JP2003183081A - プッシャ炉 - Google Patents
プッシャ炉Info
- Publication number
- JP2003183081A JP2003183081A JP2001379555A JP2001379555A JP2003183081A JP 2003183081 A JP2003183081 A JP 2003183081A JP 2001379555 A JP2001379555 A JP 2001379555A JP 2001379555 A JP2001379555 A JP 2001379555A JP 2003183081 A JP2003183081 A JP 2003183081A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic
- base plate
- furnace
- rail
- pusher
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理品を積載するセラミック質台板がセラミ
ック質レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しないよ
う搬送することができるセラミック焼成用のプッシャ炉
を提供する。 【解決手段】 セラミックス焼成用のプッシャ炉で、処
理品を積載するためのセラミック質台板、該セラミック
質台板を連続的に炉内に搬送させるためのプッシャ機
構、セラミック質台板を載置、移動させるためのセラミ
ック質レールを備えたものにおいて、セラミック質台板
が回転部材を備え、該回転部材がセラミック質レール上
を回動することによりセラミック質台板を搬送させるよ
う構成する。
ック質レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しないよ
う搬送することができるセラミック焼成用のプッシャ炉
を提供する。 【解決手段】 セラミックス焼成用のプッシャ炉で、処
理品を積載するためのセラミック質台板、該セラミック
質台板を連続的に炉内に搬送させるためのプッシャ機
構、セラミック質台板を載置、移動させるためのセラミ
ック質レールを備えたものにおいて、セラミック質台板
が回転部材を備え、該回転部材がセラミック質レール上
を回動することによりセラミック質台板を搬送させるよ
う構成する。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、セラミック焼成用
のプッシャ炉、詳しくは、処理品を積載するためのセラ
ミック質台板がセラミック質レール上を摺動抵抗による
摩耗粉が発生しないよう搬送することができるプッシャ
炉に関する。 【０００２】 【従来の技術】セラミックス焼成用のプッシャ炉におい
ては、処理品を積載したセラミック質台板が、この台板
を連続的に炉内に搬送するプッシャ機構を炉の入口部に
配設し、プッシャ機構により、台板を炉内に設けたセラ
ミック質レール上を搬送させることによって処理品の焼
成を行っている。この場合、台板は、レールの上面を擦
りながら炉内に搬送されるため、セラミック質レールを
摩耗させるという問題がある。 【０００３】炉内に設置されているセラミック質レール
を、摩耗により定期的に交換するためには、設備を停止
しなければならず、また費用を要する。そのため、セラ
ミック質台板の耐摩耗性は、セラミック質レールの耐摩
耗性より低く設計され、台板の方が摩耗し易いようにな
っているが、セラミック質台板の摩耗により摩耗粉が発
生し、炉内に浮遊もしくは処理品に付着し、処理品の純
度および特性に大きく影響を与えるという別の問題が生
じる。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、プッシャ炉
における上記従来の問題を解消するためになされたもの
であり、その目的は、セラミック質台板がセラミック質
レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しないよう搬送
することができるプッシャ炉を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明によるプッシャ炉は、セラミックス焼成用の
プッシャ炉で、処理品を積載するためのセラミック質台
板、該セラミック質台板を連続的に炉内に搬送させるた
めのプッシャ機構、セラミック質台板を載置、移動させ
るためのセラミック質レールを備えたものにおいて、セ
ラミック質台板が回転部材を備え、該回転部材がセラミ
ック質レール上を回動することによりセラミック質台板
を搬送させるよう構成したことを特徴とする。 【０００６】 【発明の実施の形態】本発明においては、セラミック質
台板とセラミック質レールの摺動摩擦により生じる摩耗
粉を無くすため、セラミック質台板にセラミック質ロー
ラーなどの回転部材を配置し、セラミック質台板がセラ
ミック質レール上を搬送される際、回転部材がレール上
を回動する構造としたものであり、以下、図面により本
発明の実施形態を説明する。 【０００７】図１（ａ）、図１（ｂ）に示すように、プ
ッシャ炉の炉体（図示は省略）の入口部（片端）にプッ
シャ機構２を設け、このプッシャ機構２により、セラミ
ック質レール３上を、例えば、一辺が２００〜４００ｍ
ｍのセラミック質台坂１を連続的に炉内に搬送させる。 【０００８】セッラミック質台板１がセラミック質レー
ル３の上面を移動する際、台板１に取り付けられた３個
または３個以上の回転部材、例えば直径２５〜５０ｍｍ
のセラミック質ローラー４が回転し、セラミック質レー
ル３との転がり摩擦のみで炉内を移動する。回転部材は
セラミック質の回転ボールとすることもできる。 【０００９】台板１への回転部材、例えばセラミック質
ローラー４の組み付けは、図２に示すように、台板１に
セラミック質ローラー４の直径より十分に大きな角穴ま
たは丸穴５を形成し、この穴５にセラミック質ローラー
４とセラミック質ローラ−４に取り付けられた軸径が１
０〜３０ｍｍ程度のセラミック質軸ピン６を嵌め込み、
セラミック質ローラー４の一部が台板１の下部から５〜
２０ｍｍ程度飛び出た構造とする。 【００１０】この構造により、セラミック質台板１がプ
ッシャ機構２によりセラミック質レール３上を搬送する
際、セラミック質ローラー４はセラミック質軸ピン６を
軸として台板１上を回転し、台板１はセラミック質レー
ル３との転がり摩擦のみで炉内を移動する。セラミック
質台板１がセラミック質レール３上を摺動することがな
いから摩耗粉の発生が無くなるとともに、定期的な台板
の交換が不要となり、ローラー４と軸ピン６を交換する
だけで台板を再利用することができる。 【００１１】 【発明の効果】本発明によれば、セラミック質台板がセ
ラミック質レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しな
いよう搬送することができるセラミック焼成用のプッシ
ャ炉が提供される。 【００１２】摩耗粉の発生が無いから、炉内を搬送する
処理品に対する不純物の影響を少なくすることができ、
セラミック処理品の安定した焼成が可能となる。また、
ローラーと軸ピンを交換するだけで台板を再利用するこ
とができるため、従来の摩耗による台板の定期的な交換
が不要となり、台板の寿命を延ばすことができる。
のプッシャ炉、詳しくは、処理品を積載するためのセラ
ミック質台板がセラミック質レール上を摺動抵抗による
摩耗粉が発生しないよう搬送することができるプッシャ
炉に関する。 【０００２】 【従来の技術】セラミックス焼成用のプッシャ炉におい
ては、処理品を積載したセラミック質台板が、この台板
を連続的に炉内に搬送するプッシャ機構を炉の入口部に
配設し、プッシャ機構により、台板を炉内に設けたセラ
ミック質レール上を搬送させることによって処理品の焼
成を行っている。この場合、台板は、レールの上面を擦
りながら炉内に搬送されるため、セラミック質レールを
摩耗させるという問題がある。 【０００３】炉内に設置されているセラミック質レール
を、摩耗により定期的に交換するためには、設備を停止
しなければならず、また費用を要する。そのため、セラ
ミック質台板の耐摩耗性は、セラミック質レールの耐摩
耗性より低く設計され、台板の方が摩耗し易いようにな
っているが、セラミック質台板の摩耗により摩耗粉が発
生し、炉内に浮遊もしくは処理品に付着し、処理品の純
度および特性に大きく影響を与えるという別の問題が生
じる。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、プッシャ炉
における上記従来の問題を解消するためになされたもの
であり、その目的は、セラミック質台板がセラミック質
レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しないよう搬送
することができるプッシャ炉を提供することにある。 【０００５】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明によるプッシャ炉は、セラミックス焼成用の
プッシャ炉で、処理品を積載するためのセラミック質台
板、該セラミック質台板を連続的に炉内に搬送させるた
めのプッシャ機構、セラミック質台板を載置、移動させ
るためのセラミック質レールを備えたものにおいて、セ
ラミック質台板が回転部材を備え、該回転部材がセラミ
ック質レール上を回動することによりセラミック質台板
を搬送させるよう構成したことを特徴とする。 【０００６】 【発明の実施の形態】本発明においては、セラミック質
台板とセラミック質レールの摺動摩擦により生じる摩耗
粉を無くすため、セラミック質台板にセラミック質ロー
ラーなどの回転部材を配置し、セラミック質台板がセラ
ミック質レール上を搬送される際、回転部材がレール上
を回動する構造としたものであり、以下、図面により本
発明の実施形態を説明する。 【０００７】図１（ａ）、図１（ｂ）に示すように、プ
ッシャ炉の炉体（図示は省略）の入口部（片端）にプッ
シャ機構２を設け、このプッシャ機構２により、セラミ
ック質レール３上を、例えば、一辺が２００〜４００ｍ
ｍのセラミック質台坂１を連続的に炉内に搬送させる。 【０００８】セッラミック質台板１がセラミック質レー
ル３の上面を移動する際、台板１に取り付けられた３個
または３個以上の回転部材、例えば直径２５〜５０ｍｍ
のセラミック質ローラー４が回転し、セラミック質レー
ル３との転がり摩擦のみで炉内を移動する。回転部材は
セラミック質の回転ボールとすることもできる。 【０００９】台板１への回転部材、例えばセラミック質
ローラー４の組み付けは、図２に示すように、台板１に
セラミック質ローラー４の直径より十分に大きな角穴ま
たは丸穴５を形成し、この穴５にセラミック質ローラー
４とセラミック質ローラ−４に取り付けられた軸径が１
０〜３０ｍｍ程度のセラミック質軸ピン６を嵌め込み、
セラミック質ローラー４の一部が台板１の下部から５〜
２０ｍｍ程度飛び出た構造とする。 【００１０】この構造により、セラミック質台板１がプ
ッシャ機構２によりセラミック質レール３上を搬送する
際、セラミック質ローラー４はセラミック質軸ピン６を
軸として台板１上を回転し、台板１はセラミック質レー
ル３との転がり摩擦のみで炉内を移動する。セラミック
質台板１がセラミック質レール３上を摺動することがな
いから摩耗粉の発生が無くなるとともに、定期的な台板
の交換が不要となり、ローラー４と軸ピン６を交換する
だけで台板を再利用することができる。 【００１１】 【発明の効果】本発明によれば、セラミック質台板がセ
ラミック質レール上を摺動抵抗による摩耗粉が発生しな
いよう搬送することができるセラミック焼成用のプッシ
ャ炉が提供される。 【００１２】摩耗粉の発生が無いから、炉内を搬送する
処理品に対する不純物の影響を少なくすることができ、
セラミック処理品の安定した焼成が可能となる。また、
ローラーと軸ピンを交換するだけで台板を再利用するこ
とができるため、従来の摩耗による台板の定期的な交換
が不要となり、台板の寿命を延ばすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプッシャ炉の台板、レール、プッシャ
機構の関係を示す平面、側面図である。 【図２】本発明のプッシャ炉の台板を示す平面、側面図
である。 【符号の説明】 １ セラミック質台板 ２ プッシャ機構 ３ セラミック質レール ４ セラミック質ローラー ５ 角穴 ６ セラミック質軸ピン
機構の関係を示す平面、側面図である。 【図２】本発明のプッシャ炉の台板を示す平面、側面図
である。 【符号の説明】 １ セラミック質台板 ２ プッシャ機構 ３ セラミック質レール ４ セラミック質ローラー ５ 角穴 ６ セラミック質軸ピン
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｆ２７Ｄ 3/12 Ｆ２７Ｄ 3/12 Ｓ
Ｃ０４Ｂ 35/64 Ｚ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 セラミックス焼成用のプッシャ炉で、処
理品を積載するためのセラミック質台板、該セラミック
質台板を連続的に炉内に搬送させるためのプッシャ機
構、セラミック質台板を載置、移動させるためのセラミ
ック質レールを備えたものにおいて、セラミック質台板
が回転部材を備え、該回転部材がセラミック質レール上
を回動することによりセラミック質台板を搬送させるよ
う構成したことを特徴とするプッシャ炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001379555A JP2003183081A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | プッシャ炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001379555A JP2003183081A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | プッシャ炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003183081A true JP2003183081A (ja) | 2003-07-03 |
Family
ID=27591068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001379555A Pending JP2003183081A (ja) | 2001-12-13 | 2001-12-13 | プッシャ炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003183081A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007093160A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Dowa Holdings Co Ltd | 熱処理炉 |
| JP2010203767A (ja) * | 2010-04-12 | 2010-09-16 | Dowa Holdings Co Ltd | 熱処理炉 |
| JP2011099708A (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-19 | Horiba Ltd | るつぼ空焼き装置 |
| WO2016017354A1 (ja) * | 2014-07-28 | 2016-02-04 | 株式会社Ihi | 熱処理装置用の搬送装置及び熱処理装置 |
-
2001
- 2001-12-13 JP JP2001379555A patent/JP2003183081A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007093160A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Dowa Holdings Co Ltd | 熱処理炉 |
| JP2011099708A (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-19 | Horiba Ltd | るつぼ空焼き装置 |
| JP2010203767A (ja) * | 2010-04-12 | 2010-09-16 | Dowa Holdings Co Ltd | 熱処理炉 |
| WO2016017354A1 (ja) * | 2014-07-28 | 2016-02-04 | 株式会社Ihi | 熱処理装置用の搬送装置及び熱処理装置 |
| JP2016030841A (ja) * | 2014-07-28 | 2016-03-07 | 株式会社Ihi | 熱処理装置用の搬送装置及び熱処理装置 |
| CN106661642A (zh) * | 2014-07-28 | 2017-05-10 | 株式会社Ihi | 热处理装置用的输送装置以及热处理装置 |
| EP3176272A4 (en) * | 2014-07-28 | 2018-01-24 | IHI Corporation | Conveyance device for heat treatment device and heat treatment device |
| CN106661642B (zh) * | 2014-07-28 | 2019-02-19 | 株式会社Ihi | 热处理装置用的输送装置以及热处理装置 |
| US10260814B2 (en) | 2014-07-28 | 2019-04-16 | Ihi Corporation | Conveyance device for heat treatment device and heat treatment device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041201 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071217 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071221 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080214 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080701 |