JP2004526665A - ジベンゾイルメタン誘導体とα−アルキルスチレン二量体を含む組成物、UV安定化法 - Google Patents
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Abstract
本発明は局所使用用、特に皮膚と毛髪の日光からの保護のための化粧品又は製薬用組成物に関する。本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタンから誘導されたUV遮蔽剤と、(b)0.1〜20重量%の特定のα−アルキルスチレン二量体を含有することを特徴とする。本発明はまたジベンゾイルメタン誘導体に有効量の少なくとも一つの特定のα−アルキルスチレン二量体を組合せることからなる、紫外線に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を増大させるための新規な方法にも関する。
Description
【0001】
本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタン−ベース型のUV遮蔽剤と、
(b)0.1〜20重量%の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される化粧品用又は皮膚科学的組成物に関する。
本発明は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、有効量の少なくとも1つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を組合せてなる、UV線に対する少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための新規な方法に関する。
【0002】
280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にUV−B線として知られている280nmと320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている。よって、このUV−B線は遮蔽するべきである。
【0003】
また、皮膚を褐色にする320nmと400nmの間の波長を有するUV−A線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。UV−A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV−A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。しかして、例えば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV−A線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV−A線も遮蔽することが望ましい。
【0004】
かかる点に関し、現在特に有効な種類のUV−A遮蔽剤はジベンゾイルメタン誘導体、特に4−tert−ブチル−4−’メトキシジベンゾイルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するものである。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそれ自体、UV−A領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第2326405号及び仏国特許公開第2440933号、並びに欧州特許出願公開第0114607号に記載されている;さらに、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン−ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で現在市販されている。
【0005】
しかしながら、、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特にUV−A)に比較的敏感な生成物である、すなわち、より特定的には、この生成物は、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有していることが知見されている。よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらされることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に保護し続けることはできず、よって、使用者は、UV線から皮膚を有効に保護するためには、短い時間で規則的に繰り返し塗布しなければならなかった。
ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する光安定性の問題は、必ずしも完全には満足のいく程には解決されていない。
【0006】
本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタン誘導体に、以下に定義する少なくとも1つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せると、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善することができることを見出した。
よって、本発明の主題は、化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタン−ベース型のUV遮蔽剤と、
(b)0.1〜20重量%の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される、新規な化粧品用又は皮膚科学的組成物を提案することにある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも1つの以下に定義する式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せてなることを特徴とする、UV線(約280nmと400nmの間の波長)に対しジベンゾイルメタン誘導体を安定化する新規な方法にある。
【0007】
本発明において、「有効量のα−アルキルスチレン−ベース二量体」という表現は、光安定性化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を大幅にかつ有意に改善するのに十分な量を意味する。使用される光安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に依存して変わり得るが、以下に実施例に記載するように、光安定性を測定する一般的な試験法によって何ら困難なく測定することができる。
最後に、本発明の主題は、含有されるジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製において、以下に定義する式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体を使用することにある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
【0008】
本発明のα−アルキルスチレン−ベース二量体化合物は、次の式(I):
[上式中:
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、OH、NH2、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC1−C12アルコキシ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12モノアルキルアミノ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12ジアルキルアミノ基又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、基COOR6、COR6、CONR6R7又はCNを示し;
− R5は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− R6及びR7は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC2−C10アルケニル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルキル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルケニル基;C6−C18アリール又はC4−C7ヘテロアリールを示し;該シクロアルキル、シクロアルケニル及びアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、C1−C4モノアルキルアミノ基、C1−C4ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、C1−C4アルキル基及びC1−C4アルコキシ基から選択される一又は複数の置換基を含有可能であり;該シクロアルキル及びシクロアルケニル基は一又は複数のヘテロ原子(例えばO、N又はS)を含有可能であり;
− AはO、S又はNR8基を示し;
− R8は水素又は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− Bは[X]n−Y−基;C9−C21モノオキソアラルキレン基;C8−C22アラルキレン基;分枝状又は非分枝状のC4−C12シクロアルキレン基;又はCOO−C1−C6−アシル、COOH、CN、NH−C1−C6−アシル、NH−C1−C6−アルキル、NH2、OC1−C6−アシル、ヒドロキシルから選択される一又は複数の置換基を含有していてよい直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキレン基を示し;
− R1、R2及びR8の少なくとも2つは、それらが結合しているベンゼン環と共同して5−又は6員環を形成可能であり;
− Xは、基−CH2−CH2−Z−、−CH2CH2CH2Z−、−CH(CH3)−CH2−Z−、−CH2−CH2−CH2−CH2−Z−又はCH2−CH(CH2CH3)−Z−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− ZはO又はSを示し;
− nは1〜150の範囲である]
に相当する。
【0009】
R1、R2、R6、R8及びB基に対して挙げることができるC1−C12アルキル基の例は、メチル、エチル、n−プロピル、1−メチルエチル、n−ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、n−プロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、n−ヘキシル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピル、(1,2,2−トリメチルプロピル)、1−エチル−1−メチルプロピル、1−エチル−2−メチルプロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル又はn−ドデシルである。
R6及びR7基に対して挙げることができるC2−C10アルケニル基の例は:エテニル、n−プロペニル、1−メチルエテニル、n−ブテニル、1−メチルプロペニル、2−メチルプロペニル、1,1−ジメチルエテニル、n−ペンテニル、1−メチルブテニル、2−メチルブテニル、3−メチルブテニル、2,2−ジメチルプロペニル、1−エチルプロペニル、n−ヘキセニル、1,1−ジメチルプロペニル、1,2−ジメチルプロペニル、1−メチルペンテニル、2−メチルペンテニル、3−メチルペンテニル、4−メチルペンテニル、1,1−ジメチルブテニル、1,2−ジメチルブテニル、1,3−ジメチルブテニル、2,2−ジメチルブテニル、2,3−ジメチルブテニル、3,3−ジメチルブテニル、1−エチルブテニル、2−エチルブテニル、1,1,2−トリメチルプロペニル、1,2,2−トリメチルプロペニル、1−エチル−1−メチルプロペニル、1−エチル−2−メチルプロペニル、n−ヘプテニル、n−オクテニル、n−ノネニル又はn−デセニルである。
【0010】
R6及びR7基に対して挙げることができるC3−C10シクロアルキル基の例は:シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、1−メチルシクロプロピル、1−エチルシクロプロピル、1−プロピルシクロプロピル、1−ブチルシクロプロピル、1−ペンチルシクロプロピル、1−メチル−1−ブチルシクロプロピル、1,2−ジメチルシクロプロピル、1−メチル−2−エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルである。
R6及びR7基に対しての、一又は複数の二重結合を有するC3−C10シクロアルケニル基としては:シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、1,3−シクロヘキサジエニル、1,4−シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、1,5−シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
R1及びR2基に対してのC1−C12アルコキシ基としては:メトキシ、n−プロポキシ、1−メチルプロポキシ、n−ペントキシ、3−メチルブトキシ、2,2−ジメチルプロポキシ、1−メチル−1−エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、2−メチルプロポキシ、1,1−ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又は2−エチルヘキソキシを挙げることができる。
R6及びR7基のアリール基は、特にフェニル、メトキシフェニル又はナフチルである。
【0011】
R1及びR2基で示した水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基、特に生理学的に許容可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、中でもトリス(ヒドロキシアルキル)アンモニウム又は2−メチル−1−プロパノール−2−アンモニウム塩である。またアンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム及びその生理学的に許容可能なアニオンで塩化した形態を挙げることができる。
B基のC4−C12シクロアルキルとしては、例えば:
を挙げることができる。
B基のC8−C22アラルキル基としては、例えば:
を挙げることができる。
B基のモノオキソアラルキル(monoxoaralkyl)基としては、例えば:
を挙げることができる。
【0012】
式(I)の好ましい化合物は、
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C1−C8アルキル基、C1−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、COOR6又はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− R6はC1−C12アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基、C8−C22アラルキレン基、C4−C12シクロアルキレン基、又はC1−C12アルキレン基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−、−CH2CH2CH2O−、−CH(CH3)−CH2−O−、−CH2−CH2−CH2−CH2−O−又はCH2−CH(CH2CH3)−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものから選択される。
【0013】
式(I)の化合物のなかでも、
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C4−C8アルキル基、C4−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基又はC1−C12アルキレン基を示し;
− R8は水素又はC1−C12アルキル基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−又は−CH(CH3)−CH2−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−又は−CH(CH3)−CH2−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものが、より好ましく選択される。
【0014】
特に好ましい式(I)の化合物は、次の式(Ia):
[上式中、R5はC1−C6アルキル基、特にメチルであり;BはC1−C12アルキレン基を示す]
に相当するものから選択される。
本発明において、式(I)の化合物の例としては、次の式:
[上式中、Bは次の基:
−(CH2)2−
−(CH2)3−
−(CH2)4−
−(CH2)5−
−(CH2)6−
−(CH2)7−
−(CH2)8−
−(CH2)9−
−(CH2)10−
−(CH2)12−
−CH2−CH2−CH−(CH3)−CH2−CH2−
−CH2−C(CH3)2−CH2−
−CH2−CH(OH)−CH2−
−CH2−CH(OH)−CH(OH)−CH2−
から選択される]
を有するものを挙げることができる。
【0015】
これらの化合物の中でも、次の2つの化合物:
が特に選択される。
【0016】
上述した式(I)の化合物はそれ自体公知であり、その構造及び合成法は、独国特許出願第19855649号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に記載されている。
式(I)の化合物は、組成物の全重量に対して0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%の割合で本発明の組成物に存在する。
上述したように、本発明によって光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許第2326405号、仏国特許第2440933号及び欧州特許第0114607号公報に記載されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義について、全てが本明細書に出典明示によって含まれるものである。
【0017】
本発明において、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体が使用されることは明らかである。
本発明で特に適切なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが:
− 2−メチルジベンゾイルメタン
− 4−メチルジベンゾイルメタン
− 4−イソプロピルジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチルジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチルジベンゾイルメタン
− 2,5−ジメチルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジメトキシジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−イソプロピル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,6−ジメチル−4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
を挙げることができる。
【0018】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、特にジボーダン社(Givaudan)から「パルソール1789」の商標名で販売されている4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の構造式:
に相当するものである。
【0019】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、4−イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の名前で販売されており、次の構造式:
に相当するものである。
【0020】
ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明の組成物、又は本発明の方法によって安定化される組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%の含有量で存在する。
本発明の組成物は、水溶性又は脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である、他の付加的なUV−A活性及び/又はUV−B活性のある有機サンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。
付加的な有機UVサンスクリーン剤は、特にアントラニラート類;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;ベンゾフェノン誘導体;トリアジン誘導体、例えば米国特許第4367390号、米国特許第4724137号、欧州特許第863145号、欧州特許第517104号、欧州特許第570838号、欧州特許第796851号、欧州特許第775698号、欧州特許第878469号及び欧州特許第933376号、欧州特許第507691号、欧州特許第507692号、欧州特許第790243号及び欧州特許第944624号;β,β’−ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン;欧州特許第669323号及び米国特許第2463264号に記載されているビス−ベンゾアゾリル誘導体;p−アミノ安息香酸誘導体(PABA);米国特許第5237071号、米国特許第5166355号、英国特許出願第2303549号、独国特許出願第19726184号及び欧州特許出願第893119号に記載されているメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;国際公開第93/04665号に記載されている遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマー;4,4−ジアリールブタジエン、例えば欧州特許出願第0967200号及び独国特許出願第19755649号に記載されているもの;及びそれらの混合物から選択される。
【0021】
UV−A活性又はUV−B活性のある付加的な有機サンスクリーン剤の例としては、INCI名で以下の標記のものが挙げられる:
パラ − アミノ安息香酸誘導体:
− PABA、
− エチルPABA、
− エチル−ジヒドロキシプロピルPABA、
− 特にISP社から「エスカロール(Escalol)507」の名称で販売されているエチルヘキシル−ジメチルPABA、
− グリセリルPABA、
− BASF社から「ユビヌル(Uvinul)P25」の名称で販売されているPEG−25−PABA。
【0022】
サリチル酸誘導体:
− ロナ(Rona)/EMインダストリーから「ユーソレックス(Eusolex)HMS」の名称で販売されているホモサラート(Homosalate)、
− ハーマン・アンド・ライマー社(Haarmann and Reimer)から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)OS」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマン・アンド・ライマー社から「ネオ・ヘリオパンTS」の名称で販売されているTEAサリチラート。
【0023】
β , β − ジフェニルアクリラート誘導体:
− 特に、BASF社から「ユビヌルN539」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
− 特に、BASF社から「ユビヌルN35」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【0024】
ベンゾフェノン誘導体:
− BASF社から「ユビヌル400」の商品名で販売されているベンゾフェノン−1、
− BASF社から「ユビヌルD50」の商品名で販売されているベンゾフェノン−2、
− BASF社から「ユビヌルM40」の商品名で販売されているベンゾフェノン−3又はオキシベンゾン、
− BASF社から「ユビヌルMS40」の商品名で販売されているベンゾフェノン−4、
− ベンゾフェノン−5、
− ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)11」の商品名で販売されているベンゾフェノン−6、
− アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社から「スペクトラ−ソーブ(Spectra−Sorb)UV−24」の商品名で販売されているベンゾフェノン−8、
− BASF社から「ユビヌルDS−49」の商品名で販売されているベンゾフェノン−9、
− ベンゾフェノン−12。
【0025】
ベンジリデンショウノウ誘導体:
− シメックス社(Chimex)から「メキソリル(Mexoryl)SD」の名称で製造されている3−ベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メキソリルSL」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルSO」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、
− シメックス社から「メキソリルSX」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルSW」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
【0026】
ベンゾイミダゾール誘導体:
− 特に、メルク社から「ユーソレックス232」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンAP」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム。
【0027】
ベンゾトリアゾール誘導体:
− チバ・スペシャリティー・ケミカルから「チノソーブ(Tinosorb)M」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(Fairmount Chemical)社から「ミキシム(Mixxim)BB/100」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
− ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン。
【0028】
トリアジン誘導体:
− チバ・スペシャリティー・ケミカル社から「チノソーブS」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特に、BASF社から「ユビヌルT150」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ3V社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasorb)HEB」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− 2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン。
【0029】
アントラニル誘導体:
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンMA」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体:
− ホフマン−ラ・ロシェ社から「パルソールSLX」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
【0030】
より好ましい付加的な有機UV遮蔽剤(サンスクリーン剤)は、次の化合物:
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− 2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− ベンゾフェノン−3、
− ベンゾフェノン−4、
− ベンゾフェノン−5、
− フェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム、
− メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾール、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【0031】
さらに、本発明の化粧品用組成物は、被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径:一般に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び/又はアナターゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られている光保護剤である。さらに、標準的な被覆剤はアルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開第0518773号に記載されている。
【0032】
またさらに、本発明の組成物は、皮膚をサンタン状態及び/又は褐色にする薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)を含有し得る。
本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル捕捉剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスPアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品の分野で通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバントを含有することができる。
脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フルオロ油及びペルフルオロ油から選択される。同様に、ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物性及び合成ロウから選択される。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化合物(類)及び/又はその量を留意して選択するであろう。
【0033】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一又は複合(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)エマルションの形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム−ゲル、パウダー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0034】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。
本発明の化粧品用組成物が、UV線からの毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪の縮毛矯正(relaxing)処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理、縮毛矯正毛、染色又は脱色用の毛髪のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【0035】
指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0036】
本明細書の最初に挙げたように、本発明の主題は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製における上述した組成物の用途にある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも1つの上述した式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のUV遮蔽剤を有効量組合せてなる、UV線に対する少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための方法にある。
本発明の他の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも1つのジベンソイルメタンベース型のUV遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚病用組成物の製造において、上述した式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のUV遮蔽剤を使用することからなる。
【0037】
以下に具体例を付与するが、本発明を例証するものであって、限定するものではない。
【0038】
【0039】
本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタン−ベース型のUV遮蔽剤と、
(b)0.1〜20重量%の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される化粧品用又は皮膚科学的組成物に関する。
本発明は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、有効量の少なくとも1つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を組合せてなる、UV線に対する少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための新規な方法に関する。
【0002】
280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にUV−B線として知られている280nmと320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている。よって、このUV−B線は遮蔽するべきである。
【0003】
また、皮膚を褐色にする320nmと400nmの間の波長を有するUV−A線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。UV−A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV−A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。しかして、例えば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV−A線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV−A線も遮蔽することが望ましい。
【0004】
かかる点に関し、現在特に有効な種類のUV−A遮蔽剤はジベンゾイルメタン誘導体、特に4−tert−ブチル−4−’メトキシジベンゾイルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するものである。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそれ自体、UV−A領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第2326405号及び仏国特許公開第2440933号、並びに欧州特許出願公開第0114607号に記載されている;さらに、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン−ラロシュ社(Hoffmann LaRoche)から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で現在市販されている。
【0005】
しかしながら、、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特にUV−A)に比較的敏感な生成物である、すなわち、より特定的には、この生成物は、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有していることが知見されている。よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらされることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に保護し続けることはできず、よって、使用者は、UV線から皮膚を有効に保護するためには、短い時間で規則的に繰り返し塗布しなければならなかった。
ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する光安定性の問題は、必ずしも完全には満足のいく程には解決されていない。
【0006】
本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタン誘導体に、以下に定義する少なくとも1つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せると、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善することができることを見出した。
よって、本発明の主題は、化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタン−ベース型のUV遮蔽剤と、
(b)0.1〜20重量%の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される、新規な化粧品用又は皮膚科学的組成物を提案することにある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも1つの以下に定義する式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せてなることを特徴とする、UV線(約280nmと400nmの間の波長)に対しジベンゾイルメタン誘導体を安定化する新規な方法にある。
【0007】
本発明において、「有効量のα−アルキルスチレン−ベース二量体」という表現は、光安定性化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を大幅にかつ有意に改善するのに十分な量を意味する。使用される光安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に依存して変わり得るが、以下に実施例に記載するように、光安定性を測定する一般的な試験法によって何ら困難なく測定することができる。
最後に、本発明の主題は、含有されるジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製において、以下に定義する式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体を使用することにある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
【0008】
本発明のα−アルキルスチレン−ベース二量体化合物は、次の式(I):
[上式中:
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、OH、NH2、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC1−C12アルコキシ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12モノアルキルアミノ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12ジアルキルアミノ基又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、基COOR6、COR6、CONR6R7又はCNを示し;
− R5は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− R6及びR7は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC2−C10アルケニル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルキル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルケニル基;C6−C18アリール又はC4−C7ヘテロアリールを示し;該シクロアルキル、シクロアルケニル及びアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、C1−C4モノアルキルアミノ基、C1−C4ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、C1−C4アルキル基及びC1−C4アルコキシ基から選択される一又は複数の置換基を含有可能であり;該シクロアルキル及びシクロアルケニル基は一又は複数のヘテロ原子(例えばO、N又はS)を含有可能であり;
− AはO、S又はNR8基を示し;
− R8は水素又は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− Bは[X]n−Y−基;C9−C21モノオキソアラルキレン基;C8−C22アラルキレン基;分枝状又は非分枝状のC4−C12シクロアルキレン基;又はCOO−C1−C6−アシル、COOH、CN、NH−C1−C6−アシル、NH−C1−C6−アルキル、NH2、OC1−C6−アシル、ヒドロキシルから選択される一又は複数の置換基を含有していてよい直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキレン基を示し;
− R1、R2及びR8の少なくとも2つは、それらが結合しているベンゼン環と共同して5−又は6員環を形成可能であり;
− Xは、基−CH2−CH2−Z−、−CH2CH2CH2Z−、−CH(CH3)−CH2−Z−、−CH2−CH2−CH2−CH2−Z−又はCH2−CH(CH2CH3)−Z−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− ZはO又はSを示し;
− nは1〜150の範囲である]
に相当する。
【0009】
R1、R2、R6、R8及びB基に対して挙げることができるC1−C12アルキル基の例は、メチル、エチル、n−プロピル、1−メチルエチル、n−ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル、n−プロピル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2−ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、n−ヘキシル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピル、(1,2,2−トリメチルプロピル)、1−エチル−1−メチルプロピル、1−エチル−2−メチルプロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル又はn−ドデシルである。
R6及びR7基に対して挙げることができるC2−C10アルケニル基の例は:エテニル、n−プロペニル、1−メチルエテニル、n−ブテニル、1−メチルプロペニル、2−メチルプロペニル、1,1−ジメチルエテニル、n−ペンテニル、1−メチルブテニル、2−メチルブテニル、3−メチルブテニル、2,2−ジメチルプロペニル、1−エチルプロペニル、n−ヘキセニル、1,1−ジメチルプロペニル、1,2−ジメチルプロペニル、1−メチルペンテニル、2−メチルペンテニル、3−メチルペンテニル、4−メチルペンテニル、1,1−ジメチルブテニル、1,2−ジメチルブテニル、1,3−ジメチルブテニル、2,2−ジメチルブテニル、2,3−ジメチルブテニル、3,3−ジメチルブテニル、1−エチルブテニル、2−エチルブテニル、1,1,2−トリメチルプロペニル、1,2,2−トリメチルプロペニル、1−エチル−1−メチルプロペニル、1−エチル−2−メチルプロペニル、n−ヘプテニル、n−オクテニル、n−ノネニル又はn−デセニルである。
【0010】
R6及びR7基に対して挙げることができるC3−C10シクロアルキル基の例は:シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、1−メチルシクロプロピル、1−エチルシクロプロピル、1−プロピルシクロプロピル、1−ブチルシクロプロピル、1−ペンチルシクロプロピル、1−メチル−1−ブチルシクロプロピル、1,2−ジメチルシクロプロピル、1−メチル−2−エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルである。
R6及びR7基に対しての、一又は複数の二重結合を有するC3−C10シクロアルケニル基としては:シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、1,3−シクロヘキサジエニル、1,4−シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、1,5−シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
R1及びR2基に対してのC1−C12アルコキシ基としては:メトキシ、n−プロポキシ、1−メチルプロポキシ、n−ペントキシ、3−メチルブトキシ、2,2−ジメチルプロポキシ、1−メチル−1−エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシ、2−メチルプロポキシ、1,1−ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又は2−エチルヘキソキシを挙げることができる。
R6及びR7基のアリール基は、特にフェニル、メトキシフェニル又はナフチルである。
【0011】
R1及びR2基で示した水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基、特に生理学的に許容可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、中でもトリス(ヒドロキシアルキル)アンモニウム又は2−メチル−1−プロパノール−2−アンモニウム塩である。またアンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム及びその生理学的に許容可能なアニオンで塩化した形態を挙げることができる。
B基のC4−C12シクロアルキルとしては、例えば:
を挙げることができる。
B基のC8−C22アラルキル基としては、例えば:
を挙げることができる。
B基のモノオキソアラルキル(monoxoaralkyl)基としては、例えば:
を挙げることができる。
【0012】
式(I)の好ましい化合物は、
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C1−C8アルキル基、C1−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、COOR6又はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− R6はC1−C12アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基、C8−C22アラルキレン基、C4−C12シクロアルキレン基、又はC1−C12アルキレン基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−、−CH2CH2CH2O−、−CH(CH3)−CH2−O−、−CH2−CH2−CH2−CH2−O−又はCH2−CH(CH2CH3)−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものから選択される。
【0013】
式(I)の化合物のなかでも、
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C4−C8アルキル基、C4−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基又はC1−C12アルキレン基を示し;
− R8は水素又はC1−C12アルキル基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−又は−CH(CH3)−CH2−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−又は−CH(CH3)−CH2−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものが、より好ましく選択される。
【0014】
特に好ましい式(I)の化合物は、次の式(Ia):
[上式中、R5はC1−C6アルキル基、特にメチルであり;BはC1−C12アルキレン基を示す]
に相当するものから選択される。
本発明において、式(I)の化合物の例としては、次の式:
[上式中、Bは次の基:
−(CH2)2−
−(CH2)3−
−(CH2)4−
−(CH2)5−
−(CH2)6−
−(CH2)7−
−(CH2)8−
−(CH2)9−
−(CH2)10−
−(CH2)12−
−CH2−CH2−CH−(CH3)−CH2−CH2−
−CH2−C(CH3)2−CH2−
−CH2−CH(OH)−CH2−
−CH2−CH(OH)−CH(OH)−CH2−
から選択される]
を有するものを挙げることができる。
【0015】
これらの化合物の中でも、次の2つの化合物:
が特に選択される。
【0016】
上述した式(I)の化合物はそれ自体公知であり、その構造及び合成法は、独国特許出願第19855649号(本明細書の内容の一体部分を形成する)に記載されている。
式(I)の化合物は、組成物の全重量に対して0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%の割合で本発明の組成物に存在する。
上述したように、本発明によって光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許第2326405号、仏国特許第2440933号及び欧州特許第0114607号公報に記載されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義について、全てが本明細書に出典明示によって含まれるものである。
【0017】
本発明において、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体が使用されることは明らかである。
本発明で特に適切なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが:
− 2−メチルジベンゾイルメタン
− 4−メチルジベンゾイルメタン
− 4−イソプロピルジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチルジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチルジベンゾイルメタン
− 2,5−ジメチルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジメトキシジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−イソプロピル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,6−ジメチル−4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
を挙げることができる。
【0018】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、特にジボーダン社(Givaudan)から「パルソール1789」の商標名で販売されている4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の構造式:
に相当するものである。
【0019】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、4−イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の名前で販売されており、次の構造式:
に相当するものである。
【0020】
ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明の組成物、又は本発明の方法によって安定化される組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して0.1〜20重量%、好ましくは0.5〜10重量%の含有量で存在する。
本発明の組成物は、水溶性又は脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である、他の付加的なUV−A活性及び/又はUV−B活性のある有機サンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。
付加的な有機UVサンスクリーン剤は、特にアントラニラート類;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;ベンゾフェノン誘導体;トリアジン誘導体、例えば米国特許第4367390号、米国特許第4724137号、欧州特許第863145号、欧州特許第517104号、欧州特許第570838号、欧州特許第796851号、欧州特許第775698号、欧州特許第878469号及び欧州特許第933376号、欧州特許第507691号、欧州特許第507692号、欧州特許第790243号及び欧州特許第944624号;β,β’−ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン;欧州特許第669323号及び米国特許第2463264号に記載されているビス−ベンゾアゾリル誘導体;p−アミノ安息香酸誘導体(PABA);米国特許第5237071号、米国特許第5166355号、英国特許出願第2303549号、独国特許出願第19726184号及び欧州特許出願第893119号に記載されているメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;国際公開第93/04665号に記載されている遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマー;4,4−ジアリールブタジエン、例えば欧州特許出願第0967200号及び独国特許出願第19755649号に記載されているもの;及びそれらの混合物から選択される。
【0021】
UV−A活性又はUV−B活性のある付加的な有機サンスクリーン剤の例としては、INCI名で以下の標記のものが挙げられる:
パラ − アミノ安息香酸誘導体:
− PABA、
− エチルPABA、
− エチル−ジヒドロキシプロピルPABA、
− 特にISP社から「エスカロール(Escalol)507」の名称で販売されているエチルヘキシル−ジメチルPABA、
− グリセリルPABA、
− BASF社から「ユビヌル(Uvinul)P25」の名称で販売されているPEG−25−PABA。
【0022】
サリチル酸誘導体:
− ロナ(Rona)/EMインダストリーから「ユーソレックス(Eusolex)HMS」の名称で販売されているホモサラート(Homosalate)、
− ハーマン・アンド・ライマー社(Haarmann and Reimer)から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)OS」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマン・アンド・ライマー社から「ネオ・ヘリオパンTS」の名称で販売されているTEAサリチラート。
【0023】
β , β − ジフェニルアクリラート誘導体:
− 特に、BASF社から「ユビヌルN539」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
− 特に、BASF社から「ユビヌルN35」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【0024】
ベンゾフェノン誘導体:
− BASF社から「ユビヌル400」の商品名で販売されているベンゾフェノン−1、
− BASF社から「ユビヌルD50」の商品名で販売されているベンゾフェノン−2、
− BASF社から「ユビヌルM40」の商品名で販売されているベンゾフェノン−3又はオキシベンゾン、
− BASF社から「ユビヌルMS40」の商品名で販売されているベンゾフェノン−4、
− ベンゾフェノン−5、
− ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)11」の商品名で販売されているベンゾフェノン−6、
− アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社から「スペクトラ−ソーブ(Spectra−Sorb)UV−24」の商品名で販売されているベンゾフェノン−8、
− BASF社から「ユビヌルDS−49」の商品名で販売されているベンゾフェノン−9、
− ベンゾフェノン−12。
【0025】
ベンジリデンショウノウ誘導体:
− シメックス社(Chimex)から「メキソリル(Mexoryl)SD」の名称で製造されている3−ベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メキソリルSL」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルSO」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、
− シメックス社から「メキソリルSX」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルSW」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
【0026】
ベンゾイミダゾール誘導体:
− 特に、メルク社から「ユーソレックス232」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンAP」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム。
【0027】
ベンゾトリアゾール誘導体:
− チバ・スペシャリティー・ケミカルから「チノソーブ(Tinosorb)M」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(Fairmount Chemical)社から「ミキシム(Mixxim)BB/100」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
− ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン。
【0028】
トリアジン誘導体:
− チバ・スペシャリティー・ケミカル社から「チノソーブS」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特に、BASF社から「ユビヌルT150」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ3V社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasorb)HEB」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− 2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン。
【0029】
アントラニル誘導体:
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンMA」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体:
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体:
− ホフマン−ラ・ロシェ社から「パルソールSLX」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
【0030】
より好ましい付加的な有機UV遮蔽剤(サンスクリーン剤)は、次の化合物:
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− 2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− ベンゾフェノン−3、
− ベンゾフェノン−4、
− ベンゾフェノン−5、
− フェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム、
− メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾール、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【0031】
さらに、本発明の化粧品用組成物は、被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径:一般に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び/又はアナターゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られている光保護剤である。さらに、標準的な被覆剤はアルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開第0518773号に記載されている。
【0032】
またさらに、本発明の組成物は、皮膚をサンタン状態及び/又は褐色にする薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)を含有し得る。
本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル捕捉剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスPアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品の分野で通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバントを含有することができる。
脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フルオロ油及びペルフルオロ油から選択される。同様に、ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物性及び合成ロウから選択される。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化合物(類)及び/又はその量を留意して選択するであろう。
【0033】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一又は複合(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)エマルションの形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム−ゲル、パウダー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0034】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。
本発明の化粧品用組成物が、UV線からの毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪の縮毛矯正(relaxing)処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理、縮毛矯正毛、染色又は脱色用の毛髪のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【0035】
指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0036】
本明細書の最初に挙げたように、本発明の主題は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製における上述した組成物の用途にある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも1つの上述した式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のUV遮蔽剤を有効量組合せてなる、UV線に対する少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための方法にある。
本発明の他の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも1つのジベンソイルメタンベース型のUV遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚病用組成物の製造において、上述した式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のUV遮蔽剤を使用することからなる。
【0037】
以下に具体例を付与するが、本発明を例証するものであって、限定するものではない。
【0038】
【0039】
Claims (24)
- 化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)0.1〜20重量%のジベンゾイルメタン−ベース型のUV遮蔽剤と、
(b)0.1〜20重量%の以下の式(I):
[上式中:
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、OH、NH2、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC1−C12アルコキシ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12モノアルキルアミノ基;直鎖状又は分枝状のC1−C12ジアルキルアミノ基又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、基COOR6、COR6、CONR6R7又はCNを示し;
− R5は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− R6及びR7は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基;直鎖状又は分枝状のC2−C10アルケニル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルキル基;分枝状又は非分枝状のC3−C10シクロアルケニル基;C6−C18アリール又はC4−C7ヘテロアリールを示し;該シクロアルキル、シクロアルケニル及びアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、C1−C4モノアルキルアミノ基、C1−C4ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、C1−C4アルキル基及びC1−C4アルコキシ基から選択される一又は複数の置換基を含有可能であり;該シクロアルキル及びシクロアルケニル基は一又は複数のヘテロ原子(例えばO、N又はS)を含有可能であり;
− AはO、S又はNR8基を示し;
− R8は水素又は直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキル基を示し;
− Bは[X]n−Y−基;C9−C21モノオキソアラルキレン基;C8−C22アラルキレン基;分枝状又は非分枝状のC4−C12シクロアルキレン基;又はCOO−C1−C6−アシル、COOH、CN、NH−C1−C6−アシル、NH−C1−C6−アルキル、NH2、OC1−C6−アシル、ヒドロキシルから選択される一又は複数の置換基を含んでいてもよい直鎖状又は分枝状のC1−C12アルキレン基を示し;
− R1、R2及びR8の少なくとも2つは、それらが結合しているベンゼン環と共同して5−又は6員環を形成可能であり;
− Xは、基−CH2−CH2−Z−、−CH2CH2CH2Z−、−CH(CH3)−CH2−Z−、−CH2−CH2−CH2−CH2−Z−又はCH2−CH(CH2CH3)−Z−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− ZはO又はSを示し;
− nは1〜150の範囲である]
のα−アルキルスチレン−ベース二量体を少なくとも含有してなることを特徴とする、局所適用に使用される化粧品用又は皮膚用組成物。 - 式(I)の化合物が、
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C1−C8アルキル基、C1−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4は同一でも異なっていてもよく、基COOR6又はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− R6はC1−C12アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基、C8−C22アラルキレン基、C4−C12シクロアルキレン基又はC1−C12アルキレン基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−、−CH2CH2CH2O−、−CH(CH3)−CH2−O−、−CH2−CH2−CH2−CH2−O−又はCH2−CH(CH2CH3)−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH2−CH2−CH2−又はCH2−CH(CH2CH3)−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものから選択される請求項1に記載の組成物。 - 式(I)の化合物が:
− R1及びR2は同一でも異なっていてもよく、水素、C4−C8アルキル基、C4−C8アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し;
− R3及びR4はCNを示し;
− R5はC1−C6アルキル基を示し;
− AはOを示し;
− Bは[X]n−Y−基又はC1−C12アルキレン基を示し;
− R8は水素又はC1−C12アルキル基を示し;
− Xは、基−CH2−CH2−O−又は−CH(CH3)−CH2−O−を示し;
− Yは、基−CH2−CH2−又は−CH(CH3)−CH2−を示し;
− nは1〜20の範囲である、
ものから選択される請求項1又は2に記載の組成物。 - α−アルキルスチレン−ベース二量体が、組成物の全重量に対して0.5〜10重量%の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.5〜10重量%の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体が:
− 2−メチルジベンゾイルメタン
− 4−メチルジベンゾイルメタン
− 4−イソプロピルジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチルジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチルジベンゾイルメタン
− 2,5−ジメチルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン
− 4,4’−ジメトキシジベンゾイルメタン
− 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−イソプロピル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2−メチル−5−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,4−ジメチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
− 2,6−ジメチル−4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン
から選択されることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の組成物。 - ジベンゾイルメタン誘導体が、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項9に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体が、4−イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項9に記載の組成物。
- 他のUV−A活性及び/又はUV−B活性のある有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の組成物。
- 付加的な有機UV遮蔽剤が、アントラニラート類;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;ベンゾフェノン誘導体;トリアジン誘導体;β,β’−ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンゾイミダゾール誘導体;イミダゾリン;ビス−ベンゾアゾリル誘導体;p−アミノ安息香酸(PABA)誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン;及び4,4−ジアリールブタジエン;及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項12に記載の組成物。
- 有機UV遮蔽剤が、次の化合物:
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− 2,4,6−トリス(ジイソブチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− ベンゾフェノン−3、
− ベンゾフェノン−4、
− ベンゾフェノン−5、
− フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
− メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾール、
及びそれらの混合物、
から選択されることを特徴とする請求項13に記載の組成物。 - 被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記顔料又はナノ顔料が、被覆された又は被覆されていない酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項15に記載の組成物。
- 皮膚を人工的にサンタン状態及び/又は褐色にする少なくとも1つの薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし16のいずれか1項に記載の組成物。
- 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスPアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、酸性化又は塩基性化剤、及び着色料から選択される少なくとも1つのアジュバントをさらに含有することを特徴とする請求項1ないし17のいずれか1項に記載の組成物。
- 非イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、ムース又はスプレーの形態であり、ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1項に記載の組成物。
- 固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマルション、懸濁液又は分散液の形態であり、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1項に記載の組成物。
- シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であり、紫外線から毛髪を保護することを意図した組成物であることを特徴とする請求項1ないし18のいずれか1項に記載の組成物。
- 太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護するための化粧品用又は皮膚用組成物の製造における、請求項1ないし18のいずれか1項に記載の組成物の使用。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体と、請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物に使用される少なくとも1つの式(I)のα−アルキルスチレンから誘導された二量体を有効量組合せてなることを特徴とする、紫外線に対する少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための方法。
- 少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、該ジベンゾイルメタン誘導体の紫外線に対する安定性を改善するための、請求項1ないし6のいずれか1項に記載された式(I)のα−アルキルスチレン−ベース二量体の使用。
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