JP2004526665A - ジベンゾイルメタン誘導体とα−アルキルスチレン二量体を含む組成物、ＵＶ安定化法 - Google Patents

ジベンゾイルメタン誘導体とα−アルキルスチレン二量体を含む組成物、ＵＶ安定化法 Download PDF

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Abstract

本発明は局所使用用、特に皮膚と毛髪の日光からの保護のための化粧品又は製薬用組成物に関する。本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、（ａ）０．１〜２０重量％のジベンゾイルメタンから誘導されたＵＶ遮蔽剤と、（ｂ）０．１〜２０重量％の特定のα−アルキルスチレン二量体を含有することを特徴とする。本発明はまたジベンゾイルメタン誘導体に有効量の少なくとも一つの特定のα−アルキルスチレン二量体を組合せることからなる、紫外線に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を増大させるための新規な方法にも関する。

Description

【０００１】
本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に：
（ａ）０．１〜２０重量％のジベンゾイルメタン−ベース型のＵＶ遮蔽剤と、
（ｂ）０．１〜２０重量％の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される化粧品用又は皮膚科学的組成物に関する。
本発明は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、有効量の少なくとも１つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を組合せてなる、ＵＶ線に対する少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための新規な方法に関する。
【０００２】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にＵＶ−Ｂ線として知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりすることが知られている。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている。よって、このＵＶ−Ｂ線は遮蔽するべきである。
【０００３】
また、皮膚を褐色にする３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ−Ａ線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあることが知られており、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。ＵＶ−Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。ＵＶ−Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。しかして、例えば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ−Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ−Ａ線も遮蔽することが望ましい。
【０００４】
かかる点に関し、現在特に有効な種類のＵＶ−Ａ遮蔽剤はジベンゾイルメタン誘導体、特に４−ｔｅｒｔ−ブチル−４−’メトキシジベンゾイルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するものである。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそれ自体、ＵＶ−Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国特許公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載されている；さらに、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン−ラロシュ社（Ｈｏｆｆｍａｎｎ ＬａＲｏｃｈｅ）から「パルソール（Ｐａｒｓｏｌ）１７８９」の商品名で現在市販されている。
【０００５】
しかしながら、、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線（特にＵＶ−Ａ）に比較的敏感な生成物である、すなわち、より特定的には、この生成物は、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有していることが知見されている。よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらされることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に保護し続けることはできず、よって、使用者は、ＵＶ線から皮膚を有効に保護するためには、短い時間で規則的に繰り返し塗布しなければならなかった。
ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する光安定性の問題は、必ずしも完全には満足のいく程には解決されていない。
【０００６】
本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタン誘導体に、以下に定義する少なくとも１つの特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せると、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性（すなわち光安定性）を大幅にかつ顕著に改善することができることを見出した。
よって、本発明の主題は、化粧品的に許容可能な支持体に：
（ａ）０．１〜２０重量％のジベンゾイルメタン−ベース型のＵＶ遮蔽剤と、
（ｂ）０．１〜２０重量％の特定のα−アルキルスチレン−ベース二量体、
を少なくとも含有してなることを特徴とする、特に皮膚及び毛髪を光保護するための局所適用される、新規な化粧品用又は皮膚科学的組成物を提案することにある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも１つの以下に定義する式（Ｉ）のα−アルキルスチレン−ベース二量体を有効量組合せてなることを特徴とする、ＵＶ線（約２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長）に対しジベンゾイルメタン誘導体を安定化する新規な方法にある。
【０００７】
本発明において、「有効量のα−アルキルスチレン−ベース二量体」という表現は、光安定性化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体（類）の光安定性を大幅にかつ有意に改善するのに十分な量を意味する。使用される光安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に依存して変わり得るが、以下に実施例に記載するように、光安定性を測定する一般的な試験法によって何ら困難なく測定することができる。
最後に、本発明の主題は、含有されるジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製において、以下に定義する式（Ｉ）のα−アルキルスチレン−ベース二量体を使用することにある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
【０００８】
本発明のα−アルキルスチレン−ベース二量体化合物は、次の式（Ｉ）：
Figure 2004526665
［上式中：
− Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ、ＮＨ２、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルコキシ基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２ジアルキルアミノ基又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３及びＲ４は同一でも異なっていてもよく、基ＣＯＯＲ６、ＣＯＲ６、ＣＯＮＲ６Ｒ７又はＣＮを示し；
− Ｒ５は直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
− Ｒ６及びＲ７は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ２−Ｃ１０アルケニル基；分枝状又は非分枝状のＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基；分枝状又は非分枝状のＣ３−Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ６−Ｃ１８アリール又はＣ４−Ｃ７ヘテロアリールを示し；該シクロアルキル、シクロアルケニル及びアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、Ｃ１−Ｃ４モノアルキルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基から選択される一又は複数の置換基を含有可能であり；該シクロアルキル及びシクロアルケニル基は一又は複数のヘテロ原子（例えばＯ、Ｎ又はＳ）を含有可能であり；
− ＡはＯ、Ｓ又はＮＲ８基を示し；
− Ｒ８は水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
− Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基；Ｃ９−Ｃ２１モノオキソアラルキレン基；Ｃ８−Ｃ２２アラルキレン基；分枝状又は非分枝状のＣ４−Ｃ１２シクロアルキレン基；又はＣＯＯ−Ｃ１−Ｃ６−アシル、ＣＯＯＨ、ＣＮ、ＮＨ−Ｃ１−Ｃ６−アシル、ＮＨ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、ＮＨ２、ＯＣ１−Ｃ６−アシル、ヒドロキシルから選択される一又は複数の置換基を含有していてよい直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
− Ｒ１、Ｒ２及びＲ８の少なくとも２つは、それらが結合しているベンゼン環と共同して５−又は６員環を形成可能であり；
− Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｚ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｚ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｚ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｚ−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−Ｚ−を示し；
− Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−を示し；
− ＺはＯ又はＳを示し；
− ｎは１〜１５０の範囲である］
に相当する。
【０００９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ８及びＢ基に対して挙げることができるＣ１−Ｃ１２アルキル基の例は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、１−メチルエチル、ｎ−ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ｎ−プロピル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、（１，２，２−トリメチルプロピル）、１−エチル−１−メチルプロピル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル又はｎ−ドデシルである。
Ｒ６及びＲ７基に対して挙げることができるＣ２−Ｃ１０アルケニル基の例は：エテニル、ｎ−プロペニル、１−メチルエテニル、ｎ−ブテニル、１−メチルプロペニル、２−メチルプロペニル、１，１−ジメチルエテニル、ｎ−ペンテニル、１−メチルブテニル、２−メチルブテニル、３−メチルブテニル、２，２−ジメチルプロペニル、１−エチルプロペニル、ｎ−ヘキセニル、１，１−ジメチルプロペニル、１，２−ジメチルプロペニル、１−メチルペンテニル、２−メチルペンテニル、３−メチルペンテニル、４−メチルペンテニル、１，１−ジメチルブテニル、１，２−ジメチルブテニル、１，３−ジメチルブテニル、２，２−ジメチルブテニル、２，３−ジメチルブテニル、３，３−ジメチルブテニル、１−エチルブテニル、２−エチルブテニル、１，１，２−トリメチルプロペニル、１，２，２−トリメチルプロペニル、１−エチル−１−メチルプロペニル、１−エチル−２−メチルプロペニル、ｎ−ヘプテニル、ｎ−オクテニル、ｎ−ノネニル又はｎ−デセニルである。
【００１０】
Ｒ６及びＲ７基に対して挙げることができるＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基の例は：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、１−メチルシクロプロピル、１−エチルシクロプロピル、１−プロピルシクロプロピル、１−ブチルシクロプロピル、１−ペンチルシクロプロピル、１−メチル−１−ブチルシクロプロピル、１，２−ジメチルシクロプロピル、１−メチル−２−エチルシクロプロピル、シクロオクチル、シクロノニル又はシクロデシルである。
Ｒ６及びＲ７基に対しての、一又は複数の二重結合を有するＣ３−Ｃ１０シクロアルケニル基としては：シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、１，３−シクロヘキサジエニル、１，４−シクロヘキサジエニル、シクロヘプテニル、シクロヘプタトリエニル、シクロオクテニル、１，５−シクロオクタジエニル、シクロオクタテトラエニル、シクロノネニル又はシクロデセニルを挙げることができる。
Ｒ１及びＲ２基に対してのＣ１−Ｃ１２アルコキシ基としては：メトキシ、ｎ−プロポキシ、１−メチルプロポキシ、ｎ−ペントキシ、３−メチルブトキシ、２，２−ジメチルプロポキシ、１−メチル−１−エチルプロポキシ、オクトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、２−メチルプロポキシ、１，１−ジメチルプロポキシ、ヘキソキシ、ヘプトキシ又は２−エチルヘキソキシを挙げることができる。
Ｒ６及びＲ７基のアリール基は、特にフェニル、メトキシフェニル又はナフチルである。
【００１１】
Ｒ１及びＲ２基で示した水可溶化基は、例えばカルボキシラート又はスルホナート基、特に生理学的に許容可能なカチオンとの塩類、例えばアルカリ金属塩又はトリアルキルアンモニウム塩、中でもトリス（ヒドロキシアルキル）アンモニウム又は２−メチル−１−プロパノール−２−アンモニウム塩である。またアンモニウム基、例えばアルキルアンモニウム及びその生理学的に許容可能なアニオンで塩化した形態を挙げることができる。
Ｂ基のＣ４−Ｃ１２シクロアルキルとしては、例えば：
Figure 2004526665
を挙げることができる。
Ｂ基のＣ８−Ｃ２２アラルキル基としては、例えば：
Figure 2004526665
を挙げることができる。
Ｂ基のモノオキソアラルキル（ｍｏｎｏｘｏａｒａｌｋｙｌ）基としては、例えば：
Figure 2004526665
を挙げることができる。
【００１２】
式（Ｉ）の好ましい化合物は、
− Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３及びＲ４は同一でも異なっていてもよく、ＣＯＯＲ６又はＣＮを示し；
− Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し；
− Ｒ６はＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
− ＡはＯを示し；
− Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基、Ｃ８−Ｃ２２アラルキレン基、Ｃ４−Ｃ１２シクロアルキレン基、又はＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
− Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−Ｏ−を示し；
− Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−を示し；
− ｎは１〜２０の範囲である、
ものから選択される。
【００１３】
式（Ｉ）の化合物のなかでも、
− Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ４−Ｃ８アルキル基、Ｃ４−Ｃ８アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
− Ｒ３及びＲ４はＣＮを示し；
− Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し；
− ＡはＯを示し；
− Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基又はＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
− Ｒ８は水素又はＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
− Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−又は−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｏ−を示し；
− Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−を示し；
− ｎは１〜２０の範囲である、
ものが、より好ましく選択される。
【００１４】
特に好ましい式（Ｉ）の化合物は、次の式（Ｉａ）：
Figure 2004526665
［上式中、Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基、特にメチルであり；ＢはＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示す］
に相当するものから選択される。
本発明において、式（Ｉ）の化合物の例としては、次の式：
Figure 2004526665
［上式中、Ｂは次の基：
−（ＣＨ２）２−
−（ＣＨ２）３−
−（ＣＨ２）４−
−（ＣＨ２）５−
−（ＣＨ２）６−
−（ＣＨ２）７−
−（ＣＨ２）８−
−（ＣＨ２）９−
−（ＣＨ２）１０−
−（ＣＨ２）１２−
−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ−（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−
−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−
−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−
−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−
Figure 2004526665
から選択される］
を有するものを挙げることができる。
【００１５】
これらの化合物の中でも、次の２つの化合物：
Figure 2004526665
が特に選択される。
【００１６】
上述した式（Ｉ）の化合物はそれ自体公知であり、その構造及び合成法は、独国特許出願第１９８５５６４９号（本明細書の内容の一体部分を形成する）に記載されている。
式（Ｉ）の化合物は、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の割合で本発明の組成物に存在する。
上述したように、本発明によって光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許第２３２６４０５号、仏国特許第２４４０９３３号及び欧州特許第０１１４６０７号公報に記載されており、該公報の教示は、これらの生成物の実際の定義について、全てが本明細書に出典明示によって含まれるものである。
【００１７】
本発明において、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体が使用されることは明らかである。
本発明で特に適切なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが：
− ２−メチルジベンゾイルメタン
− ４−メチルジベンゾイルメタン
− ４−イソプロピルジベンゾイルメタン
− ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン
− ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン
− ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン
− ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン
− ４，４’−ジメトキシジベンゾイルメタン
− ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
− ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
− ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
− ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
− ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
を挙げることができる。
【００１８】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、特にジボーダン社（Ｇｉｖａｕｄａｎ）から「パルソール１７８９」の商標名で販売されている４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンが本発明において最も好ましく使用され、この遮蔽剤は次の構造式：
Figure 2004526665
に相当するものである。
【００１９】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、４−イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社（Ｍｅｒｃｋ）から「ユーソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）８０２０」の名前で販売されており、次の構造式：
Figure 2004526665
に相当するものである。
【００２０】
ジベンゾイルメタン誘導体（類）は、本発明の組成物、又は本発明の方法によって安定化される組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の含有量で存在する。
本発明の組成物は、水溶性又は脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である、他の付加的なＵＶ−Ａ活性及び／又はＵＶ−Ｂ活性のある有機サンスクリーン剤（吸収剤）を含有してもよい。
付加的な有機ＵＶサンスクリーン剤は、特にアントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；トリアジン誘導体、例えば米国特許第４３６７３９０号、米国特許第４７２４１３７号、欧州特許第８６３１４５号、欧州特許第５１７１０４号、欧州特許第５７０８３８号、欧州特許第７９６８５１号、欧州特許第７７５６９８号、欧州特許第８７８４６９号及び欧州特許第９３３３７６号、欧州特許第５０７６９１号、欧州特許第５０７６９２号、欧州特許第７９０２４３号及び欧州特許第９４４６２４号；β，β’−ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン；欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているビス−ベンゾアゾリル誘導体；ｐ−アミノ安息香酸誘導体（ＰＡＢＡ）；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第８９３１１９号に記載されているメチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；国際公開第９３／０４６６５号に記載されている遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマー；４，４−ジアリールブタジエン、例えば欧州特許出願第０９６７２００号及び独国特許出願第１９７５５６４９号に記載されているもの；及びそれらの混合物から選択される。
【００２１】
ＵＶ−Ａ活性又はＵＶ−Ｂ活性のある付加的な有機サンスクリーン剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下の標記のものが挙げられる：
パラ − アミノ安息香酸誘導体：
− ＰＡＢＡ、
− エチルＰＡＢＡ、
− エチル−ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
− 特にＩＳＰ社から「エスカロール（Ｅｓｃａｌｏｌ）５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル−ジメチルＰＡＢＡ、
− グリセリルＰＡＢＡ、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル（Ｕｖｉｎｕｌ）Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ−２５−ＰＡＢＡ。
【００２２】
サリチル酸誘導体：
− ロナ（Ｒｏｎａ）／ＥＭインダストリーから「ユーソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート（Ｈｏｍｏｓａｌａｔｅ）、
− ハーマン・アンド・ライマー社（Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ Ｒｅｉｍｅｒ）から「ネオ・ヘリオパン（Ｎｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ）ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
− スケル社（Ｓｃｈｅｒ）から「ディプサル（Ｄｉｐｓａｌ）」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
− ハーマン・アンド・ライマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２３】
β ， β − ジフェニルアクリラート誘導体：
− 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン（Ｏｃｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）、
− 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン（Ｅｔｏｃｒｙｌｅｎｅ）。
【００２４】
ベンゾフェノン誘導体：
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン−１、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン−２、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン−３又はオキシベンゾン、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン−４、
− ベンゾフェノン−５、
− ノルクアイ社（Ｎｏｒｑｕａｙ）から「ヘリソーブ（Ｈｅｌｉｓｏｒｂ）１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン−６、
− アメリカン・シアナミド社（Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｙａｎａｍｉｄ）社から「スペクトラ−ソーブ（Ｓｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ）ＵＶ−２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン−８、
− ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ−４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン−９、
− ベンゾフェノン−１２。
【００２５】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
− シメックス社（Ｃｈｉｍｅｘ）から「メキソリル（Ｍｅｘｏｒｙｌ）ＳＤ」の名称で製造されている３−ベンジリデンショウノウ、
− シメックス社から「メキソリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、
− シメックス社から「メキソリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− シメックス社から「メキソリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
【００２６】
ベンゾイミダゾール誘導体：
− 特に、メルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００２７】
ベンゾトリアゾール誘導体：
− チバ・スペシャリティー・ケミカルから「チノソーブ（Ｔｉｎｏｓｏｒｂ）Ｍ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル（Ｆａｉｒｍｏｕｎｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）社から「ミキシム（Ｍｉｘｘｉｍ）ＢＢ／１００」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
− ロ−ディア・シミー社（Ｒｈｏｄｉａ Ｃｈｉｍｉｅ）から「シラトリゾール（Ｓｉｌａｔｒｉｚｏｌｅ）」の名称で販売されているドロメトリゾール（Ｄｒｏｍｅｔｒｉｚｏｌｅ）トリシロキサン。
【００２８】
トリアジン誘導体：
− チバ・スペシャリティー・ケミカル社から「チノソーブＳ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
− 特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＴ１５０」の商品名で販売されているエチルヘキシルトリアゾン、
− シグマ３Ｖ社（Ｓｉｇｍａ ３Ｖ）から「ユバソーブ（Ｕｖａｓｏｒｂ）ＨＥＢ」の商品名で販売されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２，４，６−トリス（ジイソブチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン。
【００２９】
アントラニル誘導体：
− ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
− エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
− ホフマン−ラ・ロシェ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
【００３０】
より好ましい付加的な有機ＵＶ遮蔽剤（サンスクリーン剤）は、次の化合物：
− サリチル酸エチルヘキシル、
− オクトクリレン、
− フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
− テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
− アニソトリアジン、
− エチルヘキシルトリアゾン、
− ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
− ２，４，６−トリス（ジイソブチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
− ベンゾフェノン−３、
− ベンゾフェノン−４、
− ベンゾフェノン−５、
− フェニルジベンゾイミダゾレテトラスルホン酸二ナトリウム、
− メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
− ドロメトリゾール、
及びそれらの混合物、
から選択される。
【００３１】
さらに、本発明の化粧品用組成物は、被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料（一次粒子の平均粒径：一般に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、酸化チタン（非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結晶）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られている光保護剤である。さらに、標準的な被覆剤はアルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に記載されている。
【００３２】
またさらに、本発明の組成物は、皮膚をサンタン状態及び／又は褐色にする薬剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含有し得る。
本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル捕捉剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品の分野で通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバントを含有することができる。
脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール、及び直鎖状又は環状の脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フルオロ油及びペルフルオロ油から選択される。同様に、ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物性及び合成ロウから選択される。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に固有の有利な特性、特に光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、これらの任意の付加的な化合物（類）及び／又はその量を留意して選択するであろう。
【００３３】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一又は複合（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）エマルションの形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム−ゲル、パウダー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、フォーム又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法［バンガム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗａｔｋｉｎｓ）、Ｊ． Ｍｏｌ． Ｂｉｏｌ． １３， ２３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００３４】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、あるいは抗日光組成物として使用される場合、組成物は、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からの毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪の縮毛矯正（ｒｅｌａｘｉｎｇ）処理の前、処理中又は処理後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ処理、縮毛矯正毛、染色又は脱色用の毛髪のための組成物を構成し得る。
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【００３５】
指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００３６】
本明細書の最初に挙げたように、本発明の主題は、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚科学的組成物の調製における上述した組成物の用途にある。
本発明の他の主題は、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、少なくとも１つの上述した式（Ｉ）のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のＵＶ遮蔽剤を有効量組合せてなる、ＵＶ線に対する少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための方法にある。
本発明の他の主題は、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する目的で、少なくとも１つのジベンソイルメタンベース型のＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚病用組成物の製造において、上述した式（Ｉ）のα−アルキルスチレン−ベース二量体型のＵＶ遮蔽剤を使用することからなる。
【００３７】
以下に具体例を付与するが、本発明を例証するものであって、限定するものではない。
Figure 2004526665
【００３８】
Figure 2004526665
【００３９】
Figure 2004526665

Claims (24)

  1. 化粧品的に許容可能な支持体に：
    （ａ）０．１〜２０重量％のジベンゾイルメタン−ベース型のＵＶ遮蔽剤と、
    （ｂ）０．１〜２０重量％の以下の式（Ｉ）：
    Figure 2004526665
    ［上式中：
    − Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ、ＮＨ２、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルコキシ基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２モノアルキルアミノ基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２ジアルキルアミノ基又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ３及びＲ４は同一でも異なっていてもよく、基ＣＯＯＲ６、ＣＯＲ６、ＣＯＮＲ６Ｒ７又はＣＮを示し；
    − Ｒ５は直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
    − Ｒ６及びＲ７は同一でも異なっていてもよく、水素、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基；直鎖状又は分枝状のＣ２−Ｃ１０アルケニル基；分枝状又は非分枝状のＣ３−Ｃ１０シクロアルキル基；分枝状又は非分枝状のＣ３−Ｃ１０シクロアルケニル基；Ｃ６−Ｃ１８アリール又はＣ４−Ｃ７ヘテロアリールを示し；該シクロアルキル、シクロアルケニル及びアリール基はハロゲン、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、Ｃ１−Ｃ４モノアルキルアミノ基、Ｃ１−Ｃ４ジアルキルアミノ基、ヒドロキシル基、Ｃ１−Ｃ４アルキル基及びＣ１−Ｃ４アルコキシ基から選択される一又は複数の置換基を含有可能であり；該シクロアルキル及びシクロアルケニル基は一又は複数のヘテロ原子（例えばＯ、Ｎ又はＳ）を含有可能であり；
    − ＡはＯ、Ｓ又はＮＲ８基を示し；
    − Ｒ８は水素又は直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
    − Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基；Ｃ９−Ｃ２１モノオキソアラルキレン基；Ｃ８−Ｃ２２アラルキレン基；分枝状又は非分枝状のＣ４−Ｃ１２シクロアルキレン基；又はＣＯＯ−Ｃ１−Ｃ６−アシル、ＣＯＯＨ、ＣＮ、ＮＨ−Ｃ１−Ｃ６−アシル、ＮＨ−Ｃ１−Ｃ６−アルキル、ＮＨ２、ＯＣ１−Ｃ６−アシル、ヒドロキシルから選択される一又は複数の置換基を含んでいてもよい直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
    − Ｒ１、Ｒ２及びＲ８の少なくとも２つは、それらが結合しているベンゼン環と共同して５−又は６員環を形成可能であり；
    − Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｚ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｚ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｚ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｚ−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−Ｚ−を示し；
    − Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−を示し；
    − ＺはＯ又はＳを示し；
    − ｎは１〜１５０の範囲である］
    のα−アルキルスチレン−ベース二量体を少なくとも含有してなることを特徴とする、局所適用に使用される化粧品用又は皮膚用組成物。
  2. 式（Ｉ）の化合物が、
    − Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ１−Ｃ８アルキル基、Ｃ１−Ｃ８アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ３及びＲ４は同一でも異なっていてもよく、基ＣＯＯＲ６又はＣＮを示し；
    − Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し；
    − Ｒ６はＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
    − ＡはＯを示し；
    − Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基、Ｃ８−Ｃ２２アラルキレン基、Ｃ４−Ｃ１２シクロアルキレン基又はＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
    − Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｏ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−Ｏ−を示し；
    − Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−又はＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）−を示し；
    − ｎは１〜２０の範囲である、
    ものから選択される請求項１に記載の組成物。
  3. 式（Ｉ）の化合物が：
    − Ｒ１及びＲ２は同一でも異なっていてもよく、水素、Ｃ４−Ｃ８アルキル基、Ｃ４−Ｃ８アルコキシ基、又はカルボキシラート基、スルホナート基及びアンモニウム残基から選択される水可溶化置換基を示し；
    − Ｒ３及びＲ４はＣＮを示し；
    − Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基を示し；
    − ＡはＯを示し；
    − Ｂは［Ｘ］ｎ−Ｙ−基又はＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示し；
    − Ｒ８は水素又はＣ１−Ｃ１２アルキル基を示し；
    − Ｘは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−又は−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−Ｏ−を示し；
    − Ｙは、基−ＣＨ２−ＣＨ２−又は−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−を示し；
    − ｎは１〜２０の範囲である、
    ものから選択される請求項１又は２に記載の組成物。
  4. 式（Ｉ）の化合物が、次の式（Ｉａ）：
    Figure 2004526665
    ［上式中、Ｒ５はＣ１−Ｃ６アルキル基、特にメチルであり；ＢはＣ１−Ｃ１２アルキレン基を示す］
    に相当するものから選択される請求項１ないし３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 式（Ｉ）の化合物が、次の式：
    Figure 2004526665
    ［上式中、Ｂは次の基：
    −（ＣＨ２）２−
    −（ＣＨ２）３−
    −（ＣＨ２）４−
    −（ＣＨ２）５−
    −（ＣＨ２）６−
    −（ＣＨ２）７−
    −（ＣＨ２）８−
    −（ＣＨ２）９−
    −（ＣＨ２）１０−
    −（ＣＨ２）１２−
    −ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ−（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−
    −ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ２−
    −ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−
    −ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−
    Figure 2004526665
    から選択される］
    のものから選択される請求項４に記載の組成物。
  6. 式（Ｉ）の化合物が、次の化合物：
    Figure 2004526665
    から選択される請求項５に記載の組成物。
  7. α−アルキルスチレン−ベース二量体が、組成物の全重量に対して０．５〜１０重量％の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
  8. ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して０．５〜１０重量％の範囲の濃度で存在していることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. ジベンゾイルメタン誘導体が：
    − ２−メチルジベンゾイルメタン
    − ４−メチルジベンゾイルメタン
    − ４−イソプロピルジベンゾイルメタン
    − ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン
    − ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン
    − ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン
    − ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン
    − ４，４’−ジメトキシジベンゾイルメタン
    − ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
    − ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
    − ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
    − ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
    − ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン
    から選択されることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の組成物。
  10. ジベンゾイルメタン誘導体が、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項９に記載の組成物。
  11. ジベンゾイルメタン誘導体が、４−イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項９に記載の組成物。
  12. 他のＵＶ−Ａ活性及び／又はＵＶ−Ｂ活性のある有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
  13. 付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；トリアジン誘導体；β，β’−ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンゾイミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス−ベンゾアゾリル誘導体；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；メチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン；及び４，４−ジアリールブタジエン；及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１２に記載の組成物。
  14. 有機ＵＶ遮蔽剤が、次の化合物：
    − サリチル酸エチルヘキシル、
    − オクトクリレン、
    − フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、
    − テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
    − アニソトリアジン、
    − エチルヘキシルトリアゾン、
    − ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
    − ２，４，６−トリス（ジイソブチル−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、
    − ベンゾフェノン−３、
    − ベンゾフェノン−４、
    − ベンゾフェノン−５、
    − フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
    − メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
    − ドロメトリゾール、
    及びそれらの混合物、
    から選択されることを特徴とする請求項１３に記載の組成物。
  15. 被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の組成物。
  16. 前記顔料又はナノ顔料が、被覆された又は被覆されていない酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
  17. 皮膚を人工的にサンタン状態及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の組成物。
  18. 脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、フリーラジカル捕捉剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、α−ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、酸性化又は塩基性化剤、及び着色料から選択される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の組成物。
  19. 非イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形チューブ、ムース又はスプレーの形態であり、ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
  20. 固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマルション、懸濁液又は分散液の形態であり、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
  21. シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であり、紫外線から毛髪を保護することを意図した組成物であることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
  22. 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための化粧品用又は皮膚用組成物の製造における、請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物の使用。
  23. 前記ジベンゾイルメタン誘導体と、請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物に使用される少なくとも１つの式（Ｉ）のα−アルキルスチレンから誘導された二量体を有効量組合せてなることを特徴とする、紫外線に対する少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための方法。
  24. 少なくとも１つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製における、該ジベンゾイルメタン誘導体の紫外線に対する安定性を改善するための、請求項１ないし６のいずれか１項に記載された式（Ｉ）のα−アルキルスチレン−ベース二量体の使用。
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