JP2003173213A - バイアス電圧発生回路、半導体装置、cmos基準電圧発生回路及び電源監視回路 - Google Patents

バイアス電圧発生回路、半導体装置、cmos基準電圧発生回路及び電源監視回路

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JP2003173213A
JP2003173213A JP2001372843A JP2001372843A JP2003173213A JP 2003173213 A JP2003173213 A JP 2003173213A JP 2001372843 A JP2001372843 A JP 2001372843A JP 2001372843 A JP2001372843 A JP 2001372843A JP 2003173213 A JP2003173213 A JP 2003173213A
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voltage generating
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Akira Abe
彰 阿部
Takamichi Kasai
孝道 葛西
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Seiko Epson Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電源変動に対する依存度が少ないバイアス電
圧等を発生できるバイアス電圧発生回路、これを含む半
導体装置等を提供することが目的である。 【解決手段】 出力ノードN10にVBSを発生するバ
イアス電圧発生回路であって、一端がVDDに接続され
他端がN10に接続される出力抵抗素子R40と、ドレ
イン電極及びゲート電極がN10に接続されソース電極
がVSSに接続される出力トランジスタNT40と、N
T40に並列に設けられる電流制御回路40を含み、電
流制御回路40が、N10から電流制御回路40を介し
てVSSに流れる電流をVDDが増加するにつれて増加
させる電流制御を行う。VDDが増加した場合のバイア
ス電圧VBSの増加量が飽和領域において零又は負にな
るようなフラット又は負の勾配の特性曲線を実現する。
ゲートアレイにより回路が構成される半導体装置のPL
L回路が含むチャージポンプ回路の充放電電流を、この
バイアス電圧発生回路からのバイアス電圧に基づいて生
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、バイアス電圧発生
回路、半導体装置、CMOSトランジスタを使用して構
成されたCMOS基準電圧発生回路及び電源監視回路に
関する。
【0002】
【背景技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、電流源のバイアス電圧を発生する種々の構成のバイ
アス電圧発生回路が知られている。このバイアス電圧発
生回路を用いれば、発生したバイアス電圧をトランジス
タのゲート電極に入力するだけで、CMOS基準電圧発
生回路や演算増幅回路などが含む電流源を構成できるよ
うになる。
【0003】しかしながら、従来のバイアス電圧発生回
路では、電源電圧が変動した場合に、バイアス電圧も大
きく変動してしまうという問題点があった。そして、バ
イアス電圧が変動すると、CMOS基準電圧発生回路や
演算増幅回路などが含む電流源に流れる電流も変動して
しまい、CMOS基準電圧発生回路や演算増幅回路の安
定動作を阻害してしまうという課題がある。
【0004】また、従来より、バンドギャップリファレ
ンス回路と呼ばれるCMOS基準電圧発生回路が知られ
ている。このCMOS基準電圧発生回路によれば、温度
変動や電源電圧変動が生じても、高精度で安定した基準
電圧を得ることができる。
【0005】図1に、従来のCMOS基準電圧発生回路
(バンドギャップリファレンス回路。以下、BGR回路
と呼ぶ)を、第1の比較例として示す。このCMOS基
準電圧発生回路は、電源VDD、VSS間に直列に設け
られる、P型トランジスタPT1、抵抗素子R1及びダ
イオードD1(PN接合ダイオード或いはコレクタ・ベ
ース相互が接続されたトランジスタのベース・エミッタ
間のPN接合等)を含む。また、出力ノードN3とVS
Sの間に直列に設けられる抵抗素子R3、R2及びダイ
オードD2(D1と電流密度が異なるダイオードであ
り、N個のダイオードを並列接続した構成のダイオード
或いはエミッタサイズをN倍にしたトランジスタ等)を
含む。更に、R1、D1間のノードN1の電圧VN1と
R3、R2間のノードN2の電圧VN2とが略等しくな
るように、トランジスタPT1のゲート電極を制御する
演算増幅回路OPを含む。
【0006】図1において、抵抗素子R1、R2、R3
の抵抗値についてもR1、R2、R3と表し、ダイオー
ドD1、D2の順方向電圧をVF1、VF2とし、R
1、R3に流れる電流をI1、I2とし、熱電圧をVT
(=K・T/q)とすると、出力ノードN3に発生する
基準電圧VREF_CONVは下式のように表される。
【0007】 VREF_CONV=VF1+(R3/R2)・△VF (1) △VF=VF1−VF2 =VT・In(N・I1/I2) =VT・In(N・R3/R1) (2) 上式(1)、(2)において、順方向電圧VF1は負の
温度係数を持つ一方で、熱電圧VT(△VF)は正の温
度係数を持つ。従って、R1、R2、R3の抵抗比を適
正な設定にすることで、温度変動が生じてもそれほど変
動しない、高精度の基準電圧VREF_CONV(約
1.25V)を得ることができる。
【0008】しかしながら、図1の第1の比較例のCM
OS基準電圧発生回路では、温度係数が概略零となる時
の基準電圧VREF_CONVが約1.25Vに固定さ
れてしまうという問題点がある。また、基準電圧VRE
F_CONVが1.25Vに固定されるため電源電圧を
低くできないという問題も生じる。
【0009】このような図1のCMOS基準電圧発生回
路(BGR回路)の問題点を解決するものとして、「IE
EE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS,VOL.34, NO.5, M
AY 1999,”A CMOS Bandgap Reference Circuit with Su
b-1-V Operation"」に開示される従来技術が知られてい
る。この従来技術のCMOS基準電圧発生回路によれ
ば、低い電源電圧での動作も可能になると共に、発生さ
れる基準電圧を可変にできるという利点がある。
【0010】しかしながら、この従来技術のCMOS基
準電圧発生回路では、電源投入時等に回路を安定して起
動させるために、スタート信号が必要になる。ところ
が、電源投入時等の電源電圧が低い段階では、このよう
なスタート信号を生成するのは容易ではない。従って、
このようなスタート信号を生成できない場合には、回路
の安定した起動を実現できないという課題がある。
【0011】本発明は、以上のような技術的課題に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、電源
変動に対する依存度が少ないバイアス電圧等を発生でき
るバイアス電圧発生回路、及びこれを含む半導体装置を
提供することにある。
【0012】また本発明の他の目的は、低い電源電圧で
も高精度な基準電圧を発生できると共に、回路の安定し
た起動を実現できるCMOS基準電圧発生回路、及びこ
れを用いた電源監視回路を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、出力ノードにバイアス電圧を発生するバイ
アス電圧発生回路であって、一端が第1の電源に接続さ
れ他端が出力ノードに接続される出力抵抗素子と、ドレ
イン電極及びゲート電極が出力ノードに接続されソース
電極が第2の電源に接続される出力トランジスタと、前
記出力トランジスタに並列に設けられる電流制御回路と
を含み、前記電流制御回路が、出力ノードから電流制御
回路を介して第2の電源に流れる電流或いは第2の電源
から電流制御回路を介して出力ノードに流れる電流を、
第1、第2の電源の電圧差が増加するにつれて増加させ
る電流制御を行うことを特徴とする。
【0014】本発明によれば、出力抵抗素子と出力トラ
ンジスタの間の出力ノードにバイアス電圧を発生させる
ことができる。そして本発明では、この出力トランジス
タに並列に電流制御回路が設けられる。そして、第1、
第2の電源の電圧差が増加すると、出力ノードから電流
制御回路を介して第2の電源に流れる電流(或いは第2
の電源から電流制御回路を介して出力ノードに流れる電
流)が増加するように、電流制御が行われる。従って、
第1、第2の電源の電圧差が増加した場合にも、電流制
御回路側に流れる電流が増加することで、出力トランジ
スタに流れる電流が増加するのが抑制される。これによ
り、バイアス電圧の増加を抑えたり、バイアス電圧を逆
に減少させたりすることが可能になる。
【0015】また本発明は、前記電流制御回路が、一端
が第1の電源に接続され他端が第1の中間ノードに接続
される抵抗素子と、ドレイン電極及びゲート電極が第1
の中間ノードに接続されソース電極が第2の電源に接続
される第1のトランジスタと、ドレイン電極がバイアス
電圧発生回路の出力ノードに接続され、ゲート電極が第
1の中間ノードに接続され、ソース電極が第2の電源に
接続される第2のトランジスタとを含むことを特徴とす
る。
【0016】このようにすれば、第1、第2の電源の電
圧差が増加した場合に、第1の中間ノードの電圧が変化
することで第2のトランジスタのオン抵抗が小さくな
り、電流制御回路側に流れる電流を増加させることが可
能になる。
【0017】また本発明は、第1、第2の電源の電圧差
が増加した場合のバイアス電圧の増加量が、前記出力ト
ランジスタの飽和領域において零又は負になることを特
徴とする。
【0018】このようにすれば、これまでのバイアス電
圧発生回路では得ることができなかった、フラット又は
負の勾配の特性曲線を得ることが可能になり、このバイ
アス電圧を用いた多様な電流制御を実現できるようにな
る。
【0019】また本発明に係る半導体装置は、PLL回
路を含み、ゲートアレイにより回路が構成される半導体
装置であって、前記PLL回路が含むチャージポンプ回
路の充放電電流が、上記のいずれかのバイアス電圧発生
回路からのバイアス電圧に基づいて生成されることを特
徴とする。
【0020】このようにすれば、ゲートアレイにより回
路が構成される半導体装置においても、電源変動に対す
る充放電電流の変動が少ないチャージポンプ回路を含む
PLL回路を実現できるようになる。
【0021】また本発明は、出力ノードに基準電圧を発
生するCMOS基準電圧発生回路であって、前記CMO
S基準電圧発生回路が含む電流源が、上記のいずれかの
バイアス電圧発生回路からのバイアス電圧がゲート電極
に入力されたトランジスタにより構成されることを特徴
とする。
【0022】このようにすれば、CMOS基準電圧発生
回路が含む電流源に流れる電流が、電源変動が生じた場
合にも大きく変動しないようになり、CMOS基準電圧
発生回路の安定動作を実現できる。
【0023】また本発明に係るCMOS基準電圧発生回
路は、第1のPN接合を有し、第1のノードに第1の電
圧を発生する第1の電圧発生回路と、第1のPN接合と
は電流密度が異なる第2のPN接合を有し、第2のノー
ドに第2の電圧を発生する第2の電圧発生回路と、CM
OS基準電圧発生回路の出力ノードに接続される出力抵
抗素子と、第1、第2のノードが第1、第2の入力に接
続され、第1、第2のノードの第1、第2の電圧が略等
しくなるようにフィードバック制御を行う演算増幅回路
と、演算増幅回路の出力によりゲート電極が制御され、
第1の電圧発生回路に供給される電流を制御する第1の
電流制御用トランジスタと、演算増幅回路の出力により
ゲート電極が制御され、第2の電圧発生回路に供給され
る電流を制御する第2の電流制御用トランジスタと、演
算増幅回路の出力によりゲート電極が制御され、CMO
S基準電圧発生回路の出力抵抗素子に供給される電流を
制御する第3の電流制御用トランジスタと、演算増幅回
路の出力に依存しない電流を、第1の電圧発生回路に供
給する第1の電流源と、演算増幅回路の出力に依存しな
い電流を、第2の電圧発生回路に供給する第2の電流源
と、演算増幅回路の出力に依存しない電流を、CMOS
基準電圧発生回路の出力抵抗素子に供給する第3の電流
源とを含み、前記第1、第2、第3の電流源が、前記バ
イアス電圧発生回路からのバイアス電圧がゲート電極に
入力されたトランジスタにより構成されることを特徴と
する。
【0024】本発明によれば、第1、第2のノードの第
1、第2の電圧が略等しくなるように(イマジナリーシ
ョート)、第1、第2、第3の電流制御用トランジスタ
のゲート電極が演算増幅回路により制御され、これらの
第1、第2、第3の電流制御用トランジスタからの電流
が、第1、第2の電圧発生回路、出力抵抗素子に供給さ
れる。そして、出力抵抗素子に電流が供給されることに
より、出力ノードに基準電圧が発生するようになる。
【0025】なお、例えば、第1のノードには、第1の
電圧発生回路により、第1のPN接合の特性(第1のP
N接合の順方向電圧)に応じた第1の電圧が発生し、第
2のノードには、第2の電圧発生回路により、第2のP
N接合の特性(第2のPN接合の順方向電圧、第1、第
2のPN接合の順方向電圧の差)に応じた第2の電圧が
発生することになる。また第2のPN接合は、例えば、
複数のPN接合を並列接続した構成にすることができ
る。
【0026】そして本発明では、第1、第2、第3の電
流源により、CMOS基準電圧発生回路の起動電流とな
る電流が、第1、第2の電圧発生回路、出力抵抗素子に
対して供給される。従って、例えば電源投入時等におい
ては、これらの第1、第2、第3の電流源からの電流に
より第1、第2のノードに所与の電圧を発生させること
が可能となり、演算増幅回路が不適切な動作点で安定化
してしまう事態を防止できる。これにより、CMOS基
準電圧発生回路の安定した起動を実現できるようにな
る。
【0027】なお本発明のCMOS基準電圧発生回路
は、第1のPN接合の順方向電圧に比例した第1の電流
に、第1のPN接合の順方向電圧と該第1のPN接合と
は電流密度が異なる第2のPN接合の順方向電圧との差
に比例した第2の電流を加え、得られた第3の電流を出
力抵抗素子により電圧に変換することで出力ノードに基
準電圧を発生するCMOS基準電圧発生回路であって、
CMOS基準電圧発生回路を起動するための電流を第
1、第2のPN接合に供給するための電流源を含むよう
な構成としてもよい。
【0028】また本発明は、前記第1の電流制御用トラ
ンジスタ及び前記第1の電流源が、第1の電源と第1の
ノードの間に並列に設けられ、前記第2の電流制御用ト
ランジスタ及び前記第2の電流源が、第1の電源と第2
のノードの間に並列に設けられ、前記第3の電流制御用
トランジスタ及び前記第3の電流源が、第1の電源とC
MOS基準電圧発生回路の出力ノードの間に並列に設け
られ、前記第1の電圧発生回路が、第1のノードと第2
の電源の間に設けられ、前記第2の電圧発生回路が、第
2のノードと第2の電源の間に設けられ、CMOS基準
電圧発生回路の前記出力抵抗素子が、CMOS基準電圧
発生回路の出力ノードと第2の電源の間に設けられるよ
うにしてもよい。
【0029】また本発明は、前記第1の電流源が、第1
の電源と第1のノードの間に設けられ、前記第2の電流
源が、第1の電源と第2のノードの間に設けられ、前記
第3の電流源が、第1の電源とCMOS基準電圧発生回
路の出力ノードの間に設けられ、前記第1の電流制御用
トランジスタ及び前記第1の電圧発生回路が、第1のノ
ードと第2の電源の間に並列に設けられ、前記第2の電
流制御用トランジスタ及び前記第2の電圧発生回路が、
第2のノードと第2の電源の間に並列に設けられ、前記
第3の電流制御用トランジスタ及びCMOS基準電圧発
生回路の前記出力抵抗素子が、CMOS基準電圧発生回
路の出力ノードと第2の電源の間に並列に設けられるよ
うにしてもよい。
【0030】また本発明は、前記第1の電圧発生回路
が、第1のPN接合と、第1のPN接合に並列に設けら
れた第1の抵抗素子とを含み、前記第2の電圧発生回路
が、第2のPN接合と、第2のPN接合に直列に設けら
れた第2の抵抗素子と、第2のPN接合及び第2の抵抗
素子に並列に設けられた第3の抵抗素子とを含むことを
特徴とする。
【0031】なお、第1の抵抗素子の中間ノードに第1
のノードを設定したり、第3の抵抗素子の中間ノードに
第2のノードを設定してもよい。また、第1のノードと
第1のPN接合との間に他の抵抗素子を設けたり、第2
のノードと第2の抵抗素子との間に他の抵抗素子を設け
てもよい。
【0032】また本発明に係る電源監視回路は、上記の
いずれかのCMOS基準電圧発生回路を含み、CMOS
基準電圧発生回路で発生した基準電圧に基づいて電源電
圧を監視し、電源電圧が所与の検出電圧であることを検
出した場合に、検出信号を出力することを特徴とする。
【0033】このようにすれば、この検出信号に基づい
てシステムを起動することなどが可能になる。そして本
発明では、システムからのスタート信号等を用いること
なく、電流源からの電流によりCMOS基準電圧発生回
路を起動できる。従って、システムの起動前にCMOS
基準電圧発生回路を起動し、起動したCMOS基準電圧
発生回路からの基準電圧に基づき電源電圧を監視するこ
とで検出信号を生成し、この検出信号に基づいて起動す
るというようなシステムを構成できるようになる。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、本実施形態について図面を
用いて詳細に説明する。
【0035】なお、以下に説明する本実施形態は、特許
請求の範囲に記載された本発明の内容を何ら限定するも
のではない。また本実施形態で説明される構成の全て
が、本発明の必須構成要件であるとは限らない。
【0036】1.CMOS基準電圧発生回路の構成 図2に本実施形態のCMOS基準電圧発生回路(BGR
回路)の構成例を示す。
【0037】図2のCMOS基準電圧発生回路は、第1
のPN接合D1(ダイオード又はトランジスタ等)を有
し、ノードN1(第1のノード)に電圧VN1(D1の
特性に依存した電圧)を発生する電圧発生回路10(第
1の電圧発生回路)を含む。また、D1とは電流密度が
異なる第2のPN接合D2(N個のダイオードを並列接
続した構成のダイオード又はエミッタサイズをN倍にし
たトランジスタ等)を有し、ノードN2(第2のノー
ド)に電圧VN2(D2の特性に依存した電圧)を発生
する電圧発生回路12(第2の電圧発生回路)を含む。
【0038】より具体的には、電圧発生回路10は、ダ
イオードD1(第1のPN接合)と、D1に並列に設け
られた抵抗素子R1(第1の抵抗素子)を含む。また、
電圧発生回路12は、ダイオードD2(第2のPN接
合)と、D2に直列に設けられた抵抗素子R2(第2の
抵抗素子)と、D2及びR2に並列に設けられた抵抗素
子R3(第3の抵抗素子)を含む。なお、ダイオードD
1、D2は、PN接合ダイオードや、コレクタ・ベース
相互が接続されたトランジスタのベース・エミッタ間の
PN接合などで実現できる。
【0039】また図2のCMOS基準電圧発生回路は、
出力ノードN3に接続される出力抵抗素子R4を含む。
また、ノードN1、N2が差動入力(第1、第2の入
力)に接続され、N1、N2の電圧VN1、VN2が略
等しくなるようにフィードバック制御を行う演算増幅回
路OP(差動増幅回路)を含む。また、演算増幅回路O
Pの出力VOPによりゲート電極が制御され、電圧発生
回路10、12、出力抵抗素子R4に供給される電流を
制御するP型トランジスタPT1、PT2、PT3(電
流制御用トランジスタ)を含む。更に、電圧発生回路1
0、12、出力抵抗素子R4に電流を供給する電流源I
S1、IS2、IS3(第1、第2、第3の電流源)を
含む。
【0040】さて、図2において、抵抗素子R1、R
2、R3、R4の抵抗値についてもR1、R2、R3、
R4と表し(R1=R3)、ダイオードD1、D2の順
方向電圧をVF1、VF2とし、VF1とVF2の差を
△VFとする。また、PT1、PT2、PT3のトラン
ジスタ・サイズ(W/L)を同一とする。また、D1に
流れる電流をI1Aとし、R1に流れる電流をI1Bと
し、I1A+I1B=I1’とする。また、R2及びD
2に流れる電流をI2Aとし、R3に流れる電流をI2
Bとし、I2A+I2B=I2’とする。また、R4に
流れる電流をI3’とする。また、トランジスタPT
1、PT2、PT3に流れる電流をI1、I2、I3と
し、電流源IS1、IS2、IS3に流れる電流をI0
とする。また、以下の説明ではVSS=GND=0Vと
する。
【0041】すると、図2において、演算増幅回路OP
により、VN1=VN2となるようなフィードバック制
御が行われるため、 VN1=VF1 VN2=VF2+△VF △VF=VF1−VF2 (3) となる。
【0042】また、 I2A=△VF/R2 I2B=VF1/R3 (4) となる。
【0043】従って、 I2’=I2B+I2A =VF1/R3+△VF/R2 (5) となる。
【0044】そして、演算増幅回路OPにより、I1=
I2=I3となるように電流制御が行われるため、 I1’=I1+I0=I2’=I2+I0=I3’=I3+I0 (6) となる。従って、出力ノードN3に発生する基準電圧V
REFは、 VREF=R4・I3’ =R4・I2’ =R4・(I2B+I2A) =R4・(VF1/R3+△VF/R2) (7) となる。
【0045】上式(7)から明らかなように、本実施形
態のCMOS基準電圧発生回路は、ダイオードD1の順
方向電圧VF1に比例した電流(電流量)I2B=VF
1/R3に、ダイオードD1、D2の順方向電圧VF
1、VF2の差△VFに比例した電流I2A=△VF/
R2を加え、得られた電流I2’=I3’=(VF1/
R3+△VF/R2)を出力抵抗素子R4により電圧に
変換することで、出力ノードN3に基準電圧VREF=
R4・(VF1/R3+△VF/R2)を発生する回路
である。そして本実施形態では、このようなCMOS基
準電圧発生回路を起動するための電流をダイオードD
1、D2(第1、第2のPN接合)に供給するための電
流源IS1、IS2、IS3を含んでいる。
【0046】さて、上式(7)を変形すると、 VREF=(R4/R3)・{VF1+(R3/R2)・△VF} (8) となる。
【0047】また、図1の第1の比較例で生成される基
準電圧VREF_CONVは下式のようになる。
【0048】 VREF_CONV=VF1+(R3/R2)・△VF (9) 従って、上式(8)、(9)から明らかなように、 VREF=(R4/R3)・{VF1+(R3/R2)・△VF} =(R4/R3)・VREF_CONV (10) となる。
【0049】即ち、図1の第1の比較例では、VREF
_CONVが1.25Vに固定され、可変にできなかっ
た。これに対して、本実施形態のCMOS基準電圧発生
回路では、上式(10)から明らかなように、抵抗比
(R4/R3)を変えることで、VREFの電圧レベル
を自由に設定でき、VREFを1.25V以下に設定す
ることもできる。この場合、VREF_CONVは温度
依存性がほとんどないため、VREFも温度依存性がほ
とんどないようになる。そして、本実施形態のCMOS
基準電圧発生回路では、電源電圧VDDを低くすること
が可能となり、低電圧動作が可能なCMOS基準電圧発
生回路を実現できる。
【0050】なお、図2では、トランジスタPT1、P
T2、PT3のトランジスタサイズ(W/L)が同一で
あるとして説明を行ったが、これらのトランジスタサイ
ズを必ずしも同一にする必要はない。即ち、これらのト
ランジスタサイズを異ならせる場合には、それらのトラ
ンジスタサイズ比に応じ値に、抵抗素子の抵抗値を設定
すればよい。
【0051】2.電流源による電流の供給 さて、本実施形態の特徴は図2に示すように、電圧発生
回路10、12、出力抵抗素子R4に電流I0(CMO
S基準電圧発生回路を起動するための電流、オフセット
電流、初期電流)を供給するための電流源IS1、IS
2、IS3を設けた点にある。即ち本実施形態では、演
算増幅回路OPの出力VOPに依存しない電流I0を電
圧発生回路10、12、出力抵抗素子R4に対して供給
するための電流源IS1、IS2、IS3を設けてい
る。
【0052】例えばこれらの電流源IS1、IS2、I
S3を設けない構成を、第2の比較例として図3に示
す。この第2の比較例では次のような問題がある。
【0053】即ち、電源投入時(電源電圧低下時)にお
いては、VDDが低いため、図3の第2の比較例では、
トランジスタPT1、PT2、PT3がオフ(非導通状
態)になり、これらのトランジスタに流れる電流I1、
I2、I3は零になる。このため、ダイオードD1、D
2に流れる電流I1A、I2Aや、抵抗素子R1、R3
に流れる電流I1B、I2Bも零になり、ノードN1、
N2の電圧VN1、VN2は共に零になる。従って、演
算増幅回路OPは、N1、N2の電圧VN1、VN2が
等しいと判断してしまい(VN1=VN2=0)、その
出力VOPを変化させるフィードバック制御を行わなく
なる。即ち、電圧VN1、VN2が零となる不適切な動
作点で演算増幅回路OPが安定化してしまう。この結
果、VOPによりゲート電極が制御されるトランジスタ
PT1、PT2、PT3が、いつまでもオンしなくな
り、CMOS基準電圧発生回路が適正に起動しなくなる
という問題が生じる。
【0054】このような問題を解決する構成として、
「IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS,VOL.34, NO.
5, MAY 1999,”A CMOS Bandgap Reference Circuit wit
h Sub-1-V Operation"」に開示されるような、図4に示
す第3の比較例を考えることができる。
【0055】この第3の比較例では、ドレイン電極に演
算増幅回路OPの出力VOPが接続され、ゲート電極に
スタート信号が入力され、ソース電極に電源VSSが接
続されるN型トランジスタNT4が設けられている。こ
の第3の比較例では、電源投入時においてスタート信号
がアクティブ(Hレベル)に設定されることで、演算増
幅回路OPの出力VOPがLレベルになる。従って、ト
ランジスタPT1、PT2、PT3がオンになり、電源
投入時においてもダイオードD1、D2や抵抗素子R
1、R2、R3に電流を流すことができ、ノードN1、
N2の電圧VN1、VN2が零よりも大きくなる。この
結果、不適正な動作点で演算増幅回路OPが安定化して
しまう事態を防止でき、CMOS基準電圧発生回路を適
正に起動させることが可能になる。
【0056】しかしながら、図4の第3の比較例では、
CMOS基準電圧発生回路の起動のためのスタート信号
が必要になる。ところが、このようなスタート信号を生
成するためには、その前提として、CMOS基準電圧発
生回路が起動する前に、スタート信号を制御するシステ
ムが起動している必要がある。従って、CMOS基準電
圧発生回路からのVREFに基づいて起動するようなシ
ステムにおいては、このようなスタート信号を生成でき
ないという課題がある。
【0057】特に、CMOS基準電圧発生回路で発生し
た基準電圧に基づいて電源電圧を監視し、電源電圧が所
与の電圧であることを検出した場合に、検出信号を生成
し、その検出信号に基づいて起動するようなシステムに
おいては、このようなスタート信号を用いることは実質
的にほとんど不可能となる。
【0058】これに対して図2の本実施形態のCMOS
基準電圧発生回路によれば、このようなスタート信号を
用いなくても、電流源IS1、IS2、IS3からの電
流I0を用いて、CMOS基準電圧発生回路を適正に起
動できる。即ち、演算増幅回路OPが起動していない状
態でも、OPの出力VOPに依存しない電流I0が電圧
発生回路10、12に流れることで、CMOS基準電圧
発生回路を適正に起動できる。従って、CMOS基準電
圧発生回路からのVREFに基づいて起動するようなシ
ステムにおいても、システムを適正に起動させることが
可能になる。
【0059】そして特に本実施形態の特徴は、図2に示
すような電流源IS1、IS2、IS3を設けても、図
3と同様の基準電圧VREFを発生させることができる
点にある。
【0060】即ち、図2の構成では、演算増幅回路OP
によりフィードバック制御されるのは、電流I1’、I
2’、I3’ではなく、実際には、トランジスタPT
1、PT2、PT3に流れる電流I1、I2、I3とな
る。
【0061】しかしながら、I1=I2=I3となるよ
うに演算増幅回路OPがフィードバック制御を行えば、
I1’=I1+I0=I2’=I2+I0=I3’=I
3+I0の関係(I1’=I2’=I3’の関係)が成
り立つようになる。この結果、前述の式(7)に示すよ
うに、VREF=R4・(VF1/R3+△VF/R
2)となる基準電圧を出力ノードN3に発生できるよう
になる。即ち、電流源IS1、IS2、IS3を設けた
のにもかかわらず、図3と同様に高精度で可変な基準電
圧VREFを発生できるという利点がある。
【0062】3.CMOS基準電圧発生回路の変形例 図5に、本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の第1
の変形例を示す。図2と図5の構成の相違点は以下の通
りである。
【0063】即ち図2では、トランジスタPT1及び電
流源IS1が、VDD(第1の電源)とノードN1の間
に並列に設けられ、トランジスタPT2及び電流源IS
2が、VDDとノードN2の間に並列に設けられ、トラ
ンジスタPT3及び電流源IS3が、VDDと出力ノー
ドN3の間に並列に設けられる。また、電圧発生回路1
0が、ノードN1とVSS(第2の電源)の間に設けら
れ、電圧発生回路12が、ノードN2とVSSの間に設
けられ、出力抵抗素子R4が、出力ノードN3とVSS
の間に設けられる。
【0064】これに対して図5の第1の変形例では、電
流源IS1がVDD(第1の電源)とノードN1の間に
設けられ、電流源IS2がVDDとノードN2の間に設
けられ、電流源IS3がVDDと出力ノードN3の間に
設けられる。また、トランジスタNT1及び電圧発生回
路10が、ノードN1とVSS(第2の電源)の間に並
列に設けられ、トランジスタNT2及び電圧発生回路1
2が、ノードN2とVSSの間に並列に設けられ、トラ
ンジスタNT3及び出力抵抗素子R4が出力ノードN3
とVSSの間に並列に設けられる。なお、トランジスタ
NT1、NT2、NT3は、演算増幅回路OPによりそ
のゲート電極が制御され、電圧発生回路10、12、出
力抵抗素子R4に供給される電流を制御するN型のトラ
ンジスタである。
【0065】そして、図2の構成では、 I1+I0=I1’=I1A+I1B I2+I0=I2’=I2A+I2B I3+I0=I3’ (11) という関係が成り立つ。
【0066】これに対して図5の第1の変形例では、 I0−I1=I1’=I1A+I1B I0−I2=I2’=I2A+I2B I0−I3=I3’ (12) という関係が成り立つことになる。
【0067】従って、図5の第1の変形例においても、
I1=I2=I3となるように演算増幅回路OPがフィ
ードバック制御を行うことで、I1’=I2’=I3’
という関係も成立するようになり、適正な基準電圧VR
EFを発生できるようになる。
【0068】図6に、本実施形態のCMOS基準電圧発
生回路の第2の変形例を示す。図2と図6の構成の相違
点は以下の通りである。
【0069】即ち、図2では、トランジスタPT1とダ
イオードD1の間のノードN1と、トランジスタPT2
と抵抗素子R2の間のノードN2とが、演算増幅回路O
Pの差動入力(第1、第2の入力)に接続されている。
【0070】これに対して、図6の第2の変形例では、
抵抗素子R1の中間ノード(抵抗分割ノード)N1’
と、抵抗素子R3の中間ノードN2’とが、演算増幅回
路OPの差動入力に接続されている。
【0071】この図6の第2の変形例によれば、演算増
幅回路OPの差動入力に入力される電圧を、図2の場合
に比べて低くできる。従って、演算増幅回路OPが、差
動入力の電圧が高い方が好ましい構成の回路である場合
には、図2の構成の方が望ましく、差動入力の電圧が低
い方が好ましい構成の回路である場合には、図6の構成
の方が望ましい。
【0072】図7に、本実施形態のCMOS基準電圧発
生回路の第3の変形例を示す。図2と図7の構成の相違
点は以下の通りである。
【0073】即ち、図2では、ノードN1とダイオード
D1の間や、ノードN2と抵抗素子R2の間には、抵抗
素子が設けられていない。
【0074】これに対して図7の第3の変形例では、ノ
ードN1とダイオードD1の間には、D1に直列に抵抗
素子R5が設けられ、ノードN2と抵抗素子R2の間に
は、R2及びD2に直列に抵抗素子R6が設けられてい
る。
【0075】この第3の変形例によれば、ノードN1、
N2の電圧VN1、VN2を図2に比べて高くできる。
即ち、電圧VN1、VN2を、ダイオードD1の順方向
電圧VF1よりも高くできる。従って、演算増幅回路O
Pが、差動入力の電圧が高い方が好ましい構成の回路で
ある場合(VN1、VN2が高い方がトランジスタの飽
和領域動作が保証される場合)には、図2の構成よりも
図7の構成の方が望ましい。
【0076】図8に、本実施形態のCMOS基準電圧発
生回路の第4の変形例を示す。図2と図8の構成の相違
点は以下の通りである。
【0077】即ち、図2では、トランジスタPT3と抵
抗素子R4の間のノードが出力ノードN3に設定され、
このN3で発生する電圧が、基準電圧VREFとして出
力される。
【0078】これに対して、図8では、抵抗素子R4の
中間ノード(抵抗分割ノード)が出力ノードN3’に設
定され、このN3’で発生する電圧が、基準電圧VRE
Fとして出力される。
【0079】図8の第4の変形例によれば、中間ノード
N3’の取り出し位置を任意に設定することで、種々の
電圧レベルの基準電圧を出力できるようになる。
【0080】なお、図2、図5〜図8において、抵抗素
子R1〜R6を、ポリシリコンや拡散層などの配線抵抗
により構成してもよい。
【0081】図9に演算増幅回路OPの構成例を示す。
この演算増幅回路OPは、差動部14と出力部16を含
む。
【0082】そして差動部14は、ゲート電極が差動部
14の反転出力VDFNに共通接続されたP型トランジ
スタPT20、PT21と、ゲート電極が差動入力とな
るノードN1、N2に接続され、PT20、PT21に
直列に設けられたN型トランジスタNT20、NT21
と、VSS(第2の電源)側に設けられた電流源IS1
0を含む。
【0083】また出力部16は、ゲート電極が差動部1
4の出力VDFに接続された駆動用のP型トランジスタ
PT22と、差動部の出力VDF、演算増幅回路の出力
VOP間に設けられた位相補償用の容量C1と、VSS
側に設けられた電流源IS11を含む。
【0084】なお、電流源IS10、IS11は、バイ
アス電圧がゲート電極に入力されたN型のトランジスタ
などで実現できる。
【0085】また、演算増幅回路OPは図9の構成に限
定されず、ノードN1、N2での電圧VN1、VN2
(VN1’、VN2’)が略等しくなるように、図2、
図5〜図8のトランジスタPT1〜PT3、NT1〜N
T3をフィードバック制御できる構成の演算増幅回路で
あればよい。例えば、電流源IS10、IS11がVD
D側に設けられ、ノードN1、N2が接続されるトラン
ジスタがP型トランジスタとなり、差動部によりゲート
電極が制御される駆動用のトランジスタがN型トランジ
スタとなるような構成の演算増幅回路にしてもよい。
【0086】4.シミュレーション結果 次に本実施形態のCMOS基準電圧発生回路のシミュレ
ーション結果について説明する。図10は、シミュレー
ション対象となるCMOS基準電圧発生回路の構成例で
あり、基本的には図5の第1の変形例と同じ構成であ
る。
【0087】図10の20は、バイアス電圧VBS、V
BSPを発生する回路である。このバイアス電圧発生回
路20は、ソース電極がVDDに接続され、ゲート電極
及びドレイン電極がVBSPに接続されるP型トランジ
スタPT10と、一端がVBSPに接続され他端がVS
Sに接続される抵抗素子R10と、ソース電極がVDD
に接続され、ゲート電極VBSPに接続され、ドレイン
電極がVBSに接続されるP型トランジスタPT11
と、ドレイン電極及びゲート電極がVBSに接続され、
ソース電極がVSSに接続されるN型トランジスタNT
10を含む。
【0088】図10の22は、図9で説明した演算増幅
回路であり、図9の電流源IS10、IS11は、バイ
アス電圧VBSがゲート電極に接続されたN型トランジ
スタNT22、NT23により実現されている。
【0089】また図10では、図2の電流源IS1、I
S2、IS3が、ソース電極がVDDに接続され、ゲー
ト電極がバイアス電圧VBSPに接続され、ドレイン電
極がノードN1、N2、N3に接続されるP型トランジ
スタPT4、PT5、PT6により実現されている。
【0090】図11は、VDDと、VREF、VN1、
VN2との関係を示すシミュレーション結果であり、図
12は、VDDと、電流制御用トランジスタNT1に流
れる電流I1、電流源となるトランジスタPT4(或い
はPT5、PT6)に流れる電流I0との関係を示すシ
ミュレーション結果である。
【0091】図11に示すように本実施形態のCMOS
基準電圧発生回路によれば、VDD=0.6V程度か
ら、VN1、VN2、VREFの電圧が立ち上がり始
め、VDD=1.2V程度で安定した基準電圧VREF
(0.68V程度)を出力できる。このように、低い電
源電圧でVN1、VN2、VREFの電圧が立ち上がり
始めるのは、図12に示すように、VDD=0.6V程
度から、トランジスタPT4、PT5、PT6(電流源
IS1、IS2、IS3)に電流I0が流れ、この電流
I0がダイオードD1、D2、抵抗素子R1、R2、R
3、R4に供給されることで、ノードN1、N2、N3
に電圧VN1、VN2、VREFが発生するようになる
からである。
【0092】即ち図12のA1に示すように、VDDが
1.2V程度になるまで、トランジスタNT1はオフと
なっており、NT1には電流が流れない。従って、電流
源IS1、IS2、IS3を設けない構成(図3の第2
の比較例参照)にしてしまうと、トランジスタNT1、
NT2がオンしない結果、電圧VN1、VN2が零のま
まとなり、不適切な動作点で演算増幅回路22が安定化
してしまう。
【0093】これに対して本実施形態では、VDDが
1.2V以下であり演算増幅回路OPが安定動作してい
ない状態でも、OPの出力に依存しない電流I0が電流
源IS1、IS2、IS3(PT4、PT5、PT6)
から流れ、ダイオードD1、D2、抵抗素子R1、R
2、R3、R4に供給される。従って、VDDが1.2
V以下の段階から、VN1、VN2、VREFの電圧が
立ち上がり始めるようになり、不適切な動作点で演算増
幅回路22が安定化してしまう事態を防止できる。この
結果、CMOS基準電圧発生回路を、1.2V以下の低
い電源電圧で起動することが可能になる。
【0094】5.電源監視回路 図13に、本実施形態のCMOS基準電圧発生回路を利
用した電源監視回路の構成例を示す。この電源監視回路
は、本実施形態のCMOS基準電圧発生回路30で発生
した基準電圧VREFに基づいてVDDを監視し、VD
Dが所与の電圧であることを検出した場合に、検出信号
PDETを出力する回路である。
【0095】より具体的には図13に示すように、この
電源監視回路は、VDDとVSSとの間に直列に接続さ
れた抵抗素子R20、R21と、R20、R21間のノ
ードN20とVREFのノードN21が差動入力(第
1、第2の入力)に接続され検出信号PDETを出力す
るコンパレータCOMPを含む。そして、VDDの電圧
がVDD={(R20+R21)/R21}・VREF
以上になると、コンパレータCOMPの出力である検出
信号PDETがアクティブ(Hレベル)になり、VDD
がVDET以上になったことがシステムに知らされる。
そして、この検出信号PDETによりシステムが起動す
る。
【0096】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路
は、このような電源監視回路に用いる場合に特に有効で
ある。
【0097】例えば図4の第3の比較例では、CMOS
基準電圧発生回路の起動にスタート信号が必要になる。
従って、CMOS基準電圧発生回路が起動する前に、ス
タート信号を生成するシステムが起動している必要があ
る。
【0098】ところが、図13の検出信号PDETがア
クティブになったことを条件に起動するようなシステム
の場合には、システムの起動の前にCMOS基準電圧発
生回路が起動する必要がある。従って、このようなシス
テムの場合には、図4のスタート信号をシステムが生成
することはできず、CMOS基準電圧発生回路として図
4の構成を採用できない。
【0099】これに対して図2等で説明した本実施形態
のCMOS基準電圧発生回路では、電流源IS1、IS
2、IS3からの電流によりCMOS基準電圧発生回路
を起動できるため、図4のようなスタート信号を用いな
くても済む。従って、図13の検出信号PDETにより
起動するシステムに最適なCMOS基準電圧発生回路を
提供できる。
【0100】なお、電源監視回路の構成は図13の構成
に限定されず、CMOS基準電圧発生回路により発生し
た基準電圧に基づいて電源を監視し、検出信号を出力す
るような構成の回路であればよい。
【0101】また、例えばメモリを含むシステムなどの
場合には、検出信号PDETがアクティブになったこと
を条件に、メモリへのアクセス(書き込み又は読み出
し)を許可するようにしてもよい。逆に言えば、VDD
が検出電圧VDET以下となり、検出信号PDETが非
アクティブになった場合に、システムが含むメモリへの
アクセスを禁止するようにしてもよい。
【0102】6.バイアス電圧発生回路 さて、本実施形態では、図2等に示す電流源IS1、I
S2、IS3を、ゲート電極にバイアス電圧が入力され
るトランジスタにより構成している(図10のトランジ
スタPT4、PT5、PT6参照)。
【0103】この場合に、このバイアス電圧を発生する
回路としては、例えば図14(A)に示すような回路を
考えることができる。
【0104】この図14(A)のバイアス電圧発生回路
は、一端がVDD(第1の電源)に接続され他端がバイ
アス電圧VBSの出力ノードN10に接続される出力抵
抗素子R30と、ドレイン電極及びゲート電極が出力ノ
ードN10に接続され、ソース電極がVSS(第2の電
源)に接続されるN型の出力トランジスタNT30を含
む。
【0105】図14(B)には、図14(A)のバイア
ス電圧発生回路で発生されるバイアス電圧VBSとVD
D(VSS=0Vの場合)との関係を示す。
【0106】図14(B)に示すように、このバイアス
電圧発生回路では、トランジスタNT30の飽和領域に
おいても、VDD(広義には第1、第2の電源の電圧
差。以下の説明でも同様)が増加した場合のVBSの増
加量が零よりも大きくなってしまい、正の値になってし
まう。即ち、VDDが大きくなると、飽和領域において
VBSが単調に増加してしまう。
【0107】従って、図14(A)のバイアス電圧発生
回路で発生したバイアス電圧VBSをゲート電極に入力
したトランジスタ(図10のトランジスタPT4、PT
5、PT6)により図2の電流源IS1、IS2、IS
3を構成すると、電源電圧変動に対する電流源の電流I
0の変動が非常に大きくなってしまう。この結果、広い
電源電圧範囲に亘ったCMOS基準電圧発生回路の安定
動作を実現できなくなる可能性がある。
【0108】より具体的には図2において、VDDの変
動に対するI0の変動が大きいと、その変動分を、トラ
ンジスタPT1、PT2、PT3による電流制御により
吸収できなくなり、CMOS基準電圧発生回路の適正な
動作が阻害される。また、VDDの増加に対してI0が
大きく増加すると、ダイオードD1、D2に流れる電流
も増加してしまい、正確な基準電圧VREFを発生でき
なくなったり、電源変動に対するVREFの変動特性が
悪化するおそれがある。
【0109】図15(A)に、このような問題を解決で
きる本実施形態のバイアス電圧発生回路の構成例を示
す。
【0110】図15(A)のバイアス電圧発生回路は、
図14(A)と同様に、一端がVDDに接続され他端が
出力ノードN10に接続される出力(負荷)抵抗素子R
40と、ドレイン電極及びゲート電極が出力ノードN1
0に接続され、ソース電極がVSSに接続されるN型の
出力トランジスタNT40を含む。
【0111】そして更に図15(A)のバイアス電圧発
生回路は、出力トランジスタNT40に並列に設けられ
る電流制御回路40を含む。この電流制御回路40は、
出力ノードN10から電流制御回路40を介してVSS
に流れる電流(電流量)I12を、VDDの電源電圧
(VDD、VSSの電圧差)が増加するほど、増加させ
る電流制御を行う。
【0112】より具体的には、この電流制御回路40
は、一端がVDDに接続され他端が中間ノードN11に
接続される抵抗素子R41と、ドレイン電極及びゲート
電極が中間ノードN11に接続されソース電極がVSS
に接続されるN型のトランジスタNT41と、ドレイン
電極が出力ノードN10に接続され、ゲート電極が中間
ノードN11に接続され、ソース電極がVSSに接続さ
れるトランジスタNT42を含む。
【0113】図15(A)のバイアス電圧発生回路によ
れば、図15(B)に示すように、飽和領域でのバイア
ス電圧出力VBSの電源(VDD)変動を概略零にした
り、図15(C)に示すように負にしたりすることがで
きる。即ち、VDDが増加した場合のバイアス電圧VB
Sの増加量が、図14(B)では正になるのに対して、
図15(B)では零(ほぼ零)となり、図15(C)で
は負になる。
【0114】例えば図15(B)のようにVDD、VS
Sの特性曲線をフラットにできれば、図2においてVD
Dが増加した場合にも、電流源IS1、IS2、IS3
に流れる電流I0を増加せずに一定にできる。従って、
VDDが増加したときの電流I0の変動分を、トランジ
スタPT1、PT2、PT3の電流制御により吸収する
必要が無くなり、CMOS基準電圧発生回路の適正な動
作を実現できる。また、I0の増加に起因してダイオー
ドD1、D2に流れる電流が増加してしまう事態を防止
でき、電源変動に対する依存性が少ない正確な基準電圧
VREFを発生できる。
【0115】図15(A)の構成で、図15(B)、
(C)に示すようなフラット又は負の勾配の特性曲線を
得られる理由は以下の通りである。
【0116】即ち図14(A)のバイアス電圧発生回路
では、バイアス電圧VBSは、VDDの電圧を、R30
とNT30のオン抵抗で抵抗分割した電圧になる。この
場合に、VDDが増加するにつれて出力トランジスタN
T30のオン抵抗が小さくなるため、VDD、VBSの
特性曲線は直線にはならず、図14(B)に示すように
その勾配が徐々に小さくなる特性曲線になる。しかしな
がら、この出力トランジスタNT30のオン抵抗の減少
だけでは、図15(B)、(C)に示すようなフラット
又は負の勾配の特性曲線を得ることはできない。
【0117】これに対して、図15(A)の本実施形態
では、出力トランジスタNT40に並列に電流制御回路
40が設けられ、VDDから抵抗R40を介して流れる
電流I0を、電流制御回路40側に電流I12として分
流させることができる。
【0118】そして本実施形態では、電流制御回路40
が、VDDが増加するにつれて電流(電流量)I12を
増加させる電流制御を行う。より具体的には、VDDが
増加するにつれて、電流制御回路40が含むトランジス
タNT42のオン抵抗を減少させる。これは図15
(A)に示すように、このトランジスタNT42のゲー
ト電極に対して、VDDが増加するにつれて電圧が増加
するノードN11を接続することで実現できる。
【0119】そして、このようにVDDが増加するつれ
て電流I12を増加させる電流制御を行えば、VDDの
増加に伴うノードN10、VSS間のオン抵抗の減少の
度合いを、図14(A)に比べて更に大きくできる。こ
の結果、図14(A)の構成では図14(B)のように
正の勾配となってしまう特性曲線を、図15(B)、
(C)に示すようなフラット又は負の勾配の特性曲線に
することができる。
【0120】より具体的には、図14(A)の構成の場
合には、バイアス電圧VBSは下式のように表される。
【0121】
【数1】
【0122】ここで、VTHはMOSトランジスタのし
きい値である。また、K30は、プロセスやトランジス
タサイズ(W/L)で決まるNT30のトランス・コン
ダクタンス係数である。また上式(13)では、抵抗素
子R30の抵抗値についてもR30と表している。
【0123】一方、図15(A)の構成の場合には、バ
イアス電圧VBSは下式のように表される。
【0124】
【数2】
【0125】但し、
【0126】
【数3】
【0127】である。
【0128】ここで、VTHはMOSトランジスタのし
きい値である。また、K40、K41、K42は、プロ
セスやトランジスタサイズ(W/L)で決まるNT4
0、NT41、NT42のトランス・コンダクタンス係
数である。また上式(14)、(15)では、抵抗素子
R41の抵抗値についてもR41と表している。
【0129】式(13)、(14)においてルート外の
第1項及びルート内の第1項は同等であり、式(14)
ではルート内の第2項が加わっている点で式(13)と
異なる。そして、VB<VDDとなるので、このルート
内の第2項は常に負になる。
【0130】つまり、図14(A)の構成では、VDD
が増加すると式(13)のルート内の第1項も増加する
ため、バイアス電圧VBSも単調に増加してしまう。
【0131】これに対して図15(B)の構成では、V
DDが増加すると、式(14)のルート内の第1項が増
加する一方で、これをうち消すように、ルート内の第2
項が減少する(より大きな負の値となる)。この結果、
バイアス電圧VBSが単調に増加しないようになり、図
15(B)、(C)に示すようなフラット又は負の勾配
の特性曲線を得ることができる。
【0132】そして、本実施形態では、式(14)、
(15)から明らかなように、トランジスタのサイズ
(特にトランジスタNT42のサイズ)や抵抗素子の抵
抗値を変えることで、特性曲線の勾配を容易に調整でき
るという利点がある。
【0133】なお、バイアス電圧発生回路は図15
(A)の構成に限らず、種々の変形実施が可能である。
例えば図16にバイアス電圧発生回路の変形例の1つを
示す。
【0134】図16のバイアス電圧発生回路は、一端が
VSS(第1の電源)に接続され他端が出力ノードN1
0に接続される出力(負荷)抵抗素子R42と、ドレイ
ン電極及びゲート電極が出力ノードN10に接続されソ
ース電極がVDD(第2の電源)に接続されるP型の出
力トランジスタPT40を含む。
【0135】そして更に図15(A)のバイアス電圧発
生回路は、出力トランジスタPT40に並列に設けられ
る電流制御回路40を含む。この電流制御回路40は、
VDD(第2の電源)から電流制御回路40を介して出
力ノードN10に流れる電流(電流量)I22を、VD
Dの電源電圧(VDD、VSSの電圧差)が増加するほ
ど、増加させる電流制御を行う。
【0136】より具体的には、この電流制御回路40
は、一端がVSSに接続され他端が中間ノードN11に
接続される抵抗素子R43と、ドレイン電極及びゲート
電極が中間ノードN11に接続されソース電極がVDD
に接続されるP型のトランジスタPT41と、ドレイン
電極が出力ノードN10に接続され、ゲート電極が中間
ノードN11に接続され、ソース電極がVDDに接続さ
れるトランジスタPT42を含む。
【0137】図16のバイアス電圧発生回路によれば、
図15(A)と同様に、図15(B)、図15(C)に
示すようなフラット又は負の勾配の特性曲線を得ること
が可能になる。
【0138】7.シミュレーション結果 次に本実施形態のバイアス電圧発生回路のシミュレーシ
ョン結果について説明する。
【0139】図17(A)、(B)、(C)は、シミュ
レーション対象となるバイアス電圧発生回路の構成例で
あり、図17(A)は図14(A)の従来のバイアス電
圧発生回路に対応し、図17(B)、(C)は図15
(A)の本実施形態のバイアス電圧発生回路に対応す
る。
【0140】ここで図17(A)では、R30は10K
Ωとなっており、NT30のトランジスタサイズ(W/
L)は(20/1.0)となっている。
【0141】図17(B)では、R40、R41は10
KΩとなっており、NT41、NT42、NT40のト
ランジスタサイズ(W/L)は、各々、(20/1.
0)、(20/0.87)、(20/1.0)、となっ
ている。
【0142】図17(C)では、図17(B)と比べ
て、NT42のトランジスタサイズだけが異なってお
り、NT42の(W/L)が(20/0.8)となって
いる。
【0143】図18は、図17(A)、(B)のバイア
ス電圧発生回路で発生するバイアス電圧VBS1、VB
S2とVDDとの関係を示すシミュレーション結果であ
り、図19は、図17(B)のトランジスタNT41、
NT42、NT40に流れる電流I30、I31、I3
2とVDDとの関係を示すシミュレーション結果であ
る。
【0144】図18に示すように、図17(A)の従来
例ではフラットにならない特性曲線が、図17(B)の
本実施形態ではフラットな特性曲線になる。これは、図
19から明らかなように、VDDが増加すると中間ノー
ドN11の電圧が上昇し、これによりトランジスタNT
42のオン抵抗が減少し、NT42に流れる電流I31
が増えるからである。即ち、電流I31が増えること
で、VDDが増加した場合にもトランジスタNT40に
流れる電流I32が増加するのが抑制され、バイアス電
圧VBS2が一定電圧に保たれるようになる。
【0145】図20は、図17(A)、(C)のバイア
ス電圧発生回路で発生するバイアス電圧VBS1、VB
S3とVDDとの関係を示すシミュレーション結果であ
り、図21は、図17(C)のトランジスタNT41、
NT42、NT40に流れる電流I33、I34、I3
5とVDDとの関係を示すシミュレーション結果であ
る。図20に示すように、図17(A)の従来例では正
の勾配の特性曲線しか得られないが、図17(C)の本
実施形態では、負の勾配の特性曲線を得ることができ
る。
【0146】8.PLLへの応用 さて、図22(A)に示すように、半導体装置50(半
導体チップ、LSI)においては、設計期間の短縮化の
ためにゲートアレイにより回路(論理回路、デジタル回
路)を構成する場合が多い。このゲートアレイでは、N
AND回路やNOR回路などを基本セルとして、これら
の基本セル(ゲート)をアレイ状に予め配列しておき、
配線パターンの変更だけで所望の種々の論理回路を得る
ことができるようになっている。
【0147】そして、このようなゲートアレイにより回
路が構成される半導体装置50においては、発振クロッ
クの位相を入力信号の位相に同期させて所望の周波数の
クロックを得るPLL(Phase Locked Loop)回路52
を内蔵させる場合が多い。このPLL回路52(位相同
期回路)によれば、例えば入力信号が含むSYNCに発
振クロックを同期させることで、入力信号のデータをサ
ンプリングするのに好適なクロックなどを得ることがで
きる。
【0148】図22(B)に、このPLL回路52の構
成例を示す。
【0149】このPLL回路は、位相比較器54、チャ
ージポンプ回路56、フィルタ(ローパスフィルタ)回
路58、VCO(Voltage Controlled Oscillator)6
0、分周器62を含む。
【0150】ここで位相比較器54は、入力信号ISI
G(ベースクロック)の位相と分周器62からのクロッ
クCLKNの位相とを比較し、位相誤差信号PUP、P
DWを出力する(PUPは位相進み信号、PDWは位相
遅れ信号)。
【0151】チャージポンプ回路56は、位相比較器5
4からのPUP、PDWに基づいてチャージポンプ動作
を行う。より具体的には、PUPがアクティブになる
と、フィルタ回路58が含む容量(コンデンサ)を充電
する動作を行い、PDWがアクティブになると、この容
量を放電する動作を行う。そして、フィルタ回路58に
より平滑化された制御電圧VCがVCO60に与えられ
る。
【0152】VCO60は、制御電圧VCに応じてその
発振周波数が可変に制御される発振動作を行い、クロッ
クCLKを生成する。例えば、制御電圧VCが高くなる
と発振周波数も高くなり、制御電圧VCが低くなると発
振周波数も低くなる。
【0153】分周器62は、VCO60から入力される
クロックCLKを分周(1/N)して、分周後のクロッ
クCLKNを位相比較器54に出力する。
【0154】図22(B)の構成のPLL回路によれ
ば、入力信号(ベースクロック)に位相同期した種々の
周波数のクロックCLKを生成できるようになる。
【0155】なお図22(B)のPLL回路において、
電圧制御の発振回路であるVCO60の代わりに、電流
制御の発振回路を設けるようにしてもよい。
【0156】図23(A)に、このようなPLL回路に
用いられるチャージポンプ回路56の構成例を示す。
【0157】このチャージポンプ回路は、ソース電極が
VDD(第1の電源)に接続され、ゲート電極及びドレ
イン電極が中間ノードN30に接続されるP型のトラン
ジスタPT50と、ドレイン電極が中間ノードN30に
接続され、ゲート電極がバイアス電圧VBSのノードN
31に接続され、ソース電極がVSS(第2の電源)に
接続されるN型トランジスタNT50を含む。また、V
DDとVSSの間に直列に接続されたトランジスタPT
51、PT52、NT51、NT52を含む。ここで、
P型トランジスタPT51のゲート電極には中間ノード
N30が接続され、P型トランジスタPT52のゲート
電極には位相誤差信号PUPが入力される。また、N型
トランジスタNT51のゲート電極には位相誤差信号P
DWが入力され、N型トランジスタNT52のゲート電
極には中間ノードN31が接続される。そして、PT5
2とNT51の間の出力ノードN32(VCP)が、後
段のフィルタ回路(図22(B)の58)に接続され
る。
【0158】例えば、位相誤差信号PUPがアクティブ
(Lレベル)になると、トランジスタPT52がオンに
なる。これにより、バイアス電圧VBSP(N30)が
ゲート電極に入力されるトランジスタPT51(電流
源)からの電流(定電流)が、出力ノードN32から後
段のフィルタ回路が含む容量に流れ、その容量が充電さ
れる。
【0159】一方、位相誤差信号PDWがアクティブ
(Hレベル)になると、トランジスタNT51がオンに
なる。これにより、後段のフィルタ回路が含む容量か
ら、バイアス電圧VBS(N41)がゲート電極に入力
されるトランジスタNT52(電流源)に電流(定電
流)が流れ、その容量が放電されるようになる。
【0160】さて、図23(A)に示すようなチャージ
ポンプ回路を用いる場合には、バイアス電圧VBSを何
からの回路で発生する必要がある。
【0161】この場合、より好適にはこのようなバイア
ス電圧VBSを、図2に示すような構成のCMOS基準
電圧発生回路で発生することが望ましい(VBSとして
VREFを用いる)。
【0162】しかしながら、図22(A)のようにゲー
トアレイにより回路が構成される半導体装置50におい
ては、図2のようなアナログ回路構成のCMOS基準電
圧発生回路を内蔵させることは難しい。例えば、図2の
ダイオードD1、D2などは、図22(A)のようなゲ
ートアレイ構成の半導体装置50に設けることは非常に
困難となる。
【0163】一方、図23(B)に示すように、図14
(A)で説明した従来のバイアス電圧発生回路70を用
いてバイアス電圧VBSを発生させる手法も考えられ
る。
【0164】しかしながら、この従来のバイアス電圧発
生回路70には、図14(B)に示すように、VDDの
増加につれてVBSも増加してしまうという欠点があ
る。従って、図23(B)に示すように、このバイアス
電圧発生回路70からのバイアス電圧VBSを用いて、
チャージポンプのための充放電電流(PT51、NT5
2に流れる電流)を生成すると、電源変動に対して充放
電電流も大きく変動してしまい、PLL回路の安定動作
が阻害される。
【0165】そこで本実施形態では、PLL回路が含む
チャージポンプ回路の充放電電流を、図15(A)等で
説明したバイアス電圧発生回路からのバイアス電圧に基
づいて生成するようにしている。
【0166】より具体的には、図24に示すように、図
15(A)等で説明した本実施形態のバイアス電圧発生
回路80により、チャージポンプ回路に用いるバイアス
電圧VBSを生成する。そして、チャージポンプ回路の
充放電電流を供給するための電流源(第1、第2の電流
源)を、バイアス電圧VBSがゲート電極に接続された
トランジスタNT52や、VBSに基づき生成されたバ
イアス電圧VBSP(第2のバイアス電圧)がゲート電
極に接続されたトランジスタPT51により実現する。
【0167】このようにすれば、電流源となるトランジ
スタPT51、NT52に流れる充放電電流の大きさ
が、VDDが変動した場合も大きく変動しないようにな
る。この結果、図23(B)の構成に比べて、充放電電
流を安定化でき、広い電源電圧範囲に亘ってPLL回路
を安定させて動作させることが可能になる。
【0168】しかも、図24に示すような構成のバイア
ス電圧発生回路80は、図2のようなCMOS基準電圧
発生回路とは異なり、ゲートアレイの基本セル等を利用
して構成することも可能となる。従って、図22(A)
のようにゲートアレイにより回路が構成される半導体装
置に好適なPLL回路を提供することが可能になる。
【0169】なお、図15(A)等の本実施形態のバイ
アス電圧発生回路は、PLL回路のチャージポンプ回路
が含む電流源のみならず、例えば図2のCMOS基準電
圧発生回路や演算増幅回路が含む電流源等、種々の回路
のバイアス電圧として使用できる。
【0170】なお、本発明は本実施形態に限定されず、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。
【0171】例えばバイアス電圧発生回路の構成は、図
15(A)、図16などで説明した構成に限定されるも
のではなく、これらと均等な種々の変形実施が可能であ
る。また、CMOS基準電圧発生回路の構成も、図2、
図5〜図8、図10などで説明した構成に限定されるも
のではなく、これらと均等な種々の変形実施が可能であ
る。更に電源監視回路の構成も、図13で説明した構成
に限定されるものではなく、これと均等な種々の変形実
施が可能である。
【0172】また、CMOS基準電圧発生回路が含む電
流源のバイアス電圧は、図14(A)の構成のバイアス
電圧発生回路で発生してもよいし、図15(A)の構成
のバイアス電圧発生回路で発生してもよい。或いは、例
えば図2の演算増幅回路OPが含む電流源のバイアス電
圧については図14(A)の構成のバイアス電圧発生回
路で発生する一方で、電流源IS1、IS2、IS3の
バイアス電圧については図15(A)や図16の構成の
バイアス電圧発生回路で発生するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の比較例のCMOS基準電圧発生回路の構
成例を示す図である。
【図2】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の構成
例を示す図である。
【図3】第2の比較例のCMOS基準電圧発生回路の構
成例を示す図である。
【図4】第3の比較例のCMOS基準電圧発生回路の構
成例を示す図である。
【図5】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の第1
の変形例を示す図である。
【図6】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の第2
の変形例を示す図である。
【図7】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の第3
の変形例を示す図である。
【図8】本実施形態のCMOS基準電圧発生回路の第4
の変形例を示す図である。
【図9】演算増幅回路の構成例を示す図である。
【図10】シミュレーション対象となるCMOS基準電
圧発生回路の構成例を示す図である。
【図11】CMOS基準電圧発生回路のシミュレーショ
ン結果について示す図である。
【図12】CMOS基準電圧発生回路のシミュレーショ
ン結果について示す図である。
【図13】電源監視回路の構成例を示す図である。
【図14】図14(A)、(B)は、比較例のバイアス
電圧発生回路について説明するための図である。
【図15】図15(A)、(B)、(C)は、本実施形
態のバイアス電圧発生回路について説明するための図で
ある。
【図16】本実施形態のバイアス電圧発生回路の変形例
を示す図である。
【図17】図17(A)、(B)、(C)は、シミュレ
ーション対象となるバイアス電圧発生回路の構成例を示
す図である。
【図18】バイアス電圧発生回路のシミュレーション結
果について示す図である。
【図19】バイアス電圧発生回路のシミュレーション結
果について示す図である。
【図20】バイアス電圧発生回路のシミュレーション結
果について示す図である。
【図21】バイアス電圧発生回路のシミュレーション結
果について示す図である。
【図22】図22(A)、(B)は、PLL回路につい
て説明するための図である。
【図23】図23(A)、(B)は、チャージポンプ回
路について説明するための図である。
【図24】チャージポンプ回路のバイアス電圧を本実施
形態のバイアス電圧発生回路により発生する手法につい
て説明するための図である。
【符号の説明】
OP 演算増幅回路 PT1〜PT3 トランジスタ(第1〜第3の電流
制御用トランジスタ) NT1〜NT3 トランジスタ(第1〜第3の電流
制御用トランジスタ) D1、D2 第1、第2のPN接合(ダイオー
ドなど) R1〜R4 抵抗素子(第1〜第4の抵抗素
子) N1、N2 ノード(第1、第2のノード) N3 出力ノード VREF 基準電圧 COMP コンパレータ R20、R21 抵抗素子 R40、R41 抵抗素子 NT40〜NT42 トランジスタ PT40〜PT42 トランジスタ N10 出力ノード N11 中間ノード PT50〜PT52 トランジスタ NT50〜NT52 トランジスタ VBS バイアス電圧 10 電圧発生回路(第1の電圧発生回路) 12 電圧発生回路(第2の電圧発生回路) 30 CMOS基準電圧発生回路 40 電流制御回路 50 半導体装置 52 PLL回路 54 位相比較器 56 チャージポンプ回路 58 フィルタ回路 60 VCO 62 分周器 70 バイアス電圧発生回路 80 バイアス電圧発生回路
フロントページの続き Fターム(参考) 5H420 NA03 NA12 NA13 NA16 NA17 NB02 NB22 NB25 NB27 NC03 NE03 NE28 5J056 AA00 BB28 BB40 CC04 DD26 DD27 GG10 KK03 5J090 AA01 AA47 AA58 CA02 CA05 CN01 FA09 FN01 FN08 HA10 HA17 HA19 HA25 HA29 HN21 HN23 KA01 KA02 KA05 KA11 MA02 MA19 MA20 MA22 SA00 TA01 TA02 5J500 AA01 AA47 AA58 AC02 AC05 AF09 AH10 AH17 AH19 AH25 AH29 AK01 AK02 AK05 AK11 AM02 AM19 AM20 AM22 AS00 AT01 AT02 NC01 NF01 NF08 NH21 NH23

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 出力ノードにバイアス電圧を発生するバ
    イアス電圧発生回路であって、 一端が第1の電源に接続され他端が出力ノードに接続さ
    れる出力抵抗素子と、 ドレイン電極及びゲート電極が出力ノードに接続されソ
    ース電極が第2の電源に接続される出力トランジスタ
    と、 前記出力トランジスタに並列に設けられる電流制御回路
    とを含み、前記電流制御回路が、 出力ノードから電流制御回路を介して第2の電源に流れ
    る電流或いは第2の電源から電流制御回路を介して出力
    ノードに流れる電流を、第1、第2の電源の電圧差が増
    加するにつれて増加させる電流制御を行うことを特徴と
    するバイアス電圧発生回路。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記電流制御回路が、 一端が第1の電源に接続され他端が第1の中間ノードに
    接続される抵抗素子と、 ドレイン電極及びゲート電極が第1の中間ノードに接続
    されソース電極が第2の電源に接続される第1のトラン
    ジスタと、 ドレイン電極がバイアス電圧発生回路の出力ノードに接
    続され、ゲート電極が第1の中間ノードに接続され、ソ
    ース電極が第2の電源に接続される第2のトランジスタ
    と、 を含むことを特徴とするバイアス電圧発生回路。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2において、 第1、第2の電源の電圧差が増加した場合のバイアス電
    圧の増加量が、前記出力トランジスタの飽和領域におい
    て零又は負になることを特徴とするバイアス電圧発生回
    路。
  4. 【請求項4】 PLL回路を含み、ゲートアレイにより
    回路が構成される半導体装置であって、 前記PLL回路が含むチャージポンプ回路の充放電電流
    が、請求項1乃至3のいずれかのバイアス電圧発生回路
    からのバイアス電圧に基づいて生成されることを特徴と
    する半導体装置。
  5. 【請求項5】 出力ノードに基準電圧を発生するCMO
    S基準電圧発生回路であって、 前記CMOS基準電圧発生回路が含む電流源が、請求項
    1乃至3のいずれかのバイアス電圧発生回路からのバイ
    アス電圧がゲート電極に入力されたトランジスタにより
    構成されることを特徴とするCMOS基準電圧発生回
    路。
  6. 【請求項6】 請求項5において、 第1のPN接合を有し、第1のノードに第1の電圧を発
    生する第1の電圧発生回路と、 第1のPN接合とは電流密度が異なる第2のPN接合を
    有し、第2のノードに第2の電圧を発生する第2の電圧
    発生回路と、 CMOS基準電圧発生回路の出力ノードに接続される出
    力抵抗素子と、 第1、第2のノードが第1、第2の入力に接続され、第
    1、第2のノードの第1、第2の電圧が略等しくなるよ
    うにフィードバック制御を行う演算増幅回路と、 演算増幅回路の出力によりゲート電極が制御され、第1
    の電圧発生回路に供給される電流を制御する第1の電流
    制御用トランジスタと、 演算増幅回路の出力によりゲート電極が制御され、第2
    の電圧発生回路に供給される電流を制御する第2の電流
    制御用トランジスタと、 演算増幅回路の出力によりゲート電極が制御され、CM
    OS基準電圧発生回路の出力抵抗素子に供給される電流
    を制御する第3の電流制御用トランジスタと、 演算増幅回路の出力に依存しない電流を、第1の電圧発
    生回路に供給する第1の電流源と、 演算増幅回路の出力に依存しない電流を、第2の電圧発
    生回路に供給する第2の電流源と、 演算増幅回路の出力に依存しない電流を、CMOS基準
    電圧発生回路の出力抵抗素子に供給する第3の電流源と
    を含み、 前記第1、第2、第3の電流源が、 前記バイアス電圧発生回路からのバイアス電圧がゲート
    電極に入力されたトランジスタにより構成されることを
    特徴とするCMOS基準電圧発生回路。
  7. 【請求項7】 請求項6において、 前記第1の電流制御用トランジスタ及び前記第1の電流
    源が、第1の電源と第1のノードの間に並列に設けら
    れ、 前記第2の電流制御用トランジスタ及び前記第2の電流
    源が、第1の電源と第2のノードの間に並列に設けら
    れ、 前記第3の電流制御用トランジスタ及び前記第3の電流
    源が、第1の電源とCMOS基準電圧発生回路の出力ノ
    ードの間に並列に設けられ、 前記第1の電圧発生回路が、第1のノードと第2の電源
    の間に設けられ、 前記第2の電圧発生回路が、第2のノードと第2の電源
    の間に設けられ、 CMOS基準電圧発生回路の前記出力抵抗素子が、CM
    OS基準電圧発生回路の出力ノードと第2の電源の間に
    設けられていることを特徴とするCMOS基準電圧発生
    回路。
  8. 【請求項8】 請求項6において、 前記第1の電流源が、第1の電源と第1のノードの間に
    設けられ、 前記第2の電流源が、第1の電源と第2のノードの間に
    設けられ、 前記第3の電流源が、第1の電源とCMOS基準電圧発
    生回路の出力ノードの間に設けられ、 前記第1の電流制御用トランジスタ及び前記第1の電圧
    発生回路が、第1のノードと第2の電源の間に並列に設
    けられ、 前記第2の電流制御用トランジスタ及び前記第2の電圧
    発生回路が、第2のノードと第2の電源の間に並列に設
    けられ、 前記第3の電流制御用トランジスタ及びCMOS基準電
    圧発生回路の前記出力抵抗素子が、CMOS基準電圧発
    生回路の出力ノードと第2の電源の間に並列に設けられ
    ていることを特徴とするCMOS基準電圧発生回路。
  9. 【請求項9】 請求項6乃至8のいずれかにおいて、 前記第1の電圧発生回路が、 第1のPN接合と、第1のPN接合に並列に設けられた
    第1の抵抗素子とを含み、 前記第2の電圧発生回路が、 第2のPN接合と、第2のPN接合に直列に設けられた
    第2の抵抗素子と、第2のPN接合及び第2の抵抗素子
    に並列に設けられた第3の抵抗素子とを含むことを特徴
    とするCMOS基準電圧発生回路。
  10. 【請求項10】 請求項5乃至9のいずれかのCMOS
    基準電圧発生回路を含み、 CMOS基準電圧発生回路で発生した基準電圧に基づい
    て電源電圧を監視し、電源電圧が所与の検出電圧である
    ことを検出した場合に、検出信号を出力することを特徴
    とする電源監視回路。
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