JP2003192559A - ジベンゾイルメタン誘導体型の遮蔽剤とアミノ置換２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を含有する遮蔽組成物 - Google Patents

ジベンゾイルメタン誘導体型の遮蔽剤とアミノ置換２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を含有する遮蔽組成物

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JP2003192559A JP2002357350A JP2002357350A JP2003192559A JP 2003192559 A JP2003192559 A JP 2003192559A JP 2002357350 A JP2002357350 A JP 2002357350A JP 2002357350 A JP2002357350 A JP 2002357350A JP 2003192559 A JP2003192559 A JP 2003192559A
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キャンドー ディディエ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ジベンゾイルメタンの誘導体の光安定性が改
善された組成物、及びその改善方法を提供する。 【解決手段】 化粧品的に許容可能なビヒクルに：(ａ)
ジベンゾイルメタン誘導体型のＵＶ遮蔽剤；及び(ｂ)次
の式(Ｉ)： 【化１】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は、水素原子、アルキル基等を
示し；また窒素原子と共同して５-又は６員環を形成可
能であり；Ｒ３及びＲ４は、アルキル基、アルケニル基
等を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６
Ｒ７基を示し；Ｒ ５、Ｒ６及びＲ７は、水素原子、アル
キル基等を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-(ＣＨ２)３-等を
示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３等を
表し；ｍは０〜３の整数であり；ｎは０〜３の整数であ
り；ｏは１〜２の整数である]のアミノ置換２-ヒドロキ
シベンゾフェノン誘導体を含有せしめるが、ｐ-メチル
ベンジリデンショウノウは含有せしめない。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、化粧品的に許容可
能な媒体ビヒクルに： (ａ)少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体型のＵ
Ｖ遮蔽剤； (ｂ)少なくとも１つの特定のアミノ置換２-ヒドロキシ
ベンゾフェノン誘導体； を含有することを特徴とし、ｐ-メチルベンジリデンシ
ョウノウを含有しない、局所使用される新規の化粧品用
又は皮膚用(皮膚科学的)組成物に関する。また本発明
は、有効量の少なくとも１つの特定のアミノ置換２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体とジベンゾイルメタン誘
導体とを組み合わせることことからなる、ｐ-メチルベ
ンジリデンショウノウを含有しない化粧品用又は皮膚用
組成物に存在する少なくとも１つの該ジベンゾイルメタ
ン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
褐色化し、特にＵＶ-Ｂ線の名称で知られている２８０
ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自
然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態
となったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並
びに美的理由から、自然なサンタンを調節して皮膚の色
をコントロールする手段が変わらず必要とされている；
よって、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽することが望ましい。
【０００３】また、皮膚を褐色化する３２０ｎｍと４０
０ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に好ましく
ない変化を引き起こすおそれがあることが知られてお
り、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌
の場合にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾
力性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の
老化に導く原因となるものである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑
反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応
を悪化させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえ
なる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を保持するとい
う美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚への
ＵＶ-Ａ線の影響をコントロールすることを望んでい
る。よって、ＵＶ-Ａ線も遮蔽することが望ましい。か
かる点に関し、現在特に有効な種類のＵＶ-Ａ遮蔽剤
は、高い固有の吸収力を有する故に、特に４-tert-ブチ
ル-４'-メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾ
イルメタン誘導体からなるとされる。これらジベンゾイ
ルメタン誘導体は、現在ではそれ自体、ＵＶ-Ａ領域に
活性のある遮蔽剤としてよく知られている生成物であ
り、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国
特許出願公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願
公開第０１１４６０７号に開示されている；さらに、４
-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンは、ホ
フマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パルソー
ル(Parsol)1789」の商品名で現在市販されている。
【０００４】残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体
は紫外線(特にＵＶ-Ａ線)に対して比較的敏感な生成
物、すなわち紫外線の影響下で多かれ少なかれ急速に分
解するという好ましくない傾向を有していることがわか
っている。しかして、ジベンゾイルメタン誘導体がその
性質上さらされることが予定されている紫外線に対して
光化学的安定性を大幅に欠いているため、太陽にさらさ
れている長い間、一定の保護性を保証することは不可能
であり、よって、使用者は、ＵＶ線から皮膚を有効に保
護するためには、短い時間をおいて規則的に繰り返し塗
布しなければならなかった。現時点においても、ジベン
ゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する光安定性の問題
は、完全に満足のいく程には解決されていない。他の付
加的な遮蔽剤、例えばジベンゾイルメタン誘導体をｐ-
メチルベンジリデンショウノウの存在下で含有可能なア
ミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体から形成
される抗日光組成物は、独国特許出願第１００１２４０
８号及び欧州特許出願第１０４６３９１号に開示されて
いる。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、本出願人は、驚くべきことに、有効量の少なくとも
１つの特定のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン
誘導体と上述したジベンゾイルメタン誘導体を組み合わ
せることにより、これら同様のジベンゾイルメタン誘導
体の光化学的安定性(又は光安定性)を有意にかつ顕著に
改善できることを見出した。よって、本発明の主題事項
の一つは、化粧品的に許容可能なビヒクルに： (ａ)少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体型のＵ
Ｖ遮蔽剤；及び(ｂ)以下に記載する式(Ｉ)の少なくとも
１つのアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導
体；を含有せしめてなることを特徴とする、局所使用さ
れる新規の化粧品用又は皮膚用組成物であって、ｐ-メ
チルベンジリデンショウノウを含有しない組成物を提供
するものである。また本発明は、有効量の少なくとも１
つの特定のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体とジベンゾイルメタン誘導体とを組み合わせること
からなる、ｐ-メチルベンジリデンショウノウを含有し
ない化粧品用又は皮膚用組成物における少なくとも１つ
の該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性
を改善する方法に関する。本発明において、「有効量の
アミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体」なる
用語は、光保護のための化粧品用組成物のジベンゾイル
メタン誘導体又は誘導体類の光安定性を、顕著にかつ有
意に改善するのに十分な量であることを意味すると理解
される。
【０００６】最後に、本発明の他の主題事項は、少なく
とも１つのジベンゾイルメタン誘導体を含有し、ｐ-メ
チルベンジリデンショウノウを含有しない化粧品用又は
皮膚用組成物の調製に使用され、式(Ｉ)のアミノ置換２
-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体からなる、該組成物
に存在する該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対す
る安定性を改善するための薬剤にある。この用いられる
光安定剤の最少量は、組成物に使用される化粧品的に許
容可能なビヒクルの性質に依存して変わりうるが、光安
定性を測定するための一般的な試験によって困難なく決
定することができる。本発明の他の特徴、側面及び利点
は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになる
であろう。
【０００７】ジベンゾイルメタン誘導体に対する２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体の重量比は、好ましくは
１を超える。
【０００８】本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
フェノン誘導体は、次の式(Ｉ)：
【化５】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
で、Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ
２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ
１０シクロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル
基、Ｃ１-Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキ
シカルボニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ
１-Ｃ１２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロア
リールで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシ
ラート基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選
択される水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯ
Ｒ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７
は同一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アル
キル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロ
アルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)
Ｏ-Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-
(ＣＨ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-ＣＨ２
-を示し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、
-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ
３を表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜
３で変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数で
ある]に相当するものである。
【０００９】Ｃ１-Ｃ２０アルキル基としては、例え
ば：メチル、エチル、ｎ-プロピル、１-メチルエチル、
ｎ-ブチル、１-メチルプロピル、２-メチルプロピル、
１,１-ジメチルエチル、ｎ-ペンチル、１-メチルブチ
ル、２-メチルブチル、３-メチルブチル、２,２-ジメチ
ルプロピル、１-エチルプロピル、ｎ-ヘキシル、１,１-
ジメチルプロピル、１,２-ジメチルプロピル、１-メチ
ルペンチル、２-メチルペンチル、３-メチルペンチル、
４-メチルペンチル、１,１-ジメチルブチル、１,２-ジ
メチルブチル、１,３-ジメチルブチル、２,２-ジメチル
ブチル、２,３-ジメチルブチル、３,３-ジメチルブチ
ル、１-エチルブチル、２-エチルブチル、１,２,２-ト
リメチルプロピル、１-エチル-１-メチルプロピル、１-
エチル-２-メチルプロピル、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチ
ル、ｎ-ノニル、ｎ-デシル、ｎ-ウンデシル、ｎ-ドデシ
ル、ｎ-トリデシル、ｎ-テトラデシル、ｎ-ペンタデシ
ル、ｎ-ヘキサデシル、ｎ-ヘプタデシル、ｎ-オクタデ
シル、ｎ-ノナデシル又はｎ-イコシル(icosyl)を挙げる
ことができる。
【００１０】Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基としては、例え
ば：ビニル、ｎ-プロペニル、イソプロペニル、１-ブテ
ニル、２-ブテニル、１-ペンテニル、２-ペンテニル、
２-メチル-１-ブテニル、２-メチル-２-ブテニル、３-
メチル-１-ブテニル、１-ヘキセニル、２-ヘキセニル、
１-ヘプテニル、２-ヘプテニル、１-オクテニル又は２-
オクテニルを挙げることができる。Ｃ１-Ｃ１２アルコ
キシ基としては：メトキシ、エトキシ、ｎ-プロポキ
シ、ｎ-ブトキシ、ｎ-ペントキシ、１-メチルプロポキ
シ、３-メチルブトキシ、２,２-ジメチルプロポキシ、
１-メチル-１-エチルプロポキシ、オクトキシ、２-メチ
ルプロポキシ、１,１-ジメチルプロポキシ、ヘキソキ
シ、ヘプトキシ又は２-エチルヘキソキシを挙げること
ができる。
【００１１】Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基としては、
例えば：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１-メチルシク
ロプロピル、１-エチルシクロプロピル、１-プロピルシ
クロプロピル、１-ブチルシクロプロピル、１-ペンチル
シクロプロピル、１-メチル-１-ブチルシクロプロピ
ル、１,２-ジメチルシクロプロピル、１-メチル-２-エ
チルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又
はシクロデシルを挙げることができる。一又は複数の二
重結合を有するＣ３-Ｃ１０シクロアルケニル基として
は：シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ
ニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１,
３-シクロヘキサジエニル、１,４-シクロヘキサジエニ
ル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シク
ロオクテニル、１,５-シクロオクタジエニル、シクロオ
クタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニル
を挙げることができる。シクロアルキル又はシクロアル
ケニル基は、例えば塩素、フッ素又は臭素等のハロゲ
ン；シアノ；ニトロ；アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミ
ノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキルアミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキ
ル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又はヒドロキシルから選択
される一又は複数(好ましくは１〜３)の置換基を有し得
る。それらは、そのフリーの結合手が水素又はＣ１-Ｃ
４アルキル基により占有され得る１〜３のヘテロ原子、
例えば硫黄、酸素又は窒素をまた含有し得る。
【００１２】アリール基は、好ましくは、例えば塩素、
フッ素又は臭素等のハロゲン；シアノ；ニトロ；アミ
ノ；Ｃ１-Ｃ４アルキルアミノ；ジ(Ｃ１-Ｃ４)アルキル
アミノ；Ｃ１-Ｃ４アルキル；Ｃ１-Ｃ４アルコキシ；又
はヒドロキシルから選択される一又は複数(好ましくは
１〜３)の置換基を有し得るフェニル又はナフチル環か
ら選択される。特に好ましくは、フェニル、メトキシフ
ェニル及びナフチルである。ヘテロアリール基は、一般
的に、硫黄、酸素又は窒素から選択される一又は複数の
ヘテロ原子を含有する。
【００１３】水溶性基は、例えばカルボキシラート又は
スルホナート基であり、特に、それらの生理学的に許容
可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はト
リアルキルアンモニウム塩、例えばトリ(ヒドロキシア
ルキル)アンモニウム又は２-メチルプロパン-１-オール
-２-アンモニウム塩である。さらに、アンモニウム基、
例えばアルキルアンモニウム、及びそれらの生理学的に
許容可能なアニオンとの塩の形態を挙げることもでき
る。Ｒ１及びＲ２基と窒素原子とで形成される５-又は
６員環の例としては、特にピロリドン又はピペリジンを
挙げることができる。アミノ基は、カルボニル基に対し
てオルト、メタ又はパラ位、好ましくはパラ位におい
て、ベンゼン環に結合可能である。
【００１４】式(Ｉ)の好ましい化合物のファミリーに
は、次の式(Ｉａ)：
【化６】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれ
らが結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を
形成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；
Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ
６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異
なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるものが
含まれる。式(Ｉａ)の特に好ましい化合物は：Ｒ１及び
Ｒ２は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、
特にエチルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示
し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８
アルキル基を示す；ものである。
【００１５】式(Ｉ)の好ましい化合物の他のファミリー
には、次の式(Ｉｂ)：
【化７】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]から選択
されるものが含まれる。式(Ｉｂ)の化合物としては、特
に： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
トン、 を挙げることができる。
【００１６】式(Ｉ)の特に好ましい化合物のファミリー
には、次の式(Ｉｃ)：
【化８】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
原子、又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれら
が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
成し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又は
Ｃ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]から選択されるもの
が含まれる。式(Ｉｃ)の化合物としては： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸イソブチル を挙げることができる。特に好ましい式(Ｉ)の化合物
は、２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
安息香酸ｎ-ヘキシルである。
【００１７】上述した式(Ｉ)の化合物はそれ自体公知で
あり、それらの構造及び合成は、欧州特許出願公開第１
０４６３９１号及び独国特許出願第１００１２４０８号
(本明細書の内容の一体部分を形成する)に開示されてい
る。本発明のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン
誘導体は、組成物の全重量に対して、好ましくは０．１
〜１５重量％、より好ましくは１〜１０重量％、特に２
〜８重量％の範囲の割合で、本発明の組成物に存在して
いる。
【００１８】上述したように、本発明で光安定化するこ
とを意図したジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既
によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国
特許第２３２６４０５号、仏国特許第２４４０９３３号
及び欧州特許第０１１４６０７号公報に開示されてお
り、それらは、これらの生成物の実際の定義に関して、
全てが本明細書に出典明示により含まれるものである。
もちろん、本発明においては、一又は複数のジベンゾイ
ルメタン誘導体を使用することができる。
【００１９】本発明の範囲に入るジベンゾイルメタン誘
導体としては、限定されるものではないが、特に： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 を挙げることができる。
【００２０】上述したジベンゾイルメタン誘導体の中で
も、特にホフマン-ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から
「パルソール(Parsol)1789」の商品名で販売されている
４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンが本
発明において特に好ましく使用され、この遮蔽剤は次の
展開式：
【化９】 に相当するものである。
【００２１】本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン
誘導体は４-イソプロピルジベンゾイルメタンで、この
遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusole
x)8020」の名前で販売されており、次の展開式：
【化１０】 に相当するものである。ジベンゾイルメタン誘導体又は
誘導体類は、組成物の全重量に対して好ましくは０．５
〜１５重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％、特に
２〜８重量％の含有量で本発明の組成物中に存在する。
【００２２】加えて、本発明の組成物は、ＵＶ-Ａ及び
／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある他の付加的な有機ＵＶ
遮蔽剤(吸収剤)をさらに含有可能であり、該遮蔽剤は、
水溶性、脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧
品用溶媒に不溶である。付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特
にアントラニラート類；サリチル酸誘導体；ケイ皮酸誘
導体；ｐ-メチルベンジリデンショウノウ以外のショウ
ノウ誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３
６７３９０号、欧州特許第８６３１４５号、欧州特許第
５１７１０４号、欧州特許第５７０８３８号、欧州特許
第７９６８５１号、欧州特許第７７５６９８号、欧州特
許第８７８４６９号及び欧州特許第９３３３７６号に開
示されているもの；上式(Ｉ)のもの以外のベンゾフェノ
ン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベン
ゾトリアゾール誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イ
ミダゾリン類；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；
メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)
誘導体、例えば米国特許第５２３７０７１号、米国特許
第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９
号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出
願第８９３１１９号に開示されているもの；遮蔽ポリマ
ー及び遮蔽シリコーン類、例えば特に国際公開第９３／
０４６６５号に開示されているもの；α-アルキルスチ
レンから誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９
８５５６４９号に開示されているもの；及び欧州特許出
願第０９６７２００号、独国特許出願第１９７４６６５
４号、独国特許出願第１９７５５６４９号及び欧州特許
出願公開第１００８５８６号に開示されている４,４-ジ
アリールブタジエン類から選択される。
【００２３】有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以
下に示すものが挙げられる：パラ-アミノ安息香酸誘導体 ： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチル-ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − 特に、ＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０
７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチル
ＰＡＢＡ、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＰ２５」の名称で販売さ
れているＰＥＧ-２５-ＰＡＢＡ。
【００２４】サリチル酸誘導体： − ロナ(Rona)／ＥＭインダストリーズから「ユーソレ
ックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモ
サラート(homosalate)、 − ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)
から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で
販売されているエチルヘキシルサリチラート、 − スケル社(Scher)から「ディピサル(Dipsal)」の名
称で販売されているジプロピレングリコールサリチラー
ト、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２５】ケイ皮酸誘導体： − 特にホフマン-ラ・ロシュ社から「パルソールＭＣ
Ｘ」の商品名で販売されているメトキシケイ皮酸エチル
ヘキシル、 − メトキシケイ皮酸イソプロピル、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
Ｅ１０００」の商品名で販売されているメトキシケイ皮
酸イソアミル、 − シンノキサート、 − ＤＥＡメトキシシンナマート、 − メチルケイ皮酸ジイソプロピル、 − グリセリル-エチルヘキサノアート-ジメトキシシン
ナマート。
【００２６】β,β-ジフェニルアクリラート誘導体： − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名
で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で
販売されているエトクリレン(Etocrylene)。ベンゾフェノン誘導体 ： − ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-１、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-２、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売
されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販
売されているベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisor
b)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-
６、 − アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社か
ら「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商
品名で販売されているベンゾフェノン-８、 − ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で
販売されているベンゾフェノン-９、 − ベンゾフェノン-１２。
【００２７】ベンジリデンショウノウ誘導体： − シメックス社(Chimex)から「メギゾリル(Mexoryl)
ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウ
ノウ、 − シメックス社から「メギゾリルＳＬ」の名称で製造
されているベンジリデンショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＯ」の名称で製造
されているメト硫酸ショウノウベンザルコニウム、 − シメックス社から「メギゾリルＳＸ」の名称で製造
されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − シメックス社から「メギゾリルＳＷ」の名称で製造
されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショ
ウノウ。フェニルベンゾイミダゾール誘導体 ： − 特にメルク社から「ユーソレックス２３２」の商品
名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホ
ン酸、 − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミ
ダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００２８】トリアジン誘導体： − チバ・スペシャリティー・ケミカルズ(Ciba Specialt
y Chemicals)から「チノソーブ(Tinosorb)Ｓ」の商品名
で販売されているアニソトリアジン、 − 特にＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名
で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、 − シグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasor
b)ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシル
ブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン。フェニルベンゾトリアゾール誘導体 ： − ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラト
リゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロ
メトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン、 − チバ・スペシャリティー・ケミカルズから「チノソー
ブＭ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態の
ものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(Fairmo
unt Chemical)から「ミキシム(Mixxim)ＢＢ／１００」
の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレ
ンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノ
ール)。
【００２９】アントラニル誘導体： − ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパン
ＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチ
ル。イミダゾリン誘導体 ： − エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイ
ミダゾリンプロピオナート。ベンザルマロナート誘導体 ： − ホフマン-ラ・ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の
商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有
するポリオルガノシロキサン。４,４-ジアリールブタジエン誘導体： − -１,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-
４,４-ジフェニルブタジエン、 及びそれらの混合物。
【００３０】特に好ましい有機ＵＶ遮蔽剤は次の化合
物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
ナトリウム − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
チルフェノール)、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-
４,４-ジフェニルブタジエン、及びそれらの混合物、 から選択される。
【００３１】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料類(一次粒子
の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは
１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体、ＵＶ光保護
剤としてよく知られている酸化チタン(アモルファス、
又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、
酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムから形成
されるナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、従来
のコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン酸
アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金
属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州特許出願公
開第０５１８７７２号及び欧州特許出願公開第０５１８
７７３号に開示されている。また、本発明の組成物は、
皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び／又は褐色に
するための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシ
アセトン(ＤＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００３２】また本発明の組成物は、特に、脂肪物質、
有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、
酸化防止剤、フリーラジカルに抗するための薬剤、乳白
剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α-ヒドロ
キシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香
料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰア
ンタゴニスト、フィラー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性
又は酸性化剤、着色料、又は化粧品、特にエマルション
の形態の抗日光組成物の製造において通常使用されてい
る任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用ア
ジュバントをさらに含有してもよい。
【００３３】脂肪物質は油又はロウ又はそれらの混合物
からなり得る。「油」という用語は、周囲温度で液状の
化合物を意味すると理解される。「ロウ」という用語
は、周囲温度で固体又は実質的に固体であり、その融点
が一般的に３５℃を越える化合物を意味すると理解され
る。それらは脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は
環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト
酸及びヒドロキシ安息香酸の誘導体を含み得る。油とし
ては、鉱物性油(流動パラフィン)；植物性油(スイート
アルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種油又は
ホホバ油)；合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂
肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル類(例えばファ
インテックス社(Finetex)から「フィンソルブ(Finsolv)
ＴＮ」の商品名で販売されているＣ１２-Ｃ１５安息香
酸アルキル、パルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプ
ロピル、カプリン酸／カプリル酸のものを含むトリグリ
セリド)、又はオキシエチレン化又はオキシプロピレン
化された脂肪エステル及びエーテル；シリコーン油(シ
クロメチコーン、ポリジメチルシロキサン又はＰＤＭＳ
類)；フッ化油；又はポリアルキレン類を挙げることが
できる。ロウ状化合物としては、パラフィンロウ、カル
ナウバロウ、ミツロウ又は硬化ヒマシ油を挙げることが
できる。有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオ
ールを挙げることができる。もちろん、当業者であれ
ば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に光安定性
が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的
に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化
合物及び／又はその量を選択するであろう。
【００３４】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製され得る。これらの組成物
は、特に、単一又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／
Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリー
ム、ミルク、ゲル又はクリームゲル、パウダー又は固体
状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾ
ールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの
形態で提供されてもよい。エマルションである場合、こ
のエマルションの水相は、公知の方法［バンガム(Bangh
am)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watk
ins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３
１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により
調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよ
い。
【００３５】本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒ
トの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日
光組成物として又はメークアップ製品として使用するこ
とができる。本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として
使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又
は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又
はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エ
アゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することが
できる。
【００３６】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線から毛
髪を保護するために使用される場合、それは、シャンプ
ー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の
小胞体分散液の形態で提供することができ、また、例え
ばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パ
ーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化処理の前、
処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタ
イリング又はトリートメント用のローション又はスタイ
リング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛
髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネント
ウエーブ処理、毛髪のストレート化、染色又は脱色のた
めの組成物を構成し得る。組成物が、まつげ、眉毛又は
皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメ
ントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、ア
イシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライ
ナーとして使用される場合、それは無水又は水性で固体
状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水
型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁
液として提供され得る。
【００３７】指針として、水中油型エマルション型のビ
ヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００３８】本記載の最初に挙げたように、本発明の主
題事項は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛
髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物
の調製における上述した組成物の用途にある。本発明の
他の主題事項は、有効量の少なくとも１つのアミノ置換
２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体とジベンゾイルメ
タン誘導体とを組み合わせることことからなる、少なく
とも１つの該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対す
る安定性を改善する方法に関する。また本発明の他の主
題事項は、少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体
タイプのＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成
物の調製における、上述した式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒ
ドロキシベンゾフェノン誘導体の、該ジベンゾイルメタ
ン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための使用
にある。すなわち、式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシ
ベンゾフェノン誘導体からなる、ジベンゾイルメタン誘
導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための薬剤にあ
る。
【００３９】
【実施例】以下に本発明を例証する具体的であるが限定
するものではない実施例を記載する。
【表１】
【００４０】
【表２】
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/40 Ａ６１Ｋ 31/40 Ａ６１Ｐ 17/16 Ａ６１Ｐ 17/16 Ｆターム(参考） 4C076 AA06 AA16 AA29 BB31 CC19 DD37 DD38 DD39 DD40 DD41 DD45 DD46 DD50 DD51 DD63 EE09 EE23 EE27 EE32 EE54 4C083 AA122 AB212 AB231 AB241 AC031 AC072 AC122 AC172 AC182 AC211 AC212 AC291 AC311 AC341 AC342 AC392 AC471 AC531 AC542 AC551 AC552 AC851 AC902 AD092 AD151 AD152 AD282 BB01 BB11 BB21 BB23 BB31 BB41 BB44 BB46 BB47 BB48 BB51 CC19 CC31 CC38 DD08 DD17 DD21 DD27 DD31 DD33 DD35 DD39 DD41 DD45 EE17 EE29 4C086 AA01 BC07 MA01 MA02 MA03 MA04 MA05 MA28 NA03 NA05 ZA89 4C206 AA01 FA31 MA01 MA02 MA03 MA04 MA05 MA48 NA03 NA05 ZA89

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能なビヒクルに： (ａ)少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体型のＵ
    Ｖ遮蔽剤；及び(ｂ)次の式(Ｉ)： 【化１】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル
    基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルキル基又はＣ３-Ｃ１０シク
    ロアルケニル基を示し；Ｒ１及びＲ２はそれらが結合し
    ている窒素原子と共同して、５-又は６員環を形成可能
    で、 Ｒ３及びＲ４は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ２０ア
    ルキル基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シク
    ロアルキル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、Ｃ１-
    Ｃ１２アルコキシ基、(Ｃ１-Ｃ２０)アルコキシカルボ
    ニル基、Ｃ１-Ｃ １２アルキルアミノ基、ジ(Ｃ１-Ｃ
    １２)アルキルアミノ基、アリール基又はヘテロアリー
    ルで、置換されていてもよいもの、又はカルボキシラー
    ト基、スルホナート基又はアンモニウム残基から選択さ
    れる水溶性置換基を示し；Ｘは水素原子又はＣＯＯＲ５
    又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は同
    一又は異なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ２０アルキル
    基、Ｃ２-Ｃ１０アルケニル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアル
    キル基、Ｃ３-Ｃ１０シクロアルケニル基、-(ＹＯ)Ｏ-
    Ｚ基又はアリール基を示し；Ｙは-(ＣＨ２)２-、-(ＣＨ
    ２)３-、-(ＣＨ２)４-又は-ＣＨ-(ＣＨ３)-ＣＨ２-を示
    し；Ｚは-ＣＨ２-ＣＨ３、-ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、-ＣＨ
    ２-ＣＨ２-ＣＨ２-ＣＨ３又は-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ３を
    表し；ｍは０〜３で変化する整数であり；ｎは０〜３で
    変化する整数であり；ｏは１〜２で変化する整数であ
    る]の少なくとも１つのアミノ置換２-ヒドロキシベンゾ
    フェノン誘導体；を含有せしめ、ｐ-メチルベンジリデ
    ンショウノウを含有せしめないことを特徴とする、局所
    使用される化粧品用又は皮膚用組成物。
  2. 【請求項２】 ジベンゾイルメタン誘導体に対する式
    (Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体
    の重量比が１を超える請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉａ)： 【化２】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、又はＣ１-Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれ
    らが結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を
    形成し；ＸはＣＯＯＲ５又はＣＯＮＲ６Ｒ７基を示し；
    Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ３-Ｃ
    ６シクロアルキル基を示し；Ｒ６及びＲ７は同一又は異
    なっており、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又はＣ
    ５-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択される
    請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 式(Ｉａ)の化合物が：Ｒ１及びＲ２は同
    一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ４アルキル基、特にエチ
    ルを示し；Ｒ５がＣ３-Ｃ８アルキル基を示し；Ｒ６及
    びＲ７は同一又は異なっており、Ｃ１-Ｃ８アルキル基
    を示す；である請求項３に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉｂ)： 【化３】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、Ｃ１-
    Ｃ１２アルキル基を示すか、又はそれらが結合している
    窒素原子と共同して５-又は６員環を形成する]のものか
    ら選択される請求項１又は２に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 式(Ｉｂ)の化合物が： − ４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニ
    ルケトン、 − ４-ピロリジノ-２-ヒドロキシフェニル-フェニルケ
    トン、 から選択される請求項５に記載の組成物。
  7. 【請求項７】 式(Ｉ)の化合物又は化合物類が、次の式
    (Ｉｃ)： 【化４】 [上式中：Ｒ１及びＲ２は同一又は異なっており、水素
    原子、又はＣ１-Ｃ８アルキル基を示すか、又はそれら
    が結合している窒素原子と共同して５-又は６員環を形
    成し；Ｒ５は、水素原子、Ｃ１-Ｃ１２アルキル基又は
    Ｃ３-Ｃ６シクロアルキル基を示す]のものから選択され
    る請求項１又は２に記載の組成物。
  8. 【請求項８】 式(Ｉｃ)の化合物が： − ２-(４-ピロリジノ-２-ヒドロキシベンゾイル)ベン
    ゾアート − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸２-エチルヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸シクロヘキシル − ２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸ｎ-ヘキシル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    ベンゾアート − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸メチル − ２-(４-ジブチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)
    安息香酸イソブチル から選択される請求項７に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 式(Ｉｃ)の化合物が、２-(４-ジエチル
    アミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)安息香酸ｎ-ヘキシル
    である請求項８に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベ
    ンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に
    対して０．１〜１５重量％の範囲の割合で存在している
    ことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記
    載の組成物。
  11. 【請求項１１】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベ
    ンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に
    対して１〜１０重量％の範囲の割合で存在している請求
    項１０に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロキシベ
    ンゾフェノン誘導体又は誘導体類が、組成物の全重量に
    対して２〜８重量％の範囲の割合で存在している請求項
    １１に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物
    の全重量に対して０．５〜１５重量％の範囲の含有量で
    存在している請求項１ないし１２のいずれか１項に記載
    の組成物。
  14. 【請求項１４】 ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物
    の全重量に対して１〜１０重量％の範囲の含有量で存在
    している請求項１３に記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物
    の全重量に対して２〜８重量％の範囲の含有量で存在し
    ている請求項１４に記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性
    のある他の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴
    とする請求項１ないし１５のいずれか１項に記載の組成
    物。
  17. 【請求項１７】 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類
    が、アントラニラート類；ケイ皮酸誘導体；サリチル酸
    誘導体；ｐ-メチルベンジリデンショウノウ以外のショ
    ウノウ誘導体：式(Ｉ)のもの以外のベンゾフェノン誘導
    体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリ
    アゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイ
    ミダゾール誘導体；イミダゾリン類；ビスベンゾアゾリ
    ル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチ
    レンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導
    体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン類；α-アルキル
    スチレンから誘導された二量体；及び４,４-ジアリール
    ブタジエンから選択される請求項１６に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 有機ＵＶ遮蔽剤又は遮蔽剤類が次の化
    合物： − サリチル酸エチルヘキシル、 − メトキシケイ皮酸エチルヘキシル、 − オクトクリレン、 − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、 − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、 − ベンゾフェノン-３、 − ベンゾフェノン-４、 − ベンゾフェノン-５、 − ４-メチルベンジリデンショウノウ、 − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二
    ナトリウム、 − アニソトリアジン、 − エチルヘキシルトリアゾン、 − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、 − ２,４,６-トリス(ジイソブチル-４'-アミノベンザ
    ルマロナート)-ｓ-トリアジン、 − メチレンビス(ベンゾトリアゾリルテトラメチルブ
    チルフェノール)、 − ドロメトリゾールトリシロキサン、 − １,１-ジカルボキシ(２,２'-ジメチルプロピル)-
    ４,４-ジフェニルブタジエン、及びそれらの混合物、か
    ら選択されることを特徴とする請求項１６に記載の組成
    物。
  19. 【請求項１９】 被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又
    はナノ顔料をさらに含有していることを特徴とする請求
    項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
    被覆の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウ
    ム又は酸化セリウム及びそれらの混合物から選択される
    ことを特徴とする請求項１９に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
    及び／又は褐色にするための少なくとも１つの薬剤をさ
    らに含有することを特徴とする請求項１ないし２０のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非
    イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカ
    ルに抗するための薬剤、乳白剤、安定剤、エモリエン
    ト、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
    剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性
    剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラ
    ー、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤又は着色
    料から選択される少なくとも１つのアジュバントをさら
    に含有していることを特徴とする請求項１ないし２１の
    いずれか１項に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 ヒトの表皮を保護するための組成物又
    は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、水
    中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミル
    ク、ゲル、クリームゲル、縣濁液、分散液、パウダー、
    チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供さ
    れることを特徴とする請求項１ないし２２のいずれか１
    項に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 まつげ、眉毛又は皮膚をメークアップ
    するための組成物であり、無水又は水性、ペースト状又
    は固体状の形態、エマルション、縣濁液又は分散液の形
    態で提供されることを特徴とする請求項１ないし２２の
    いずれか１項に記載の組成物。
  25. 【請求項２５】 紫外線から毛髪を保護するための組成
    物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルショ
    ン又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるこ
    とを特徴とする請求項１ないし２２のいずれか１項に記
    載の組成物。
  26. 【請求項２６】 太陽光線等の紫外線から、皮膚及び／
    又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用
    組成物の調製における、請求項１ないし２２のいずれか
    １項に記載の組成物の使用。
  27. 【請求項２７】 ｐ-メチルベンジリデンショウノウを
    含有しない化粧品用又は皮膚用組成物中における少なく
    とも１つのジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する
    安定性を改善する方法であって、請求項１ないし２６の
    いずれか１項に記載の有効量の少なくとも１つのアミノ
    置換２-ヒドロキシベンゾフェノン誘導体を、前記ジベ
    ンゾイルメタン誘導体と組み合わせることからなる方
    法。
  28. 【請求項２８】 少なくとも１つのジベンゾイルメタン
    誘導体を含有し、ｐ-メチルベンジリデンショウノウを
    含有しない化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、
    組成物に存在する該ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線
    に対する安定性を改善するための、請求項１ないし２７
    のいずれか１項に記載の式(Ｉ)のアミノ置換２-ヒドロ
    キシベンゾフェノン誘導体の使用。
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