JP2003212543A - オキサラート法によるチタン酸バリウム粉末の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オキサラート法によるチタン酸バリウム粉末
を製造する方法に関するものであって、優れた粉体特性
を有すチタン酸バリウム粉末およびドープチタン酸バリ
ウム粉末をより高い生産性かつより経済的に製造できる
方法を提供する。 【解決手段】 塩化バリウム水溶液と塩化チタン水溶液
との混合水溶液、または該混合溶液にドナーまたはアク
セプターとして使用できる元素の化合物を添加し溶解さ
せたドープ元素含有混合水溶液を製造し、前記混合水溶
液をシュウ酸水溶液に添加してバリウムチタン酸オキサ
ラートまたはドープバリウムチタン酸オキサラートを沈
澱させた後、エージングし、洗浄、濾過、乾燥させてか
ら１次か焼、１次粉砕、２次か焼、２次粉砕してチタン
酸バリウムまたはドープチタン酸バリウム粉末を製造す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、強誘電体や圧電体
など諸般分野に用いられるチタン酸バリウム粉末を製造
する方法に関するものであって、より詳細には、オキサ
ラート法によりチタン酸バリウム粉末を製造する方法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、チタン酸バリウム(ＢａＴｉＯ
_３)粉末は、強誘電体であり、フェライトと共に電子セ
ラミックスの重要な構成材料として、積層セラミックコ
ンデンサ、静特性サーミスタ(ＰＴＣ)および圧電体など
の原料として広く利用されている。

【０００３】従来は、チタン酸バリウム粉末を、酸化チ
タンと炭酸バリウムとの固相反応による合成から製造し
ていた。

【０００４】しかし、近年、積層セラミックコンデンサ
(ＭＬＣＣ)などの利用分野において小型大容量化(高誘
電率組成、誘電体薄層化および高積層化)、低温焼成
化、高周波化、高性能化などの傾向に伴い、チタン酸バ
リウム粉末は高純度／組成均一性、微粒／粒度均一性、
非凝集性／高分散性などの特性が望まれてきた。

【０００５】したがって、前記特性を満たすチタン酸バ
リウム粉末を製造する方法として液相合成法の需要が増
している。

【０００６】前記液相合成法としては、水熱合成法、共
沈法(オキサラート法)、アルコキシド法(ゾルゲル法)な
どが開発され、その使用が急増している。

【０００７】特に、液相合成法の中でもオキサラート法
は、バリウムイオンとチタンイオンを含んだ混合溶液に
シュウ酸を添加してバリウムチタン酸オキサラート化合
物に沈澱させた後、これを乾燥、熱分解しチタン酸バリ
ウム粉末を製造する方法である。

【０００８】すなわち、従来のオキサラート法によるチ
タン酸バリウム粉末の製造方法は、図１に示すように、
塩化バリウムと塩化チタンの水溶液をＢａ／Ｔｉのモル
比＝１:１になるよう混合して混合水溶液を製造後、該
混合水溶液をシュウ酸に添加してバリウムチタン酸オキ
サラート（ＢａＴｉＯ(Ｃ_２Ｏ_４)_２・４Ｈ_２Ｏ）を沈澱
させてから、これをよく洗浄した後、濾過および乾燥さ
せ８００℃以上で熱分解させてチタン酸バリウム粉末を
得る方法である。

【０００９】前記オキサラート法によるチタン酸バリウ
ム粉末の製造方法は、その工程が単純で原料費および設
備投資費が安価であるとの利点があり最も先に商用化さ
れた。

【００１０】しかし、前記オキサラート法によるチタン
酸バリウム粉末の製造方法は、粉末組成(Ｂａ／Ｔｉ)お
よび粒度制御が難しく、熱分解の際、粒子間に強い凝結
体を形成して粉砕後粒子が破砕状になってしまい、微粉
砕された粒子が多くなり混合／成形の際に分散性が良好
でなく、焼結の際にも制御し難く、異常結晶粒が生成し
易く、粉砕が完全に施されないと数〜数十μｍ大の凝結
体が残存するとの問題を抱えている。

【００１１】さらに、前記オキサラート法によりチタン
酸バリウム粉末を製造する場合には、粒子間の強い凝結
体の形成により粒子を大きく育てることができず結晶性
も悪く、製造した粉末はＭＬＣＣ Ｂ特性用で使用する
には適さないとの問題もあった。

【００１２】最近は、ＭＬＣＣの薄層化、高積層化の傾
向に伴って、その原料に用いる粉末は水熱合成法で製造
した粉末に代替されつつある。

【００１３】しかし、前記水熱合成法は、製造した粉末
が優れた特性を示すにも拘わらず、合成工程が複雑でオ
ートクレーブを使用する為生産性に劣り、その上粉末価
格が高いとの問題がある。

【００１４】したがって、合成工程が単純で安価な粉末
合成法の開発が必要となってくる。

【００１５】一方、ＭＬＣＣの内部電極に用いられてき
たＰｄなどの貴金属価格の上昇により、最近は多数の業
者でＮｉ、Ｃｕなどの卑金属をＭＬＣＣの内部電極とし
て使用している。

【００１６】しかし、ＭＬＣＣの焼成の際、こうした卑
金属電極の酸化を防止するためには還元性雰囲気を用い
らねばならなく、さらに還元性雰囲気で誘電体酸化物の
還元を防ぐため誘電体が耐還元性組成でなければならな
い。

【００１７】一般に、ＢａＴｉＯ_３系ペロブスカイト誘
電体に耐還元性を与える方法として、先ずＢａ／Ｔｉ比
＞1にして、伝導性電子に対してアクセプター役を果た
すイオンを入れ、電荷補償のためのドナーイオンを入れ
る。実際に、Ｈｅｎｎｉｎｇｓらは、卑金属電極ＭＬＣ
ＣにおいてＢａＴｉＯ_３ 系ペロブスカイト誘電体にド
ナーとアクセプターを添加すれば誘電特性および信頼性
が相当改善されるとのことを報告している["Ｄｏｎｏｒ
-Ａｃｃｅｐｔｏｒ Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｍｐｌｅｘ
Ｆｏｒｍａｔｉｏｎ ｉｎ ＢＴ Ｃｅｒａｍｉｃ"、
ＣｅｒａｍｉｃＴｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ、ｖｏｌ ９
７、ｐ４１]。

【００１８】さらに、これら添加剤をＢａＴｉＯ_３にド
ープする際、そのドーピング方法によって誘電特性が大
きく異なるようになる。

【００１９】Ｆｅｒｎａｎｄｅｚらは、ＢａＴｉＯ_３粉
末に添加剤を酸化物の形態でドーピングすることより共
沈法でドーピングする方がより良き誘電特性を得られる
と報告している["Ｉｎｆｌｕｅｎｃｅ ｏｆ Ｔｈｅ
Ｄｏｐｉｎｇ Ｍｅｔｈｏｄｏｎ Ｘ７Ｒ Ｂａｓｅｄ
−ＢａＴｉＯ_３ Ｃａｐａｃｉｔｏｒｓ"、Ｊ.Ｆ.Ｆｅ
ｒｎａｎｄｅｚ ｅｔ.ａｌ.,ｖｏｌ.１２７、ｐｐ.４
７-５２、(１９９２)]。彼らは、こうしたドーピング法
による誘電特性の向上が、微量の添加物(ｄｏｐａｎｔ)
のより良き分配(ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ)に起因する
とした。さらに、Ｍａｓｕｄａらは、ＢａＴｉＯ_３の合
成段階においてＭｎイオンをドープしたＢａ(Ｔｉ_１-ｘ
Ｍｎ_ｘ)Ｏ_３の方が、ＢａＴｉＯ_３にＭｎＣＯ_３を固相
でドープしたものより諸誘電特性から優れたことを報告
している["Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅ
ｓ ｏｆ ＭｎＯ−Ｄｏｐｅｄ ＢａＴｉＯ_３ ｆｏｒ
Ｎｉ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ＭＬＣＣｓ"、Ｔａｋｅｓ
ｈｉ Ｍａｓｕｄａ、ｅｔ.ａｌ.,Ｐｒｏｇｒａｍ ｓ
ｕｍｍａｒｙ ａｎｄ ｅｘｔｅｎｄｅｄ ａｂｓｔｒ
ａｃｔ、Ｔｈｅ ９ｔｈ ＵＳ−Ｊａｐａｎ Ｓｅｍｉ
ｎａｒ ｏｎＤｉｅｌｅｃｔｒｉｃ ａｎｄ Ｐｉｅｚ
ｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｃｅｒａｍｉｃｓ. ｐｐ.３５３
〜３５５、Ｎｏｖ.２〜５、１９９９]。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、オキ
サラート法により優れた粉体特性を有するチタン酸バリ
ウム粉末を、より高い生産性かつより経済的に製造する
ことのできる方法を提供することである。

【００２１】さらに、本発明の目的は、オキサラート法
による優れた粉体特性を有するドープチタン酸バリウム
粉末を、より高い生産性かつより経済的に製造すること
のできる方法を提供することである。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明は、塩化バリウム
水溶液と塩化チタン水溶液との混合水溶液をシュウ酸水
溶液に添加してバリウムチタン酸オキサラートを沈澱さ
せた後、エージングし、洗浄、濾過、乾燥させてバリウ
ムチタン酸オキサラートを製造する段階；製造したバリ
ウムチタン酸オキサラートを１次か焼後、１次粉砕し微
粒のチタン酸バリウム粉末を製造する段階;および前記
微粒のチタン酸バリウム粉末を２次か焼後、２次粉砕す
る段階、を含むオキサラート法によるチタン酸バリウム
粉末の製造方法に関するものである。

【００２３】さらに、本発明は、塩化バリウム水溶液と
塩化チタン水溶液との混合水溶液にＹ、Ｌａ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａおよび稀土類元素からなるドナ
ーまたはアクセプターとして使用できる添加剤のグルー
プの中から選択された１種以上の元素を酸化物、水酸化
物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩の形態で添加し溶解させた
ドープ元素含有混合水溶液を製造する段階;前記ドープ
元素含有混合水溶液をシュウ酸水溶液に添加しドープバ
リウムチタン酸オキサラートを沈澱させた後、エージン
グし、洗浄、濾過、乾燥させてドープバリウムチタン酸
オキサラートを製造する段階;製造したドープバリウム
チタン酸オキサラートを１次か焼後、１次粉砕して微粒
のドープチタン酸バリウム粉末を製造する段階;および
前記微粒のドープチタン酸バリウム粉末を２次か焼後、
２次粉砕する段階、を含むオキサラート法によるドープ
チタン酸バリウム粉末の製造方法に関するものである。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２５】本発明においては、塩化バリウム水溶液と
塩化チタン水溶液との混合水溶液をシュウ酸水溶液に添
加しバリウムチタン酸オキサラートを沈澱させた後、エ
ージングし、洗浄、濾過、乾燥させてバリウムチタン酸
オキサラートを製造する過程を経る。

【００２６】前記塩化バリウム水溶液の好ましい濃度範
囲は、０．２〜２．０モル／リットルであり、通常、Ｂ
ａＣｌ_２・２Ｈ_２Ｏを水に溶かして製造する。

【００２７】前記塩化チタン水溶液の好ましい濃度範囲
は、０．２〜２．０モル／リットルであり、通常、Ｔｉ
Ｃｌ_４溶液を稀釈して製造する。

【００２８】前記塩化バリウム水溶液と前記塩化チタン
水溶液との混合水溶液は、塩化バリウム(Ａ)と塩化チタ
ン(Ｂ)とのモル比(（Ａ）／（Ｂ）)が０．９０〜１．５
０になるようにすることが好ましい。

【００２９】前記シュウ酸水溶液の好ましい濃度範囲
は、０．２〜５．０モル／リットルであり、該水溶液の
温度は３０〜１００℃で保つことが好ましい。

【００３０】前記シュウ酸水溶液をはげしく攪拌しなが
ら、前記混合水溶液を前記シュウ酸水溶液に投入する。

【００３１】前記混合水溶液の投入量は、前記シュウ酸
（Ｃ）と塩化チタン（Ｂ）とのモル比(（Ｃ）／（Ｂ）)
が１．０〜５．０になるよう設定することが好ましく、
投入速度は５〜５０００ミリリットル／分がよい。

【００３２】前記シュウ酸水溶液の攪拌速度は、１０〜
１０００ｒｐｍ／分に設定することが好ましい。

【００３３】前記エージング、洗浄および乾燥は通常の
方法による。前記エージングは１〜１００時間施すこと
が好ましい。前記乾燥は５０〜２００℃で施すことが好
ましい。

【００３４】次いで、前記工程で製造したバリウムチタ
ン酸オキサラートを１次か焼後、１次粉砕して微粒のチ
タン酸バリウム粉末を製造する。前記１次か焼は５００
〜１１００℃で施すことが好ましい。前記１次粉砕は乾
式または湿式粉砕機を用いて行うことができ、そして１
次粉砕した粒子の平均粒径が０．１〜１．０μｍになる
よう行うことが好ましい。前記１次粉砕が湿式粉砕機を
用いて行われた場合には、湿式粉砕により得たスラリー
をスプレードライなど通常の乾燥方法により乾燥させ
る。

【００３５】次いで、前記工程で製造した微粒のチタン
酸バリウム粉末を２次か焼後、２次粉砕することで目的
のチタン酸バリウム粉末が製造される。

【００３６】前記２次か焼は９００〜１３００℃で施す
ことが好ましい。前記２次粉砕は乾式または湿式粉砕機
を用いて行うことができ、そして２次粉砕した粒子の平
均粒径が０．１〜５．０μｍになるよう行うことが好ま
しい。前記チタン酸バリウム粉末を製造する過程を示す
工程図を図２に概略的に示した。

【００３７】以下、ドープチタン酸バリウム粉末を製造
する方法について説明する。

【００３８】本発明においては、図３のように共沈法に
基づき、ＢａＴｉ(Ｃ_２Ｏ_４)_２・４Ｈ_２Ｏを沈澱させる
段階においてアクセプターおよびドナーイオンを提供す
る元素を酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩の
形態で塩化バリウム水溶液と塩化チタン水溶液の混合水
溶液に入れ、該ドープ元素含有混合水溶液をシュウ酸水
溶液に加えて沈澱させドーピングすることによって、ド
ナーまたはアクセプターとして使用できる元素のグルー
プの中から選択した１種以上の元素の酸化物、水酸化
物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩をより均一に分散させる。

【００３９】つまり、本発明によるドープチタン酸バリ
ウム粉末を製造するためには、先ず塩化バリウム水溶液
と塩化チタン水溶液との混合水溶液に、Ｙ、Ｌａ、Ｖ、
Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒ
ｈ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａおよび稀土類元素から成る
ドナーまたはアクセプターとして使用できる元素のグル
ープの中から選択した１種以上の元素を、酸化物、水酸
化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩の形態で添加し溶解させ
たドープ元素含有混合水溶液を製造する。

【００４０】この際、前記元素の酸化物、水酸化物、炭
酸塩、硝酸塩、硫酸塩は、ドープ元素含有混合水溶液が
透明になるまで攪拌して溶解させる。

【００４１】前記ドナーまたはアクセプターとして使用
できる元素の添加量はチタニウムに対して１０モル％以
下に設定することが好ましい。

【００４２】次いで、前記工程で製造したドープ元素含
有混合水溶液をシュウ酸水溶液に添加してドープバリウ
ムチタン酸オキサラートを沈澱させた後、エージング
し、洗浄、濾過、乾燥させてドープバリウムチタン酸オ
キサラートを製造する。

【００４３】次いで、前記工程で製造したドープバリウ
ムチタン酸オキサラートを１次か焼後、１次粉砕して微
粒のドープチタン酸バリウム粉末を製造する。

【００４４】次いで、前記微粒のドープチタン酸バリウ
ム粉末を２次か焼後、２次粉砕することによってオキサ
ラート法によりドープチタン酸バリウム粉末が製造され
る。

【００４５】前記ドープチタン酸バリウム粉末を製造の
際、１次か焼、１次粉砕、２次か焼および２次粉砕工程
は、前記チタン酸バリウムの製造工程と同一である。

【００４６】前記ドープチタン酸バリウム粉末を製造す
る過程を示す工程図を図３に概略的に示した。

【００４７】以下、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明する。

【００４８】

【実施例】実施例１ 塩化チタン水溶液(０．５０モル／０．５０リットル)と
塩化バリウム水溶液(０．５５モル／０．５５リットル)
とを混合して混合水溶液をつくり、該混合水溶液をはげ
しく攪拌中である８０℃のシュウ酸水溶液(１．２５モ
ル／１．２５リットル)に１０ミリリットル／分の速度
で滴下した。滴下が済んでから温度を徐々に常温まで下
げ、５時間エージングした。こうして得た沈澱溶液を純
水でよく洗浄した後、濾過してバリウムチタン酸オキサ
ラートを得てから、これを電気炉において９００℃で１
次か焼した。

【００４９】得られた１次か焼したバリウムチタン酸オ
キサラートのＳＥＭ写真を図４の（ａ）に示した。

【００５０】次いで１次か焼したバリウムチタン酸オキ
サラートを湿式粉砕方式で１次粉砕し、再び電気炉にお
いて１１００℃で２次か焼した後、２次粉砕し乾燥させ
てチタン酸バリウム粉末を得た。

【００５１】得られたチタン酸バリウム粉末のＳＥＭ写
真を図４の（ｂ）に示した。

【００５２】図４に示したように、本発明の方法によっ
てチタン酸バリウム粉末を製造する場合、その粉末は球
形であり、粒度分布が均一で微粉砕状が少ないことがわ
かる。

【００５３】一方、前記チタン酸バリウム粉末の粉体特
性を調べ、その結果を下記表１に示した。

【００５４】

【表１】

【００５５】実施例２ 前記発明例１と同様に塩化チタン水溶液と塩化バリウム
水溶液とを混合して混合水溶液をつくり、該混合水溶液
に０.０００５モルのマンガンクロライドを入れ完全溶
解させたことを除けば前記発明例１と同一な方法から、
ドープチタン酸バリウム粉末を製造した。

【００５６】得られたドープチタン酸バリウム粉末の誘
電特性を調査すべく焼結助剤などのその他の添加剤とバ
インダーおよび有機溶媒を加えスラリーをつくり、これ
をテープキャスティングした後、スクリーンプリンティ
ング法でＮｉ電極をかぶせ、４０層ほど積層、圧着、切
断しグリーンチップ(ｇｒｅｅｎ ｃｈｉｐ)を製造し
た。これを還元性雰囲気、１３００℃において焼結して
から、端子形成(ｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ)およびメッキ
工程を経てＭＬＣＣを製造した。

【００５７】得られたＭＬＣＣの誘電特性を調べ、その
結果を下記表２に示した。

【００５８】

【表２】

【００５９】前記表２に示したように、本発明により製
造したチタン酸バリウム粉末を用いてＭＬＣＣを製造し
た場合には、ＭＬＣＣは各種誘電特性に優れ、ＥＩＡの
Ｘ７Ｒ規格を充分に満足させることがわかる。

【００６０】

【発明の効果】上述したように、本発明は、固相合成法
はいうまでもなく水熱合成法やゾルゲル法など他の液相
合成法に比してその製造工程が簡単で、原料費および設
備投資費が少なく済みながら、生産性と歩留まりが高
く、粉体特性に優れた粉末を提供できるとの効果を奏す
るものである。

【００６１】本発明によると、チタン酸バリウム粉末を
Ｂａ／Ｔｉ＝０.９９９±０.００２に再現性よく制御す
ることができ、粒子が球形で粒度が均一であって、凝結
体の形成が少ない粉末を製造できるので、粒子のサイズ
を大小任意に調節することができる。

【００６２】さらに、本発明によると、所望の添加剤を
ＢａとＴｉとが共沈する段階でドーピングし添加剤の均
一なドーピングを誘導して、各種誘電特性を向上するこ
とのできるチタン酸バリウム粉末を提供することによ
り、ＭＬＣＣのＸ７Ｒなどのような規格を充分に満足で
きるＭＬＣＣの製造を可能にする。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来のオキサラート法によるチタン酸バリウム
粉末の製造工程図である。

【図２】本発明の方法によるチタン酸バリウム粉末の製
造工程の一例図である。

【図３】本発明の方法によるチタン酸バリウム粉末の製
造工程の他例図である。

【図４】(ａ)は１次か焼後のバリウムチタン酸オキサラ
ートのＳＥＭ写真である。(ｂ)は２次か焼後に２次粉砕
したチタン酸バリウム粉末のＳＥＭ写真である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G030 AA10 AA11 AA12 AA13 AA16 AA19 AA20 AA21 AA22 AA23 AA24 AA25 AA27 AA28 AA29 AA31 AA32 AA34 BA09 BA10 GA01 GA11 4G047 CA07 CB05 CB08 CC02 CD04

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩化バリウム水溶液と塩化チタン水溶液
   との混合水溶液をシュウ酸水溶液に添加してバリウムチ
   タン酸オキサラートを沈澱させた後、エージングし、洗
   浄、濾過、乾燥させてバリウムチタン酸オキサラートを
   製造する段階；製造したバリウムチタン酸オキサラート
   を１次か焼後、１次粉砕して微粒のチタン酸バリウム粉
   末を製造する段階;および前記微粒のチタン酸バリウム
   粉末を２次か焼後、２次粉砕する段階、を含むオキサラ
   ート法によるチタン酸バリウム粉末の製造方法。
2. 【請求項２】 前記塩化バリウム水溶液の濃度が０．２
   〜２．０モル／リットルで、前記塩化チタン水溶液の濃
   度が０．２〜２．０モル／リットルであり、かつ前記シ
   ュウ酸水溶液の濃度が０．２〜５．０モル／リットルで
   あることを特徴とする請求項１に記載のオキサラート法
   によるチタン酸バリウム粉末の製造方法。
3. 【請求項３】 前記塩化バリウム(Ａ)と塩化チタン(Ｂ)
   とのモル比(（Ａ）／（Ｂ）)が０．９０〜１．５０で、
   かつ前記シュウ酸(Ｃ)と前記塩化チタン(Ｂ)とのモル比
   (（Ｃ）／（Ｂ）)が１．０〜５．０であることを特徴と
   する請求項１に記載のオキサラート法によるチタン酸バ
   リウム粉末の製造方法。
4. 【請求項４】 塩化バリウム水溶液と塩化チタン水溶液
   との混合水溶液をシュウ酸水溶液に添加する際、その添
   加速度は５〜５０００ミリリットル／分であることを特
   徴とする請求項１に記載のオキサラート法によるチタン
   酸バリウム粉末の製造方法。
5. 【請求項５】 前記シュウ酸水溶液の温度が３０〜１０
   ０℃であることを特徴とする請求項１に記載のオキサラ
   ート法によるチタン酸バリウム粉末の製造方法。
6. 【請求項６】 １次か焼温度が５００〜１１００℃であ
   り、２次か焼温度が９００〜１３００℃であることを特
   徴とする請求項１に記載のオキサラート法によるチタン
   酸バリウム粉末の製造方法。
7. 【請求項７】 １次粉砕を粉砕後粒子平均粒径が０．１
   〜１．０μｍになるよう施し、かつ２次粉砕を粉砕後粒
   子平均粒径が０．１〜５．０μｍになるよう施すことを
   特徴とする請求項１に記載のオキサラート法によるチタ
   ン酸バリウム粉末の製造方法。
8. 【請求項８】 塩化バリウム水溶液と塩化チタン水溶液
   との混合水溶液にＹ、Ｌａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍ
   ｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、
   Ｇａおよび稀土類元素から成るドナーまたはアクセプタ
   ーとして使用できる元素グループの中から選択された１
   種以上の元素を酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫
   酸塩の形態で添加し溶解させたドープ元素含有混合水溶
   液を製造する段階;前記ドープ元素含有混合水溶液をシ
   ュウ酸水溶液に添加してドープバリウムチタン酸オキサ
   ラートを沈澱させた後、エージングし、洗浄、濾過、乾
   燥させてドープバリウムチタン酸オキサラートを製造す
   る段階;製造したドープバリウムチタン酸オキサラート
   を１次か焼後、１次粉砕して微粒のドープチタン酸バリ
   ウム粉末を製造する段階;および前記微粒のドープチタ
   ン酸バリウム粉末を２次か焼後、２次粉砕する段階、 を含むオキサラート法によるドープチタン酸バリウム粉
   末の製造方法。
9. 【請求項９】 前記塩化バリウム水溶液の濃度が０．２
   〜２．０モル／リットルで、前記塩化チタン水溶液の濃
   度が０．２〜２．０モル／リットルであり、かつ前記シ
   ュウ酸水溶液の濃度が０．２〜５．０モル／リットルで
   あることを特徴とする請求項８に記載のオキサラート法
   によるドープチタン酸バリウム粉末の製造方法。
10. 【請求項１０】 前記塩化バリウム(Ａ)と塩化チタン
    (Ｂ)とのモル比(（Ａ）／（Ｂ）)が０．９０〜１．５０
    であり、かつ前記シュウ酸(Ｃ)と前記塩化チタン(Ｂ)と
    のモル比(（Ｃ）／（Ｂ）)が１．０〜５．０であること
    を特徴とする請求項８に記載のオキサラート法によるド
    ープチタン酸バリウム粉末の製造方法。
11. 【請求項１１】 ドープ元素含有混合水溶液をシュウ酸
    水溶液に添加する際、その添加速度は５〜５０００ミリ
    リットル／分であることを特徴とする請求項８に記載の
    オキサラート法によるドープチタン酸バリウム粉末の製
    造方法。
12. 【請求項１２】 ドナーまたはアクセプターとして使用
    できる元素の添加量がチタニウムに対して１０モル％以
    下であることを特徴とする請求項８に記載のオキサラー
    ト法によるドープチタン酸バリウム粉末の製造方法。
13. 【請求項１３】 １次か焼温度が５００〜１１００℃
    で、２次か焼温度が９００〜１３００℃であることを特
    徴とする請求項８に記載のオキサラート法によるドープ
    チタン酸バリウム粉末の製造方法。
14. 【請求項１４】 １次粉砕を粉砕後粒子平均粒径が０．
    １〜１．０μｍになるよう施し、かつ２次粉砕を粉砕後
    粒子平均粒径が０．１〜５．０μｍになるよう施すこと
    を特徴とする請求項８に記載のドープオキサラート法に
    よるチタン酸バリウム粉末の製造方法。