクトンモノ（メタ）アクリレー
ト等が挙げられる。
【００１３】また、（ａ３）として、同一分子内に重合
性不飽和基と水酸基とを有するイソシアヌル酸誘導体も
有用である。このようなイソシアヌル酸誘導体として
は、例えば、イソシアヌル酸にγ−ブチロラクトン、γ
−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラ
クトン、Ｄ−グルコノ−１，４−ラクトン、１，１０−
フェナントレンカルボラクトン、４−ペンテン−５−オ
リド、１２−ドデカノリド等のラクトン類、あるいはエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド等のアルキレンオ
キシドやテトラヒドロフラン等の環状エーテルを付加さ
せ、生じた水酸基を１モル以上残す当量比で（メタ）ア
クリル酸、（メタ）アクリル酸エステル等の重合性不飽
和基を有するカルボキシル化合物を脱水縮合あるいはエ
ステル交換反応により反応させたものが通常用いられ
る。
性不飽和基と水酸基とを有するイソシアヌル酸誘導体も
有用である。このようなイソシアヌル酸誘導体として
は、例えば、イソシアヌル酸にγ−ブチロラクトン、γ
−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラ
クトン、Ｄ−グルコノ−１，４−ラクトン、１，１０−
フェナントレンカルボラクトン、４−ペンテン−５−オ
リド、１２−ドデカノリド等のラクトン類、あるいはエ
チレンオキシド、プロピレンオキシド等のアルキレンオ
キシドやテトラヒドロフラン等の環状エーテルを付加さ
せ、生じた水酸基を１モル以上残す当量比で（メタ）ア
クリル酸、（メタ）アクリル酸エステル等の重合性不飽
和基を有するカルボキシル化合物を脱水縮合あるいはエ
ステル交換反応により反応させたものが通常用いられ
る。
【００１４】ウレタンアクリレート構造のラジカル重合
性オリゴマーとしては、数平均分子量が４００から２０
０００のポリオールを用いたものが好ましく、中でも数
平均分子量が２０００から１２０００のポリオールを用
いたウレタンアクリレートが、ヤング率が低く、ガラス
との密着力が高く、更に湿熱耐久性に優れた光ファイバ
ー被覆陽樹始祖生物が得られ、特に好ましい。また、上
記のポリイソシアネート（ａ２）としては、数平均分子
量５００未満のポリイソシアネートを用いるのが好まし
い。そのようなポリイソシアネートを用いると、粘度が
低い光ファイバー被覆用樹脂組成物を得ることができ
る。
性オリゴマーとしては、数平均分子量が４００から２０
０００のポリオールを用いたものが好ましく、中でも数
平均分子量が２０００から１２０００のポリオールを用
いたウレタンアクリレートが、ヤング率が低く、ガラス
との密着力が高く、更に湿熱耐久性に優れた光ファイバ
ー被覆陽樹始祖生物が得られ、特に好ましい。また、上
記のポリイソシアネート（ａ２）としては、数平均分子
量５００未満のポリイソシアネートを用いるのが好まし
い。そのようなポリイソシアネートを用いると、粘度が
低い光ファイバー被覆用樹脂組成物を得ることができ
る。
【００１５】また、エポキシアクリレートとしては、ビ
スフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ
等のビスフェノール類およびフェノール樹脂等の芳香環
を含むポリオールのグリシジルエーテルと（メタ）アク
リル酸の反応生成物であることが好ましい。そのような
エポキシアクリレートを用いることにより、光ファイバ
ー被覆用樹脂組成物のガラスに対する密着性を高くする
ことができる。
スフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ
等のビスフェノール類およびフェノール樹脂等の芳香環
を含むポリオールのグリシジルエーテルと（メタ）アク
リル酸の反応生成物であることが好ましい。そのような
エポキシアクリレートを用いることにより、光ファイバ
ー被覆用樹脂組成物のガラスに対する密着性を高くする
ことができる。
【００１６】ラジカル重合性オリゴマー（Ａ１）として
は、例えば、上記のラジカル重合性オリゴマーを単独で
用いても、あるいは複数のオリゴマーを混合して用いて
も良い。中でも、プロピレンオキシドの重合体、１，２
−ブチレンオキシドの重合体、プロピレンオキシドとテ
トラヒドロフランの共重合体、１，２−ブチレンオキシ
ドとテトラヒドロフランの共重合体から選択されるポリ
オールのウレタンアクリレートであって、数平均分子量
が２０００〜２００００、好ましくは４０００〜１５０
００のものが、粘度が低く、ガラスへの密着性が高く、
硬化性が高いので好ましい。
は、例えば、上記のラジカル重合性オリゴマーを単独で
用いても、あるいは複数のオリゴマーを混合して用いて
も良い。中でも、プロピレンオキシドの重合体、１，２
−ブチレンオキシドの重合体、プロピレンオキシドとテ
トラヒドロフランの共重合体、１，２−ブチレンオキシ
ドとテトラヒドロフランの共重合体から選択されるポリ
オールのウレタンアクリレートであって、数平均分子量
が２０００〜２００００、好ましくは４０００〜１５０
００のものが、粘度が低く、ガラスへの密着性が高く、
硬化性が高いので好ましい。
【００１７】次に本発明で用いることができるラジカル
重合性モノマー（Ａ２）としては、従来公知のものが使
用可能であるが、例えば、水酸基を含む化合物に（メ
タ）アクリル酸がエステル化反応で結合した構造の化合
物等が挙げられる。そのような化合物の中で、単官能の
化合物としては、例えば、メトキシエチレングリコール
（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、β−（メタ）アクリロイルオ
キシエチルハイドロゲンフタレート、β−（メタ）アク
リロイルオキシエチルハイドロゲンサクシネート、ノニ
ルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ
−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェ
ノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエ
チレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレート、β−（メ
タ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレー
ト、β−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロ
ゲンサクシネート、ブトキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエ
チルフタル酸、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロ
キシ−３−（メタ）アクリロキシプロパン、ポリプロピ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリε−カプ
ロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ジアルキルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）ア
クリレート、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チル］アッシドホスフェート、トリフロロエチル（メ
タ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフロロプロ
ピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−
ヘキサフロロブチル（メタ）アクリレート、パーフロロ
オクチルエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテ
ニルオキシアルキル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル
（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルオキシエチ
ル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレー
ト、等が挙げられる。
重合性モノマー（Ａ２）としては、従来公知のものが使
用可能であるが、例えば、水酸基を含む化合物に（メ
タ）アクリル酸がエステル化反応で結合した構造の化合
物等が挙げられる。そのような化合物の中で、単官能の
化合物としては、例えば、メトキシエチレングリコール
（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコー
ル（メタ）アクリレート、β−（メタ）アクリロイルオ
キシエチルハイドロゲンフタレート、β−（メタ）アク
リロイルオキシエチルハイドロゲンサクシネート、ノニ
ルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、３−クロロ
−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェ
ノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエ
チレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリ
エチレングリコール（メタ）アクリレート、β−（メ
タ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレー
ト、β−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロ
ゲンサクシネート、ブトキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレー
ト、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メ
タ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエ
チルフタル酸、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）
アクリレート、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロ
キシ−３−（メタ）アクリロキシプロパン、ポリプロピ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレ
ングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリε−カプ
ロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ジアルキルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）ア
クリレート、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエ
チル］アッシドホスフェート、トリフロロエチル（メ
タ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフロロプロ
ピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−
ヘキサフロロブチル（メタ）アクリレート、パーフロロ
オクチルエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテ
ニルオキシアルキル（メタ）アクリレート、ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル
（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルオキシエチ
ル（メタ）アクリレート、イソボルニルオキシエチル
（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレー
ト、等が挙げられる。
【００１８】また、他の単官能の化合物としてはＮ−ビ
ニルピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルカプ
ロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルカル
バゾール、等のビニル化合物もある。
ニルピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルカプ
ロラクタム、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルカル
バゾール、等のビニル化合物もある。
【００１９】２官能のラジカル重合性モノマー（Ａ２）
としては、例えば、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシ
プロピル−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオ
ネートのジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールのジ（メタ）アク
リレート、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物
のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピ
レンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート、２，
２′−ジ（ヒドロキシプロポキシフェニル）プロパンの
ジ（メタ）アクリレート、２，２′−ジ（ヒドロキシエ
トキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、
トリシクロデカンジメチロールのジ（メタ）アクリレー
ト、２，２′−ジ（グリシジルオキシフェニル）プロパ
ンの（メタ）アクリル酸付加物等が挙げられる。
としては、例えば、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシ
プロピル−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオ
ネートのジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）
アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールのジ（メタ）アク
リレート、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物
のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピ
レンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート、２，
２′−ジ（ヒドロキシプロポキシフェニル）プロパンの
ジ（メタ）アクリレート、２，２′−ジ（ヒドロキシエ
トキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、
トリシクロデカンジメチロールのジ（メタ）アクリレー
ト、２，２′−ジ（グリシジルオキシフェニル）プロパ
ンの（メタ）アクリル酸付加物等が挙げられる。
【００２０】更に、３官能以上のラジカル重合性モノマ
ー（Ａ２）としては、例えば、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ
（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ
（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレート、ト
リス（ヒドロキシプロピル）イソシアヌレートのトリ
（メタ）アクリレート、トリメリット酸のトリ（メタ）
アクリレートと、トリアリルトリメリット酸、トリアリ
ルイソシアヌレート等が挙げられる。
ー（Ａ２）としては、例えば、トリメチロールプロパン
トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ
（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ
（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートのトリ（メタ）アクリレート、ト
リス（ヒドロキシプロピル）イソシアヌレートのトリ
（メタ）アクリレート、トリメリット酸のトリ（メタ）
アクリレートと、トリアリルトリメリット酸、トリアリ
ルイソシアヌレート等が挙げられる。
【００２１】これらの中では、単官能のラジカル重合性
モノマー（Ａ２）の２種以上を、または単官能と２官能
以上のラジカル重合性モノマー（Ａ２）とを組み合わせ
て使用すると、低温特性、硬化性に優れ、好ましい。中
でも単独重合体のＴｇが２０℃以下の単官能のラジカル
重合性モノマー（Ａ２）と単独重合体のＴｇが５０℃以
上の単官能のラジカル重合性モノマー（Ａ２）を併用す
ると、光ファイバーの湿熱耐久性に優れ、特に好まし
い。
モノマー（Ａ２）の２種以上を、または単官能と２官能
以上のラジカル重合性モノマー（Ａ２）とを組み合わせ
て使用すると、低温特性、硬化性に優れ、好ましい。中
でも単独重合体のＴｇが２０℃以下の単官能のラジカル
重合性モノマー（Ａ２）と単独重合体のＴｇが５０℃以
上の単官能のラジカル重合性モノマー（Ａ２）を併用す
ると、光ファイバーの湿熱耐久性に優れ、特に好まし
い。
【００２２】単独重合体のＴｇが２０℃以下の単官能の
ラジカル重合性モノマー（Ａ２）としては、ラウリルア
クリレート、イソデシルアクリレート、イソステアリル
アクリレート、ラウリルアルコールエトキシアクリレー
ト、エポキシステアリルアクリレート、２−（１−メチ
ル−４−ジメチル）ブチル−５−メチル−７−ジメチル
オクチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、フェノキシエトキシエチルアクリレート、フェノー
ルポリアルコキシアクリレート、ノニルフェノキシエチ
ルアクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド
変性アクリレート、ノニルフェノールポリプロピレンオ
キサイド変性アクリレート、ブトキシポリプロピレング
リコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコ
ールラクトン変性アクリレート、ラクトン変性２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビ
トールアクリレート等が挙げられる。
ラジカル重合性モノマー（Ａ２）としては、ラウリルア
クリレート、イソデシルアクリレート、イソステアリル
アクリレート、ラウリルアルコールエトキシアクリレー
ト、エポキシステアリルアクリレート、２−（１−メチ
ル−４−ジメチル）ブチル−５−メチル−７−ジメチル
オクチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、フェノキシエトキシエチルアクリレート、フェノー
ルポリアルコキシアクリレート、ノニルフェノキシエチ
ルアクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド
変性アクリレート、ノニルフェノールポリプロピレンオ
キサイド変性アクリレート、ブトキシポリプロピレング
リコールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアルコ
ールラクトン変性アクリレート、ラクトン変性２−ヒド
ロキシエチルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビ
トールアクリレート等が挙げられる。
【００２３】単独重合体のＴｇが５０℃以上の単官能の
ラジカル重合性モノマー（Ａ２）としては、ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル
（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレー
ト、イソボルニル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−
２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、モルホリン（メ
タ）アクリレート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニル
カルバゾール、ビニルホルムアミド等がある。
ラジカル重合性モノマー（Ａ２）としては、ジシクロペ
ンテニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル
（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレー
ト、イソボルニル（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニル−
２−ピロリドン、Ｎ−ビニルピリジン、モルホリン（メ
タ）アクリレート、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニル
カルバゾール、ビニルホルムアミド等がある。
【００２４】また、更に、以下に列挙するラジカル重合
性モノマー（Ａ２）は、単独重合体のＴｇが５０℃以上
の単官能のラジカル重合性モノマー（Ａ２）と併用する
ことによりガラスとの密着性あるいは硬化性を向上させ
るものであり、併用することが好ましい。そのようなも
のとしては、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロピルアクリレート、アクリル酸ダイマー、ω−カル
ボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキ
シブチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルオキシアルキルアクリレート、ジシク
ロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリ
レート、トリシクロデカニルオキシエチルアクリレー
ト、イソボルニルオキシエチルアクリレート等のアクリ
レート類、アクリロイルモルホリン、ダイアセトンアク
リルアミド等のアクリルアミド類、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニルアミド
類、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニル
エーテル等のビニルエーテル類、クロルフェニルマレイ
ミド、シクロヘキシルマレイミド、ラウリルマレイミド
等のマレイミド類を挙げることができる。
性モノマー（Ａ２）は、単独重合体のＴｇが５０℃以上
の単官能のラジカル重合性モノマー（Ａ２）と併用する
ことによりガラスとの密着性あるいは硬化性を向上させ
るものであり、併用することが好ましい。そのようなも
のとしては、例えば、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ
プロピルアクリレート、アクリル酸ダイマー、ω−カル
ボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレート、ヒドロキシエチルアク
リレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、ヒドロキ
シブチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ジ
シクロペンテニルオキシアルキルアクリレート、ジシク
ロペンテニルアクリレート、トリシクロデカニルアクリ
レート、トリシクロデカニルオキシエチルアクリレー
ト、イソボルニルオキシエチルアクリレート等のアクリ
レート類、アクリロイルモルホリン、ダイアセトンアク
リルアミド等のアクリルアミド類、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルカプロラクタム等のＮ−ビニルアミド
類、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ラウリルビニル
エーテル等のビニルエーテル類、クロルフェニルマレイ
ミド、シクロヘキシルマレイミド、ラウリルマレイミド
等のマレイミド類を挙げることができる。
【００２５】上記のラジカル重合性オリゴマー（Ａ１）
は、全組成物に対し２０〜９０質量％用いるのが好まし
く、中でも、３０〜８０質量％用いるのがより好まし
い。この範囲にすることにより、本発明の光ファイバー
被覆用樹脂組成物の粘度を低く抑えながら、高速硬化性
を良好にすることができ、また、硬化膜を強靱にするこ
とができる。
は、全組成物に対し２０〜９０質量％用いるのが好まし
く、中でも、３０〜８０質量％用いるのがより好まし
い。この範囲にすることにより、本発明の光ファイバー
被覆用樹脂組成物の粘度を低く抑えながら、高速硬化性
を良好にすることができ、また、硬化膜を強靱にするこ
とができる。
【００２６】また、上記のラジカル重合性モノマー（Ａ
２）は、本発明の光ファイバー用樹脂組成物の粘度を下
げるために有効であり、全組成物５〜７０質量％を含有
させることが好ましい。中でも、１０〜６０質量％含有
するものがより好ましい。この範囲にすることにより、
本発明の光ファイバー被覆用樹脂組成物の粘度を低く抑
えながら、高速硬化性を良好にすることができ、また、
硬化膜を強靱にすることができる。
２）は、本発明の光ファイバー用樹脂組成物の粘度を下
げるために有効であり、全組成物５〜７０質量％を含有
させることが好ましい。中でも、１０〜６０質量％含有
するものがより好ましい。この範囲にすることにより、
本発明の光ファイバー被覆用樹脂組成物の粘度を低く抑
えながら、高速硬化性を良好にすることができ、また、
硬化膜を強靱にすることができる。
【００２７】本発明で用いるカップリング剤（Ｂ）と
は、ガラス表面のＳｉ−ＯＨ基と反応しうる基を含有す
る化合物である。そのような化合物としては、例えば、
シラン系のカップリング剤、アルミニウム系のカップリ
ング剤、チタネート系のカップリング剤、あるいはジル
コニウム系のカップリング剤等がある。本発明において
は、それらの中で、いずれの化合物も使用することがで
きるが、アルコキシシリル基を１つ以上含む化合物を用
いることが好ましい。アルコキシシリル基としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、トリス
（βメトキシエトキシ）シリル基等がある。特に、トリ
メトキシシリル基、あるいはトリエトキシシリル基を含
むカップリング剤を使用すると、それを含有する光ファ
イバー被覆用樹脂組成物の放置安定性が良好となり、ま
た、光ファイバーの初期破断強度を長期間保持すること
ができる。本発明の光ファイバー被覆用樹脂組成物に特
に適したカップリング剤（Ｂ）としては、アルコキシシ
リル基とアルコキシシリル基以外の反応性基を持つシラ
ンカップリング剤（Ｂ−１）とアルコキシシリル基以外
の反応性基を有さないシランカップリング剤（Ｂ−２）
がある。
は、ガラス表面のＳｉ−ＯＨ基と反応しうる基を含有す
る化合物である。そのような化合物としては、例えば、
シラン系のカップリング剤、アルミニウム系のカップリ
ング剤、チタネート系のカップリング剤、あるいはジル
コニウム系のカップリング剤等がある。本発明において
は、それらの中で、いずれの化合物も使用することがで
きるが、アルコキシシリル基を１つ以上含む化合物を用
いることが好ましい。アルコキシシリル基としては、ト
リメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、メチルジ
メトキシシリル基、メチルジエトキシシリル基、トリス
（βメトキシエトキシ）シリル基等がある。特に、トリ
メトキシシリル基、あるいはトリエトキシシリル基を含
むカップリング剤を使用すると、それを含有する光ファ
イバー被覆用樹脂組成物の放置安定性が良好となり、ま
た、光ファイバーの初期破断強度を長期間保持すること
ができる。本発明の光ファイバー被覆用樹脂組成物に特
に適したカップリング剤（Ｂ）としては、アルコキシシ
リル基とアルコキシシリル基以外の反応性基を持つシラ
ンカップリング剤（Ｂ−１）とアルコキシシリル基以外
の反応性基を有さないシランカップリング剤（Ｂ−２）
がある。
【００２８】シランカップリング剤（Ｂ−１）として
は、例えば以下の化合物が挙げられる。 ・ビニル基含有シラン：例えば、ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（βメ
トキシエトキシ）シラン等。 ・エポキシ基含有シラン：例えば、β−（３，４エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン等。 ・メタクリロキシ基又はアクリロキシ基含有シラン：例
えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリ
ロキシプロピルトリエトキシシラン等。 ・アミノ基含有シラン：例えば、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（ア
ミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、３−４，５−ジヒドロイミ
ダゾロ−１−イル−プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
［２−（ビニルベンジルアミノ）エチル］−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−
（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、
等。 ・メルカプト基含有シラン：例えば、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン等。 ・イソシアネート基含有シラン：例えば、γ−イソシア
ナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピル
メチルジメトキシシラン等。
は、例えば以下の化合物が挙げられる。 ・ビニル基含有シラン：例えば、ビニルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（βメ
トキシエトキシ）シラン等。 ・エポキシ基含有シラン：例えば、β−（３，４エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン等。 ・メタクリロキシ基又はアクリロキシ基含有シラン：例
えば、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
クリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリ
ロキシプロピルトリエトキシシラン等。 ・アミノ基含有シラン：例えば、γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（ア
ミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、３−４，５−ジヒドロイミ
ダゾロ−１−イル−プロピルトリエトキシシラン、Ｎ−
［２−（ビニルベンジルアミノ）エチル］−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−
（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン、
等。 ・メルカプト基含有シラン：例えば、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメ
トキシシラン等。 ・イソシアネート基含有シラン：例えば、γ−イソシア
ナトプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアナトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアナトプロピル
メチルジメトキシシラン等。
【００２９】シランカップリング剤（Ｂ−２）として
は、テトラメチルオルソシリケート、テトラエチルオル
ソシリケート、メチルトリメトキシシラン、プロピルト
リメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等があ
る。又、イソシアネート基を持つオリゴマー又はポリマ
ーに、アミノ基含有シランを反応させた化合物、水酸基
を持つオリゴマー又はポリマーに、イソシアネート基含
有シランを反応させた化合物、エポキシ基を持つオリゴ
マー又はポリマーに、アミノ基含有シランを反応させた
化合物、カルボン酸基を持つオリゴマー又はポリマー
に、アミノ基含有シラン又はエポキシ基含有シランを反
応させた化合物、ラジカル重合性モノマーとメタクリロ
キシ基又はアクリロキシ基含有シランのラジカル共重合
体等がある。
は、テトラメチルオルソシリケート、テトラエチルオル
ソシリケート、メチルトリメトキシシラン、プロピルト
リメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等があ
る。又、イソシアネート基を持つオリゴマー又はポリマ
ーに、アミノ基含有シランを反応させた化合物、水酸基
を持つオリゴマー又はポリマーに、イソシアネート基含
有シランを反応させた化合物、エポキシ基を持つオリゴ
マー又はポリマーに、アミノ基含有シランを反応させた
化合物、カルボン酸基を持つオリゴマー又はポリマー
に、アミノ基含有シラン又はエポキシ基含有シランを反
応させた化合物、ラジカル重合性モノマーとメタクリロ
キシ基又はアクリロキシ基含有シランのラジカル共重合
体等がある。
【００３０】本発明で用いるカップリング剤（Ｂ）とし
ては、メルカプト基含有シランあるいはエポキシ基含有
シランを用いると、温水雰囲気下の光ファイバーの強度
維持（温水耐久性）と被覆層の除去性（被覆除去性）が
共に良好となり、好ましい。エポキシ基含有シランは、
温水耐久性を上げるのに効果があるが、特に、メルカプ
ト基含有シランは、両方の特性を共に満足させるために
有効である。メルカプト基含有シランは単独で用いても
良いが、エポキシ基含有シランと併用することが、より
好ましい。また、メルカプト基含有シラン、とエポキシ
基含有シランは、それぞれ、２種以上の同系のシランを
併用しても良い。
ては、メルカプト基含有シランあるいはエポキシ基含有
シランを用いると、温水雰囲気下の光ファイバーの強度
維持（温水耐久性）と被覆層の除去性（被覆除去性）が
共に良好となり、好ましい。エポキシ基含有シランは、
温水耐久性を上げるのに効果があるが、特に、メルカプ
ト基含有シランは、両方の特性を共に満足させるために
有効である。メルカプト基含有シランは単独で用いても
良いが、エポキシ基含有シランと併用することが、より
好ましい。また、メルカプト基含有シラン、とエポキシ
基含有シランは、それぞれ、２種以上の同系のシランを
併用しても良い。
【００３１】カップリング剤（Ｂ）は、全組成物１００
質量％に対し、０．０１〜２質量％、好ましくは０．０
４〜１質量％使用することが好ましい。０．０１質量部
より少ないと、温水雰囲気下、ジェリー浸漬下におい
て、光ファイバーの強度が低下しやすい（温水耐久性、
耐ジェリー性が劣る）。２質量％より多く添加すると、
光ファイバーを接続する際、被覆層の除去が困難となり
易く（被覆除去性が悪い）、また硬化性が低下する等の
障害が生じやすくなる。
質量％に対し、０．０１〜２質量％、好ましくは０．０
４〜１質量％使用することが好ましい。０．０１質量部
より少ないと、温水雰囲気下、ジェリー浸漬下におい
て、光ファイバーの強度が低下しやすい（温水耐久性、
耐ジェリー性が劣る）。２質量％より多く添加すると、
光ファイバーを接続する際、被覆層の除去が困難となり
易く（被覆除去性が悪い）、また硬化性が低下する等の
障害が生じやすくなる。
【００３２】本発明で使用する水（Ｃ）は精製されたも
の、精製されていないものいずれでも良いが、多量に不
純物を含むものは、光ファイバーの強度を低下させるの
で好ましくない。水（Ｃ）の含有割合は、本発明の光フ
ァイバー被覆用樹脂組成物全体に対し０．０３〜２質量
％、好ましくは０．０８〜２質量％、特に好ましくは
０．１〜１．５質量％である。この範囲にすることによ
り高温高湿雰囲気下でも十分な強度を安定して保持する
ことができる。また、特に上記の範囲内であっても、カ
ップリング剤（Ｂ）の使用量に応じて、カップリング剤
（Ｂ）中に存在する水と反応しうる官能基の当量以上の
水を含有させることが好ましい。水が０．０３質量％未
満では、高温高湿雰囲気下で十分な光ファイバー強度を
安定して保持することができず、２質量％を超えると、
光ファイバーの破断強度が低下する。水（Ｃ）は、本発
明の光ファイバー被覆用樹脂組成物を配合する際に添加
するのが最も好ましいが、水分含有率の高い原料を用い
たり、塗布工程中等において高湿度雰囲気に暴露するこ
とにより上記範囲の含有量となるように調製して、光フ
ァイバーに塗布しても構わない。
の、精製されていないものいずれでも良いが、多量に不
純物を含むものは、光ファイバーの強度を低下させるの
で好ましくない。水（Ｃ）の含有割合は、本発明の光フ
ァイバー被覆用樹脂組成物全体に対し０．０３〜２質量
％、好ましくは０．０８〜２質量％、特に好ましくは
０．１〜１．５質量％である。この範囲にすることによ
り高温高湿雰囲気下でも十分な強度を安定して保持する
ことができる。また、特に上記の範囲内であっても、カ
ップリング剤（Ｂ）の使用量に応じて、カップリング剤
（Ｂ）中に存在する水と反応しうる官能基の当量以上の
水を含有させることが好ましい。水が０．０３質量％未
満では、高温高湿雰囲気下で十分な光ファイバー強度を
安定して保持することができず、２質量％を超えると、
光ファイバーの破断強度が低下する。水（Ｃ）は、本発
明の光ファイバー被覆用樹脂組成物を配合する際に添加
するのが最も好ましいが、水分含有率の高い原料を用い
たり、塗布工程中等において高湿度雰囲気に暴露するこ
とにより上記範囲の含有量となるように調製して、光フ
ァイバーに塗布しても構わない。
【００３３】さらに本発明には必要に応じて塩基性物質
（Ｄ）を添加しても構わない。塩基性物質（Ｄ）として
は、従来公知のものが使用可能であるが、例えば、以下
のものを用いることができる。 ・ラジカル重合性を持たないアミン類：例えば、ラウリ
ルアミン、ステアリルアミン、オレイルアミン等のアル
キル１級アミン、ジオレイルアミン等のアルキル２級ア
ミン、ジメチルラウリルアミン等のアルキル３級アミ
ン、オレイルプロピレンジアミン等のアルキルジアミ
ン、Ｎ−メチルモルフォリン、Ｎ−エチルモルフォリン
等のモルフォリン類等。 ・ラジカル重合性基を持ったアミン類：例えば、ジメチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ
エチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリ
ン等。 ・光増感剤として有用な芳香族アミン類：例えば、４−
ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安
息香酸エチル（日本化薬社製カヤキュアＥＰＡ）、４−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル（日本化薬社製カヤ
キュアＤＭＢＩ）、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エ
チル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エ
チル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル
等。 ・光安定化剤として有用なヒンダードアミン類、即ち、
２，２，６，６テトラメチルピペリジル基、又は１−ア
ルキル−２，２，６，６テトラメチルピペリジル基を持
つ化合物：例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）セパケート、ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セパケート、
２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼ
ル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、コハク酸ジメチ
ル−１−（２−ヒドロキシルエチル）−４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、
ポリ〔１６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
イミノ−１．３．５−トリアジン−２，４−ジイル〕、
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕〕、１−〔２−〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕エチル〕−４−〔３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、（ミックスド１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル／トリデシル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、ミックスド〔１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル／β，β，β’
−テトラメチル−３，９−〔２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ（５，５）ウンデカシ〕ジエチル〕ジエチ
ル１−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート等。 ・あるいは、例えば、分子量が４００〜４０００のもの
として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製チヌビ
ン１４４（分子量６８５．０）、チヌビン２９２（分子
量５０８．８）、チヌビン１２３（分子量７３７．
２）、チヌビン４４０（分子量４３５．６）、チヌビン
６２２ＬＤ（分子量３１００〜４０００）、チヌビン７
６５（分子量５０９）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ １１９
Ｌ（分子量２２８６）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２
０ＦＤＬ（分子量２６００〜３４００）、ＣＨＩＭＡＳ
ＳＯＲＢ ９４４ＬＤ（分子量２０００〜３１００）、
三共株式会社社製サノールＬＳ−７７０（分子量４８
０．７）、サノールＬＳ−２６２６（分子量７２２．
１）、サノールＬＳ−７４４（分子量２６１．４）、サ
ノールＬＳ−９４４（分子量＞２０００）、旭電化工業
（株）社製アデカスタブＬＡ−５２（分子量８４７．
２）、アデカスタブＬＡ−５７（分子量７９１．１）、
アデカスタブＬＡ−６２（分子量約９００）、アデカス
タブＬＡ−６７（分子量約９００）、アデカスタブＬＡ
−６３（分子量約２０００）、アデカスタブＬＡ−６８
（分子量約１９００）、アデカスタブＬＡ−７７（分子
量４８１）等。 ・ラジカル重合性基をもつヒンダードアミン類として
は、アデカスタブＬＡ−８７（分子量２２５．３）、ア
デカスタブＬＡ−８２（分子量２３９．４）等。 ・ラジカル重合性基を持たず、分子量が４００未満のヒ
ンダードアミンとして、２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアルコール（分子量１５７）、１−メ
チル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
アルコール（分子量１７１）等。 ・重合禁止剤として有用な芳香族アミン類：例えば、
Ｎ，Ｎ−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン
等 がある。
（Ｄ）を添加しても構わない。塩基性物質（Ｄ）として
は、従来公知のものが使用可能であるが、例えば、以下
のものを用いることができる。 ・ラジカル重合性を持たないアミン類：例えば、ラウリ
ルアミン、ステアリルアミン、オレイルアミン等のアル
キル１級アミン、ジオレイルアミン等のアルキル２級ア
ミン、ジメチルラウリルアミン等のアルキル３級アミ
ン、オレイルプロピレンジアミン等のアルキルジアミ
ン、Ｎ−メチルモルフォリン、Ｎ−エチルモルフォリン
等のモルフォリン類等。 ・ラジカル重合性基を持ったアミン類：例えば、ジメチ
ルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノ
エチル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリ
ン等。 ・光増感剤として有用な芳香族アミン類：例えば、４−
ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安
息香酸エチル（日本化薬社製カヤキュアＥＰＡ）、４−
ジメチルアミノ安息香酸イソアミル（日本化薬社製カヤ
キュアＤＭＢＩ）、安息香酸（２−ジメチルアミノ）エ
チル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エ
チル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル
等。 ・光安定化剤として有用なヒンダードアミン類、即ち、
２，２，６，６テトラメチルピペリジル基、又は１−ア
ルキル−２，２，６，６テトラメチルピペリジル基を持
つ化合物：例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）セパケート、ビス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セパケート、
２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゼ
ル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、コハク酸ジメチ
ル−１−（２−ヒドロキシルエチル）−４−ヒドロキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、
ポリ〔１６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）
イミノ−１．３．５−トリアジン−２，４−ジイル〕、
〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）
イミノ〕ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）イミノ〕〕、１−〔２−〔３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシ〕エチル〕−４−〔３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、（ミックスド１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル／トリデシル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、ミックスド〔１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル／β，β，β’
−テトラメチル−３，９−〔２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ（５，５）ウンデカシ〕ジエチル〕ジエチ
ル１−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキ
シレート等。 ・あるいは、例えば、分子量が４００〜４０００のもの
として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製チヌビ
ン１４４（分子量６８５．０）、チヌビン２９２（分子
量５０８．８）、チヌビン１２３（分子量７３７．
２）、チヌビン４４０（分子量４３５．６）、チヌビン
６２２ＬＤ（分子量３１００〜４０００）、チヌビン７
６５（分子量５０９）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ １１９
Ｌ（分子量２２８６）、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ ２０２
０ＦＤＬ（分子量２６００〜３４００）、ＣＨＩＭＡＳ
ＳＯＲＢ ９４４ＬＤ（分子量２０００〜３１００）、
三共株式会社社製サノールＬＳ−７７０（分子量４８
０．７）、サノールＬＳ−２６２６（分子量７２２．
１）、サノールＬＳ−７４４（分子量２６１．４）、サ
ノールＬＳ−９４４（分子量＞２０００）、旭電化工業
（株）社製アデカスタブＬＡ−５２（分子量８４７．
２）、アデカスタブＬＡ−５７（分子量７９１．１）、
アデカスタブＬＡ−６２（分子量約９００）、アデカス
タブＬＡ−６７（分子量約９００）、アデカスタブＬＡ
−６３（分子量約２０００）、アデカスタブＬＡ−６８
（分子量約１９００）、アデカスタブＬＡ−７７（分子
量４８１）等。 ・ラジカル重合性基をもつヒンダードアミン類として
は、アデカスタブＬＡ−８７（分子量２２５．３）、ア
デカスタブＬＡ−８２（分子量２３９．４）等。 ・ラジカル重合性基を持たず、分子量が４００未満のヒ
ンダードアミンとして、２，２，６，６−テトラメチル
−４−ピペリジルアルコール（分子量１５７）、１−メ
チル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル
アルコール（分子量１７１）等。 ・重合禁止剤として有用な芳香族アミン類：例えば、
Ｎ，Ｎ−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン
等 がある。
【００３４】上記の塩基性物質（Ｄ）は、全組成物中
０．００５〜１質量％、好ましくは０．０１〜０．５、
さらに好ましくは０．０５〜０．３質量％の範囲で使用
するのが、温水下、高温高湿下での光ファイバーの強度
低下を防止するうえで効果がある。特に、本発明の組成
物のｐＨが７未満、さらに好ましくは５未満であると最
も効果が高い。この組成物のｐＨは、イソプロピルアル
コール／イオン交換水：２０ｍｌ／５ｍｌの混合溶剤に
組成物１ｇを溶解し、ｐＨメータで測定したものであ
る。
０．００５〜１質量％、好ましくは０．０１〜０．５、
さらに好ましくは０．０５〜０．３質量％の範囲で使用
するのが、温水下、高温高湿下での光ファイバーの強度
低下を防止するうえで効果がある。特に、本発明の組成
物のｐＨが７未満、さらに好ましくは５未満であると最
も効果が高い。この組成物のｐＨは、イソプロピルアル
コール／イオン交換水：２０ｍｌ／５ｍｌの混合溶剤に
組成物１ｇを溶解し、ｐＨメータで測定したものであ
る。
【００３５】本発明の光ファイバー被覆用樹脂組成物を
紫外線により硬化させる場合には、必要に応じて、上記
の成分以外に光重合開始剤（Ｅ）を更に加えることがで
きる。光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知のものが
使用可能であるが、例えば、４−ジメチルアミノ安息香
酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エステル、アルコキシ
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフ
ェノン及びベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸
アルキル、ビス（４−ジアルキルアミノフェニル）ケト
ン、ベンジル及びベンジル誘導体、ベンゾイン及びベン
ゾイン誘導体、ベンゾインアルキルエーテル、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、チオキサントン及びチ
オキサントン誘導体、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキシド、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、ビス
（２、６ージメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキシド等が挙げられる。
紫外線により硬化させる場合には、必要に応じて、上記
の成分以外に光重合開始剤（Ｅ）を更に加えることがで
きる。光重合開始剤（Ｅ）としては、従来公知のものが
使用可能であるが、例えば、４−ジメチルアミノ安息香
酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エステル、アルコキシ
アセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフ
ェノン及びベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸
アルキル、ビス（４−ジアルキルアミノフェニル）ケト
ン、ベンジル及びベンジル誘導体、ベンゾイン及びベン
ゾイン誘導体、ベンゾインアルキルエーテル、２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシ
シクロヘキシルフェニルケトン、チオキサントン及びチ
オキサントン誘導体、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキシド、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロ
パノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、ビス
（２、６ージメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００３６】これらの中では、１−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトン、チオキサントン及びチオキサン
トン誘導体、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、ビス
（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６
−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシ
ド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルホリノプロパン−１、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタ
ノン−１、１，７−ビス（アクリジニル）ヘプタン、
３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニ
ル）−９−ｎ−オクチルカルバゾール、２，２−ジメト
キシ−２−フェニルアセトフェノンの群から選ばれる１
種または２種類以上の混合系とすると、硬化性が高くな
り、特に好ましい。
キシルフェニルケトン、チオキサントン及びチオキサン
トン誘導体、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルフォスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、ビス
（２、６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリ
メチルペンチルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６
−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシ
ド、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルホリノプロパン−１、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタ
ノン−１、１，７−ビス（アクリジニル）ヘプタン、
３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニ
ル）−９−ｎ−オクチルカルバゾール、２，２−ジメト
キシ−２−フェニルアセトフェノンの群から選ばれる１
種または２種類以上の混合系とすると、硬化性が高くな
り、特に好ましい。
【００３７】上記の光重合開始剤（Ｅ）の使用割合は、
全組成物０．１〜１０質量％であることが好ましく、特
に、高速硬化性が大きくなることから、０．５〜６質量
％であることがより好ましい。
全組成物０．１〜１０質量％であることが好ましく、特
に、高速硬化性が大きくなることから、０．５〜６質量
％であることがより好ましい。
【００３８】更に、本発明の光ファイバー被覆用樹脂組
成物には、上記の成分以外に、ヒドロキノン、メトキノ
ン等の重合禁止剤、ヒンダードフェノール系の酸化防止
剤、紫外線吸収剤、亜燐酸エステル系の脱色剤、シリコ
ーンオイル等の消泡剤、離型剤、レベリング剤料等を添
加しても構わない。
成物には、上記の成分以外に、ヒドロキノン、メトキノ
ン等の重合禁止剤、ヒンダードフェノール系の酸化防止
剤、紫外線吸収剤、亜燐酸エステル系の脱色剤、シリコ
ーンオイル等の消泡剤、離型剤、レベリング剤料等を添
加しても構わない。
【００３９】本発明の光ファイバー用樹脂組成物におい
ては、加工性及び光ファイバーの伝送特性を良好にする
ため、組成物及び硬化膜の物性値が以下の範囲になるよ
うに適宜調製するのが好ましい。
ては、加工性及び光ファイバーの伝送特性を良好にする
ため、組成物及び硬化膜の物性値が以下の範囲になるよ
うに適宜調製するのが好ましい。
【００４０】・組成物の粘度：１０００〜１００００ｃ
ｐｓ（２５℃、Ｂ型粘度計）であることが好ましい。１
０００ｃｐｓ以下、１００００ｃｐｓ以上では高速での
光ファイバー製造時に外径の変動や硬化膜の破断が生じ
て高速硬化性が悪い。 ・硬化膜のヤング率：硬化物のヤング率は０．０１〜
１．０ｋｇ／ｍｍ２が好ましい。０．０１ｋｇ／ｍｍ２
未満であると、巻き取時に光ファイバーの被覆が破損
し、１．０ｋｇ／ｍｍ２を越えると伝送特性が悪くな
る。
ｐｓ（２５℃、Ｂ型粘度計）であることが好ましい。１
０００ｃｐｓ以下、１００００ｃｐｓ以上では高速での
光ファイバー製造時に外径の変動や硬化膜の破断が生じ
て高速硬化性が悪い。 ・硬化膜のヤング率：硬化物のヤング率は０．０１〜
１．０ｋｇ／ｍｍ２が好ましい。０．０１ｋｇ／ｍｍ２
未満であると、巻き取時に光ファイバーの被覆が破損
し、１．０ｋｇ／ｍｍ２を越えると伝送特性が悪くな
る。
【００４１】その他の硬化膜の特性としては、以下の範
囲にあることが伝送特性、素線のハンドリング性が良い
ので好ましい。 ・ガラス転移点：−４０〜３０℃、好ましくは−２０℃
〜１０℃。 ・−４０℃のヤング率：０．１〜４ｋｇｆ／ｍｍ2、好
ましくは１から１０ｋｇｆ／ｍｍ2。 ・引張破断強度：０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2以上、好まし
くは０．２ｋｇｆ／ｍｍ2以上。 ・引張破断伸び：１００％以上、好ましくは１５０％〜
６００％の範囲がよい。
囲にあることが伝送特性、素線のハンドリング性が良い
ので好ましい。 ・ガラス転移点：−４０〜３０℃、好ましくは−２０℃
〜１０℃。 ・−４０℃のヤング率：０．１〜４ｋｇｆ／ｍｍ2、好
ましくは１から１０ｋｇｆ／ｍｍ2。 ・引張破断強度：０．０５ｋｇｆ／ｍｍ2以上、好まし
くは０．２ｋｇｆ／ｍｍ2以上。 ・引張破断伸び：１００％以上、好ましくは１５０％〜
６００％の範囲がよい。
【００４２】
【実施例】次に実施例により本発明を具体的に説明する
が、もとより本発明はこれにより何等限定されるもので
はない。なお、例中の部はすべて質量基準である。 （光ファイバーの製造）表１の組成の１次被覆材、及び
ポリテトラメチレングリコールのウレタンアクリレート
を主成分とする紫外線硬化型樹脂組成物を２次被覆材と
して外径２５０μｍの光ファイバーを線引きして、各実
施例及び比較例の組成物を１次被覆材とする２層被覆構
造の光ファイバーを製造した。なお、光ファイバーの製
造においては、実施例及び比較例の組成物各々につき間
欠的に５回の線引きを行い、合計５ロットの光ファイバ
ーを製造した。 （初期破断強度の測定）各実施例及び比較例の組成物を
１次被覆材として製造した各々５ロットの光ファイバー
から、１ロットあたり２５本のサンプルを切り出した。
測定用サンプルの長さは５０ｃｍとし、市販の引張試験
器（島津製作所製オートグラフ）を用いて引張速度２５
ｍｍ／分、測定雰囲気：２３℃、５０％ＲＨの条件下で
各サンプルの初期破断強度の測定を行った。次に、各ロ
ットから切り出した２５本のサンプルの測定値を集計
し、ロット毎の初期破断強度の平均値（ロット毎、２５
本の平均値）を求め、それを各ロットの初期破断強度と
した。そして、その中で、初期破断強度の値が最小のロ
ットと最大のロットの値を表１中に示した。また、その
最小値と最大値の平均値も表１中に示した。 （湿熱耐久性の評価）初期破断強度の測定と同様に、各
実施例及び比較例の組成物を１次被覆材として製造した
各々５ロットの光ファイバーを８５℃、８５％ＲＨの雰
囲気中に３０日間放置した。その後、１ロットあたり２
５本の湿熱耐久性評価用のサンプルを切り出し、引張速
度２５ｍｍ／分、測定雰囲気：２３℃、５０％ＲＨの条
件下で破断強度を測定した。各ロットから切り出した２
５本のサンプルの測定値を基に、ロット毎の破断強度の
平均値（２５本の平均値）を求め、それを各ロットの湿
熱耐久試験後の破断強度とした。そして、その中から、
最小（あるいは最大）の破断強度を示したロットの値を
高温高湿下放置後の破断強度の最小値（あるいは最大
値）として、また、上記の初期破断強度の平均値を用い
て、下記の式により破断強度の残存比率（最小値、最大
値）を計算した。結果を表１中に示した。 破断強度残存比率最小値（最大値）％＝（高温高湿下放
置後の破断強度の最小値（あるいは最大値）／初期破断
強度の平均値）×１００
が、もとより本発明はこれにより何等限定されるもので
はない。なお、例中の部はすべて質量基準である。 （光ファイバーの製造）表１の組成の１次被覆材、及び
ポリテトラメチレングリコールのウレタンアクリレート
を主成分とする紫外線硬化型樹脂組成物を２次被覆材と
して外径２５０μｍの光ファイバーを線引きして、各実
施例及び比較例の組成物を１次被覆材とする２層被覆構
造の光ファイバーを製造した。なお、光ファイバーの製
造においては、実施例及び比較例の組成物各々につき間
欠的に５回の線引きを行い、合計５ロットの光ファイバ
ーを製造した。 （初期破断強度の測定）各実施例及び比較例の組成物を
１次被覆材として製造した各々５ロットの光ファイバー
から、１ロットあたり２５本のサンプルを切り出した。
測定用サンプルの長さは５０ｃｍとし、市販の引張試験
器（島津製作所製オートグラフ）を用いて引張速度２５
ｍｍ／分、測定雰囲気：２３℃、５０％ＲＨの条件下で
各サンプルの初期破断強度の測定を行った。次に、各ロ
ットから切り出した２５本のサンプルの測定値を集計
し、ロット毎の初期破断強度の平均値（ロット毎、２５
本の平均値）を求め、それを各ロットの初期破断強度と
した。そして、その中で、初期破断強度の値が最小のロ
ットと最大のロットの値を表１中に示した。また、その
最小値と最大値の平均値も表１中に示した。 （湿熱耐久性の評価）初期破断強度の測定と同様に、各
実施例及び比較例の組成物を１次被覆材として製造した
各々５ロットの光ファイバーを８５℃、８５％ＲＨの雰
囲気中に３０日間放置した。その後、１ロットあたり２
５本の湿熱耐久性評価用のサンプルを切り出し、引張速
度２５ｍｍ／分、測定雰囲気：２３℃、５０％ＲＨの条
件下で破断強度を測定した。各ロットから切り出した２
５本のサンプルの測定値を基に、ロット毎の破断強度の
平均値（２５本の平均値）を求め、それを各ロットの湿
熱耐久試験後の破断強度とした。そして、その中から、
最小（あるいは最大）の破断強度を示したロットの値を
高温高湿下放置後の破断強度の最小値（あるいは最大
値）として、また、上記の初期破断強度の平均値を用い
て、下記の式により破断強度の残存比率（最小値、最大
値）を計算した。結果を表１中に示した。 破断強度残存比率最小値（最大値）％＝（高温高湿下放
置後の破断強度の最小値（あるいは最大値）／初期破断
強度の平均値）×１００
【００４３】
【表１】
上記表中の配合組成の数字は配合部数を表す。
【００４４】表１中の化合物
ラジカル重合性オリゴマー（Ａ１）
数平均分子量４０００のポリプロピレングリコールに
トルイレンジイソシアネート、βーヒドロキシアクリレ
ートを公知の方法で等量で反応して得られたウレタンジ
アクリレート 数平均分子量１００００のポリプロピレングリコール
にトルイレンジイソシアネート、βーヒドロキシアクリ
レートを公知の方法で等量で反応して得られたウレタン
ジアクリレート ・ラジカル重合性モノマー（Ａ２） ：Ｎ−ビニルカプロラクタム ：ノニルフェニルオキシエチルアクリレート ・カップリング剤（Ｂ） ：γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン ：γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン ・塩基性物質（Ｄ） ：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート ：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート ・光重合開始剤（Ｅ） ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォ
スフィンオキシド・酸化防止剤 ：ベンゼンプロパン酸、３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシ、アルキルエステル
トルイレンジイソシアネート、βーヒドロキシアクリレ
ートを公知の方法で等量で反応して得られたウレタンジ
アクリレート 数平均分子量１００００のポリプロピレングリコール
にトルイレンジイソシアネート、βーヒドロキシアクリ
レートを公知の方法で等量で反応して得られたウレタン
ジアクリレート ・ラジカル重合性モノマー（Ａ２） ：Ｎ−ビニルカプロラクタム ：ノニルフェニルオキシエチルアクリレート ・カップリング剤（Ｂ） ：γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン ：γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン ・塩基性物質（Ｄ） ：ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）セバケート ：ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）セバケート ・光重合開始剤（Ｅ） ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォ
スフィンオキシド・酸化防止剤 ：ベンゼンプロパン酸、３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシ、アルキルエステル
【００４５】
【発明の効果】本発明によれば、光ファイバーの伝送損
失を発生させず、破断強度を長期間維持しうる単層被覆
用あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成
物、およびそれを用いた光ファイバーを提供することが
できる。特に、高温高湿雰囲気下でも初期の特性を保持
しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用あるいは１次被覆
用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およびそれを用い
た光ファイバーを提供することができる。更に、同一製
品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを発生させな
い単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用
樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを提供す
ることができる。
失を発生させず、破断強度を長期間維持しうる単層被覆
用あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成
物、およびそれを用いた光ファイバーを提供することが
できる。特に、高温高湿雰囲気下でも初期の特性を保持
しうる湿熱耐久性に優れた単層被覆用あるいは１次被覆
用の光ファイバー被覆用樹脂組成物、およびそれを用い
た光ファイバーを提供することができる。更に、同一製
品ロット間における湿熱耐久性のばらつきを発生させな
い単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用
樹脂組成物、およびそれを用いた光ファイバーを提供す
ることができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H050 BB07Q BB14Q BB33Q BC02
BD03 BD05
4G060 AA01 AC01 AC14 AD22 AD41
AD43 CA00 CB05 CB09 CB12
CB33 CB35 CB38
4J038 FA001 FA121 FA131 FA151
FA171 FA251 FA271 FA281
HA156 JB00 JC30 JC34
JC35 JC36 JC38 PB09 PC08
Claims (6)
- 【請求項１】 ラジカル重合性化合物（Ａ）、カップリ
ング剤（Ｂ）及び０．０３〜２質量％の水（Ｃ）を含有
する光ファイバー被覆用樹脂組成物。 - 【請求項２】 前記水（Ｃ）の含有量が０．０８〜２質
量％である請求項１記載の光ファイバー被覆用樹脂組成
物。 - 【請求項３】 前記カップリング剤（Ｂ）がシランカッ
プリング剤である請求項１または２記載の光ファイバー
被覆用樹脂組成物 - 【請求項４】 前記カップリング剤（Ｂ）の含有量が
０．０１〜２．０質量％である請求項１、２または３記
載の光ファイバー被覆用樹脂組成物。 - 【請求項５】 更に塩基性物質（Ｄ）を含有する請求項
１、２、３および４記載の光ファイバー被覆用樹脂組成
物。 - 【請求項６】 請求項１、２、３、４または５記載の組
成物で被覆された光ファイバー。
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|---|---|---|---|---|
| JP2006251424A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
| JP2006267341A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Jsr Corp | 液状硬化性樹脂組成物 |
| JP2007094228A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Fujikura Ltd | 光ファイバ心線 |
| JP2013018668A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの製造方法 |
| KR20200037294A (ko) * | 2017-07-31 | 2020-04-08 | 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 | 광섬유 및 광섬유의 제조 방법 |
-
2002
- 2002-01-21 JP JP2002011471A patent/JP4032754B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4594775B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2010-12-08 | Ｊｓｒ株式会社 | 液状硬化性樹脂組成物 |
| JP2007094228A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Fujikura Ltd | 光ファイバ心線 |
| JP2013018668A (ja) * | 2011-07-08 | 2013-01-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバの製造方法 |
| KR20200037294A (ko) * | 2017-07-31 | 2020-04-08 | 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 | 광섬유 및 광섬유의 제조 방법 |
| KR102522243B1 (ko) | 2017-07-31 | 2023-04-14 | 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 | 광섬유 및 광섬유의 제조 방법 |
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