JP2003188514A - 混載型電子回路装置の製造方法 - Google Patents
混載型電子回路装置の製造方法Info
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Abstract
続工程と同時に行うことで、工程を簡素化できる混載型
電子回路装置の製造方法を提供する。 【解決手段】基板1の第2接続電極3上および環状電極
4上にはんだ層Bを形成する工程と、はんだ層Bが形成
された第2接続電極3上に第2の回路素子20を配置す
る工程と、第2接続電極3上のはんだ層を溶融させて第
2の回路素子20と第2接続電極3とを接続固定すると
同時に、環状電極4上のはんだ層を溶融・固化させては
んだ封止枠7を形成する工程と、第1の回路素子10の
回路部に固定された突起電極15を基板1の第1接続電
極2に接合すると共に、はんだ封止枠7を再溶融させて
第1の回路素子10の環状電極14をはんだ封止枠7に
封着する工程と、を含む混載型電子回路装置の製造方法
である。
Description
電極を介して接合される第1の回路素子と、はんだ接続
される第2の回路素子とを混載した混載型電子回路装置
の製造方法に関するものである。
し、セラミック基板上に封止の必要な部品と封止の必要
ない部品とを混載した混載型回路基板が要求、開発され
ている。例えば、弾性表面波部品は、単結晶材料などの
表面に微細配線を施し、表面波を励起してフィルタ特性
を取り出すものであるが、表面の微細配線は一般に酸
化,腐食されやすい金属(例えばAlなど)が用いられ
ているので、このような部品は基板に対して気密封止す
る必要がある。一方、チップコンデンサやチップ抵抗の
ような表面実装部品(SMD)は封止の必要がない。
は、1枚の基板上に封止の必要な部品と封止の必要ない
部品とを混載した混載型回路基板が提案されている。封
止の必要な回路素子(例えば弾性表面波素子)には突起
電極が固定され、基板の表面には突起電極と接合される
接合電極とこの接合電極を取り囲む環状電極とが形成さ
れ、この環状電極上にははんだ封止枠が形成されてい
る。はんだ封止枠は、例えば印刷法によってはんだペー
ストを塗布し、はんだペーストのみをリフローソルダリ
ングした後で洗浄し、フラックスの残渣を取り除いて形
成される。そして、回路素子と基板とを対面させて突起
電極を基板の接合電極に熱圧着にて接合するとともに、
はんだ封止枠を再溶融させて回路素子と基板との間の空
間を気密的に封止している。また、上記基板には、回路
素子を接続する接合電極および環状電極の他に、表面実
装部品を実装するためのパターン電極も形成されてお
り、このパターン電極に表面実装部品が実装されてい
る。
路基板の場合、回路素子のはんだ封止を行う前に加熱,
洗浄工程を行って封止枠を形成する工程が必要である。
しかし、封止枠の形成と表面実装部品の実装とが別個に
行われるので、作業を共通化できず、工程が煩雑になる
という不具合があった。なお、上記問題は、回路素子そ
のものを封止枠で封止した構造の混載型電子回路に限る
ものではなく、金属製キャップを用いてはんだ封止する
場合でも、同様である。
処理を表面実装される部品の接続工程と同時に行うこと
で、工程を簡素化できる混載型電子回路装置の製造方法
を提供することにある。
め、請求項1に係る発明は、表面に、第1接続電極と第
2接続電極と上記第1接続電極を取り囲む環状電極とを
形成した基板と、上記基板の表面に対向する一主面に、
回路部とこの回路部を取り囲む環状電極とを設けた第1
の回路素子と、上記第1接続電極と上記回路部とを接合
する突起電極と、上記第1の回路素子の環状電極と基板
の環状電極との間に設けられ、第1の回路素子と基板と
の間を封止するはんだ封止枠と、上記第2接続電極には
んだ接続される第2の回路素子とを備えた混載型電子回
路装置において、上記基板の上記第2接続電極上および
環状電極上にはんだ層を形成する工程と、上記はんだ層
が形成された上記第2接続電極上に第2の回路素子を配
置する工程と、上記第2接続電極上のはんだ層を溶融さ
せて第2の回路素子と第2接続電極とを接続固定すると
同時に、上記環状電極上のはんだ層を溶融・固化させて
はんだ封止枠を形成する工程と、上記第1の回路素子の
回路部を上記突起電極を介して第1接続電極に接合する
と共に、上記はんだ封止枠を再溶融させて第1の回路素
子の環状電極をはんだ封止枠に封着する工程と、を含む
混載型電子回路装置の製造方法を提供する。
1接続電極と第2接続電極と上記第1接続電極を取り囲
む環状電極とを形成した基板と、上記基板の表面に対向
する主面に回路部を持つ第1の回路素子と、上記第1接
続電極と上記回路部とを接合する突起電極と、上記第2
接続電極にはんだ接続される第2の回路素子と、上記環
状電極にはんだ封止枠を介して封着され、上記第1の回
路素子を封止するカバー部材とを備えた混載型電子回路
装置において、上記基板の上記第2接続電極上および環
状電極上にはんだ層を形成する工程と、上記はんだ層が
形成された上記第2接続電極上に第2の回路素子を配置
する工程と、上記第2接続電極上のはんだ層を溶融させ
て第2の回路素子と第2接続電極とを接続固定すると同
時に、上記環状電極上のはんだ層を溶融・固化させては
んだ封止枠を形成する工程と、上記第1の回路素子の回
路部を上記突起電極を介して第1接続電極に接合する工
程と、上記はんだ封止枠を再溶融させてカバー部材をは
んだ封止枠に封着する工程と、を含む混載型電子回路装
置の製造方法を提供する。
続電極上および環状電極上にはんだ層を形成し、第2接
続電極上に第2の回路素子を搭載する。ここで、はんだ
層としては、例えばはんだペースト(クリームはんだ)
を用いることができる。はんだ層が形成された第2接続
電極上に第2の回路素子を搭載しても、完全な接続状態
ではない。次に、第2接続電極上のはんだ層を溶融させ
て第2の回路素子と第2接続電極とを電気的および機械
的に接続すると同時に、環状電極上のはんだ層を溶融さ
せてはんだ封止枠を形成する。つまり、第2の回路素子
の実装と、はんだ封止枠の前処理とを同時に行う。次
に、第1の回路素子の回路部を突起電極を介して第1接
続電極に接合すると共に、はんだ封止枠を再溶融させて
第1の回路素子の環状電極とはんだ封止枠とを封着す
る。これによって、第1の回路素子が基板に対して電気
的に接続され、かつはんだ封止枠によって第1の回路素
子と基板との間が封止される。突起電極は、予め第1の
回路素子の回路部上に形成してもよいし、基板の第1接
続電極上に形成してもよい。突起電極としては、Auバ
ンプを使用してもよいし、はんだバンプを使用してもよ
い。接合と封着とを同時に実施する方法として、例えば
熱圧着法や超音波併用熱圧着法などがある。
極上に搭載した後、はんだ層を溶融させることで、第2
の回路素子の実装とはんだ封止枠の前処理とを同時に行
うので、工程が簡素化され、混載型電子回路装置を効率
よく製造できる。特に、基板として複数個分の大きさを
持つ集合基板(マザー基板)を用い、この集合基板に多
数の第1回路素子と第2回路素子とを接続した後、個別
の電子回路装置に分割する方法で製造する場合に、本発
明方法は非常に効果が大きい。
素子そのものをはんだ封止枠で封止するのではなく、カ
バー部材を用いて封止したものである。この場合も、第
2の回路素子を第2接続電極上に搭載した後、はんだ層
を溶融させることで、第2の回路素子の実装とはんだ封
止枠の前処理とを同時に行うので、工程が簡素化され
る。第1の回路素子の接合工程とは別に、カバー部材の
封止工程が必要になるが、第1の回路素子の全体をカバ
ー部材で封止できるので、封止性が向上する。
および環状電極上にはんだ層を形成すると同時に、基板
の第1接続電極上にもはんだ層を形成し、第2接続電極
上および環状電極上のはんだ層を溶融させると同時に、
第1接続電極上のはんだ層を溶融・固化させることによ
り、突起電極を形成してもよい。つまり、突起電極とし
てはんだバンプを使用する場合、はんだバンプをはんだ
封止枠と同時に基板側に形成する方法である。この方法
であれば、突起電極を個別に形成する必要がなく、生産
性がさらに向上する。
り基板の第2接続電極上および環状電極上に同時に形成
されるはんだペーストとするのがよい。印刷法によりは
んだペーストを塗布すれば、所定位置に正確に塗布でき
るとともに、1回の処理で塗布が完了するので、製造効
率がよい。
を含むはんだペーストよりなり、第2接続電極上のはん
だ層を溶融させて第2の回路素子と第2接続電極とを接
続固定すると同時に、環状電極上のはんだ層を溶融させ
てはんだ封止枠を形成する工程の後に、第2の回路素子
と第2接続電極とを接続するはんだ、およびはんだ封止
枠からフラックスを除去する洗浄工程を設けるのがよ
い。第2の回路素子と第2接続電極とを確実に接続する
には、フラックスを含むはんだペーストを使用するのが
有効であるが、このフラックスが第1の回路素子に付着
すると、不具合を生じることがある。特に、第1の回路
素子が弾性表面波素子のように酸化,腐食されやすい電
極を有する素子の場合、フラックスによって信頼性の低
下をもたらすため、第1の回路素子を接合する前にフラ
ックスを除去しておく必要がある。そこで、請求項5で
は、第2の回路素子のはんだ接続およびはんだ封止枠の
形成後に、フラックスを除去する洗浄工程を追加するこ
とで、フラックスレスで封止でき、信頼性の高い混載型
電子回路装置を実現できる。
素子の環状電極とが、共に直線部と角部とを有する略多
角形の形状をなしており、少なくとも上記基板の環状電
極の角部にアールが設けられているのが望ましい。従来
技術では、基板の環状電極上に形成されたはんだ封止枠
の高さが、その表面張力により、角部(コーナー部)で
高く直線部で低くなっていた。その結果、(1)加熱・
加圧してはんだ封止させる際、その高さの差のため、は
んだ枠の高さが低い部位が接合されず、封止不良が発生
する、(2)封止時間が長くなり、生産コストが上昇す
る、といった課題があった。そこで、請求項6のように
基板の環状電極の角部にアールを設ければ、その上に形
成されるはんだ封止枠の直線部と角部の高さの差が小さ
くなり、上記(1),(2)の課題を解決できる。な
お、回路素子の環状電極については、少なくとも封止枠
と接合される面積があればよく、必ずしも角部にアール
を必要としない。
ち、内側アールの曲率半径が直線部の幅の1.5倍以上
であり、かつアールの幅と直線部の幅とがほぼ等しいの
がよい。環状電極の角部にアールを設けた場合に、アー
ルの内側の曲率半径を直線部の幅の1.5倍以上とし、
かつアールの幅と直線部の幅とをほぼ等しくすると、そ
の上に形成されるはんだ封止枠の直線部の高さと角部の
高さとがほぼ等しくなり、はんだ封止枠と対向する環状
電極とを確実に接合させることができ、封止不良を低減
できる。また、封止時間を短縮でき、生産コストを下げ
ることができる。
面波素子を用いるのがよい。すなわち、弾性表面波素子
のような振動を利用した素子の場合、はんだ封止枠の内
部を中空構造とすることによって、振動がダンピングさ
れず、良好な特性を得ることができる。
載型電子回路装置の第1の実施例を示す。この電子回路
装置は、基板1に第1の回路素子10をフェースダウン
実装するとともに、複数の第2の回路素子20を表面実
装したものである。基板1は、アルミナなどのセラミッ
ク基板、セラミックからなる誘電体基板、多層セラミッ
ク基板、ガラス基板、結晶性の基板、ガラスエポキシ樹
脂などの気密性を有する基板よりなる。この実施例の基
板1は多層セラミック基板であり、その表面には第1接
続電極2と第2接続電極3と第1接続電極2を取り囲む
環状電極4とが形成されている。そして、第1接続電極
2はビアホール9を介して中間層5aに接続され、さら
にビアホール9を介して他の中間層5b,5cに接続さ
れ、第2接続電極3とも接続されている。また、基板1
の底面には複数の外部電極6が形成され、これら外部電
極6に対して上記第1接続電極2、第2接続電極3およ
び環状電極4が適宜接続されている。なお、環状電極4
はアース用の外部電極6と接続するのがよい。
所定高さに形成されている。はんだ封止枠7は、後述す
るように印刷法によってはんだペーストを基板1の環状
電極4上に塗布し、はんだペーストをリフローソルダリ
ングした後で洗浄し、フラックス残渣を取り除くこと
で、簡単に形成できる。但し、はんだ封止枠7の形成法
は上記に限らず、ディスペンサーなどで塗布し、溶融・
固化させてもよい。
子であり、図2に示すように、水晶やLiTaO3 、L
iNbO3 等からなる圧電基板11の表面に、Al等か
らなる2組のIDT電極12とTi/Ni/Au等から
なる4個の入出力電極13とを形成したものである。I
DT電極12と入出力電極13とは相互に接続されてい
る。また、回路素子10の表面には、IDT電極12と
入出力電極13とを取り囲む環状電極14が形成されて
いる。入出力電極13のそれぞれには突起電極15が固
定されている。突起電極15としては、Au,Ag,P
d,Cuを主成分とする金属バンプや、はんだバンプな
どを用いることができる。突起電極15は、めっき法、
ワイヤボンディング法などを用いて形成されるが、ここ
ではワイヤボンディング法によりAuバンプを形成し
た。突起電極15の高さは、はんだ封止枠7の高さより
高くするのが望ましい。
入出力電極13とが対応する位置に形成され、かつ基板
1の環状電極4と回路素子10の環状電極14とが対応
する位置に形成されている。この実施例の環状電極4,
14は、図2に示すように、共に直線部4a,14aと
角部4b,14bとを有する略四角形状をなしており、
角部にアールが設けられている。図2には基板1の環状
電極4については示されていないが、基板1の環状電極
4も回路素子10の環状電極14と同一形状に形成され
ている。また、環状電極4の上に形成されるはんだ封止
枠7も環状電極4と同様の形状に形成されている。
環状電極4の直線部4aの幅をd、角部4bのアールの
幅をD、角部4bのアールのうち内側の曲率半径をRi
とすると、Riを直線部4aの幅dの1.5倍以上と
し、かつアールの幅Dと直線部4aの幅dとをほぼ等し
く設定するのが望ましい。すなわち、 Ri≧1.5d d≒D ここでは、d=0.2mm、D=0.2mm、Ri=
0.3mmとした。なお、回路素子10の環状電極14
も基板1の環状電極4と同一寸法に設定するのがよい。
上記のような寸法設定とすると、環状電極4上に形成さ
れるはんだ封止枠7の直線部と角部の高さの差が小さく
なる。すなわち、はんだ高さが均一になり、はんだ封止
枠7と環状電極14との封止性が良好になる。
半径Riと、はんだ封止枠7の直線部と角部との高さの
差との関係を表したものである。図から明らかなよう
に、曲率半径Riを大きくしていくと、はんだ封止枠7
の直線部と角部との高さの差が次第に小さくなっていく
ことがわかる。特に、曲率半径Ri(=0.3mm)を
直線部4aの幅d(=0.2mm)の1.5倍とするこ
とで、はんだ封止枠7の直線部と角部との高さの差を3
μm以下とすることができた。その結果、はんだ封止枠
7の高さが均一化され、はんだ封止を確実にかつ短時間
で実施することができる。
封止時間および封止良品率との関係を示したものであ
る。曲率半径Riを大きくすることで、封止枠7の高さ
バラツキを小さくでき、ひいては封止枠7と電極14と
を全周で確実に接触させることが可能となり、封止不良
を低減できた。また、封止時間も短縮できることから、
生産性を向上させることができる。
3、第1の回路素子10の環状電極14には、Ni層の
上にAu層を積層した2層構造のものなどを用いるのが
よい。Niははんだ食われを防止するためであり、はん
だ食われを防止できる金属であれば、Pt,Pd,Cu
等でもよい。Auははんだ濡れ性を確保するためであ
り、Ag,Sn,Pt,Cuなどの濡れ性が確保できる
金属であればよい。また、形成方法としては、電解また
は無電解のメッキ法が一般的であるが、これに限るもの
ではない。
デンサ、チップ抵抗、チップインダクタ、半導体ICな
どの表面実装部品であり、基板1に形成されたパターン
状の第2接続電極3にはんだ21によって接続固定され
ている。
10と第2の回路素子20を実装する方法について、図
5を参照して説明する。まず図5の(a)のように、基
板1の第2接続電極3および環状電極4上に、はんだペ
ースト(クリームはんだ)Bをパターン状に印刷する。
はんだペーストの材料としては、例えばSn系はんだ、
Pb系はんだ、Pbフリーはんだ等を使用できる。な
お、A1 はスクリーン、A2 はスキージである。次に、
図5の(b)のように、はんだペーストBが塗布された
第2接続電極3上に第2の回路素子20をマウンタCを
用いてマウントする。次に、図5の(c)のように、第
2の回路素子20がマウントされた基板1を加熱し、第
2接続電極3上のはんだペーストBを溶融させて第2の
回路素子20と第2接続電極3とを接続固定する。これ
と同時に、環状電極4上のはんだペーストBを溶融・固
化させてはんだ封止枠7を形成する。具体的には、リフ
ロー炉に投入してリフローソルダリングした後、洗浄し
てはんだに含まれるフラックス残渣を取り除くのがよ
い。こうして第2回路素子20が実装され、かつはんだ
封止枠7が形成された基板1ができあがる。次に、図5
の(d)のように、封止枠7を形成した基板1に対し
て、突起電極15を形成した第1の回路素子10を熱圧
着ツールDを用いて熱圧着する。すなわち、基板1をそ
の部品搭載面を上側にむけて図示しないステージの上に
載せ、熱圧着ツールDで第1の回路素子10の背面を吸
着し、突起電極15を設けた面を基板1の上面に対向さ
せ、位置決めした上で押し当てる。ここで、熱圧着ツー
ルDを例えば250℃〜400℃に加熱し、圧力を加え
て押しつけると、突起電極15の一部が押しつぶされ、
基板1の第1接続電極2と拡散接合される。これと同時
に、基板1の環状電極4上のはんだ封止枠7が再溶融さ
れ、溶融した封止枠7が第1の回路素子10の環状電極
14に濡れ広がり、基板1と回路素子10との間の空間
が封止される。なお、はんだ封止枠7の再溶融時に、は
んだのフラックス成分は既に洗浄されて除去されている
ので、フラックスレスで封止することができる。そのた
め、回路素子10が弾性表面波素子のような酸化,腐食
しやすい電極12を有する素子であっても、信頼性低下
を防止できる。また、熱圧着ツールDで第1回路素子1
0のみを加熱するので、付近に実装された第2回路素子
20には熱が殆ど伝わらず、はんだ21を溶融させるこ
とがない。そのため、実装済みの第2回路素子20が位
置ずれを起こしたり、接続不良を起こす恐れがない。こ
のようにして、第1の回路素子10と第2の回路素子2
0とが混載された電子回路装置が得られる(図1参
照)。
素子10と複数の第2回路素子20とを混載して電子回
路装置を製造する例を示したが、生産性を高めるため、
基板1として例えば数十〜数百個分の大きさを持つ集合
基板を使用してもよい。この場合には、複数の第1回路
素子10と第2回路素子20とを実装した後、集合基板
をダイシングまたはブレイクして、電子回路装置を効率
よく製造することができる。
るためのはんだペーストと、第2の回路素子20を実装
するためのはんだペーストとを同一材料で構成したが、
異なるはんだ材料で構成することもできる。ただし、こ
の場合には、はんだ封止枠のためのはんだ層を印刷する
工程と、第2の回路素子接続用のはんだ層を印刷する工
程とを別に行う必要がある。また、突起電極15を第1
の回路素子10側に形成したが、基板1の第1接続電極
2上に形成してもよい。
法を示す。この実施例は、はんだ封止枠7とはんだ突起
電極15とを基板1に同時に形成するものである。図6
の(a)では、基板1の第1接続電極2、第2接続電極
3および環状電極4上に、はんだペースト(クリームは
んだ)Bをパターン状に印刷する。つまり、図5とは異
なり、第1接続電極2上にもはんだ層が形成される。次
に、図6の(b)のように、はんだペーストBが塗布さ
れた第2接続電極3上に第2の回路素子20をマウンタ
Cを用いてマウントする。次に、図6の(c)のよう
に、第2の回路素子20がマウントされた基板1を加熱
し、第2接続電極3上のはんだペーストBを溶融させて
第2の回路素子20と第2接続電極3とをはんだ21で
接続固定する。これと同時に、第1接続電極2上および
環状電極4上のはんだペーストBを溶融・固化させて、
突起電極15とはんだ封止枠7とを形成する。この後、
洗浄してはんだに含まれるフラックス残渣を取り除くの
がよい。次に、図6の(d)のように、突起電極15と
封止枠7とを形成した基板1に対して、第1の回路素子
10を熱圧着ツールDを用いて熱圧着する。この時、突
起電極15と封止枠7とがともに同一のはんだで形成さ
れているので、熱圧着ツールDで強く押圧する必要はな
く、熱によって突起電極15と封止枠7とが容易に再溶
融し、溶融した突起電極15と封止枠7とがそれぞれ第
1の回路素子10の入出力電極13と環状電極14とに
濡れ広がる。そのため、基板1の第1接続電極2と回路
素子10の入出力電極13とが接続されるとともに、基
板1と回路素子10との間の空間が封止される。なお、
突起電極15と封止枠7の再溶融時に、はんだのフラッ
クス成分は既に洗浄されて除去されているので、回路素
子10が弾性表面波素子のような酸化,腐食しやすい電
極12を有する素子であっても、問題がない。
はんだ層を、第2の回路素子20の接続用はんだ層と同
時に印刷し、しかもそれらはんだ層の溶融・固化によっ
て封止枠7と突起電極15とを形成すると同時に、第2
の回路素子20を接続固定するようにしたので、工程数
を削減でき、大幅なコスト削減を実現できる。
示し、第1実施例(図1,図3)と同一部分には同一符
号を付して重複説明を省略する。この実施例の混載型電
子回路装置は、第1回路素子10そのものをはんだ封止
枠7を用いて封止するのではなく、断面凹型のキャップ
30を用いて封止したものである。したがって、第1回
路素子10には環状電極14が設けられていない。図8
において、(a)〜(c)の工程は図5の(a)〜
(c)と同様である。図8の(d)では、第1回路素子
10の突起電極15を熱圧着ツールDによって基板1の
第1接続電極2に当接させ、熱圧着ツールDを例えば2
50℃〜400℃に加熱し、圧力を加えて押しつけるこ
とで、突起電極15の一部を押しつぶし、基板1の第1
接続電極2と拡散接合する。次に、(e)のように同じ
く熱圧着ツールDによってキャップ30の開口部を封止
枠7に押し付け、加熱しながら圧力を加えて押しつける
ことで、封止枠7を再溶融させ、キャップ30と基板1
とを接合・封止する。なお、キャップ30としては、は
んだとの馴染みのよい表面処理、例えばAuめっき、A
gめっき、Snめっき、Niめっきなどを施した金属キ
ャップが望ましいが、セラミック製キャップの開口部に
メタライズ(焼き付け、スパッタ、蒸着など)したもの
でもよい。
この例は、第3実施例における凹型のキャップに代えて
平板状の金属カバー40を用いたものである。また、基
板1にキャビティ8が形成され、このキャビティ8の底
面に第1接続電極2が形成されている。そして、第1回
路基板10はキャビティ8に収容され、かつ第1回路基
板10の入出力電極13に固定された突起電極15が第
1接続電極2に接合されている。環状電極4は、キャビ
ティ8を取り囲む基板1の表面に形成され、カバー40
の外周部内面がはんだ封止枠7を介して環状電極4に封
着されている。第3実施例と同様に、第1回路素子10
には突起電極15が設けられているが、環状電極14は
設けられていない。カバー40は平板状に限らないが、
平板状カバー40を使用する場合には、キャビティ8の
深さを、第1回路素子10の厚みと突起電極15の高さ
との和より深くする必要がある。この実施例では、カバ
ー40が基板1の上方に大きく突出しないので、全体と
して薄型の混載型電子回路装置を実現できる。
ない。第1の回路素子は弾性表面波素子に限るものでは
なく、高周波デバイス、半導体チップなど他の回路素子
であってもよい。第1実施例の場合には、第1の回路素
子は一主面にのみ回路部を持ち、他主面に回路部を持た
ない素子とする必要があるが、第3、第4実施例のよう
にキャップ30やカバー40を用いて封止する構造の電
子回路装置の場合には、素子全体がカバー部材で覆われ
るので、両主面や側面に回路部を持つ素子であってもよ
い。また、第1の回路素子を2つ以上備えた混載型電子
回路装置にも本発明を適用できることは言うまでもな
い。
に係る発明によれば、第2の回路素子を第2接続電極上
に搭載した後、はんだ層を溶融させることで、第2の回
路素子の実装と第1の回路素子の封止用はんだ封止枠の
前処理とを同時に行うので、工程が簡素化され、混載型
電子回路装置を効率よく製造できる。また、請求項2で
は、カバー部材を用いて第1の回路素子を封止するもの
であり、この場合も、第2の回路素子を第2接続電極上
に搭載した後、はんだ層を溶融させることで、第2の回
路素子の実装とはんだ封止枠の前処理とを同時に行うの
で、工程が簡素化される。
例の断面図である。
1回路素子と基板部分の分解斜視図である。
れた環状電極の部分拡大図である。
んだ封止枠の直線部と角部との高さの差との関係を表し
た図である。
ある。
である。
例の断面図である。
ある。
例の断面図である。
Claims (8)
- 【請求項1】表面に、第1接続電極と第2接続電極と上
記第1接続電極を取り囲む環状電極とを形成した基板
と、上記基板の表面に対向する一主面に、回路部とこの
回路部を取り囲む環状電極とを設けた第1の回路素子
と、上記第1接続電極と上記回路部とを接合する突起電
極と、上記第1の回路素子の環状電極と基板の環状電極
との間に設けられ、第1の回路素子と基板との間を封止
するはんだ封止枠と、上記第2接続電極にはんだ接続さ
れる第2の回路素子とを備えた混載型電子回路装置にお
いて、上記基板の上記第2接続電極上および環状電極上
にはんだ層を形成する工程と、上記はんだ層が形成され
た上記第2接続電極上に第2の回路素子を配置する工程
と、上記第2接続電極上のはんだ層を溶融させて第2の
回路素子と第2接続電極とを接続固定すると同時に、上
記環状電極上のはんだ層を溶融・固化させてはんだ封止
枠を形成する工程と、上記第1の回路素子の回路部を上
記突起電極を介して第1接続電極に接合すると共に、上
記はんだ封止枠を再溶融させて第1の回路素子の環状電
極をはんだ封止枠に封着する工程と、を含む混載型電子
回路装置の製造方法。 - 【請求項2】表面に、第1接続電極と第2接続電極と上
記第1接続電極を取り囲む環状電極とを形成した基板
と、上記基板の表面に対向する主面に回路部を持つ第1
の回路素子と、上記第1接続電極と上記回路部とを接合
する突起電極と、上記第2接続電極にはんだ接続される
第2の回路素子と、上記環状電極にはんだ封止枠を介し
て封着され、上記第1の回路素子を封止するカバー部材
とを備えた混載型電子回路装置において、上記基板の上
記第2接続電極上および環状電極上にはんだ層を形成す
る工程と、上記はんだ層が形成された上記第2接続電極
上に第2の回路素子を配置する工程と、上記第2接続電
極上のはんだ層を溶融させて第2の回路素子と第2接続
電極とを接続固定すると同時に、上記環状電極上のはん
だ層を溶融・固化させてはんだ封止枠を形成する工程
と、上記第1の回路素子の回路部を上記突起電極を介し
て第1接続電極に接合する工程と、上記はんだ封止枠を
再溶融させてカバー部材をはんだ封止枠に封着する工程
と、を含む混載型電子回路装置の製造方法。 - 【請求項3】上記基板の第2接続電極上および環状電極
上に上記はんだ層を形成すると同時に、基板の第1接続
電極上にはんだ層を形成し、上記第2接続電極上および
環状電極上のはんだ層を溶融させると同時に、第1接続
電極上のはんだ層を溶融・固化させることにより、上記
突起電極を形成することを特徴とする請求項1または2
に記載の混載型電子回路装置の製造方法。 - 【請求項4】上記はんだ層は印刷法により上記基板の第
2接続電極上および環状電極上に同時に形成されたはん
だペーストであることを特徴とする請求項1ないし3の
いずれかに記載の混載型電子回路装置の製造方法。 - 【請求項5】上記はんだ層はフラックスを含むはんだペ
ーストよりなり、上記第2接続電極上のはんだ層を溶融
させて第2の回路素子と第2接続電極とを接続固定する
と同時に、上記環状電極上のはんだ層を溶融・固化させ
てはんだ封止枠を形成する工程の後に、上記第2の回路
素子と第2接続電極とを接続するはんだ、およびはんだ
封止枠からフラックスを除去する洗浄工程を有すること
を特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の混載
型電子回路装置の製造方法。 - 【請求項6】上記基板の環状電極と上記回路素子の環状
電極とが、共に直線部と角部とを有する略多角形の形状
をなしており、少なくとも上記基板の環状電極の角部に
アールが設けられていることを特徴とする請求項1ない
し5のいずれかに記載の混載型電子回路装置の製造方
法。 - 【請求項7】上記角部のアールのうち、内側アールの曲
率半径が上記直線部の幅の1.5倍以上であり、かつ上
記アールの幅と上記直線部の幅とがほぼ等しいことを特
徴とする請求項6に記載の混載型電子回路装置の製造方
法。 - 【請求項8】上記第1の回路素子が弾性表面波素子であ
ることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載
の混載型電子回路装置の製造方法。
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JP2001389557A JP3832335B2 (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | 混載型電子回路装置の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005223885A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Miyota Kk | 水晶振動子の製造方法及びフラックスレス半田付け装置 |
JP2006237573A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-09-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置の製造方法 |
JP2007300173A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-15 | Epson Toyocom Corp | 電子デバイス用パッケージ、及び電子デバイス |
JP2011091165A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 高周波モジュールおよびその製造方法 |
JPWO2009096563A1 (ja) * | 2008-01-30 | 2011-05-26 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置およびその製造方法 |
WO2013129175A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 株式会社村田製作所 | 電子部品素子、それを用いた複合モジュールおよび複合モジュールの製造方法 |
JP2020150034A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | セイコーインスツル株式会社 | パッケージ及びパッケージの製造方法 |
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2001
- 2001-12-21 JP JP2001389557A patent/JP3832335B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005223885A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Miyota Kk | 水晶振動子の製造方法及びフラックスレス半田付け装置 |
JP2006237573A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-09-07 | Sanyo Electric Co Ltd | 回路装置の製造方法 |
JP2007300173A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-15 | Epson Toyocom Corp | 電子デバイス用パッケージ、及び電子デバイス |
JPWO2009096563A1 (ja) * | 2008-01-30 | 2011-05-26 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置およびその製造方法 |
JP5090471B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2012-12-05 | 京セラ株式会社 | 弾性波装置 |
US8384272B2 (en) | 2008-01-30 | 2013-02-26 | Kyocera Corporation | Acoustic wave device and method for production of same |
JP2011091165A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Taiyo Yuden Co Ltd | 高周波モジュールおよびその製造方法 |
WO2013129175A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 株式会社村田製作所 | 電子部品素子、それを用いた複合モジュールおよび複合モジュールの製造方法 |
JP2020150034A (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | セイコーインスツル株式会社 | パッケージ及びパッケージの製造方法 |
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