JP2003193155A - 光記録媒体の反射膜形成用銀合金スパッタリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成された反射膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】光記録ディスク（ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡ
Ｍ、ＤＶＤ−９）などの光記録媒体における反射膜を形
成するための銀合金スパッタリングターゲットおよびこ
のターゲットを用いて形成された反射膜を提供する。 【解決手段】Ｇｅ：０．１〜３質量％を含み、さらにＡ
ｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕの内の１種または２種以上を合計
で０．１〜３質量％を含み、残部がＡｇである組成の銀
合金からなる銀合金スパッタリングターゲットおよびこ
のターゲットを用いて形成された反射膜。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光記録ディスク
（ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−９）などの光
記録媒体における反射膜を形成するための銀合金スパッ
タリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成
された反射膜に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、光記録ディスク（ＣＤ−ＲＷ，Ｄ
ＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−９）などの光記録媒体の反射膜
として純Ａｇスパッタリングターゲットを用いて形成し
た純Ａｇ膜が使用されており、この純Ａｇ膜は４００〜
８３０ｎｍの幅広い波長域での反射率が高く、他の金属
膜にくらべて、青色レーザー光などの短波長のレーザー
光に対する反射率が優れているところから広く使用され
ている。しかし、記録媒体が書き換え可能な相変化形タ
イプの場合は、反射膜は記録媒体の線速に応じて熱伝導
率を容易に制御できることが必要であるが、純Ａｇ膜は
熱伝導率が良すぎるという欠点がある。したがって反射
率が高くかつ熱伝導率の低い反射膜が求められており、
その反射率が高くかつ熱伝導率の低い反射膜の例として
ＡｇにＣｕ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔのうちの１種以上を含むＡｇ合金
からなる反射膜が知られている（特開２００１−３５０
１４号公報、特開平１１−２１３４４８号公報など参
照）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
Ａｇ合金反射膜は、いずれも表面の耐候性が不十分であ
るところから、時間が経つにつれて反射率が低下し、特
に波長の短い青色レーザー光に対する反射率の低下が著
しく、短期間に光記録媒体の反射膜としての性能が低下
するという問題点があった。

【０００４】

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、長
期間使用しても反射率が低下することの少ない（すなわ
ち経時変化の少ない）Ａｇ合金反射膜を得るべく研究を
行なっていたところ、Ｇｅ：０．１〜３質量％を含み、
さらにＡｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕの内の１種または２種以
上を合計で０．１〜３質量％を含み、残部がＡｇである
組成の銀合金ターゲットを用いてスパッタリングするこ
とにより得られたＡｇ合金反射膜は耐候性に優れ、した
がって経時変化による反射率の低下が極めて少なくな
る、という研究結果が得られたのである。

【０００５】この発明は、かかる研究結果に基づいて成
されたものであって、（１）Ｇｅ：０．１〜３質量％を
含み、さらにＡｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕの内の１種または
２種以上を合計で０．１〜３質量％を含み、残部がＡｇ
である組成の銀合金からなる光記録媒体の反射膜形成用
銀合金スパッタリングターゲット、（２）前記（１）記
載のターゲットをスパッタリングすることにより形成さ
れた経時変化の少ない光記録媒体の反射膜、に特徴を有
するものである。

【０００６】この発明のＡｇ合金反射膜を形成するため
のスパッタリングターゲットは、高純度Ａｇを真空また
は不活性ガス雰囲気中で溶解し、得られた溶湯にＧｅを
添加してＡｇ合金溶湯を作製し、さらにこのＡｇ合金溶
湯に、予め作製しておいたＡｕ−Ａｇ母合金、Ｐｔ−Ａ
ｇ母合金、Ｐｄ−Ａｇ母合金、Ｒｕ−Ａｇ母合金を添加
して所定の成分組成のＡｇ合金となるように真空または
不活性ガス雰囲気中で溶解し、このようにして得られた
溶湯を真空または不活性ガス雰囲気中で鋳造してインゴ
ットを作製し、得られたインゴットを熱間加工したのち
機械加工することにより製造する。

【０００７】次に、この発明のＡｇ合金からなるスパッ
タリングターゲットおよびこのターゲットを用いて形成
したＡｇ合金反射膜の成分組成を前記の如く限定した理
由を説明する。

【０００８】Ｇｅ：ＧｅはＡｇ合金反射膜の反射率が経
時変化するのを防止する効果があるが、Ｇｅが０．１質
量％未満含まれていても十分な耐候性が得られず、一方、
３質量％を越えて含有すると、スパッタリングにより形
成されたＡｇ合金反射膜の初期反射率が低下するように
なるので好ましくない。したがって、この発明のＡｇ合
金反射膜およびこのＡｇ合金反射膜を形成するためのス
パッタリングターゲットに含まれるＧｅの含有量は０．
１〜３質量％(一層好ましくは０．１〜１．０質量％)に
定めた。

【０００９】Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕ：これら成分は、
Ｇｅ：０．１〜３質量％とともに含むことによりスパッ
タリングにより形成されたＡｇ合金反射膜の耐候性を一
層強化して反射率が経時変化するのを防止する成分であ
るが、これら成分の１種または２種以上を合計で０．１
質量％未満含んでも十分な耐候性が得られず、一方、これ
ら成分の１種または２種以上を合計で３質量％を越えて
含有すると、耐候性は一層優れたものとなるものの、Ａ
ｇ合金反射膜の初期反射率が低下するようになるので好
ましくない。したがって、この発明のＡｇ合金スパッタ
リングターゲットに含まれるこれら成分の内の１種また
は２種以上を合計で０．１〜３質量％(一層好ましくは
０．３〜１．５質量％)に定めた。

【００１０】

【発明の実施の形態】ＡｇおよびＧｅをＡｒ雰囲気にて
高周波誘導加熱炉により溶解し、得られた溶湯に、予め
プラズマアーク溶解炉を使用して作製しておいたＡｕ−
Ａｇ母合金、Ｐｔ−Ａｇ母合金、Ｐｄ−Ａｇ母合金、Ｒ
ｕ−Ａｇ母合金を添加してＡｇ合金溶湯を作製し、これ
らＡｇ合金溶湯をＡｒ雰囲気中で鋳造することにより直
径：１００ｍｍ、長さ：９０ｍｍの寸法を有するインゴ
ットを作製した。このインゴットを輪切り状に切断して
直径：１００ｍｍ、厚さ：３０ｍｍの寸法を有する円板
を作製し、さらにこの円板を６００℃にて熱間圧延する
ことにより厚さ：６ｍｍの寸法を有する圧延板を作製
し、これを機械加工することにより直径：２００ｍｍ、
厚さ：５ｍｍの寸法を有し表１〜３に示される成分組成
を有する本発明銀合金スパッタリングターゲット（以
下、本発明ターゲットという）１〜３４および比較銀合
金スパッタリングターゲット（以下、比較ターゲットと
いう）１〜８を作製した。さらにＡｇを溶解し、同様に
して従来銀スパッタリングターゲット（以下、従来ター
ゲットという）を作製した。

【００１１】この様にして得られた本発明ターゲット１
〜３４、比較ターゲット１〜８および従来ターゲットを
それぞれ厚さ：１０ｍｍの無酸素銅製冷却板にＩｎ−Ｓ
ｎ共晶はんだを用いてはんだ付けしたのち、通常の直流
マグネトロンスパッタリング装置に取り付け、さらに直
径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍの寸法を有するポリ
カーボネート樹脂板をターゲットと基板の距離が７ｃｍ
となるようにセットし、チャンバー内を１×１０^-4Ｐａ
まで真空に引いた後、アルゴンガスをチャンバー内に
０．５Ｐａになるまで入れ、直流電力：１００Ｗの条件
で４０秒間スパッタリングし、膜厚：１００ｎｍのＡｇ
合金反射膜を形成した。

【００１２】これらＡｇ合金反射膜に、波長が４０５ｎ
ｍおよび６５０ｎｍの光を照射して分光光度計により反
射率を測定し、その後Ａｇ合金反射膜を恒温恒湿槽容器
(温度：８０℃、湿度：８５％)に２００時間保持した後、
同様にして波長が４０５ｎｍおよび６５０ｎｍの光を照
射して分光光度計により反射率を測定し、その結果を表
１〜３に示すことによりＡｇ合金反射膜の耐候性を評価
した。

【００１３】

【表１】

【００１４】

【表２】

【００１５】

【表３】

【００１６】表１〜３に示される結果から、この発明の
本発明ターゲット１〜３４を用いてスパッタリングを行
うことにより得られたＡｇ合金反射膜は、比較ターゲッ
ト１〜８および従来ターゲットを用いてスパッタリング
を行うことにより得られたＡｇ合金反射膜に比べて反射
率の低下が少ないところから、耐候性に優れていること
がわかる。

【００１７】

【発明の効果】上述のように、この発明の銀合金スパッ
タリングターゲットを用いて作製したＡｇ合金反射膜
は、従来の銀スパッタリングターゲットを用いて作製し
たＡｇ合金反射膜に比べて、経時変化による反射率の低
下が少なく、長期にわたって使用できる光記録媒体を製
造することができ、メディア産業の発展に大いに貢献し
得るものである。なお、この発明の銀合金スパッタリン
グターゲットを用いて作製したＡｇ合金膜は、光記録媒
体の反射膜として使用した場合に優れた効果を奏する
が、プラズマディスプレーの半透過膜としても優れた効
果を示すことが分かった。

フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K029 AA11 AA24 BA22 BC01 BC07 BD00 BD09 CA05 DC04 DC08 5D029 MA13 5D121 AA05 EE03 EE09 EE14

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】Ｇｅ：０．１〜３質量％を含み、さらにＡ
   ｕ，Ｐｔ，Ｐｄ，Ｒｕの内の１種または２種以上を合計
   で０．１〜３質量％を含み、残部がＡｇである組成の銀
   合金からなることを特徴とする光記録媒体の反射膜形成
   用銀合金スパッタリングターゲット。
2. 【請求項２】請求項１記載のターゲットをスパッタリン
   グすることにより形成された経時変化の少ない光記録媒
   体の反射膜。