JP2003192558A - 遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途 - Google Patents

遮蔽剤の相乗混合物をベースにした抗日光化粧品用組成物及びその用途

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JP2003192558A JP2002356710A JP2002356710A JP2003192558A JP 2003192558 A JP2003192558 A JP 2003192558A JP 2002356710 A JP2002356710 A JP 2002356710A JP 2002356710 A JP2002356710 A JP 2002356710A JP 2003192558 A JP2003192558 A JP 2003192558A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、化粧品的に許容可能なビヒクルに、少なくと
も： (ａ)第１の遮蔽剤として、部分的又は完全に中和された
形態であってもよいベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-
１０-ショウノウスルホン酸)を、組成物の全重量に対し
て０．１〜１５重量％と、(ｂ)少なくとも一の特定のア
ミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を、組成
物の全重量に対して０．１〜１５重量％；含有せしめて
なり、該第１及び第２の遮蔽剤が付与される日光保護フ
ァクターに関して相乗活性を生じるような割合で組成物
中に存在していることを特徴とする、局所使用される新
規の化粧品用又は皮膚用組成物に関する。また本発明
は、紫外線の影響から、皮膚及び毛髪を保護するための
それらの用途に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、特に紫外線から皮膚及び／又は
毛髪を光保護することを意図し、局所的に使用される新
規の化粧品用組成物(以下、この組成物を単に抗日光組
成物と呼称する)、並びに上述した化粧品用途における
それらの使用に関する。特に、化粧品的に許容可能なビ
ヒクルに、少なくとも２つの特定の遮蔽剤、すなわち第
１にベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-ショウノ
ウスルホン酸)と、第２に特定のアミノ置換２-ヒドロキ
シベンゾフェノン化合物とを組み合わせて含有せしめて
なる抗日光組成物に関する。これら２つの遮蔽剤を組み
合わせることにより、付与される保護ファクターに関し
て相乗効果が得られる。
【０００２】２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線
によりヒトの表皮は褐色化し、ＵＶ-Ｂ線の名称で知ら
れている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、
皮膚は自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状
態となったり紅斑が形成されることが知られており；よ
って、このＵＶ-Ｂ線は遮蔽しなければならない。ま
た、３２０と４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚を褐色
化するＵＶ-Ａ線も皮膚に悪い変化を引き起こすおそれ
があることが知られており、特に敏感肌又は頻繁に太陽
光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。
ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出
現せしめ、結果として時期尚早の老化に導く原因となる
ものである。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を促進した
り、ある患者においては、この反応を悪化させ、光毒性
又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、Ｕ
Ｖ-Ａ線もまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護
を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供さ
れている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、
水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続
相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に
許容可能なビヒクル)の形態であり、有害な紫外線を選
択的に吸収可能な一又は複数の従来からの親油性及び／
又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるも
ので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の日光保護
ファクターに従って選択されるものであり、ここで日光
保護ファクター(ＳＰＦ)とは、ＵＶ遮蔽剤を用いない場
合の紅斑形成閾値に達するまでに必要なＵＶ線の線量に
対する、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達す
るまでに必要なＵＶ線の線量の比率を数学的に表したも
のである。アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体をベースとする抗日光組成物は、欧州特許出願第１
０４６３９１号において知られている。これらの遮蔽剤
はＵＶ-Ａ線を遮蔽する。
【０００４】実際、上述した光保護の分野において多く
の研究を行ったところ、本出願人は、予期しないこと
に、また驚くべきことに、従来技術でそれ自体は既に知
られている２つの特定のサンスクリーン剤を組み合わせ
ることで、その顕著な相乗効果のために、顕著に改善さ
れ、遮蔽剤の何れかをそれ自身のみで使用した場合より
もとにかく高い保護ファクターを示す抗日光組成物が得
られることを見出した。この発見が、本発明の基礎を形
成する。
【０００５】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品的に許容可能なビヒクルに、少なくとも： (ａ)第１の遮蔽剤として、部分的又は完全に中和された
形態であってもよいベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-
１０-ショウノウスルホン酸)を、組成物の全重量に対し
て０．１〜１５重量％と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、以
下に記載する式(Ｉ)の少なくとも一のアミノ置換２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体を、組成物の全重量に対
して０．１〜１５重量％；含有せしめてなり、該第１及
び第２の遮蔽剤が付与される日光保護ファクターに関し
て相乗活性を生じるような割合で存在していることを特
徴とする、局所使用される新規の化粧品用又は皮膚科学
的組成物を提供することにある。
【０００６】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図し
た化粧品用組成物の調製における、このような組成物の
使用にある。本発明の他の主題事項は、付与される日光
保護ファクターに関して相乗効果を生じせしめる目的
で、部分的又は完全に中和された形態であってもよい少
なくとも一のベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-
ショウノウスルホン酸)を含有し、太陽光線等の紫外線
から、皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化
粧品用又は皮膚用組成物の調製における、式(Ｉ)のアミ
ノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体の使用にあ
る。本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な
記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【０００７】ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-
ショウノウスルホン酸)とその様々な塩類は、特に仏国
特許出願公開第２５２８４２０号及び同２６３９３４７
号に開示され、２８０〜４００ｎｍの波長の紫外線を吸
収することができ、３２０〜４００ｎｍの間、特に約３
４５ｎｍに最大吸収帯域を持つそれ自体既に知られてい
る遮蔽剤(「広帯域」遮蔽剤)である。これらの遮蔽剤
は、次の式(ＩＩ)： ｛上式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属、ＮＨ(Ｒ)３ ＋
基(ここで、Ｒ基は同一でも異なっていてもよく、水素
原子、又はＣ１-Ｃ４アルキル又はヒドロキシアルキル
基あるいはＭｐ＋／ｐ(ここで、Ｍｐ＋は、ｐが２又は
３又は４に等しい多価金属カチオンで、Ｍｐ＋は好まし
くはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ ２＋、Ａｌ
３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオンである）を
表す｝に相当する。上述した式(ＩＩ)の化合物は一又は
複数の二重結合の周りに「シス−トランス」異性体を生
じ、全ての異性体が本発明の範囲にあることは明らかに
理解される。
【０００８】ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-
ショウノウスルホン酸)及びその様々な塩類は、組成物
の全重量に対して、一般に約１〜１０重量％、特に２重
量％〜８重量％の範囲の割合で、本発明の組成物に存在
することが好ましい。
【０００９】本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体は、次の式(Ｉ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
で；Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
１０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
１-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
択される水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯ
Ｒ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７
は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アル
キル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロ
アルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)
Ｏ-Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-
(ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-ＣＨ３-ＣＨ２-
を示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、-
ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ
３を表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜
３で変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数で
ある]に相当するものである。
【００１０】Ｃ１-Ｃ２０アルキル基としては、例え
ば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、
ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、
１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチ
ル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチ
ルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-
ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチ
ルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、
４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジ
メチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチル
ブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチ
ル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-ト
リメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-
エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチ
ル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシ
ル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシ
ル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデ
シル、ｎ-ノナデシル又はｎ-イコシル(icosyl)を挙げる
ことができる。
【００１１】Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基としては、例え
ば：ビニル、ｎ-プロペニル、イソプロペニル、１-ブテ
ニル、２-ブテニル、１-ペンテニル、２-ペンテニル、
２-メチル-１-ブテニル、２-メチル-２-ブテニル、３-
メチル-１-ブテニル、１-ヘキセニル、２-ヘキセニル、
１-ヘプテニル、２-ヘプテニル、１-オクテニル又は２-
オクテニルを挙げることができる。Ｃ１-Ｃ１２アルコ
キシ基としては：メトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキ
シ、ｎ-ブトキシ、ｎ-ペントキシ、１-メチルプロポキ
シ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、
１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、２-メチ
ルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキ
シ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げること
ができる。
【００１２】Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基としては、
例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシク
ロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシ
クロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチル
シクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピ
ル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エ
チルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又
はシクロデシルを挙げることができる。
【００１３】一又は複数の二重結合を有するＣ３-Ｃ
１０シクロアルケニル基としては：シクロプロペニル、
シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエ
ニル、シクロヘキセニル、１,３-シクロヘキサジエニ
ル、１,４-シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、
シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１,５-シ
クロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シク
ロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
シクロアルキル又はシクロアルケニル基は、例えば塩
素、フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；ア
ミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキ
ルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；
又はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましく
は１〜３)の置換基を有し得る。それらは、そのフリー
の結合価が水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基により占有さ
れ得る、１〜３のヘテロ原子、例えば硫黄、酸素又は窒
素をさらに有してもよい。
【００１４】アリール基は、好ましくは、例えば塩素、
フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミ
ノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキル
アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又
はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは
１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環か
ら選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフ
ェニル及びナフチルである。ヘテロアリール基は、一般
的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数の
ヘテロ原子を含有する。
【００１５】水溶性基は、例えばカルボキシラート又は
スルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容
可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はト
リアルキルアンモニウム塩、例えばトリ(ヒドロキシア
ルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール
-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、
例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に
許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもでき
る。Ｒ１及びＲ２基と窒素原子とで形成される５-又は
６員環の例としては、特にピロリドン又はピペリジンを
挙げることができる。アミノ基は、カルボニル基に対し
てオルト、メタ又はパラ位、好ましくはパラ位におい
て、ベンゼン環に結合可能である。
【００１６】式(Ｉ)の好ましい化合物のファミリーに
は、次の式(Ｉａ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれ
らが結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を
形成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；
Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ
６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異
なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるものが
含まれる。式(Ｉａ)の特に好ましい化合物は：Ｒ１及び
Ｒ２が同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、
特にエチルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示
し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８
アルキル基を示す；ものである。
【００１７】式(Ｉ)の好ましい化合物の他のファミリー
には、次の式(Ｉｂ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]から選択
されるものが含まれる。式(Ｉｂ)の化合物としては、特
に： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
トン、 を挙げることができる。
【００１８】式(Ｉ)の特に好ましい化合物のファミリー
には、次の式(Ｉｃ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれら
が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
成し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又は
Ｃ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるもの
が含まれる。式(Ｉｃ)の化合物としては： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸イソブチル を挙げることができる。特に好ましい式(Ｉ)の化合物
は、２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシルである。
【００１９】上述した式(Ｉ)の化合物はそれ自体公知で
あり、それらの構造及び合成法は、欧州特許出願公開第
１０４６３９１号及び独国特許第１００１２４０８号
(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されてい
る。本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン
誘導体は、組成物の全重量に対して、好ましくは１〜１
０重量％、より好ましくは２〜８重量％の範囲の割合
で、本発明の組成物に存在している。
【００２０】本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び／又はＵ
Ｖ-Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ遮蔽剤(吸
収剤)をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は水溶性、脂
溶性又は通常使用されている化粧品用溶媒に不溶であ
る。付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート
類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；化合物(ＩＩ)
以外のショウノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米
国特許第４３６７３９０号、欧州特許第８６３１４５
号、欧州特許第５１７１０４号、欧州特許第５７０８３
８号、欧州特許第７９６８５１号、欧州特許第７７５６
９８号、欧州特許第８７８４６９号及び欧州特許第９３
３３７６号に開示されているもの；式(Ｉ)以外のベンゾ
フェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導
体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘
導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン類；欧
州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４
号に開示されているようなビスベンゾアゾリル誘導体；
ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；米国特許第５２
３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許
出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１
８４号及び欧州特許第８９３１１９号に開示されている
ようなメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリア
ゾール)誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類、
例えば特に国際公開９３／０４６６５号に開示されてい
るもの；α-アルキルスチレンから誘導された二量体、
例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に開示されて
いるもの；及び欧州特許出願第０９６７２００号、独国
特許出願第１９７４６６５４号、独国特許出願第１９７
５５６４９号及び欧州特許出願公開第１００８５８６号
に開示されているような４,４-ジアリールブタジエン類
から選択される。
【００２１】ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のあ
る付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下
に示すものが挙げられる：パラ-アミノ安息香酸誘導体 ： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称
で販売されているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００２２】サリチル酸誘導体： − ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーから「ユーソレッ
クス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサ
ラート(Homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているサリチル酸エチルヘキシル、 − スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２３】ジベンゾイルメタン誘導体： − ホフマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パ
ルソール(Parsol)1789」の商品名で販売されているブチ
ル-メトキシジベンゾイルメタン、 − イソプロピルジベンゾイルメタン。ケイ皮酸誘導体 ： − 特にホフマン-ラロシュ社から「パルソールＭＣ
Ｘ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチル
ヘキシル、 − メトキシケイ皮酸イソプロピル、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
Ｅ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮
酸イソアミル、 − シノキサート(Cinoxate)、 − ＤＥＡメトキシシンナマート、 − メチルケイ皮酸ジイソプロピル、 − グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシン
ナマート。
【００２４】β,β-ジフェニルアクリラート誘導体： − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名
で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で
販売されているエトクリレン(Etocrylene)。ベンゾフェノン誘導体 ： − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
【００２５】ベンジリデンショウノウ誘導体： − シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − メルク社(Merck)から「ユーソレックス６３００」
の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、 − シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。フェニルベンゾイミダゾール誘導体 ： − 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品
名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホ
ン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００２６】トリアジン誘導体： − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブ(Tinosorb)Ｓ」の商品名で販売されているアニソトリ
アジン、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名
で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、 − シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasor
b)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシル
ブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン。フェニルベンゾトリアゾール誘導体 ： − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、 − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブＭ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態の
ものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル社から
「ミキシムＢＢ／１００」の商品名で固体形態のものと
して販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル
テトラメチルブチルフェノール)。
【００２７】アントラニル誘導体： − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。イミダゾリン誘導体 ： − エチルヘキシル-ジメトキシベンジリデン-ジオキソ
イミダゾリン-プロピオナート。ベンザルマロナート誘導体 ： − ホフマン-ラロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン、及びそれらの混合物。
【００２８】特に好ましい溶解性の有機ＵＶ遮蔽剤は次
の化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
チルフェノール)、 及びそれらの混合物、から選択される。
【００２９】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔
料類をさらに含有してもよい。また、従来のコーティン
グ剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム
である。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナ
ノ顔料類は、特に、欧州特許出願公開第０５１８７７２
号及び欧州特許出願公開第０５１８７７３号に開示され
ている。また、本発明の組成物は、皮膚を人工的にサン
タン状態にする、及び／又は褐色にするための薬剤(自
己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)
をさらに含有してもよい。
【００３０】また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、
有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、
酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロ
キシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香
料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰア
ンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性
又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルション
の形態の抗日光組成物の製造において通常使用されてい
る任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用ア
ジュバントをさらに含有してもよい。
【００３１】脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物
からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の
化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語
は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点
が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解され
る。それらは脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は
環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト
酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。油とし
ては、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイート
アルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種油又は
ホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂
肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル類(例えばファ
インテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)
ＴＮ」の商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５安息香
酸アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプ
ロピル、又はカプリン酸／カプリル酸のものを含むトリ
グリセリド)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピ
レン化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油
(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン又はＰＤ
ＭＳ類)；フッ化油；又はポリアルキレン類を挙げるこ
とができる。ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、
カルナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げるこ
とができる。有機溶媒としては、低級アルコール及びポ
リオールを挙げることができる。もちろん、当業者であ
れば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に相乗効
果が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質
的に受けないように留意して、これらの任意の付加的な
化合物及び／又はその量を選択するであろう。
【００３２】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／
Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリー
ム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固体
状チューブの形態で提供することができ、また、任意に
エアゾールとして包装されてもよく、フォーム又はスプ
レーの形態で提供されてもよい。エマルションである場
合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム
(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキン
ス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許
第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］
により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有して
もよい。
【００３３】本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒ
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することが
できる。
【００３４】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛
髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプ
ー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の
小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例え
ばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、及
びパーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の
前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、
スタイリング又はトリートメント用のローション又はス
タイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又
は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネ
ントウエーブ処理もしくは毛髪のストレート化、染色又
は脱色のための組成物を構成し得る。組成物が、まつ
げ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮
用トリートメントクリーム、ファンデーション、チュー
ブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ
又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水
又は水性で固体状又はペースト状の形態、例えば、水中
油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体
分散液又は懸濁液として提供され得る。
【００３５】指針として、水中油型エマルション型のビ
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００３６】以下に本発明を例証するための実施例を付
与するが、これに限定されるものではない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 7/032 Ａ６１Ｋ 7/032 7/48 7/48 Ｆターム(参考） 4C083 AB211 AB231 AB241 AC072 AC122 AC182 AC211 AC311 AC351 AC352 AC422 AC542 AC551 AC552 AC782 AC851 AD042 AD092 AD152 AD161 AD282 AD531 AD532 CC01 CC12 CC14 CC19 DD17 DD23 DD31 DD35 DD39 DD41 EE17

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能なビヒクル中に少な
    くとも： (ａ)第１の遮蔽剤として、部分的又は完全に中和された
    形態であってもよい、ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデ
    ン-１０-ショウノウスルホン酸)を、組成物の全重量に
    対して０．１〜１５重量％と、(ｂ)次の式(Ｉ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
    基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
    ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
    ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
    で；Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
    ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
    １０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
    基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
    シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
    １-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
    リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
    ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
    択される水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯ
    Ｒ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７
    は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アル
    キル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロ
    アルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)
    Ｏ-Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-
    (ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-ＣＨ３-ＣＨ２-
    を示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、-
    ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ
    ３を表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜
    ３で変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数で
    ある]の少なくとも一のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
    フェノン誘導体を、組成物の全重量に対して０．１〜１
    ５重量％含有せしめてなり；前記第１及び第２の遮蔽剤
    が本発明組成物中に、付与される日光保護ファクターに
    関して相乗活性を生じる割合で存在していることを特徴
    とする、局所使用される化粧品用又は皮膚用組成物。
  2. 【請求項２】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉａ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれら
    が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
    成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ
    ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ６
    シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異な
    っており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ５-
    Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される請
    求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 式(Ｉａ)の化合物が：Ｒ１及びＲ２は同
    一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、特にエチ
    ルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示し；Ｒ６及
    びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル基
    を示す、請求項２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉｂ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
    Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
    窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]のものか
    ら選択される請求項１に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 式(Ｉｂ)の化合物が： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
    ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
    トン、から選択される請求項４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉｃ)： [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれらが
    結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形成
    し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
    ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される
    請求項１に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 式(Ｉｃ)の化合物が： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
    ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸イソブチル から選択される請求項６に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 式(Ｉｃ)の化合物が、２-(４-ジエチル
    アミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル
    である請求項７に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベン
    ゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に対
    して０．１重量％〜１５重量％の範囲の割合で存在して
    いる請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベ
    ンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に
    対して１重量％〜１０重量％の範囲の割合で存在してい
    る請求項９に記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベ
    ンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に
    対して２重量％〜８重量％の範囲の割合で存在している
    請求項１０に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 第１の遮蔽剤が、次の式(ＩＩ)： [上式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属、ＮＨ(Ｒ)３ ＋
    基であり、ここで、Ｒ基は同一でも異なっていてもよ
    く、水素原子、又はＣ１-Ｃ４アルキル又はヒドロキシ
    アルキル基あるいはＭｐ＋／ｐを示し、ここで、Ｍｐ＋
    は、ｐが２又は３又は４に等しい多価金属カチオンで、
    Ｍｐ＋は好ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂ
    ａ２＋、Ａｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオ
    ンである]に相当するものであることを特徴とする請求
    項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１
    ０-ショウノウスルホン酸)が、組成物の全重量に対し
    て、１重量％〜１０重量％の範囲の含有量で存在してい
    る請求項１２に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１
    ０-ショウノウスルホン酸)が、組成物の全重量に対し
    て、２重量％〜８重量％の範囲の含有量で存在している
    請求項１３に記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性
    のある他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴
    とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の組成
    物。
  16. 【請求項１６】 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類
    が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸
    誘導体；式(ＩＩ)の化合物以外のショウノウ誘導体；ト
    リアジン誘導体；式(Ｉ)のもの以外のベンゾフェノン誘
    導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾト
    リアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾ
    イミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾ
    リル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メ
    チレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘
    導体；遮蔽ポリマー類及び遮蔽シリコーン類；α-アル
    キルスチレンから誘導された二量体；及び４,４-ジアリ
    ールブタジエン類から選択される請求項１５に記載の組
    成物。
  17. 【請求項１７】 有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類が、次の
    化合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − ブチルメトキシジベンゾイルメタン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
    ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
    ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
    チルフェノール)、 及びそれらの混合物、から選択されることを特徴とする
    請求項１６に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又
    はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求
    項１ないし１７のいずれか１項に記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
    被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウ
    ム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択される
    ことを特徴とする請求項１８に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
    及び／又は褐色にするための少なくとも一の薬剤をさら
    に含有することを特徴とする請求項１ないし１９のいず
    れか１項に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非
    イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカ
    ルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエン
    ト、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
    剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性
    剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラ
    ー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤又は着色
    料から選択される少なくとも一のアジュバントをさらに
    含有していることを特徴とする請求項１ないし２０のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 ヒトの表皮を保護するための組成物又
    は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水
    中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミル
    ク、ゲル、クリームゲル、縣濁液、分散液、パウダー、
    チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供さ
    れることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１
    項に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップ
    するための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又
    は固体状の形態、エマルション、縣濁液又は分散液の形
    態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２２の
    いずれか１項に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 紫外線から毛髪を保護するための組成
    物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
    ン又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるこ
    とを特徴とする請求項１ないし２２のいずれか１項に記
    載の組成物。
  25. 【請求項２５】 太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／
    又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用
    組成物の調製における、請求項１ないし２２のいずれか
    １項に記載の組成物の使用。
  26. 【請求項２６】 部分的又は完全に中和された形態であ
    ってもよいベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-シ
    ョウノウスルホン酸)を少なくとも含有し、太陽光線等
    の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図
    した化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、付与さ
    れる日光保護ファクターに関して相乗効果を生じせしめ
    るための、請求項１ないし８のいずれか１項に記載され
    たアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体の使
    用。
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