JP2003185843A - 偏光板 - Google Patents
偏光板Info
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- JP2003185843A JP2003185843A JP2001389355A JP2001389355A JP2003185843A JP 2003185843 A JP2003185843 A JP 2003185843A JP 2001389355 A JP2001389355 A JP 2001389355A JP 2001389355 A JP2001389355 A JP 2001389355A JP 2003185843 A JP2003185843 A JP 2003185843A
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- JP
- Japan
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- energy ray
- polarizing plate
- bisphenol
- residue
- protective film
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- Liquid Crystal (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 保護膜が薄膜化されているにもかかわらず、
外部の湿気等の影響から偏光子が保護されており、高
温、高湿の環境下でも偏光能が良好な状態に維持されて
いる偏光板を提供する。 【解決手段】 偏光子の少なくとも片面に保護膜が形成
された偏光板の当該保護膜を、ビスフェノール残基を有
するエネルギー線重合性化合物を含有するエネルギー線
硬化性組成物を硬化させたものから構成する。エネルギ
ー線重合性化合物のビスフェノール残基としては、ビス
フェノールＡ型残基又はビスフェノールＦ型残基が挙げ
られる。保護層を構成するためのエネルギー線硬化性組
成物は、ビスフェノール残基を有するエネルギー線重合
性化合物を少なくとも樹脂固形分基準で２０重量％以上
含有している。
外部の湿気等の影響から偏光子が保護されており、高
温、高湿の環境下でも偏光能が良好な状態に維持されて
いる偏光板を提供する。 【解決手段】 偏光子の少なくとも片面に保護膜が形成
された偏光板の当該保護膜を、ビスフェノール残基を有
するエネルギー線重合性化合物を含有するエネルギー線
硬化性組成物を硬化させたものから構成する。エネルギ
ー線重合性化合物のビスフェノール残基としては、ビス
フェノールＡ型残基又はビスフェノールＦ型残基が挙げ
られる。保護層を構成するためのエネルギー線硬化性組
成物は、ビスフェノール残基を有するエネルギー線重合
性化合物を少なくとも樹脂固形分基準で２０重量％以上
含有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、偏光板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、液晶表示素子、有機ＥＬ表示
素子、眼鏡等をはじめとする光学素子には、偏光板が用
いられているが、このような用途に用いられている偏光
板としては、ポリビニルアルコール系樹脂の一軸延伸フ
ィルムをヨウ素で染色した偏光子の両面に、その強度及
び耐水性や耐湿性等を向上させるために、保護膜を接着
剤で貼り合わせたものが一般的である。
素子、眼鏡等をはじめとする光学素子には、偏光板が用
いられているが、このような用途に用いられている偏光
板としては、ポリビニルアルコール系樹脂の一軸延伸フ
ィルムをヨウ素で染色した偏光子の両面に、その強度及
び耐水性や耐湿性等を向上させるために、保護膜を接着
剤で貼り合わせたものが一般的である。
【０００３】このような偏光板における保護膜として
は、光学的透明性に優れた酢酸セルロース系樹脂フィル
ム（ＴＡＣフィルム）が用いられており、また接着剤と
しては、偏光子及び保護膜が共に親水性であることを考
慮して、親水性のものが用いられている。
は、光学的透明性に優れた酢酸セルロース系樹脂フィル
ム（ＴＡＣフィルム）が用いられており、また接着剤と
しては、偏光子及び保護膜が共に親水性であることを考
慮して、親水性のものが用いられている。
【０００４】ところで、上述したような偏光子では、発
色しているポリヨウ素イオン（Ｉ3 -、Ｉ5 -等）がポリビ
ニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸の結果として
偏光能を発揮しているため、偏光子に湿気（水蒸気）が
供給されるとポリヨウ素が分解してヨウ素イオン
（Ｉ-）となり、ポリヨウ素イオンによる発色は減じ
る。この現象は、高温環境下では更に顕著となる。その
結果、偏光子の光透過率が増大し、偏光子の偏光能は失
われて行くと考えられている。従って、偏光板の保護膜
に対しては、外部の湿気等の影響から偏光子を保護する
ことが求められている。
色しているポリヨウ素イオン（Ｉ3 -、Ｉ5 -等）がポリビ
ニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸の結果として
偏光能を発揮しているため、偏光子に湿気（水蒸気）が
供給されるとポリヨウ素が分解してヨウ素イオン
（Ｉ-）となり、ポリヨウ素イオンによる発色は減じ
る。この現象は、高温環境下では更に顕著となる。その
結果、偏光子の光透過率が増大し、偏光子の偏光能は失
われて行くと考えられている。従って、偏光板の保護膜
に対しては、外部の湿気等の影響から偏光子を保護する
ことが求められている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
偏光板において使用しているＴＡＣフィルム及び接着剤
も親水性である点を考慮すると、ＴＡＣフィルムが外部
の湿気の影響から偏光子を保護するために、その厚さを
８０μｍ程度以上の厚みにすることが行われていた。こ
のため、従来の偏光板では、近年の光学表示素子用の偏
光板の保護膜に要求されている薄膜化（例えば、保護膜
の厚さを４０μ以下に薄膜化）という要請に対しては対
応ができないという問題があった。
偏光板において使用しているＴＡＣフィルム及び接着剤
も親水性である点を考慮すると、ＴＡＣフィルムが外部
の湿気の影響から偏光子を保護するために、その厚さを
８０μｍ程度以上の厚みにすることが行われていた。こ
のため、従来の偏光板では、近年の光学表示素子用の偏
光板の保護膜に要求されている薄膜化（例えば、保護膜
の厚さを４０μ以下に薄膜化）という要請に対しては対
応ができないという問題があった。
【０００６】本発明は、以上の従来の課題を解決しよう
とするものであり、偏光板の保護膜を薄膜化した場合で
あっても、外部の湿気等の影響から偏光子を保護できる
ようにすることを目的とする。
とするものであり、偏光板の保護膜を薄膜化した場合で
あっても、外部の湿気等の影響から偏光子を保護できる
ようにすることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、偏光子の少
なくとも片面に設ける保護膜を、特定の置換基を有する
エネルギー線重合性化合物を含む硬化性組成物から形成
することにより、上述の目的を達成できることを見出
し、本発明を完成させた。
なくとも片面に設ける保護膜を、特定の置換基を有する
エネルギー線重合性化合物を含む硬化性組成物から形成
することにより、上述の目的を達成できることを見出
し、本発明を完成させた。
【０００８】即ち、本発明は、偏光子の少なくとも片面
に保護膜が形成された偏光板において、該保護膜が、ビ
スフェノール残基を有するエネルギー線重合性化合物を
含有するエネルギー線硬化性組成物を硬化させたもので
あることを特徴とする偏光板を提供する。
に保護膜が形成された偏光板において、該保護膜が、ビ
スフェノール残基を有するエネルギー線重合性化合物を
含有するエネルギー線硬化性組成物を硬化させたもので
あることを特徴とする偏光板を提供する。
【０００９】また、本発明は、このような偏光板を備え
た液晶表示素子等の光学素子を提供する。
た液晶表示素子等の光学素子を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１１】本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片
面に保護膜が形成されたものである。ここで、保護膜
は、ビスフェノール残基を有するエネルギー線（紫外
線、電子線等）重合性化合物を含有するエネルギー線硬
化性組成物を硬化させたものである。このため、保護膜
を４０μｍ程度以下に薄膜化した場合でも、外部の湿気
等の影響から偏光子を保護することができる。また、偏
光子の支持体としても機能することが可能である。
面に保護膜が形成されたものである。ここで、保護膜
は、ビスフェノール残基を有するエネルギー線（紫外
線、電子線等）重合性化合物を含有するエネルギー線硬
化性組成物を硬化させたものである。このため、保護膜
を４０μｍ程度以下に薄膜化した場合でも、外部の湿気
等の影響から偏光子を保護することができる。また、偏
光子の支持体としても機能することが可能である。
【００１２】保護膜を構成するエネルギー線硬化性組成
物は、少なくともビスフェノール残基を有するエネルギ
ー線重合性化合物を樹脂固形分基準で２０重量％以上含
有することが好ましい。２０重量％未満であると、偏光
子の偏光能を維持することが困難となる。
物は、少なくともビスフェノール残基を有するエネルギ
ー線重合性化合物を樹脂固形分基準で２０重量％以上含
有することが好ましい。２０重量％未満であると、偏光
子の偏光能を維持することが困難となる。
【００１３】エネルギー線重合性化合物のビスフェノー
ル残基としては、好ましくはビスフェノールＡ型残基又
はビスフェノールＦ型残基を挙げることができる。ま
た、これらのビスフェノール残基を有するエネルギー線
重合性化合物の重合に寄与する主要部としては、アクロ
イル基又はメタクロイル基を一部に含む（メタ）アクロ
イル残基が挙げられる。また、（メタ）アクロイル残基
（ＣＨ２＝ＣＲＣＯ−、ここでＲは水素又はメチル基で
ある）は、ビスフェノール残基に対して酸素（−Ｏ−）
を介して（即ち（メタ）アクロイルオキシ基として）結
合してもよく、また、ビスフェノール残基に対して結合
する際に、それらの残基の間にＥＯ（エチレンオキサイ
ド）変性残基やＰＯ（プロピレンオキサイド）変性残
基、あるいはエポキシ変性残基、それらを組み合わせた
変性残基を導入してもよい。例えば、（メタ）アクロイ
ル残基は、ビスフェノール残基に対して、−Ｏ(ＣＨ２
ＣＨ２Ｏ)ｎ−、−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ２Ｏ)ｎ−、−
Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｍ−、又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ
２Ｏ)ｍ−を介して結合してもよい。ここで、ｎ及びｍ
はそれぞれ１〜１０の整数である。
ル残基としては、好ましくはビスフェノールＡ型残基又
はビスフェノールＦ型残基を挙げることができる。ま
た、これらのビスフェノール残基を有するエネルギー線
重合性化合物の重合に寄与する主要部としては、アクロ
イル基又はメタクロイル基を一部に含む（メタ）アクロ
イル残基が挙げられる。また、（メタ）アクロイル残基
（ＣＨ２＝ＣＲＣＯ−、ここでＲは水素又はメチル基で
ある）は、ビスフェノール残基に対して酸素（−Ｏ−）
を介して（即ち（メタ）アクロイルオキシ基として）結
合してもよく、また、ビスフェノール残基に対して結合
する際に、それらの残基の間にＥＯ（エチレンオキサイ
ド）変性残基やＰＯ（プロピレンオキサイド）変性残
基、あるいはエポキシ変性残基、それらを組み合わせた
変性残基を導入してもよい。例えば、（メタ）アクロイ
ル残基は、ビスフェノール残基に対して、−Ｏ(ＣＨ２
ＣＨ２Ｏ)ｎ−、−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ２Ｏ)ｎ−、−
Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｍ−、又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ
２Ｏ)ｍ−を介して結合してもよい。ここで、ｎ及びｍ
はそれぞれ１〜１０の整数である。
【００１４】以下に、エネルギー線重合性化合物の化学
構造の例として、以下の式（１）〜（２）で示される化
合物を例示する。
構造の例として、以下の式（１）〜（２）で示される化
合物を例示する。
【００１５】
【化１】
(式（１）及び（２）において、Ｒは水素原子又はメチ
ル基であり、Ｘは−Ｏ−、−Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｎ−
又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ２Ｏ)ｎ− であり、Ｙは−
Ｏ−、−Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｍ− 又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ
３)ＣＨ２Ｏ)ｍ−であり、ｎ及びｍは、それぞれ１〜１
０の整数である。)
ル基であり、Ｘは−Ｏ−、−Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｎ−
又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ３)ＣＨ２Ｏ)ｎ− であり、Ｙは−
Ｏ−、−Ｏ(ＣＨ２ＣＨ２Ｏ)ｍ− 又は−Ｏ(ＣＨ(ＣＨ
３)ＣＨ２Ｏ)ｍ−であり、ｎ及びｍは、それぞれ１〜１
０の整数である。)
【００１６】エネルギー線重合性化合物の具体例として
は、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ＳＲ−
３４９、サートマー社；Ｒ−５５１、日本化薬）、ＥＯ
変性ビスフェノールＦジアクリレート（Ｒ−７１２、日
本化薬）、エポキシ変性ビスフェノールＡジメタクリレ
ート（エポキシエステル３００２Ｍ、共栄社化学）、エ
ポキシ変性ビスフェノールＡアクリレート（エポキシエ
ステル３００２Ａ、共栄社化学）、 ジグリシジルエー
テル変性ビスフェノールＡジメタクリレート（エポキシ
エステル３０００Ｍ、共栄社化学）、ジグリシジルエー
テル変性ビスフェノールＡジアクリレート（エポキシエ
ステル３０００Ａ、共栄社化学）等が挙げられる。
は、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート（ＳＲ−
３４９、サートマー社；Ｒ−５５１、日本化薬）、ＥＯ
変性ビスフェノールＦジアクリレート（Ｒ−７１２、日
本化薬）、エポキシ変性ビスフェノールＡジメタクリレ
ート（エポキシエステル３００２Ｍ、共栄社化学）、エ
ポキシ変性ビスフェノールＡアクリレート（エポキシエ
ステル３００２Ａ、共栄社化学）、 ジグリシジルエー
テル変性ビスフェノールＡジメタクリレート（エポキシ
エステル３０００Ｍ、共栄社化学）、ジグリシジルエー
テル変性ビスフェノールＡジアクリレート（エポキシエ
ステル３０００Ａ、共栄社化学）等が挙げられる。
【００１７】本発明において、保護膜を構成するエネル
ギー線硬化性組成物は、必要に応じて、ビスフェノール
残基を有するエネルギー線重合性化合物以外の他のエネ
ルギー線重合性化合物を含有することができる。そのよ
うな他のエネルギー線重合性化合物としては、エチレン
性不飽和モノマーが挙げられる。具体的には、メチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、
プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）ア
クリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エ
チルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニ
ル（メタ）アクリレート、２−ジシクロペンテノキシ
（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリ
レート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキ
シエチル（メタ）アクリレート、メトキシエトキシエチ
ル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフリフリル（メタ）ア
クリレート、カルビトールアクリレート、ベンジルアク
リレート、アリルアクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレ
ン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニ
ル、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロキシエチルフォス
フェート、２−ビニルピリジン、２−エチルヘキシルア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、エチルカル
ビトールアクリレート、ポリプロピレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコール（＃２００、＃４
００、＃６００）ジアクリレート、２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイル
オキシエチルコハク酸、１，６−ヘキサンジオールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、メチルトリグリコール、アク
リロイルモルフォリン、１，９−ノナンジオールジアク
リレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロ
パンジオールジアクリレート等が挙げられる。また、こ
れらのオリゴマーも使用することができる。あるいは、
ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）
アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、
イソプレンアクリレート、エポキシアクリレート等も使
用することができる。中でも、脂肪族ポリエステル（例
えばアジピン酸とエチレングリコールとのポリエステ
ル）のアクリル酸エステル等のポリエステル（メタ）ア
クリレートを好ましく併用することができる。
ギー線硬化性組成物は、必要に応じて、ビスフェノール
残基を有するエネルギー線重合性化合物以外の他のエネ
ルギー線重合性化合物を含有することができる。そのよ
うな他のエネルギー線重合性化合物としては、エチレン
性不飽和モノマーが挙げられる。具体的には、メチル
（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、
プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）ア
クリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エ
チルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メ
タ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレー
ト、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニ
ル（メタ）アクリレート、２−ジシクロペンテノキシ
（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリ
レート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキ
シエチル（メタ）アクリレート、メトキシエトキシエチ
ル（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メ
タ）アクリレート、テトラヒドロフリフリル（メタ）ア
クリレート、カルビトールアクリレート、ベンジルアク
リレート、アリルアクリレート、フェノキシエチルアク
リレート、スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレ
ン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニ
ル、Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロキシエチルフォス
フェート、２−ビニルピリジン、２−エチルヘキシルア
クリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、エチルカル
ビトールアクリレート、ポリプロピレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコール（＃２００、＃４
００、＃６００）ジアクリレート、２−ヒドロキシ−３
−フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイル
オキシエチルコハク酸、１，６−ヘキサンジオールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ＥＯ（エチレンオキサイド）変性トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、メチルトリグリコール、アク
リロイルモルフォリン、１，９−ノナンジオールジアク
リレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロ
パンジオールジアクリレート等が挙げられる。また、こ
れらのオリゴマーも使用することができる。あるいは、
ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）
アクリレート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート、
イソプレンアクリレート、エポキシアクリレート等も使
用することができる。中でも、脂肪族ポリエステル（例
えばアジピン酸とエチレングリコールとのポリエステ
ル）のアクリル酸エステル等のポリエステル（メタ）ア
クリレートを好ましく併用することができる。
【００１８】これらの他のエネルギー線重合性化合物を
併用する場合、種類にもよるが、エネルギー線硬化性組
成物中で９５重量％、好ましくは８０重量％まで配合す
ることができる。これ以上配合すると、相対的にビスフ
ェノール残基を有するエネルギー線重合性化合物の含有
量が減少し過ぎて本発明の効果が得られないことが懸念
される。
併用する場合、種類にもよるが、エネルギー線硬化性組
成物中で９５重量％、好ましくは８０重量％まで配合す
ることができる。これ以上配合すると、相対的にビスフ
ェノール残基を有するエネルギー線重合性化合物の含有
量が減少し過ぎて本発明の効果が得られないことが懸念
される。
【００１９】エネルギー線硬化性組成物が重合して硬化
するためには、ビスフェノール残基を有するエネルギー
線重合性化合物もしくは他のエネルギー線重合性化合物
のいずれかが多官能であること、例えば、一分子中に２
以上の（メタ）アクロイル残基を有することが好まし
い。また、必要に応じて、公知の架橋剤、例えばポリイ
ソシアネート系架橋剤を併用することができる。
するためには、ビスフェノール残基を有するエネルギー
線重合性化合物もしくは他のエネルギー線重合性化合物
のいずれかが多官能であること、例えば、一分子中に２
以上の（メタ）アクロイル残基を有することが好まし
い。また、必要に応じて、公知の架橋剤、例えばポリイ
ソシアネート系架橋剤を併用することができる。
【００２０】また、エネルギー線硬化性組成物には、エ
ネルギー線重合開始剤を配合することができる。このよ
うなエネルギー線重合開始剤としては、例えば、オクテ
ン酸コバルト、ナフテン酸コバルト、オクテン酸マンガ
ン、ナフテン酸マンガン、メチルエチルケトンパーオキ
サイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
イン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテ
ル、アントラキノン、ナフトキノン、ヒバロインエチル
エーテル、ベンジルケタール、１，１−ジクロロアセト
フェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２
−クロロチオキサントン、２，２−ジエトキシアセトフ
ェノン、ミヒラーケトン、２，２−ジクロル−４−フェ
ノキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、ベンゾフェノン、２−メチルチオ
キサントン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキ
シイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、ベンゾフェ
ノン−アミン系（Ｎ−メチルジエタノール、トリエチル
アミン等）、ベンジルジフェニルジスルフィド、テトラ
メチルチウラムモノサルファイト、アゾビスイソブチロ
ニトリル、ジベンジル、ジアセチル、アセトフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２
−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォニノ−１−プロパノン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オンメチルベンゾイルフォル
メート等の中から、エネルギー線の種類に応じて適宜選
択することができる。
ネルギー線重合開始剤を配合することができる。このよ
うなエネルギー線重合開始剤としては、例えば、オクテ
ン酸コバルト、ナフテン酸コバルト、オクテン酸マンガ
ン、ナフテン酸マンガン、メチルエチルケトンパーオキ
サイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジク
ミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート、ベ
ンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
イン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテ
ル、アントラキノン、ナフトキノン、ヒバロインエチル
エーテル、ベンジルケタール、１，１−ジクロロアセト
フェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、２
−クロロチオキサントン、２，２−ジエトキシアセトフ
ェノン、ミヒラーケトン、２，２−ジクロル−４−フェ
ノキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェ
ニルアセトフェノン、ベンゾフェノン、２−メチルチオ
キサントン、フェニルグリオキシレート、α−ヒドロキ
シイソブチルフェノン、ジベンゾスパロン、ベンゾフェ
ノン−アミン系（Ｎ−メチルジエタノール、トリエチル
アミン等）、ベンジルジフェニルジスルフィド、テトラ
メチルチウラムモノサルファイト、アゾビスイソブチロ
ニトリル、ジベンジル、ジアセチル、アセトフェノン、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２
−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
フォニノ−１−プロパノン、１−ヒドロキシシクロヘキ
シルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１
−フェニルプロパン−１−オンメチルベンゾイルフォル
メート等の中から、エネルギー線の種類に応じて適宜選
択することができる。
【００２１】エネルギー線重合開始剤の配合量は特に限
定されないが、ビスフェノール残基を有するエネルギー
線重合性化合物と他のエネルギー線重合性化合物との合
計１００重量部に対し、好ましくは０．１〜１５重量
部、より好ましくは０．５〜１０重量部である。
定されないが、ビスフェノール残基を有するエネルギー
線重合性化合物と他のエネルギー線重合性化合物との合
計１００重量部に対し、好ましくは０．１〜１５重量
部、より好ましくは０．５〜１０重量部である。
【００２２】本発明においてエネルギー線硬化性組成物
には、必要に応じて有機溶剤を配合してもよい。有機溶
剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールジアセテート等のエステル系溶剤、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジ
オキサン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン等の
芳香族溶剤、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族系溶剤、塩
化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲ
ン系溶剤、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶剤等が挙げられる。
には、必要に応じて有機溶剤を配合してもよい。有機溶
剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸メトキシエチル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレ
ングリコールジアセテート等のエステル系溶剤、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジ
オキサン等のエーテル系溶剤、トルエン、キシレン等の
芳香族溶剤、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族系溶剤、塩
化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲ
ン系溶剤、イソプロピルアルコール、ブタノール等のア
ルコール系溶剤等が挙げられる。
【００２３】エネルギー線硬化性組成物には、更に、必
要に応じて、添加剤として顔料、充填剤、レベリング
剤、消泡剤、熱可塑性樹脂等を添加してもよい。
要に応じて、添加剤として顔料、充填剤、レベリング
剤、消泡剤、熱可塑性樹脂等を添加してもよい。
【００２４】本発明において、保護膜は、以上説明した
エネルギー線硬化性組成物を、公知の塗工方法、例え
ば、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、
フローコーティング法、スプレーコーティング法、ディ
ッピングコーティング法等により、後述する偏光子の少
なくとも片面に塗布し、必要に応じて４０〜１００℃の
温度で有機溶剤を蒸発除去した後に、エネルギー線、例
えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線、Ｘ線、γ線等の電
磁波、電子線、プロトン線、中性子線等を照射して硬化
させることにより形成できる。中でも、皮膜形成（硬
化）速度、エネルギー線照射装置の入手のし易さ、価格
等から、エネルギー線として紫外線を採用することが有
利である。ここで、紫外線とは１５０〜４５０ｎｍ波長
域の光を主体としたもので、ケミカルランプ、高圧水銀
ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等から
発生させることができる。
エネルギー線硬化性組成物を、公知の塗工方法、例え
ば、カーテンコーティング法、ロールコーティング法、
フローコーティング法、スプレーコーティング法、ディ
ッピングコーティング法等により、後述する偏光子の少
なくとも片面に塗布し、必要に応じて４０〜１００℃の
温度で有機溶剤を蒸発除去した後に、エネルギー線、例
えば、遠紫外線、紫外線、近紫外線、Ｘ線、γ線等の電
磁波、電子線、プロトン線、中性子線等を照射して硬化
させることにより形成できる。中でも、皮膜形成（硬
化）速度、エネルギー線照射装置の入手のし易さ、価格
等から、エネルギー線として紫外線を採用することが有
利である。ここで、紫外線とは１５０〜４５０ｎｍ波長
域の光を主体としたもので、ケミカルランプ、高圧水銀
ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等から
発生させることができる。
【００２５】保護膜の厚さとしては、特に制限はない
が、薄膜化という観点からは４０μｍ以下が好ましく、
２５μｍ以下がより好ましい。
が、薄膜化という観点からは４０μｍ以下が好ましく、
２５μｍ以下がより好ましい。
【００２６】また、保護膜は、偏光子に直接塗工して形
成される場合だけでなく、剥離シートに塗工し、エネル
ギー線を照射してフィルム化し、そのフィルムを偏光子
に公知の接着剤や粘着剤で貼着させることにより形成し
てもよい。
成される場合だけでなく、剥離シートに塗工し、エネル
ギー線を照射してフィルム化し、そのフィルムを偏光子
に公知の接着剤や粘着剤で貼着させることにより形成し
てもよい。
【００２７】本発明の偏光板の偏光子としては、特に限
定されず、従来より公知の偏光子を使用することができ
るが、特に、ポリビニルアルコール系樹脂の一軸延伸フ
ィルムをヨウ素で染色したものを好ましく使用すること
ができる。
定されず、従来より公知の偏光子を使用することができ
るが、特に、ポリビニルアルコール系樹脂の一軸延伸フ
ィルムをヨウ素で染色したものを好ましく使用すること
ができる。
【００２８】ここで、ポリビニルアルコール系樹脂は通
常、酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して
製造されるが、本発明では必ずしもこれに限定されるも
のではなく、少量の不飽和カルボン酸（塩、エステル、
アミド、ニトリル等を含む）、オレフィン類、ビニルエ
ーテル類、不飽和スルホン酸塩等、酢酸ビニルと共重合
可能な成分を含有していてもよい。ポリビニルアルコー
ル系樹脂における平均ケン化度は好ましくは８５〜１０
０モル％、より好ましくは９８〜１００モル％が実用的
である。また、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合
度としては任意のものが使用可能である。
常、酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して
製造されるが、本発明では必ずしもこれに限定されるも
のではなく、少量の不飽和カルボン酸（塩、エステル、
アミド、ニトリル等を含む）、オレフィン類、ビニルエ
ーテル類、不飽和スルホン酸塩等、酢酸ビニルと共重合
可能な成分を含有していてもよい。ポリビニルアルコー
ル系樹脂における平均ケン化度は好ましくは８５〜１０
０モル％、より好ましくは９８〜１００モル％が実用的
である。また、ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合
度としては任意のものが使用可能である。
【００２９】また、偏光子の具体的製法としては、公知
の方法を採用することができ、例えば、ポリビニルアル
コール系樹脂を、水、有機溶媒（ＤＭＳＯ、グリセリン
などの多価アルコール類、エチレンジアミンなどのアミ
ン類等）又はそれらと有機溶媒との混合溶媒（水分約５
〜３０重量％）に約５〜２０重量％で溶解した原液を製
膜してフィルム化し、（ａ）そのフィルムを延伸した後
にヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬して染色し、そ
の後でホウ素化合物処理する方法、（ｂ）そのフィルム
をヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬しながら延伸を
行うことにより延伸と染色を同時に行い、その後でホウ
素化合物処理する方法、（ｃ）そのフィルムをヨウ素溶
液又は二色性染料溶液に浸漬して染色した後に延伸し、
その後でホウ素化合物処理する方法、また、（ｄ）その
フィルムをヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬し染色
した後、ホウ素化合物溶液中で延伸する方法等が挙げら
れる。
の方法を採用することができ、例えば、ポリビニルアル
コール系樹脂を、水、有機溶媒（ＤＭＳＯ、グリセリン
などの多価アルコール類、エチレンジアミンなどのアミ
ン類等）又はそれらと有機溶媒との混合溶媒（水分約５
〜３０重量％）に約５〜２０重量％で溶解した原液を製
膜してフィルム化し、（ａ）そのフィルムを延伸した後
にヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬して染色し、そ
の後でホウ素化合物処理する方法、（ｂ）そのフィルム
をヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬しながら延伸を
行うことにより延伸と染色を同時に行い、その後でホウ
素化合物処理する方法、（ｃ）そのフィルムをヨウ素溶
液又は二色性染料溶液に浸漬して染色した後に延伸し、
その後でホウ素化合物処理する方法、また、（ｄ）その
フィルムをヨウ素溶液又は二色性染料溶液に浸漬し染色
した後、ホウ素化合物溶液中で延伸する方法等が挙げら
れる。
【００３０】ポリビニルアルコール系樹脂の製膜方法と
しては、キャスト法、押出法、ゲル製膜法等の公知の方
法で製膜することができる。
しては、キャスト法、押出法、ゲル製膜法等の公知の方
法で製膜することができる。
【００３１】また、製膜したポリビニルアルコール系樹
脂フィルムの延伸は、好ましくは４０〜１７０℃の温度
で一軸方向に、一回でもしくは複数回で３〜１０倍、好
ましくは３．５〜６倍延伸することが望ましい。この
際、前記と直角方向にも若干の延伸（幅方向の収縮を防
止する程度あるいはそれ以上の延伸）を行ってもよい。
脂フィルムの延伸は、好ましくは４０〜１７０℃の温度
で一軸方向に、一回でもしくは複数回で３〜１０倍、好
ましくは３．５〜６倍延伸することが望ましい。この
際、前記と直角方向にも若干の延伸（幅方向の収縮を防
止する程度あるいはそれ以上の延伸）を行ってもよい。
【００３２】製膜したポリビニルアルコール系樹脂フィ
ルムに対する染色は、そのフィルムにヨウ素溶液あるい
は二色性染料を含有する液体を接触させることによって
行われる。通常は、ヨウ素−ヨウ化カリの水溶液が用い
られ、ヨウ素の濃度は０．１〜２ｇ／ｌ、ヨウ化カリの
濃度は１０〜５０ｇ／ｌ、ヨウ素／ヨウ化カリの重量比
は２０〜１００が適当である。染色時間は３０〜５００
秒程度が実用的である。染色浴の温度は５〜５０℃が好
ましい。水以外に水と相溶性のある有機溶媒を少量含有
させてもよい。接触手段としては浸漬、塗布、噴霧等の
任意の手段が適用できる。
ルムに対する染色は、そのフィルムにヨウ素溶液あるい
は二色性染料を含有する液体を接触させることによって
行われる。通常は、ヨウ素−ヨウ化カリの水溶液が用い
られ、ヨウ素の濃度は０．１〜２ｇ／ｌ、ヨウ化カリの
濃度は１０〜５０ｇ／ｌ、ヨウ素／ヨウ化カリの重量比
は２０〜１００が適当である。染色時間は３０〜５００
秒程度が実用的である。染色浴の温度は５〜５０℃が好
ましい。水以外に水と相溶性のある有機溶媒を少量含有
させてもよい。接触手段としては浸漬、塗布、噴霧等の
任意の手段が適用できる。
【００３３】染色処理されたポリビニルアルコール系樹
脂フィルムに対するホウ素化合物処理は、ホウ酸、ホウ
砂等のホウ素化合物の水溶液又は含水有機溶媒溶液
（０．５〜２モル／ｌ程度）を、少量のヨウ化カリの共
存下、５０〜７０℃の温度で、ポリビニルアルコール系
樹脂フィルムに浸漬、塗布、噴霧などの手段により接触
させればよい。必要に応じてホウ素化合物処理中にフィ
ルムの延伸操作を行ってもよい。
脂フィルムに対するホウ素化合物処理は、ホウ酸、ホウ
砂等のホウ素化合物の水溶液又は含水有機溶媒溶液
（０．５〜２モル／ｌ程度）を、少量のヨウ化カリの共
存下、５０〜７０℃の温度で、ポリビニルアルコール系
樹脂フィルムに浸漬、塗布、噴霧などの手段により接触
させればよい。必要に応じてホウ素化合物処理中にフィ
ルムの延伸操作を行ってもよい。
【００３４】本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片
面に、前述しように保護膜を形成することにより製造で
きる。
面に、前述しように保護膜を形成することにより製造で
きる。
【００３５】本発明の偏光板の片面又は両面には、本発
明の効果が損なわれない範囲で、従来のＴＡＣフィルム
を接着剤により貼り合わせてもよいし、必要に応じて公
知の透明な感圧性接着剤層を常法により設けてもよい。
感圧性接着剤層としては、アクリル酸ブチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸２−エチルヘ
キシル等のアクリル酸エステルと、アクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸、メタクリル酸、クロトン酸等のα−
モノオレフィンカルボン酸との共重合物（アクリルニト
リル、酢酸ビニル、スチロールの如きビニル単量体を添
加したものも含む）を主体とするものが、偏光子の偏光
特性を阻害することがないので特に好ましい。その他、
透明性を有する粘着剤、例えば、ポリビニルエーテル
系、ゴム系等の接着剤を使用することができる。
明の効果が損なわれない範囲で、従来のＴＡＣフィルム
を接着剤により貼り合わせてもよいし、必要に応じて公
知の透明な感圧性接着剤層を常法により設けてもよい。
感圧性接着剤層としては、アクリル酸ブチル、アクリル
酸エチル、アクリル酸メチル、アクリル酸２−エチルヘ
キシル等のアクリル酸エステルと、アクリル酸、マレイ
ン酸、イタコン酸、メタクリル酸、クロトン酸等のα−
モノオレフィンカルボン酸との共重合物（アクリルニト
リル、酢酸ビニル、スチロールの如きビニル単量体を添
加したものも含む）を主体とするものが、偏光子の偏光
特性を阻害することがないので特に好ましい。その他、
透明性を有する粘着剤、例えば、ポリビニルエーテル
系、ゴム系等の接着剤を使用することができる。
【００３６】本発明の偏光板には、必要に応じて、アン
チグレア層、ハードコート層、アンチリフレクション
層、ハーフリフレクション層、反射層、蓄光層、光拡散
層、エレクトロルミネッセンス層等の機能層の１以上
を、粘着剤や接着剤で積層してもよい。
チグレア層、ハードコート層、アンチリフレクション
層、ハーフリフレクション層、反射層、蓄光層、光拡散
層、エレクトロルミネッセンス層等の機能層の１以上
を、粘着剤や接着剤で積層してもよい。
【００３７】本発明の偏光板は、従来公知の構造の液晶
パネルや、有機ＥＬパネル等の表示パネルの少なくとも
片面に貼着されるべき偏光板として、あるいはサングラ
ス、視力矯正用メガネ等の眼鏡用レンズの少なくとも片
面に貼着されるべき偏光板として好ましく適用できる。
例えば、図１に示すように、液晶パネル１の片面に、偏
光子２と保護膜３とからなる偏光板４を、保護膜３の反
対面側にλ／２位相差膜５と４／λ位相差膜６とを粘着
剤層７を介して積層し、その積層体全体を粘着剤層８で
貼り付け、一方、液晶パネル１の他面には、偏光子１０
の両面に保護膜１１が設けられた偏光板１２の片面に、
λ／２位相差膜１３と４／λ位相差膜１４と視野角向上
膜１５を粘着剤層１６を介して積層し、その積層体全体
を粘着剤層１７で貼り付けることにより、薄膜化した偏
光板を備えた液晶表示素子が得られる。
パネルや、有機ＥＬパネル等の表示パネルの少なくとも
片面に貼着されるべき偏光板として、あるいはサングラ
ス、視力矯正用メガネ等の眼鏡用レンズの少なくとも片
面に貼着されるべき偏光板として好ましく適用できる。
例えば、図１に示すように、液晶パネル１の片面に、偏
光子２と保護膜３とからなる偏光板４を、保護膜３の反
対面側にλ／２位相差膜５と４／λ位相差膜６とを粘着
剤層７を介して積層し、その積層体全体を粘着剤層８で
貼り付け、一方、液晶パネル１の他面には、偏光子１０
の両面に保護膜１１が設けられた偏光板１２の片面に、
λ／２位相差膜１３と４／λ位相差膜１４と視野角向上
膜１５を粘着剤層１６を介して積層し、その積層体全体
を粘着剤層１７で貼り付けることにより、薄膜化した偏
光板を備えた液晶表示素子が得られる。
【００３８】
【実施例】本発明を実施例に基づいて具体的に説明す
る。
る。
【００３９】実施例１〜４及び比較例１〜２
ケン化度９９．５モル％のポリビニルアルコールフィル
ム（７５μｍ厚）を、純水に浸漬して十分に膨潤させた
後に、ヨウ素染色液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／ホウ酸
／純水＝０．２ｇ／３０ｇ／３０／１ｌ）に３５℃で４
分間浸漬して染色した。染色したポリビニルアルコール
フィルムを延伸用溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／純水
＝３０ｇ／３０ｇ／１ｌ）中で５倍以上に一軸延伸を行
った。延伸したポリビニルアルコールフィルムを、固定
用溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／純水＝４０ｇ／４０
ｇ／１ｌ）に、４０℃で３分間浸漬してポリビニルアル
コールフィルム中にヨウ素を固定した後に、固定用溶液
から取り出し、乾燥炉（６５℃、５分）中で乾燥するこ
とにより偏光子を作製した。
ム（７５μｍ厚）を、純水に浸漬して十分に膨潤させた
後に、ヨウ素染色液（ヨウ素／ヨウ化カリウム／ホウ酸
／純水＝０．２ｇ／３０ｇ／３０／１ｌ）に３５℃で４
分間浸漬して染色した。染色したポリビニルアルコール
フィルムを延伸用溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／純水
＝３０ｇ／３０ｇ／１ｌ）中で５倍以上に一軸延伸を行
った。延伸したポリビニルアルコールフィルムを、固定
用溶液（ヨウ化カリウム／ホウ酸／純水＝４０ｇ／４０
ｇ／１ｌ）に、４０℃で３分間浸漬してポリビニルアル
コールフィルム中にヨウ素を固定した後に、固定用溶液
から取り出し、乾燥炉（６５℃、５分）中で乾燥するこ
とにより偏光子を作製した。
【００４０】次に得られた偏光子の両面に、表１の配合
のエネルギー線硬化性組成物を２０μｍ厚となるように
塗布し、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ
２の積算光量で紫外線（波長３６５ｎｍ）を照射して硬
化させて保護膜を形成することにより偏光板を作製し
た。
のエネルギー線硬化性組成物を２０μｍ厚となるように
塗布し、メタルハライドランプにより４００ｍＪ／ｃｍ
２の積算光量で紫外線（波長３６５ｎｍ）を照射して硬
化させて保護膜を形成することにより偏光板を作製し
た。
【００４１】得られた偏光板を６０℃で９０％ＲＨの湿
度環境下に１００時間放置というエージング試験を行っ
た。エージング試験の前後の光透過率を分光光度計にて
４００〜７００ｎｍの波長域における平均透過率を測定
した。そして、エージング前に対するエージング後の光
透過率の増大割合が１０％未満である場合を良好と判定
し、１０％以上である場合を不良と判定した。得られた
結果を表１に示す。
度環境下に１００時間放置というエージング試験を行っ
た。エージング試験の前後の光透過率を分光光度計にて
４００〜７００ｎｍの波長域における平均透過率を測定
した。そして、エージング前に対するエージング後の光
透過率の増大割合が１０％未満である場合を良好と判定
し、１０％以上である場合を不良と判定した。得られた
結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】
実施例 比較例 成分 １ ２ ３ ４ １ ２
EO変性ヒ゛スフェノールAシ゛アクリレート*1 100 60 40 20 − −
脂肪族ホ゜リエステルアクリレート*2 − 40 60 80 100 −
2-エチルヘキシルアクリレート*3 − − − − − 100 2-ヒト゛ロキシ-2-メチル-1-フェニルフ゜ロハ゜ン-1-オン*4 5 5 5 5 5 5
透過率 エージング前 41.5 40.5 40.5 41.0 41.0 42.8
（％） エージング後 42.9 42.5 42.5 43.8 85.2 80.0 変化率（％） 3.35 4.83 4.77 6.92 108 86.7 判定 良好 良好 良好 良好 不良 不良
表１注
＊１： ＳＲ−３４９、サートマー
＊２： Ｍ−６２００、東亜合成
＊３： ２ＥＨＡ、日本触媒
＊４： Ｄ１１７３（重合開始剤）、メルク
【００４３】表１の結果から、ビスフェノール残基を有
する重合性化合物を少なくとも２０重量％含有するエネ
ルギー線（紫外線）硬化性組成物から形成された保護膜
を有する実施例１〜４の偏光板は、保護膜が２０μｍと
非常に薄膜化しているにもかかわらず、ポリヨウ素の消
色を抑制しており、偏光子に対する湿気等の外界の影響
を排除できることがわかる。
する重合性化合物を少なくとも２０重量％含有するエネ
ルギー線（紫外線）硬化性組成物から形成された保護膜
を有する実施例１〜４の偏光板は、保護膜が２０μｍと
非常に薄膜化しているにもかかわらず、ポリヨウ素の消
色を抑制しており、偏光子に対する湿気等の外界の影響
を排除できることがわかる。
【００４４】一方、他の重合性化合物としてポリエステ
ルアクリレートや２−エチルヘキシルアクリレートから
保護膜を形成した比較例１〜２の偏光板は、ポリヨウ素
が消色して透過率が増大しており、実用できない偏光板
であることがわかった。
ルアクリレートや２−エチルヘキシルアクリレートから
保護膜を形成した比較例１〜２の偏光板は、ポリヨウ素
が消色して透過率が増大しており、実用できない偏光板
であることがわかった。
【００４５】
【発明の効果】本発明の偏光板によれば、保護膜が薄膜
化されているにもかかわらず、外部の湿気等の影響から
偏光子が保護されており、高温、高湿の環境下でも偏光
能を良好な状態に維持することができる。
化されているにもかかわらず、外部の湿気等の影響から
偏光子が保護されており、高温、高湿の環境下でも偏光
能を良好な状態に維持することができる。
【図１】 本発明の偏光板を適用した液晶表示素子の概
略断面図である。
略断面図である。
１ 液晶パネル、２，１０ 偏光子、 ３，１１ 保護
膜、４，１２ 偏光板、５，１３ λ／２位相差膜、
６，１４ ４／λ位相差膜、７，８，１６，１７粘着剤
層、１５ 視野角向上膜
膜、４，１２ 偏光板、５，１３ λ／２位相差膜、
６，１４ ４／λ位相差膜、７，８，１６，１７粘着剤
層、１５ 視野角向上膜
フロントページの続き
(72)発明者 施 澤民
栃木県鹿沼市さつき町12−３ ソニーケミ
カル株式会社内
(72)発明者 鳥巣 裕之
栃木県鹿沼市さつき町12−３ ソニーケミ
カル株式会社内
Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BB17 BB23 BB28 BC22
2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z
FB02 FC08
4F006 AA19 AB24 AB35 AB43 BA02
BA05 CA05
Claims (5)
- 【請求項１】 偏光子の少なくとも片面に保護膜が形成
された偏光板において、該保護膜が、ビスフェノール残
基を有するエネルギー線重合性化合物を含有するエネル
ギー線硬化性組成物を硬化させたものであることを特徴
とする偏光板。 - 【請求項２】 該エネルギー線重合性化合物のビスフェ
ノール残基が、ビスフェノールＡ型残基又はビスフェノ
ールＦ型残基である請求項１記載の偏光板。 - 【請求項３】 該エネルギー線硬化性組成物が該エネル
ギー線重合性化合物を少なくとも樹脂固形分基準で２０
重量％以上含有している請求項２記載の偏光板。 - 【請求項４】 該エネルギー線硬化性組成物が、更にポ
リエステル（メタ）アクリレートを含有する請求項３記
載の偏光板。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の偏光板
が、液晶パネルの少なくとも片面に設けられた液晶表示
素子。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001389355A JP4310957B2 (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | 偏光板 |
| TW091136994A TWI268371B (en) | 2001-12-21 | 2002-12-23 | Polarizing plate which has a thin protective film formed at least one surface of a polarizer |
| KR1020047009435A KR100941906B1 (ko) | 2001-12-21 | 2002-12-24 | 편광판 |
| US10/497,487 US7662446B2 (en) | 2001-12-21 | 2002-12-24 | Polarizing plate |
| CNB028255763A CN1328602C (zh) | 2001-12-21 | 2002-12-24 | 偏振片 |
| PCT/JP2002/013431 WO2003054593A1 (fr) | 2001-12-21 | 2002-12-24 | Plaque de polarisation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001389355A JP4310957B2 (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | 偏光板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003185843A true JP2003185843A (ja) | 2003-07-03 |
| JP4310957B2 JP4310957B2 (ja) | 2009-08-12 |
Family
ID=27597595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001389355A Expired - Lifetime JP4310957B2 (ja) | 2001-12-21 | 2001-12-21 | 偏光板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4310957B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005107238A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Sony Chem Corp | 偏光板 |
| JP2007025609A (ja) * | 2005-07-21 | 2007-02-01 | Mgc Filsheet Co Ltd | 偏光調光特性を有する光制御プラスチックレンズおよびその製造方法 |
| JP2008107432A (ja) * | 2006-10-24 | 2008-05-08 | Nitto Denko Corp | 偏光板およびそれを用いた画像表示装置 |
| JP2010039299A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光板およびその製造方法、ならびに液晶表示装置 |
| JP2010529515A (ja) * | 2007-06-15 | 2010-08-26 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | ディスプレイ装置及びその製造方法 |
| WO2010126157A1 (ja) * | 2009-05-01 | 2010-11-04 | 住友化学株式会社 | 偏光板、ならびにそれを用いた液晶パネルおよび液晶表示装置 |
-
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