CN208494234U - 一种自清洁旋转反应器 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种自清洁旋转反应器，包括机架（1）、机身（2）、进料端（3）、出料端（4）、驱动机构（5）和导料抄板（6），其特征在于：所述的机身（2）内放置有多个瓷球（7）且导料抄板（6）通过筋板（8）固定在机身（2）的壳体内壁上，瓷球（7）能够穿过筋板（8）内的缝隙和筋板（8）之间的间隙在机身（2）底部的壳体内壁上运动。本实用新型通过在机身内放置多个瓷球将生产过程中产生的结垢清理掉，解决了介质流动和结垢清理的问题并降低了生产成本；另外通过采用滚圈和托辊相配合，提高了转动效率；带滑道副的支撑机构给设备转动时留出了轴向窜动量，能有效解决设备的轴向窜动，故适宜推广使用。
Description
技术领域
本实用新型涉及能够用于能源环保、冶炼、石油、化工、印染、制药、食品等领域的旋转反应器，具体地说是一种能够自动清洁并保留轴向窜动量的自清洁旋转反应器。
背景技术
在现有技术中，一般采用卧式反应釜对物料进行搅拌，搅拌后及时送到生产现场，卧式反应釜每次贮存的物料有限，难以满足大型化生产的需要。申请人在2017年07月14日递交了名称为“旋转反应器”、申请号为2017208556397的实用新型专利，该专利提供了一种在输送物料的同时能够对物料起到搅拌作用的旋转反应器。但在使用过程中，出现了以下问题：一是在设备开车运行时，在设备壳体内壁容易结垢，长时间运行后，在抄板根部结垢会越来越严重，影响介质的流动和流动时的搅拌，长时间不清理不容易消除结垢，经常清理又影响生产；二是旋转反应器在工作时，由于里面输送介质的影响，可能会产生轴向窜动，而现有的支撑设备由于固定设置，导致旋转反应器在旋转时，会对支撑件造成拉扯，对旋转反应器的正常工作造成一定的影响，并降低旋转反应器的使用寿命。
发明内容
本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种能够自动清洁并保留轴向窜动量的自清洁旋转反应器。
本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：
一种自清洁旋转反应器，包括机架、机身、进料端、出料端、驱动机构和导料抄板，其特征在于：所述的机身内放置有多个瓷球且导料抄板通过筋板固定在机身的壳体内壁上，瓷球能够穿过筋板内的缝隙和筋板之间的间隙在机身底部的壳体内壁上运动。
所述机身的内腔中设置有限定瓷球轴向运动范围的隔挡，且隔挡之间的间距为2.5～4m。
所述的隔挡上设有多个端部半圆的直径小于瓷球的直径的长圆孔。
所述的机架包括托轮机构和托轮挡轮机构，托轮机构位于机身的两端且托轮挡轮机构位于托轮机构之间。
所述托轮机构和托轮挡轮机构中的托辊上设有环状凹槽，环状凹槽内设有能够在托辊和机身之间滚动的滚圈。
所述的托轮挡轮机构机构还包括支撑机构，所述的支撑机构包括能够固定在结构底座上的安装底板，安装底板的上方设有用于支撑旋转设备机身的支座，在安装底板的顶部焊接有带顶凹槽的下滑道副且支座的底部焊接有带底凹槽的上滑道副，顶凹槽和底凹槽相对设置且两者构成一个能够容纳滑块的腔体，所述的下滑道副、滑块和上滑道副构成一个完整的滑道副。
所述下滑道副的下平面和上滑道副的上平面之间留有间隙；所述间隙的高度与滑块的高度之比为10～15:100。
所述滑块的长度和顶凹槽和底凹槽的长度之比皆为90～95:100。
本实用新型相比现有技术有如下优点：
本实用新型通过在机身内放置多个瓷球，并将导料抄板用筋板撑起以留出瓷球的运动空间，设备旋转时，瓷球在机身的壳体内壁底部运动并与机身的壳体内壁、导料抄板和筋板产生摩擦，将生产过程中产生的结垢清理掉，一方面避免了人工清理，另一方面延长了设备开车停车周期，既解决了介质流动和结垢清理的问题，又降低了生产成本；另外通过在托轮机构和托轮挡轮机构中采用滚圈和托辊相配合，降低了托轮机构和托轮挡轮机构与机身之间的摩擦，提高了转动效率；同时通过在托轮挡轮机构中设置带有滑道副的支撑机构，给设备转动时留出了轴向窜动量，并通过对滑道副进行具体的限定，限定了轴向窜动量和磨损量，能有效解决设备的轴向窜动，故适宜推广使用。
附图说明
附图1是本实用新型的自清洁旋转反应器的结构示意图；
附图2是本实用新型的局部结构放大图；
附图3是本实用新型的滚圈和托辊配合结构示意图；
附图4是本实用新型的支撑机构的结构示意图。
其中：1—机架；2—机身；3—进料端；4—出料端；5—驱动机构；6—导料抄板；7—瓷球；8—筋板；9—隔挡；10—托轮机构；11—托轮挡轮机构；12—托辊；13—环状凹槽；14—滚圈；15—支撑机构；16—安装底板；17—支座；18—顶凹槽；19—下滑道副；20—底凹槽；21—上滑道副；22—滑块；23—间隙。
具体实施方式
下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。
如图1-2所示：一种自清洁旋转反应器，包括机架1、机身2、进料端3、出料端4、驱动机构5和导料抄板6，在机身2内放置有多个瓷球7且导料抄板6通过筋板8固定在机身2的壳体内壁上，瓷球7能够穿过筋板8内的缝隙和筋板8之间的间隙在机身2底部的壳体内壁上运动；机身2的内腔中设置有限定瓷球7轴向运动范围的隔挡9，且隔挡9之间的间距为2.5～4m，隔挡9上还设有多个端部半圆的直径小于瓷球7的直径的长圆孔以供物料通过。
如图1、3、4所示，该机架1包括托轮机构10和托轮挡轮机构11，托轮机构10位于机身2的两端且托轮挡轮机构11位于托轮机构10之间，托轮机构10和托轮挡轮机构11中的托辊12上设有环状凹槽13，环状凹槽13内设有能够在托辊12和机身2之间滚动的滚圈14；另外托轮挡轮机构11机构还包括支撑机构15，所述的支撑机构15包括能够固定在结构底座上的安装底板16，安装底板16的上方设有用于支撑旋转设备机身的支座17，在安装底板16的顶部焊接有带顶凹槽18的下滑道副19且支座17的底部焊接有带底凹槽20的上滑道副21，顶凹槽18和底凹槽20相对设置且两者构成一个能够容纳滑块22的腔体，上述的下滑道副19、滑块22和上滑道副21构成一个完整的滑道副；为提高性能，在下滑道副19的下平面和上滑道副21的上平面之间留有间隙23且间隙23的高度与滑块22的高度之比为10～15:100，以给滑块22提供磨损高度方向上的磨损空间；同时滑块22的长度和顶凹槽18和底凹槽20的长度之比皆为90～95:100，即给旋转反应器留有顶凹槽8和底凹槽20的长度的5%-10%的轴向窜动空间。
本实用新型通过在机身2内放置多个瓷球7，并将导料抄板6用筋板8撑起以留出瓷球7的运动空间，设备旋转时，瓷球7在机身2的壳体内壁底部运动并与机身2的壳体内壁、导料抄板6和筋板8产生摩擦，将生产过程中产生的结垢清理掉，一方面避免了人工清理，另一方面延长了设备开车停车周期，既解决了介质流动和结垢清理的问题，又降低了生产成本；另外通过在托轮机构10和托轮挡轮机构11中采用滚圈14和托辊12相配合，降低了托轮机构10和托轮挡轮机构11与机身2之间的摩擦，提高了转动效率；同时通过在托轮挡轮机构11中设置带有滑道副的支撑机构15，给设备转动时留出了轴向窜动量，并通过对滑道副进行具体的限定，限定了轴向窜动量和磨损量，能有效解决设备的轴向窜动，故适宜推广使用。
以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内；本实用新型未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。
Claims (8)
1.一种自清洁旋转反应器，包括机架（1）、机身（2）、进料端（3）、出料端（4）、驱动机构（5）和导料抄板（6），其特征在于：所述的机身（2）内放置有多个瓷球（7）且导料抄板（6）通过筋板（8）固定在机身（2）的壳体内壁上，瓷球（7）能够穿过筋板（8）内的缝隙和筋板（8）之间的间隙在机身（2）底部的壳体内壁上运动。
2.根据权利要求1所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述机身（2）的内腔中设置有限定瓷球（7）轴向运动范围的隔挡（9），且隔挡（9）之间的间距为2.5～4m。
3.根据权利要求2所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的隔挡（9）上设有多个端部半圆的直径小于瓷球（7）的直径的长圆孔。
4.根据权利要求1所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的机架（1）包括托轮机构（10）和托轮挡轮机构（11），托轮机构（10）位于机身（2）的两端且托轮挡轮机构（11）位于托轮机构（10）之间。
5.根据权利要求4所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述托轮机构（10）和托轮挡轮机构（11）中的托辊（12）上设有环状凹槽（13），环状凹槽（13）内设有能够在托辊（12）和机身（2）之间滚动的滚圈（14）。
6.根据权利要求4或5所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述的托轮挡轮机构（11）机构还包括支撑机构（15），所述的支撑机构（15）包括能够固定在结构底座上的安装底板（16），安装底板（16）的上方设有用于支撑旋转设备机身的支座（17），在安装底板（16）的顶部焊接有带顶凹槽（18）的下滑道副（19）且支座（17）的底部焊接有带底凹槽（20）的上滑道副（21），顶凹槽（18）和底凹槽（20）相对设置且两者构成一个能够容纳滑块（22）的腔体，所述的下滑道副（19）、滑块（22）和上滑道副（21）构成一个完整的滑道副。
7.根据权利要求6所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述下滑道副（19）的下平面和上滑道副（21）的上平面之间留有间隙（23）；所述间隙（23）的高度与滑块（22）的高度之比为10～15:100。
8.根据权利要求6所述的自清洁旋转反应器，其特征在于：所述滑块（22）的长度和顶凹槽（18）和底凹槽（20）的长度之比皆为90～95:100。
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