JP2003188536A - プリント配線板の製造方法およびプリント配線板 - Google Patents

プリント配線板の製造方法およびプリント配線板

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JP2003188536A
JP2003188536A JP2001384428A JP2001384428A JP2003188536A JP 2003188536 A JP2003188536 A JP 2003188536A JP 2001384428 A JP2001384428 A JP 2001384428A JP 2001384428 A JP2001384428 A JP 2001384428A JP 2003188536 A JP2003188536 A JP 2003188536A
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printed wiring
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JP2001384428A
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Mutsusada Ito
睦禎 伊藤
Hiroshi Asami
浅見  博
Yuji Nishitani
祐司 西谷
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 導体パターンの層間接続をファインピッチで
行うことができ、また、異種材料でなる積層板を容易に
多層化することができるプリント配線板の製造方法およ
びプリント配線板を提供すること。 【解決手段】 第1の導体パターン16Aと第2の導体
パターン26Aとが互いに対向するように層間絶縁層3
1を介して第1,第2の積層板11,21を積み重ねて
なるプリント配線板において、層間絶縁層を31を感光
性のある絶縁性の接着シート32で構成して異種積層板
11,21の多層化を容易にするとともに、層間接続部
30を、接着シート32の所定部位を感光させて形成し
たファインピッチの貫通孔33に導電ペースト34を充
填して構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、導体パターン間の
層間接続をファインピッチで実現することができるプリ
ント配線板の製造方法およびプリント配線板に関する。
【0002】
【従来の技術】携帯電話やPDA(Personal Digital As
sistant)等のモバイル用通信機器、ノート型パソコン等
の電子機器の小型化、高機能化に伴い、これらを構成す
る電子部品の高密度実装対応が不可欠となっている。電
子部品の高密度実装化は、従来より、電子部品の小型化
による部品端子のファインピッチ化や、電子部品が実装
されるプリント配線板上の導体パターンの微細化によっ
て対応している。それに加えて近年においては、プリン
ト配線板を積層することによって三次元的な配線の引き
回しを可能とする多層プリント配線板の開発が進められ
ている。
【0003】この種のプリント配線板は、例えば、絶縁
基材の両面に貼着された導体箔が所定形状にパターニン
グされてなる積層板を、層間絶縁層を介して複数枚積層
することによって構成される。層間絶縁層には、各導体
層をその積層方向に電気的に接続するための層間接続部
が形成される。この層間接続部の構成例としては、例え
ば以下のようなものがある。
【0004】第1の例として、特開平2−164096
号公報には、図8に示すような構成のプリント配線板が
記載されている。図示するプリント配線板101は、絶
縁基材103の両面に導体パターン104が形成された
積層板102を、接着材料層105を介して3層積層す
ることによって構成されている。なお、図において符号
107は、プリント配線板101上に搭載される半導体
チップ等の電子部品、108は電子部品107を導体パ
ターン104上に接合するためのはんだである。
【0005】図8に示した構成のプリント配線板101
においては、スルーホール106が各層の導体パターン
104間を導通させるための層間接続部として構成され
る。スルーホールは、一般に、積層板を必要数積み重ね
た後、所定部位にドリルを用いて貫通孔を形成し、その
貫通孔の内壁面にめっき処理を施すことによって形成さ
れる。
【0006】従来の層間接続部の第2の構成例として、
例えば特開平6−268345号公報に記載のものがあ
る。これには、図9(e)に示すように2枚の積層板1
12,116を中間接続体120を介して積層してなる
ビルドアップ型のプリント配線板111が記載されてい
る。このプリント配線板111は、いわゆるALIVH
(Any Layer Interstitial Via Hole structure) 法によ
って製造されるプリント配線板として知られている。
【0007】積層板112,116はそれぞれ、絶縁基
材113,117に対し、ビア貫通体114,118を
形成後、導体箔を接着し、導体パターン115,119
を形成して作製される(図9(a),(b))。中間接
続体120は、絶縁基材121と、一方の積層板112
の導体パターン115と他方の積層板116の導体パタ
ーン119との間を電気的に接続するビア貫通体122
とから構成される(図9(c))。そして、積層板11
2,中間接続体120,積層板116の順番で積み上げ
た後(図9(d))、加圧プレスによって一体化させて
いる(図9(e))。この例では、ビア貫通体114,
118,122がそれぞれ層間接続部として構成されて
いる。
【0008】従来の層間接続部の第3の構成例として
は、例えば特開2001−15920号公報に記載され
ているように、いわゆるB2 it(Buried Bump Interco
nnection Technology)工法によって作製したプリント配
線板の層間接続部の構成が挙げられる。
【0009】先ず、図10(a),(b)に示すよう
に、銅箔132上の所定箇所に導電ペーストを印刷して
略円錐形状のバンプ133を形成し、これに層間絶縁層
としてのプリプレグ134を積層させる。バンプ133
は積層されたプリプレグ134を貫通し、その頂部が、
銅箔132とプリプレグ134との間のローラ圧着によ
って押し潰されている。一方、図10(c)に示すよう
に、絶縁基材136の両面に導体パターン137,13
8を形成した積層板135を準備しておく。そして、図
10(d)に示すように銅箔132とプリプレグ134
との積層体を積層板135に積み重ね、導体パターン1
37に対してバンプ133を接触させて積層する。こう
して得られたプリント配線板131は、バンプ133が
銅箔132と導体パターン137とを接続する層間接続
部として構成される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】近年における電子機器
の高性能化および多機能化により、これを構成する電子
部品の小型化および部品実装効率の向上が強く望まれて
いる。このため、プリント配線板の構成において層間接
続構造の更なる微細化、ファインピッチ化が必要とされ
ている。
【0011】しかしながら、図8を参照して説明した第
1の従来例では、層間接続部をスルーホール106で構
成するために、形成した貫通孔の内壁面に銅等のスルー
ホールめっきを形成する必要があるが、各積層板102
の絶縁基材103の材質が異なると、その材料に固有の
銅めっき条件があるために、同時にかつ確実に各層の内
壁面にめっき処理を施すことは困難である。また、ドリ
ル加工では、貫通孔をファインピッチに形成することが
困難である。
【0012】また、図9に示した第2の従来例において
は、層間接続部として構成されるビア貫通体114,1
18,122は、レーザ加工法によって形成された貫通
孔に導電ペーストを充填することによって構成される
が、このレーザ加工法による孔空けでは、貫通孔をファ
インピッチに形成しにくいという問題がある。
【0013】さらに、図10を参照して説明した第3の
従来例においても、層間接続部としてのバンプ133を
ファインピッチで形成することが困難であるだけでな
く、高圧をかけてバンプ133によってプリプレグ13
4を突き破るようにしているので、絶縁基材がセラミッ
ク系の材料で構成される場合には割れや欠けが発生して
しまう。
【0014】以上の各従来技術においては、プリント配
線板を構成する各積層板がすべて均一か、あるいは同系
の材料で構成する必要があり、また、層間の電気的接続
を行う層間接続部は、ファインピッチにすることができ
ない。このような従来の技術は、今後のセットの高機能
化、高密度実装化の発展において重大な障害となり得
る。
【0015】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、導体
パターンの層間接続をファインピッチで行うことがで
き、また、異種材料でなる積層板を容易に多層化するこ
とができるプリント配線板の製造方法およびプリント配
線板を提供することを課題とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】以上の課題を解決するに
当たり、本発明のプリント配線板の製造方法は、第1の
導体パターンが形成された第1の積層板と、第2の導体
パターンが形成された第2の積層板とを、第1および第
2の導体パターンが互いに対向するように層間絶縁層を
介して積層してなるプリント配線板の製造方法であっ
て、第1および第2の積層板と、層間絶縁層として感光
性の接着シートとを準備する工程と、接着シートの所定
部位に対して露光および現像の各処理を行って、層間接
続用の貫通孔を形成する工程と、貫通孔に導電材料を充
填する工程と、貫通孔に導電材料が充填された接着シー
トを用いて、第1および第2の積層板を貼り合わせる工
程とを有することを特徴とする。
【0017】また、本発明のプリント配線板は、層間絶
縁層を介して対向する第1および第2の導体層の間が上
記層間絶縁層中の層間接続部によって互いに導通される
プリント配線板であって、層間絶縁層が、感光性の接着
シートからなるとともに、層間接続部が、当該接着脂シ
ートを感光させて形成される貫通孔内に充填した導電材
料からなることを特徴とする。
【0018】本発明においては、層間絶縁層として感光
性の接着シートを用いているので、層間接続用の貫通孔
をリソグラフィ法によってファインピッチに形成するこ
とができる。また、層間接続部は上記貫通孔へ導電材料
を充填することによって構成することができる。また、
上記接着シートを用いることによって、各積層板が互い
に異種の材料で構成されている場合でも、容易に多層化
することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
【0020】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施の形態によるプリント配線板の構成を示してい
る。本実施の形態のプリント配線板10は、第1の積層
板11と第2の積層板12とを層間絶縁層31を介して
積層してなる多層構造を呈している。
【0021】第1の積層板11は、第1の絶縁基材12
と、その両面に所定形状に形成された例えば銅等からな
る導体パターン(回路パターン)16A,16Bとから
構成されている。本実施の形態では、第1の絶縁基材1
2は、アルミナやサファイア、窒化アルミニウム等のセ
ラミック系材料で構成されており、その厚さは例えば
0.4mmである。
【0022】第1の絶縁基材12の図1において上面側
に形成される導体パターン16Aは、本発明の「第1の
導体パターン」あるいは「第1の導体層」に対応する。
導体パターン16A,16Bは部分的にスルーホール
(貫通孔13とその内壁面に形成した導電めっき15)
を介して接続されている。スルーホール内は、例えばエ
ポキシ樹脂あるいは金属ペーストでなる充填体14で埋
められている。
【0023】他方、第2の積層板21は、第2の絶縁基
材22と、その両面に所定形状に形成された例えば銅等
からなる導体パターン(回路パターン)26A,26B
とから構成されている。本実施の形態では、第2の絶縁
基材22は、ガラスエポキシやポリイミド、ビスマレイ
ミドトリアジン等の有機系材料で構成されており、その
厚さは例えば0.4mmである。
【0024】第2の絶縁基材22の図1において下面側
に形成される導体パターン26Aは、本発明の「第2の
導体パターン」あるいは「第2の導体層」に対応する。
導体パターン26A,26Bは部分的にスルーホール
(貫通孔23とその内壁面に形成した導電めっき25)
を介して接続されている。スルーホール内は、例えばエ
ポキシ樹脂あるいは金属ペーストでなる充填体24によ
り埋められている。
【0025】第1の積層板11と第2の積層板21と
は、第1の導体パターン16Aと第2の導体パターン2
6Aとが互いに対向するように層間絶縁層31を介して
貼り合わされている。これら第1,第2の導体パターン
16A,26Aが形成される第1,第2の積層板11,
21のそれぞれの貼り合わせ面は、第1の導体パターン
16A間の隙間および第2の導体パターン26A間の隙
間にそれぞれ例えばソルダレジスト等の絶縁膜17,2
7が形成されることにより、平坦化されている。
【0026】層間絶縁層31は、感光性の接着シート3
2から構成されている。接着シート32は、半硬化状態
のエポキシ等の熱硬化性樹脂を主体とする絶縁性のシー
ト材に感光性を付与してなり、その厚さは例えば30μ
mである。なお、図においては説明を分かり易くするた
めに、接着シート32の厚さを誇張して示している。
【0027】接着シート32の所定部位には複数の貫通
孔33が形成されている。貫通孔33は接着シート32
の所定部位を感光させて形成され、その孔径は、本実施
の形態では最小で約30μmである。貫通孔33は、第
1の導体パターン16Aと第2の導体パターン26Aと
の間の層間接続を行うための孔で、内部に導電ペースト
34が充填されている。
【0028】導電ペーストは公知のように、バインダに
銀、金、銅等の導電フィラーを所定量混入させてなるも
ので、本実施の形態における導電ペースト34は、導電
粒子としてφ3μm以下の銀粒子を導電フィラーとした
ものが用いられる。
【0029】これら貫通孔33および導電ペースト34
により、本発明に係る層間接続部30が構成される。層
間接続部30によって互いに導通される第1および第2
の導体パターン16A,26Aはそれぞれ、複数の接続
ランド部16a,16b,16cおよび26a,26
b,26cとされる。すなわち、互いに対向して配置さ
れる接続ランド部16aと26a、接続ランド部16b
と26b、および、接続ランド部16cと26cの各組
み合わせが、それぞれ層間接続部30によって接続され
ている。
【0030】本実施の形態のプリント配線板10は以上
のように構成される。本実施の形態のプリント配線板1
0によれば、層間絶縁層31を構成する接着シート32
が感光性のシート材で構成されているので、層間接続用
の貫通孔33をリソグラフィ技術を用いてファインピッ
チに形成することができ、これによりファインピッチに
形成された接続ランド部16a〜16cおよび26a〜
26c間の層間接続を行うことができる。
【0031】また、層間絶縁層31として、半硬化状態
の熱硬化性樹脂材料を主体とするシート材で接着シート
32が構成されているので、絶縁基材12,22が異種
材料で構成される複数の積層板11,21の多層構造を
加熱加圧プレスによって容易に実現することができる。
例えば本実施の形態のように、絶縁基材12がセラミッ
ク系材料で構成される第1の積層板11にあっては高周
波回路用基板として、また、絶縁基材22が有機系材料
で構成される第2の積層板21にあってはデジタル回路
用基板としてそれぞれ適しているので、これにより、シ
ステム的な機能を実現できる多層プリント配線板を得る
ことができる。
【0032】なお、以上のプリント配線板10は、第1
および第2の2つの積層板11,21の積層構造体を例
に挙げて説明したが、例えば図1において第1の積層板
11の下面および第2の積層板21の上面に対し、更に
同種または異種材料からなる積層板を積み上げてビルド
アップ化を図ることも可能である。
【0033】次に、以上のように構成される本実施の形
態のプリント配線板10の製造方法について説明する。
【0034】本実施の形態のプリント配線板10の製造
方法は、第1および第2の積層板11,21と、層間絶
縁層31として感光性の接着シート32とを準備する工
程と、接着シート32の所定部位を感光させて、層間接
続用の貫通孔33を形成する工程と、貫通孔33に導電
ペースト34を充填する工程と、導電ペースト34が充
填された接着シート32を用いて、第1および第2の積
層板11,21を貼り合わせる工程と、を有する。
【0035】図2(a)〜(f)は、第1の積層板11
の製造方法の一例を示す工程断面図である。
【0036】第1の積層板11を製造するにあたって
は、先ず、絶縁基材12の両面に銅箔16,16が貼り
付けられた両面銅張積層板を準備し、これにドリル加工
等によって貫通孔13を形成する(図2(a),
(b))。次いで、形成した貫通孔13の内壁面に対し
て例えば銅からなるスルーホールめっき(導電めっき)
15を形成し、両面の銅箔16,16を電気的に接続す
る(図2(c))。
【0037】次に、形成したスルーホールを充填体14
で埋める(図2(d))。充填方法としては、印刷法や
ディスペンス法等が適用できる。なお、スルーホールを
充填体14で埋める目的は、基板内における熱伝導性を
向上させることと、プリント配線板10上に半導体チッ
プ等の電子部品を実装する際に、接合材としてのはんだ
をリフロー加熱したときにスルーホール内の空気の膨張
によってプリント配線板の損傷を防止することである。
【0038】続いて、銅箔16,16上にフォトレジス
トを形成し、露光、現像およびエッチングの各工程を経
て所定形状の導体パターン16A,16Bを形成する
(図2(e))。導体パターン16Aの一部を構成する
接続ランド部16a〜16cは、200μm以下、例え
ば100μmのピッチで形成される。
【0039】そして、導体パターン16Aが形成される
側の絶縁基材11の表面であって、導体パターン16A
が形成されない領域に対してソルダレジスト等の絶縁膜
17を形成し、当該絶縁膜17の表面を導体パターン1
6Aの表面と同一平面とする(図2(f))。これによ
り、当該絶縁基材11の貼り合わせ面(導体パターン1
6Aが形成される側の面)が平坦化される。
【0040】第1の積層板11は以上のようにして作製
される。なお、第2の積層板21もまた、上述の第1の
積層板11の製造工程と同様な工程を経て作製されるの
で、その説明は省略するものとする。
【0041】一方、層間絶縁層31は、図3(a)〜
(d)に示す工程を経て作製される。
【0042】先ず、接着シート32として未硬化(半硬
化状態)で感光性が付与されたエポキシ樹脂シートを用
意する。本実施の形態では、接着シート32として、例
えば住友ベークライト社製の感光性接着シート(CFP
2035)が用いられる。用意した接着シート32に
は、図3(a)に示すように、取り扱い上の便宜のた
め、ポリイミドやポリエチレンテレフタレート(PE
T)等からなる支持フィルム37を仮接着しておく。
【0043】次に、ガラスマスク等の露光マスク(図示
略)を接着シート32の上に重ね合わせ、接着シート3
2の所定部位に露光光(例えば紫外光)を照射し、接着
シート32の所定部位を感光させる。その後、現像液中
に浸して樹脂シート32の所定部位に層間接続用の貫通
孔33を形成する(図3(b))。
【0044】ここで、接着シート32がポジ型の感光性
シートであれば、露光光が照射された領域が現像液中に
溶解し、ネガ型の感光性シートであれば、露光光が照射
されなかった領域が現像液中に溶解することによって貫
通孔33が形成されるが、本発明では、何れのタイプの
感光性シートでも用いることができる。
【0045】続いて、図3(c)に示すように、形成し
た貫通孔33に対して導電ペースト34を充填する。本
実施の形態では、貫通孔33に対応する開口を備えたス
テンシルマスク39を接着シート32に被せ、その上か
ら導電ペースト34をスキージ38を用いて貫通孔33
内へ充填するスクリーン印刷法が用いられる。ここで、
導電ペースト34としてφ3μmの銀粒子を用いている
ので、貫通孔(φ30μm)33の内部に容易に充填さ
せることができる。なお、導電ペーストに代えて、ソル
ダペーストを用いてもよい。
【0046】なお、ステンシルマスク39の裏面には、
剥離性の高いポリテトラフルオロエチレン等を塗布する
ようにしてもよい。また、本工程は、ステンシルマスク
39を使用しないで実施することも可能である。
【0047】その後、図3(d)に示すように、貫通孔
33内へ導電ペースト34が充填された接着シート32
から支持フィルム37が剥離除去されることによって、
層間絶縁層31が作製される。ここで、貫通孔33およ
び導電ペースト34により、層間接続部30が構成され
る。
【0048】次に、図4に示すように、導体パターン1
6A,26Aの接続ランド部16a〜16c,26a〜
26cが層間絶縁層31の層間接続部30と対向するよ
うに、第1の積層板11、層間絶縁層31および第2の
積層板21を位置決め配置する。そして、これらを貼り
合わせ、真空中で加熱加圧プレスを行い、図1に示した
ように第1および第2の積層板11,21および層間絶
縁層31を一体化させてプリント配線板10を作製す
る。
【0049】なお、本実施の形態では、基板サイズとし
て125mm×165mmのものが用いられ、温度18
5℃、圧力2.5MPa、時間90分の加熱加圧プレス
条件でプリント配線板10を作製した。
【0050】本実施の形態のプリント配線板10は、以
上のようにして製造される。本実施の形態によれば、第
1の導体パターン16Aの接続ランド部16a〜16c
と、第2の導体パターン26Aの接続ランド部26a〜
26cとの間の層間接続部30を、フォトリソグラフィ
法によってファインピッチに形成することができる。
【0051】また、接着シート32を用いているので、
異種材料からなる積層板11,21を容易に積層するこ
とができるとともに、多層構造のプリント配線板を製造
するにあたり、積層板の材料選定上の制約をなくすこと
ができる。また、絶縁膜17,27により積層板11,
21のそれぞれの貼り合わせ面の平坦度が確保されるの
で、接着シート32による第1,第2の積層板11,2
1の密着化を図ることができる。
【0052】さらに、第1および第2の積層板11,2
1の貼り合わせ工程においては、接着シート32の熱硬
化が完了するまで軽く圧力を加えていればよいので、上
述した第3の従来例(B2 it法)のようにバンプで絶
縁層を突き破らせるような高い圧力は不要であり、機械
的なストレスも少なくすることができる。
【0053】(第2の実施の形態)次に、図5および図
6を参照して、本発明の第2の実施の形態について説明
する。本実施の形態においては、接着シート32に形成
した層間接続用の貫通孔33に対する導電材料の充填方
法が、上述の第1の実施の形態と異なる。なお、図にお
いて上述の第1の実施の形態と対応する部分については
同一の符号を付し、その詳細な説明は省略するものとす
る。
【0054】図5に示すように、本実施の形態では、接
着シート32を支持する支持フィルムとして、例えば銅
箔でなる導電性シート40が用いられている。接着シー
ト32は、接着性のある熱硬化型のエポキシなどの材料
に感光性を付与した、厚さが例えば30μmのシート材
が用いられる(第1の実施の形態と同じ)。導電性シー
ト40は、接着シート32の一方の面に仮接着されて
る。なお、導電性シート40の接着面は、後の接着シー
ト32から剥がす際、貫通孔33に充填された導電材料
(銅めっき35)と分離し易いように、ある程度酸化さ
せておく。
【0055】接着シート32に対する露光光の照射およ
び現像処理を行うことによって貫通孔33を形成した
後、貫通孔33に対して導電材料を充填する工程が行わ
れる。本実施の形態では、貫通孔33に対して電解めっ
き法(電解析出法)によって銅めっき35を析出、充填
するようにしている。
【0056】図6に模式的に示すように、貫通孔33を
形成した接着シート32を導電性シート40とともに、
めっき浴槽41内の硫酸銅水溶液等の銅の電解液42に
浸漬させ、正電極43に接続された銅板44と対向させ
る。導電性シート40は、負電極45と接続される。そ
して、銅板44と導電性シート40との間に所定の電圧
を印加して、電解液中の電離したCu2+イオンを接着シ
ート32の貫通孔33を介して導電性シート40上に析
出、堆積させる。
【0057】以上のようにして、貫通孔33の内部全域
を銅めっき35で充填した後、接着シート32をめっき
浴槽41から取り出す。そして、導電性シート40を接
着シート32から除去する。これにより、貫通孔33内
に銅めっき35が充填された層間絶縁層31が構成され
る。以後、上述の第1の実施の形態と同様なプロセスを
経て、プリント配線板10が作製される。
【0058】本実施の形態によっても上述の第1の実施
の形態と同様な効果を得ることができるが、特に本実施
の形態によれば、導電ペースト34で層間接続部を構成
する場合よりも低抵抗な層間接続部を得ることができ
る。
【0059】(第3の実施の形態)図7は、本発明の第
3の実施の形態を示している。なお、図において上述の
第1の実施の形態と対応する部分については同一の符号
を付し、その詳細な説明は省略するものとする。
【0060】上述の第1の実施の形態と同様に、感光性
の接着シート32に支持フィルム37を仮接着した状態
で露光、現像処理を行うことにより層間接続用の貫通孔
33を形成する。その後、当該貫通孔33へ導電ペース
ト34をスクリーン印刷法で充填することにより、層間
接続部30を備えた層間絶縁層31を作製する(図7
(a)〜(d))。
【0061】次いで、作製した層間絶縁層31の両面に
銅箔等の金属箔46を加熱加圧プレスにより貼り付ける
(図7(e))。これにより、層間接続部30を介して
互いに導通される第1および第2の導体層46A,46
Bを備えたプリント配線板の準備体となる回路形成用基
板47が作製される。なお、この回路形成用基板47の
構成は、請求項6に記載のプリント配線板の一具体例に
相当する。
【0062】次に、第1および第2の導体層46A,4
6Bを所定形状にパターニングして第1および第2の導
体パターン48A,48Bを形成する。これにより、層
間絶縁層31を介して対向する第1および第2の導体パ
ターン48A,48Bの間をファインピッチで接続する
層間接続部30を備えた単層のプリント配線板49を作
製することができる(図7(f))。
【0063】以上のようにして作製されるプリント配線
板49によれば、薄型の両面プリント配線板を得ること
ができるのは勿論、各面に形成された導体パターン48
A,48Bの間を、ファインピッチで形成された層間接
続部30を介して接続されているので、部品実装密度の
高密度化を図ることができるととともに、セットの軽薄
短小化、多機能化にも十分に対応することができる。
【0064】以上、本発明の各実施の形態について説明
したが、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、
本発明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能であ
る。
【0065】例えば以上の第1の実施の形態では、第1
の積層板11と第2の積層板21とをそれぞれ異種の材
料で構成したが、勿論、これらを同種の材料で構成する
ようにしてもよい。また、上述のように、プリント配線
板10は2枚の積層板11,21の多層構造に限らず、
更に複数枚の積層板を積み重ねることができる。
【0066】また、以上の各実施の形態では、接着シー
ト32に対する貫通孔33の形成方法としてフォトリソ
グラフィ法を採用したが、これに限らず、電子ビーム露
光やX線露光等の他のリソグラフィ法も本発明は適用可
能である。
【0067】また、作製したプリント配線板10は、電
子部品が搭載されるマザーボードとして使用するだけに
限らず、CSP(Chip Scale Package)/BGA(Ball Gr
id Array) 用のインターポーザ基板として使用すること
ができる。
【0068】さらに、以上の第2の実施の形態において
は、貫通孔33に充填するめっき金属を銅めっき35と
したが、これだけに限らず、例えばすずやインジウム等
の他の金属めっきとすることも可能である。なお、電解
めっき法に限らず、接着シートの外面をレジスト等で被
覆し無電解めっき法によって貫通孔33へ導電層を形成
してもよい。この場合、導電シート40は必要ではな
い。
【0069】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、以
下の効果を得ることができる。
【0070】すなわち、本発明のプリント配線板の製造
方法によれば、層間絶縁層の両面に形成された第1の導
体パターンと第2の導体パターンとの間を相互に接続す
る層間接続部を、ファインピッチに形成することができ
る。また、異種材料でなる積層板の多層化を容易に行う
ことができる。
【0071】請求項2の発明によれば、加熱加圧プレス
によって異種または同種の複数の積層板による多層化を
図ることができる。
【0072】請求項3の発明によれば、積層板の貼り合
わせ面の平坦化によって、多層化される各積層板の密着
力を高めることができる。
【0073】また、本発明のプリント配線板によれば、
層間絶縁層を介して対向する第1,第2の導体層の間を
ファインピッチで層間接続することができ、部品実装密
度の高密度化を図ることができる。
【0074】請求項7の発明によれば、積層板間の接着
を容易に行うことができる。
【0075】請求項9の発明によれば、各積層板のそれ
ぞれの貼り合わせ面が平坦化されて、接着シートとの密
着力の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態によるプリント配線
板の構成を示す断面図である。
【図2】(a)〜(f)ともに、図1の第1の積層板1
1の製造方法を説明する工程断面図であり、とくに
(f)は、導体パターン16A間の隙間に絶縁膜を形成
して積層板11の貼り合わせ面を平坦化する工程を示し
ている。
【図3】(a)〜(d)ともに、図1における層間絶縁
層31の製造方法を説明する工程断面図であり、とく
に、(a)は接着シートの準備工程、(b)は貫通孔の
形成工程、(c)は導電材料の充填工程をそれぞれ示し
ている。
【図4】本発明の第1の実施の形態によるプリント配線
板の製造工程の一部を示す断面図であり、第1および第
2の積層板を層間絶縁層に対して位置決めする工程を示
している。
【図5】本発明の第2の実施の形態によるプリント配線
板の層間絶縁層を構成する接着シートの準備工程および
層間接続用の貫通孔形成工程を説明する断面図である。
【図6】本発明の第2の実施の形態によるプリント配線
板の層間絶縁層を構成する接着シートの貫通孔内への導
電材料の充填工程を説明する断面図である。
【図7】(a)〜(f)ともに、本発明の第3の実施の
形態によるプリント配線板の製造工程を説明する工程断
面図である。
【図8】第1の従来例によるプリント配線板を示す断面
図である。
【図9】第2の従来例によるプリント配線板の製造方法
を示す工程断面図である。
【図10】第3の従来例によるプリント配線板の製造方
法を示す工程断面図である。
【符号の説明】
10,49…プリント配線板、11…第1の積層板、1
2…第1の絶縁基材、16A,48A…第1の導体パタ
ーン、16a,16b,16c,26a,26b,26
c…接続ランド部、17,27…絶縁膜、21…第2の
積層板、22…第2の絶縁基材、26A,48B…第2
の導体パターン、30…層間接続部、31…層間絶縁
層、32…接着シート、33…貫通孔、34…導電ペー
スト(導電材料)、35…銅めっき(導電材料)、40
…導電性シート、46A…第1の導体層、46B…第2
の導体層、47…回路形成用基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西谷 祐司 東京都品川区北品川6丁目7番35号 ソニ ー株式会社内 Fターム(参考) 5E346 AA12 AA43 CC02 CC08 CC16 EE08 FF04 FF18 GG15

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の導体パターンが形成された第1の
    積層板と、第2の導体パターンが形成された第2の積層
    板とを、前記第1および第2の導体パターンが互いに対
    向するように層間絶縁層を介して積層してなるプリント
    配線板の製造方法であって、 前記第1および第2の積層板と、前記層間絶縁層として
    感光性の接着シートとを準備する工程と、 前記接着シートの所定部位に対して露光および現像の各
    処理を行って、層間接続用の貫通孔を形成する工程と、 前記貫通孔に導電材料を充填する工程と、 前記貫通孔に導電材料が充填された接着シートを用い
    て、前記第1および第2の積層板を貼り合わせる工程と
    を有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記接着シートとして、半硬化状態の熱
    硬化性樹脂を主体とするシート材が用いられることを特
    徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第1および第2の積層板を準備する
    工程には、前記第1および第2の積層板のそれぞれの貼
    り合わせ面を、前記第1および第2の導体パターンが形
    成されない領域に絶縁膜を形成することによって、平坦
    にする工程が含まれることを特徴とする請求項1に記載
    のプリント配線板の製造方法。
  4. 【請求項4】 前記貫通孔に前記導電材料を充填する工
    程が、スクリーン印刷法によって行われることを特徴と
    する請求項1に記載のプリント配線板の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記貫通孔に前記導電材料を充填する工
    程が、前記接着シートの一方の面に貼着した導電性シー
    トを電極として用いた電解めっき法によって行われるこ
    とを特徴とする請求項1に記載のプリント配線板の製造
    方法。
  6. 【請求項6】 層間絶縁層を介して対向する第1および
    第2の導体層の間が前記層間絶縁層中の層間接続部によ
    って互いに導通されるプリント配線板であって、 前記層間絶縁層が、感光性の接着シートからなるととも
    に、 前記層間接続部が、前記接着シートの所定部位を感光さ
    せて形成される貫通孔内に充填した導電材料からなるこ
    とを特徴とするプリント配線板。
  7. 【請求項7】 前記層間絶縁層が、熱硬化性樹脂を主体
    とするシート材からなることを特徴とする請求項6に記
    載のプリント配線板。
  8. 【請求項8】 前記第1および第2の導体層がそれぞ
    れ、第1および第2の絶縁基材上に形成された第1およ
    び第2の導体パターンであることを特徴とする請求項6
    に記載のプリント配線板。
  9. 【請求項9】 前記第1および第2の絶縁基材の互いに
    対向する面が、前記第1および第2の導体パターンが形
    成されない領域に絶縁膜が形成されることによって平坦
    化されていることを特徴とする請求項8に記載のプリン
    ト配線板。
  10. 【請求項10】 前記第1の絶縁基材と前記第2の絶縁
    基材とが、互いに異種の材料からなることを特徴とする
    請求項8に記載のプリント配線板。
  11. 【請求項11】 前記第1の絶縁基材がセラミック系材
    料からなるとともに、前記第2の絶縁基材が有機系材料
    からなることを特徴とする請求項10に記載のプリント
    配線板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009141010A (ja) * 2007-12-04 2009-06-25 Hitachi Chem Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2009283609A (ja) * 2008-05-21 2009-12-03 Mitsubishi Electric Corp セラミック基板の製造方法
JP2011527099A (ja) * 2008-07-02 2011-10-20 ネーデルランツ オルガニサティー フォール トゥーゲパストナトゥールヴェテンシャッペリーク オンデルズーク テーエンオー 伝導構造を多層ホイルシステムに設ける方法および伝導構造を備えた多層ホイルシステム

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JP2009141010A (ja) * 2007-12-04 2009-06-25 Hitachi Chem Co Ltd 半導体装置及びその製造方法
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JP2011527099A (ja) * 2008-07-02 2011-10-20 ネーデルランツ オルガニサティー フォール トゥーゲパストナトゥールヴェテンシャッペリーク オンデルズーク テーエンオー 伝導構造を多層ホイルシステムに設ける方法および伝導構造を備えた多層ホイルシステム
US10575411B2 (en) 2008-07-02 2020-02-25 Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno Method of providing conductive structures in a multi-foil system and multifoil system comprising same

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