JP2003171412A - 改質された粒子およびその製造方法、担体、付加重合用触媒成分、付加重合用触媒ならびに付加重合体の製造方法 - Google Patents
改質された粒子およびその製造方法、担体、付加重合用触媒成分、付加重合用触媒ならびに付加重合体の製造方法Info
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- JP2003171412A JP2003171412A JP2001393678A JP2001393678A JP2003171412A JP 2003171412 A JP2003171412 A JP 2003171412A JP 2001393678 A JP2001393678 A JP 2001393678A JP 2001393678 A JP2001393678 A JP 2001393678A JP 2003171412 A JP2003171412 A JP 2003171412A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】外観の良好なフィルムの得られる付加重合体を
製造し得る粒子、担体および付加重合用触媒成分、該粒
子の製造方法、該粒子を用いてなる予備重合済付加重合
用触媒成分、該粒子を用いてなる付加重合用触媒、なら
びに該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法を
提供すること。 【解決手段】下記（ａ）、下記（ｂ）、下記（ｃ）およ
び粒子（ｄ）を接触させて得られる改質された粒子。ほ
か （ａ）：Ｍ1Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （Ｍ1 は第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｒ1 は電子
吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、Ｒ2
は炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔは
第１５族または第１６族の非金属原子を表し、ｔはＴの
原子価を表す。）
製造し得る粒子、担体および付加重合用触媒成分、該粒
子の製造方法、該粒子を用いてなる予備重合済付加重合
用触媒成分、該粒子を用いてなる付加重合用触媒、なら
びに該付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方法を
提供すること。 【解決手段】下記（ａ）、下記（ｂ）、下記（ｃ）およ
び粒子（ｄ）を接触させて得られる改質された粒子。ほ
か （ａ）：Ｍ1Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （Ｍ1 は第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｒ1 は電子
吸引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、Ｒ2
は炭化水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔは
第１５族または第１６族の非金属原子を表し、ｔはＴの
原子価を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、担体および付加重
合用触媒成分として有用な改質された粒子、その製造方
法、それを用いて得られる付加重合用触媒および付加重
合体の製造方法に関する。
合用触媒成分として有用な改質された粒子、その製造方
法、それを用いて得られる付加重合用触媒および付加重
合体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリプロピレンやポリエチレン等の付加
重合体は、機械的性質、耐薬品性等に優れ、またそれら
の特性と経済性とのバランスが優れていることにより各
種成形分野に広く用いられている。その主な用途の一つ
であるフィルムの重要な品質項目として、透明性などの
外観や機械強度が挙げられる。従って、外観を著しく損
なう上に機械強度の低下を招くような例えばゲルなどに
よるフィッシュアイの発生は、フィルムの品質上忌避さ
れる。また、フィルムなどの成形加工時には、低い押出
し負荷や高い溶融張力など、優れた加工性が要求され
る。これらの付加重合体は、従来は主として三塩化チタ
ンや四塩化チタンなどの第４族金属化合物を用いて得ら
れた固体触媒成分と、有機アルミニウム化合物に代表さ
れる第１３族金属化合物とを組み合わせた従来型固体触
媒（マルチサイト触媒）を用いてオレフィン等を重合さ
せることによって製造されてきた。
重合体は、機械的性質、耐薬品性等に優れ、またそれら
の特性と経済性とのバランスが優れていることにより各
種成形分野に広く用いられている。その主な用途の一つ
であるフィルムの重要な品質項目として、透明性などの
外観や機械強度が挙げられる。従って、外観を著しく損
なう上に機械強度の低下を招くような例えばゲルなどに
よるフィッシュアイの発生は、フィルムの品質上忌避さ
れる。また、フィルムなどの成形加工時には、低い押出
し負荷や高い溶融張力など、優れた加工性が要求され
る。これらの付加重合体は、従来は主として三塩化チタ
ンや四塩化チタンなどの第４族金属化合物を用いて得ら
れた固体触媒成分と、有機アルミニウム化合物に代表さ
れる第１３族金属化合物とを組み合わせた従来型固体触
媒（マルチサイト触媒）を用いてオレフィン等を重合さ
せることによって製造されてきた。
【０００３】近年、古くから用いられてきた固体触媒成
分とは異なる遷移金属化合物（例えばメタロセン錯体や
非メタロセン化合物）とアルミノキサン等とを組み合わ
せた、いわゆるシングルサイト触媒を用いてオレフィン
等を重合させる付加重合体の製造方法が提案されてい
る。例えば、特開昭５８−１９３０９号公報にはビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドと
メチルアルミノキサンを用いる方法が報告されている。
また、特定のホウ素化合物をかかる遷移金属化合物と組
合わせることも報告されている。例えば、特表平１−５
０２０３６号公報にはビス（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジメチルとトリ（ｎ−ブチル）アンモニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを用い
る方法が報告されている。これらシングルサイト触媒を
用いて得られる付加重合体は従来型固体触媒（マルチサ
イト触媒）で得られるものよりも一般に分子量分布が狭
く、また共重合体の場合にはコモノマーがより均一に共
重合されていることから、従来型固体触媒を用いた場合
よりも均質な付加重合体が得られることが知られてい
る。
分とは異なる遷移金属化合物（例えばメタロセン錯体や
非メタロセン化合物）とアルミノキサン等とを組み合わ
せた、いわゆるシングルサイト触媒を用いてオレフィン
等を重合させる付加重合体の製造方法が提案されてい
る。例えば、特開昭５８−１９３０９号公報にはビス
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライドと
メチルアルミノキサンを用いる方法が報告されている。
また、特定のホウ素化合物をかかる遷移金属化合物と組
合わせることも報告されている。例えば、特表平１−５
０２０３６号公報にはビス（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジメチルとトリ（ｎ−ブチル）アンモニウム
テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートを用い
る方法が報告されている。これらシングルサイト触媒を
用いて得られる付加重合体は従来型固体触媒（マルチサ
イト触媒）で得られるものよりも一般に分子量分布が狭
く、また共重合体の場合にはコモノマーがより均一に共
重合されていることから、従来型固体触媒を用いた場合
よりも均質な付加重合体が得られることが知られてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このようなシングルサ
イト触媒を用いて得られる付加重合体の問題点の一つと
して、該付加重合体から成形されるフィルムにフィッシ
ュアイが多数発生しがちであることが挙げられる。本発
明の目的は、シングルサイト触媒を形成する遷移金属化
合物とともに用いて付加重合することにより、外観の良
好なフィルムの得られる付加重合体を製造し得る粒子、
担体および付加重合用触媒成分、該粒子の製造方法、該
粒子を用いてなる予備重合済付加重合用触媒成分、該粒
子を用いてなる付加重合用触媒、ならびに該付加重合用
触媒を用いる付加重合体の製造方法を提供することにあ
る。
イト触媒を用いて得られる付加重合体の問題点の一つと
して、該付加重合体から成形されるフィルムにフィッシ
ュアイが多数発生しがちであることが挙げられる。本発
明の目的は、シングルサイト触媒を形成する遷移金属化
合物とともに用いて付加重合することにより、外観の良
好なフィルムの得られる付加重合体を製造し得る粒子、
担体および付加重合用触媒成分、該粒子の製造方法、該
粒子を用いてなる予備重合済付加重合用触媒成分、該粒
子を用いてなる付加重合用触媒、ならびに該付加重合用
触媒を用いる付加重合体の製造方法を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記（ａ）、
下記（ｂ）、下記（ｃ）および粒子（ｄ）を接触させて
得られる改質された粒子、並びに、下記（ａ）、下記
（ｂ）、下記（ｃ）および粒子（ｄ）を接触させる改質
された粒子の製造方法にかかるものである。 （ａ）：下記一般式［１］で表される化合物 Ｍ1Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：下記一般式［２］で表される化合物 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：下記一般式［３］で表される化合物 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （上記一般式［１］〜［３］においてそれぞれ、Ｍ1 は
周期律表第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｒ1 は電子吸引性基または電子吸引性基を
含有する基を表し、Ｒ1 が複数存在する場合はそれらは
互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ2 は炭化
水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔはそれぞ
れ独立に周期律表の第１５族または第１６族の非金属原
子を表し、ｔはそれぞれの化合物のＴの原子価を表
す。）
下記（ｂ）、下記（ｃ）および粒子（ｄ）を接触させて
得られる改質された粒子、並びに、下記（ａ）、下記
（ｂ）、下記（ｃ）および粒子（ｄ）を接触させる改質
された粒子の製造方法にかかるものである。 （ａ）：下記一般式［１］で表される化合物 Ｍ1Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：下記一般式［２］で表される化合物 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：下記一般式［３］で表される化合物 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （上記一般式［１］〜［３］においてそれぞれ、Ｍ1 は
周期律表第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｒ1 は電子吸引性基または電子吸引性基を
含有する基を表し、Ｒ1 が複数存在する場合はそれらは
互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ2 は炭化
水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔはそれぞ
れ独立に周期律表の第１５族または第１６族の非金属原
子を表し、ｔはそれぞれの化合物のＴの原子価を表
す。）
【０００６】また本発明は、該改質された粒子よりなる
担体、および、該改質された粒子よりなる付加重合用触
媒成分にかかるものである。さらに本発明は、該改質さ
れた粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる
付加重合用触媒にかかるものであり、そして、該改質さ
れた粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化
合物（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒にかか
るものである。本発明は、該改質された粒子（Ａ）、並
びに第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属
化合物（Ｂ）を接触させて得られる一次触媒の存在下
に、オレフィンを予備重合して得られる予備重合済付加
重合用触媒成分にかかるものであり、また、該改質され
た粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列
の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合
物（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オ
レフィンを予備重合して得られる予備重合済付加重合用
触媒成分にかかるものであり、そして、該予備重合済付
加重合用触媒成分、並びに有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒にかかるも
のである。また本発明は、該改質された粒子（Ａ）、並
びに第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属
化合物（Ｂ）を接触させて得られる一次触媒の存在下
に、オレフィンを予備重合して得られる付加重合用触媒
にかかるものであり、また、該改質された粒子（Ａ）、
第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合
物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物（Ｃ）を接触
させて得られる一次触媒の存在下に、オレフィンを予備
重合して得られる付加重合用触媒にかかるものである。
そして本発明は、上記いずれかの付加重合用触媒を用い
る付加重合体の製造方法にかかるものである。以下、本
発明をさらに詳細に説明する。
担体、および、該改質された粒子よりなる付加重合用触
媒成分にかかるものである。さらに本発明は、該改質さ
れた粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる
付加重合用触媒にかかるものであり、そして、該改質さ
れた粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化
合物（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒にかか
るものである。本発明は、該改質された粒子（Ａ）、並
びに第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属
化合物（Ｂ）を接触させて得られる一次触媒の存在下
に、オレフィンを予備重合して得られる予備重合済付加
重合用触媒成分にかかるものであり、また、該改質され
た粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列
の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合
物（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オ
レフィンを予備重合して得られる予備重合済付加重合用
触媒成分にかかるものであり、そして、該予備重合済付
加重合用触媒成分、並びに有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒にかかるも
のである。また本発明は、該改質された粒子（Ａ）、並
びに第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属
化合物（Ｂ）を接触させて得られる一次触媒の存在下
に、オレフィンを予備重合して得られる付加重合用触媒
にかかるものであり、また、該改質された粒子（Ａ）、
第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合
物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物（Ｃ）を接触
させて得られる一次触媒の存在下に、オレフィンを予備
重合して得られる付加重合用触媒にかかるものである。
そして本発明は、上記いずれかの付加重合用触媒を用い
る付加重合体の製造方法にかかるものである。以下、本
発明をさらに詳細に説明する。
【０００７】
【発明の実施の形態】化合物（ａ）は下記一般式［１］
で表される化合物である。 Ｍ1Ｌ1 m ［１］ 上記一般式［１］におけるＭ1 は、元素の周期律表（Ｉ
ＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版１９８９）第１、２、１
２、１４または１５族の典型金属原子を表す。その具体
例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム
原子、ルビジウム原子、セシウム原子、ベリリウム原
子、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウ
ム原子、バリウム原子、亜鉛原子、カドミウム原子、水
銀原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子、アンチ
モン原子、ビスマス原子等が挙げられる。Ｍ1 として好
ましくはマグネシウム原子、カルシウム原子、ストロン
チウム原子、バリウム原子、亜鉛原子、ゲルマニウム原
子、スズ原子またはビスマス原子であり、特に好ましく
はマグネシウム原子、亜鉛原子、スズ原子またはビスマ
ス原子であり、最も好ましくは亜鉛原子である。また、
上記一般式［１］におけるｍはＭ1 の原子価を表し、例
えばＭ1 が亜鉛原子の場合ｍは２である。
で表される化合物である。 Ｍ1Ｌ1 m ［１］ 上記一般式［１］におけるＭ1 は、元素の周期律表（Ｉ
ＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版１９８９）第１、２、１
２、１４または１５族の典型金属原子を表す。その具体
例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム
原子、ルビジウム原子、セシウム原子、ベリリウム原
子、マグネシウム原子、カルシウム原子、ストロンチウ
ム原子、バリウム原子、亜鉛原子、カドミウム原子、水
銀原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、鉛原子、アンチ
モン原子、ビスマス原子等が挙げられる。Ｍ1 として好
ましくはマグネシウム原子、カルシウム原子、ストロン
チウム原子、バリウム原子、亜鉛原子、ゲルマニウム原
子、スズ原子またはビスマス原子であり、特に好ましく
はマグネシウム原子、亜鉛原子、スズ原子またはビスマ
ス原子であり、最も好ましくは亜鉛原子である。また、
上記一般式［１］におけるｍはＭ1 の原子価を表し、例
えばＭ1 が亜鉛原子の場合ｍは２である。
【０００８】上記一般式［１］におけるＬ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｌ1 におけるハロゲン原子の具体例として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。Ｌ1 における炭化水素基としては、アルキル
基、アリール基、またはアラルキル基が好ましい。
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｌ1 におけるハロゲン原子の具体例として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。Ｌ1 における炭化水素基としては、アルキル
基、アリール基、またはアラルキル基が好ましい。
【０００９】ここでいうアルキル基としては、炭素原子
数１〜２０のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル
基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコ
シル基などが挙げられ、より好ましくはメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはイソ
ブチル基である。
数１〜２０のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル
基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−エイコ
シル基などが挙げられ、より好ましくはメチル基、エチ
ル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基またはイソ
ブチル基である。
【００１０】これらのアルキル基はいずれも、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された
炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えばフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロ
メチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブ
ロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、ト
リヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチ
ル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル
基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロ
ロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル
基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモ
エチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル
基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、
パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パー
フルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフ
ルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パー
フルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パーク
ロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキ
シル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、
パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、
パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロ
モペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオク
チル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシ
ル基、パーブロモエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロプロピル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオク
チル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデシル基、１Ｈ，
１Ｈ−パーフルオロペンタデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロプロピ
ル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−
パークロロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシ
ル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロクチル基、１Ｈ，１Ｈ−
パークロロドデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタ
デシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル基、１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモプロピル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブ
ロモブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル基、１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブ
ロモオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモドデシル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデシル基、１Ｈ，１Ｈ−
パーブロモエイコシル基などが挙げられる。またこれら
のアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基ま
たはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで
一部が置換されていてもよい。
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された
炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えばフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロ
メチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブ
ロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、ト
リヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチ
ル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル
基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロ
ロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル
基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモ
エチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル
基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、
パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パー
フルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフ
ルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パー
フルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パーク
ロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキ
シル基、パークロロクチル基、パークロロドデシル基、
パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル基、
パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パーブロ
モペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモオク
チル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタデシ
ル基、パーブロモエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロプロピル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブチル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオク
チル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデシル基、１Ｈ，
１Ｈ−パーフルオロペンタデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロプロピ
ル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−
パークロロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシ
ル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロクチル基、１Ｈ，１Ｈ−
パークロロドデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタ
デシル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル基、１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモプロピル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブ
ロモブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル基、１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブ
ロモオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモドデシル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデシル基、１Ｈ，１Ｈ−
パーブロモエイコシル基などが挙げられる。またこれら
のアルキル基はいずれも、メトキシ基、エトキシ基等の
アルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基ま
たはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで
一部が置換されていてもよい。
【００１１】アリール基としては、炭素原子数６〜２０
のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、２−トリ
ル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル
基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６
−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル
基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−
トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニ
ル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５
−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチ
ルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル
基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニ
ル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル基、イソブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニ
ル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル
基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、
ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、よ
り好ましくはフェニル基である。これらのアリール基は
いずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基また
はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一
部が置換されていてもよい。
のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、２−トリ
ル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル
基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６
−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル
基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−
トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニ
ル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５
−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチ
ルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル
基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニ
ル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニル基、イソブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニ
ル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル
基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、
ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル
基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、よ
り好ましくはフェニル基である。これらのアリール基は
いずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のア
ルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基また
はベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一
部が置換されていてもよい。
【００１２】アラルキル基としては、炭素原子数７〜２
０のアラルキル基が好ましく、例えばベンジル基、（２
−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）
メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３
−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフ
ェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，
４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メ
チル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル
基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペン
タメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロ
ピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）メチル基、（イソブチルフェニ
ル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、
（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフ
ェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル
基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル
基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好ま
しくはベンジル基である。これらのアラルキル基はいず
れも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
どのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコ
キシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベ
ンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が
置換されていてもよい。
０のアラルキル基が好ましく、例えばベンジル基、（２
−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）
メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３
−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフ
ェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，
４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５−ジメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メ
チル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル
基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペン
タメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロ
ピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）メチル基、（イソブチルフェニ
ル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、
（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフ
ェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル
基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、ナフチルメチル
基、アントラセニルメチル基などが挙げられ、より好ま
しくはベンジル基である。これらのアラルキル基はいず
れも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子な
どのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコ
キシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基またはベ
ンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基などで一部が
置換されていてもよい。
【００１３】上記一般式［１］におけるＬ1 として好ま
しくは水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
さらに好ましくは水素原子またはアルキル基であり、特
に好ましくはアルキル基である。
しくは水素原子、アルキル基またはアリール基であり、
さらに好ましくは水素原子またはアルキル基であり、特
に好ましくはアルキル基である。
【００１４】化合物（ｂ）は下記一般式［２］で表され
る化合物である。 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ また、化合物（ｃ）は下記一般式［３］で表される化合
物である。 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ 上記一般式［２］または［３］におけるＴはそれぞれ独
立に、元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂
版１９８９）の第１５族または第１６族の非金属原子を
表す。一般式［２］におけるＴと一般式［３］における
Ｔとは同じであっても異なっていてもよい。第１５族非
金属原子の具体例としては、窒素原子、リン原子など
が、第１６族非金属原子の具体例としては、酸素原子、
硫黄原子などが挙げられる。Ｔとして好ましくは、それ
ぞれ独立に窒素原子または酸素原子であり、特に好まし
くはＴは酸素原子である。上記一般式［２］または
［３］におけるｔはそれぞれのＴの原子価を表し、Ｔが
第１５族非金属原子の場合はｔは３であり、Ｔが第１６
族非金属原子の場合はｔは２である。
る化合物である。 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ また、化合物（ｃ）は下記一般式［３］で表される化合
物である。 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ 上記一般式［２］または［３］におけるＴはそれぞれ独
立に、元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂
版１９８９）の第１５族または第１６族の非金属原子を
表す。一般式［２］におけるＴと一般式［３］における
Ｔとは同じであっても異なっていてもよい。第１５族非
金属原子の具体例としては、窒素原子、リン原子など
が、第１６族非金属原子の具体例としては、酸素原子、
硫黄原子などが挙げられる。Ｔとして好ましくは、それ
ぞれ独立に窒素原子または酸素原子であり、特に好まし
くはＴは酸素原子である。上記一般式［２］または
［３］におけるｔはそれぞれのＴの原子価を表し、Ｔが
第１５族非金属原子の場合はｔは３であり、Ｔが第１６
族非金属原子の場合はｔは２である。
【００１５】上記一般式［２］におけるＲ1 は、電子吸
引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、Ｒ1 が
複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異な
っていてもよい。電子吸引性の指標としては、ハメット
則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換
基定数σが正である官能基が電子吸引性基として挙げら
れる。
引性基または電子吸引性基を含有する基を表し、Ｒ1 が
複数存在する場合はそれらは互いに同じであっても異な
っていてもよい。電子吸引性の指標としては、ハメット
則の置換基定数σ等が知られており、ハメット則の置換
基定数σが正である官能基が電子吸引性基として挙げら
れる。
【００１６】電子吸引性基の具体例として、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニト
ロ基、カルボニル基、スルホン基、フェニル基等が挙げ
られる。電子吸引性基を含有する基としてはハロゲン化
アルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハロゲン化アル
キル）アリール基、シアノ化アリール基、ニトロ化アリ
ール基、エステル基（アルコキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基やアリールオキシカルボニル
基）、アシル基、ハロゲン化アシル基等が挙げられる。
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、ニト
ロ基、カルボニル基、スルホン基、フェニル基等が挙げ
られる。電子吸引性基を含有する基としてはハロゲン化
アルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハロゲン化アル
キル）アリール基、シアノ化アリール基、ニトロ化アリ
ール基、エステル基（アルコキシカルボニル基、アラル
キルオキシカルボニル基やアリールオキシカルボニル
基）、アシル基、ハロゲン化アシル基等が挙げられる。
【００１７】ハロゲン化アルキル基の具体例としては、
フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、
ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル
基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基、トリフルオ
ロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル
基、トリヨードメチル基、２，２，２−トリフルオロエ
チル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２
−トリブロモエチル基、２，２，２−トリヨードエチル
基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、
２，２，３，３，３−ペンタクロロプロピル基、２，
２，３，３，３−ペンタブロモプロピル基、２，２，
３，３，３−ペンタヨードプロピル基、２，２，２−ト
リフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、２，
２，２−トリクロロ−１−トリクロロメチルエチル基、
２，２，２−トリブロモ−１−トリブロモメチルエチル
基、２，２，２−トリヨード−１−トリヨードメチルエ
チル基、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチル基 、１，１−ビス（トリ
クロロメチル）−２，２，２−トリクロロエチル基 、
１，１−ビス（トリブロモメチル）−２，２，２−トリ
ブロモエチル基 、１，１−ビス（トリヨードメチル）
−２，２，２−トリヨードエチル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンチル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロ
ドデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタデシル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロエイコシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パークロロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペン
チル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パークロロクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデ
シル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデシル基、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
ブロモブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
ブロモオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモドデシル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パーブロモエイコシル基等が挙げられる。
フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、
ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル
基、ジブロモメチル基、ジヨードメチル基、トリフルオ
ロメチル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル
基、トリヨードメチル基、２，２，２−トリフルオロエ
チル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，２，２
−トリブロモエチル基、２，２，２−トリヨードエチル
基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、
２，２，３，３，３−ペンタクロロプロピル基、２，
２，３，３，３−ペンタブロモプロピル基、２，２，
３，３，３−ペンタヨードプロピル基、２，２，２−ト
リフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、２，
２，２−トリクロロ−１−トリクロロメチルエチル基、
２，２，２−トリブロモ−１−トリブロモメチルエチル
基、２，２，２−トリヨード−１−トリヨードメチルエ
チル基、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチル基 、１，１−ビス（トリ
クロロメチル）−２，２，２−トリクロロエチル基 、
１，１−ビス（トリブロモメチル）−２，２，２−トリ
ブロモエチル基 、１，１−ビス（トリヨードメチル）
−２，２，２−トリヨードエチル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンチル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロ
ドデシル基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタデシル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロエイコシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パークロロブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペン
チル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パークロロクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデ
シル基、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデシル基、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
ブロモブチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル基、
１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ−パー
ブロモオクチル基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモドデシル
基、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデシル基、１Ｈ，１
Ｈ−パーブロモエイコシル基等が挙げられる。
【００１８】ハロゲン化アリール基の具体例としては、
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４
−フルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル
基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオ
ロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，
４，６−トリフルオロフェニル基、２，３，５，６−テ
トラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、
２，３，５，６−テトラフルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェニル基、２，３，５，６−テトラフルオロ−４
−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−
１−ナフチル基、パーフルオロ−２−ナフチル基、２−
クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロ
フェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，６−ジ
クロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，
５−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェ
ニル基、２，３，５，６−テトラクロロフェニル基、ペ
ンタクロロフェニル基、２，３，５，６−テトラクロロ
−４−トリクロロメチルフェニル基、２，３，５，６−
テトラクロロ−４−ペンタクロロフェニルフェニル基、
パークロロ−１−ナフチル基、パークロロ−２−ナフチ
ル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、
４−ブロモフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、
２，６−ジブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニ
ル基、３，５−ジブロモフェニル基、２，４，６−トリ
ブロモフェニル基、２，３，５，６−テトラブロモフェ
ニル基、ペンタブロモフェニル基、２，３，５，６−テ
トラブロモ−４−トリブロモメチルフェニル基、２，
３，５，６−テトラブロモ−４−ペンタブロモフェニル
フェニル基、パーブロモ−１−ナフチル基、パーブロモ
−２−ナフチル基、２−ヨードフェニル基、３−ヨード
フェニル基、４−ヨードフェニル基、２，４−ジヨード
フェニル基、２，６−ジヨードフェニル基、３，４−ジ
ヨードフェニル基、３，５−ジヨードフェニル基、２，
４，６−トリヨードフェニル基、２，３，５，６−テト
ラヨードフェニル基、ペンタヨードフェニル基、２，
３，５，６−テトラヨード−４−トリヨードメチルフェ
ニル基、２，３，５，６−テトラヨード−４−ペンタヨ
ードフェニルフェニル基、パーヨード−１−ナフチル
基、パーヨード−２−ナフチル基等が挙げられる。
２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４
−フルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル
基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオ
ロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、２，
４，６−トリフルオロフェニル基、２，３，５，６−テ
トラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、
２，３，５，６−テトラフルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェニル基、２，３，５，６−テトラフルオロ−４
−ペンタフルオロフェニルフェニル基、パーフルオロ−
１−ナフチル基、パーフルオロ−２−ナフチル基、２−
クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロ
フェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，６−ジ
クロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，
５−ジクロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェ
ニル基、２，３，５，６−テトラクロロフェニル基、ペ
ンタクロロフェニル基、２，３，５，６−テトラクロロ
−４−トリクロロメチルフェニル基、２，３，５，６−
テトラクロロ−４−ペンタクロロフェニルフェニル基、
パークロロ−１−ナフチル基、パークロロ−２−ナフチ
ル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、
４−ブロモフェニル基、２，４−ジブロモフェニル基、
２，６−ジブロモフェニル基、３，４−ジブロモフェニ
ル基、３，５−ジブロモフェニル基、２，４，６−トリ
ブロモフェニル基、２，３，５，６−テトラブロモフェ
ニル基、ペンタブロモフェニル基、２，３，５，６−テ
トラブロモ−４−トリブロモメチルフェニル基、２，
３，５，６−テトラブロモ−４−ペンタブロモフェニル
フェニル基、パーブロモ−１−ナフチル基、パーブロモ
−２−ナフチル基、２−ヨードフェニル基、３−ヨード
フェニル基、４−ヨードフェニル基、２，４−ジヨード
フェニル基、２，６−ジヨードフェニル基、３，４−ジ
ヨードフェニル基、３，５−ジヨードフェニル基、２，
４，６−トリヨードフェニル基、２，３，５，６−テト
ラヨードフェニル基、ペンタヨードフェニル基、２，
３，５，６−テトラヨード−４−トリヨードメチルフェ
ニル基、２，３，５，６−テトラヨード−４−ペンタヨ
ードフェニルフェニル基、パーヨード−１−ナフチル
基、パーヨード−２−ナフチル基等が挙げられる。
【００１９】（ハロゲン化アルキル）アリール基の具体
例としては、２−（トリフルオロメチル）フェニル基、
３−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−（トリフ
ルオロメチル）フェニル基、２，６−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル基、２，４，６−トリス（トリフルオロ
メチル）フェニル基等が挙げられる。
例としては、２−（トリフルオロメチル）フェニル基、
３−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−（トリフ
ルオロメチル）フェニル基、２，６−ビス（トリフルオ
ロメチル）フェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメ
チル）フェニル基、２，４，６−トリス（トリフルオロ
メチル）フェニル基等が挙げられる。
【００２０】シアノ化アリール基の具体例としては、２
−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シア
ノフェニル基等が挙げられる。
−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シア
ノフェニル基等が挙げられる。
【００２１】ニトロ化アリール基の具体例としては、２
−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニト
ロフェニル基等が挙げられる。
−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニト
ロフェニル基等が挙げられる。
【００２２】エステル基の具体例としては、メトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、フェノキシ
カルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペ
ンタフルオロフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
ルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、フェノキシ
カルボニル基、トリフルオロメトキシカルボニル基、ペ
ンタフルオロフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
【００２３】アシル基の具体例としては、ホルミル基、
エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフ
ルオロエタノイル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベ
ンゾイル基、パーフルオロエタノイル基、パーフルオロ
プロパノイル基、パーフルオロブタノイル基、パーフル
オロペンタノイル基、パーフルオロヘキサノイル基、パ
ーフルオロヘプタノイル基、パーフルオロオクタノイル
基、パーフルオロノナノイル基、パーフルオロデカノイ
ル基、パーフルオロウンデカノイル基、パーフルオロド
デカノイル基等が挙げられる。
エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、トリフ
ルオロエタノイル基、ベンゾイル基、ペンタフルオロベ
ンゾイル基、パーフルオロエタノイル基、パーフルオロ
プロパノイル基、パーフルオロブタノイル基、パーフル
オロペンタノイル基、パーフルオロヘキサノイル基、パ
ーフルオロヘプタノイル基、パーフルオロオクタノイル
基、パーフルオロノナノイル基、パーフルオロデカノイ
ル基、パーフルオロウンデカノイル基、パーフルオロド
デカノイル基等が挙げられる。
【００２４】Ｒ1 として好ましくはハロゲン化炭化水素
基であり、より好ましくはハロゲン化アルキル基または
ハロゲン化アリール基である。さらに好ましくは、フル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−
トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、１，
１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフ
ルオロエチル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオ
ロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジフ
ルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、
３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフ
ェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，
３，５，６−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−
トリフルオロメチルフェニル基、２，３，５，６−テト
ラフルオロ−４−ペンタフルオロフェニルフェニル基、
パーフルオロ−１−ナフチル基、パーフルオロ−２−ナ
フチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリク
ロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，
２，３，３，３−ペンタクロロプロピル基、２，２，２
−トリクロロ−１−トリクロロメチルエチル基、１，１
−ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロ
エチル基、４−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフ
ェニル基、３．５−ジクロロフェニル基、２，４，６−
トリクロロフェニル基またはペンタクロロフェニル基で
あり、特に好ましくは、フルオロアルキル基またはフル
オロアリール基であり、最も好ましくは、トリフルオロ
メチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオ
ロメチルエチル基、１，１−ビス（トリフルオロメチ
ル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、３，５−ジ
フルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基で
ある。
基であり、より好ましくはハロゲン化アルキル基または
ハロゲン化アリール基である。さらに好ましくは、フル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，
３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−
トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル基、１，
１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフ
ルオロエチル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオ
ロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジフ
ルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、
３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフ
ェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、２，
３，５，６−テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−
トリフルオロメチルフェニル基、２，３，５，６−テト
ラフルオロ−４−ペンタフルオロフェニルフェニル基、
パーフルオロ−１−ナフチル基、パーフルオロ−２−ナ
フチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリク
ロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，
２，３，３，３−ペンタクロロプロピル基、２，２，２
−トリクロロ−１−トリクロロメチルエチル基、１，１
−ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロ
エチル基、４−クロロフェニル基、２，６−ジクロロフ
ェニル基、３．５−ジクロロフェニル基、２，４，６−
トリクロロフェニル基またはペンタクロロフェニル基で
あり、特に好ましくは、フルオロアルキル基またはフル
オロアリール基であり、最も好ましくは、トリフルオロ
メチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオ
ロメチルエチル基、１，１−ビス（トリフルオロメチ
ル）−２，２，２−トリフルオロエチル基、３，５−ジ
フルオロフェニル基またはペンタフルオロフェニル基で
ある。
【００２５】上記一般式［３］におけるＲ2 は炭化水素
基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｒ2 における炭
化水素基としては、アルキル基、アリール基、またはア
ラルキル基が好ましく、一般式［１］におけるＬ1 とし
て説明したものと同様の炭化水素基が用いられる。Ｒ2
におけるハロゲン化炭化水素基としては、ハロゲン化ア
ルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハロゲン化アルキ
ル）アリール基等が挙げられ、上記一般式［２］のＲ1
における電子吸引性基の具体例として挙げたものと同様
のハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハ
ロゲン化アルキル）アリール基が用いられる。
基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｒ2 における炭
化水素基としては、アルキル基、アリール基、またはア
ラルキル基が好ましく、一般式［１］におけるＬ1 とし
て説明したものと同様の炭化水素基が用いられる。Ｒ2
におけるハロゲン化炭化水素基としては、ハロゲン化ア
ルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハロゲン化アルキ
ル）アリール基等が挙げられ、上記一般式［２］のＲ1
における電子吸引性基の具体例として挙げたものと同様
のハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、（ハ
ロゲン化アルキル）アリール基が用いられる。
【００２６】上記一般式［３］におけるＲ2 として好ま
しくはハロゲン化炭化水素基であり、さらに好ましくは
フッ素化炭化水素基である。
しくはハロゲン化炭化水素基であり、さらに好ましくは
フッ素化炭化水素基である。
【００２７】化合物（ａ）を具体的に例示すると、Ｍ1
が亜鉛原子の場合の具体例としては、ジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−ｎ−ブチル亜鉛、ジ
イソブチル亜鉛、ジ−ｎ−ヘキシル亜鉛等のジアルキル
亜鉛；ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、ビス（ペンタ
フルオロフェニル）亜鉛等のジアリール亜鉛；ジアリル
亜鉛等のジアルケニル亜鉛；ビス（シクロペンタジエニ
ル）亜鉛；塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロ
ピル亜鉛、塩化−ｎ−ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜
鉛、塩化−ｎ−ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エ
チル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化−ｎ−ブチル亜鉛、
臭化イソブチル亜鉛、臭化−ｎ−ヘキシル亜鉛、よう化
メチル亜鉛、よう化エチル亜鉛、よう化プロピル亜鉛、
よう化−ｎ−ブチル亜鉛、よう化イソブチル亜鉛、よう
化−ｎ−ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛；ふ
っ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、よう化亜鉛等のハロゲ
ン化亜鉛等が挙げられる。
が亜鉛原子の場合の具体例としては、ジメチル亜鉛、ジ
エチル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−ｎ−ブチル亜鉛、ジ
イソブチル亜鉛、ジ−ｎ−ヘキシル亜鉛等のジアルキル
亜鉛；ジフェニル亜鉛、ジナフチル亜鉛、ビス（ペンタ
フルオロフェニル）亜鉛等のジアリール亜鉛；ジアリル
亜鉛等のジアルケニル亜鉛；ビス（シクロペンタジエニ
ル）亜鉛；塩化メチル亜鉛、塩化エチル亜鉛、塩化プロ
ピル亜鉛、塩化−ｎ−ブチル亜鉛、塩化イソブチル亜
鉛、塩化−ｎ−ヘキシル亜鉛、臭化メチル亜鉛、臭化エ
チル亜鉛、臭化プロピル亜鉛、臭化−ｎ−ブチル亜鉛、
臭化イソブチル亜鉛、臭化−ｎ−ヘキシル亜鉛、よう化
メチル亜鉛、よう化エチル亜鉛、よう化プロピル亜鉛、
よう化−ｎ−ブチル亜鉛、よう化イソブチル亜鉛、よう
化−ｎ−ヘキシル亜鉛等のハロゲン化アルキル亜鉛；ふ
っ化亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、よう化亜鉛等のハロゲ
ン化亜鉛等が挙げられる。
【００２８】化合物（ａ）として好ましくは、ジアルキ
ル亜鉛であり、さらに好ましくは、ジメチル亜鉛、ジエ
チル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−ｎ−ブチル亜鉛、ジイ
ソブチル亜鉛、またはジ−ｎ−ヘキシル亜鉛であり、特
に好ましくはジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛である。
ル亜鉛であり、さらに好ましくは、ジメチル亜鉛、ジエ
チル亜鉛、ジプロピル亜鉛、ジ−ｎ−ブチル亜鉛、ジイ
ソブチル亜鉛、またはジ−ｎ−ヘキシル亜鉛であり、特
に好ましくはジメチル亜鉛またはジエチル亜鉛である。
【００２９】化合物（ｂ）を具体的に例示すると、アミ
ン類としては、ジ（フルオロメチル）アミン、ジ（クロ
ロメチル）アミン、ジ（ブロモメチル）アミン、ジ（ヨ
ードメチル）アミン、ビス（ジフルオロメチル）アミ
ン、ビス（ジクロロメチル）アミン、ビス（ジブロモメ
チル）アミン、ビス（ジヨードメチル）アミン、ビス
（トリフルオロメチル）アミン、ビス（トリクロロメチ
ル）アミン、ビス（トリブロモメチル）アミン、ビス
（トリヨードメチル）アミン、ビス（２，２，２−トリ
フルオロエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリクロ
ロエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリブロモエチ
ル）アミン、ビス（２，２，２−トリヨードエチル）ア
ミン、ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
ピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３−ペンタクロ
ロプロピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３−ペン
タブロモプロピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３
−ペンタヨードプロピル）アミン、ビス（２，２，２−
トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル）アミ
ン、ビス（２，２，２−トリクロロ−１−トリクロロメ
チルエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリブロモ−
１−トリブロモメチルエチル）アミン、ビス（２，２，
２−トリヨード−１−トリヨードメチルエチル）アミ
ン、ビス（１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチル）アミン、ビス（１，１−
ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロエ
チル）アミン、ビス（１，１−ビス（トリブロモメチ
ル）−２，２，２−トリブロモエチル）アミン、ビス
（１，１−ビス（トリヨードメチル）−２，２，２−ト
リヨードエチル）アミン、ビス（２−フルオロフェニ
ル）アミン、ビス（３−フルオロフェニル）アミン、ビ
ス（４−フルオロフェニル）アミン、ビス（２−クロロ
フェニル）アミン、ビス（３−クロロフェニル）アミ
ン、ビス（４−クロロフェニル）アミン、ビス（２−ブ
ロモフェニル）アミン、ビス（３−ブロモフェニル）ア
ミン、ビス（４−ブロモフェニル）アミン、ビス（２−
ヨードフェニル）アミン、ビス（３−ヨードフェニル）
アミン、ビス（４−ヨードフェニル）アミン、ビス
（２，６−ジフルオロフェニル）アミン、ビス（３，５
−ジフルオロフェニル）アミン、ビス（２，６−ジクロ
ロフェニル）アミン、ビス（３，５−ジクロロフェニ
ル）アミン、ビス（２，６−ジブロモフェニル）アミ
ン、ビス（３，５−ジブロモフェニル）アミン、ビス
（２，６−ジヨードフェニル）アミン、ビス（３，５−
ジヨードフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリフ
ルオロフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリクロ
ロフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリブロモフ
ェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリヨードフェニ
ル）アミン、ビス（ペンタフルオロフェニル）アミン、
ビス（ペンタクロロフェニル）アミン、ビス（ペンタブ
ロモフェニル）アミン、ビス（ペンタヨードフェニル）
アミン、ビス（２−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（３−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（４−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（２，６−ジ（トリフルオロメチル）フェ
ニル）アミン、ビス（３，５−ジ（トリフルオロメチ
ル）フェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリ（トリ
フルオロメチル）フェニル）アミン、ビス（２−シアノ
フェニル）アミン、（３−シアノフェニル）アミン、ビ
ス（４−シアノフェニル）アミン、ビス（２−ニトロフ
ェニル）アミン、ビス（３−ニトロフェニル）アミン、
ビス（４−ニトロフェニル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロペンチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロヘキシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロオクチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロドデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオ
ロペンタデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロエイコシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロ
ロブチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロペン
チル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシ
ル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロオクチル）
アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモブチル）アミン、ビ
ス（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル）アミン、ビス
（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル）アミン、ビス（１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモオクチル）アミン、ビス（１Ｈ，
１Ｈ−パーブロモドデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーブロモペンタデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーブロモエイコシル）アミン等が挙げられる。ま
た、窒素原子がリン原子に置換されたホスフィン化合物
も同様に例示することができる。それらホスフィン化合
物は、上述の具体例のアミンをホスフィンに書き換える
ことによって表される化合物等である。
ン類としては、ジ（フルオロメチル）アミン、ジ（クロ
ロメチル）アミン、ジ（ブロモメチル）アミン、ジ（ヨ
ードメチル）アミン、ビス（ジフルオロメチル）アミ
ン、ビス（ジクロロメチル）アミン、ビス（ジブロモメ
チル）アミン、ビス（ジヨードメチル）アミン、ビス
（トリフルオロメチル）アミン、ビス（トリクロロメチ
ル）アミン、ビス（トリブロモメチル）アミン、ビス
（トリヨードメチル）アミン、ビス（２，２，２−トリ
フルオロエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリクロ
ロエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリブロモエチ
ル）アミン、ビス（２，２，２−トリヨードエチル）ア
ミン、ビス（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロ
ピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３−ペンタクロ
ロプロピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３−ペン
タブロモプロピル）アミン、ビス（２，２，３，３，３
−ペンタヨードプロピル）アミン、ビス（２，２，２−
トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエチル）アミ
ン、ビス（２，２，２−トリクロロ−１−トリクロロメ
チルエチル）アミン、ビス（２，２，２−トリブロモ−
１−トリブロモメチルエチル）アミン、ビス（２，２，
２−トリヨード−１−トリヨードメチルエチル）アミ
ン、ビス（１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチル）アミン、ビス（１，１−
ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロエ
チル）アミン、ビス（１，１−ビス（トリブロモメチ
ル）−２，２，２−トリブロモエチル）アミン、ビス
（１，１−ビス（トリヨードメチル）−２，２，２−ト
リヨードエチル）アミン、ビス（２−フルオロフェニ
ル）アミン、ビス（３−フルオロフェニル）アミン、ビ
ス（４−フルオロフェニル）アミン、ビス（２−クロロ
フェニル）アミン、ビス（３−クロロフェニル）アミ
ン、ビス（４−クロロフェニル）アミン、ビス（２−ブ
ロモフェニル）アミン、ビス（３−ブロモフェニル）ア
ミン、ビス（４−ブロモフェニル）アミン、ビス（２−
ヨードフェニル）アミン、ビス（３−ヨードフェニル）
アミン、ビス（４−ヨードフェニル）アミン、ビス
（２，６−ジフルオロフェニル）アミン、ビス（３，５
−ジフルオロフェニル）アミン、ビス（２，６−ジクロ
ロフェニル）アミン、ビス（３，５−ジクロロフェニ
ル）アミン、ビス（２，６−ジブロモフェニル）アミ
ン、ビス（３，５−ジブロモフェニル）アミン、ビス
（２，６−ジヨードフェニル）アミン、ビス（３，５−
ジヨードフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリフ
ルオロフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリクロ
ロフェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリブロモフ
ェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリヨードフェニ
ル）アミン、ビス（ペンタフルオロフェニル）アミン、
ビス（ペンタクロロフェニル）アミン、ビス（ペンタブ
ロモフェニル）アミン、ビス（ペンタヨードフェニル）
アミン、ビス（２−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（３−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（４−（トリフルオロメチル）フェニル）
アミン、ビス（２，６−ジ（トリフルオロメチル）フェ
ニル）アミン、ビス（３，５−ジ（トリフルオロメチ
ル）フェニル）アミン、ビス（２，４，６−トリ（トリ
フルオロメチル）フェニル）アミン、ビス（２−シアノ
フェニル）アミン、（３−シアノフェニル）アミン、ビ
ス（４−シアノフェニル）アミン、ビス（２−ニトロフ
ェニル）アミン、ビス（３−ニトロフェニル）アミン、
ビス（４−ニトロフェニル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーフルオロブチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロペンチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パー
フルオロヘキシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロオクチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロドデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフルオ
ロペンタデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーフル
オロエイコシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロ
ロブチル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロペン
チル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキシ
ル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロオクチル）
アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコシル）アミ
ン、ビス（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモブチル）アミン、ビ
ス（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンチル）アミン、ビス
（１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキシル）アミン、ビス（１
Ｈ，１Ｈ−パーブロモオクチル）アミン、ビス（１Ｈ，
１Ｈ−パーブロモドデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーブロモペンタデシル）アミン、ビス（１Ｈ，１Ｈ
−パーブロモエイコシル）アミン等が挙げられる。ま
た、窒素原子がリン原子に置換されたホスフィン化合物
も同様に例示することができる。それらホスフィン化合
物は、上述の具体例のアミンをホスフィンに書き換える
ことによって表される化合物等である。
【００３０】アルコール類としては、フルオロメタノー
ル、クロロメタノール、ブロモメタノール、ヨードメタ
ノール、ジフルオロメタノール、ジクロロメタノール、
ジブロモメタノール、ジヨードメタノール、トリフルオ
ロメタノール、トリクロロメタノール、トリブロモメタ
ノール、トリヨードメタノール、２，２，２−トリフル
オロエタノール、２，２，２−トリクロロエタノール、
２，２，２−トリブロモエタノール、２，２，２−トリ
ヨードエタノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオ
ロプロパノール、２，２，３，３，３−ペンタクロロプ
ロパノール、２，２，３，３，３−ペンタブロモプロパ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタヨードプロパノー
ル、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチ
ルエタノール、２，２，２−トリクロロ−１−トリクロ
ロメチルエタノール、２，２，２−トリブロモ−１−ト
リブロモメチルエタノール、２，２，２−トリヨード−
１−トリヨードメチルエタノール、１，１−ビス（トリ
フルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエタノー
ル、１，１−ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−
トリクロロエタノール、１，１−ビス（トリブロモメチ
ル）−２，２，２−トリブロモエタノール、１，１−ビ
ス（トリヨードメチル）−２，２，２−トリヨードエタ
ノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブタノール、１Ｈ，
１Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクタ
ノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデカノール、１
Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロエイコサノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロブ
タノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタノール、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−パー
クロロオクタノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデカノ
ール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデカノール、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコサノール、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーブロモブタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタノ
ール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキサノール、１Ｈ，１
Ｈ−パーブロモオクタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモ
ドデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデカノー
ル、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモエイコサノール等が挙げら
れる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオール
化合物も同様に例示することができる。それらチオール
化合物は、上述の具体例のメタノールをメタンチオール
に、エタノールをエタンチオールに、プロパノールをプ
ロパンチオールに、ブタノールをブタンチオールに、ペ
ンタノールをペンタンチオールに、ヘキサノールをヘキ
サンチオールに、オクタノールをオクタンチオールに、
ドデカノールをドデカンチオールに、ペンタデカノール
をペンタデカンチオールに、エイコサノールをエイコサ
ンチオールに書き換えることによって表される化合物等
である。
ル、クロロメタノール、ブロモメタノール、ヨードメタ
ノール、ジフルオロメタノール、ジクロロメタノール、
ジブロモメタノール、ジヨードメタノール、トリフルオ
ロメタノール、トリクロロメタノール、トリブロモメタ
ノール、トリヨードメタノール、２，２，２−トリフル
オロエタノール、２，２，２−トリクロロエタノール、
２，２，２−トリブロモエタノール、２，２，２−トリ
ヨードエタノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオ
ロプロパノール、２，２，３，３，３−ペンタクロロプ
ロパノール、２，２，３，３，３−ペンタブロモプロパ
ノール、２，２，３，３，３−ペンタヨードプロパノー
ル、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチ
ルエタノール、２，２，２−トリクロロ−１−トリクロ
ロメチルエタノール、２，２，２−トリブロモ−１−ト
リブロモメチルエタノール、２，２，２−トリヨード−
１−トリヨードメチルエタノール、１，１−ビス（トリ
フルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエタノー
ル、１，１−ビス（トリクロロメチル）−２，２，２−
トリクロロエタノール、１，１−ビス（トリブロモメチ
ル）−２，２，２−トリブロモエタノール、１，１−ビ
ス（トリヨードメチル）−２，２，２−トリヨードエタ
ノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロブタノール、１Ｈ，
１Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフ
ルオロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロオクタ
ノール、１Ｈ，１Ｈ−パーフルオロドデカノール、１
Ｈ，１Ｈ−パーフルオロペンタノール、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーフルオロエイコサノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロブ
タノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタノール、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロヘキサノール、１Ｈ，１Ｈ−パー
クロロオクタノール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロドデカノ
ール、１Ｈ，１Ｈ−パークロロペンタデカノール、１
Ｈ，１Ｈ−パークロロエイコサノール、１Ｈ，１Ｈ−パ
ーブロモブタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタノ
ール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモヘキサノール、１Ｈ，１
Ｈ−パーブロモオクタノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモ
ドデカノール、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモペンタデカノー
ル、１Ｈ，１Ｈ−パーブロモエイコサノール等が挙げら
れる。また、酸素原子が硫黄原子に置換されたチオール
化合物も同様に例示することができる。それらチオール
化合物は、上述の具体例のメタノールをメタンチオール
に、エタノールをエタンチオールに、プロパノールをプ
ロパンチオールに、ブタノールをブタンチオールに、ペ
ンタノールをペンタンチオールに、ヘキサノールをヘキ
サンチオールに、オクタノールをオクタンチオールに、
ドデカノールをドデカンチオールに、ペンタデカノール
をペンタデカンチオールに、エイコサノールをエイコサ
ンチオールに書き換えることによって表される化合物等
である。
【００３１】フェノール類としては、２−フルオロフェ
ノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノ
ール、２，４−ジフルオロフェノール、２，６−ジフル
オロフェノール、３，４−ジフルオロフェノール、３，
５−ジフルオロフェノール、２，４，６−トリフルオロ
フェノール、２，３，５，６−テトラフルオロフェノー
ル、ペンタフルオロフェノール、２，３，５，６−テト
ラフルオロ−４−トリフルオロメチルフェノール、２，
３，５，６−テトラフルオロ−４−ペンタフルオロフェ
ニルフェノール、パーフルオロ−１−ナフトール、パー
フルオロ−２−ナフトール、２−クロロフェノール、３
−クロロフェノール、４−クロロフェノール、２，４−
ジクロロフェノール、２，６−ジクロロフェノール、
３，４−ジクロロフェノール、３，５−ジクロロフェノ
ール、２，４，６−トリクロロフェノール、２，３，
５，６−テトラクロロフェノール、ペンタクロロフェノ
ール、２，３，５，６−テトラクロロ−４−トリクロロ
メチルフェノール、２，３，５，６−テトラクロロ−４
−ペンタクロロフェニルフェノール、パークロロ−１−
ナフトール、パークロロ−２−ナフトール、２−ブロモ
フェノール、３−ブロモフェノール、４−ブロモフェノ
ール、２，４−ジブロモフェノール、２，６−ジブロモ
フェノール、３，４−ジブロモフェノール、３，５−ジ
ブロモフェノール、２，４，６−トリブロモフェノー
ル、２，３，５，６−テトラブロモフェノール、ペンタ
ブロモフェノール、２，３，５，６−テトラブロモ−４
−トリブロモメチルフェノール、２，３，５，６−テト
ラブロモ−４−ペンタブロモフェニルフェノール、パー
ブロモ−１−ナフトール、パーブロモ−２−ナフトー
ル、２−ヨードフェノール、３−ヨードフェノール、４
−ヨードフェノール、２，４−ジヨードフェノール、
２，６−ジヨードフェノール、３，４−ジヨードフェノ
ール、３，５−ジヨードフェノール、２，４，６−トリ
ヨードフェノール、２，３，５，６−テトラヨードフェ
ノール、ペンタヨードフェノール、２，３，５，６−テ
トラヨード−４−トリヨードメチルフェノール、２，
３，５，６−テトラヨード−４−ペンタヨードフェニル
フェノール、パーヨード−１−ナフトール、パーヨード
−２−ナフトール、２−（トリフルオロメチル）フェノ
ール、３−（トリフルオロメチル）フェノール、４−
（トリフルオロメチル）フェノール、２，６−ビス（ト
リフルオロメチル）フェノール、３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェノール、２，４，６−トリス（トリ
フルオロメチル）フェノール、２−シアノフェノール、
３−シアノフェノール、４−シアノフェノール、２−ニ
トロフェノール、３−ニトロフェノール、４−ニトロフ
ェノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に
置換されたチオフェノール化合物も同様に例示すること
ができる。それらチオフェノール化合物は、上述の具体
例のフェノールをチオフェノールに書き換えることによ
って表される化合物（ナフトールの場合は、ナフトール
をナフチルチオールに書き換えることによって表される
化合物）等である。
ノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノ
ール、２，４−ジフルオロフェノール、２，６−ジフル
オロフェノール、３，４−ジフルオロフェノール、３，
５−ジフルオロフェノール、２，４，６−トリフルオロ
フェノール、２，３，５，６−テトラフルオロフェノー
ル、ペンタフルオロフェノール、２，３，５，６−テト
ラフルオロ−４−トリフルオロメチルフェノール、２，
３，５，６−テトラフルオロ−４−ペンタフルオロフェ
ニルフェノール、パーフルオロ−１−ナフトール、パー
フルオロ−２−ナフトール、２−クロロフェノール、３
−クロロフェノール、４−クロロフェノール、２，４−
ジクロロフェノール、２，６−ジクロロフェノール、
３，４−ジクロロフェノール、３，５−ジクロロフェノ
ール、２，４，６−トリクロロフェノール、２，３，
５，６−テトラクロロフェノール、ペンタクロロフェノ
ール、２，３，５，６−テトラクロロ−４−トリクロロ
メチルフェノール、２，３，５，６−テトラクロロ−４
−ペンタクロロフェニルフェノール、パークロロ−１−
ナフトール、パークロロ−２−ナフトール、２−ブロモ
フェノール、３−ブロモフェノール、４−ブロモフェノ
ール、２，４−ジブロモフェノール、２，６−ジブロモ
フェノール、３，４−ジブロモフェノール、３，５−ジ
ブロモフェノール、２，４，６−トリブロモフェノー
ル、２，３，５，６−テトラブロモフェノール、ペンタ
ブロモフェノール、２，３，５，６−テトラブロモ−４
−トリブロモメチルフェノール、２，３，５，６−テト
ラブロモ−４−ペンタブロモフェニルフェノール、パー
ブロモ−１−ナフトール、パーブロモ−２−ナフトー
ル、２−ヨードフェノール、３−ヨードフェノール、４
−ヨードフェノール、２，４−ジヨードフェノール、
２，６−ジヨードフェノール、３，４−ジヨードフェノ
ール、３，５−ジヨードフェノール、２，４，６−トリ
ヨードフェノール、２，３，５，６−テトラヨードフェ
ノール、ペンタヨードフェノール、２，３，５，６−テ
トラヨード−４−トリヨードメチルフェノール、２，
３，５，６−テトラヨード−４−ペンタヨードフェニル
フェノール、パーヨード−１−ナフトール、パーヨード
−２−ナフトール、２−（トリフルオロメチル）フェノ
ール、３−（トリフルオロメチル）フェノール、４−
（トリフルオロメチル）フェノール、２，６−ビス（ト
リフルオロメチル）フェノール、３，５−ビス（トリフ
ルオロメチル）フェノール、２，４，６−トリス（トリ
フルオロメチル）フェノール、２−シアノフェノール、
３−シアノフェノール、４−シアノフェノール、２−ニ
トロフェノール、３−ニトロフェノール、４−ニトロフ
ェノール等が挙げられる。また、酸素原子が硫黄原子に
置換されたチオフェノール化合物も同様に例示すること
ができる。それらチオフェノール化合物は、上述の具体
例のフェノールをチオフェノールに書き換えることによ
って表される化合物（ナフトールの場合は、ナフトール
をナフチルチオールに書き換えることによって表される
化合物）等である。
【００３２】ハロゲン化カルボン酸としては、ペンタフ
ルオロベンゾイックアシッド、パーフルオロエタノイッ
クアシッド、パーフルオロプロパノイックアシッド、パ
ーフルオロブタノイックアシッド、パーフルオロペンタ
ノイックアシッド、パーフルオロヘキサノイックアシッ
ド、パーフルオロヘプタノイックアシッド、パーフルオ
ロオクタノイックアシッド、パーフルオロノナノイック
アシッド、パーフルオロデカノイックアシッド、パーフ
ルオロウンデカノイックアシッド、パーフルオロドデカ
ノイックアシッド等が挙げられる。
ルオロベンゾイックアシッド、パーフルオロエタノイッ
クアシッド、パーフルオロプロパノイックアシッド、パ
ーフルオロブタノイックアシッド、パーフルオロペンタ
ノイックアシッド、パーフルオロヘキサノイックアシッ
ド、パーフルオロヘプタノイックアシッド、パーフルオ
ロオクタノイックアシッド、パーフルオロノナノイック
アシッド、パーフルオロデカノイックアシッド、パーフ
ルオロウンデカノイックアシッド、パーフルオロドデカ
ノイックアシッド等が挙げられる。
【００３３】化合物（ｂ）として好ましくは、アミン類
としては、ビス（トリフルオロメチル）アミン、ビス
（２，２，２−トリフルオロエチル）アミン、ビス
（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）アミ
ン、ビス（２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオ
ロメチルエチル）アミン、ビス（１，１−ビス（トリフ
ルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル）ア
ミン、またはビス（ペンタフルオロフェニル）アミン、
アルコール類としては、トリフルオロメタノール、２，
２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロパノール、２，２，２−トリフル
オロ−１−トリフルオロメチルエタノール、または１，
１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフ
ルオロエタノール、フェノール類としては、２−フルオ
ロフェノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロ
フェノール、２，６−ジフルオロフェノール、３，５−
ジフルオロフェノール、２，４，６−トリフルオロフェ
ノール、ペンタフルオロフェノール、２−（トリフルオ
ロメチル）フェノール、３−（トリフルオロメチル）フ
ェノール、４−（トリフルオロメチル）フェノール、
２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェノール、３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェノールまたは２，
４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェノールであ
る。
としては、ビス（トリフルオロメチル）アミン、ビス
（２，２，２−トリフルオロエチル）アミン、ビス
（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル）アミ
ン、ビス（２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオ
ロメチルエチル）アミン、ビス（１，１−ビス（トリフ
ルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチル）ア
ミン、またはビス（ペンタフルオロフェニル）アミン、
アルコール類としては、トリフルオロメタノール、２，
２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３，３
−ペンタフルオロプロパノール、２，２，２−トリフル
オロ−１−トリフルオロメチルエタノール、または１，
１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフ
ルオロエタノール、フェノール類としては、２−フルオ
ロフェノール、３−フルオロフェノール、４−フルオロ
フェノール、２，６−ジフルオロフェノール、３，５−
ジフルオロフェノール、２，４，６−トリフルオロフェ
ノール、ペンタフルオロフェノール、２−（トリフルオ
ロメチル）フェノール、３−（トリフルオロメチル）フ
ェノール、４−（トリフルオロメチル）フェノール、
２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェノール、３，
５−ビス（トリフルオロメチル）フェノールまたは２，
４，６−トリス（トリフルオロメチル）フェノールであ
る。
【００３４】化合物（ｂ）としてより好ましくは、ビス
（トリフルオロメチル）アミン、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）アミン、トリフルオロメタノール、２，２，
２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエタノー
ル、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２
−トリフルオロエタノール、２−フルオロフェノール、
３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノール、
２，６−ジフルオロフェノール、３，５−ジフルオロフ
ェノール、２，４，６−トリフルオロフェノール、ペン
タフルオロフェノール、４−（トリフルオロメチル）フ
ェノール、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェノ
ール、または２，４，６−トリス（トリフルオロメチ
ル）フェノールであり、さらに好ましくは、３，５−ジ
フルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、また
は１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−
トリフルオロエタノールである。
（トリフルオロメチル）アミン、ビス（ペンタフルオロ
フェニル）アミン、トリフルオロメタノール、２，２，
２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチルエタノー
ル、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２
−トリフルオロエタノール、２−フルオロフェノール、
３−フルオロフェノール、４−フルオロフェノール、
２，６−ジフルオロフェノール、３，５−ジフルオロフ
ェノール、２，４，６−トリフルオロフェノール、ペン
タフルオロフェノール、４−（トリフルオロメチル）フ
ェノール、２，６−ビス（トリフルオロメチル）フェノ
ール、または２，４，６−トリス（トリフルオロメチ
ル）フェノールであり、さらに好ましくは、３，５−ジ
フルオロフェノール、ペンタフルオロフェノール、また
は１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，２，２−
トリフルオロエタノールである。
【００３５】化合物（ｃ）を具体的に例示すると、水、
硫化水素、アルキルアミン、アリールアミン、アラルキ
ルアミン、ハロゲン化アルキルアミン、ハロゲン化アリ
ールアミン、または（ハロゲン化アルキル）アリールア
ミンであり、さらに好ましくは、水、硫化水素、メチル
アミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｎ−
ペンチルアミン、ネオペンチルアミン、イソペンチルア
ミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−
デシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−ペンタデシル
アミン、ｎ−エイコシルアミン、アリルアミン、シクロ
ペンタジエニルアミン、アニリン、２−トリルアミン、
３−トリルアミン、４−トリルアミン、２，３−キシリ
ルアミン、２，４−キシリルアミン、２，５−キシリル
アミン、２，６−キシリルアミン、３，４−キシリルア
ミン、３，５−キシリルアミン、２，３，４−トリメチ
ルアニリン、２，３，５−トリメチルアニリン、２，
３，６−トリメチルアニリン、２，４，６−トリメチル
アニリン、３，４，５−トリメチルアニリン、２，３，
４，５−テトラメチルアニリン、２，３，４，６−テト
ラメチルアニリン、２，３，５，６−テトラメチルアニ
リン、ペンタメチルアニリン、エチルアニリン、ｎ−プ
ロピルアニリン、イソプロピルアニリン、ｎ−ブチルア
ニリン、ｓｅｃ−ブチルアニリン、ｔｅｒｔ−ブチルア
ニリン、ｎ−ペンチルアニリン、ネオペンチルアニリ
ン、ｎ−ヘキシルアニリン、ｎ−オクチルアニリン、ｎ
−デシルアニリン、ｎ−ドデシルアニリン、ｎ−テトラ
デシルアニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミ
ン、
硫化水素、アルキルアミン、アリールアミン、アラルキ
ルアミン、ハロゲン化アルキルアミン、ハロゲン化アリ
ールアミン、または（ハロゲン化アルキル）アリールア
ミンであり、さらに好ましくは、水、硫化水素、メチル
アミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、イソプロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｎ−
ペンチルアミン、ネオペンチルアミン、イソペンチルア
ミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−
デシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−ペンタデシル
アミン、ｎ−エイコシルアミン、アリルアミン、シクロ
ペンタジエニルアミン、アニリン、２−トリルアミン、
３−トリルアミン、４−トリルアミン、２，３−キシリ
ルアミン、２，４−キシリルアミン、２，５−キシリル
アミン、２，６−キシリルアミン、３，４−キシリルア
ミン、３，５−キシリルアミン、２，３，４−トリメチ
ルアニリン、２，３，５−トリメチルアニリン、２，
３，６−トリメチルアニリン、２，４，６−トリメチル
アニリン、３，４，５−トリメチルアニリン、２，３，
４，５−テトラメチルアニリン、２，３，４，６−テト
ラメチルアニリン、２，３，５，６−テトラメチルアニ
リン、ペンタメチルアニリン、エチルアニリン、ｎ−プ
ロピルアニリン、イソプロピルアニリン、ｎ−ブチルア
ニリン、ｓｅｃ−ブチルアニリン、ｔｅｒｔ−ブチルア
ニリン、ｎ−ペンチルアニリン、ネオペンチルアニリ
ン、ｎ−ヘキシルアニリン、ｎ−オクチルアニリン、ｎ
−デシルアニリン、ｎ−ドデシルアニリン、ｎ−テトラ
デシルアニリン、ナフチルアミン、アントラセニルアミ
ン、
【００３６】ベンジルアミン、（２−メチルフェニル）
メチルアミン、（３−メチルフェニル）メチルアミン、
（４−メチルフェニル）メチルアミン、（２，３−ジメ
チルフェニル）メチルアミン、（２，４−ジメチルフェ
ニル）メチルアミン、（２，５−ジメチルフェニル）メ
チルアミン、（２，６−ジメチルフェニル）メチルアミ
ン、（３，４−ジメチルフェニル）メチルアミン、
（３，５−ジメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，４−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，５−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、（３，
４，５−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチルアミン、
（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチルアミ
ン、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル
アミン、（ペンタメチルフェニル）メチルアミン、（エ
チルフェニル）メチルアミン、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メチルアミン、（イソプロピルフェニル）メチルア
ミン、（ｎ−ブチルフェニル）メチルアミン、（ｓｅｃ
−ブチルフェニル）メチルアミン、（ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）メチルアミン、（ｎ−ペンチルフェニル）メ
チルアミン、（ネオペンチルフェニル）メチルアミン、
（ｎ−ヘキシルフェニル）メチルアミン、（ｎ−オクチ
ルフェニル）メチルアミン、（ｎ−デシルフェニル）メ
チルアミン、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチルアミ
ン、ナフチルメチルアミン、アントラセニルメチルアミ
ン、フルオロメチルアミン、クロロメチルアミン、ブロ
モメチルアミン、ヨードメチルアミン、ジフルオロメチ
ルアミン、ジクロロメチルアミン、ジブロモメチルアミ
ン、ジヨードメチルアミン、トリフルオロメチルアミ
ン、トリクロロメチルアミン、トリブロモメチルアミ
ン、トリヨードメチルアミン、２，２，２−トリフルオ
ロエチルアミン、２，２，２−トリクロロエチルアミ
ン、２，２，２−トリブロモエチルアミン、２，２，２
−トリヨードエチルアミン、２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペン
タクロロプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペンタ
ブロモプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペンタヨ
ードプロピルアミン、２，２，２−トリフルオロ−１−
トリフルオロメチルエチルアミン、２，２，２−トリク
ロロ−１−トリクロロメチルエチルアミン、２，２，２
−トリブロモ−１−トリブロモメチルエチルアミン、
２，２，２−トリヨード−１−トリヨードメチルエチル
アミン、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチルアミン 、１，１−ビス
（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロエチル
アミン、１，１−ビス（トリブロモメチル）−２，２，
２−トリブロモエチルアミン、１，１−ビス（トリヨー
ドメチル）−２，２，２−トリヨードエチルアミン、
メチルアミン、（３−メチルフェニル）メチルアミン、
（４−メチルフェニル）メチルアミン、（２，３−ジメ
チルフェニル）メチルアミン、（２，４−ジメチルフェ
ニル）メチルアミン、（２，５−ジメチルフェニル）メ
チルアミン、（２，６−ジメチルフェニル）メチルアミ
ン、（３，４−ジメチルフェニル）メチルアミン、
（３，５−ジメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，４−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，５−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、（３，
４，５−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
４，６−トリメチルフェニル）メチルアミン、（２，
３，４，５−テトラメチルフェニル）メチルアミン、
（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチルアミ
ン、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル
アミン、（ペンタメチルフェニル）メチルアミン、（エ
チルフェニル）メチルアミン、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メチルアミン、（イソプロピルフェニル）メチルア
ミン、（ｎ−ブチルフェニル）メチルアミン、（ｓｅｃ
−ブチルフェニル）メチルアミン、（ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）メチルアミン、（ｎ−ペンチルフェニル）メ
チルアミン、（ネオペンチルフェニル）メチルアミン、
（ｎ−ヘキシルフェニル）メチルアミン、（ｎ−オクチ
ルフェニル）メチルアミン、（ｎ−デシルフェニル）メ
チルアミン、（ｎ−テトラデシルフェニル）メチルアミ
ン、ナフチルメチルアミン、アントラセニルメチルアミ
ン、フルオロメチルアミン、クロロメチルアミン、ブロ
モメチルアミン、ヨードメチルアミン、ジフルオロメチ
ルアミン、ジクロロメチルアミン、ジブロモメチルアミ
ン、ジヨードメチルアミン、トリフルオロメチルアミ
ン、トリクロロメチルアミン、トリブロモメチルアミ
ン、トリヨードメチルアミン、２，２，２−トリフルオ
ロエチルアミン、２，２，２−トリクロロエチルアミ
ン、２，２，２−トリブロモエチルアミン、２，２，２
−トリヨードエチルアミン、２，２，３，３，３−ペン
タフルオロプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペン
タクロロプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペンタ
ブロモプロピルアミン、２，２，３，３，３−ペンタヨ
ードプロピルアミン、２，２，２−トリフルオロ−１−
トリフルオロメチルエチルアミン、２，２，２−トリク
ロロ−１−トリクロロメチルエチルアミン、２，２，２
−トリブロモ−１−トリブロモメチルエチルアミン、
２，２，２−トリヨード−１−トリヨードメチルエチル
アミン、１，１−ビス（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチルアミン 、１，１−ビス
（トリクロロメチル）−２，２，２−トリクロロエチル
アミン、１，１−ビス（トリブロモメチル）−２，２，
２−トリブロモエチルアミン、１，１−ビス（トリヨー
ドメチル）−２，２，２−トリヨードエチルアミン、
【００３７】パーフルオロプロピルアミン、パークロロ
プロピルアミン、パーブロモプピルアミン、パーヨード
プロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パークロ
ロブチルアミン、パーブロモブチルアミン、パーヨード
ブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パークロ
ロペンチルアミン、パーブロモペンチルアミン、パーヨ
ードペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パ
ークロロヘキシルアミン、パーブロモヘキシルアミン、
パーヨードヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミ
ン、パークロロオクチルアミン、パーブロモオクチルア
ミン、パーヨードオクチルアミン、パーフルオロドデシ
ルアミン、パークロロドデシルアミン、パーブロモドデ
シルアミン、パーヨードドデシルアミン、パーフルオロ
ペンタデシルアミン、パークロロペンタデシルアミン、
パーブロモペンタデシルアミン、パーヨードペンタデシ
ルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、パークロロ
エイコシルアミン、パーブロモエイコシルアミン、パー
ヨードエイコシルアミン、
プロピルアミン、パーブロモプピルアミン、パーヨード
プロピルアミン、パーフルオロブチルアミン、パークロ
ロブチルアミン、パーブロモブチルアミン、パーヨード
ブチルアミン、パーフルオロペンチルアミン、パークロ
ロペンチルアミン、パーブロモペンチルアミン、パーヨ
ードペンチルアミン、パーフルオロヘキシルアミン、パ
ークロロヘキシルアミン、パーブロモヘキシルアミン、
パーヨードヘキシルアミン、パーフルオロオクチルアミ
ン、パークロロオクチルアミン、パーブロモオクチルア
ミン、パーヨードオクチルアミン、パーフルオロドデシ
ルアミン、パークロロドデシルアミン、パーブロモドデ
シルアミン、パーヨードドデシルアミン、パーフルオロ
ペンタデシルアミン、パークロロペンタデシルアミン、
パーブロモペンタデシルアミン、パーヨードペンタデシ
ルアミン、パーフルオロエイコシルアミン、パークロロ
エイコシルアミン、パーブロモエイコシルアミン、パー
ヨードエイコシルアミン、
【００３８】２−フルオロアニリン、３−フルオロアニ
リン、４−フルオロアニリン、２−クロロアニリン、３
−クロロアニリン、４−クロロアニリン、２−ブロモア
ニリン、３−ブロモアニリン、４−ブロモアニリン、２
−ヨードアニリン、３−ヨードアニリン、４−ヨードア
ニリン、２，６−ジフルオロアニリン、３，５−ジフル
オロアニリン、２，６−ジクロロアニリン、３，５−ジ
クロロアニリン、２，６−ジブロモアニリン、３，５−
ジブロモアニリン、２，６−ジヨードアニリン、３，５
−ジヨードアニリン、２，４，６−トリフルオロアニリ
ン、２，４，６−トリクロロアニリン、２，４，６−ト
リブロモアニリン、２，４，６−トリヨードアニリン、
ペンタフルオロアニリン、ペンタクロロアニリン、ペン
タブロモアニリン、ペンタヨードアニリン、２−（トリ
フルオロメチル）アニリン、３−（トリフルオロメチ
ル）アニリン、４−（トリフルオロメチル）アニリン、
２，６−ジ（トリフルオロメチル）アニリン、３，５−
ジ（トリフルオロメチル）アニリン、２，４，６−トリ
（トリフルオロメチル）アニリンが挙げられる。
リン、４−フルオロアニリン、２−クロロアニリン、３
−クロロアニリン、４−クロロアニリン、２−ブロモア
ニリン、３−ブロモアニリン、４−ブロモアニリン、２
−ヨードアニリン、３−ヨードアニリン、４−ヨードア
ニリン、２，６−ジフルオロアニリン、３，５−ジフル
オロアニリン、２，６−ジクロロアニリン、３，５−ジ
クロロアニリン、２，６−ジブロモアニリン、３，５−
ジブロモアニリン、２，６−ジヨードアニリン、３，５
−ジヨードアニリン、２，４，６−トリフルオロアニリ
ン、２，４，６−トリクロロアニリン、２，４，６−ト
リブロモアニリン、２，４，６−トリヨードアニリン、
ペンタフルオロアニリン、ペンタクロロアニリン、ペン
タブロモアニリン、ペンタヨードアニリン、２−（トリ
フルオロメチル）アニリン、３−（トリフルオロメチ
ル）アニリン、４−（トリフルオロメチル）アニリン、
２，６−ジ（トリフルオロメチル）アニリン、３，５−
ジ（トリフルオロメチル）アニリン、２，４，６−トリ
（トリフルオロメチル）アニリンが挙げられる。
【００３９】化合物（ｃ）として好ましくは、水、硫化
水素、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミ
ン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−
ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルア
ミン、ｎ−オクチルアミン、アニリン、２，６−キシリ
ルアミン、２，４，６−トリメチルアニリン、ナフチル
アミン、アントラセニルアミン、ベンジルアミン、トリ
フルオロメチルアミン、ペンタフルオロエチルアミン、
パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミ
ン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシ
ルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロ
ドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パ
ーフルオロエイコシルアミン、２−フルオロアニリン、
３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２，６
−ジフルオロアニリン、３，５−ジフルオロアニリン、
２，４，６−トリフルオロアニリン、ペンタフルオロア
ニリン、２−（トリフルオロメチル）アニリン、３−
（トリフルオロメチル）アニリン、４−（トリフルオロ
メチル）アニリン、２，６−ビス（トリフルオロメチ
ル）アニリン、３，５−ビス（トリフルオロメチル）ア
ニリンまたは２，４，６−トリス（トリフルオロメチ
ル）アニリンであり、特に好ましくは、水、トリフルオ
ロメチルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフル
オロオクチルアミン、パーフルオロペンタデシルアミ
ン、２−フルオロアニリン、３−フルオロアニリン、４
−フルオロアニリン、２，６−ジフルオロアニリン、
３，５−ジフルオロアニリン、２，４，６−トリフルオ
ロアニリン、ペンタフルオロアニリン、２−（トリフル
オロメチル）アニリン、３−（トリフルオロメチル）ア
ニリン、４−（トリフルオロメチル）アニリン、２，６
−ビス（トリフルオロメチル）アニリン、３，５−ビス
（トリフルオロメチル）アニリン、または２，４，６−
トリス（トリフルオロメチル）アニリンであり、もっと
も好ましくは水またはペンタフルオロアニリンである。
水素、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミ
ン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｓｅｃ−
ブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、イソブチルア
ミン、ｎ−オクチルアミン、アニリン、２，６−キシリ
ルアミン、２，４，６−トリメチルアニリン、ナフチル
アミン、アントラセニルアミン、ベンジルアミン、トリ
フルオロメチルアミン、ペンタフルオロエチルアミン、
パーフルオロプロピルアミン、パーフルオロブチルアミ
ン、パーフルオロペンチルアミン、パーフルオロヘキシ
ルアミン、パーフルオロオクチルアミン、パーフルオロ
ドデシルアミン、パーフルオロペンタデシルアミン、パ
ーフルオロエイコシルアミン、２−フルオロアニリン、
３−フルオロアニリン、４−フルオロアニリン、２，６
−ジフルオロアニリン、３，５−ジフルオロアニリン、
２，４，６−トリフルオロアニリン、ペンタフルオロア
ニリン、２−（トリフルオロメチル）アニリン、３−
（トリフルオロメチル）アニリン、４−（トリフルオロ
メチル）アニリン、２，６−ビス（トリフルオロメチ
ル）アニリン、３，５−ビス（トリフルオロメチル）ア
ニリンまたは２，４，６−トリス（トリフルオロメチ
ル）アニリンであり、特に好ましくは、水、トリフルオ
ロメチルアミン、パーフルオロブチルアミン、パーフル
オロオクチルアミン、パーフルオロペンタデシルアミ
ン、２−フルオロアニリン、３−フルオロアニリン、４
−フルオロアニリン、２，６−ジフルオロアニリン、
３，５−ジフルオロアニリン、２，４，６−トリフルオ
ロアニリン、ペンタフルオロアニリン、２−（トリフル
オロメチル）アニリン、３−（トリフルオロメチル）ア
ニリン、４−（トリフルオロメチル）アニリン、２，６
−ビス（トリフルオロメチル）アニリン、３，５−ビス
（トリフルオロメチル）アニリン、または２，４，６−
トリス（トリフルオロメチル）アニリンであり、もっと
も好ましくは水またはペンタフルオロアニリンである。
【００４０】粒子（ｄ）としては一般に担体として用い
られているものが好ましく使用され、粒径の整った、多
孔性の物質が好ましく、無機物質または有機ポリマーが
好適に使用され、無機物質がより好適に使用される。粒
子（ｄ）としては、得られるポリマーの粒径分布の観点
から、粒子（ｄ）の粒径の体積基準の幾何標準偏差とし
て好ましくは２．５以下、より好ましくは２．０以下、
さらに好ましくは１．７以下である。
られているものが好ましく使用され、粒径の整った、多
孔性の物質が好ましく、無機物質または有機ポリマーが
好適に使用され、無機物質がより好適に使用される。粒
子（ｄ）としては、得られるポリマーの粒径分布の観点
から、粒子（ｄ）の粒径の体積基準の幾何標準偏差とし
て好ましくは２．５以下、より好ましくは２．０以下、
さらに好ましくは１．７以下である。
【００４１】粒子（ｄ）として用いられ得る無機物質の
例としては、無機酸化物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物
等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわ
ない。無機酸化物の具体例としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ
3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ 2、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、Ｚｎ
Ｏ、ＢａＯ、ＴｈＯ2等、およびこれらの混合物、例え
ば、ＳｉＯ2−ＭｇＯ、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2−
ＴｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｖ2Ｏ 5、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2−ＴｉＯ2−ＭｇＯなどを例示することができる。こ
れらの無機酸化物の中では、ＳｉＯ2および／またはＡ
ｌ2Ｏ3が好ましく、特にＳｉＯ2（即ちシリカ）が好ま
しい。なお、上記無機酸化物には少量のＮａ2ＣＯ3、Ｋ
2ＣＯ3、ＣａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｎａ2ＳＯ4、Ａｌ
2（ＳＯ4）3、ＢａＳＯ4、ＫＮＯ3、Ｍｇ（ＮＯ3）2、
Ａｌ（ＮＯ3）3、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ等の炭酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわな
い。
例としては、無機酸化物等が挙げられ、粘土や粘土鉱物
等も使用可能である。これらは混合して用いてもかまわ
ない。無機酸化物の具体例としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ
3、ＭｇＯ、ＺｒＯ2、ＴｉＯ 2、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、Ｚｎ
Ｏ、ＢａＯ、ＴｈＯ2等、およびこれらの混合物、例え
ば、ＳｉＯ2−ＭｇＯ、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2−
ＴｉＯ2、ＳｉＯ2−Ｖ2Ｏ 5、ＳｉＯ2−Ｃｒ2Ｏ3、Ｓｉ
Ｏ2−ＴｉＯ2−ＭｇＯなどを例示することができる。こ
れらの無機酸化物の中では、ＳｉＯ2および／またはＡ
ｌ2Ｏ3が好ましく、特にＳｉＯ2（即ちシリカ）が好ま
しい。なお、上記無機酸化物には少量のＮａ2ＣＯ3、Ｋ
2ＣＯ3、ＣａＣＯ3、ＭｇＣＯ3、Ｎａ2ＳＯ4、Ａｌ
2（ＳＯ4）3、ＢａＳＯ4、ＫＮＯ3、Ｍｇ（ＮＯ3）2、
Ａｌ（ＮＯ3）3、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ等の炭酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、酸化物成分を含有してもかまわな
い。
【００４２】粘土または粘土鉱物としては、カオリン、
ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、
ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、
モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石
群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、デ
ィッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。これらの中
で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘク
トライト、ラポナイト、サポナイトであり、さらに好ま
しくはモンモリロナイト、ヘクトライトである。
ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、アロフェン、
ヒシンゲル石、バイロフィライト、タルク、ウンモ群、
モンモリロナイト群、バーミキュライト、リョクデイ石
群、パリゴルスカイト、カオリナイト、ナクライト、デ
ィッカイト、ハロイサイト等が挙げられる。これらの中
で好ましくは、スメクタイト、モンモリロナイト、ヘク
トライト、ラポナイト、サポナイトであり、さらに好ま
しくはモンモリロナイト、ヘクトライトである。
【００４３】これらの無機物質のうちでは、無機酸化物
が好適に用いられる。これらの無機物質は、乾燥し実質
的に水分が除去されていることが好ましく、加熱処理に
より乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視
で水分を確認できない無機物質について温度１００〜
１，５００℃で、好ましくは１００〜１，０００℃で、
さらに好ましくは２００〜８００℃で実施される。その
加熱時間は特に限定されるものではないが、好ましくは
１０分間〜５０時間、より好ましくは１時間〜３０時間
である。さらに加熱中、例えば、乾燥した不活性ガス
（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で流通
させる方法、あるいは、減圧する方法等も挙げられる
が、その方法に限定されるものではない。
が好適に用いられる。これらの無機物質は、乾燥し実質
的に水分が除去されていることが好ましく、加熱処理に
より乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視
で水分を確認できない無機物質について温度１００〜
１，５００℃で、好ましくは１００〜１，０００℃で、
さらに好ましくは２００〜８００℃で実施される。その
加熱時間は特に限定されるものではないが、好ましくは
１０分間〜５０時間、より好ましくは１時間〜３０時間
である。さらに加熱中、例えば、乾燥した不活性ガス
（例えば、窒素またはアルゴン等）を一定の流速で流通
させる方法、あるいは、減圧する方法等も挙げられる
が、その方法に限定されるものではない。
【００４４】また、無機酸化物には通常、表面に水酸基
が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面
水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸
化物を使用しても良い。この際の置換基はシリル基が好
ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチル
クロロシラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン
等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシ
ラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジク
ロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリ
クロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニル
トリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリ
メチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラ
ン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアル
コシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキ
ルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等
のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、
テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、
１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン等の
アルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処
理した無機酸化物が挙げられる。
が生成し存在しているが、無機酸化物としてはその表面
水酸基の活性水素を種々の置換基で置換した改質無機酸
化物を使用しても良い。この際の置換基はシリル基が好
ましい。改質無機酸化物として具体的には、トリメチル
クロロシラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラン
等のトリアルキルクロロシラン、トリフェニルクロロシ
ラン等のトリアリールクロロシラン、ジメチルジクロロ
シラン等のジアルキルジクロロシラン、ジフェニルジク
ロロシラン等のジアリールジクロロシラン、メチルトリ
クロロシラン等のアルキルトリクロロシラン、フェニル
トリクロロシラン等のアリールトリクロロシラン、トリ
メチルメトキシシラン等のトリアルキルアルコキシシラ
ン、トリフェニルメトキシシラン等のトリアリールアル
コシキシラン、ジメチルジメトキシシラン等のジアルキ
ルジアルコキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等
のジアリールジアルコキシシラン、メチルトリメトキシ
シラン等のアルキルトリアルコキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン、
テトラメトキシシラン等のテトラアルコキシシラン、
１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン等の
アルキルジシラザン、テトラクロロシランなどと接触処
理した無機酸化物が挙げられる。
【００４５】無機物質の平均粒子径として好ましくは、
５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５００
μｍ、さらに好ましくは１０〜１００μｍである。細孔
容量として好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上、より好まし
くは０．３〜１０ｍｌ／ｇである。比表面積として好ま
しくは、１０〜１０００ｍ2／ｇ、より好ましくは１０
０〜５００ｍ2／ｇである。
５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５００
μｍ、さらに好ましくは１０〜１００μｍである。細孔
容量として好ましくは０．１ｍｌ／ｇ以上、より好まし
くは０．３〜１０ｍｌ／ｇである。比表面積として好ま
しくは、１０〜１０００ｍ2／ｇ、より好ましくは１０
０〜５００ｍ2／ｇである。
【００４６】粒子（ｄ）として用いられ得る有機ポリマ
ーとしては、どの有機ポリマーを用いても良く、また複
数種の有機ポリマーを混合物として用いても構わない。
有機ポリマーとしては、活性水素を有する官能基もしく
は非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する重合
体が好ましい。
ーとしては、どの有機ポリマーを用いても良く、また複
数種の有機ポリマーを混合物として用いても構わない。
有機ポリマーとしては、活性水素を有する官能基もしく
は非プロトン供与性のルイス塩基性官能基を有する重合
体が好ましい。
【００４７】活性水素を有する官能基としては、活性水
素を有していれば特に制限はなく、具体例としては１級
アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラ
ジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ
基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、ス
ルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオー
ル基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、
ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙
げられる。好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、
イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミ
ル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基
である。特に好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ
基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これら
の基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０の炭化水素基
で置換されていてもよい。
素を有していれば特に制限はなく、具体例としては１級
アミノ基、２級アミノ基、イミノ基、アミド基、ヒドラ
ジド基、アミジノ基、ヒドロキシ基、ヒドロペルオキシ
基、カルボキシル基、ホルミル基、カルバモイル基、ス
ルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、チオー
ル基、チオホルミル基、ピロリル基、イミダゾリル基、
ピペリジル基、インダゾリル基、カルバゾリル基等が挙
げられる。好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ基、
イミノ基、アミド基、イミド基、ヒドロキシ基、ホルミ
ル基、カルボキシル基、スルホン酸基またはチオール基
である。特に好ましくは、１級アミノ基、２級アミノ
基、アミド基またはヒドロキシ基である。なお、これら
の基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０の炭化水素基
で置換されていてもよい。
【００４８】非プロトン供与性のルイス塩基性官能基と
しては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有す
る官能基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリ
ジル基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリ
ル基、ニトリル基、アジド基、Ｎ−置換イミノ基、Ｎ，
Ｎ−置換アミノ基、Ｎ，Ｎ−置換アミノオキシ基、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニ
トロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニ
ル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、
Ｎ，Ｎ−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換
スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基
等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに
好ましくは、酸素原子および／または窒素原子を環内に
有する芳香族複素環基である。特に好ましくは、ピリジ
ル基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリル
基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、こ
れらの基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０の炭化水
素基で置換されていてもよい。
しては、活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有す
る官能基であれば特に制限はなく、具体例としてはピリ
ジル基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリ
ル基、ニトリル基、アジド基、Ｎ−置換イミノ基、Ｎ，
Ｎ−置換アミノ基、Ｎ，Ｎ−置換アミノオキシ基、Ｎ，
Ｎ，Ｎ−置換ヒドラジノ基、ニトロソ基、ニトロ基、ニ
トロオキシ基、フリル基、カルボニル基、チオカルボニ
ル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、
Ｎ，Ｎ−置換カルバモイル基、チオアルコキシ基、置換
スルフィニル基、置換スルホニル基、置換スルホン酸基
等が挙げられる。好ましくは、複素環基であり、さらに
好ましくは、酸素原子および／または窒素原子を環内に
有する芳香族複素環基である。特に好ましくは、ピリジ
ル基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリル
基であり、最も好ましくはピリジル基である。なお、こ
れらの基はハロゲン原子や炭素原子数１〜２０の炭化水
素基で置換されていてもよい。
【００４９】かかる活性水素を有する官能基もしくは非
プロトン供与性のルイス塩基性官能基の量は特に限定さ
れないが、好ましくは、重合体の単位グラム当りの官能
基のモル量として０．０１〜５０ｍｍｏｌ／ｇであり、
より好ましくは０．１〜２０ｍｍｏｌ／ｇである。
プロトン供与性のルイス塩基性官能基の量は特に限定さ
れないが、好ましくは、重合体の単位グラム当りの官能
基のモル量として０．０１〜５０ｍｍｏｌ／ｇであり、
より好ましくは０．１〜２０ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５０】かかる官能基を有する重合体は、例えば、
活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のル
イス塩基性官能基と１個以上の重合性不飽和基とを有す
るモノマーを単独重合することにより、またはこれと重
合性不飽和基を有する他のモノマーとを共重合すること
により得ることができる。このときさらに２個以上の重
合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーをもいっしょ
に共重合することが好ましい。
活性水素を有する官能基もしくは非プロトン供与性のル
イス塩基性官能基と１個以上の重合性不飽和基とを有す
るモノマーを単独重合することにより、またはこれと重
合性不飽和基を有する他のモノマーとを共重合すること
により得ることができる。このときさらに２個以上の重
合性不飽和基を有する架橋重合性モノマーをもいっしょ
に共重合することが好ましい。
【００５１】かかる活性水素を有する官能基もしくは非
プロトン供与性のルイス塩基性官能基と１個以上の重合
性不飽和基を有するモノマーとしては、上記の活性水素
を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基を有するモ
ノマー、あるいは、上記の活性水素原子を有しないルイ
ス塩基部分を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基
を有するモノマーを挙げることができる。かかる重合性
不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケ
ニル基、エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。活
性水素を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基を有
するモノマーの例としては、ビニル基含有１級アミン、
ビニル基含有２級アミン、ビニル基含有アミド化合物、
ビニル基含有ヒドロキシ化合物を挙げることができる。
具体例としては、Ｎ−（１−エテニル）アミン、Ｎ−
（２−プロペニル）アミン、Ｎ−（１−エテニル）−Ｎ
−メチルアミン、Ｎ−（２−プロペニル）−Ｎ−メチル
アミン、１−エテニルアミド、２−プロペニルアミド、
Ｎ−メチル−（１−エテニル）アミド、Ｎ−メチル−
（２−プロペニル）アミド、ビニルアルコール、２−プ
ロペン−１−オール、３−ブテン−１−オール等が挙げ
られる。活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有す
る官能基と１個以上の重合性不飽和基を有するモノマー
の具体例としては、ビニルピリジン、ビニル（Ｎ−置
換）イミダゾール、ビニル（Ｎ−置換）インダゾールを
挙げることができる。
プロトン供与性のルイス塩基性官能基と１個以上の重合
性不飽和基を有するモノマーとしては、上記の活性水素
を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基を有するモ
ノマー、あるいは、上記の活性水素原子を有しないルイ
ス塩基部分を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基
を有するモノマーを挙げることができる。かかる重合性
不飽和基の例としては、ビニル基、アリル基等のアルケ
ニル基、エチン基等のアルキニル基等が挙げられる。活
性水素を有する官能基と１個以上の重合性不飽和基を有
するモノマーの例としては、ビニル基含有１級アミン、
ビニル基含有２級アミン、ビニル基含有アミド化合物、
ビニル基含有ヒドロキシ化合物を挙げることができる。
具体例としては、Ｎ−（１−エテニル）アミン、Ｎ−
（２−プロペニル）アミン、Ｎ−（１−エテニル）−Ｎ
−メチルアミン、Ｎ−（２−プロペニル）−Ｎ−メチル
アミン、１−エテニルアミド、２−プロペニルアミド、
Ｎ−メチル−（１−エテニル）アミド、Ｎ−メチル−
（２−プロペニル）アミド、ビニルアルコール、２−プ
ロペン−１−オール、３−ブテン−１−オール等が挙げ
られる。活性水素原子を有しないルイス塩基部分を有す
る官能基と１個以上の重合性不飽和基を有するモノマー
の具体例としては、ビニルピリジン、ビニル（Ｎ−置
換）イミダゾール、ビニル（Ｎ−置換）インダゾールを
挙げることができる。
【００５２】重合性不飽和基を有する他のモノマーとし
ては、エチレン、α−オレフィン、芳香族ビニル化合物
等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペン
テン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレン
またはスチレンである。これらのモノマーは２種以上を
用いても良い。また、２個以上の重合性不飽和基を有す
る架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベン
ゼン等が挙げられる。
ては、エチレン、α−オレフィン、芳香族ビニル化合物
等が例示され、具体例としては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペン
テン、スチレンなどが挙げられる。好ましくはエチレン
またはスチレンである。これらのモノマーは２種以上を
用いても良い。また、２個以上の重合性不飽和基を有す
る架橋重合性モノマーの具体例としては、ジビニルベン
ゼン等が挙げられる。
【００５３】有機ポリマーの平均粒子径として好ましく
は、５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５
００μｍである。細孔容量として好ましくは、０．１ｍ
ｌ／ｇ以上、より好ましくは０．３〜１０ｍｌ／ｇであ
る。比表面積として好ましくは、１０〜１０００ｍ2／
ｇ、より好ましくは５０〜５００ｍ2／ｇである。
は、５〜１０００μｍであり、より好ましくは１０〜５
００μｍである。細孔容量として好ましくは、０．１ｍ
ｌ／ｇ以上、より好ましくは０．３〜１０ｍｌ／ｇであ
る。比表面積として好ましくは、１０〜１０００ｍ2／
ｇ、より好ましくは５０〜５００ｍ2／ｇである。
【００５４】これらの有機ポリマーは、乾燥し実質的に
水分が除去されていることが好ましく、加熱処理により
乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視で水
分を確認できない有機ポリマーについて温度３０〜４０
０℃で、好ましくは５０〜２００℃で、さらに好ましく
は７０〜１５０℃で実施される。その加熱時間は特に限
定されるものではないが、好ましくは１０分間〜５０時
間、より好ましくは１時間〜３０時間である。さらに加
熱中、例えば、乾燥した不活性ガス（例えば、窒素また
はアルゴン等）を一定の流速で流通させる方法、あるい
は、減圧する方法等も挙げられるが、その方法に限定さ
れるものではない。
水分が除去されていることが好ましく、加熱処理により
乾燥させたものが好ましい。加熱処理は通常、目視で水
分を確認できない有機ポリマーについて温度３０〜４０
０℃で、好ましくは５０〜２００℃で、さらに好ましく
は７０〜１５０℃で実施される。その加熱時間は特に限
定されるものではないが、好ましくは１０分間〜５０時
間、より好ましくは１時間〜３０時間である。さらに加
熱中、例えば、乾燥した不活性ガス（例えば、窒素また
はアルゴン等）を一定の流速で流通させる方法、あるい
は、減圧する方法等も挙げられるが、その方法に限定さ
れるものではない。
【００５５】本発明の改質された粒子は、上記の
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を接触させて得ら
れる改質された粒子である。（ａ）、（ｂ）、（ｃ）お
よび（ｄ）を接触させる順序としては特に限定されるこ
とはなく、以下の順序等が挙げられる。 ＜１＞（ａ）と（ｂ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜２＞（ａ）と（ｂ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜３＞（ａ）と（ｃ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜４＞（ａ）と（ｃ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜５＞（ａ）と（ｄ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜６＞（ａ）と（ｄ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜７＞（ｂ）と（ｃ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜８＞（ｂ）と（ｃ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 ＜９＞（ｂ）と（ｄ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜10＞（ｂ）と（ｄ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 ＜11＞（ｃ）と（ｄ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜12＞（ｃ）と（ｄ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 接触順序として好ましくは上記の＜１＞、＜２＞、＜３
＞、＜11＞または＜12＞である。
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を接触させて得ら
れる改質された粒子である。（ａ）、（ｂ）、（ｃ）お
よび（ｄ）を接触させる順序としては特に限定されるこ
とはなく、以下の順序等が挙げられる。 ＜１＞（ａ）と（ｂ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜２＞（ａ）と（ｂ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜３＞（ａ）と（ｃ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜４＞（ａ）と（ｃ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜５＞（ａ）と（ｄ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜６＞（ａ）と（ｄ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜７＞（ｂ）と（ｃ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｄ）とを接触させる。 ＜８＞（ｂ）と（ｃ）との接触物と、（ｄ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 ＜９＞（ｂ）と（ｄ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｃ）とを接触させる。 ＜10＞（ｂ）と（ｄ）との接触物と、（ｃ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 ＜11＞（ｃ）と（ｄ）との接触物と、（ａ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ｂ）とを接触させる。 ＜12＞（ｃ）と（ｄ）との接触物と、（ｂ）とを接触さ
せて得られる接触物と（ａ）とを接触させる。 接触順序として好ましくは上記の＜１＞、＜２＞、＜３
＞、＜11＞または＜12＞である。
【００５６】このような接触処理は不活性気体雰囲気下
で実施するのが好ましい。処理温度は通常−１００〜３
００℃であり、好ましくは−８０〜２００℃である。処
理時間は通常１分間〜２００時間であり、好ましくは１
０分間〜１００時間である。また、このような処理は溶
媒を用いてもよく、用いることなくこれらの化合物を直
接処理してもよい。
で実施するのが好ましい。処理温度は通常−１００〜３
００℃であり、好ましくは−８０〜２００℃である。処
理時間は通常１分間〜２００時間であり、好ましくは１
０分間〜１００時間である。また、このような処理は溶
媒を用いてもよく、用いることなくこれらの化合物を直
接処理してもよい。
【００５７】溶媒としては、その溶媒を使用するときに
接触させる成分のそれぞれや接触させて得られる接触物
と反応しない溶媒が通常用いられる。上述のように、段
階的に各成分を接触させる場合には、例えば上記（ａ）
と反応するような溶媒であっても、上記（ａ）と他の成
分とが接触して得られた接触物はもはや該溶媒とは反応
しないときがあり、そのようなときには、該接触物をひ
とつの成分とする接触操作の際の溶媒として該溶媒を用
いることができる。以下に溶媒を例示するが、このよう
に適宜使い分ければよい。使用され得る溶媒を例示する
と、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒などの非
極性溶媒、またはハロゲン化物溶媒、エーテル系溶媒、
アルコール系溶媒、フェノール系溶媒、カルボニル系溶
媒、リン酸誘導体、ニトリル系溶媒、ニトロ化合物、ア
ミン系溶媒、硫黄化合物などの極性溶媒が挙げられる。
具体例としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、２，２，４−トリメチルペンタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタ
ン、ジフルオロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２−トリ
クロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、テトラクロ
ロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化物溶媒、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−
ｎ−ブチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチル−エー
テル、アニソール、１，４−ジオキサン、１，２−ジメ
トキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル
系溶媒、メタノール、エタノール、１−プロパノール、
２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、
２−メチル−１−プロパノール、３−メチル−１−ブタ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、２−メトキ
シエタノール、２−エトキシエタノール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、グリセリン等のア
ルコール系溶媒、フェノール、ｐ−クレゾール等のフェ
ノール系溶媒、アセトン、エチルメチルケトン、シクロ
ヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
エチレン、炭酸プロピレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン等のカルボニル系溶媒、ヘキサメチルリン
酸トリアミド、リン酸トリエチル等のリン酸誘導体、ア
セトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、
ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニ
トロベンゼン等のニトロ化合物、ピリジン、ピペリジ
ン、モルホリン等のアミン系溶媒、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物が挙げられる。
接触させる成分のそれぞれや接触させて得られる接触物
と反応しない溶媒が通常用いられる。上述のように、段
階的に各成分を接触させる場合には、例えば上記（ａ）
と反応するような溶媒であっても、上記（ａ）と他の成
分とが接触して得られた接触物はもはや該溶媒とは反応
しないときがあり、そのようなときには、該接触物をひ
とつの成分とする接触操作の際の溶媒として該溶媒を用
いることができる。以下に溶媒を例示するが、このよう
に適宜使い分ければよい。使用され得る溶媒を例示する
と、脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒などの非
極性溶媒、またはハロゲン化物溶媒、エーテル系溶媒、
アルコール系溶媒、フェノール系溶媒、カルボニル系溶
媒、リン酸誘導体、ニトリル系溶媒、ニトロ化合物、ア
ミン系溶媒、硫黄化合物などの極性溶媒が挙げられる。
具体例としてはブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、２，２，４−トリメチルペンタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジクロロメタ
ン、ジフルオロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロ
ロエタン、１，２−ジブロモエタン、１，１，２−トリ
クロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、テトラクロ
ロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジ
クロロベンゼン等のハロゲン化物溶媒、ジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−
ｎ−ブチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチル−エー
テル、アニソール、１，４−ジオキサン、１，２−ジメ
トキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、
テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン等のエーテル
系溶媒、メタノール、エタノール、１−プロパノール、
２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、
２−メチル−１−プロパノール、３−メチル−１−ブタ
ノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、２−メトキ
シエタノール、２−エトキシエタノール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、グリセリン等のア
ルコール系溶媒、フェノール、ｐ−クレゾール等のフェ
ノール系溶媒、アセトン、エチルメチルケトン、シクロ
ヘキサノン、無水酢酸、酢酸エチル、酢酸ブチル、炭酸
エチレン、炭酸プロピレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン等のカルボニル系溶媒、ヘキサメチルリン
酸トリアミド、リン酸トリエチル等のリン酸誘導体、ア
セトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、
ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロメタン、ニ
トロベンゼン等のニトロ化合物、ピリジン、ピペリジ
ン、モルホリン等のアミン系溶媒、ジメチルスルホキシ
ド、スルホラン等の硫黄化合物が挙げられる。
【００５８】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を接触させて
得られる接触物（ｅ）と、粒子（ｄ）とを接触させる場
合、つまり上記の＜１＞、＜３＞、＜７＞の場合におい
て、接触物（ｅ）を製造する際の溶媒（ｓ１）として
は、上記の脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒ま
たはエーテル系溶媒が好ましい。
得られる接触物（ｅ）と、粒子（ｄ）とを接触させる場
合、つまり上記の＜１＞、＜３＞、＜７＞の場合におい
て、接触物（ｅ）を製造する際の溶媒（ｓ１）として
は、上記の脂肪族炭化水素溶媒、芳香族炭化水素溶媒ま
たはエーテル系溶媒が好ましい。
【００５９】一方、接触物（ｅ）と粒子（ｄ）とを接触
させる際の溶媒（ｓ２）としては極性溶媒が好ましい。
溶媒の極性を表す指標としては、ＥT N値（Ｃ．Ｒｅｉｃ
ｈａｒｄｔ，“Ｓｏｌｖｅｎｔｓ ａｎｄ Ｓｏｌｖｅ
ｎｔｓ Ｅｆｆｅｃｔｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ”， ２ｎｄ ｅｄ．， ＶＣＨ Ｖｅ
ｒｌａｇ （１９８８）．）等が知られており、０．８
≧ＥT N≧０．１を満足する溶媒が特に好ましい。かかる
極性溶媒を例示するとジクロロメタン、ジクロロジフル
オロメタンクロロホルム、１，２−ジクロロエタン、
１，２−ジブロモエタン、１，１，２−トリクロロ−
１，２，２−トリフルオロエタン、テトラクロロエチレ
ン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジクロロベ
ンゼン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、メチル−
ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、１，４−ジオ
キサン、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキ
シエチル）エーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒド
ロピラン、メタノール、エタノール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、２−メチル−１−プロパノール、３−メチル−１−
ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、２−
メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、アセトン、
エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢
酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル、アセトニト
リル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニ
トリル、ニトロメタン、ニトロベンゼン、エチレンジア
ミン、ピリジン、ピペリジン、モルホリン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン等が挙げられる。溶媒（ｓ２）
としてさらに好ましくはジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエー
テル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソー
ル、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
ビス（２−メトキシエチル）エーテル、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、
１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノー
ル、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、
３−メチル−１−ブタノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレング
リコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリ
コールであり、特に好ましくはジ−ｎ−ブチルエーテ
ル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノ
ール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノー
ル、３−メチル−１−ブタノールまたはシクロヘキサノ
ールであり、最も好ましくはテトラヒドロフラン、メタ
ノール、エタノール、１−プロパノールまたは２−プロ
パノールである。
させる際の溶媒（ｓ２）としては極性溶媒が好ましい。
溶媒の極性を表す指標としては、ＥT N値（Ｃ．Ｒｅｉｃ
ｈａｒｄｔ，“Ｓｏｌｖｅｎｔｓ ａｎｄ Ｓｏｌｖｅ
ｎｔｓ Ｅｆｆｅｃｔｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ”， ２ｎｄ ｅｄ．， ＶＣＨ Ｖｅ
ｒｌａｇ （１９８８）．）等が知られており、０．８
≧ＥT N≧０．１を満足する溶媒が特に好ましい。かかる
極性溶媒を例示するとジクロロメタン、ジクロロジフル
オロメタンクロロホルム、１，２−ジクロロエタン、
１，２−ジブロモエタン、１，１，２−トリクロロ−
１，２，２−トリフルオロエタン、テトラクロロエチレ
ン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、ｏ−ジクロロベ
ンゼン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、メチル−
ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソール、１，４−ジオ
キサン、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキ
シエチル）エーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒド
ロピラン、メタノール、エタノール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノー
ル、２−メチル−１−プロパノール、３−メチル−１−
ブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコー
ル、エチレングリコール、プロピレングリコール、２−
メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、アセトン、
エチルメチルケトン、シクロヘキサノン、無水酢酸、酢
酸エチル、酢酸ブチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド、リン酸トリエチル、アセトニト
リル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニ
トリル、ニトロメタン、ニトロベンゼン、エチレンジア
ミン、ピリジン、ピペリジン、モルホリン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン等が挙げられる。溶媒（ｓ２）
としてさらに好ましくはジメチルエーテル、ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエー
テル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、アニソー
ル、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
ビス（２−メトキシエチル）エーテル、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロピラン、メタノール、エタノール、
１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノー
ル、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、
３−メチル−１−ブタノール、シクロヘキサノール、ベ
ンジルアルコール、エチレングリコール、プロピレング
リコール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリ
コールであり、特に好ましくはジ−ｎ−ブチルエーテ
ル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、１，４−ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノー
ル、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノ
ール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノー
ル、３−メチル−１−ブタノールまたはシクロヘキサノ
ールであり、最も好ましくはテトラヒドロフラン、メタ
ノール、エタノール、１−プロパノールまたは２−プロ
パノールである。
【００６０】また、前記溶媒（ｓ２）としては、これら
極性溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒を用いることもで
きる。炭化水素溶媒としては上に例示した脂肪族炭化水
素溶媒や芳香族炭化水素溶媒が用いられる。極性溶媒と
炭化水素溶媒との混合溶媒を具体的に例示すると、ヘキ
サン／メタノール混合溶媒、ヘキサン／エタノール混合
溶媒、ヘキサン／１−プロパノール混合溶媒、ヘキサン
／２−プロパノール混合溶媒、ヘプタン／メタノール混
合溶媒、ヘプタン／エタノール混合溶媒、ヘプタン／１
−プロパノール混合溶媒、ヘプタン／２−プロパノール
混合溶媒、トルエン／メタノール混合溶媒、トルエン／
エタノール混合溶媒、トルエン／１−プロパノール混合
溶媒、トルエン／２−プロパノール混合溶媒、キシレン
／メタノール混合溶媒、キシレン／エタノール混合溶
媒、キシレン／１−プロパノール混合溶媒、キシレン／
２−プロパノール混合溶媒等を例示することができる。
好ましくはヘキサン／メタノール混合溶媒、ヘキサン／
エタノール混合溶媒、ヘプタン／メタノール混合溶媒、
ヘプタン／エタノール混合溶媒、トルエン／メタノール
混合溶媒、トルエン／エタノール混合溶媒、キシレン／
メタノール混合溶媒、キシレン／エタノール混合溶媒で
ある。さらに好ましくはヘキサン／メタノール混合溶
媒、ヘキサン／エタノール混合溶媒、トルエン／メタノ
ール混合溶媒またはトルエン／エタノール混合溶媒であ
る。最も好ましくはトルエン／エタノール混合溶媒であ
る。トルエン／エタノール混合溶媒における、エタノー
ル分率の好ましい範囲は１０〜５０体積％であり、さら
に好ましくは１５〜３０体積％である。
極性溶媒と炭化水素溶媒との混合溶媒を用いることもで
きる。炭化水素溶媒としては上に例示した脂肪族炭化水
素溶媒や芳香族炭化水素溶媒が用いられる。極性溶媒と
炭化水素溶媒との混合溶媒を具体的に例示すると、ヘキ
サン／メタノール混合溶媒、ヘキサン／エタノール混合
溶媒、ヘキサン／１−プロパノール混合溶媒、ヘキサン
／２−プロパノール混合溶媒、ヘプタン／メタノール混
合溶媒、ヘプタン／エタノール混合溶媒、ヘプタン／１
−プロパノール混合溶媒、ヘプタン／２−プロパノール
混合溶媒、トルエン／メタノール混合溶媒、トルエン／
エタノール混合溶媒、トルエン／１−プロパノール混合
溶媒、トルエン／２−プロパノール混合溶媒、キシレン
／メタノール混合溶媒、キシレン／エタノール混合溶
媒、キシレン／１−プロパノール混合溶媒、キシレン／
２−プロパノール混合溶媒等を例示することができる。
好ましくはヘキサン／メタノール混合溶媒、ヘキサン／
エタノール混合溶媒、ヘプタン／メタノール混合溶媒、
ヘプタン／エタノール混合溶媒、トルエン／メタノール
混合溶媒、トルエン／エタノール混合溶媒、キシレン／
メタノール混合溶媒、キシレン／エタノール混合溶媒で
ある。さらに好ましくはヘキサン／メタノール混合溶
媒、ヘキサン／エタノール混合溶媒、トルエン／メタノ
ール混合溶媒またはトルエン／エタノール混合溶媒であ
る。最も好ましくはトルエン／エタノール混合溶媒であ
る。トルエン／エタノール混合溶媒における、エタノー
ル分率の好ましい範囲は１０〜５０体積％であり、さら
に好ましくは１５〜３０体積％である。
【００６１】（ａ）、（ｂ）および（ｃ）を接触させて
得られる接触物（ｅ）と、（ｄ）とを接触させる方法、
つまり上記の＜１＞、＜３＞、＜７＞の場合において、
溶媒（ｓ１）および溶媒（ｓ２）として、共に炭化水素
溶媒を用いることもできるが、この場合（ａ）、（ｂ）
および（ｃ）を接触させた後、得られた接触物（ｅ）と
粒子（ｄ）とを接触させるまでの時間間隔は短い方が好
ましい。時間間隔として好ましくは０〜５時間であり、
さらに好ましくは０〜３時間であり、最も好ましくは０
〜１時間である。また、接触物（ｅ）と粒子（ｄ）とを
接触させる際の温度は、通常−１００℃〜４０℃であ
り、好ましくは−２０℃〜２０℃であり、最も好ましく
は−１０℃〜１０℃である。
得られる接触物（ｅ）と、（ｄ）とを接触させる方法、
つまり上記の＜１＞、＜３＞、＜７＞の場合において、
溶媒（ｓ１）および溶媒（ｓ２）として、共に炭化水素
溶媒を用いることもできるが、この場合（ａ）、（ｂ）
および（ｃ）を接触させた後、得られた接触物（ｅ）と
粒子（ｄ）とを接触させるまでの時間間隔は短い方が好
ましい。時間間隔として好ましくは０〜５時間であり、
さらに好ましくは０〜３時間であり、最も好ましくは０
〜１時間である。また、接触物（ｅ）と粒子（ｄ）とを
接触させる際の温度は、通常−１００℃〜４０℃であ
り、好ましくは−２０℃〜２０℃であり、最も好ましく
は−１０℃〜１０℃である。
【００６２】上記の＜２＞、＜５＞、＜６＞、＜８＞、
＜９＞、＜10＞、＜11＞、＜12＞の場合、上記の非極性
溶媒、極性溶媒いずれも使用することができるが、非極
性溶媒がより好ましい。というのも、（ａ）と（ｃ）と
の接触物や、（ａ）と（ｂ）との接触物と（ｃ）とが接
触した接触物は一般的に非極性溶媒に対し溶解性が低い
ので、これら接触物が生成する時に反応系内に（ｄ）が
存在する場合、生成した接触物が非極性溶媒中に存在す
るより（ｄ）の表面に析出する方が安定であるため、よ
り固定化されやすくなると考えられるため好ましい。
＜９＞、＜10＞、＜11＞、＜12＞の場合、上記の非極性
溶媒、極性溶媒いずれも使用することができるが、非極
性溶媒がより好ましい。というのも、（ａ）と（ｃ）と
の接触物や、（ａ）と（ｂ）との接触物と（ｃ）とが接
触した接触物は一般的に非極性溶媒に対し溶解性が低い
ので、これら接触物が生成する時に反応系内に（ｄ）が
存在する場合、生成した接触物が非極性溶媒中に存在す
るより（ｄ）の表面に析出する方が安定であるため、よ
り固定化されやすくなると考えられるため好ましい。
【００６３】上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）各化合物の使
用量は特に制限はないが、各化合物の使用量のモル比率
を（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１：ｙ：ｚのモル比率とす
ると、ｙおよびｚが下記式（１）を実質的に満足するこ
とが好ましい。 ｜ｍ−ｙ−２ｚ｜≦１ （１） （上記式（１）において、ｍはＭ1 の原子価を表す。） 上記式（１）におけるｙとして好ましくは０．０１〜
１．９９の数であり、より好ましくは０．１０〜１．８
０の数であり、さらに好ましくは０．２０〜１．５０の
数であり、最も好ましくは０．３０〜１．００の数であ
り、また上記式（１）におけるｚの同様の好ましい範囲
は、ｍ、ｙおよび上記式（１）によって決定される。
用量は特に制限はないが、各化合物の使用量のモル比率
を（ａ）：（ｂ）：（ｃ）＝１：ｙ：ｚのモル比率とす
ると、ｙおよびｚが下記式（１）を実質的に満足するこ
とが好ましい。 ｜ｍ−ｙ−２ｚ｜≦１ （１） （上記式（１）において、ｍはＭ1 の原子価を表す。） 上記式（１）におけるｙとして好ましくは０．０１〜
１．９９の数であり、より好ましくは０．１０〜１．８
０の数であり、さらに好ましくは０．２０〜１．５０の
数であり、最も好ましくは０．３０〜１．００の数であ
り、また上記式（１）におけるｚの同様の好ましい範囲
は、ｍ、ｙおよび上記式（１）によって決定される。
【００６４】実際の各化合物の接触処理においては、仮
に完全に上記式（１）を満足するよう各化合物の使用を
企図しても、微妙に使用量は変動してしまうことがあ
り、また未反応で残存してしまう化合物の量等を考慮し
て適宜使用量を若干増減させることは通常行われること
である。ここでいう“式（１）を実質的に満足する”と
は、完全に上記式（１）を満足せずとも、上記式（１）
を満足するモル比率で各化合物を接触させて得られるよ
うな目的物を得ようと企図する場合は含むことを意味す
る。
に完全に上記式（１）を満足するよう各化合物の使用を
企図しても、微妙に使用量は変動してしまうことがあ
り、また未反応で残存してしまう化合物の量等を考慮し
て適宜使用量を若干増減させることは通常行われること
である。ここでいう“式（１）を実質的に満足する”と
は、完全に上記式（１）を満足せずとも、上記式（１）
を満足するモル比率で各化合物を接触させて得られるよ
うな目的物を得ようと企図する場合は含むことを意味す
る。
【００６５】本発明の改質された粒子の調製において、
（ａ）に対して使用する（ｄ）の量としては、（ａ）と
（ｄ）との接触により得られる粒子に含まれる（ａ）に
由来する典型金属原子が、得られる粒子１ｇに含まれる
典型金属原子のモル数にして、０．１ｍｍｏｌ以上とな
る量であることが好ましく、０．５〜２０ｍｍｏｌとな
る量であることがより好ましいので、該範囲になるよう
に適宜決めればよい。
（ａ）に対して使用する（ｄ）の量としては、（ａ）と
（ｄ）との接触により得られる粒子に含まれる（ａ）に
由来する典型金属原子が、得られる粒子１ｇに含まれる
典型金属原子のモル数にして、０．１ｍｍｏｌ以上とな
る量であることが好ましく、０．５〜２０ｍｍｏｌとな
る量であることがより好ましいので、該範囲になるよう
に適宜決めればよい。
【００６６】上記のような接触処理の後、反応をより進
行させるため、加熱することも好ましく行われる。加熱
に際しては、より高温とするためより沸点の高い溶媒を
使用することが好ましく、そのために接触処理に用いた
溶媒を他のより沸点の高い溶媒に置換してもよい。
行させるため、加熱することも好ましく行われる。加熱
に際しては、より高温とするためより沸点の高い溶媒を
使用することが好ましく、そのために接触処理に用いた
溶媒を他のより沸点の高い溶媒に置換してもよい。
【００６７】本発明の改質された粒子としては、このよ
うな接触処理の結果、原料である（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）および／または（ｄ）が未反応物として残存して
いてもよい。しかし、付加重合体粒子の形成を伴う重合
に適用する場合、予め未反応物を除去する洗浄処理を行
った方が好ましい。その際の溶媒は、接触時の溶媒と同
一でも異なっていても良い。このような洗浄処理は不活
性気体雰囲気下で実施するのが好ましい。処理温度は通
常−１００〜３００℃であり、好ましくは−８０〜２０
０℃である。処理時間は通常１分間〜２００時間であ
り、好ましくは１０分間〜１００時間である。
うな接触処理の結果、原料である（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）および／または（ｄ）が未反応物として残存して
いてもよい。しかし、付加重合体粒子の形成を伴う重合
に適用する場合、予め未反応物を除去する洗浄処理を行
った方が好ましい。その際の溶媒は、接触時の溶媒と同
一でも異なっていても良い。このような洗浄処理は不活
性気体雰囲気下で実施するのが好ましい。処理温度は通
常−１００〜３００℃であり、好ましくは−８０〜２０
０℃である。処理時間は通常１分間〜２００時間であ
り、好ましくは１０分間〜１００時間である。
【００６８】また、このような接触処理や洗浄処理の
後、生成物から溶媒を留去し、その後２５℃以上の温度
で減圧下１時間〜２４時間乾燥を行うことが好ましい。
より好ましくは４０℃〜２００℃の温度で１時間〜２４
時間、さらに好ましくは６０℃〜２００℃の温度で１時
間〜２４時間、特に好ましくは６０℃〜１６０℃の温度
で２時間〜１８時間、最も好ましくは８０℃〜１６０℃
の温度で４時間〜１８時間乾燥を行うことが好ましい。
後、生成物から溶媒を留去し、その後２５℃以上の温度
で減圧下１時間〜２４時間乾燥を行うことが好ましい。
より好ましくは４０℃〜２００℃の温度で１時間〜２４
時間、さらに好ましくは６０℃〜２００℃の温度で１時
間〜２４時間、特に好ましくは６０℃〜１６０℃の温度
で２時間〜１８時間、最も好ましくは８０℃〜１６０℃
の温度で４時間〜１８時間乾燥を行うことが好ましい。
【００６９】本発明の改質された粒子の製造方法の具体
例を、Ｍ1 が亜鉛原子であり、化合物（ｂ）がペンタフ
ルオロフェノールであり、化合物（ｃ）が水であり、粒
子（ｄ）がシリカである場合についてさらに詳細に以下
に示す。テトラヒドロフランを溶媒とし、そこへジエチ
ル亜鉛のヘキサン溶液を加え、３℃に冷却し、そこへジ
エチル亜鉛に対して等モル量のペンタフルオロフェノー
ルを滴下し室温にて１０分間〜２４時間攪拌を行った
後、さらにジエチル亜鉛に対して０．５倍モル量の水を
滴下し室温にて１０分間〜２４時間撹袢する。その後、
溶媒を留去し、１２０℃で減圧下８時間乾燥を行う。以
上の操作によって得られた固体成分に、テトラヒドロフ
ラン、シリカを加え、４０℃で２時間攪拌する。固体成
分をテトラヒドロフランで洗浄した後、１２０℃で減圧
下８時間乾燥を行う。かくして本発明の改質された粒子
を製造することができる。
例を、Ｍ1 が亜鉛原子であり、化合物（ｂ）がペンタフ
ルオロフェノールであり、化合物（ｃ）が水であり、粒
子（ｄ）がシリカである場合についてさらに詳細に以下
に示す。テトラヒドロフランを溶媒とし、そこへジエチ
ル亜鉛のヘキサン溶液を加え、３℃に冷却し、そこへジ
エチル亜鉛に対して等モル量のペンタフルオロフェノー
ルを滴下し室温にて１０分間〜２４時間攪拌を行った
後、さらにジエチル亜鉛に対して０．５倍モル量の水を
滴下し室温にて１０分間〜２４時間撹袢する。その後、
溶媒を留去し、１２０℃で減圧下８時間乾燥を行う。以
上の操作によって得られた固体成分に、テトラヒドロフ
ラン、シリカを加え、４０℃で２時間攪拌する。固体成
分をテトラヒドロフランで洗浄した後、１２０℃で減圧
下８時間乾燥を行う。かくして本発明の改質された粒子
を製造することができる。
【００７０】本発明の改質された粒子は、シングルサイ
ト触媒を形成する遷移金属化合物からなる付加重合用触
媒成分を担持させる担体として使用でき、付加重合体粒
子の形成を伴う重合に好適に使用される。また、本発明
の改質された粒子は付加重合用触媒成分（中でもオレフ
ィン重合用触媒成分）として有用である。本発明の付加
重合用触媒の具体例としては、上記の改質された粒子
（Ａ）、並びに、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる付加重
合用触媒が挙げられ、また、上記の改質された粒子
（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移
金属化合物（Ｂ）、並びに、有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒が挙げら
れ、後者がより高活性であり好ましい。以下、該付加重
合用触媒についてさらに詳細に説明する。
ト触媒を形成する遷移金属化合物からなる付加重合用触
媒成分を担持させる担体として使用でき、付加重合体粒
子の形成を伴う重合に好適に使用される。また、本発明
の改質された粒子は付加重合用触媒成分（中でもオレフ
ィン重合用触媒成分）として有用である。本発明の付加
重合用触媒の具体例としては、上記の改質された粒子
（Ａ）、並びに、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる付加重
合用触媒が挙げられ、また、上記の改質された粒子
（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移
金属化合物（Ｂ）、並びに、有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒が挙げら
れ、後者がより高活性であり好ましい。以下、該付加重
合用触媒についてさらに詳細に説明する。
【００７１】（Ｂ）第３〜１１族もしくはランタノイド
系列の遷移金属化合物 本発明の付加重合用触媒に用いられる第３〜１１族もし
くはランタノイド系列の遷移金属化合物（Ｂ）としては
シングルサイト触媒を形成する遷移金属化合物が使用さ
れ、前記改質された粒子（Ａ）（あるいはさらに有機ア
ルミニウム化合物（Ｃ））を活性化用助触媒成分として
用いることにより付加重合活性を示す第３〜１１族もし
くはランタノイド系列の遷移金属化合物であれば特に制
限はない。なお、ここでいうシングルサイト触媒は従来
型固体触媒と区別される概念であり、分子量分布が狭
く、共重合の場合には組成分布が狭い付加重合体の得ら
れる狭義のシングルサイト触媒のみならず、そのような
狭義のシングルサイト触媒と似た調整法で得られる触媒
であれば、分子量分布が広い付加重合体や、共重合の場
合に組成分布が広い付加重合体の得られる触媒も含まれ
る。
系列の遷移金属化合物 本発明の付加重合用触媒に用いられる第３〜１１族もし
くはランタノイド系列の遷移金属化合物（Ｂ）としては
シングルサイト触媒を形成する遷移金属化合物が使用さ
れ、前記改質された粒子（Ａ）（あるいはさらに有機ア
ルミニウム化合物（Ｃ））を活性化用助触媒成分として
用いることにより付加重合活性を示す第３〜１１族もし
くはランタノイド系列の遷移金属化合物であれば特に制
限はない。なお、ここでいうシングルサイト触媒は従来
型固体触媒と区別される概念であり、分子量分布が狭
く、共重合の場合には組成分布が狭い付加重合体の得ら
れる狭義のシングルサイト触媒のみならず、そのような
狭義のシングルサイト触媒と似た調整法で得られる触媒
であれば、分子量分布が広い付加重合体や、共重合の場
合に組成分布が広い付加重合体の得られる触媒も含まれ
る。
【００７２】かかる遷移金属化合物（Ｂ）としては、下
記一般式［４］で表される遷移金属化合物またはそのμ
−オキソタイプの遷移金属化合物二量体が好ましい。 Ｌ2 aＭ2 Ｘ1 b ［４］ （式中、Ｍ2 は周期律表第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属原子である。Ｌ2 はシクロペンタジ
エン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有
する基であり、複数のＬ2 は直接または、炭素原子、ケ
イ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン
原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。Ｘ
1 はハロゲン原子または炭化水素基（但し、シクロペン
タジエン形アニオン骨格を有する基を除く。）である。
ａは０＜ａ≦８を満足する数を、ｂは０＜ｂ≦８を満足
する数を表す。）
記一般式［４］で表される遷移金属化合物またはそのμ
−オキソタイプの遷移金属化合物二量体が好ましい。 Ｌ2 aＭ2 Ｘ1 b ［４］ （式中、Ｍ2 は周期律表第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属原子である。Ｌ2 はシクロペンタジ
エン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を含有
する基であり、複数のＬ2 は直接または、炭素原子、ケ
イ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリン
原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。Ｘ
1 はハロゲン原子または炭化水素基（但し、シクロペン
タジエン形アニオン骨格を有する基を除く。）である。
ａは０＜ａ≦８を満足する数を、ｂは０＜ｂ≦８を満足
する数を表す。）
【００７３】一般式［４］において、Ｍ2 は周期律表
（ＩＵＰＡＣ１９８９年）第３〜１１族もしくはランタ
ノイド系列の遷移金属原子である。その具体例として
は、スカンジウム原子、イットリウム原子、チタン原
子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原
子、ニオビウム原子、タンタル原子、クロム原子、鉄原
子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニ
ッケル原子、パラジウム原子、サマリウム原子、イッテ
ルビウム原子等が挙げられる。一般式［４］におけるＭ
2 として好ましくは、チタン原子、ジルコニウム原子、
ハフニウム原子、バナジウム原子、クロム原子、鉄原
子、コバルト原子またはニッケル原子であり、特に好ま
しくはチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム
原子である。
（ＩＵＰＡＣ１９８９年）第３〜１１族もしくはランタ
ノイド系列の遷移金属原子である。その具体例として
は、スカンジウム原子、イットリウム原子、チタン原
子、ジルコニウム原子、ハフニウム原子、バナジウム原
子、ニオビウム原子、タンタル原子、クロム原子、鉄原
子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニ
ッケル原子、パラジウム原子、サマリウム原子、イッテ
ルビウム原子等が挙げられる。一般式［４］におけるＭ
2 として好ましくは、チタン原子、ジルコニウム原子、
ハフニウム原子、バナジウム原子、クロム原子、鉄原
子、コバルト原子またはニッケル原子であり、特に好ま
しくはチタン原子、ジルコニウム原子またはハフニウム
原子である。
【００７４】一般式［４］において、Ｌ2 はシクロペン
タジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を
含有する基であり、複数のＬ2 は同じであっても異なっ
ていてもよい。また複数のＬ2 は直接または炭素原子、
ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリ
ン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。
タジエン形アニオン骨格を有する基またはヘテロ原子を
含有する基であり、複数のＬ2 は同じであっても異なっ
ていてもよい。また複数のＬ2 は直接または炭素原子、
ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子もしくはリ
ン原子を含有する残基を介して連結されていてもよい。
【００７５】Ｌ2 におけるシクロペンタジエン形アニオ
ン骨格を有する基としては（置換）シクロペンタジエニ
ル基、η5 −（置換）インデニル基、η5 −（置換）フ
ルオレニル基などが挙げられる。具体的に例示すれば、
η5 −シクロペンタジエニル基、η5 −メチルシクロペ
ンタジエニル基、η5 −エチルシクロペンタジエニル
基、η5 −ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −
ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，
２−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，３−
ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−
２−エチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル
−３−エチルシクロペンタジエニル基、η 5 −１−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−メチルシクロペンタジエニル基、η
5 −１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルシクロペンタジ
エニル基、η5 −１−メチル−２−イソプロピルシクロ
ペンタジエニル基、η5 −１−メチル−３−イソプロピ
ルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−２−ｎ
−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−
３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5 −
１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5
−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5 −ペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、η5 −インデニル基、
η5 −４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、η
5 −２−メチルインデニル基、η5 −３−メチルインデ
ニル基、η5 −４−メチルインデニル基、η5 −５−メ
チルインデニル基、η5 −６−メチルインデニル基、η
5 −７−メチルインデニル基、η5 −２−ｔｅｒｔ−ブ
チルインデニル基、η5 −３−ｔｅｒｔ−ブチルインデ
ニル基、η5 −４−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η
5 −５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5 −６−ｔ
ｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5 −７−ｔｅｒｔ−ブ
チルインデニル基、η5 −２，３−ジメチルインデニル
基、η5 −４，７−ジメチルインデニル基、η5 −２，
４，７−トリメチルインデニル基、η5 −２−メチル−
４−イソプロピルインデニル基、η5 −４，５−ベンズ
インデニル基、η 5 −２−メチル−４，５−ベンズイン
デニル基、η5 −４−フェニルインデニル基、η5 −２
−メチル−５−フェニルインデニル基、η5 −２−メチ
ル−４−フェニルインデニル基、η5 −２−メチル−４
−ナフチルインデニル基、η5 −フルオレニル基、η5
−２，７−ジメチルフルオレニル基、η5 −２，７−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、およびこれらの置
換体等が挙げられる。なお、本明細書においては、遷移
金属化合物の名称については「η5 −」を省略すること
がある。
ン骨格を有する基としては（置換）シクロペンタジエニ
ル基、η5 −（置換）インデニル基、η5 −（置換）フ
ルオレニル基などが挙げられる。具体的に例示すれば、
η5 −シクロペンタジエニル基、η5 −メチルシクロペ
ンタジエニル基、η5 −エチルシクロペンタジエニル
基、η5 −ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −
ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，
２−ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，３−
ジメチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−
２−エチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル
−３−エチルシクロペンタジエニル基、η 5 −１−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−メチルシクロペンタジエニル基、η
5 −１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルシクロペンタジ
エニル基、η5 −１−メチル−２−イソプロピルシクロ
ペンタジエニル基、η5 −１−メチル−３−イソプロピ
ルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−２−ｎ
−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１−メチル−
３−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η5 −１，
２，３−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5 −
１，２，４−トリメチルシクロペンタジエニル基、η5
−テトラメチルシクロペンタジエニル基、η5 −ペンタ
メチルシクロペンタジエニル基、η5 −インデニル基、
η5 −４，５，６，７−テトラヒドロインデニル基、η
5 −２−メチルインデニル基、η5 −３−メチルインデ
ニル基、η5 −４−メチルインデニル基、η5 −５−メ
チルインデニル基、η5 −６−メチルインデニル基、η
5 −７−メチルインデニル基、η5 −２−ｔｅｒｔ−ブ
チルインデニル基、η5 −３−ｔｅｒｔ−ブチルインデ
ニル基、η5 −４−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η
5 −５−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5 −６−ｔ
ｅｒｔ−ブチルインデニル基、η5 −７−ｔｅｒｔ−ブ
チルインデニル基、η5 −２，３−ジメチルインデニル
基、η5 −４，７−ジメチルインデニル基、η5 −２，
４，７−トリメチルインデニル基、η5 −２−メチル−
４−イソプロピルインデニル基、η5 −４，５−ベンズ
インデニル基、η 5 −２−メチル−４，５−ベンズイン
デニル基、η5 −４−フェニルインデニル基、η5 −２
−メチル−５−フェニルインデニル基、η5 −２−メチ
ル−４−フェニルインデニル基、η5 −２−メチル−４
−ナフチルインデニル基、η5 −フルオレニル基、η5
−２，７−ジメチルフルオレニル基、η5 −２，７−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、およびこれらの置
換体等が挙げられる。なお、本明細書においては、遷移
金属化合物の名称については「η5 −」を省略すること
がある。
【００７６】前記ヘテロ原子を含有する基におけるヘテ
ロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン
原子等が挙げられ、かかる基としてはアルコキシ基、ア
リールオキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキ
シ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキル
ホスフィノ基、アリールホスフィノ基、キレート性配位
子、あるいは酸素原子、硫黄原子、窒素原子および／ま
たはリン原子を環内に有する芳香族もしくは脂肪族複素
環基が好ましい。
ロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、リン
原子等が挙げられ、かかる基としてはアルコキシ基、ア
リールオキシ基、チオアルコキシ基、チオアリールオキ
シ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルキル
ホスフィノ基、アリールホスフィノ基、キレート性配位
子、あるいは酸素原子、硫黄原子、窒素原子および／ま
たはリン原子を環内に有する芳香族もしくは脂肪族複素
環基が好ましい。
【００７７】ヘテロ原子を含有する基を具体的に例示す
れば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基，２，６
−ジメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェ
ノキシ基、２−エチルフェノキシ基、４−ｎ−プロピル
フェノキシ基、２−イソプロピルフェノキシ基、２，６
−ジイソプロピルフェノキシ基、４−ｓｅｃ−ブチルフ
ェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、２，
６−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、
２，６−ジメトキシフェノキシ基、３，５−ジメトキシ
フェノキシ基、２−クロロフェノキシ基、４−ニトロソ
フェノキシ基、４−ニトロフェノキシ基、２−アミノフ
ェノキシ基、３−アミノフェノキシ基、４−アミノチオ
フェノキシ基、２，３，６−トリクロロフェノキシ基、
２，４，６−トリフルオロフェノキシ基、チオメトキシ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピル
アミノ基、ジフェニルアミノ基、イソプロピルアミノ
基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ピロリル基、ジメチル
ホスフィノ基、２−（２−オキシ−１−プロピル）フェ
ノキシ基、カテコール、レゾルシノール、４−イソプロ
ピルカテコール、３−メトキシカテコール、１，８−ジ
ヒドロキシナフチル基、１，２−ジヒドロキシナフチル
基、２，２’−ビフエニルジオール基、１，１’−ビ−
２−ナフトール基、２，２’−ジヒドロキシ−６，６’
−ジメチルビフェニル基、４，４’，６，６’−テトラ
−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’メチレンジフェノキシ
基、４，４’，６，６’−テトラメチル−２，２’−イ
ソブチリデンジフェノキシ基等が例示できる。
れば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基，２，６
−ジメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェ
ノキシ基、２−エチルフェノキシ基、４−ｎ−プロピル
フェノキシ基、２−イソプロピルフェノキシ基、２，６
−ジイソプロピルフェノキシ基、４−ｓｅｃ−ブチルフ
ェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、２，
６−ジ−ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、２−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メチルフェノキシ基、２，６−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、
２，６−ジメトキシフェノキシ基、３，５−ジメトキシ
フェノキシ基、２−クロロフェノキシ基、４−ニトロソ
フェノキシ基、４−ニトロフェノキシ基、２−アミノフ
ェノキシ基、３−アミノフェノキシ基、４−アミノチオ
フェノキシ基、２，３，６−トリクロロフェノキシ基、
２，４，６−トリフルオロフェノキシ基、チオメトキシ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピル
アミノ基、ジフェニルアミノ基、イソプロピルアミノ
基、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ピロリル基、ジメチル
ホスフィノ基、２−（２−オキシ−１−プロピル）フェ
ノキシ基、カテコール、レゾルシノール、４−イソプロ
ピルカテコール、３−メトキシカテコール、１，８−ジ
ヒドロキシナフチル基、１，２−ジヒドロキシナフチル
基、２，２’−ビフエニルジオール基、１，１’−ビ−
２−ナフトール基、２，２’−ジヒドロキシ−６，６’
−ジメチルビフェニル基、４，４’，６，６’−テトラ
−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’メチレンジフェノキシ
基、４，４’，６，６’−テトラメチル−２，２’−イ
ソブチリデンジフェノキシ基等が例示できる。
【００７８】また、前記ヘテロ原子を含有する基として
は下記一般式［５］で表される基も例示することができ
る。 Ｒ3 3 Ｐ＝Ｎ− ［５］ （式中、Ｒ3 はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原
子または炭化水素基を表し、それらは互いに同じであっ
ても異なっていても良く、それら２つ以上が互いに結合
していても良く、環を形成していても良い。）
は下記一般式［５］で表される基も例示することができ
る。 Ｒ3 3 Ｐ＝Ｎ− ［５］ （式中、Ｒ3 はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原
子または炭化水素基を表し、それらは互いに同じであっ
ても異なっていても良く、それら２つ以上が互いに結合
していても良く、環を形成していても良い。）
【００７９】前記一般式［５］におけるＲ3の具体例と
しては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
よう素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シ
クロプロピル基、シクロブチル基、シクロへプチル基、
シクロヘキシル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−
ナフチル基、ベンジル基等が挙げれられるが、これらに
限定されるものではない。
しては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
よう素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シ
クロプロピル基、シクロブチル基、シクロへプチル基、
シクロヘキシル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−
ナフチル基、ベンジル基等が挙げれられるが、これらに
限定されるものではない。
【００８０】さらに前記ヘテロ原子を含有する基として
は下記一般式［６］で表される基も例示することができ
る。 （式中、Ｒ4はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキ
シ基、シリル基またはアミノ基を表し、それらは互いに
同じであっても異なっていても良く、それら２つ以上が
互いに結合していても良く、環を形成していても良
い。）
は下記一般式［６］で表される基も例示することができ
る。 （式中、Ｒ4はそれぞれの場合に水素原子、ハロゲン原
子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、炭化水素オキ
シ基、シリル基またはアミノ基を表し、それらは互いに
同じであっても異なっていても良く、それら２つ以上が
互いに結合していても良く、環を形成していても良
い。）
【００８１】前記一般式［６］におけるＲ4の具体例と
しては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
よう素原子、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２，６−ジメチルフェニル
基、２−フルオレニル基、２−メチルフェニル基、４−
トリフルオロメチルフェニル基、４−メトキシフェニル
基、４−ピリジル基、シクロヘキシル基、２−イソプロ
ピルフェニル基、ベンジル基、メチル基、トリエチルシ
リル基、ジフェニルメチルシリル基、１−メチル−１−
フェニルエチル基、１，１−ジメチルプロピル基、２−
クロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
しては、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
よう素原子、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２，６−ジメチルフェニル
基、２−フルオレニル基、２−メチルフェニル基、４−
トリフルオロメチルフェニル基、４−メトキシフェニル
基、４−ピリジル基、シクロヘキシル基、２−イソプロ
ピルフェニル基、ベンジル基、メチル基、トリエチルシ
リル基、ジフェニルメチルシリル基、１−メチル−１−
フェニルエチル基、１，１−ジメチルプロピル基、２−
クロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が挙げ
られるが、これらに限定されるものではない。
【００８２】前記キレート性配位子とは複数の配位部位
を有する配位子を指し、具体的に例示すれば、アセチル
アセトナート、ジイミン、オキサゾリン、ビスオキサゾ
リン、テルピリジン、アシルヒドラゾン、ジエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、ポルフィリン、ク
ラウンエーテル、クリプタートなどが挙げられる。
を有する配位子を指し、具体的に例示すれば、アセチル
アセトナート、ジイミン、オキサゾリン、ビスオキサゾ
リン、テルピリジン、アシルヒドラゾン、ジエチレント
リアミン、トリエチレンテトラミン、ポルフィリン、ク
ラウンエーテル、クリプタートなどが挙げられる。
【００８３】前記複素環基の具体例としては、ピリジル
基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリル基
であり、好ましくはピリジル基である。
基、Ｎ−置換イミダゾリル基、Ｎ−置換インダゾリル基
であり、好ましくはピリジル基である。
【００８４】シクロペンタジエン形アニオン骨格を有す
る基同士、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する
基とヘテロ原子を含有する基、またはヘテロ原子を含有
する基同士は、それぞれ、直接連結されていても良く、
炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子
もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されてい
てもよい。かかる残基として好ましくは、２つのＬ2 と
結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子および／またはリン原子である２価の残
基であり、さらに好ましくは、２つのＬ2 と結合する原
子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄
原子および／またはリン原子であり、２つのＬ2 と結合
する原子間の最小原子数が３以下の２価の残基（これに
は２つのＬ2 と結合する原子が単一の場合を含む。）で
ある。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基等のアルキレン基、ジメチルメチレン基（イソプロ
ピリデン基）、ジフェニルメチレン基などの置換アルキ
レン基、またはシリレン基、ジメチルシリレン基、ジエ
チルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチル
ジシリレン基、ジメトキシシリレン基などの置換シリレ
ン基、または窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子
などのヘテロ原子などが挙げられ、特に好ましくはメチ
レン基、エチレン基、ジメチルメチレン基（イソプロピ
リデン基）、ジフェニルメチレン基、ジメチルシリレン
基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基または
ジメトキシシリレン基である。
る基同士、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する
基とヘテロ原子を含有する基、またはヘテロ原子を含有
する基同士は、それぞれ、直接連結されていても良く、
炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子
もしくはリン原子を含有する残基を介して連結されてい
てもよい。かかる残基として好ましくは、２つのＬ2 と
結合する原子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子および／またはリン原子である２価の残
基であり、さらに好ましくは、２つのＬ2 と結合する原
子が炭素原子、ケイ素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄
原子および／またはリン原子であり、２つのＬ2 と結合
する原子間の最小原子数が３以下の２価の残基（これに
は２つのＬ2 と結合する原子が単一の場合を含む。）で
ある。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロピレ
ン基等のアルキレン基、ジメチルメチレン基（イソプロ
ピリデン基）、ジフェニルメチレン基などの置換アルキ
レン基、またはシリレン基、ジメチルシリレン基、ジエ
チルシリレン基、ジフェニルシリレン基、テトラメチル
ジシリレン基、ジメトキシシリレン基などの置換シリレ
ン基、または窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子
などのヘテロ原子などが挙げられ、特に好ましくはメチ
レン基、エチレン基、ジメチルメチレン基（イソプロピ
リデン基）、ジフェニルメチレン基、ジメチルシリレン
基、ジエチルシリレン基、ジフェニルシリレン基または
ジメトキシシリレン基である。
【００８５】一般式［４］におけるＸ1 は、ハロゲン原
子または炭化水素基である。ハロゲン原子の具体例とし
てフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げ
られる。ここでいう炭化水素基としてはシクロペンタジ
エン形アニオン骨格を有する基を含まない。ここでいう
炭化水素基としてはアルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、アルケニル基等が挙げられ、好ましくは、炭素原
子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアラ
ルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基または炭素
原子数３〜２０のアルケニル基が好ましい。
子または炭化水素基である。ハロゲン原子の具体例とし
てフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げ
られる。ここでいう炭化水素基としてはシクロペンタジ
エン形アニオン骨格を有する基を含まない。ここでいう
炭化水素基としてはアルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、アルケニル基等が挙げられ、好ましくは、炭素原
子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数７〜２０のアラ
ルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基または炭素
原子数３〜２０のアルケニル基が好ましい。
【００８６】炭素原子数１〜２０のアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペ
ンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル
基、ｎ−エイコシル基などが挙げられ、より好ましくは
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、イソブチル基またはアミル基である。これらのア
ルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていても
よい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜１０の
アルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフ
ルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル
基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パー
フルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフル
オロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロ
プロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル
基などが挙げられる。またこれらのアルキル基はいずれ
も、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノ
キシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基
などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていて
もよい。
は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ
プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペ
ンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル
基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ペンタデシル
基、ｎ−エイコシル基などが挙げられ、より好ましくは
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、イソブチル基またはアミル基である。これらのア
ルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換されていても
よい。ハロゲン原子で置換された炭素原子数１〜１０の
アルキル基としては、例えばフルオロメチル基、トリフ
ルオロメチル基、クロロメチル基、トリクロロメチル
基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パー
フルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフル
オロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パークロロ
プロピル基、パークロロブチル基、パーブロモプロピル
基などが挙げられる。またこれらのアルキル基はいずれ
も、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノ
キシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基
などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていて
もよい。
【００８７】炭素原子数７〜２０のアラルキル基として
は、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル
基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフ
ェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，
５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチル
フェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メ
チル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６
−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリ
メチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル
基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェ
ニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、
（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフ
ェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペン
チルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デ
シルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メ
チル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基な
どが挙げられ、より好ましくはベンジル基である。これ
らのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などの
アリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラル
キルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
は、例えばベンジル基、（２−メチルフェニル）メチル
基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフ
ェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチ
ル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，
５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチル
フェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メ
チル基、（３，５−ジメチルフェニル）メチル基、
（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，
３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６
−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリ
メチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチル
フェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル
基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェ
ニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、
（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフ
ェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチ
ル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペン
チルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メ
チル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デ
シルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メ
チル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基な
どが挙げられ、より好ましくはベンジル基である。これ
らのアラルキル基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などの
アリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラル
キルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。
【００８８】炭素原子数６〜２０のアリール基として
は、例えばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、
４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル
基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４
−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリ
メチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル
基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−
トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニ
ル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，
３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６
−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、
エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチ
ルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペン
チルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシ
ルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフ
ェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げ
られ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリ
ール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ
基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキ
シ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基
などで一部が置換されていてもよい。
は、例えばフェニル基、２−トリル基、３−トリル基、
４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル
基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４
−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリ
メチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル
基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−
トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニ
ル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，
３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６
−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、
エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロ
ピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチ
ルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ｎ−ペン
チルフェニル基、ネオペンチルフェニル基、ｎ−ヘキシ
ルフェニル基、ｎ−オクチルフェニル基、ｎ−デシルフ
ェニル基、ｎ−ドデシルフェニル基、ｎ−テトラデシル
フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げ
られ、より好ましくはフェニル基である。これらのアリ
ール基はいずれも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ
基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリールオキ
シ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ基
などで一部が置換されていてもよい。
【００８９】炭素原子数３〜２０のアルケニル基として
は、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基、１，３
−ジフェニル−２−プロペニル基などが挙げられ、より
好ましくはアリル基またはメタリル基である。
は、例えばアリル基、メタリル基、クロチル基、１，３
−ジフェニル−２−プロペニル基などが挙げられ、より
好ましくはアリル基またはメタリル基である。
【００９０】Ｘ1 としてより好ましくは塩素原子、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、ベンジル基、アリル基またはメタリル基で
ある。
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、ベンジル基、アリル基またはメタリル基で
ある。
【００９１】一般式［４］におけるａは０＜ａ≦８を満
足する数を、ｂは０＜ｂ≦８を満足する数を表し、Ｍ2
の価数に応じて適宜選択される。
足する数を、ｂは０＜ｂ≦８を満足する数を表し、Ｍ2
の価数に応じて適宜選択される。
【００９２】一般式［４］で表される遷移金属化合物の
内、遷移金属原子がチタン原子、ジルコニウム原子また
はハフニウム原子である化合物の具体例としては、ビス
（シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（メチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（エチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）チタンジ
クロライド、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）チタンジクロライド、ビス（１，２−ジメチルシ
クロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス（１，
３−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ビス（１−メチル−２−エチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−エチ
ルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（１−メチル−２−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−ｎ−ブチ
ルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（１−メチル−２−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−イソ
プロピルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（１−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、ビス（１−ｔｅｒｔ−
ブチル−３−メチルシクロペンタジエニル）チタンジク
ロライド、ビス（１，２，３−トリメチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、ビス（１，２，４−ト
リメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタンジク
ロライド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）
チタンジクロライド、ビス（インデニル）チタンジクロ
ライド、ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）チタンジクロライド、ビス（フルオレニル）チタン
ジクロライド、ビス（２−フェニルインデニル）チタン
ジクロライド、
内、遷移金属原子がチタン原子、ジルコニウム原子また
はハフニウム原子である化合物の具体例としては、ビス
（シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（メチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（エチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ビス（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）チタンジ
クロライド、ビス（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）チタンジクロライド、ビス（１，２−ジメチルシ
クロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス（１，
３−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ビス（１−メチル−２−エチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−エチ
ルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（１−メチル−２−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−ｎ−ブチ
ルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ビス
（１−メチル−２−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ビス（１−メチル−３−イソ
プロピルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（１−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、ビス（１−ｔｅｒｔ−
ブチル−３−メチルシクロペンタジエニル）チタンジク
ロライド、ビス（１，２，３−トリメチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、ビス（１，２，４−ト
リメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ビス（テトラメチルシクロペンタジエニル）チタンジク
ロライド、ビス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）
チタンジクロライド、ビス（インデニル）チタンジクロ
ライド、ビス（４，５，６，７−テトラヒドロインデニ
ル）チタンジクロライド、ビス（フルオレニル）チタン
ジクロライド、ビス（２−フェニルインデニル）チタン
ジクロライド、
【００９３】ビス［２−（ビス−３，５−トリフルオロ
メチルフェニル）インデニル］チタンジクロライド、ビ
ス［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インデニ
ル］チタンジクロライド、ビス［２−（４−トリフルオ
ロメチルフェニル）インデニル］チタンジクロライド、
ビス［２−（４−メチルフェニル）インデニル］チタン
ジクロライド、ビス［２−（３，５−ジメチルフェニ
ル）インデニル］チタンジクロライド、ビス［２−（ペ
ンタフルオロフェニル）インデニル］チタンジクロライ
ド、シクロペンタジエニル（ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、シクロペンタジエニル
（インデニル）チタンジクロライド、シクロペンタジエ
ニル（フルオレニル）チタンジクロライド、インデニル
（フルオレニル）チタンジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル（インデニル）チタンジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル（フルオレニ
ル）チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（２−
フェニルインデニル）チタンジクロライド、ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル（２−フェニルインデニル）チ
タンジクロライド、
メチルフェニル）インデニル］チタンジクロライド、ビ
ス［２−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）インデニ
ル］チタンジクロライド、ビス［２−（４−トリフルオ
ロメチルフェニル）インデニル］チタンジクロライド、
ビス［２−（４−メチルフェニル）インデニル］チタン
ジクロライド、ビス［２−（３，５−ジメチルフェニ
ル）インデニル］チタンジクロライド、ビス［２−（ペ
ンタフルオロフェニル）インデニル］チタンジクロライ
ド、シクロペンタジエニル（ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル）チタンジクロライド、シクロペンタジエニル
（インデニル）チタンジクロライド、シクロペンタジエ
ニル（フルオレニル）チタンジクロライド、インデニル
（フルオレニル）チタンジクロライド、ペンタメチルシ
クロペンタジエニル（インデニル）チタンジクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニル（フルオレニ
ル）チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（２−
フェニルインデニル）チタンジクロライド、ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル（２−フェニルインデニル）チ
タンジクロライド、
【００９４】ジメチルシリレンビス（シクロペンタジエ
ニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２
−メチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（３−メチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−
ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（３−ｎ−ブチルシクロペン
タジエニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（２，３−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレンビス（２，４−ジメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレンビス（２，５−ジメチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（３，
４−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（２，３−エチルメチルシク
ロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レンビス（２，４−エチルメチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２，
５−エチルメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロ
ライド、ジメチルシリレンビス（３，５−エチルメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレンビス（２，３，４−トリメチルシクロペンタジ
エニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレンビス（テトラメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２
−メチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（３−メチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−
ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（３−ｎ−ブチルシクロペン
タジエニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（２，３−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレンビス（２，４−ジメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレンビス（２，５−ジメチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（３，
４−ジメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（２，３−エチルメチルシク
ロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レンビス（２，４−エチルメチルシクロペンタジエニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２，
５−エチルメチルシクロペンタジエニル）チタンジクロ
ライド、ジメチルシリレンビス（３，５−エチルメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレンビス（２，３，４−トリメチルシクロペンタジ
エニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２，３，５−トリメチルシクロペンタジエニル）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレンビス（テトラメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、
【００９５】ジメチルシリレンビス（インデニル）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチルイ
ンデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（２，３−ジメチルインデニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２，
４，７−トリメチルインデニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−イソプロピル
インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（４，５−ベンズインデニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（２−メチル−４，５−ベンズイ
ンデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２−フェニルインデニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレンビス（４−フェニルインデニル）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−
フェニルインデニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレンビス（２−メチル−５−フェニルインデニル）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチル
−４−ナフチルインデニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル）チタンジクロライド、
ンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチルイ
ンデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレンビス（２，３−ジメチルインデニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２，
４，７−トリメチルインデニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−イソプロピル
インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビ
ス（４，５−ベンズインデニル）チタンジクロライド、
ジメチルシリレンビス（２−メチル−４，５−ベンズイ
ンデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレンビス
（２−フェニルインデニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレンビス（４−フェニルインデニル）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチル−４−
フェニルインデニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレンビス（２−メチル−５−フェニルインデニル）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレンビス（２−メチル
−４−ナフチルインデニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレンビス（４，５，６，７−テトラヒドロイン
デニル）チタンジクロライド、
【００９６】ジメチルシリレン（シクロペンタジエニ
ル）（インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（メチルシクロペンタジエニル）（インデニル）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（インデニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペン
タジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（インデニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（インデニ
ル）（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレンビス（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（フル
オレニル）チタンジクロライド、
ル）（インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（メチルシクロペンタジエニル）（インデニル）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（インデニル）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（インデニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペン
タジエニル）（フルオレニル）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（インデニ
ル）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（インデニ
ル）（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレンビス（フルオレニル）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラメチル
シクロペンタジエニル）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（フル
オレニル）チタンジクロライド、
【００９７】シクロペンタジエニルチタントリクロライ
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロ
ライド、シクロペンタジエニル（ジメチルアミド）チタ
ンジクロライド、シクロペンタジエニル（フェノキシ）
チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（２，６−
ジメチルフェニル）チタンジクロライド、シクロペンタ
ジエニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジ
クロライド、シクロペンタジエニル（２，６−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）チタンジクロライド、ペンタメ
チルシクロペンタジエニル（２，６−ジメチルフェニ
ル）チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジク
ロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル（２，６
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）チタンジクロライド、イ
ンデニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジ
クロライド、フルオレニル（２，６−ジイソプロピルフ
ェニル）チタンジクロライド、
ド、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリクロ
ライド、シクロペンタジエニル（ジメチルアミド）チタ
ンジクロライド、シクロペンタジエニル（フェノキシ）
チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（２，６−
ジメチルフェニル）チタンジクロライド、シクロペンタ
ジエニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジ
クロライド、シクロペンタジエニル（２，６−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）チタンジクロライド、ペンタメ
チルシクロペンタジエニル（２，６−ジメチルフェニ
ル）チタンジクロライド、ペンタメチルシクロペンタジ
エニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジク
ロライド、ペンタメチルシクロペンタジエニル（２，６
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）チタンジクロライド、イ
ンデニル（２，６−ジイソプロピルフェニル）チタンジ
クロライド、フルオレニル（２，６−ジイソプロピルフ
ェニル）チタンジクロライド、
【００９８】ジメチルシリレン（シクロペンタジエニ
ル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチ
ル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシ
リル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジ
エニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（１
−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライド、
ル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（５−メチ
ル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシ
リル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジ
エニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（１
−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライド、
【００９９】ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジ
エニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−メ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ
メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フ
ェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（メチル
シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチル
シリル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタ
ジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２
−イル）チタンジクロライド、
エニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−メ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ
メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フ
ェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（メチル
シクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメチル
シリル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチ
ルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（メチルシクロペンタ
ジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（メチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２
−イル）チタンジクロライド、
【０１００】ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペン
タジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル
−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）
チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェ
ノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−
ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブ
チルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキ
シ−２−イル）チタンジクロライド、
タジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル
−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）
チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェ
ノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−
ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブ
チルシクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（１−ナフトキ
シ−２−イル）チタンジクロライド、
【０１０１】ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ
−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）
（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チ
タンジクロライド、
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ
−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）
（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チ
タンジクロライド、
【０１０２】ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペ
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジ
エニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラ
メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−ト
リメチルシリル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペ
ンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシク
ロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタ
ンジクロライド、
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジ
エニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノ
キシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラ
メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−ト
リメチルシリル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペ
ンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（テトラメチルシク
ロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタ
ンジクロライド、
【０１０３】ジメチルシリレン（トリメチルシリルシク
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチ
ルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリ
ルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チ
タンジクロライド、
ロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジ
クロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチ
ルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシ
リレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリ
ルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタン
ジクロライド、ジメチルシリレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（１−ナフトキシ−２−イル）チ
タンジクロライド、
【０１０４】ジメチルシリレン（インデニル）（２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（イ
ンデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジク
ロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−
ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル
−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（インデニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（イ
ンデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−トリメ
チルシリル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−ジア
ミル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（インデニル）（３−フェニル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（インデニ
ル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライ
ド、
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（イ
ンデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタンジク
ロライド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−
ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル
−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリ
レン（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレ
ン（インデニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（イ
ンデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメ
チルシリレン（インデニル）（５−メチル−３−トリメ
チルシリル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（インデニル）（３，５−ジア
ミル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチル
シリレン（インデニル）（３−フェニル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（インデニ
ル）（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライ
ド、
【０１０５】ジメチルシリレン（フルオレニル）（２−
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−
３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）
（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フ
ルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（フルオレニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレ
ニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロ
ライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（１−ナフ
トキシ−２−イル）チタンジクロライド、
フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタ
ンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタンジクロラ
イド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、ジ
メチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタンジクロライ
ド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（５−メチル−
３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロライド、
ジメチルシリレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）
（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フ
ェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フ
ルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２
−フェノキシ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン
（フルオレニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキ
シ）チタンジクロライド、ジメチルシリレン（フルオレ
ニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタンジクロ
ライド、ジメチルシリレン（フルオレニル）（１−ナフ
トキシ−２−イル）チタンジクロライド、
【０１０６】（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）テトラメチル
シクロペンタジエニル−１，２−エタンジイルチタンジ
クロライド、（メチルアミド）テトラメチルシクロペン
タジエニル−１，２−エタンジイルチタンジクロライ
ド、（エチルアミド）テトラメチルシクロペンタジエニ
ル−１，２−エタンジイルチタンジクロライド、（ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミド）テトラメチルシクロペンタジエニ
ルジメチルシランチタンジクロライド、（ベンジルアミ
ド）テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシラン
チタンジクロライド、（フェニルフォスファイド）テト
ラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジ
クロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）インデニル−
１，２−エタンジイルチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ
−ブチルアミド）テトラヒドロインデニル−１，２−エ
タンジイルチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルア
ミド）フルオレニル−１，２−エタンジイルチタンジク
ロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）インデニルジメ
チルシランチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルア
ミド）テトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジ
クロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）フルオレニル
ジメチルシランチタンジクロライド、
シクロペンタジエニル−１，２−エタンジイルチタンジ
クロライド、（メチルアミド）テトラメチルシクロペン
タジエニル−１，２−エタンジイルチタンジクロライ
ド、（エチルアミド）テトラメチルシクロペンタジエニ
ル−１，２−エタンジイルチタンジクロライド、（ｔｅ
ｒｔ−ブチルアミド）テトラメチルシクロペンタジエニ
ルジメチルシランチタンジクロライド、（ベンジルアミ
ド）テトラメチルシクロペンタジエニルジメチルシラン
チタンジクロライド、（フェニルフォスファイド）テト
ラメチルシクロペンタジエニルジメチルシランチタンジ
クロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）インデニル−
１，２−エタンジイルチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ
−ブチルアミド）テトラヒドロインデニル−１，２−エ
タンジイルチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルア
ミド）フルオレニル−１，２−エタンジイルチタンジク
ロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）インデニルジメ
チルシランチタンジクロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルア
ミド）テトラヒドロインデニルジメチルシランチタンジ
クロライド、（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）フルオレニル
ジメチルシランチタンジクロライド、
【０１０７】（ジメチルアミノメチル）テトラメチルシ
クロペンタジエニルチタン（III）ジクロライド、（ジ
メチルアミノエチル）テトラメチルシクロペンタジエニ
ルチタン（III）ジクロライド、（ジメチルアミノプロ
ピル）テトラメチルシクロペンタジエニルチタン（II
I）ジクロライド、（Ｎ−ピロリジニルエチル）テトラ
メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、（Ｂ
−ジメチルアミノボラベンゼン）シクロペンタジエニル
チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（９−メシ
チルボラアントラセニル）チタンジクロライド、
クロペンタジエニルチタン（III）ジクロライド、（ジ
メチルアミノエチル）テトラメチルシクロペンタジエニ
ルチタン（III）ジクロライド、（ジメチルアミノプロ
ピル）テトラメチルシクロペンタジエニルチタン（II
I）ジクロライド、（Ｎ−ピロリジニルエチル）テトラ
メチルシクロペンタジエニルチタンジクロライド、（Ｂ
−ジメチルアミノボラベンゼン）シクロペンタジエニル
チタンジクロライド、シクロペンタジエニル（９−メシ
チルボラアントラセニル）チタンジクロライド、
【０１０８】２，２’−チオビス［４−メチル−６−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェノキシ］チタンジクロライド、２，
２’−チオビス［４−メチル−６−（１−メチルエチ
ル）フェノキシ］チタンジクロライド、２，２’−チオ
ビス（４，６−ジメチルフェノキシ）チタンジクロライ
ド、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノキシ）チタンジクロライド、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
キシ）チタンジクロライド、２，２’−エチレンビス
（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）チタ
ンジクロライド、２，２’−スルフィニルビス（４−メ
チル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）チタンジクロ
ライド、２，２’−（４，４’，６，６’−テトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−１，１’ビフェノキシ）チタンジクロ
ライド、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３−プロパンジ
アミド）チタンジクロライド、（ジシクロヘキシル−
１，３−プロパンジアミド）チタンジクロライド、
ｅｒｔ−ブチルフェノキシ］チタンジクロライド、２，
２’−チオビス［４−メチル−６−（１−メチルエチ
ル）フェノキシ］チタンジクロライド、２，２’−チオ
ビス（４，６−ジメチルフェノキシ）チタンジクロライ
ド、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−
ブチルフェノキシ）チタンジクロライド、２，２’−メ
チレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
キシ）チタンジクロライド、２，２’−エチレンビス
（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）チタ
ンジクロライド、２，２’−スルフィニルビス（４−メ
チル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）チタンジクロ
ライド、２，２’−（４，４’，６，６’−テトラ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−１，１’ビフェノキシ）チタンジクロ
ライド、（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，３−プロパンジ
アミド）チタンジクロライド、（ジシクロヘキシル−
１，３−プロパンジアミド）チタンジクロライド、
【０１０９】［ビス（トリメチルシリル）−１，３−プ
ロパンジジアミド］チタンジクロライド、［ビス（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−プロパンジア
ミド］チタンジクロライド、［ビス（２，６−ジメチル
フェニル）−１，３−プロパンジアミド］チタンジクロ
ライド、［ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−
１，３−プロパンジアミド］チタンジクロライド、［ビ
ス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３
−プロパンジアミド］チタンジクロライド、［ビス（ト
リイソプロピルシリル）ナフタレンジアミド］チタンジ
クロライド、［ビス（トリメチルシリル）ナフタレンジ
アミド］チタンジクロライド、［ビス（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル）ナフタレンジアミド］チタンジクロ
ライド、［ヒドロトリス（３，５−ジメチルピラゾリ
ル）ボレート］チタントリクロライド、［ヒドロトリス
（３，５−ジエチルピラゾリル）ボレート］チタントリ
クロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルピラゾリル）ボレート］チタントリクロライド、
［トリス（３，５−ジメチルピラゾリル）メチル］チタ
ントリクロライド、［トリス（３，５−ジエチルピラゾ
リル）メチル］チタントリクロライド、［トリス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾリル）メチル］チタン
トリクロライド、などや、これらの化合物のチタンをジ
ルコニウムまたはハフニウムに変更した化合物、（２−
フェノキシ）を（３−フェニル−２−フェノキシ）、
（３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）、または
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキ
シ）に変更した化合物、ジメチルシリレンをメチレン、
エチレン、ジメチルメチレン（イソプロピリデン）、ジ
フェニルメチレン、ジエチルシリレン、ジフェニルシリ
レン、またはジメトキシシリレンに変更した化合物、ジ
クロライドをジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオ
ダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフェ
ニル、またはジベンジルに変更した化合物、トリクロラ
イドをトリフルオライド、トリブロマイド、トリアイオ
ダイド、トリメチル、トリエチル、トリイソプロピル、
トリフェニル、またはトリベンジルに変更した化合物な
どを例示することができる。
ロパンジジアミド］チタンジクロライド、［ビス（ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−プロパンジア
ミド］チタンジクロライド、［ビス（２，６−ジメチル
フェニル）−１，３−プロパンジアミド］チタンジクロ
ライド、［ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）−
１，３−プロパンジアミド］チタンジクロライド、［ビ
ス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，３
−プロパンジアミド］チタンジクロライド、［ビス（ト
リイソプロピルシリル）ナフタレンジアミド］チタンジ
クロライド、［ビス（トリメチルシリル）ナフタレンジ
アミド］チタンジクロライド、［ビス（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル）ナフタレンジアミド］チタンジクロ
ライド、［ヒドロトリス（３，５−ジメチルピラゾリ
ル）ボレート］チタントリクロライド、［ヒドロトリス
（３，５−ジエチルピラゾリル）ボレート］チタントリ
クロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−
ブチルピラゾリル）ボレート］チタントリクロライド、
［トリス（３，５−ジメチルピラゾリル）メチル］チタ
ントリクロライド、［トリス（３，５−ジエチルピラゾ
リル）メチル］チタントリクロライド、［トリス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾリル）メチル］チタン
トリクロライド、などや、これらの化合物のチタンをジ
ルコニウムまたはハフニウムに変更した化合物、（２−
フェノキシ）を（３−フェニル−２−フェノキシ）、
（３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）、または
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２−フェノキ
シ）に変更した化合物、ジメチルシリレンをメチレン、
エチレン、ジメチルメチレン（イソプロピリデン）、ジ
フェニルメチレン、ジエチルシリレン、ジフェニルシリ
レン、またはジメトキシシリレンに変更した化合物、ジ
クロライドをジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオ
ダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフェ
ニル、またはジベンジルに変更した化合物、トリクロラ
イドをトリフルオライド、トリブロマイド、トリアイオ
ダイド、トリメチル、トリエチル、トリイソプロピル、
トリフェニル、またはトリベンジルに変更した化合物な
どを例示することができる。
【０１１０】一般式［４］で表される遷移金属化合物の
うち、遷移金属原子がニッケル原子である化合物の具体
例としては、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５’−ジメチルオキサゾリン］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−フェニル−５，５’−ジエチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−フェニル−５，５’−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５’−ジイソプロピル
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５’−ジシク
ロヘキシルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，
５’−ジメトキシオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル
−５，５’−ジエトキシオキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェ
ニル−５，５’−ジフェニルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、
うち、遷移金属原子がニッケル原子である化合物の具体
例としては、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５’−ジメチルオキサゾリン］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−フェニル−５，５’−ジエチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−フェニル−５，５’−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５’−ジイソプロピル
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５’−ジシク
ロヘキシルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，
５’−ジメトキシオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル
−５，５’−ジエトキシオキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェ
ニル−５，５’−ジフェニルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、
【０１１１】２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
メチル−５，５−ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾ
リン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−ジ−（３−メチルフ
ェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−
ジ−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
メチル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−ジ−（３−メトキ
シフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−メチル−５，
５−ジ−（４−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−５，１’−シク
ロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−メチ
ルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−５，１’−シク
ロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
メチル−５，５−ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾ
リン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−ジ−（３−メチルフ
ェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−
ジ−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
メチル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−メチル−５，５−ジ−（３−メトキ
シフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−メチル−５，
５−ジ−（４−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−５，１’−シク
ロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−メチ
ルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−メチルオキサゾリン−５，１’−シク
ロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
【０１１２】２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
イソプロピル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−イソプロピル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオ
キサゾリン］、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−イソプロピル−５，５−ジイソプロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジシクロヘキ
シルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−
ジフェニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（３−メチルフ
ェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（２−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）オキサゾリン］
ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（４−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
イソプロピル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−イソプロピル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオ
キサゾリン］、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−イソプロピル−５，５−ジイソプロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジシクロヘキ
シルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−
ジフェニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（３−メチルフ
ェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（２−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソプロピル−
５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）オキサゾリン］
ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−イソプロピル−５，５−ジ−（４−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
【０１１３】２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾリン−５，１’−シク
ロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾ
リン−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマ
イド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４
−イソプロピルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサ
ン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾリン−
５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−
５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチ
ル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブ
チル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−イソブチル−５，５−ジ−イソプロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジフ
ェニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’
−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−
ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
イソブチル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキ
サゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレン
ビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジ−（４−
メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチ
ル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジ−（３−メト
キシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−
５，５−ジ−（４−メトキシフェニル）オキサゾリン］
ニッケルジブロマイド、
Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾリン−５，１’−シク
ロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾ
リン−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマ
イド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４
−イソプロピルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサ
ン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソプロピルオキサゾリン−
５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−
５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチ
ル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブ
チル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−イソブチル−５，５−ジ−イソプロピルオキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジフ
ェニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’
−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−
ジ−（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
イソブチル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキ
サゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレン
ビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジ−（４−
メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチ
ル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−イソブチル−５，５−ジ−（３−メト
キシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−イソブチル−
５，５−ジ−（４−メトキシフェニル）オキサゾリン］
ニッケルジブロマイド、
【０１１４】２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン−５，１’−シクロ
ブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレン
ビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン
−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−
イソブチルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサ
ン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン−
５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−ｎ−プロピル
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−
ジ−イソプロピルオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ
−ブチル−５，５−ジフェニルオキサゾリン］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジシクロヘキシルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オ
キサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ
−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブ
ロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニ
ル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，
５−ジ−（３−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）
−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（４−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン−５，１’−シクロ
ブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレン
ビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン
−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−
イソブチルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサ
ン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［スピロ｛（４Ｒ）−４−イソブチルオキサゾリン−
５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−ｎ−プロピル
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−
ジ−イソプロピルオキサゾリン］ニッケルジブロマイ
ド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ
−ブチル−５，５−ジフェニルオキサゾリン］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４
−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジシクロヘキシルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オ
キサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレ
ンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ
−（４−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブ
ロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（２−メトキシフェニ
ル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，
５−ジ−（３−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）
−４−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５−ジ−（４−メトキシ
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、
【０１１５】２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチルオキサゾリン−５，１’−
シクロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル
オキサゾリン−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチルオキサゾリン−５，１’−
シクロヘキサン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルオキサゾリン−５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケ
ルジブロマイド、
Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチルオキサゾリン−５，１’−
シクロブタン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル
オキサゾリン−５，１’−シクロペンタン｝］ニッケル
ジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチルオキサゾリン−５，１’−
シクロヘキサン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチ
ルオキサゾリン−５，１’−シクロヘプタン｝］ニッケ
ルジブロマイド、
【０１１６】２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−イソプロピルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジフェ
ニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェ
ニル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−（４−メチル
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５
−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−フェニル−５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−（４
−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、
フェニル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
フェニル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−イソプロピルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジフェ
ニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェ
ニル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−（４−メチル
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５
−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−フェニル−５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−５，５−ジ−（４
−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、
【０１１７】２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−５，１’−シクロブ
タン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［スピロ｛（４Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−フェ
ニルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−５，１’−シ
クロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−５，１’−シクロブ
タン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［スピロ｛（４Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−フェ
ニルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−フェニルオキサゾリン−５，１’−シ
クロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、
【０１１８】２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
ベンジル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
ベンジル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
ベンジル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−イソプロピルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジフェ
ニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベン
ジル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−（４−メチル
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５
−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−ベンジル−５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−（４
−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、
ベンジル−５，５−ジメチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
ベンジル−５，５−ジエチルオキサゾリン］ニッケルジ
ブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−
ベンジル−５，５−ジ−ｎ−プロピルオキサゾリン］ニ
ッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４
Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−イソプロピルオキサ
ゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジシクロヘキシ
ルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メ
チレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジフェ
ニルオキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−
メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−
（２−メチルフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロ
マイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベン
ジル−５，５−ジ−（３−メチルフェニル）オキサゾリ
ン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス
［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−（４−メチル
フェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，
２’−メチレンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５
−ジ−（２−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケ
ルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［（４Ｒ）−
４−ベンジル−５，５−ジ−（３−メトキシフェニル）
オキサゾリン］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチ
レンビス［（４Ｒ）−４−ベンジル−５，５−ジ−（４
−メトキシフェニル）オキサゾリン］ニッケルジブロマ
イド、
【０１１９】２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４
Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−５，１’−シクロブ
タン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ベン
ジルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−５，１’−シ
クロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、および上記各
化合物の対掌体などが挙げられる。また、上記ビスオキ
サゾリン型化合物の一方のオキサゾリン環の不斉炭素の
立体配置を逆の配置にした化合物や、これらの化合物の
ジブロマイドをジフルオライド、ジクロライド、ジアイ
オダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフ
ェニル、またはジベンジルに変更した化合物などを例示
することができる。
Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−５，１’−シクロブ
タン｝］ニッケルジブロマイド、２，２’−メチレンビ
ス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−
５，１’−シクロペンタン｝］ニッケルジブロマイド、
２，２’−メチレンビス［スピロ｛（４Ｒ）−４−ベン
ジルオキサゾリン−５，１’−シクロヘキサン｝］ニッ
ケルジブロマイド、２，２’−メチレンビス［スピロ
｛（４Ｒ）−４−ベンジルオキサゾリン−５，１’−シ
クロヘプタン｝］ニッケルジブロマイド、および上記各
化合物の対掌体などが挙げられる。また、上記ビスオキ
サゾリン型化合物の一方のオキサゾリン環の不斉炭素の
立体配置を逆の配置にした化合物や、これらの化合物の
ジブロマイドをジフルオライド、ジクロライド、ジアイ
オダイド、ジメチル、ジエチル、ジイソプロピル、ジフ
ェニル、またはジベンジルに変更した化合物などを例示
することができる。
【０１２０】さらにニッケル化合物の具体例としては、
［ヒドロトリス（３，５−ジメチルピラゾリル）ボレー
ト］ニッケルクロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジ
エチルピラゾリル）ボレート］ニッケルクロライド、
［ヒドロトリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾ
リル）ボレート］ニッケルクロライドや、これらの化合
物のクロライドを、ブロマイド、アイオダイド、メチ
ル、エチル、アリル、またはメタリルに変更した化合物
が挙げられる。
［ヒドロトリス（３，５−ジメチルピラゾリル）ボレー
ト］ニッケルクロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジ
エチルピラゾリル）ボレート］ニッケルクロライド、
［ヒドロトリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾ
リル）ボレート］ニッケルクロライドや、これらの化合
物のクロライドを、ブロマイド、アイオダイド、メチ
ル、エチル、アリル、またはメタリルに変更した化合物
が挙げられる。
【０１２１】そしてニッケル化合物として、下記構造式
にて示される化合物などが挙げられる。 （式中、Ｒ5 とＲ6 はそれぞれ２，６−ジイソプロピル
フェニル基であり、Ｒ7およびＲ8 はそれぞれ水素原子
またはメチル基あるいはＲ7 とＲ8 とがいっしょになっ
てアセナフテン基であり、Ｘ2 はフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、よう素原子、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル
基、またはベンジル基である。） また、上記のニッケル化合物において、ニッケルをパラ
ジウム、コバルト、ロジウム、またはルテニウムに置き
換えた化合物も同様に例示することができる。
にて示される化合物などが挙げられる。 （式中、Ｒ5 とＲ6 はそれぞれ２，６−ジイソプロピル
フェニル基であり、Ｒ7およびＲ8 はそれぞれ水素原子
またはメチル基あるいはＲ7 とＲ8 とがいっしょになっ
てアセナフテン基であり、Ｘ2 はフッ素原子、塩素原
子、臭素原子、よう素原子、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、フェニル
基、またはベンジル基である。） また、上記のニッケル化合物において、ニッケルをパラ
ジウム、コバルト、ロジウム、またはルテニウムに置き
換えた化合物も同様に例示することができる。
【０１２２】一般式［４］で表される遷移金属化合物の
うち、遷移金属原子が鉄である化合物の具体例として
は、２，６−ビス−［１−（２，６−ジメチルフェニル
イミノ）エチル］ピリジン鉄ジクロライド、２，６−ビ
ス−［１−（２，６−ジイソプロピルフェニルイミノ）
エチル］ピリジン鉄ジクロライド、２，６−ビス−［１
−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルイミノ）エチル］
ピリジン鉄ジクロライドなどや、これらの化合物のジク
ロライドを、ジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオ
ダイド、ジメチル、またはジエチルに変更した化合物が
挙げられる。
うち、遷移金属原子が鉄である化合物の具体例として
は、２，６−ビス−［１−（２，６−ジメチルフェニル
イミノ）エチル］ピリジン鉄ジクロライド、２，６−ビ
ス−［１−（２，６−ジイソプロピルフェニルイミノ）
エチル］ピリジン鉄ジクロライド、２，６−ビス−［１
−（２−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルイミノ）エチル］
ピリジン鉄ジクロライドなどや、これらの化合物のジク
ロライドを、ジフルオライド、ジブロマイド、ジアイオ
ダイド、ジメチル、またはジエチルに変更した化合物が
挙げられる。
【０１２３】さらに鉄化合物の具体例としては、［ヒド
ロトリス（３，５−ジメチルピラゾリル）ボレート］鉄
クロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジエチルピラゾ
リル）ボレート］鉄クロライド、［ヒドロトリス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾリル）ボレート］鉄ク
ロライドなどや、これらの化合物のクロライドを、フル
オライド、ブロマイド、アイオダイド、メチル、エチ
ル、アリル、またはメタリルに変更した化合物が挙げら
れる。また、上記の鉄化合物において、鉄をコバルトま
たはニッケルに置き換えた化合物も同様に例示すること
ができる。
ロトリス（３，５−ジメチルピラゾリル）ボレート］鉄
クロライド、［ヒドロトリス（３，５−ジエチルピラゾ
リル）ボレート］鉄クロライド、［ヒドロトリス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルピラゾリル）ボレート］鉄ク
ロライドなどや、これらの化合物のクロライドを、フル
オライド、ブロマイド、アイオダイド、メチル、エチ
ル、アリル、またはメタリルに変更した化合物が挙げら
れる。また、上記の鉄化合物において、鉄をコバルトま
たはニッケルに置き換えた化合物も同様に例示すること
ができる。
【０１２４】また一般式［４］で表される遷移金属化合
物のμ−オキソタイプの遷移金属化合物の具体例として
は、μ−オキソビス［イソプロピリデン（シクロペンタ
ジエニル）（２−フェノキシ）チタンクロライド］、μ
−オキソビス［イソプロピリデン（シクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロ
ピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノ
キシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロ
ピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンクロ
ライド］、μ−オキソビス［イソプロピリデン（テトラ
メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタ
ンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロピリデン
（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ
−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンクロラ
イド］、μ−オキソビス［ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンクロライ
ド］、μ−オキソビス［ジメチルシリレン（シクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス
［ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（２−フェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビ
ス［ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［ジメチルシ
リレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フ
ェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［ジメ
チルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタンクロライド］などが挙げられる。また、これ
らの化合物のクロライドをフルオライド、ブロマイド、
アイオダイド、メチル、エチル、イソプロピル、フェニ
ル、またはベンジルに変更した化合物などを例示するこ
とができる。
物のμ−オキソタイプの遷移金属化合物の具体例として
は、μ−オキソビス［イソプロピリデン（シクロペンタ
ジエニル）（２−フェノキシ）チタンクロライド］、μ
−オキソビス［イソプロピリデン（シクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロ
ピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノ
キシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロ
ピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンクロ
ライド］、μ−オキソビス［イソプロピリデン（テトラ
メチルシクロペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタ
ンクロライド］、μ−オキソビス［イソプロピリデン
（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ
−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタンクロラ
イド］、μ−オキソビス［ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル）（２−フェノキシ）チタンクロライ
ド］、μ−オキソビス［ジメチルシリレン（シクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス
［ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（２−フェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビ
ス［ジメチルシリレン（メチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［ジメチルシ
リレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（２−フ
ェノキシ）チタンクロライド］、μ−オキソビス［ジメ
チルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタンクロライド］などが挙げられる。また、これ
らの化合物のクロライドをフルオライド、ブロマイド、
アイオダイド、メチル、エチル、イソプロピル、フェニ
ル、またはベンジルに変更した化合物などを例示するこ
とができる。
【０１２５】以上に例示した一般式［４］で表される遷
移金属化合物やそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物
の他に、遷移金属化合物（Ｂ）として用いられる化合物
を例示すると、遷移金属原子がニッケル原子である化合
物として塩化ニッケル、臭化ニッケル、よう化ニッケ
ル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、過塩素酸ニッケル、
酢酸ニッケル、トリフルオロ酢酸ニッケル、シアン化ニ
ッケル、蓚酸ニッケル、ニッケルアセチルアセトナー
ト、ビス（アリル）ニッケル、ビス（１，５−シクロオ
クタジエン）ニッケル、ジクロロ（１，５−シクロオク
タジエン）ニッケル、ジクロロビス（アセトニトリル）
ニッケル、ジクロロビス（ベンゾニトリル）ニッケル、
カルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ニッケ
ル、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）ニッケル、
ジアセトビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テ
トラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、ジクロ
ロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニ
ッケル、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）
エタン］ニッケル、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）プロパン］ニッケル、ビス［１，３−ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ニッケル、テト
ラアミンニッケルナイトレート、テトラキス（アセトニ
トリル）ニッケルテトラフルオロボレート、ニッケルフ
タロシアニンなどが挙げられる。
移金属化合物やそのμ−オキソタイプの遷移金属化合物
の他に、遷移金属化合物（Ｂ）として用いられる化合物
を例示すると、遷移金属原子がニッケル原子である化合
物として塩化ニッケル、臭化ニッケル、よう化ニッケ
ル、硫酸ニッケル、硝酸ニッケル、過塩素酸ニッケル、
酢酸ニッケル、トリフルオロ酢酸ニッケル、シアン化ニ
ッケル、蓚酸ニッケル、ニッケルアセチルアセトナー
ト、ビス（アリル）ニッケル、ビス（１，５−シクロオ
クタジエン）ニッケル、ジクロロ（１，５−シクロオク
タジエン）ニッケル、ジクロロビス（アセトニトリル）
ニッケル、ジクロロビス（ベンゾニトリル）ニッケル、
カルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ニッケ
ル、ジクロロビス（トリエチルホスフィン）ニッケル、
ジアセトビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テ
トラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、ジクロ
ロ［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン］ニ
ッケル、ビス［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）
エタン］ニッケル、ジクロロ［１，３−ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）プロパン］ニッケル、ビス［１，３−ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）プロパン］ニッケル、テト
ラアミンニッケルナイトレート、テトラキス（アセトニ
トリル）ニッケルテトラフルオロボレート、ニッケルフ
タロシアニンなどが挙げられる。
【０１２６】同様に、遷移金属原子がバナジウム原子で
ある化合物の具体例としてはバナジウムアセチルアセト
ナート、バナジウムテトラクロライド、バナジウムオキ
シトリクロライドなどが挙げられる。また、遷移金属原
子がサマリウム原子である化合物の具体例としてはビス
（ペンタメチルシクロペンタジエニル）サマリウムメチ
ルテトラヒドロフランなどが挙げられる。遷移金属原子
がイッテルビウム原子である化合物の具体例としてはビ
ス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イッテルビウ
ムメチルテトラヒドロフランなどが挙げられる。
ある化合物の具体例としてはバナジウムアセチルアセト
ナート、バナジウムテトラクロライド、バナジウムオキ
シトリクロライドなどが挙げられる。また、遷移金属原
子がサマリウム原子である化合物の具体例としてはビス
（ペンタメチルシクロペンタジエニル）サマリウムメチ
ルテトラヒドロフランなどが挙げられる。遷移金属原子
がイッテルビウム原子である化合物の具体例としてはビ
ス（ペンタメチルシクロペンタジエニル）イッテルビウ
ムメチルテトラヒドロフランなどが挙げられる。
【０１２７】これらの遷移金属化合物は一種類のみを用
いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
いても、二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２８】以上に例示した遷移金属化合物のうち、本
発明で用いる遷移金属化合物（Ｂ）として好ましくは上
記の一般式［４］で表される遷移金属化合物である。中
でも、上記一般式［４］におけるＭ2 が第４族原子であ
る遷移金属化合物が好ましく、特に一般式［４］におけ
るＬ2 としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有す
る基を少なくとも一つ持つ遷移金属化合物が好ましい。
発明で用いる遷移金属化合物（Ｂ）として好ましくは上
記の一般式［４］で表される遷移金属化合物である。中
でも、上記一般式［４］におけるＭ2 が第４族原子であ
る遷移金属化合物が好ましく、特に一般式［４］におけ
るＬ2 としてシクロペンタジエン形アニオン骨格を有す
る基を少なくとも一つ持つ遷移金属化合物が好ましい。
【０１２９】（Ｃ）有機アルミニウム化合物
本発明の付加重合用触媒に使用される成分（Ｃ）有機ア
ルミニウム化合物としては、公知の有機アルミニウム化
合物が使用できる。好ましくは、下記一般式［７］で示
される有機アルミニウム化合物である。 Ｒ9 cＡｌＹ3-c ［７］ （式中、Ｒ9 は炭化水素基を表し、全てのＲ9 は同一で
あっても異なっていてもよい。Ｙは水素原子、ハロゲン
原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリ
ールオキシ基を表し、全てのＹは同一であっても異なっ
ていてもよい。ｃは０＜ｃ≦３を満足する数を表す。）
ルミニウム化合物としては、公知の有機アルミニウム化
合物が使用できる。好ましくは、下記一般式［７］で示
される有機アルミニウム化合物である。 Ｒ9 cＡｌＹ3-c ［７］ （式中、Ｒ9 は炭化水素基を表し、全てのＲ9 は同一で
あっても異なっていてもよい。Ｙは水素原子、ハロゲン
原子、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリ
ールオキシ基を表し、全てのＹは同一であっても異なっ
ていてもよい。ｃは０＜ｃ≦３を満足する数を表す。）
【０１３０】有機アルミニウム化合物を表す一般式
［７］におけるＲ9 として好ましくは炭素原子数１〜２
４の炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数１〜
２４のアルキル基である。具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｎ−オク
チル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基またはｎ−オクチル
基である。
［７］におけるＲ9 として好ましくは炭素原子数１〜２
４の炭化水素基であり、より好ましくは炭素原子数１〜
２４のアルキル基である。具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル
基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルヘキシル基、ｎ−オク
チル基等が挙げられ、好ましくはエチル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基またはｎ−オクチル
基である。
【０１３１】また、Ｙがハロゲン原子である場合の具体
例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。Ｙにおけ
るアルコキシ基としては炭素原子数１〜２４のアルコキ
シ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキ
シ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキ
ソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−
ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられ、
好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはｔｅｒｔ−ブ
トキシ基である。
例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子が挙げられ、好ましくは塩素原子である。Ｙにおけ
るアルコキシ基としては炭素原子数１〜２４のアルコキ
シ基が好ましく、具体例としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキ
シ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキ
ソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−
ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられ、
好ましくはメトキシ基、エトキシ基またはｔｅｒｔ−ブ
トキシ基である。
【０１３２】Ｙにおけるアリールオキシ基としては炭素
原子数６〜２４のアリールオキシ基が好ましく、具体例
としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ
基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ
基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチル
フェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６
−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ
基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリ
メチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキ
シ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，
５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチル
フェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、
２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，
４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−
テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ
基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、
イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、
ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
キシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェ
ノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシル
フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基など
が挙げられる。
原子数６〜２４のアリールオキシ基が好ましく、具体例
としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェノキシ
基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ
基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチル
フェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６
−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ
基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリ
メチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキ
シ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，
５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチル
フェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、
２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，
４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−
テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ
基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、
イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、
ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノ
キシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェ
ノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシル
フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基など
が挙げられる。
【０１３３】Ｙにおけるアラルキルオキシ基としては炭
素原子数７〜２４のアラルキルオキシ基が好ましく、具
体例としては、例えばベンジルオキシ基、（２−メチル
フェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキ
シ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメ
チルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチル
フェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェ
ニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）
メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、
（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ
基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブ
チルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ
基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニ
ル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニル
メトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ
基である。
素原子数７〜２４のアラルキルオキシ基が好ましく、具
体例としては、例えばベンジルオキシ基、（２−メチル
フェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキ
シ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフ
ェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，５−
ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメ
チルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチル
フェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェ
ニル）メトキシ基、（２，４，５−トリメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メ
トキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）
メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、
（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニ
ル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ
基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブ
チルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ
基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニ
ル）メトキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニル
メトキシ基などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ
基である。
【０１３４】一般式［７］で表される有機アルミニウム
化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウ
ム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリ−
ｎ−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウ
ム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミ
ニウムクロライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウムクロ
ライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムクロライド、ジイ
ソブチルアルミニウムクロライド、ジ−ｎ−ヘキシルア
ルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロ
ライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアル
ミニウムジクロライド、ｎ−プロピルアルミニウムジク
ロライド、ｎ−ブチルアルミニウムジクロライド、イソ
ブチルアルミニウムジクロライド、ｎ−ヘキシルアルミ
ニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロラ
イド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウ
ムハイドライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−ｎ
−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルア
ルミニウムハイドライド；メチル（ジメトキシ）アルミ
ニウム、メチル（ジエトキシ）アルミニウム、メチル
（ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のアルキル
（ジアルコキシ）アルミニウム；ジメチル（メトキシ）
アルミニウム、ジメチル（エトキシ）アルミニウム、ジ
メチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のジアル
キル（アルコキシ）アルミニウム；メチル（ジフェノキ
シ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジイソプロピ
ルフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジ
フェニルフェノキシ）アルミニウム等のアルキル（ジア
リールオキシ）アルミニウム；ジメチル（フェノキシ）
アルミニウム、ジメチル（２，６−ジイソプロピルフェ
ノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジフェニル
フェノキシ）アルミニウム等のジアルキル（アリールオ
キシ）アルミニウム等を例示することができる。
化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリ−ｎ−プロピルアルミニウ
ム、トリ−ｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルア
ルミニウム、トリ−ｎ−ヘキシルアルミニウム、トリ−
ｎ−オクチルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウ
ム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミ
ニウムクロライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウムクロ
ライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムクロライド、ジイ
ソブチルアルミニウムクロライド、ジ−ｎ−ヘキシルア
ルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロ
ライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアル
ミニウムジクロライド、ｎ−プロピルアルミニウムジク
ロライド、ｎ−ブチルアルミニウムジクロライド、イソ
ブチルアルミニウムジクロライド、ｎ−ヘキシルアルミ
ニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロラ
イド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルア
ルミニウムハイドライド、ジ−ｎ−プロピルアルミニウ
ムハイドライド、ジ−ｎ−ブチルアルミニウムハイドラ
イド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジ−ｎ
−ヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルア
ルミニウムハイドライド；メチル（ジメトキシ）アルミ
ニウム、メチル（ジエトキシ）アルミニウム、メチル
（ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のアルキル
（ジアルコキシ）アルミニウム；ジメチル（メトキシ）
アルミニウム、ジメチル（エトキシ）アルミニウム、ジ
メチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウム等のジアル
キル（アルコキシ）アルミニウム；メチル（ジフェノキ
シ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジイソプロピ
ルフェノキシ）アルミニウム、メチルビス（２，６−ジ
フェニルフェノキシ）アルミニウム等のアルキル（ジア
リールオキシ）アルミニウム；ジメチル（フェノキシ）
アルミニウム、ジメチル（２，６−ジイソプロピルフェ
ノキシ）アルミニウム、ジメチル（２，６−ジフェニル
フェノキシ）アルミニウム等のジアルキル（アリールオ
キシ）アルミニウム等を例示することができる。
【０１３５】これらの内、好ましくはトリアルキルアル
ミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘ
キシルアルミニウムまたはトリ−ｎ−オクチルアルミニ
ウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウ
ムまたはトリ−ｎ−オクチルアルミニウムである。これ
らの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、
二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
ミニウムであり、さらに好ましくはトリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリ−ｎ−ブチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−ｎ−ヘ
キシルアルミニウムまたはトリ−ｎ−オクチルアルミニ
ウムであり、特に好ましくはトリイソブチルアルミニウ
ムまたはトリ−ｎ−オクチルアルミニウムである。これ
らの有機アルミニウム化合物は一種類のみを用いても、
二種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３６】成分（Ｂ）の使用量は、成分（Ａ）１ｇに
対し通常１×１０-6〜１×１０-3ｍｏｌであり、好まし
くは５×１０-6〜５×１０-4ｍｏｌである。また成分
（Ｃ）の使用量は、成分（Ｂ）遷移金属化合物の遷移金
属原子に対する成分（Ｃ）有機アルミニウム化合物のア
ルミニウム原子のモル比（Ｃ）／（Ｂ）として、０．０
１〜１０，０００であることが好ましく、０．１〜５，
０００であることがより好ましく、１〜２，０００であ
ることが最も好ましい。
対し通常１×１０-6〜１×１０-3ｍｏｌであり、好まし
くは５×１０-6〜５×１０-4ｍｏｌである。また成分
（Ｃ）の使用量は、成分（Ｂ）遷移金属化合物の遷移金
属原子に対する成分（Ｃ）有機アルミニウム化合物のア
ルミニウム原子のモル比（Ｃ）／（Ｂ）として、０．０
１〜１０，０００であることが好ましく、０．１〜５，
０００であることがより好ましく、１〜２，０００であ
ることが最も好ましい。
【０１３７】本発明の付加重合用触媒としては、成分
（Ａ）および成分（Ｂ）、場合によってはさらに成分
（Ｃ）を予め接触させて得られた反応物を用いてもよ
く、重合反応装置中に別々に投入して用いてもよい。成
分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を用いる場合には、それ
らの内の任意の２つの成分を予め接触させて、その後も
う一つの成分を接触させてもよい。
（Ａ）および成分（Ｂ）、場合によってはさらに成分
（Ｃ）を予め接触させて得られた反応物を用いてもよ
く、重合反応装置中に別々に投入して用いてもよい。成
分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を用いる場合には、それ
らの内の任意の２つの成分を予め接触させて、その後も
う一つの成分を接触させてもよい。
【０１３８】各触媒成分を触媒調製用反応器もしくは重
合用反応器に供給する方法も、特に制限されるものでは
ない。各成分を固体状態で供給する方法、水分や酸素等
の触媒成分を失活させる成分を十分に取り除いた炭化水
素溶媒に溶解させた溶液状態、または懸濁もしくはスラ
リー化させた状態で供給する方法等が挙げられる。この
ときの溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、またはメチレンクロ
ライド等のハロゲン化炭化水素が挙げられ、脂肪族炭化
水素または芳香族炭化水素が好ましい。
合用反応器に供給する方法も、特に制限されるものでは
ない。各成分を固体状態で供給する方法、水分や酸素等
の触媒成分を失活させる成分を十分に取り除いた炭化水
素溶媒に溶解させた溶液状態、または懸濁もしくはスラ
リー化させた状態で供給する方法等が挙げられる。この
ときの溶媒としては、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素溶媒、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、またはメチレンクロ
ライド等のハロゲン化炭化水素が挙げられ、脂肪族炭化
水素または芳香族炭化水素が好ましい。
【０１３９】各触媒成分を溶液状態、または懸濁もしく
はスラリー化させた状態で供給する場合、成分（Ａ）の
濃度は、通常０．０１〜１０００ｇ／リットル、好まし
くは０．１〜５００ｇ／リットルである。成分（Ｃ）の
濃度は、Ａｌ原子換算で通常０．０００１〜１００モル
／リットル、好ましくは０．０１〜１０モル／リットル
である。成分（Ｂ）の濃度は、遷移金属原子換算で通常
０．０００１〜１０００ミリモル／リットル、好ましく
は０．０１〜５０ミリモル／リットルである。
はスラリー化させた状態で供給する場合、成分（Ａ）の
濃度は、通常０．０１〜１０００ｇ／リットル、好まし
くは０．１〜５００ｇ／リットルである。成分（Ｃ）の
濃度は、Ａｌ原子換算で通常０．０００１〜１００モル
／リットル、好ましくは０．０１〜１０モル／リットル
である。成分（Ｂ）の濃度は、遷移金属原子換算で通常
０．０００１〜１０００ミリモル／リットル、好ましく
は０．０１〜５０ミリモル／リットルである。
【０１４０】重合方法も特に限定されるものではなく、
ガス状のモノマー中での気相重合、溶媒を使用する溶液
重合、スラリー重合等が可能である。溶液重合、または
スラリー重合に用いる溶媒としては、ブタン、ヘキサ
ン、ペンタン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素
溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、ま
たはメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素溶媒が
挙げられ、あるいはオレフィン自身を溶媒に用いる（バ
ルク重合）ことも可能である。重合方法は、回分式重
合、連続式重合のいずれでも可能であり、さらに重合を
反応条件の異なる２段階以上に分けて行っても良い。重
合時間は、一般に、目的とするオレフィン重合体の種
類、反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時
間の範囲を取ることができる。
ガス状のモノマー中での気相重合、溶媒を使用する溶液
重合、スラリー重合等が可能である。溶液重合、または
スラリー重合に用いる溶媒としては、ブタン、ヘキサ
ン、ペンタン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素
溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、ま
たはメチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素溶媒が
挙げられ、あるいはオレフィン自身を溶媒に用いる（バ
ルク重合）ことも可能である。重合方法は、回分式重
合、連続式重合のいずれでも可能であり、さらに重合を
反応条件の異なる２段階以上に分けて行っても良い。重
合時間は、一般に、目的とするオレフィン重合体の種
類、反応装置により適宜決定されるが、１分間〜２０時
間の範囲を取ることができる。
【０１４１】本発明は、付加重合体粒子の形成を伴う重
合（例えばスラリー重合、気相重合、バルク重合等）に
特に好適に適用される。スラリー重合は、公知のスラリ
ー重合方法、重合条件に従って行えばよいが、それらに
限定される事はない。スラリー法における好ましい重合
方法として、モノマー（およびコモノマー）、供給物、
稀釈剤などを必要に応じて連続的に添加し、かつ、ポリ
マー生成物を連続的または少なくとも周期的に取出す連
続式反応器が含まれる。反応器としては、ループ反応器
を使用する方法や攪拌反応器を使用する方法を挙げるこ
とが出来る。また、反応器が異なったり、反応条件が異
なる複数の攪拌反応器を直列または並列またはこれらの
組合せなどが挙げられる。
合（例えばスラリー重合、気相重合、バルク重合等）に
特に好適に適用される。スラリー重合は、公知のスラリ
ー重合方法、重合条件に従って行えばよいが、それらに
限定される事はない。スラリー法における好ましい重合
方法として、モノマー（およびコモノマー）、供給物、
稀釈剤などを必要に応じて連続的に添加し、かつ、ポリ
マー生成物を連続的または少なくとも周期的に取出す連
続式反応器が含まれる。反応器としては、ループ反応器
を使用する方法や攪拌反応器を使用する方法を挙げるこ
とが出来る。また、反応器が異なったり、反応条件が異
なる複数の攪拌反応器を直列または並列またはこれらの
組合せなどが挙げられる。
【０１４２】稀釈剤としては、例えばパラフィン、シク
ロパラフィンまたは芳香族炭化水素のような不活性稀釈
剤（媒質）を用いることができる。重合反応器または反
応帯域の温度は、通常約０℃〜約１５０℃、好ましくは
３０℃〜１００℃の範囲をとることができる。圧力は通
常約０．１ＭＰａ〜約１０ＭＰａに変化させることがで
き、好ましくは０．５ＭＰａ〜５ＭＰａである。触媒を
懸濁状態に保持し、媒質および少なくとも一部のモノマ
ーおよびコモノマーを液相に維持し、モノマーおよびコ
モノマーを接触させることができる圧力をとることがで
きる。従って、媒質、温度、および圧力は、付加重合体
が固体粒子として生成され、その形態で回収されるよう
に選択すればよい。
ロパラフィンまたは芳香族炭化水素のような不活性稀釈
剤（媒質）を用いることができる。重合反応器または反
応帯域の温度は、通常約０℃〜約１５０℃、好ましくは
３０℃〜１００℃の範囲をとることができる。圧力は通
常約０．１ＭＰａ〜約１０ＭＰａに変化させることがで
き、好ましくは０．５ＭＰａ〜５ＭＰａである。触媒を
懸濁状態に保持し、媒質および少なくとも一部のモノマ
ーおよびコモノマーを液相に維持し、モノマーおよびコ
モノマーを接触させることができる圧力をとることがで
きる。従って、媒質、温度、および圧力は、付加重合体
が固体粒子として生成され、その形態で回収されるよう
に選択すればよい。
【０１４３】付加重合体の分子量は反応帯域の温度の調
節、水素の導入等、公知の各種の手段によって制御する
ことができる。各触媒成分、モノマー（およびコモノマ
ー）は、公知の任意の方法によって、任意の順序で反応
器、または反応帯域に添加できる。例えば、各触媒成
分、モノマー（およびコモノマー）を反応帯域に同時に
添加する方法、逐次に添加する方法等を用いることがで
きる。所望ならば、各触媒成分はモノマー（およびコモ
ノマー）と接触させる前に、不活性雰囲気中において予
備接触させることができる。
節、水素の導入等、公知の各種の手段によって制御する
ことができる。各触媒成分、モノマー（およびコモノマ
ー）は、公知の任意の方法によって、任意の順序で反応
器、または反応帯域に添加できる。例えば、各触媒成
分、モノマー（およびコモノマー）を反応帯域に同時に
添加する方法、逐次に添加する方法等を用いることがで
きる。所望ならば、各触媒成分はモノマー（およびコモ
ノマー）と接触させる前に、不活性雰囲気中において予
備接触させることができる。
【０１４４】気相重合は、公知の気相重合方法、重合条
件に従って行えばよいが、それらに限定されることはな
い。気相重合反応装置としては、流動層型反応槽、好ま
しくは、拡大部を有する流動層型反応槽が用いられる。
反応槽内に攪拌翼が設置された反応装置でも何ら問題は
ない。各成分を重合槽に供給する方法としては通常、窒
素、アルゴン等の不活性ガス、水素、エチレン等を用い
て、水分のない状態で供給する、あるいは溶媒に溶解ま
たは稀釈して、溶液またはスラリー状態で供給する等の
方法を用いることができる。各触媒成分は個別に供給し
てもよいし、任意の成分を任意の順序にあらかじめ接触
させて供給してもよい。
件に従って行えばよいが、それらに限定されることはな
い。気相重合反応装置としては、流動層型反応槽、好ま
しくは、拡大部を有する流動層型反応槽が用いられる。
反応槽内に攪拌翼が設置された反応装置でも何ら問題は
ない。各成分を重合槽に供給する方法としては通常、窒
素、アルゴン等の不活性ガス、水素、エチレン等を用い
て、水分のない状態で供給する、あるいは溶媒に溶解ま
たは稀釈して、溶液またはスラリー状態で供給する等の
方法を用いることができる。各触媒成分は個別に供給し
てもよいし、任意の成分を任意の順序にあらかじめ接触
させて供給してもよい。
【０１４５】重合条件として、温度は重合体が溶融する
温度未満、好ましくは０℃〜１５０℃、特に好ましくは
３０℃〜１００℃の範囲である。さらに最終製品の溶融
流動性を調節する目的で、水素を分子量調節剤として添
加しても構わない。また、重合に際して、混合ガス中に
不活性ガスを共存させてもよい。
温度未満、好ましくは０℃〜１５０℃、特に好ましくは
３０℃〜１００℃の範囲である。さらに最終製品の溶融
流動性を調節する目的で、水素を分子量調節剤として添
加しても構わない。また、重合に際して、混合ガス中に
不活性ガスを共存させてもよい。
【０１４６】本発明においては、このような重合（本重
合）の実施前に以下に述べる予備重合を行ってもかまわ
ない。
合）の実施前に以下に述べる予備重合を行ってもかまわ
ない。
【０１４７】予備重合は、上記の改質された粒子（Ａ）
および遷移金属化合物（Ｂ）の存在下、あるいはさらに
有機アルミニウム化合物（Ｃ）の存在下、少量のオレフ
ィンを供給して実施され、スラリー状態で行うのが好ま
しい。スラリー化するのに用いる溶媒としては、プロパ
ン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエンのような不活性炭化水素を挙げることがで
きる。また、スラリー化に際し、不活性炭化水素溶媒の
一部または全部に変えて液状のオレフィンを用いること
ができる。
および遷移金属化合物（Ｂ）の存在下、あるいはさらに
有機アルミニウム化合物（Ｃ）の存在下、少量のオレフ
ィンを供給して実施され、スラリー状態で行うのが好ま
しい。スラリー化するのに用いる溶媒としては、プロパ
ン、ブタン、イソブタン、ペンタン、イソペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエンのような不活性炭化水素を挙げることがで
きる。また、スラリー化に際し、不活性炭化水素溶媒の
一部または全部に変えて液状のオレフィンを用いること
ができる。
【０１４８】予備重合時の有機アルミニウム化合物
（Ｃ）の使用量は、遷移金属化合物（Ｂ）１モル当た
り、０．５〜７００モルのごとく広範囲に選ぶことがで
きるが、０．８〜５００モルが好ましく、１〜２００モ
ルが特に好ましい。
（Ｃ）の使用量は、遷移金属化合物（Ｂ）１モル当た
り、０．５〜７００モルのごとく広範囲に選ぶことがで
きるが、０．８〜５００モルが好ましく、１〜２００モ
ルが特に好ましい。
【０１４９】また、予備重合されるオレフィンの量は、
上記の改質された粒子１ｇ当たり通常０．０１〜１００
０ｇ、好ましくは０．０５〜５００ｇ、特に好ましくは
０．１〜２００ｇである。
上記の改質された粒子１ｇ当たり通常０．０１〜１００
０ｇ、好ましくは０．０５〜５００ｇ、特に好ましくは
０．１〜２００ｇである。
【０１５０】予備重合を行う際のスラリー濃度は、０．
１〜５０ｇ−上記の改質された粒子／リットル−溶媒が
好ましく、特に０．５〜２０ｇ−上記の改質された粒子
／リットル−溶媒が好ましい。予備重合温度は、−２０
℃〜１００℃が好ましく、特に０℃〜８０℃が好まし
い。また、予備重合中の気相部でのオレフィンの分圧
は、０．００１ＭＰａ〜２ＭＰａが好ましく、特に０．
０１ＭＰａ〜１ＭＰａが好ましいが、予備重合の圧力、
温度において液状であるオレフィンについては、この限
りではない。さらに、予備重合時間に特に制限はない
が、通常２分間から１５時間が好適である。
１〜５０ｇ−上記の改質された粒子／リットル−溶媒が
好ましく、特に０．５〜２０ｇ−上記の改質された粒子
／リットル−溶媒が好ましい。予備重合温度は、−２０
℃〜１００℃が好ましく、特に０℃〜８０℃が好まし
い。また、予備重合中の気相部でのオレフィンの分圧
は、０．００１ＭＰａ〜２ＭＰａが好ましく、特に０．
０１ＭＰａ〜１ＭＰａが好ましいが、予備重合の圧力、
温度において液状であるオレフィンについては、この限
りではない。さらに、予備重合時間に特に制限はない
が、通常２分間から１５時間が好適である。
【０１５１】予備重合を実施する際、上記の改質された
粒子（Ａ）、遷移金属化合物（Ｂ）、有機アルミニウム
化合物（Ｃ）、オレフィンを供給する方法としては、上
記の改質された粒子（Ａ）と、遷移金属化合物（Ｂ）と
を接触させておいた後、あるいは必要に応じて有機アル
ミニウム化合物（Ｃ）をも接触させておいた後オレフィ
ンを供給する方法、上記の改質された粒子（Ａ）と、遷
移金属化合物（Ｂ）およびオレフィンとを接触させてお
いた後、有機アルミニウム化合物（Ｃ）を供給する方
法、オレフィン存在下、有機アルミニウム化合物（Ｃ）
および遷移金属化合物（Ｂ）を接触させた後、上記の改
質された粒子（Ａ）を供給する方法などのいずれの方法
を用いても良いが、上記の改質された粒子（Ａ）と有機
アルミニウム化合物（Ｃ）とを接触させる際にはオレフ
ィンが予め存在している方が好ましい。また、オレフィ
ンの供給方法としては、重合槽内が所定の圧力になるよ
うに保持しながら順次オレフィンを供給する方法、或い
は所定のオレフィン量を最初にすべて供給する方法のい
ずれの方法を用いても良い。また、得られる重合体の分
子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加するこ
とも可能である。
粒子（Ａ）、遷移金属化合物（Ｂ）、有機アルミニウム
化合物（Ｃ）、オレフィンを供給する方法としては、上
記の改質された粒子（Ａ）と、遷移金属化合物（Ｂ）と
を接触させておいた後、あるいは必要に応じて有機アル
ミニウム化合物（Ｃ）をも接触させておいた後オレフィ
ンを供給する方法、上記の改質された粒子（Ａ）と、遷
移金属化合物（Ｂ）およびオレフィンとを接触させてお
いた後、有機アルミニウム化合物（Ｃ）を供給する方
法、オレフィン存在下、有機アルミニウム化合物（Ｃ）
および遷移金属化合物（Ｂ）を接触させた後、上記の改
質された粒子（Ａ）を供給する方法などのいずれの方法
を用いても良いが、上記の改質された粒子（Ａ）と有機
アルミニウム化合物（Ｃ）とを接触させる際にはオレフ
ィンが予め存在している方が好ましい。また、オレフィ
ンの供給方法としては、重合槽内が所定の圧力になるよ
うに保持しながら順次オレフィンを供給する方法、或い
は所定のオレフィン量を最初にすべて供給する方法のい
ずれの方法を用いても良い。また、得られる重合体の分
子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加するこ
とも可能である。
【０１５２】本発明においては、このようにして予備重
合して得られたものについて、触媒成分として、あるい
は触媒として使用する。本発明に係る予備重合済の触媒
成分は、上記の改質された粒子（Ａ）、並びに第３〜１
１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合物（Ｂ）
を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オレフィン
を予備重合して得られる予備重合済付加重合用触媒成
分、あるいは、上記の改質された粒子（Ａ）、第３〜１
１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合物
（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物（Ｃ）を接触さ
せて得られる一次触媒の存在下に、オレフィンを予備重
合して得られる予備重合済付加重合用触媒成分である。
また本発明に係る予備重合済の触媒は、上記の改質され
た粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノイ
ド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる一
次触媒の存在下に、オレフィンを予備重合して得られる
付加重合用触媒、あるいは、上記の改質された粒子
（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移
金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オレ
フィンを予備重合して得られる付加重合用触媒である。
本発明に係る該予備重合済付加重合用触媒成分を用いる
触媒は、該予備重合済付加重合用触媒成分、並びに有機
アルミニウム化合物（Ｃ）を接触させて得られる付加重
合用触媒である。
合して得られたものについて、触媒成分として、あるい
は触媒として使用する。本発明に係る予備重合済の触媒
成分は、上記の改質された粒子（Ａ）、並びに第３〜１
１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合物（Ｂ）
を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オレフィン
を予備重合して得られる予備重合済付加重合用触媒成
分、あるいは、上記の改質された粒子（Ａ）、第３〜１
１族もしくはランタノイド系列の遷移金属化合物
（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物（Ｃ）を接触さ
せて得られる一次触媒の存在下に、オレフィンを予備重
合して得られる予備重合済付加重合用触媒成分である。
また本発明に係る予備重合済の触媒は、上記の改質され
た粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノイ
ド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる一
次触媒の存在下に、オレフィンを予備重合して得られる
付加重合用触媒、あるいは、上記の改質された粒子
（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系列の遷移
金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、オレ
フィンを予備重合して得られる付加重合用触媒である。
本発明に係る該予備重合済付加重合用触媒成分を用いる
触媒は、該予備重合済付加重合用触媒成分、並びに有機
アルミニウム化合物（Ｃ）を接触させて得られる付加重
合用触媒である。
【０１５３】本発明の付加重合体の製造方法は、前記の
本発明の付加重合用触媒の存在下、付加重合可能なモノ
マーを付加重合させる付加重合体の製造方法である。重
合に使用するモノマーとしては、炭素原子数２〜２０の
オレフィン、ジオレフィン、環状オレフィン、アルケニ
ル芳香族炭化水素、極性モノマー等を挙げることがで
き、同時に２種以上のモノマーを用いることもできる。
本発明の付加重合用触媒の存在下、付加重合可能なモノ
マーを付加重合させる付加重合体の製造方法である。重
合に使用するモノマーとしては、炭素原子数２〜２０の
オレフィン、ジオレフィン、環状オレフィン、アルケニ
ル芳香族炭化水素、極性モノマー等を挙げることがで
き、同時に２種以上のモノマーを用いることもできる。
【０１５４】これらの具体例としては、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、４−メチル−１−
ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン、１−ヘキセン、
１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン
等のオレフィン；１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキ
サジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエ
ン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メ
チル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘ
キサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−
エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエ
ン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエ
ン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロ
オクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナ
フタレン、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−
ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロ
オクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等のジオレ
フィン；ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネ
ン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−
ノルボルネン、５−フェニル−２−ノルボルネン、５−
ベンジル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、
トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシク
ロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、８−メチ
ルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデ
セン、５−アセチル−２−ノルボルネン、５−アセチル
オキシ−２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−
２−ノルボルネン、５−エトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−２−
ノルボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、８−メ
トキシカルボニルテトラシクロドデセン、８−メチル−
８−テトラシクロドデセン、８−シアノテトラシクロド
デセン等の環状オレフィン；スチレン、２−フェニルプ
ロピレン、２−フェニルブテン、３−フェニルプロピレ
ン等のアルケニルベンゼン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチ
レン、ｍ−エチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、α−
メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−
ジメチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，５
−ジメチルスチレン、３−メチル−５−エチルスチレ
ン、１，１−ジフェニルエチレン、ｐ−第３級ブチルス
チレン、ｐ−第２級ブチルスチレンなどのアルキルスチ
レン、ジビニルベンゼン等のビスアルケニルベンゼン、
１−ビニルナフタレン等のアルケニルナフタレン等のア
ルケニル芳香族炭化水素；アクリル酸、メタクリル酸、
フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン
酸、ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−
ジカルボン酸等のα，β−不飽和カルボン酸、およびそ
のナトリウム、カリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウ
ム、カルシウム等の金属塩、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソ
プロピル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２
−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソ
プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソ
ブチル等のα，β−不飽和カルボン酸エステル、マレイ
ン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン
酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、ト
リフルオロ酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリル酸
グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノ
グリシジルエステル等の不飽和カルボン酸グリシジルエ
ステル等の極性モノマーなどが挙げられる。
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、４−メチル−１−
ペンテン、５−メチル−１−ヘキセン、１−ヘキセン、
１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン
等のオレフィン；１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキ
サジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエ
ン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メ
チル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘ
キサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−
エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエ
ン、５−ビニル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエ
ン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロ
オクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナ
フタレン、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−
ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロ
オクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等のジオレ
フィン；ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネ
ン、５−エチル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２−
ノルボルネン、５−フェニル−２−ノルボルネン、５−
ベンジル−２−ノルボルネン、テトラシクロドデセン、
トリシクロデセン、トリシクロウンデセン、ペンタシク
ロペンタデセン、ペンタシクロヘキサデセン、８−メチ
ルテトラシクロドデセン、８−エチルテトラシクロドデ
セン、５−アセチル−２−ノルボルネン、５−アセチル
オキシ−２−ノルボルネン、５−メトキシカルボニル−
２−ノルボルネン、５−エトキシカルボニル−２−ノル
ボルネン、５−メチル−５−メトキシカルボニル−２−
ノルボルネン、５−シアノ−２−ノルボルネン、８−メ
トキシカルボニルテトラシクロドデセン、８−メチル−
８−テトラシクロドデセン、８−シアノテトラシクロド
デセン等の環状オレフィン；スチレン、２−フェニルプ
ロピレン、２−フェニルブテン、３−フェニルプロピレ
ン等のアルケニルベンゼン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−
メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチ
レン、ｍ−エチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、α−
メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−
ジメチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，５
−ジメチルスチレン、３−メチル−５−エチルスチレ
ン、１，１−ジフェニルエチレン、ｐ−第３級ブチルス
チレン、ｐ−第２級ブチルスチレンなどのアルキルスチ
レン、ジビニルベンゼン等のビスアルケニルベンゼン、
１−ビニルナフタレン等のアルケニルナフタレン等のア
ルケニル芳香族炭化水素；アクリル酸、メタクリル酸、
フマル酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン
酸、ビシクロ（２，２，１）−５−ヘプテン−２，３−
ジカルボン酸等のα，β−不飽和カルボン酸、およびそ
のナトリウム、カリウム、リチウム、亜鉛、マグネシウ
ム、カルシウム等の金属塩、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソ
プロピル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸２
−エチルヘキシル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソ
プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソ
ブチル等のα，β−不飽和カルボン酸エステル、マレイ
ン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリン
酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、ト
リフルオロ酢酸ビニル等のビニルエステル、アクリル酸
グリシジル、メタクリル酸グリシジル、イタコン酸モノ
グリシジルエステル等の不飽和カルボン酸グリシジルエ
ステル等の極性モノマーなどが挙げられる。
【０１５５】本発明は、これらのモノマーの単独重合ま
たは共重合に適用される。共重合体を構成するモノマー
の具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンと
１−ブテン、エチレンと１−ヘキセン、エチレンと１−
オクテン、プロピレンと１−ブテン、エチレンとプロピ
レンとブテン、エチレンとプロピレンと１−ヘキセン等
が例示されるが、本発明はこれらに限定されるべきもの
ではない。
たは共重合に適用される。共重合体を構成するモノマー
の具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンと
１−ブテン、エチレンと１−ヘキセン、エチレンと１−
オクテン、プロピレンと１−ブテン、エチレンとプロピ
レンとブテン、エチレンとプロピレンと１−ヘキセン等
が例示されるが、本発明はこれらに限定されるべきもの
ではない。
【０１５６】本発明の付加重合用触媒はオレフィン重合
用触媒として特に好適であり、オレフィン重合体の製造
方法に好適に用いられる。かかるオレフィン重合体とし
て特に好ましくはエチレンとα−オレフィンとの共重合
体であり、中でもポリエチレン結晶構造を有するエチレ
ンとα−オレフィンとの共重合体が好ましい。ここでい
うα−オレフィンとして好ましくは、炭素原子数３〜８
のα−オレフィンであり、具体的には１−ブテン、１−
ヘキセン、１−オクテンなどが挙げられる。
用触媒として特に好適であり、オレフィン重合体の製造
方法に好適に用いられる。かかるオレフィン重合体とし
て特に好ましくはエチレンとα−オレフィンとの共重合
体であり、中でもポリエチレン結晶構造を有するエチレ
ンとα−オレフィンとの共重合体が好ましい。ここでい
うα−オレフィンとして好ましくは、炭素原子数３〜８
のα−オレフィンであり、具体的には１−ブテン、１−
ヘキセン、１−オクテンなどが挙げられる。
【０１５７】
【実施例】以下、実施例および比較例によって本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。実施例中の各項目の測定値は、下記の方
法で測定した。
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。実施例中の各項目の測定値は、下記の方
法で測定した。
【０１５８】（１）共重合体におけるα−オレフィンか
ら誘導される繰り返し単位の含有量は、赤外分光光度計
（日本分光工業社製 ＦＴ−ＩＲ７３００）を用い、エ
チレンとα−オレフィンの特性吸収より検量線を用いて
求め、炭素原子１０００個当たりの短鎖分岐数（ＳＣ
Ｂ）として表した。
ら誘導される繰り返し単位の含有量は、赤外分光光度計
（日本分光工業社製 ＦＴ−ＩＲ７３００）を用い、エ
チレンとα−オレフィンの特性吸収より検量線を用いて
求め、炭素原子１０００個当たりの短鎖分岐数（ＳＣ
Ｂ）として表した。
【０１５９】（２）極限粘度＝［η］：ウベローデ型粘
度計を用い、１３５℃でテトラリン溶液中で測定した
（単位：ｄｌ／ｇ）。
度計を用い、１３５℃でテトラリン溶液中で測定した
（単位：ｄｌ／ｇ）。
【０１６０】（３）メルトフローレート＝ＭＦＲ：ＪＩ
Ｓ Ｋ７２１０−１９９５に規定された方法に従い、１
９０℃にて荷重２１．１８Ｎ（２．１６ｋｇ）で測定し
たメルトフローレート値である（単位：ｇ／１０分）。
Ｓ Ｋ７２１０−１９９５に規定された方法に従い、１
９０℃にて荷重２１．１８Ｎ（２．１６ｋｇ）で測定し
たメルトフローレート値である（単位：ｇ／１０分）。
【０１６１】（４）スウェル比＝ＳＲ：ＭＦＲ測定時に
得られたストランド径をダイの内径である２．０９５ｍ
ｍで除した値である。
得られたストランド径をダイの内径である２．０９５ｍ
ｍで除した値である。
【０１６２】（５）メルトフローレート比＝ＭＦＲＲ：
ＪＩＳ Ｋ７２１０−１９９５に規定された方法に従
い、１９０℃、荷重２１１．８２Ｎ（２１．６０ｋｇ）
で測定されたメルトフローレート値を、荷重２１．１８
Ｎ（２．１６ｋｇ）で測定されたメルトフローレート値
（ＭＦＲ）で除した値である。 上記メルトフローレート測定についてはすべて、予め酸
化防止剤を１０００ｐｐｍ配合した重合体を用いた。
ＪＩＳ Ｋ７２１０−１９９５に規定された方法に従
い、１９０℃、荷重２１１．８２Ｎ（２１．６０ｋｇ）
で測定されたメルトフローレート値を、荷重２１．１８
Ｎ（２．１６ｋｇ）で測定されたメルトフローレート値
（ＭＦＲ）で除した値である。 上記メルトフローレート測定についてはすべて、予め酸
化防止剤を１０００ｐｐｍ配合した重合体を用いた。
【０１６３】（６）分子量および分子量分布
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
より、下記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレ
ンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍ
ｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評
価した。 機種： ミリポアウオーターズ社製 １５０Ｃ型 カラム： ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨ−ＨＴ ７．５×６
００×２本 測定温度：１４０℃ 溶媒： オルトジクロロベンゼン、 測定濃度：５ｍｇ／５ｍｌ ただし、実施例６〜１２および１７は、カラムＴＳＫ−
ＧＥＬ ＧＭＨ６−ＨＴ ７．５×３００×３本を使用
して測定を行った。
より、下記の条件で測定した。検量線は標準ポリスチレ
ンを用いて作成した。分子量分布は重量平均分子量（Ｍ
ｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）との比（Ｍｗ／Ｍｎ）で評
価した。 機種： ミリポアウオーターズ社製 １５０Ｃ型 カラム： ＴＳＫ−ＧＥＬ ＧＭＨ−ＨＴ ７．５×６
００×２本 測定温度：１４０℃ 溶媒： オルトジクロロベンゼン、 測定濃度：５ｍｇ／５ｍｌ ただし、実施例６〜１２および１７は、カラムＴＳＫ−
ＧＥＬ ＧＭＨ６−ＨＴ ７．５×３００×３本を使用
して測定を行った。
【０１６４】（７）元素分析：
Ｚｎ：試料を硫酸水溶液（１ｍｏｌ／リットル）に投じ
たのち超音波をあてて金属成分を抽出した。得られた液
体部分についてＩＣＰ発光分析法により定量した。 Ｆ：酸素を充填させたフラスコ中で試料を燃焼させて生
じた燃焼ガスを水酸化ナトリウム水溶液（１０％）に吸
収させ、得られた当該水溶液についてイオン電極法を用
いて定量した。
たのち超音波をあてて金属成分を抽出した。得られた液
体部分についてＩＣＰ発光分析法により定量した。 Ｆ：酸素を充填させたフラスコ中で試料を燃焼させて生
じた燃焼ガスを水酸化ナトリウム水溶液（１０％）に吸
収させ、得られた当該水溶液についてイオン電極法を用
いて定量した。
【０１６５】（８）重合体のフィルム成形
重合で得られた重合体パウダー０．０３０ｋｇに、酸化
防止剤としてイルガノックス１０７６（チバ・スペシャ
ルティ・ケミカルズ社製）を１５００ｐｐｍ、中和剤と
してステアリン酸カルシウムを５００ｐｐｍとなるよう
配合したものを、下記の成形条件でインフレーションフ
ィルム成形法にて、厚み１５μｍのフィルムを製造し、
フィルム外観としてフィッシュアイの発生度合いを調べ
た。押出機：単軸スクリュー２０ｍｍφ、スクリュー回
転数：１６ｒｐｍ、ダイ：２５ｍｍφ、リップ幅：０．
７ｍｍ、引取り速度：５．５ｍ／分、温度：１７０℃
防止剤としてイルガノックス１０７６（チバ・スペシャ
ルティ・ケミカルズ社製）を１５００ｐｐｍ、中和剤と
してステアリン酸カルシウムを５００ｐｐｍとなるよう
配合したものを、下記の成形条件でインフレーションフ
ィルム成形法にて、厚み１５μｍのフィルムを製造し、
フィルム外観としてフィッシュアイの発生度合いを調べ
た。押出機：単軸スクリュー２０ｍｍφ、スクリュー回
転数：１６ｒｐｍ、ダイ：２５ｍｍφ、リップ幅：０．
７ｍｍ、引取り速度：５．５ｍ／分、温度：１７０℃
【０１６６】（９）溶融張力＝ＭＴ：東洋精機社製メル
トテンションテスターを用いて、サンプル量５ｇ、温度
１９０℃、押出速度５．５ｍｍ／分のピストンで、直径
２．０９ｍｍφ、長さ８ｍｍのオリフィスから溶融樹脂
ストランドを押し出し、該ストランドを直径５０ｍｍの
ローラーを用いて毎分４０ｒｐｍずつ回転速度を上昇さ
せながら巻き取った際に、該ストランドが切れる直前の
張力値を、メルトテンション（ＭＴ）として測定した
（単位＝ｃＮ）。
トテンションテスターを用いて、サンプル量５ｇ、温度
１９０℃、押出速度５．５ｍｍ／分のピストンで、直径
２．０９ｍｍφ、長さ８ｍｍのオリフィスから溶融樹脂
ストランドを押し出し、該ストランドを直径５０ｍｍの
ローラーを用いて毎分４０ｒｐｍずつ回転速度を上昇さ
せながら巻き取った際に、該ストランドが切れる直前の
張力値を、メルトテンション（ＭＴ）として測定した
（単位＝ｃＮ）。
【０１６７】［実施例１］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン １．４８リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液（１．９９ｍｏｌ／リットル）１．４７リットル
（２．９３ｍｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２６９．５ｇ（１．４
６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ５００ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、３．２時間攪拌を行った。その後、
４０℃に加熱し、３５分間攪拌した。氷浴で２０℃まで
温度を下げ、Ｈ2Ｏ ３９．８５ｇ（２．２１ｍｏｌ）
をテトラヒドロフラン ２００ｍｌに溶解させた溶液を
１．３時間で滴下した。その結果、黄色透明液状物と、
黄色ゲル状物に分かれた。５２℃で１時間攪拌を行った
後、室温で１２時間静置した。黄色透明液状物と、黄色
ゲル状物を、それぞれ窒素置換した別々のフラスコにわ
け取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０
℃で１２時間、１３０℃で８時間、乾燥を行った。その
後、黄色透明液状物由来の固形物７２重量％と、黄色ゲ
ル状物由来の固形物の全量とを窒素置換した５リットル
の四つ口フラスコに合わせ入れ、テトラヒドロフラン
３リットルを加えて５０℃に加熱した。室温まで冷却し
た後、３日間静置した。減圧下、揮発性成分を留去した
後、１２０℃で１１時間、減圧乾燥を行った。その結
果、固体生成物 ４０８ｇを得た。
ドロフラン １．４８リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液（１．９９ｍｏｌ／リットル）１．４７リットル
（２．９３ｍｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２６９．５ｇ（１．４
６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ５００ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、３．２時間攪拌を行った。その後、
４０℃に加熱し、３５分間攪拌した。氷浴で２０℃まで
温度を下げ、Ｈ2Ｏ ３９．８５ｇ（２．２１ｍｏｌ）
をテトラヒドロフラン ２００ｍｌに溶解させた溶液を
１．３時間で滴下した。その結果、黄色透明液状物と、
黄色ゲル状物に分かれた。５２℃で１時間攪拌を行った
後、室温で１２時間静置した。黄色透明液状物と、黄色
ゲル状物を、それぞれ窒素置換した別々のフラスコにわ
け取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０
℃で１２時間、１３０℃で８時間、乾燥を行った。その
後、黄色透明液状物由来の固形物７２重量％と、黄色ゲ
ル状物由来の固形物の全量とを窒素置換した５リットル
の四つ口フラスコに合わせ入れ、テトラヒドロフラン
３リットルを加えて５０℃に加熱した。室温まで冷却し
た後、３日間静置した。減圧下、揮発性成分を留去した
後、１２０℃で１１時間、減圧乾燥を行った。その結
果、固体生成物 ４０８ｇを得た。
【０１６８】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例１（１）で合成した固体生成物 ４０８ｇ、テトラヒ
ドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これに
窒素流通下で３００℃において加熱処理したシリカ（デ
ビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子径＝６１
μｍ；細孔容量＝１．６１ｍｌ／ｇ；比表面積＝２９６
ｍ2／ｇ）２８８．４ｇを入れた。４０℃に加熱し、２
時間攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、沈
降した固体成分の層と上層のスラリー部分との界面が見
えた時点で上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作
として、これに、テトラヒドロフラン ３リットルを加
え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、同
様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除い
た。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。さらに、ヘキ
サン ３リットルを加え、攪拌を行った後、静置し、固
体成分を沈降させ、同様に界面が見えた時点で上層のス
ラリー部分を取り除いた。グラスフィルターで液体成分
を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行う
ことにより、成分（Ａ）４２２ｇを得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．８ｍｍｏｌ／
ｇであった。
例１（１）で合成した固体生成物 ４０８ｇ、テトラヒ
ドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これに
窒素流通下で３００℃において加熱処理したシリカ（デ
ビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子径＝６１
μｍ；細孔容量＝１．６１ｍｌ／ｇ；比表面積＝２９６
ｍ2／ｇ）２８８．４ｇを入れた。４０℃に加熱し、２
時間攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、沈
降した固体成分の層と上層のスラリー部分との界面が見
えた時点で上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作
として、これに、テトラヒドロフラン ３リットルを加
え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、同
様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除い
た。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。さらに、ヘキ
サン ３リットルを加え、攪拌を行った後、静置し、固
体成分を沈降させ、同様に界面が見えた時点で上層のス
ラリー部分を取り除いた。グラスフィルターで液体成分
を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行う
ことにより、成分（Ａ）４２２ｇを得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．８ｍｍｏｌ／
ｇであった。
【０１６９】（３）予備重合
内容積０．４リットルの撹拌機付きオートクレーブを真
空にした後、室温下で水素を圧力で０．００３ＭＰａ仕
込み、溶媒としてブタンを９０ｇ仕込み、オートクレー
ブを５０℃まで昇温した。さらにエチレンを、その分圧
が０．２ＭＰａになるように加え系内を安定させた後、
トリイソブチルアルミニウム １．２ｍｍｏｌ、ラセミ
−エチレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロ
ライド４５μｍｏｌ、続いて上記実施例１（２）で得ら
れた成分（Ａ）０．６６ｇを投入して重合を開始した。
重合中は、オートクレーブ内のガス相圧力が０．６５Ｍ
Ｐａを保つように調整しながら、エチレンと水素の混合
ガス（水素濃度０．２７ｍｏｌ％）を連続して供給し
た。２４０分後にエチレン、ブタン、水素ガスをパージ
して、オートクレーブ内に残った固体を室温で３０分間
真空乾燥することにより、成分（Ａ）１ｇ当り５７ｇの
ポリエチレンが予備重合された予備重合済付加重合用触
媒成分を得た。該ポリエチレンの極限粘度［η］は１．
６５ｄｌ／ｇ、ＭＦＲは２．４ｇ／１０分であった。
空にした後、室温下で水素を圧力で０．００３ＭＰａ仕
込み、溶媒としてブタンを９０ｇ仕込み、オートクレー
ブを５０℃まで昇温した。さらにエチレンを、その分圧
が０．２ＭＰａになるように加え系内を安定させた後、
トリイソブチルアルミニウム １．２ｍｍｏｌ、ラセミ
−エチレンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロ
ライド４５μｍｏｌ、続いて上記実施例１（２）で得ら
れた成分（Ａ）０．６６ｇを投入して重合を開始した。
重合中は、オートクレーブ内のガス相圧力が０．６５Ｍ
Ｐａを保つように調整しながら、エチレンと水素の混合
ガス（水素濃度０．２７ｍｏｌ％）を連続して供給し
た。２４０分後にエチレン、ブタン、水素ガスをパージ
して、オートクレーブ内に残った固体を室温で３０分間
真空乾燥することにより、成分（Ａ）１ｇ当り５７ｇの
ポリエチレンが予備重合された予備重合済付加重合用触
媒成分を得た。該ポリエチレンの極限粘度［η］は１．
６５ｄｌ／ｇ、ＭＦＲは２．４ｇ／１０分であった。
【０１７０】（４）本重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積５リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１８ＭＰａになるように加え、ブタンを１０６
６ｇ、１−ヘキセンを２００ｍｌ仕込み、７０℃まで昇
温した。その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａ
になるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラ
フィー分析の結果、系内のガス組成は、水素＝１．０６
ｍｏｌ％であった。これに、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに
調整したトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液
１．５ｍｌを投入した。次に、上記（３）で得られた予
備重合済付加重合用触媒成分 １．１３ｇを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン／水素混合ガス（水素
０．７６ｍｏｌ％）をフィードしながら７０℃で、６０
分間重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ９０ｇが得られた。固体触媒成分（上記実
施例１（２）で得られた成分（Ａ））当りの重合活性は
４５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、得
られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．５、ＭＦＲ＝
１．０２、ＭＦＲＲ＝８６、ＳＲ＝１．３６、ＭＴ＝
３．７であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１８ＭＰａになるように加え、ブタンを１０６
６ｇ、１−ヘキセンを２００ｍｌ仕込み、７０℃まで昇
温した。その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａ
になるように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラ
フィー分析の結果、系内のガス組成は、水素＝１．０６
ｍｏｌ％であった。これに、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに
調整したトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶液
１．５ｍｌを投入した。次に、上記（３）で得られた予
備重合済付加重合用触媒成分 １．１３ｇを投入した。
全圧を一定に保つようにエチレン／水素混合ガス（水素
０．７６ｍｏｌ％）をフィードしながら７０℃で、６０
分間重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ９０ｇが得られた。固体触媒成分（上記実
施例１（２）で得られた成分（Ａ））当りの重合活性は
４５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、得
られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．５、ＭＦＲ＝
１．０２、ＭＦＲＲ＝８６、ＳＲ＝１．３６、ＭＴ＝
３．７であった。
【０１７１】（５）フィルム成形
上記（４）で得られたエチレン／１−ヘキセン共重合体
を用いてフィルム成形したところ、フィッシュアイが少
なく、外観の良好なフィルムが得られた。
を用いてフィルム成形したところ、フィッシュアイが少
なく、外観の良好なフィルムが得られた。
【０１７２】［実施例２］
（１）予備重合
予め窒素置換した内容積２１０リットルの撹拌機付きオ
ートクレーブにトリイソブチルアルミニウムを濃度３．
７ｍｍｏｌ／リットルで含んだブタン ６８リットル
と、常温常圧の水素として２５リットルを仕込んだ後、
オートクレーブを４０℃まで昇温した。さらにエチレン
をオートクレーブ内のガス相圧力で０．６ＭＰａ分だけ
仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウ
ム ８９．３ｍｍｏｌ、ラセミ−エチレンビス（１−イ
ンデニル）ジルコニウムジクロライド １２．８ｍｍｏ
ｌ、続いて上記実施例１（２）で得られた成分（Ａ）１
７０ｇを投入して重合を開始した。重合中は温度を５０
℃に保持し、エチレン ３．０ｋｇ／時間と、常温常圧
の水素として７．５リットル／時間を供給して、２．８
時間重合を継続した。重合終了後、エチレン、ブタン、
水素ガスをパージして生成した固体を室温にて窒素下で
真空乾燥し、成分（Ａ）１ｇ当り４７ｇのポリエチレン
が予備重合された予備重合済付加重合用触媒成分を得
た。該ポリエチレンの極限粘度［η］は１．１４ｄｌ／
ｇ、ＭＦＲは５．１５ｇ／１０分であった。
ートクレーブにトリイソブチルアルミニウムを濃度３．
７ｍｍｏｌ／リットルで含んだブタン ６８リットル
と、常温常圧の水素として２５リットルを仕込んだ後、
オートクレーブを４０℃まで昇温した。さらにエチレン
をオートクレーブ内のガス相圧力で０．６ＭＰａ分だけ
仕込み、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウ
ム ８９．３ｍｍｏｌ、ラセミ−エチレンビス（１−イ
ンデニル）ジルコニウムジクロライド １２．８ｍｍｏ
ｌ、続いて上記実施例１（２）で得られた成分（Ａ）１
７０ｇを投入して重合を開始した。重合中は温度を５０
℃に保持し、エチレン ３．０ｋｇ／時間と、常温常圧
の水素として７．５リットル／時間を供給して、２．８
時間重合を継続した。重合終了後、エチレン、ブタン、
水素ガスをパージして生成した固体を室温にて窒素下で
真空乾燥し、成分（Ａ）１ｇ当り４７ｇのポリエチレン
が予備重合された予備重合済付加重合用触媒成分を得
た。該ポリエチレンの極限粘度［η］は１．１４ｄｌ／
ｇ、ＭＦＲは５．１５ｇ／１０分であった。
【０１７３】（２）本重合
上記実施例２（１）で得た予備重合済付加重合用触媒成
分を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧２．０Ｍ
Ｐａ、重合温度７０℃でエチレンと１−ヘキセンの共重
合を実施した。上記（１）で得た予備重合済付加重合用
触媒成分を１９２ｇ／時間、トリイソブチルアルミニウ
ムを４０ｍｍｏｌ／時間の割合で連続的に供給し、重合
中はガス組成を一定に維持するためにエチレン、１−ヘ
キセン、水素、窒素、ブタンを連続的に供給した。その
結果、１５．４ｋｇ／時間の割合で粒子性状の良好なエ
チレン／１−ヘキセン共重合体が得られた。得られたエ
チレン／１−ヘキセン共重合体は、ＳＣＢ＝２１．４、
ＭＦＲ＝３．００、ＭＦＲＲ＝８０、ＳＲ＝１．５６、
ＭＴ＝２．７であった。
分を用い、連続式流動床気相重合装置で、全圧２．０Ｍ
Ｐａ、重合温度７０℃でエチレンと１−ヘキセンの共重
合を実施した。上記（１）で得た予備重合済付加重合用
触媒成分を１９２ｇ／時間、トリイソブチルアルミニウ
ムを４０ｍｍｏｌ／時間の割合で連続的に供給し、重合
中はガス組成を一定に維持するためにエチレン、１−ヘ
キセン、水素、窒素、ブタンを連続的に供給した。その
結果、１５．４ｋｇ／時間の割合で粒子性状の良好なエ
チレン／１−ヘキセン共重合体が得られた。得られたエ
チレン／１−ヘキセン共重合体は、ＳＣＢ＝２１．４、
ＭＦＲ＝３．００、ＭＦＲＲ＝８０、ＳＲ＝１．５６、
ＭＴ＝２．７であった。
【０１７４】（３）フィルム成形
上記実施例２（２）で得られたエチレン／１−ヘキセン
共重合体を用いてフィルム成形したところ、フィッシュ
アイが少なく、外観の良好なフィルムが得られた。
共重合体を用いてフィルム成形したところ、フィッシュ
アイが少なく、外観の良好なフィルムが得られた。
【０１７５】［比較例１］
（１）窒素置換した５リットルの４つ口フラスコに撹拌
機、滴下ロートおよび温度計を取り付けた。そのフラス
コへ、窒素流通下で３００℃において加熱処理したシリ
カ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子径
＝６４μｍ；細孔容量＝１．６２ｍｌ／ｇ；比表面積＝
３１２ｍ2 ／ｇ）３８２ｇを採取した。そこへトルエン
３．３リットルを加えてスラリーとし、氷浴を用いて
５℃に冷却した後、濃度を２．１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整
したトリメチルアルミニウムのトルエン溶液 ３７５ｍ
ｌを徐々に滴下した。その際、ガスの発生が見られた。
５℃で３０分間、８０℃で２時間撹拌した後、上澄み液
を除去し、残存の固体生成物をトルエン ３．３リット
ルで４回洗浄した。その後、再びトルエンを３．３リッ
トル加えてスラリーとした。
機、滴下ロートおよび温度計を取り付けた。そのフラス
コへ、窒素流通下で３００℃において加熱処理したシリ
カ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子径
＝６４μｍ；細孔容量＝１．６２ｍｌ／ｇ；比表面積＝
３１２ｍ2 ／ｇ）３８２ｇを採取した。そこへトルエン
３．３リットルを加えてスラリーとし、氷浴を用いて
５℃に冷却した後、濃度を２．１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整
したトリメチルアルミニウムのトルエン溶液 ３７５ｍ
ｌを徐々に滴下した。その際、ガスの発生が見られた。
５℃で３０分間、８０℃で２時間撹拌した後、上澄み液
を除去し、残存の固体生成物をトルエン ３．３リット
ルで４回洗浄した。その後、再びトルエンを３．３リッ
トル加えてスラリーとした。
【０１７６】（２）上記比較例１（１）にて得られたス
ラリーを氷浴を用いて５℃に冷却した後、濃度を２ｍｍ
ｏｌ／ｍｌに調整したペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液４２０ｍｌをゆっくりと加えた。その際、ガス
の発生が見られた。５℃で３０分、８０℃で２時間撹袢
した後、上澄み液を濾過し、残存の固体生成物をトルエ
ン３．３リットルで４回、ヘキサン ３．３リットルで
２回洗浄した。その後、固体生成物を減圧乾燥して、流
動性のある固体生成物 ４３４ｇを得た。元素分析の結
果、Ａｌ＝１．２ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．６ｍｍｏｌ／
ｇであった。
ラリーを氷浴を用いて５℃に冷却した後、濃度を２ｍｍ
ｏｌ／ｍｌに調整したペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液４２０ｍｌをゆっくりと加えた。その際、ガス
の発生が見られた。５℃で３０分、８０℃で２時間撹袢
した後、上澄み液を濾過し、残存の固体生成物をトルエ
ン３．３リットルで４回、ヘキサン ３．３リットルで
２回洗浄した。その後、固体生成物を減圧乾燥して、流
動性のある固体生成物 ４３４ｇを得た。元素分析の結
果、Ａｌ＝１．２ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．６ｍｍｏｌ／
ｇであった。
【０１７７】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積５リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．００７ＭＰａになるように加え、ブタンを１１４
５ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温し
た。その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａにな
るように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．３７ｍｏ
ｌ％、１−ブテン＝１．５５ｍｏｌ％であった。これ
に、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチル
アルミニウムのヘプタン溶液 １．５ｍｌを投入した。
次に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチ
レンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド
のトルエン溶液 ０．５ｍｌを投入し、続いて上記比較
例１（２）で得られた固体生成物 ３６ｍｇを固体触媒
成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレン
／水素混合ガス（水素０．２２ｍｏｌ％）をフィードし
ながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、オ
レフィン重合体１３５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．４×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３７２０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１２．４、ＭＦＲ＝２．５５、ＭＦＲ
Ｒ＝４８、ＳＲ＝１．３５であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．００７ＭＰａになるように加え、ブタンを１１４
５ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温し
た。その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａにな
るように加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．３７ｍｏ
ｌ％、１−ブテン＝１．５５ｍｏｌ％であった。これ
に、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチル
アルミニウムのヘプタン溶液 １．５ｍｌを投入した。
次に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチ
レンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライド
のトルエン溶液 ０．５ｍｌを投入し、続いて上記比較
例１（２）で得られた固体生成物 ３６ｍｇを固体触媒
成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレン
／水素混合ガス（水素０．２２ｍｏｌ％）をフィードし
ながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、オ
レフィン重合体１３５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．４×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３７２０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１２．４、ＭＦＲ＝２．５５、ＭＦＲ
Ｒ＝４８、ＳＲ＝１．３５であった。
【０１７８】（４）フィルム成形
上記（３）で得られたエチレン／１−ヘキセン共重合体
を用いてフィルム成形したところ、フィッシュアイが多
く、外観の不良なフィルムが得られた。
を用いてフィルム成形したところ、フィッシュアイが多
く、外観の不良なフィルムが得られた。
【０１７９】［実施例３］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した３００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）２０ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン １００ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行
った。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．１７ｍｏｌ／リットル）４．４ｍｌ（５．１ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ３２１μ
ｌ（１７．８ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温
で１４時間攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去
し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うこ
とにより、固体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）２０ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン １００ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行
った。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．１７ｍｏｌ／リットル）４．４ｍｌ（５．１ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ３２１μ
ｌ（１７．８ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温
で１４時間攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去
し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うこ
とにより、固体生成物を得た。
【０１８０】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、窒素流通下で３００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子
径＝５５μｍ；細孔容量＝１．６６ｍｌ／ｇ；比表面積
＝３０９ｍ2／ｇ）０．７３ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例３
（１）で得られた固体生成物 １．０１ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グラスフ
ィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテトラ
ヒドロフラン ２０ｍｌで４回洗浄を行った。減圧下、
１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を
得た。
スコに、窒素流通下で３００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子
径＝５５μｍ；細孔容量＝１．６６ｍｌ／ｇ；比表面積
＝３０９ｍ2／ｇ）０．７３ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例３
（１）で得られた固体生成物 １．０１ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グラスフ
ィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテトラ
ヒドロフラン ２０ｍｌで４回洗浄を行った。減圧下、
１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を
得た。
【０１８１】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４７７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．２９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３（２）で得られた成分（Ａ）１５．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．１９９ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は９．３
×１０7 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３０４０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
９、Ｍｗ＝１６９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１０．２、ＭＦ
Ｒ＝０．０７０、ＭＦＲＲ＝１９２、ＳＲ＝１．０５で
あった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４７７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．２９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３（２）で得られた成分（Ａ）１５．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．１９９ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は９．３
×１０7 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３０４０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
９、Ｍｗ＝１６９０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１０．２、ＭＦ
Ｒ＝０．０７０、ＭＦＲＲ＝１９２、ＳＲ＝１．０５で
あった。
【０１８２】［実施例４］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した３００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）２０ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン １００ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行
った。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．１７ｍｏｌ／リットル）８．７ｍｌ（１０ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上
げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ２７５μｌ
（１５．３ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温で
終夜攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去し、生じ
た固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことによ
り、固体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）２０ｍｌ（２０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン １００ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行
った。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．１７ｍｏｌ／リットル）８．７ｍｌ（１０ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上
げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ２７５μｌ
（１５．３ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温で
終夜攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去し、生じ
た固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことによ
り、固体生成物を得た。
【０１８３】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、実施例３（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ ０．９３ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例
４（１）で得られた固体生成物 １．３４ｇを入れた。
４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ２０ｍｌで４回、ヘキサン ２０ｍｌ
で１回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、
Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．９ｍｍｏｌ／ｇで
あった。
スコに、実施例３（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ ０．９３ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例
４（１）で得られた固体生成物 １．３４ｇを入れた。
４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ２０ｍｌで４回、ヘキサン ２０ｍｌ
で１回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、
Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．９ｍｍｏｌ／ｇで
あった。
【０１８４】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例４（２）で得られた成
分（Ａ）２１．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４９
４ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７４ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９２ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ７０．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．４×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は３３４０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１４．８、Ｍｗ＝１４３０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝５．２８、ＭＦＲ＝０．１５８、ＭＦＲＲ＝１３
８、ＳＲ＝１．０６であった。
分（Ａ）２１．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４９
４ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７４ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９２ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ７０．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．４×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は３３４０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１４．８、Ｍｗ＝１４３０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝５．２８、ＭＦＲ＝０．１５８、ＭＦＲＲ＝１３
８、ＳＲ＝１．０６であった。
【０１８５】［実施例５］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）１０ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン ５０ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行っ
た。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．４８ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１０ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上
げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ９３．７ｍ
ｇ（５．２０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温
で２０時間攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去
し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うこ
とにより、固体生成物 ２．３４ｇを得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（１．０２ｍｏ
ｌ／リットル）１０ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）、テトラヒド
ロフラン ５０ｍｌを加え−７８℃に冷却し攪拌を行っ
た。これにペンタフルオロフェノールのヘキサン溶液
（１．４８ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１０ｍｍｏ
ｌ）を滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上
げ、２時間攪拌を行った。その後、Ｈ2 Ｏ ９３．７ｍ
ｇ（５．２０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、室温
で２０時間攪拌を行った。減圧下、揮発性物質を留去
し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うこ
とにより、固体生成物 ２．３４ｇを得た。
【０１８６】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、実施例３（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ ０．３８ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例
５（１）で得られた固体生成物 ０．８７７ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グ
ラスフィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分を
テトラヒドロフラン ２０ｍｌで４回洗浄を行った。減
圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。
スコに、実施例３（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ ０．３８ｇ、テトラヒドロフラン
４０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これに、上記実施例
５（１）で得られた固体生成物 ０．８７７ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、グ
ラスフィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分を
テトラヒドロフラン ２０ｍｌで４回洗浄を行った。減
圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。
【０１８７】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例５（２）で得られた成
分（Ａ）１２．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５３
０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．３８ｍｏｌ％であったこ
と以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行った。
その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６．２
ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は
１．２×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分
当りの重合活性は４９２ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であ
った。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１
４．０、Ｍｗ＝１１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝６．９３、
ＭＦＲ＝０．４２８、ＭＦＲＲ＝８４．１、ＳＲ＝１．
３０であった。
分（Ａ）１２．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５３
０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．３８ｍｏｌ％であったこ
と以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行った。
その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６．２
ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は
１．２×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分
当りの重合活性は４９２ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であ
った。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１
４．０、Ｍｗ＝１１２０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝６．９３、
ＭＦＲ＝０．４２８、ＭＦＲＲ＝８４．１、ＳＲ＝１．
３０であった。
【０１８８】［実施例６］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）８．６ｍｌ（２０ｍｍｏ
ｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了
後、室温まで徐々に温度を上げ、１２５分間攪拌を行っ
た。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ １．２６ｍｌ（６９．
９ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴
下終了後、室温で６５分間攪拌を行い、その後１１．３
時間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固
体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固
体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）８．６ｍｌ（２０ｍｍｏ
ｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了
後、室温まで徐々に温度を上げ、１２５分間攪拌を行っ
た。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ １．２６ｍｌ（６９．
９ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴
下終了後、室温で６５分間攪拌を行い、その後１１．３
時間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固
体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固
体生成物を得た。
【０１８９】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例６（１）で得られた固体生成物 ３．２
１ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ３．０２ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、固
体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラ
リー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を
取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗浄
操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを
加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、
同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以上の
洗浄操作を計５回繰り返した。減圧下、１２０℃で８時
間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．１６ｇを得
た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝
２．２ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例６（１）で得られた固体生成物 ３．２
１ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ３．０２ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、固
体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラ
リー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を
取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗浄
操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを
加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、
同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以上の
洗浄操作を計５回繰り返した。減圧下、１２０℃で８時
間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．１６ｇを得
た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝
２．２ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０１９０】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例６（２）で得られた成
分（Ａ）１６．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ２０．５ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は４．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は１２６０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１２．７、Ｍｗ＝１２３０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．４７、ＭＦＲ＝０．１６７、ＭＦＲＲ＝１０
８、ＳＲ＝１．１１であった。
分（Ａ）１６．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ２０．５ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は４．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は１２６０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１２．７、Ｍｗ＝１２３０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．４７、ＭＦＲ＝０．１６７、ＭＦＲＲ＝１０
８、ＳＲ＝１．１１であった。
【０１９１】［実施例７］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ（４０ｍｍ
ｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．６時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ１．０８ｍｌ（６０．
０ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴
下終了後、室温で３．２時間攪拌を行い、その後１１時
間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体
を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体
生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ（４０ｍｍ
ｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．６時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ１．０８ｍｌ（６０．
０ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴
下終了後、室温で３．２時間攪拌を行い、その後１１時
間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体
を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体
生成物を得た。
【０１９２】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例７（１）で得られた固体生成物 ４．３
４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ２．８７ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を
取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍ
ｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥
を行うことにより、成分（Ａ）３．２１ｇを得た。元素
分析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．５ｍ
ｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例７（１）で得られた固体生成物 ４．３
４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ２．８７ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を
取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍ
ｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥
を行うことにより、成分（Ａ）３．２１ｇを得た。元素
分析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．５ｍ
ｍｏｌ／ｇであった。
【０１９３】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例７（２）で得られた成
分（Ａ）１５．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４４
１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６９ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ２５．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は５．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は１７００ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１４．６、Ｍｗ＝１２４０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．３２、ＭＦＲ＝０．１６６、ＭＦＲＲ＝１１
６、ＳＲ＝１．１２であった。
分（Ａ）１５．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４４
１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６９ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ２５．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は５．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は１７００ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１４．６、Ｍｗ＝１２４０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．３２、ＭＦＲ＝０．１６６、ＭＦＲＲ＝１１
６、ＳＲ＝１．１２であった。
【０１９４】［実施例８］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍ
ｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．７時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ０．７２ｍｌ（４０ｍ
ｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴下終
了後、室温で２．４時間攪拌を行い、その後１２時間静
置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１
２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成
物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍ
ｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．７時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ０．７２ｍｌ（４０ｍ
ｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴下終
了後、室温で２．４時間攪拌を行い、その後１２時間静
置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１
２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成
物を得た。
【０１９５】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例８（１）で得られた固体生成物 ６．４
７ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ３．０５ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、固
体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラ
リー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を
取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗浄
操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを
加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、
同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以上の
洗浄操作を計２回繰り返した。その後、液体成分をフィ
ルターを用いて取り除いた後、固体成分をテトラヒドロ
フラン ３０ｍｌで２回洗浄を行った。減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．３５
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．２ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例８（１）で得られた固体生成物 ６．４
７ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行
った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じロ
ットの加熱処理したシリカ ３．０５ｇを入れた。４０
℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、固
体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラ
リー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を
取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗浄
操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを
加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降させ、
同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以上の
洗浄操作を計２回繰り返した。その後、液体成分をフィ
ルターを用いて取り除いた後、固体成分をテトラヒドロ
フラン ３０ｍｌで２回洗浄を行った。減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．３５
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．２ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０１９６】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例８（２）で得られた成
分（Ａ）１５．５ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４７
５ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７１ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ３６．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は７．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は２３７０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１３．５、Ｍｗ＝１２２０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．０６、ＭＦＲ＝０．１７０、ＭＦＲＲ＝１０
６、ＳＲ＝１．１５であった。
分（Ａ）１５．５ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４７
５ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７１ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８７ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ３６．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は７．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は２３７０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１３．５、Ｍｗ＝１２２０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．０６、ＭＦＲ＝０．１７０、ＭＦＲＲ＝１０
６、ＳＲ＝１．１５であった。
【０１９７】［実施例９］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３４ｍｏｌ／リットル）５１．３ｍｌ（１２０ｍ
ｍｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下
終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．４時間攪拌を
行った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ０．３６ｍｌ（２０
ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴下
終了後、室温で３．４時間攪拌を行い、その後１３．５
時間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固
体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固
体生成物２６．２ｇを得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３４ｍｏｌ／リットル）５１．３ｍｌ（１２０ｍ
ｍｏｌ）を１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下
終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．４時間攪拌を
行った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ０．３６ｍｌ（２０
ｍｍｏｌ）を０．５４ｍｌ／ｈの速さで滴下した。滴下
終了後、室温で３．４時間攪拌を行い、その後１３．５
時間静置した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固
体を１２０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固
体生成物２６．２ｇを得た。
【０１９８】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例９（１）で得られた固体生成物
９．２８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９７ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．８ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例９（１）で得られた固体生成物
９．２８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９７ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．８ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０１９９】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例９（２）で得られた成
分（Ａ）１５．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
９ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４８ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９２ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 １２．９ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は２．６×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は８２２ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝７．９１、Ｍｗ＝９９２００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８１、ＭＦＲ＝０．５８２、ＭＦＲＲ＝４８．
４、ＳＲ＝１．３９であった。
分（Ａ）１５．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
９ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４８ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９２ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 １２．９ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は２．６×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は８２２ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝７．９１、Ｍｗ＝９９２００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８１、ＭＦＲ＝０．５８２、ＭＦＲＲ＝４８．
４、ＳＲ＝１．３９であった。
【０２００】［実施例１０］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例１（２）で得られた成
分（Ａ）２０．１ｍｇを用い、ガスクロマトグラフィー
分析による系内のガス組成が、水素＝０．４８０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．１１ｍｏｌ％であったこと、重合
時間が１５分間であったこと以外は、実施例３（３）と
同様にして重合を行った。その結果、粒子性状の良好な
オレフィン重合体 ２０．０ｇが得られた。ジルコニウ
ム原子当たりの重合活性は１．６×１０8ｇ／ｍｏｌＺ
ｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活性は４０００ｇ
／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、得られたオレ
フィン重合体はＳＣＢ＝１４．７、Ｍｗ＝１５０００
０、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．７７、ＭＦＲ＝０．０６、ＭＦＲ
Ｒ＝２３３、ＳＲ＝１．０５であった。
分（Ａ）２０．１ｍｇを用い、ガスクロマトグラフィー
分析による系内のガス組成が、水素＝０．４８０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．１１ｍｏｌ％であったこと、重合
時間が１５分間であったこと以外は、実施例３（３）と
同様にして重合を行った。その結果、粒子性状の良好な
オレフィン重合体 ２０．０ｇが得られた。ジルコニウ
ム原子当たりの重合活性は１．６×１０8ｇ／ｍｏｌＺ
ｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活性は４０００ｇ
／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、得られたオレ
フィン重合体はＳＣＢ＝１４．７、Ｍｗ＝１５０００
０、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．７７、ＭＦＲ＝０．０６、ＭＦＲ
Ｒ＝２３３、ＳＲ＝１．０５であった。
【０２０１】［実施例１１］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）１３．７ｍｌ（３１．９
ｍｍｏｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。
滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．２時間攪
拌を行った。その後、２０℃で、Ｈ 2 Ｏ １．０１ｍｌ
（５６．１ｍｍｏｌ）を、０．５４ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、１９．４時間静置した。減圧
下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２０℃で減圧
下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）１３．７ｍｌ（３１．９
ｍｍｏｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。
滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２．２時間攪
拌を行った。その後、２０℃で、Ｈ 2 Ｏ １．０１ｍｌ
（５６．１ｍｍｏｌ）を、０．５４ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、１９．４時間静置した。減圧
下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２０℃で減圧
下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物を得た。
【０２０２】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例１１（１）で得られた固体生成物
４．０５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．７９ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．０ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例１１（１）で得られた固体生成物
４．０５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．７９ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．０ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２０３】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１１（２）で得られた
成分（Ａ）１７．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７９ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８３ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ９．８ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は２．０×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は５６６ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝８．６４、Ｍｗ＝９０８００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８３、ＭＦＲ＝０．３０２、ＭＦＲＲ＝１１９、
ＳＲ＝１．３５であった。
成分（Ａ）１７．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７９ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８３ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ９．８ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は２．０×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は５６６ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝８．６４、Ｍｗ＝９０８００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８３、ＭＦＲ＝０．３０２、ＭＦＲＲ＝１１９、
ＳＲ＝１．３５であった。
【０２０４】［実施例１２］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍ
ｍｏｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴
下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ１．４４ｍｌ（７９．
９ｍｍｏｌ）を、０．５４ｍｌ／時間の速さで滴下し
た。滴下終了後、１６．８時間静置した。減圧下、揮発
性物質を留去し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間
乾燥を行うことにより、固体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍ
ｍｏｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴
下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行
った。その後、２０℃で、Ｈ2 Ｏ１．４４ｍｌ（７９．
９ｍｍｏｌ）を、０．５４ｍｌ／時間の速さで滴下し
た。滴下終了後、１６．８時間静置した。減圧下、揮発
性物質を留去し、生じた固体を１２０℃で減圧下８時間
乾燥を行うことにより、固体生成物を得た。
【０２０５】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例１２（１）で得られた固体生成物
３．０２ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９２ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝３．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．２ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例１２（１）で得られた固体生成物
３．０２ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９２ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝３．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．２ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２０６】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１２（２）で得られた
成分（Ａ）１２．９ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
５０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７２ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １２．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は２．５×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は９８０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝８．４６、Ｍｗ＝１０６０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝３．４５、ＭＦＲ＝０．３４６、ＭＦＲＲ＝６
４．０、ＳＲ＝１．２８であった。
成分（Ａ）１２．９ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
５０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７２ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １２．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は２．５×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は９８０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝８．４６、Ｍｗ＝１０６０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝３．４５、ＭＦＲ＝０．３４６、ＭＦＲＲ＝６
４．０、ＳＲ＝１．２８であった。
【０２０７】［実施例１３］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．０１ｍｌ（５６．１ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．５時間攪拌を行った。２５℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）１３．７ｍｌ（３１．９ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、６０．５時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。（２）成分（Ａ）の合成 減圧乾燥後、アルゴ
ンで置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
１３（１）で得られた固体生成物 ３．８０ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これ
に、実施例３（２）で使用したものと同じロットの加熱
処理したシリカ ３．０７ｇを入れた。４０℃に昇温
し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を取り除い
た後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回
洗浄を行った。減圧下、１２０℃で１０時間乾燥を行う
ことにより、成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ
＝１．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．９ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．０１ｍｌ（５６．１ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．５時間攪拌を行った。２５℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）１３．７ｍｌ（３１．９ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、６０．５時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。（２）成分（Ａ）の合成 減圧乾燥後、アルゴ
ンで置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
１３（１）で得られた固体生成物 ３．８０ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を行った。これ
に、実施例３（２）で使用したものと同じロットの加熱
処理したシリカ ３．０７ｇを入れた。４０℃に昇温
し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を取り除い
た後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回
洗浄を行った。減圧下、１２０℃で１０時間乾燥を行う
ことにより、成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ
＝１．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．９ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
【０２０８】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１３（２）で得られた
成分（Ａ）１６．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
５７ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６１ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ８．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．６×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は４９４ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝６．３７、Ｍｗ＝８４７００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８２、ＭＦＲ＝１．３５、ＭＦＲＲ＝３８．０、
ＳＲ＝１．５１であった。
成分（Ａ）１６．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
５７ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６１ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ８．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．６×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は４９４ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝６．３７、Ｍｗ＝８４７００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．８２、ＭＦＲ＝１．３５、ＭＦＲＲ＝３８．０、
ＳＲ＝１．５１であった。
【０２０９】［実施例１４］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．１５ｍｌ（６３．８ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．８時間攪拌を行った。２４℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、１５．３時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．１５ｍｌ（６３．８ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．８時間攪拌を行った。２４℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、１５．３時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。
【０２１０】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例１４（１）で得られた固体生成物 ２．
９２ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．８４ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分
を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０
ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行うことにより、成分（Ａ）３．１６ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．２
ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例１４（１）で得られた固体生成物 ２．
９２ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．８４ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分
を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０
ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行うことにより、成分（Ａ）３．１６ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．２
ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２１１】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１４（２）で得られた
成分（Ａ）１６．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４９ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５．５ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は３２９ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝４．３５、Ｍｗ＝６９６００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．３０、ＭＦＲ＝２．００、ＭＦＲＲ＝３０．６、
ＳＲ＝１．６４であった。
成分（Ａ）１６．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４９ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５．５ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は３２９ｇ／ｇ固体触
媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重合
体はＳＣＢ＝４．３５、Ｍｗ＝６９６００、Ｍｗ／Ｍｎ
＝２．３０、ＭＦＲ＝２．００、ＭＦＲＲ＝３０．６、
ＳＲ＝１．６４であった。
【０２１２】［実施例１５］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．２６ｍｌ（６９．９ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２．２時間攪拌を行い、４０℃でさ
らに１．５時間攪拌を行った。２５℃に冷却した後に、
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）８．６ｍｌ（２０．０ｍ
ｍｏｌ）を、１７．２ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴
下終了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、８４時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．２６ｍｌ（６９．９ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２．２時間攪拌を行い、４０℃でさ
らに１．５時間攪拌を行った。２５℃に冷却した後に、
ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液
（２．３３ｍｏｌ／リットル）８．６ｍｌ（２０．０ｍ
ｍｏｌ）を、１７．２ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴
下終了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、８４時間静置
した。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２
０℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物
を得た。
【０２１３】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例１５（１）で得られた固体生成物
３．０８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９０ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で
８．５時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．
１ｍｍｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例１５（１）で得られた固体生成物
３．０８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９０ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で
８．５時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．
１ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２１４】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１５（２）で得られた
成分（Ａ）１６．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８０ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １２．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は２．５×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は７５９ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１２．１、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．７６、ＭＦＲ＝０．４１５、ＭＦＲＲ＝７
４．４、ＳＲ＝１．２２であった。
成分（Ａ）１６．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８０ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １２．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は２．５×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は７５９ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１２．１、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．７６、ＭＦＲ＝０．４１５、ＭＦＲＲ＝７
４．４、ＳＲ＝１．２２であった。
【０２１５】［実施例１６］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．４４ｍｌ（７９．９ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．５時間攪拌を行った。２６℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、１０時間静置し
た。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２０
℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物を
得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ４０ｍｌを加え３℃に冷却し攪拌を行った。これに
Ｈ2 Ｏ １．４４ｍｌ（７９．９ｍｍｏｌ）を、０．５
４ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、２時間攪拌を行い、４０℃でさらに
１．５時間攪拌を行った。２６℃に冷却した後に、ペン
タフルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．
３３ｍｏｌ／リットル）６．９ｍｌ（１６．１ｍｍｏ
ｌ）を、１７．９ｍｌ／時間の速さで滴下した。滴下終
了後、４０℃で、２時間攪拌を行い、１０時間静置し
た。減圧下、揮発性物質を留去し、生じた固体を１２０
℃で減圧下８時間乾燥を行うことにより、固体生成物を
得た。
【０２１６】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例１６（１）で得られた固体生成物 ３．
０４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ３．０７ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分
を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０
ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行うことにより、成分（Ａ）３．１５ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．８
ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例１６（１）で得られた固体生成物 ３．
０４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ３．０７ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分
を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０
ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行うことにより、成分（Ａ）３．１５ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．８
ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２１７】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１６（２）で得られた
成分（Ａ）１８．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４８ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １５．７ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は３．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は８５３ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１１．７、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．６９、ＭＦＲ＝１．０４、ＭＦＲＲ＝３１．
９、ＳＲ＝１．２３であった。
成分（Ａ）１８．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．４８ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １５．７ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は３．１×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は８５３ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１１．７、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝４．６９、ＭＦＲ＝１．０４、ＭＦＲＲ＝３１．
９、ＳＲ＝１．２３であった。
【０２１８】［実施例１７］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−５３℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３３ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．１ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２
時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌を行っ
た。１７℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ（６
０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで滴下
した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２時間攪拌
を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行い、その後
室温で、１２時間静置した。その結果フラスコの内容物
は、黄色透明液状物と、茶色ゲル状物に分かれた。黄色
透明液状物の７２体積％と、茶色ゲル状物の全量を、窒
素置換した別々のフラスコにそれぞれわけ取り、それぞ
れ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で１１時間乾
燥を行った。その後、黄色透明液状物由来の固形物にテ
トラヒドロフラン ８０ｍｌを加えて溶解させ、これを
茶色ゲル状物由来の固形物に加えた。室温で、４８時間
攪拌を行ったところ、フラスコの内容物は、オレンジ色
濁状物と、少量の肌色粉末状物とになった。減圧下、揮
発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を
行った。その結果 、固体生成物を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−５３℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３３ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．１ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、２
時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌を行っ
た。１７℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ（６
０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで滴下
した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２時間攪拌
を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行い、その後
室温で、１２時間静置した。その結果フラスコの内容物
は、黄色透明液状物と、茶色ゲル状物に分かれた。黄色
透明液状物の７２体積％と、茶色ゲル状物の全量を、窒
素置換した別々のフラスコにそれぞれわけ取り、それぞ
れ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で１１時間乾
燥を行った。その後、黄色透明液状物由来の固形物にテ
トラヒドロフラン ８０ｍｌを加えて溶解させ、これを
茶色ゲル状物由来の固形物に加えた。室温で、４８時間
攪拌を行ったところ、フラスコの内容物は、オレンジ色
濁状物と、少量の肌色粉末状物とになった。減圧下、揮
発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を
行った。その結果 、固体生成物を得た。
【０２１９】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例１７（１）で得られた固体生成物 ４．
２５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．８９ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、
固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のス
ラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分
を取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗
浄操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌ
を加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降さ
せ、同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取
り除いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以
上の洗浄操作を計５回繰り返した。減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．７５ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝２．７ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例１７（１）で得られた固体生成物 ４．
２５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。これに、実施例３（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．８９ｇを入れた。４
０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、静置し、
固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のス
ラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分
を取り除いた。その後フィルターにてろ過を行った。洗
浄操作として、これに、テトラヒドロフラン ３０ｍｌ
を加え、攪拌を行った後、静置し、固体成分を沈降さ
せ、同様に界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取
り除いた。その後フィルターを用いてろ過を行った。以
上の洗浄操作を計５回繰り返した。減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．７５ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝２．７ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２２０】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１７（２）で得られた
成分（Ａ）１７．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８９ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ６０．４ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．２×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３４３０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１６．０、Ｍｗ＝１１２０００、Ｍｗ
／Ｍｎ＝４．１１、ＭＦＲ＝０．４６３、ＭＦＲＲ＝６
９．７、ＳＲ＝１．２１であった。
成分（Ａ）１７．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１６ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８９ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ６０．４ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．２×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３４３０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１６．０、Ｍｗ＝１１２０００、Ｍｗ
／Ｍｎ＝４．１１、ＭＦＲ＝０．４６３、ＭＦＲＲ＝６
９．７、ＳＲ＝１．２１であった。
【０２２１】［実施例１８］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６０℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２．３
時間攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行
い、その後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの
内容物は、黄色透明液状物と、茶色ゲル状物に分かれ
た。黄色透明液状物の全量と、茶色ゲル状物の全量を、
窒素置換した別々のフラスコにそれぞれわけ取り、それ
ぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行った。その後、黄色透明液状物由来の固形物にテ
トラヒドロフラン ８０ｍｌを加えて溶解させ、これを
茶色ゲル状物由来の固形物に加えた。室温で、６７時間
攪拌を行ったところ、フラスコの内容物は、オレンジ色
透明液状物と、少量のクリーム色粉末状物とになった。
減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、
減圧乾燥を行った。その結果 、固体生成物１３．８ｇ
を得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６０℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２．３
時間攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行
い、その後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの
内容物は、黄色透明液状物と、茶色ゲル状物に分かれ
た。黄色透明液状物の全量と、茶色ゲル状物の全量を、
窒素置換した別々のフラスコにそれぞれわけ取り、それ
ぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８時間乾
燥を行った。その後、黄色透明液状物由来の固形物にテ
トラヒドロフラン ８０ｍｌを加えて溶解させ、これを
茶色ゲル状物由来の固形物に加えた。室温で、６７時間
攪拌を行ったところ、フラスコの内容物は、オレンジ色
透明液状物と、少量のクリーム色粉末状物とになった。
減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、
減圧乾燥を行った。その結果 、固体生成物１３．８ｇ
を得た。
【０２２２】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例１８（１）で得られた固体生成物
４．４４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ３．２４ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．１ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例１８（１）で得られた固体生成物
４．４４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ３．２４ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．１ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２２３】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１８（２）で得られた
成分（Ａ）１６．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
３３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６６ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８４
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ３１．３ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は６．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は１９６０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１２．９、ＭＦＲ＝０．２９６、ＭＦ
ＲＲ＝７６．０、ＳＲ＝１．２３であった。
成分（Ａ）１６．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
３３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６６ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８４
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ３１．３ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は６．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は１９６０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１２．９、ＭＦＲ＝０．２９６、ＭＦ
ＲＲ＝７６．０、ＳＲ＝１．２３であった。
【０２２４】［実施例１９］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６５℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２．３
時間攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行
い、その後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの
内容物は、黄色透明液状物と、オレンジ色オイル状物と
に分かれた。黄色透明液状物の２８体積％をフラスコか
ら抜き去り、黄色透明液状物とオレンジ色オイル状物と
の混合物から揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行った。その後、テトラヒドロフラン ８
０ｍｌを加えて溶解させ、室温で、６７時間攪拌を行っ
たところ、フラスコの内容物は、オレンジ色透明液状物
と、少量のクリーム色粉末状物とになった。減圧下、揮
発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を
行った。その結果 、固体生成物 １０．５ｇを得た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６５℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２．３
時間攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行
い、その後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの
内容物は、黄色透明液状物と、オレンジ色オイル状物と
に分かれた。黄色透明液状物の２８体積％をフラスコか
ら抜き去り、黄色透明液状物とオレンジ色オイル状物と
の混合物から揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行った。その後、テトラヒドロフラン ８
０ｍｌを加えて溶解させ、室温で、６７時間攪拌を行っ
たところ、フラスコの内容物は、オレンジ色透明液状物
と、少量のクリーム色粉末状物とになった。減圧下、揮
発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を
行った。その結果 、固体生成物 １０．５ｇを得た。
【０２２５】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例１９（１）で得られた固体生成物
４．３０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９６ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．３ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
スコに、上記実施例１９（１）で得られた固体生成物
４．３０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．９６ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．３ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２２６】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例１９（２）で得られた
成分（Ａ）１１．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
４１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７３ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８４
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ６１．０ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．２×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は５３５０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．９、ＭＦＲ＝０．８６６、ＭＦ
ＲＲ＝６２．５、ＳＲ＝１．２５であった。
成分（Ａ）１１．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
４１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７３ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８４
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ６１．０ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．２×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は５３５０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．９、ＭＦＲ＝０．８６６、ＭＦ
ＲＲ＝６２．５、ＳＲ＝１．２５であった。
【０２２７】［実施例２０］
（１）接触物（ｅ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した２００ｍｌの四つ口フ
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６８℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２時間
攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行い、そ
の後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの内容物
は、黄色透明液状物と、オレンジ色オイル状物とに分か
れた。黄色透明液状物の２８体積％をフラスコから抜き
去り、黄色透明液状物とオレンジ色オイル状物との混合
物から揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行った。その結果 、固体生成物１０．６ｇを得
た。
ラスコに、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラ
ン ５３．６ｍｌを加え−６８℃に冷却し攪拌を行っ
た。これに、ペンタフルオロフェノールのテトラヒドロ
フラン溶液（２．３４ｍｏｌ／リットル）１７．２ｍｌ
（４０．２ｍｍｏｌ）を、４１．３ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、
３．２時間攪拌を行い、４０℃でさらに０．５時間攪拌
を行った。２０℃に冷却した後、Ｈ2 Ｏ １．０８ｍｌ
（６０．０ｍｍｏｌ）を、０．８１ｍｌ／時間の速さで
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、２時間
攪拌を行った。さらに、５０℃で１時間攪拌を行い、そ
の後室温で、終夜静置した。その結果フラスコの内容物
は、黄色透明液状物と、オレンジ色オイル状物とに分か
れた。黄色透明液状物の２８体積％をフラスコから抜き
去り、黄色透明液状物とオレンジ色オイル状物との混合
物から揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行った。その結果 、固体生成物１０．６ｇを得
た。
【０２２８】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、アルゴンで置換した５０ｍｌの四つ口フラ
スコに、上記実施例２０（１）で得られた固体生成物
４．４０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．８１ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
スコに、上記実施例２０（１）で得られた固体生成物
４．４０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪
拌を行った。これに、実施例３（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ ２．８１ｇを入れ
た。４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その後、液
体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロフラン
３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
【０２２９】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例２０（２）で得られた
成分（Ａ）１４．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６４ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．５７ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５３．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．１×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３６５０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．７、ＭＦＲ＝０．３９５、ＭＦ
ＲＲ＝８６．６、ＳＲ＝１．２１であった。
成分（Ａ）１４．７ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６４ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．５７ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５３．６ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．１×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３６５０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．７、ＭＦＲ＝０．３９５、ＭＦ
ＲＲ＝８６．６、ＳＲ＝１．２１であった。
【０２３０】［実施例２１］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン １．２８リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液（１．９９ｍｏｌ／リットル）１．２８リットル
（２．５５ｍｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２３３．６ｇ（１．２
７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ４２７ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、さらに、テトラヒドロフラン ５０
０ｍｌを加えた。室温で、Ｈ2Ｏ３４．６９ｇ（１．９
３ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ５０ｍｌに溶解させ
た溶液を滴下した。滴下終了後、終夜攪拌を行った。減
圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、１
３０℃で８時間減圧乾燥を行った。その結果、固体生成
物 ４０３ｇを得た。
ドロフラン １．２８リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液（１．９９ｍｏｌ／リットル）１．２８リットル
（２．５５ｍｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２３３．６ｇ（１．２
７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ４２７ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、さらに、テトラヒドロフラン ５０
０ｍｌを加えた。室温で、Ｈ2Ｏ３４．６９ｇ（１．９
３ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ５０ｍｌに溶解させ
た溶液を滴下した。滴下終了後、終夜攪拌を行った。減
圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、１
３０℃で８時間減圧乾燥を行った。その結果、固体生成
物 ４０３ｇを得た。
【０２３１】（２）成分（Ａ）の合成（ｉ）
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例２１（１）で合成した固体生成物 ２０１．７ｇ、テ
トラヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。
これに、実施例１（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ １３６．１ｇを入れた。４０℃に
加熱した後、２時間攪拌を行った。
例２１（１）で合成した固体生成物 ２０１．７ｇ、テ
トラヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。
これに、実施例１（２）で使用したものと同じロットの
加熱処理したシリカ １３６．１ｇを入れた。４０℃に
加熱した後、２時間攪拌を行った。
【０２３２】（３）成分（Ａ）の合成（ii）
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例２１（１）で合成した固体生成物 ２０１．７ｇ、テ
トラヒドロフラン ３．１リットルを入れ、攪拌を行っ
た。これに実施例１（２）で使用したものと同じロット
の加熱処理したシリカ １４０．４ｇを入れた。４０℃
に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分を沈降さ
せ、上層のスラリー部分を取り除いた。上記実施例２１
（２）で得られたスラリー状態のものの全量をこれに加
え、攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラ
リー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テト
ラヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、
固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除い
た。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。さらに、ヘキ
サン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固体成分を
沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。グラスフ
ィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃
で８時間乾燥を行った。その結果、成分（Ａ）３７２ｇ
を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ／ｇ、
Ｆ＝２．９ｍｍｏｌ／ｇであった。
例２１（１）で合成した固体生成物 ２０１．７ｇ、テ
トラヒドロフラン ３．１リットルを入れ、攪拌を行っ
た。これに実施例１（２）で使用したものと同じロット
の加熱処理したシリカ １４０．４ｇを入れた。４０℃
に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分を沈降さ
せ、上層のスラリー部分を取り除いた。上記実施例２１
（２）で得られたスラリー状態のものの全量をこれに加
え、攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラ
リー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テト
ラヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、
固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除い
た。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。さらに、ヘキ
サン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固体成分を
沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。グラスフ
ィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃
で８時間乾燥を行った。その結果、成分（Ａ）３７２ｇ
を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ／ｇ、
Ｆ＝２．９ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２３３】（４）重合
固体触媒成分として、上記実施例２１（３）で得られた
成分（Ａ）１８．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１５ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．０１ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５４．５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．１×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は２９６０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１３．９、Ｍｗ＝１１００００、Ｍｗ
／Ｍｎ＝４．３５、ＭＦＲ＝０．１９４、ＭＦＲＲ＝１
１７、ＳＲ＝１．１８であった。
成分（Ａ）１８．４ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
１５ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．０１ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９５
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５４．５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．１×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は２９６０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１３．９、Ｍｗ＝１１００００、Ｍｗ
／Ｍｎ＝４．３５、ＭＦＲ＝０．１９４、ＭＦＲＲ＝１
１７、ＳＲ＝１．１８であった。
【０２３４】［実施例２２］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例２１（３）で得られた
成分（Ａ）１５．３ｍｇを用い、濃度を２μｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したラセミ−エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液の量を１．２
５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析に
よる系内のガス組成が、水素＝０．５１３ｍｏｌ％、１
−ブテン＝３．０３ｍｏｌ％であったこと、エチレン／
水素混合ガスの水素濃度が０．１９７ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、オレフィン重合体 ７２．９ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．９×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は４７７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．４、Ｍ
ｗ＝１２００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．２６、ＭＦＲ＝
０．３２６、ＭＦＲＲ＝９３．８、ＳＲ＝１．１６であ
った。
成分（Ａ）１５．３ｍｇを用い、濃度を２μｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したラセミ−エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液の量を１．２
５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析に
よる系内のガス組成が、水素＝０．５１３ｍｏｌ％、１
−ブテン＝３．０３ｍｏｌ％であったこと、エチレン／
水素混合ガスの水素濃度が０．１９７ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、オレフィン重合体 ７２．９ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．９×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は４７７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．４、Ｍ
ｗ＝１２００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．２６、ＭＦＲ＝
０．３２６、ＭＦＲＲ＝９３．８、ＳＲ＝１．１６であ
った。
【０２３５】［実施例２３］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例２１（３）で得られた
成分（Ａ）１４．６ｍｇを用い、濃度を２μｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したラセミ−エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液の量を０．０
５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析に
よる系内のガス組成が、水素＝０．４９８ｍｏｌ％、１
−ブテン＝３．０２ｍｏｌ％であったこと、エチレン／
水素混合ガスの水素濃度が０．１９６ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体
８．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は８．２×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は５６０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間
であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝
１５．７、Ｍｗ＝１１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６
２、ＭＦＲ＝０．６４９、ＭＦＲＲ＝５８．７、ＳＲ＝
１．２６であった。
成分（Ａ）１４．６ｍｇを用い、濃度を２μｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したラセミ−エチレンビス（１−インデニル）
ジルコニウムジクロライドのトルエン溶液の量を０．０
５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析に
よる系内のガス組成が、水素＝０．４９８ｍｏｌ％、１
−ブテン＝３．０２ｍｏｌ％であったこと、エチレン／
水素混合ガスの水素濃度が０．１９６ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体
８．２ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は８．２×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は５６０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間
であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝
１５．７、Ｍｗ＝１１００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６
２、ＭＦＲ＝０．６４９、ＭＦＲＲ＝５８．７、ＳＲ＝
１．２６であった。
【０２３６】［実施例２４］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例２１（３）で得られた
成分（Ａ）１５．０ｍｇを用い、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶
液の量を４．５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラ
フィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５０９
ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８４ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９６ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ３１．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は６．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は２１１０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１５．０、Ｍｗ＝１２４０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝３．７９、ＭＦＲ＝０．１８３、ＭＦＲＲ＝１２
５、ＳＲ＝１．１３であった。
成分（Ａ）１５．０ｍｇを用い、濃度を１ｍｍｏｌ／ｍ
ｌに調整したトリイソブチルアルミニウムのヘプタン溶
液の量を４．５ｍｌに変更したこと、ガスクロマトグラ
フィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５０９
ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．８４ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１９６ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ３１．７ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は６．３×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は２１１０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１５．０、Ｍｗ＝１２４０００、Ｍｗ／
Ｍｎ＝３．７９、ＭＦＲ＝０．１８３、ＭＦＲＲ＝１２
５、ＳＲ＝１．１３であった。
【０２３７】［実施例２５］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例２１（３）で得られた
成分（Ａ）１６．０ｍｇを用い、１−ブテンの量を３０
ｇに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析による
系内のガス組成が、水素＝０．５００ｍｏｌ％、１−ブ
テン＝１．６０ｍｏｌ％であったこと、エチレン／水素
混合ガスの水素濃度が０．２５ｍｏｌ％であったこと以
外は、実施例３（３）と同様にして重合を行った。その
結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４０．０ｇ
が得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は８．
０×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当り
の重合活性は２５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝２１．
０、Ｍｗ＝１２００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６１、ＭＦ
Ｒ＝０．１５０、ＭＦＲＲ＝１３４、ＳＲ＝１．２０で
あった。
成分（Ａ）１６．０ｍｇを用い、１−ブテンの量を３０
ｇに変更したこと、ガスクロマトグラフィー分析による
系内のガス組成が、水素＝０．５００ｍｏｌ％、１−ブ
テン＝１．６０ｍｏｌ％であったこと、エチレン／水素
混合ガスの水素濃度が０．２５ｍｏｌ％であったこと以
外は、実施例３（３）と同様にして重合を行った。その
結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４０．０ｇ
が得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は８．
０×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当り
の重合活性は２５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝２１．
０、Ｍｗ＝１２００００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６１、ＭＦ
Ｒ＝０．１５０、ＭＦＲＲ＝１３４、ＳＲ＝１．２０で
あった。
【０２３８】［実施例２６］
（１）重合
固体触媒成分として、上記実施例１（２）で得られた成
分（Ａ）１６．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
８ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８９ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ８３．４ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．７×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は５１８０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１５．６、ＭＦＲ＝０．９１７、ＭＦＲ
Ｒ＝５０．６、ＳＲ＝１．３２であった。
分（Ａ）１６．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマトグ
ラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４６
８ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であったこ
と、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８９ｍ
ｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様にし
て重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフィ
ン重合体 ８３．４ｇが得られた。ジルコニウム原子当
たりの重合活性は１．７×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間
で、固体触媒成分当りの重合活性は５１８０ｇ／ｇ固体
触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン重
合体はＳＣＢ＝１５．６、ＭＦＲ＝０．９１７、ＭＦＲ
Ｒ＝５０．６、ＳＲ＝１．３２であった。
【０２３９】［実施例２７］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル（２．７ｍ
ｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これに、ペンタフ
ルオロフェノール ２４８．７ｇ（１．３５ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解させた溶液を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、２．９時間攪拌を行った。その後、４０℃で１時
間攪拌を行った。氷浴で２１℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ
３７．３ｇ（２．１ｍｏｌ）を１．４時間で滴下し
た。滴下終了後、室温で２時間攪拌を行った後、５０℃
で１時間攪拌を行った。その結果、内容物は、黄色透明
液状物と、黄色ゲル状物に分かれた。その後、室温まで
冷却し終夜静置した。黄色透明液状物の７２重量％と、
黄色ゲル状物全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ減圧下、揮発性成分を留去し
た。１２０℃で８時間減圧乾燥した後、黄色透明液状物
由来の固形物と、黄色ゲル状物由来の固形物とを、窒素
置換した５リットルの四つ口フラスコに合わせ入れ、テ
トラヒドロフラン ３リットルを加えて３日間静置し
た。減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時
間、減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物 ３７６
ｇを得た。
ドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル（２．７ｍ
ｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これに、ペンタフ
ルオロフェノール ２４８．７ｇ（１．３５ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解させた溶液を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、２．９時間攪拌を行った。その後、４０℃で１時
間攪拌を行った。氷浴で２１℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ
３７．３ｇ（２．１ｍｏｌ）を１．４時間で滴下し
た。滴下終了後、室温で２時間攪拌を行った後、５０℃
で１時間攪拌を行った。その結果、内容物は、黄色透明
液状物と、黄色ゲル状物に分かれた。その後、室温まで
冷却し終夜静置した。黄色透明液状物の７２重量％と、
黄色ゲル状物全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ減圧下、揮発性成分を留去し
た。１２０℃で８時間減圧乾燥した後、黄色透明液状物
由来の固形物と、黄色ゲル状物由来の固形物とを、窒素
置換した５リットルの四つ口フラスコに合わせ入れ、テ
トラヒドロフラン ３リットルを加えて３日間静置し
た。減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時
間、減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物 ３７６
ｇを得た。
【０２４０】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例２７（１）で合成した固体生成物 ３７６ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２７２．３ｇを入れた。４０℃に加熱し、
２時間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のス
ラリー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テ
トラヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィ
ルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で
９時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４１９ｇを得
た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝
３．６ｍｍｏｌ／ｇであった。
例２７（１）で合成した固体生成物 ３７６ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２７２．３ｇを入れた。４０℃に加熱し、
２時間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のス
ラリー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テ
トラヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィ
ルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で
９時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４１９ｇを得
た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝
３．６ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２４１】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例２７（２）で得られた
成分（Ａ）１６．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７２ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ７８．５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．６×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は４８８０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．８、ＭＦＲ＝０．７８３、ＭＦ
ＲＲ＝６６．１、ＳＲ＝１．４４であった。
成分（Ａ）１６．１ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
７０ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７２ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ７８．５ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．６×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は４８８０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．８、ＭＦＲ＝０．７８３、ＭＦ
ＲＲ＝６６．１、ＳＲ＝１．４４であった。
【０２４２】［実施例２８］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル（２．７ｍ
ｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これに、ペンタフ
ルオロフェノール ２５１．５ｇ（１．３７ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解させた溶液を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、３時間攪拌を行った。その後、４５℃に加熱し、
１時間攪拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ
３７．７２ｇ（２．０９ｍｏｌ）を１．４時間で滴下
した。その結果、黄色透明液状物と、黄色ゲル状物に分
かれた。滴下終了後、２時間攪拌を行い、４０℃に加熱
をしてから、さらに１時間攪拌を行った。室温で、終夜
静置した後、黄色透明液状物のうちの７２重量％と、黄
色ゲル状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その後、黄色透明
液状物由来の固形物を、テトラヒドロフラン ３リット
ルに溶解させ、これを、黄色ゲル状物由来の固形物が入
った５リットルのフラスコに移した。室温で、６９時間
静置した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を行った。そ
の結果、固体生成物 ３７４ｇを得た。
ドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル（２．７ｍ
ｏｌ）を入れ、−５０℃に冷却した。これに、ペンタフ
ルオロフェノール ２５１．５ｇ（１．３７ｍｏｌ）を
テトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解させた溶液を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、３時間攪拌を行った。その後、４５℃に加熱し、
１時間攪拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ
３７．７２ｇ（２．０９ｍｏｌ）を１．４時間で滴下
した。その結果、黄色透明液状物と、黄色ゲル状物に分
かれた。滴下終了後、２時間攪拌を行い、４０℃に加熱
をしてから、さらに１時間攪拌を行った。室温で、終夜
静置した後、黄色透明液状物のうちの７２重量％と、黄
色ゲル状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その後、黄色透明
液状物由来の固形物を、テトラヒドロフラン ３リット
ルに溶解させ、これを、黄色ゲル状物由来の固形物が入
った５リットルのフラスコに移した。室温で、６９時間
静置した後、１２０℃で８時間、減圧乾燥を行った。そ
の結果、固体生成物 ３７４ｇを得た。
【０２４３】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例２８（１）で合成した固体生成物 ３７４ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２８２ｇを入れた。４０℃に加熱し、２時
間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリ
ー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。
以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィルター
で液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４５２ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝２．８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．６
ｍｍｏｌ／ｇであった。
例２８（１）で合成した固体生成物 ３７４ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２８２ｇを入れた。４０℃に加熱し、２時
間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリ
ー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。
以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィルター
で液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４５２ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝２．８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．６
ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２４４】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例２８（２）で得られた
成分（Ａ）１４．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
７１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６９ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ７
５．８ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は１．５×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は５４１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時
間であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ
＝１６．１、ＭＦＲ＝０．９６５、ＭＦＲＲ＝６６．
２、ＳＲ＝１．３８であった。
成分（Ａ）１４．０ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
７１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．６９ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ７
５．８ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は１．５×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は５４１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時
間であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ
＝１６．１、ＭＦＲ＝０．９６５、ＭＦＲＲ＝６６．
２、ＳＲ＝１．３８であった。
【０２４５】［実施例２９］
（１）窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、テ
トラヒドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液 （２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル
（２．７ｍｏｌ）を入れ、−５８℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２５１．５ｇ（１．３
７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、３時間攪拌を行った。その後、３８
℃に加熱し、１時間攪拌した。氷浴で１８℃まで温度を
下げ、Ｈ2Ｏ ３７．７４ｇ（２．０９ｍｏｌ）を１．
４時間で滴下した。その結果、フラスコ内は、黄白色ス
ラリーとなった。滴下終了後、２時間攪拌を行い、４０
℃に加熱してから、さらに１時間攪拌を行った。室温
で、終夜静置した後、液状物のうちの７２重量％と、固
体状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラスコ
にわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１
２０℃で８時間乾燥を行った。その後、液状物由来の固
形物を、テトラヒドロフラン３リットルに溶解させ、こ
れを、固体状物由来の固形物が入った５リットルのフラ
スコに移した。室温で、６９時間静置した後、１２０℃
で８時間、減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物３
８７ｇを得た。
トラヒドロフラン ２リットル、ジエチル亜鉛のヘキサ
ン溶液 （２ｍｏｌ／リットル）１．３５リットル
（２．７ｍｏｌ）を入れ、−５８℃に冷却した。これ
に、ペンタフルオロフェノール ２５１．５ｇ（１．３
７ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン ３９０ｍｌに溶解さ
せた溶液を２５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで
徐々に温度を上げ、３時間攪拌を行った。その後、３８
℃に加熱し、１時間攪拌した。氷浴で１８℃まで温度を
下げ、Ｈ2Ｏ ３７．７４ｇ（２．０９ｍｏｌ）を１．
４時間で滴下した。その結果、フラスコ内は、黄白色ス
ラリーとなった。滴下終了後、２時間攪拌を行い、４０
℃に加熱してから、さらに１時間攪拌を行った。室温
で、終夜静置した後、液状物のうちの７２重量％と、固
体状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラスコ
にわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧下、１
２０℃で８時間乾燥を行った。その後、液状物由来の固
形物を、テトラヒドロフラン３リットルに溶解させ、こ
れを、固体状物由来の固形物が入った５リットルのフラ
スコに移した。室温で、６９時間静置した後、１２０℃
で８時間、減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物３
８７ｇを得た。
【０２４６】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、上記実施
例２９（１）で合成した固体生成物 ３８７ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２８１ｇを入れた。４０℃に加熱し、２時
間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリ
ー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。
以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィルター
で液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４０３ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝２．３ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．２
ｍｍｏｌ／ｇであった。
例２９（１）で合成した固体生成物 ３８７ｇ、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを入れ、攪拌を行った。これ
に実施例１（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ２８１ｇを入れた。４０℃に加熱し、２時
間攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリ
ー部分を取り除いた。洗浄操作として、これに、テトラ
ヒドロフラン ３リットルを加え、攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。
以上の洗浄操作を計５回繰り返した。グラスフィルター
で液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間
乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４０３ｇを得た。元
素分析の結果、Ｚｎ＝２．３ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．２
ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２４７】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例２９（２）で得られた
成分（Ａ）１４．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
２３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５１．２ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．０×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３５８０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．８、ＭＦＲ＝０．６００、ＭＦ
ＲＲ＝９２．０、ＳＲ＝１．２６であった。
成分（Ａ）１４．３ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
２３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８３
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 ５１．２ｇが得られた。ジルコニウム原子
当たりの重合活性は１．０×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時
間で、固体触媒成分当りの重合活性は３５８０ｇ／ｇ固
体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィン
重合体はＳＣＢ＝１５．８、ＭＦＲ＝０．６００、ＭＦ
ＲＲ＝９２．０、ＳＲ＝１．２６であった。
【０２４８】［実施例３０］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した１リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ２３８ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１８０．５ｍｌ（３６１ｍｍｏ
ｌ）を入れ、−６５℃に冷却した。これに、ペンタフル
オロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．２１ｍ
ｏｌ／リットル）８１．７ｍｌ（１８１ｍｍｏｌ）を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、３．２時間攪拌を行った。その後、４０℃に加熱
し、１時間攪拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ
2Ｏ ４．９ｍｌ（２７２ｍｍｏｌ）を１．３時間で滴
下した。その結果、フラスコ内は、黄白色スラリーとな
った。滴下終了後、２時間攪拌を行い、５０℃に加熱し
てから、さらに１時間攪拌を行った。室温で、終夜静置
した後、液状物と、固体状物を分離し、それぞれ窒素置
換した別々のフラスコにわけ取り、それぞれ揮発性成分
を留去し、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行った。そ
の結果、液状物由来の固体生成物 ４８．２ｇ、固体状
物由来の固体生成物 １６．５ｇを得た。
ドロフラン ２３８ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）１８０．５ｍｌ（３６１ｍｍｏ
ｌ）を入れ、−６５℃に冷却した。これに、ペンタフル
オロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．２１ｍ
ｏｌ／リットル）８１．７ｍｌ（１８１ｍｍｏｌ）を２
５分間で滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を
上げ、３．２時間攪拌を行った。その後、４０℃に加熱
し、１時間攪拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ
2Ｏ ４．９ｍｌ（２７２ｍｍｏｌ）を１．３時間で滴
下した。その結果、フラスコ内は、黄白色スラリーとな
った。滴下終了後、２時間攪拌を行い、５０℃に加熱し
てから、さらに１時間攪拌を行った。室温で、終夜静置
した後、液状物と、固体状物を分離し、それぞれ窒素置
換した別々のフラスコにわけ取り、それぞれ揮発性成分
を留去し、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行った。そ
の結果、液状物由来の固体生成物 ４８．２ｇ、固体状
物由来の固体生成物 １６．５ｇを得た。
【０２４９】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
３０（１）で合成した固体状物由来の固体生成物のうち
の４．４１ｇと、実施例１（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．９０ｇ、テトラヒド
ロフラン ３０ｍｌを入れて、４０℃で２時間攪拌を行
った。固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除いた。洗浄操作として、これに、テトラヒドロフラン
３０ｍｌを加え、攪拌を行った後、固体成分を沈降さ
せ、上層のスラリー部分を取り除いた。以上の洗浄操作
を計５回繰り返した。グラスフィルターで液体成分を取
り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うこと
により、成分（Ａ）５．１９ｇを得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．４ｍｍｏｌ／
ｇであった。
３０（１）で合成した固体状物由来の固体生成物のうち
の４．４１ｇと、実施例１（２）で使用したものと同じ
ロットの加熱処理したシリカ ２．９０ｇ、テトラヒド
ロフラン ３０ｍｌを入れて、４０℃で２時間攪拌を行
った。固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除いた。洗浄操作として、これに、テトラヒドロフラン
３０ｍｌを加え、攪拌を行った後、固体成分を沈降さ
せ、上層のスラリー部分を取り除いた。以上の洗浄操作
を計５回繰り返した。グラスフィルターで液体成分を取
り除いた後、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うこと
により、成分（Ａ）５．１９ｇを得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝１．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．４ｍｍｏｌ／
ｇであった。
【０２５０】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例３０（２）で得られた
成分（Ａ）１３．５ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
９３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７５ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １０６．２ｇが得られた。ジルコニウム原
子当たりの重合活性は２．１×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／
時間で、固体触媒成分当りの重合活性は７８７０ｇ／ｇ
固体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィ
ン重合体はＳＣＢ＝１４．３、ＭＦＲ＝０．５５０、Ｍ
ＦＲＲ＝６４．０、ＳＲ＝１．２０であった。
成分（Ａ）１３．５ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．４
９３ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７５ｍｏｌ％であった
こと、エチレン／水素混合ガスの水素濃度が０．１８８
ｍｏｌ％であったこと以外は、実施例３（３）と同様に
して重合を行った。その結果、粒子性状の良好なオレフ
ィン重合体 １０６．２ｇが得られた。ジルコニウム原
子当たりの重合活性は２．１×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／
時間で、固体触媒成分当りの重合活性は７８７０ｇ／ｇ
固体触媒成分／時間であった。また、得られたオレフィ
ン重合体はＳＣＢ＝１４．３、ＭＦＲ＝０．５５０、Ｍ
ＦＲＲ＝６４．０、ＳＲ＝１．２０であった。
【０２５１】［実施例３１］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した３００ｍｌの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン １０６ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を入
れ、４℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノー
ルのテトラヒドロフラン溶液（２．２１ｍｏｌ／リット
ル）１４．５ｍｌ（３２ｍｍｏｌ）を５０分間で滴下し
た。滴下終了後、５℃でさらに１時間攪拌を行った。氷
浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏのテトラヒドロフラ
ン溶液（９．９ｍｏｌ／リットル）７．３ｍｌ（７２．
３ｍｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、２時間
攪拌を行った後、室温で終夜静置した。その後、還流条
件下（６３℃）で８時間攪拌を行った。その結果、黄色
透明溶液 １４６ｍｌを得た。
ドロフラン １０６ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を入
れ、４℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノー
ルのテトラヒドロフラン溶液（２．２１ｍｏｌ／リット
ル）１４．５ｍｌ（３２ｍｍｏｌ）を５０分間で滴下し
た。滴下終了後、５℃でさらに１時間攪拌を行った。氷
浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏのテトラヒドロフラ
ン溶液（９．９ｍｏｌ／リットル）７．３ｍｌ（７２．
３ｍｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、２時間
攪拌を行った後、室温で終夜静置した。その後、還流条
件下（６３℃）で８時間攪拌を行った。その結果、黄色
透明溶液 １４６ｍｌを得た。
【０２５２】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ２．９３ｇ、上記実施例３１（１）で合成した黄色
透明溶液のうちの４７ｍｌを入れて、４０℃で２時間攪
拌を行った。グラスフィルターで液体成分を取り除いた
後、テトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行っ
た。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）３．８９ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝
２．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．０ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ２．９３ｇ、上記実施例３１（１）で合成した黄色
透明溶液のうちの４７ｍｌを入れて、４０℃で２時間攪
拌を行った。グラスフィルターで液体成分を取り除いた
後、テトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行っ
た。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）３．８９ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝
２．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．０ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
【０２５３】（３）重合
固体触媒成分として、上記実施例３１（２）で得られた
成分（Ａ）１４．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７０ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６
５．１ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は１．３×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は４４６０ｇ／ｇ固体触媒成分／時
間であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ
＝１３．８、ＭＦＲ＝０．１４、ＭＦＲＲ＝１３８、Ｓ
Ｒ＝１．１０であった。
成分（Ａ）１４．６ｍｇを用いたことと、ガスクロマト
グラフィー分析による系内のガス組成が、水素＝０．５
６１ｍｏｌ％、１−ブテン＝２．７０ｍｏｌ％であった
こと以外は、実施例３（３）と同様にして重合を行っ
た。その結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６
５．１ｇが得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活
性は１．３×１０8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒
成分当りの重合活性は４４６０ｇ／ｇ固体触媒成分／時
間であった。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ
＝１３．８、ＭＦＲ＝０．１４、ＭＦＲＲ＝１３８、Ｓ
Ｒ＝１．１０であった。
【０２５４】［実施例３２］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した２００ｍｌの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、３，５−ジフルオロ
フェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．３３ｍｏｌ
／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１２０分
間で滴下した。滴下終了後、５℃で９０分間、その後４
０℃で７０分間さらに攪拌を行った。その後、氷浴で２
０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏ ０．７２ｍｌ（４０ｍｍ
ｏｌ）を８０分で滴下した。滴下終了後、２０℃で６０
分間、その後４０℃で１２０分間さらに攪拌を行った。
その結果、白黄色スラリー状物が得られた。室温で、終
夜静置した後、揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃
で８時間乾燥を行った。その結果、黄色固体生成物１
４．７ｇを得た。
ドロフラン４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、３，５−ジフルオロ
フェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．３３ｍｏｌ
／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１２０分
間で滴下した。滴下終了後、５℃で９０分間、その後４
０℃で７０分間さらに攪拌を行った。その後、氷浴で２
０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏ ０．７２ｍｌ（４０ｍｍ
ｏｌ）を８０分で滴下した。滴下終了後、２０℃で６０
分間、その後４０℃で１２０分間さらに攪拌を行った。
その結果、白黄色スラリー状物が得られた。室温で、終
夜静置した後、揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃
で８時間乾燥を行った。その結果、黄色固体生成物１
４．７ｇを得た。
【０２５５】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
３２（１）で合成した黄色固体生成物のうちの５．３３
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．０３ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）３．００ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．
１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１.３ｍｍｏｌ／ｇであった。
３２（１）で合成した黄色固体生成物のうちの５．３３
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．０３ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）３．００ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．
１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１.３ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２５６】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３２（２）で得られた成分（Ａ）１９．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ７ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．４×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は３７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、
得られたオレフィン重合体はＭｗ＝８．４４×１０4、
Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１６、［η］＝１．３５であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３２（２）で得られた成分（Ａ）１９．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ７ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．４×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は３７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、
得られたオレフィン重合体はＭｗ＝８．４４×１０4、
Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１６、［η］＝１．３５であった。
【０２５７】［実施例３３］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した２００ｍｌの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、パーフルオロ−ｔｅ
ｒｔ−ブタノールのテトラヒドロフラン溶液（２．３３
ｍｏｌ／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１
２０分間で滴下した。滴下終了後、５℃で９０分間、そ
の後４０℃で７０分間さらに攪拌を行った。その後、氷
浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏ０．７２ｍｌ（４０
ｍｍｏｌ）を８０分で滴下した。滴下終了後、２０℃で
６０分間、その後４０℃で１２０分間さらに攪拌を行っ
た。その結果、白黄色溶液が得られた。室温で、終夜静
置した後、揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行った。その結果、黄色固体生成物２６．３
５ｇを得た。
ドロフラン ４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、パーフルオロ−ｔｅ
ｒｔ−ブタノールのテトラヒドロフラン溶液（２．３３
ｍｏｌ／リットル）３４．３ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１
２０分間で滴下した。滴下終了後、５℃で９０分間、そ
の後４０℃で７０分間さらに攪拌を行った。その後、氷
浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2 Ｏ０．７２ｍｌ（４０
ｍｍｏｌ）を８０分で滴下した。滴下終了後、２０℃で
６０分間、その後４０℃で１２０分間さらに攪拌を行っ
た。その結果、白黄色溶液が得られた。室温で、終夜静
置した後、揮発性成分を留去し、減圧下、１２０℃で８
時間乾燥を行った。その結果、黄色固体生成物２６．３
５ｇを得た。
【０２５８】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
３３（１）で合成した黄色固体生成物のうちの８．２９
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌおよび実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．０９ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．３９ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
３３（１）で合成した黄色固体生成物のうちの８．２９
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌおよび実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．０９ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．３９ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
８ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２５９】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３３（２）で得られた成分（Ａ）２０．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １３ｇが得ら
れた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．６×１
０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合
活性は６５０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．３、Ｍ
ＦＲ＝０．９６、ＭＦＲＲ＝４４．５、ＳＲ＝１．４
０、Ｍｗ＝８．９８×１０4、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６５、
［η］＝１．３３であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３３（２）で得られた成分（Ａ）２０．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １３ｇが得ら
れた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．６×１
０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合
活性は６５０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．３、Ｍ
ＦＲ＝０．９６、ＭＦＲＲ＝４４．５、ＳＲ＝１．４
０、Ｍｗ＝８．９８×１０4、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．６５、
［η］＝１．３３であった。
【０２６０】［実施例３４］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した２００ｍｌの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノ−ルのテトラヒ
ドロフラン溶液（２．３３ｍｏｌ／リットル）３４．３
ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１２０分間で滴下した。滴下終
了後、５℃で９０分間、その後４０℃で７０分間さらに
攪拌を行った。その後、氷浴で２０℃まで温度を下げ、
Ｈ2 Ｏ ０．７２ｍｌ（４０ｍｍｏｌ）を８０分で滴下
した。滴下終了後、２０℃で６０分間、その後４０℃で
１２０分間さらに攪拌を行った。その結果、白黄色溶液
が得られた。室温で、終夜静置した後、揮発性成分を留
去し、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その結
果、黄色固体生成物１５．４７ｇを得た。
ドロフラン ４０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２．０ｍｏｌ／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）
を入れ、５℃に冷却した。これに、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノ−ルのテトラヒ
ドロフラン溶液（２．３３ｍｏｌ／リットル）３４．３
ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を１２０分間で滴下した。滴下終
了後、５℃で９０分間、その後４０℃で７０分間さらに
攪拌を行った。その後、氷浴で２０℃まで温度を下げ、
Ｈ2 Ｏ ０．７２ｍｌ（４０ｍｍｏｌ）を８０分で滴下
した。滴下終了後、２０℃で６０分間、その後４０℃で
１２０分間さらに攪拌を行った。その結果、白黄色溶液
が得られた。室温で、終夜静置した後、揮発性成分を留
去し、減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その結
果、黄色固体生成物１５．４７ｇを得た。
【０２６１】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
３４（１）で合成した黄色固体生成物のうちの６．５３
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌおよび実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．１１ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．４４ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
９ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．０ｍｍｏｌ／ｇであった。
３４（１）で合成した黄色固体生成物のうちの６．５３
ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌおよび実施例１
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ ３．１１ｇを入れて、４０℃で２時間攪拌を行っ
た。グラスフィルターで液体成分を取り除いた後、テト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．４４ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
９ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．０ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２６２】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．３５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３４（２）で得られた成分（Ａ）１６．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．６×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、
得られたオレフィン重合体はＭＦＲ＝０．７７、ＭＦＲ
Ｒ＝４８．４、ＳＲ＝１．３８、Ｍｗ＝８．２８×１０
4、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４６、［η］＝１．３２であっ
た。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．３５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３４（２）で得られた成分（Ａ）１６．０ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．６×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。また、
得られたオレフィン重合体はＭＦＲ＝０．７７、ＭＦＲ
Ｒ＝４８．４、ＳＲ＝１．３８、Ｍｗ＝８．２８×１０
4、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４６、［η］＝１．３２であっ
た。
【０２６３】［実施例３５］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した２リットルの四つ口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン ５３５ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）３６１ｍｌ（７２２ｍｏｌ）を
入れ、−５３℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール ６８．１３ｇ（３７０ｍｍｏｌ）をテトラヒ
ドロフラン １０４ｍｌに溶解させた溶液を２０分間で
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、１
時間攪拌を行った。その後、４７℃に加熱し、１時間攪
拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ １０．
５ｇ（５８３ｍｍｏｌ）を１００分間で滴下した。その
結果、黄色透明液状物と、白色結晶に分かれた。室温で
２時間、５０℃で１時間攪拌を行うことにより内容物
は、黄色透明液状物と、黄色オイル状物になった。室温
で９時間静置した。黄色透明液状物の７１体積％と、黄
色ゲル状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その後、黄色透明
液状物由来の固形物にテトラヒドロフラン ８０３ｍｌ
を入れて溶解させ、これを黄色オイル状物由来の固形物
に合わせ入れた。５９．５時間静置することにより内容
物は、黄色透明液状物と、少量の白色状粉末になった。
減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、
減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物 １２４ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝６．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝１３ｍｍｏｌ／ｇであった。
ドロフラン ５３５ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）３６１ｍｌ（７２２ｍｏｌ）を
入れ、−５３℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール ６８．１３ｇ（３７０ｍｍｏｌ）をテトラヒ
ドロフラン １０４ｍｌに溶解させた溶液を２０分間で
滴下した。滴下終了後、室温まで徐々に温度を上げ、１
時間攪拌を行った。その後、４７℃に加熱し、１時間攪
拌した。氷浴で２０℃まで温度を下げ、Ｈ2Ｏ １０．
５ｇ（５８３ｍｍｏｌ）を１００分間で滴下した。その
結果、黄色透明液状物と、白色結晶に分かれた。室温で
２時間、５０℃で１時間攪拌を行うことにより内容物
は、黄色透明液状物と、黄色オイル状物になった。室温
で９時間静置した。黄色透明液状物の７１体積％と、黄
色ゲル状物の全量を、それぞれ窒素置換した別々のフラ
スコにわけ取り、それぞれ揮発性成分を留去し、減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行った。その後、黄色透明
液状物由来の固形物にテトラヒドロフラン ８０３ｍｌ
を入れて溶解させ、これを黄色オイル状物由来の固形物
に合わせ入れた。５９．５時間静置することにより内容
物は、黄色透明液状物と、少量の白色状粉末になった。
減圧下、揮発性成分を留去した後、１２０℃で８時間、
減圧乾燥を行った。その結果、固体生成物 １２４ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝６．０ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝１３ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２６４】（２）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。窒素流通下で８００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子
径＝５２.０μｍ；細孔容量＝１.５８ｍｌ／ｇ；比表面
積＝３０２ｍ2 ／ｇ）２．９５ｇを加え、４０℃に昇温
し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を取り除い
た後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回
洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うこ
とにより、成分（Ａ）を４．３５ｇ得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．５ｍｍｏｌ／
ｇであった。
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３０ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。窒素流通下で８００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；平均粒子
径＝５２.０μｍ；細孔容量＝１.５８ｍｌ／ｇ；比表面
積＝３０２ｍ2 ／ｇ）２．９５ｇを加え、４０℃に昇温
し、２時間攪拌を行った。その後、液体成分を取り除い
た後、固体成分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回
洗浄を行った。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うこ
とにより、成分（Ａ）を４．３５ｇ得た。元素分析の結
果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．５ｍｍｏｌ／
ｇであった。
【０２６５】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４８１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．９２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３５（２）で得られた成分（Ａ）１６．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８１ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５４．１ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．１
×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３３２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．
０、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．４０、ＭＦ
Ｒ＝０．８４６、ＭＦＲＲ＝５８．９、ＳＲ＝１．３１
であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４８１ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．９２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３５（２）で得られた成分（Ａ）１６．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８１ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５４．１ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．１
×１０8 ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３３２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．
０、Ｍｗ＝１０８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝４．４０、ＭＦ
Ｒ＝０．８４６、ＭＦＲＲ＝５８．９、ＳＲ＝１．３１
であった。
【０２６６】［実施例３６］
（１） 成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
４１ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。窒素流通下で３００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製；平均粒子径＝４５．６μｍ；細孔
容量＝１．６３ｍｌ／ｇ；比表面積＝５２７ｍ2 ／ｇ）
３．０２ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行っ
た。その後、液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を３．９８ｇ得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２.
６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４.２ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
４１ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。窒素流通下で３００℃において加熱処理したシ
リカ（デビソン社製；平均粒子径＝４５．６μｍ；細孔
容量＝１．６３ｍｌ／ｇ；比表面積＝５２７ｍ2 ／ｇ）
３．０２ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行っ
た。その後、液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を３．９８ｇ得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２.
６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４.２ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２６７】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４５２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３６（１）で得られた成分（Ａ）１３．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１９４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は９．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
１、Ｍｗ＝１１８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝７．４４、ＭＦ
Ｒ＝０．１８０、ＭＦＲＲ＝１４４、ＳＲ＝１．１３で
あった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．４５２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３６（１）で得られた成分（Ａ）１３．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１９４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は９．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
１、Ｍｗ＝１１８０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝７．４４、ＭＦ
Ｒ＝０．１８０、ＭＦＲＲ＝１４４、ＳＲ＝１．１３で
あった。
【０２６８】［実施例３７］
（１）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
４５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。アクリロニトリル重合体−アミン架橋体である
有機ポリマー担体（住友化学工業社製ＫＡ−８９２；比
表面積＝３４．４ｍ2 ／ｇ；アミン官能基量＝７ｍｍｏ
ｌ／ｇ）３．０９ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪
拌を行った。その後、液体成分を取り除いた後、固体成
分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行っ
た。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝０.５８ｍ
ｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１.１ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
４５ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。アクリロニトリル重合体−アミン架橋体である
有機ポリマー担体（住友化学工業社製ＫＡ−８９２；比
表面積＝３４．４ｍ2 ／ｇ；アミン官能基量＝７ｍｍｏ
ｌ／ｇ）３．０９ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪
拌を行った。その後、液体成分を取り除いた後、固体成
分をテトラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行っ
た。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝０.５８ｍ
ｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝１.１ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２６９】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５２８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．００ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３７（１）で得られた成分（Ａ）１３．８ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１．４ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は８２６ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。
また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝５．３９、
Ｍｗ＝８０９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４０、ＭＦＲ＝
１．４１、ＭＦＲＲ＝３４．７、ＳＲ＝１．４７であっ
た。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５２８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．００ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３７（１）で得られた成分（Ａ）１３．８ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１．４ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は８２６ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。
また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝５．３９、
Ｍｗ＝８０９００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４０、ＭＦＲ＝
１．４１、ＭＦＲＲ＝３４．７、ＳＲ＝１．４７であっ
た。
【０２７０】［実施例３８］
（１）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。４−ビニルピリジン重合体である有機ポリマー
担体（広栄化学社製４ＶＰ；比表面積＝３５．８ｍ2 ／
ｇ；ピリジン官能基量＝３．６ｍｍｏｌ／ｇ）３．０７
ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その
後、液体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロ
フラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝１.４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３.３
ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３４ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。４−ビニルピリジン重合体である有機ポリマー
担体（広栄化学社製４ＶＰ；比表面積＝３５．８ｍ2 ／
ｇ；ピリジン官能基量＝３．６ｍｍｏｌ／ｇ）３．０７
ｇを加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。その
後、液体成分を取り除いた後、固体成分をテトラヒドロ
フラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝１.４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３.３
ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２７１】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５７７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．００ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３８（１）で得られた成分（Ａ）１１．４ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １３．８ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１２１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝６．１
７、Ｍｗ＝８７２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４４、ＭＦＲ
＝０．６７９、ＭＦＲＲ＝５４．８、ＳＲ＝１．４８で
あった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５７７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．００ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３８（１）で得られた成分（Ａ）１１．４ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １３．８ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１２１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝６．１
７、Ｍｗ＝８７２００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．４４、ＭＦＲ
＝０．６７９、ＭＦＲＲ＝５４．８、ＳＲ＝１．４８で
あった。
【０２７２】［実施例３９］
（１）成分（Ａ）の合成
減圧乾燥後、窒素で置換した５０ｍｌの四つ口フラスコ
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３７ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。スチレンとジビニルベンゼンとの共重合体であ
る有機ポリマー担体（住友化学社製ＣＳ−１；ジビニル
ベンゼン単位含量＝３９．５重量％；平均粒子径＝３
３．０μｍ；細孔容量＝１．０５ｍｌ／ｇ）３．０７ｇ
を加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。テトラ
ヒドロフランを減圧下留去した後、再びテトラヒドロフ
ランを４０ｍｌ加え４０℃に昇温した。その後、グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝０．０７７ｍｍ
ｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
に、上記実施例３５（１）で得られた固体生成物 ４．
３７ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌを入れ、攪拌を
行った。スチレンとジビニルベンゼンとの共重合体であ
る有機ポリマー担体（住友化学社製ＣＳ−１；ジビニル
ベンゼン単位含量＝３９．５重量％；平均粒子径＝３
３．０μｍ；細孔容量＝１．０５ｍｌ／ｇ）３．０７ｇ
を加え、４０℃に昇温し、２時間攪拌を行った。テトラ
ヒドロフランを減圧下留去した後、再びテトラヒドロフ
ランを４０ｍｌ加え４０℃に昇温した。その後、グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、固体成分をテト
ラヒドロフラン ３０ｍｌで５回洗浄を行った。減圧
下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝０．０７７ｍｍ
ｏｌ／ｇ、Ｆ＝１．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２７３】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３９（１）で得られた成分（Ａ）１５．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８．３ｇが得
られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．７×
１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重
合活性は５４２ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝７．２０、Ｍ
ＦＲ＝２．５４、ＭＦＲＲ＝２８．７、ＳＲ＝１．６１
であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例３９（１）で得られた成分（Ａ）１５．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１８４ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８．３ｇが得
られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．７×
１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重
合活性は５４２ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝７．２０、Ｍ
ＦＲ＝２．５４、ＭＦＲＲ＝２８．７、ＳＲ＝１．６１
であった。
【０２７４】［実施例４０］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した３００ｍｌの四つ口フラスコに、トルエン
１００ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ
／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を入れ、５℃に
冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトルエ
ン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）１１．６ｍｌ（３
２．１ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
２０℃まで徐々に温度を上げた。その後、２０℃でＨ2
Ｏ １．５８ｍｌ（８７．７ｍｍｏｌ）を６０分間で滴
下した。滴下終了後、還流条件下（９１℃）で６時間攪
拌を行った。その結果、接触物（ｅ）のスラリー １４
０ｍｌを得た。仕込んだ試薬の量から計算すると、スラ
リー濃度は０．５７ｍｍｏｌ（Ｚｎ原子換算）／ｍｌ
（スラリー）である。
１００ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ
／リットル）４０ｍｌ（８０ｍｍｏｌ）を入れ、５℃に
冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトルエ
ン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）１１．６ｍｌ（３
２．１ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
２０℃まで徐々に温度を上げた。その後、２０℃でＨ2
Ｏ １．５８ｍｌ（８７．７ｍｍｏｌ）を６０分間で滴
下した。滴下終了後、還流条件下（９１℃）で６時間攪
拌を行った。その結果、接触物（ｅ）のスラリー １４
０ｍｌを得た。仕込んだ試薬の量から計算すると、スラ
リー濃度は０．５７ｍｍｏｌ（Ｚｎ原子換算）／ｍｌ
（スラリー）である。
【０２７５】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
４０（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエ
ーテル４０ｍｌ、窒素流通下で３００℃において加熱処
理したシリカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；
平均粒子径＝５９μｍ；細孔容量＝１．６１ｍｌ／ｇ；
比表面積＝３０６ｍ2／ｇ）２．９９ｇを入れた。４０
℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、グラスフィルター
で液体成分を取り除き、トルエン ３０ｍｌで４回、ヘ
キサン ３０ｍｌで１回洗浄した。減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）５．９８ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．２ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝５．１ｍｍｏｌ／ｇであった。
４０（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエ
ーテル４０ｍｌ、窒素流通下で３００℃において加熱処
理したシリカ（デビソン社製 Ｓｙｌｏｐｏｌ９４８；
平均粒子径＝５９μｍ；細孔容量＝１．６１ｍｌ／ｇ；
比表面積＝３０６ｍ2／ｇ）２．９９ｇを入れた。４０
℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、グラスフィルター
で液体成分を取り除き、トルエン ３０ｍｌで４回、ヘ
キサン ３０ｍｌで１回洗浄した。減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）５．９８ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．２ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝５．１ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２７６】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７５９ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４０（２）で得られた成分（Ａ）８．１ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）ををフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ２８．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．９
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
３、ＭＦＲ＝１．９０、ＭＦＲＲ＝４３．４、ＳＲ＝
１．３２であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７５９ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４０（２）で得られた成分（Ａ）８．１ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）ををフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ２８．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．９
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
３、ＭＦＲ＝１．９０、ＭＦＲＲ＝４３．４、ＳＲ＝
１．３２であった。
【０２７７】［実施例４１］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
４０（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール４０ｍｌを入れ
た。したがってエタノール分率は１００体積％である。
実施例４０（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ３．１０ｇを入れた。４０℃に加熱し、２
時間攪拌を行った後、グラスフィルターで液体成分を取
り除き、トルエン ３０ｍｌで４回、ヘキサン ３０ｍ
ｌで１回洗浄した。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行
うことにより、成分（Ａ）３．８２ｇを得た。元素分析
の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．５ｍｍｏ
ｌ／ｇであった。
４０（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール４０ｍｌを入れ
た。したがってエタノール分率は１００体積％である。
実施例４０（２）で使用したものと同じロットの加熱処
理したシリカ３．１０ｇを入れた。４０℃に加熱し、２
時間攪拌を行った後、グラスフィルターで液体成分を取
り除き、トルエン ３０ｍｌで４回、ヘキサン ３０ｍ
ｌで１回洗浄した。減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行
うことにより、成分（Ａ）３．８２ｇを得た。元素分析
の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝２．５ｍｍｏ
ｌ／ｇであった。
【０２７８】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７５２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４１（１）で得られた成分（Ａ）８．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は７．９
×１０6ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１４２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
６、ＭＦＲ＝２．０３、ＭＦＲＲ＝４８．８、ＳＲ＝
１．５３であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７５２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４１（１）で得られた成分（Ａ）８．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は７．９
×１０6ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１４２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
６、ＭＦＲ＝２．０３、ＭＦＲＲ＝４８．８、ＳＲ＝
１．５３であった。
【０２７９】［実施例４２］
（１）接触物（ｅ）の合成
窒素置換した１０００ｍｌの四つ口フラスコに、トルエ
ン３００ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ
／リットル）１２０ｍｌ（２４０ｍｍｏｌ）を入れ、５
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのト
ルエン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３４．８ｍｌ
（９６．３ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了
後、２０℃まで徐々に温度を上げた。その後、２０℃で
Ｈ2Ｏ４．７４ｍｌ（２６３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴
下した。滴下終了後、還流条件下（９１℃）で６時間攪
拌を行った。その結果、接触物（ｅ）のスラリー ４２
０ｍｌを得た。仕込んだ試薬の量から計算すると、スラ
リー濃度は０．５７ｍｍｏｌ（Ｚｎ原子換算）／ｍｌ
（スラリー）である。
ン３００ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ
／リットル）１２０ｍｌ（２４０ｍｍｏｌ）を入れ、５
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのト
ルエン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３４．８ｍｌ
（９６．３ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了
後、２０℃まで徐々に温度を上げた。その後、２０℃で
Ｈ2Ｏ４．７４ｍｌ（２６３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴
下した。滴下終了後、還流条件下（９１℃）で６時間攪
拌を行った。その結果、接触物（ｅ）のスラリー ４２
０ｍｌを得た。仕込んだ試薬の量から計算すると、スラ
リー濃度は０．５７ｍｍｏｌ（Ｚｎ原子換算）／ｍｌ
（スラリー）である。
【０２８０】（２）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール ２ｍｌおよびト
ルエン ３８ｍｌを入れた。したがってエタノール分率
は５体積％である。実施例４０（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ３．０３ｇを入れた。
４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分を沈
降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作と
して、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行っ
た後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗
浄操作をヘキサン ３０ｍｌで２回行った。グラスフィ
ルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．５１ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝３．８ｍｍｏｌ／ｇであった。
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール ２ｍｌおよびト
ルエン ３８ｍｌを入れた。したがってエタノール分率
は５体積％である。実施例４０（２）で使用したものと
同じロットの加熱処理したシリカ３．０３ｇを入れた。
４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分を沈
降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作と
して、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行っ
た後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗
浄操作をヘキサン ３０ｍｌで２回行った。グラスフィ
ルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０℃で
８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）３．５１ｇを
得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ
＝３．８ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２８１】（３）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７１３ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．５５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４２（２）で得られた成分（Ａ）８．０ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ２８．７ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．９
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５９０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．
２、ＭＦＲ＝０．７８０、ＭＦＲＲ＝５８．６、ＳＲ＝
１．２５であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７１３ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．５５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４２（２）で得られた成分（Ａ）８．０ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ２８．７ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．９
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３５９０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．
２、ＭＦＲ＝０．７８０、ＭＦＲＲ＝５８．６、ＳＲ＝
１．２５であった。
【０２８２】［実施例４３］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール ８ｍｌおよびト
ルエン ３２ｍｌを入れた。したがってエタノール分率
は２０体積％である。実施例４０（２）で使用したもの
と同じロットの加熱処理したシリカ２．６５ｇを入れ
た。４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分
を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操
作として、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を
行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を
取り除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様
の洗浄操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．１７
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．７ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝３．８ｍｍｏｌ／ｇであった。
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール ８ｍｌおよびト
ルエン ３２ｍｌを入れた。したがってエタノール分率
は２０体積％である。実施例４０（２）で使用したもの
と同じロットの加熱処理したシリカ２．６５ｇを入れ
た。４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分
を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操
作として、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を
行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を
取り除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様
の洗浄操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．１７
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．７ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝３．８ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２８３】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６９３ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４３（１）で得られた成分（Ａ）９．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６０．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は４．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６５２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１７．
１、ＭＦＲ＝４．６１、ＭＦＲＲ＝４１．２、ＳＲ＝
１．４２であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６９３ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４３（１）で得られた成分（Ａ）９．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ６０．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は４．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６５２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１７．
１、ＭＦＲ＝４．６１、ＭＦＲＲ＝４１．２、ＳＲ＝
１．４２であった。
【０２８４】［実施例４４］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、上記実施例
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール １６ｍｌおよび
トルエン ２４ｍｌを入れた。したがってエタノール分
率は４０体積％である。実施例４０（２）で使用したも
のと同じロットの加熱処理したシリカ３．１５ｇを入れ
た。４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分
を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操
作として、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を
行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を
取り除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様
の洗浄操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．９８
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．８ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝３．７ｍｍｏｌ／ｇであった。
４２（１）で合成した接触物（ｅ）のスラリー ４５ｍ
ｌ（２５．７ｍｍｏｌ−Ｚｎ）を入れた。グラスフィル
ターで溶媒を除去した後、エタノール １６ｍｌおよび
トルエン ２４ｍｌを入れた。したがってエタノール分
率は４０体積％である。実施例４０（２）で使用したも
のと同じロットの加熱処理したシリカ３．１５ｇを入れ
た。４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った後、固体成分
を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操
作として、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を
行った後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を
取り除いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様
の洗浄操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラス
フィルターで液体成分を取り除いた後、減圧下、１２０
℃で８時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）４．９８
ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．８ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝３．７ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２８５】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６８０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４４（１）で得られた成分（Ａ）９．２ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４４．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は４８８０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１２．
５、ＭＦＲ＝１．２３、ＭＦＲＲ＝５４．６、ＳＲ＝
１．４１であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６８０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４４（１）で得られた成分（Ａ）９．２ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４４．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は４８８０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１２．
５、ＭＦＲ＝１．２３、ＭＦＲＲ＝５４．６、ＳＲ＝
１．４１であった。
【０２８６】［実施例４５］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、トルエン
２０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、２
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのト
ルエン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ
（１０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了
後、２℃で２０分間攪拌した。２℃でＨ2Ｏ ０．５１
ｍｌ（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。その
直後に、実施例４０（２）で使用したものと同じロット
の加熱処理したシリカ２．９８ｇを、２℃で入れた。２
℃で１時間攪拌を行った後、６０℃に加熱し、２時間攪
拌を行った。固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分
を取り除いた。洗浄操作として、これに、トルエン３０
ｍｌを加え、攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上
層のスラリー部分を取り除いた。以上の洗浄操作を計４
回繰り返した。同様の洗浄操作をヘキサン３０ｍｌで１
回行った。グラスフィルターで液体成分を取り除いた
後、減圧下、室温で乾燥を行うことにより、成分（Ａ）
５．８８ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍ
ｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
２０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リ
ットル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、２
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのト
ルエン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ
（１０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了
後、２℃で２０分間攪拌した。２℃でＨ2Ｏ ０．５１
ｍｌ（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。その
直後に、実施例４０（２）で使用したものと同じロット
の加熱処理したシリカ２．９８ｇを、２℃で入れた。２
℃で１時間攪拌を行った後、６０℃に加熱し、２時間攪
拌を行った。固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分
を取り除いた。洗浄操作として、これに、トルエン３０
ｍｌを加え、攪拌を行った後、固体成分を沈降させ、上
層のスラリー部分を取り除いた。以上の洗浄操作を計４
回繰り返した。同様の洗浄操作をヘキサン３０ｍｌで１
回行った。グラスフィルターで液体成分を取り除いた
後、減圧下、室温で乾燥を行うことにより、成分（Ａ）
５．８８ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍ
ｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２８７】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７０７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４５（１）で得られた成分（Ａ）８．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ９４．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は６．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１０８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
８、ＭＦＲ＝３．１５、ＭＦＲＲ＝４１．９、ＳＲ＝
１．３８であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７０７ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．８２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４５（１）で得られた成分（Ａ）８．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ９４．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は６．３
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は１０８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
８、ＭＦＲ＝３．１５、ＭＦＲＲ＝４１．９、ＳＲ＝
１．３８であった。
【０２８８】［実施例４６］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、トルエン２
０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リッ
トル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、５℃
に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ（１
０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で２０分間攪拌した。５℃でＨ2Ｏ ０．５１ｍｌ
（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了
後５℃で１時間攪拌した。そこへ、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ２．９
３ｇを、２℃で入れた。２℃で１時間攪拌を行った後、
４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った。固体成分を沈降
させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作とし
て、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗浄
操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラスフィル
ターで液体成分を取り除いた後、減圧下、室温で乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）５．８４ｇを得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝３．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝５．３ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リッ
トル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、５℃
に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ（１
０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で２０分間攪拌した。５℃でＨ2Ｏ ０．５１ｍｌ
（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了
後５℃で１時間攪拌した。そこへ、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ２．９
３ｇを、２℃で入れた。２℃で１時間攪拌を行った後、
４０℃に加熱し、２時間攪拌を行った。固体成分を沈降
させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作とし
て、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗浄
操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラスフィル
ターで液体成分を取り除いた後、減圧下、室温で乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）５．８４ｇを得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝３．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝５．３ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２８９】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．５９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４６（１）で得られた成分（Ａ）８．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５７．４ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６５２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
４、ＭＦＲ＝０．４５３、ＭＦＲＲ＝４０．２、ＳＲ＝
１．１６であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．５９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４６（１）で得られた成分（Ａ）８．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５７．４ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６５２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
４、ＭＦＲ＝０．４５３、ＭＦＲＲ＝４０．２、ＳＲ＝
１．１６であった。
【０２９０】［実施例４７］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、トルエン２
０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リッ
トル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、５℃
に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ（１
０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で２０分間攪拌した。５℃でＨ2Ｏ ０．５１ｍｌ
（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了
後５℃で３時間攪拌した。そこへ、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ３．０
１ｇを、４℃で入れた。４℃で１時間攪拌を行った後、
６０℃に加熱し、２時間攪拌を行った。固体成分を沈降
させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作とし
て、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗浄
操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラスフィル
ターで液体成分を取り除いた後、減圧下、室温で乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）４．３１ｇを得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．９ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
０ｍｌ、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２ｍｏｌ／リッ
トル）１２．８ｍｌ（２５．６ｍｍｏｌ）を入れ、５℃
に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノールのトル
エン溶液（２．７７ｍｏｌ／リットル）３．７ｍｌ（１
０．２ｍｍｏｌ）を４０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で２０分間攪拌した。５℃でＨ2Ｏ ０．５１ｍｌ
（２８．３ｍｍｏｌ）を６０分間で滴下した。滴下終了
後５℃で３時間攪拌した。そこへ、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ３．０
１ｇを、４℃で入れた。４℃で１時間攪拌を行った後、
６０℃に加熱し、２時間攪拌を行った。固体成分を沈降
させ、上層のスラリー部分を取り除いた。洗浄操作とし
て、これに、トルエン ３０ｍｌを加え、攪拌を行った
後、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除
いた。以上の洗浄操作を計４回繰り返した。同様の洗浄
操作をヘキサン ３０ｍｌで１回行った。グラスフィル
ターで液体成分を取り除いた後、減圧下、室温で乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）４．３１ｇを得た。元素分
析の結果、Ｚｎ＝２．４ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．９ｍｍ
ｏｌ／ｇであった。
【０２９１】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６２４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４７（１）で得られた成分（Ａ）８．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４２．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は５１３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
３、ＭＦＲ＝０．１３５、ＭＦＲＲ＝１４１、ＳＲ＝
１．１２であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．６２４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．６７ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４７（１）で得られた成分（Ａ）８．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４２．６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は２．８
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は５１３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
３、ＭＦＲ＝０．１３５、ＭＦＲＲ＝１４１、ＳＲ＝
１．１２であった。
【０２９２】［実施例４８］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、実施例４０
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ３．００ｇ、トルエン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．１４９
ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌
した。この間にトルエン中に液滴状に存在していたＨ2
Ｏは目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたもの
と思われる）均一なスラリーとなった。これに、ペンタ
フルオロフェノールのトルエン溶液（２．０ｍｏｌ／リ
ットル）１．８ｍｌ（３．６ｍｍｏｌ）を加え氷浴にて
５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０ｍｍｏｌ）
を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪拌
し、４０℃に昇温、４０℃で１時間攪拌し、更に６０℃
に昇温、６０℃にて１時間攪拌した。フィルターにてろ
過を行った後、４０℃、トルエン ３０ｍｌにて３回、
室温、ヘキサン ３０ｍｌにて２回、フィルターを用い
た洗浄を行った。次いで、残った固体成分を減圧下、４
０℃で１時間、１２０℃で８時間乾燥を行うことによ
り、成分（Ａ）を得た。１２０℃乾燥した成分（Ａ）は
元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．
４ｍｍｏｌ／ｇであった。
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ３．００ｇ、トルエン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．１４９
ｇ（８．２５ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌
した。この間にトルエン中に液滴状に存在していたＨ2
Ｏは目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたもの
と思われる）均一なスラリーとなった。これに、ペンタ
フルオロフェノールのトルエン溶液（２．０ｍｏｌ／リ
ットル）１．８ｍｌ（３．６ｍｍｏｌ）を加え氷浴にて
５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０ｍｍｏｌ）
を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪拌
し、４０℃に昇温、４０℃で１時間攪拌し、更に６０℃
に昇温、６０℃にて１時間攪拌した。フィルターにてろ
過を行った後、４０℃、トルエン ３０ｍｌにて３回、
室温、ヘキサン ３０ｍｌにて２回、フィルターを用い
た洗浄を行った。次いで、残った固体成分を減圧下、４
０℃で１時間、１２０℃で８時間乾燥を行うことによ
り、成分（Ａ）を得た。１２０℃乾燥した成分（Ａ）は
元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝３．
４ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２９３】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７３８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．９３ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４８（１）で得られた成分（Ａ）７．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４４．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６１００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．
０、ＭＦＲ＝１．３２、ＭＦＲＲ＝４２．７、ＳＲ＝
１．４４であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７３８ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．９３ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４８（１）で得られた成分（Ａ）７．３ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２０３ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４４．５ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．０
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６１００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１３．
０、ＭＦＲ＝１．３２、ＭＦＲＲ＝４２．７、ＳＲ＝
１．４４であった。
【０２９４】［実施例４９］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、実施例４０
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ２．９９ｇ、ヘキサン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．１４９
ｇ（８．２９ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌
した。この間にヘキサン中に液滴状に存在していたＨ2
Ｏは目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたもの
と思われる）均一なスラリーとなった。これに、ペンタ
フルオロフェノールのトルエン溶液（２．０ｍｏｌ／リ
ットル）１．８ｍｌ（３．６ｍｍｏｌ）を加え氷浴にて
５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０ｍｍｏｌ）
を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪拌
し、４０℃に昇温、４０℃で２時間攪拌した。フィルタ
ーにてろ過を行った後、４０℃、ヘキサン ３０ｍｌに
て３回、フィルターを用いた洗浄を行った。次いで、残
った固体成分を減圧下、４０℃で１時間、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。１２０
℃乾燥した成分（Ａ）は元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１
ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．０ｍｍｏｌ／ｇであった。
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ２．９９ｇ、ヘキサン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．１４９
ｇ（８．２９ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌
した。この間にヘキサン中に液滴状に存在していたＨ2
Ｏは目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたもの
と思われる）均一なスラリーとなった。これに、ペンタ
フルオロフェノールのトルエン溶液（２．０ｍｏｌ／リ
ットル）１．８ｍｌ（３．６ｍｍｏｌ）を加え氷浴にて
５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン溶液
（２ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０ｍｍｏｌ）
を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪拌
し、４０℃に昇温、４０℃で２時間攪拌した。フィルタ
ーにてろ過を行った後、４０℃、ヘキサン ３０ｍｌに
て３回、フィルターを用いた洗浄を行った。次いで、残
った固体成分を減圧下、４０℃で１時間、１２０℃で８
時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）を得た。１２０
℃乾燥した成分（Ａ）は元素分析の結果、Ｚｎ＝２．１
ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．０ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２９５】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７８９ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４９（１）で得られた成分（Ａ）７．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５３．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．６
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６９１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
０、ＭＦＲ＝３．００、ＭＦＲＲ＝４２．０、ＳＲ＝
１．４８であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１７ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７８９ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７８ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例４９（１）で得られた成分（Ａ）７．８ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２００ｍｏｌ％）をフィー
ドしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５３．９ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．６
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は６９１０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．
０、ＭＦＲ＝３．００、ＭＦＲＲ＝４２．０、ＳＲ＝
１．４８であった。
【０２９６】［実施例５０］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、実施例４０
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ２．９８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌ、ペンタ
フルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．０
ｍｏｌ／リットル）５．４ｍｌ（１０．８ｍｍｏｌ）、
Ｈ2Ｏ ０．４５８ｇ（２５．４ｍｍｏｌ）を入れ、氷
浴にて５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン
溶液（２ｍｏｌ／リットル）１３．４ｍｌ（２７ｍｍｏ
ｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪
拌し、４０℃に昇温、４０℃で２時間攪拌した。４０℃
にて、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除き、さらにガラスフィルターにて液体成分を取り除い
た。洗浄操作として、これに、テトラヒドロフラン３０
ｍｌを加え、４０℃に昇温するまで攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除き、ガ
ラスフィルターにて残りの液体成分を取り除いた。以上
の洗浄操作を計５回繰り返した。次いで、残った固体成
分を減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）４．９２ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝
３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．４ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ２．９８ｇ、テトラヒドロフラン ３０ｍｌ、ペンタ
フルオロフェノールのテトラヒドロフラン溶液（２．０
ｍｏｌ／リットル）５．４ｍｌ（１０．８ｍｍｏｌ）、
Ｈ2Ｏ ０．４５８ｇ（２５．４ｍｍｏｌ）を入れ、氷
浴にて５℃に冷却した。これにジエチル亜鉛のヘキサン
溶液（２ｍｏｌ／リットル）１３．４ｍｌ（２７ｍｍｏ
ｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で１時間攪
拌し、４０℃に昇温、４０℃で２時間攪拌した。４０℃
にて、固体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り
除き、さらにガラスフィルターにて液体成分を取り除い
た。洗浄操作として、これに、テトラヒドロフラン３０
ｍｌを加え、４０℃に昇温するまで攪拌を行った後、固
体成分を沈降させ、上層のスラリー部分を取り除き、ガ
ラスフィルターにて残りの液体成分を取り除いた。以上
の洗浄操作を計５回繰り返した。次いで、残った固体成
分を減圧下、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、
成分（Ａ）４．９２ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝
３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝４．４ｍｍｏｌ／ｇであっ
た。
【０２９７】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４０ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５０（１）で得られた成分（Ａ）１３．４ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１９３ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４２．１ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は８．４
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３１４０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１７．
８、ＭＦＲ＝２２．０、ＳＲ＝１．５４であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１２ＭＰａになるように加え、ブタンを７００
ｇ、１−ブテンを５０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．５７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４０ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．２５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５０（１）で得られた成分（Ａ）１３．４ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．１９３ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４２．１ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は８．４
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は３１４０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１７．
８、ＭＦＲ＝２２．０、ＳＲ＝１．５４であった。
【０２９８】［実施例５１］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、実施例４０
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ３．０５ｇ、ヘキサン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．０８１
ｇ（４．５ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌し
た。この間にヘキサン中に液滴状に存在していたＨ2Ｏ
は目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたものと
思われる）均一なスラリーとなった。氷浴にて５℃に冷
却した後、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏ
ｌ／リットル）４．４８ｍｌ（９ｍｍｏｌ）を１時間で
滴下した。滴下終了後、５℃で３０分間攪拌し、６０℃
に昇温、６０℃で１時間攪拌した。続いて、氷浴にて５
℃に冷却した後、ペンタフルオロフェノールのトルエン
溶液（２．００ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０
ｍｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で３
０分間攪拌し、６０℃に昇温、６０℃で１時間攪拌し
た。フィルターにてろ過を行った後、６０℃、ヘキサン
３０ｍｌにて４回、フィルターを用いた洗浄を行っ
た。次いで、残った固体成分を減圧下、４０℃で１時
間、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ
／ｇ、Ｆ＝６．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
（２）で使用したものと同じロットの加熱処理したシリ
カ３．０５ｇ、ヘキサン ３０ｍｌ、Ｈ2Ｏ０．０８１
ｇ（４．５ｍｍｏｌ）を入れ、室温にて３０分間攪拌し
た。この間にヘキサン中に液滴状に存在していたＨ2Ｏ
は目視で観察されなくなり（シリカに吸着されたものと
思われる）均一なスラリーとなった。氷浴にて５℃に冷
却した後、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏ
ｌ／リットル）４．４８ｍｌ（９ｍｍｏｌ）を１時間で
滴下した。滴下終了後、５℃で３０分間攪拌し、６０℃
に昇温、６０℃で１時間攪拌した。続いて、氷浴にて５
℃に冷却した後、ペンタフルオロフェノールのトルエン
溶液（２．００ｍｏｌ／リットル）４．５ｍｌ（９．０
ｍｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で３
０分間攪拌し、６０℃に昇温、６０℃で１時間攪拌し
た。フィルターにてろ過を行った後、６０℃、ヘキサン
３０ｍｌにて４回、フィルターを用いた洗浄を行っ
た。次いで、残った固体成分を減圧下、４０℃で１時
間、１２０℃で８時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）を得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝１．８ｍｍｏｌ
／ｇ、Ｆ＝６．４ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０２９９】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．８０２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．３２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５１（１）で得られた成分（Ａ）１０．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２１２ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５８ｇが得ら
れた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．９×１
０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合
活性は５６３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１１．７、Ｍ
ＦＲ＝１．５４、ＭＦＲＲ＝４３．６、ＳＲ＝１．４０
であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９５
ｇ、１−ブテンを５５ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．８０２ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．３２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５１（１）で得られた成分（Ａ）１０．３ｍｇを固体
触媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチ
レン／水素混合ガス（水素０．２１２ｍｏｌ％）をフィ
ードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結
果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ５８ｇが得ら
れた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は３．９×１
０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合
活性は５６３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１１．７、Ｍ
ＦＲ＝１．５４、ＭＦＲＲ＝４３．６、ＳＲ＝１．４０
であった。
【０３００】［実施例５２］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、ヘキサン
１．５リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
０１ｍｏｌ／リットル）１．４９リットル（３．０ｍｏ
ｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール １９８．８ｇ（１．０７ｍｏｌ）をヘキサン
３４２ｍｌとトルエン １９４ｍｌとの混合溶媒に溶
解させた溶液を８５分間で滴下した。滴下終了後、５℃
で１時間攪拌した。その後、４０℃に加熱し、１時間攪
拌した後、室温にて一晩静置した。氷浴で２０℃にした
後、実施例４０（２）で使用したものと同じロットの加
熱処理したシリカ３５９ｇを入れ、次いでヘキサン
０．３リットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカ
を洗い流した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ ４４．２ｇ
（２．４６ｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、
２０℃で１時間、４０℃で２時間、６０℃で２時間攪拌
した。その後、静置し、固体成分を沈降させ、沈降した
固体成分の層と上層のスラリー部分との界面が見えた時
点で上層のスラリー部分を取り除き、次いで残りの液成
分をフェルターにてろ過した。洗浄操作として、これ
に、ヘキサン ３リットルを加え、攪拌を行った後、静
置し、固体成分を沈降させ、同様に界面が見えた時点で
上層のスラリー部分を取り除き、残りの液成分をフィル
ターにてろ過した。以上の洗浄操作を計３回繰り返し
た。その後、固体成分を減圧下、６０℃で４時間乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）８１４ｇを得た。元素分析
の結果、Ｚｎ＝３．７ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．３ｍｍｏ
ｌ／ｇであった。
１．５リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
０１ｍｏｌ／リットル）１．４９リットル（３．０ｍｏ
ｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール １９８．８ｇ（１．０７ｍｏｌ）をヘキサン
３４２ｍｌとトルエン １９４ｍｌとの混合溶媒に溶
解させた溶液を８５分間で滴下した。滴下終了後、５℃
で１時間攪拌した。その後、４０℃に加熱し、１時間攪
拌した後、室温にて一晩静置した。氷浴で２０℃にした
後、実施例４０（２）で使用したものと同じロットの加
熱処理したシリカ３５９ｇを入れ、次いでヘキサン
０．３リットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカ
を洗い流した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ ４４．２ｇ
（２．４６ｍｏｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、
２０℃で１時間、４０℃で２時間、６０℃で２時間攪拌
した。その後、静置し、固体成分を沈降させ、沈降した
固体成分の層と上層のスラリー部分との界面が見えた時
点で上層のスラリー部分を取り除き、次いで残りの液成
分をフェルターにてろ過した。洗浄操作として、これ
に、ヘキサン ３リットルを加え、攪拌を行った後、静
置し、固体成分を沈降させ、同様に界面が見えた時点で
上層のスラリー部分を取り除き、残りの液成分をフィル
ターにてろ過した。以上の洗浄操作を計３回繰り返し
た。その後、固体成分を減圧下、６０℃で４時間乾燥を
行うことにより、成分（Ａ）８１４ｇを得た。元素分析
の結果、Ｚｎ＝３．７ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．３ｍｍｏ
ｌ／ｇであった。
【０３０１】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７６ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５２（１）で得られた成分（Ａ）９．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２３ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８３ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は５．５×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は８８３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．２、Ｍ
ＦＲ＝０．０９、ＭＦＲＲ＝１２７、ＳＲ＝１．０５で
あった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７６ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．４２ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５２（１）で得られた成分（Ａ）９．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２３ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８３ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は５．５×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は８８３０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１５．２、Ｍ
ＦＲ＝０．０９、ＭＦＲＲ＝１２７、ＳＲ＝１．０５で
あった。
【０３０２】［実施例５３］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、トルエン
１．５リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
０１ｍｏｌ／リットル）１．４９リットル（３．０ｍｏ
ｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール ２７７．１ｇ（１．５１ｍｏｌ）をトルエン
５８５ｍｌに溶解させた溶液を１００分間で滴下し
た。滴下終了後、５℃で１時間攪拌した。その後、４０
℃に加熱し、１時間攪拌した。氷浴で５℃にした後、実
施例４０（２）で使用したものと同じロットの加熱処理
したシリカ３５５ｇを入れ、次いでトルエン ０．３リ
ットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカを洗い流
した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ４１．０ｇ（２．２８ｍｏ
ｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で２．５時
間、８０℃で２時間攪拌した。その後、静置し、固体成
分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー
部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り
除き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過した
後、トルエン３リットルを加え、室温にて一晩静置し
た。その後、８０℃でトルエン ３リットルにて４回、
室温でヘキサン ３リットルにて２回、静置し、固体成
分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー
部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り
除き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過する洗
浄を行った。その後、固体成分を減圧下、６０℃で２時
間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）８６４ｇを得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．
８ｍｍｏｌ／ｇであった。
１．５リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
０１ｍｏｌ／リットル）１．４９リットル（３．０ｍｏ
ｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフ
ェノール ２７７．１ｇ（１．５１ｍｏｌ）をトルエン
５８５ｍｌに溶解させた溶液を１００分間で滴下し
た。滴下終了後、５℃で１時間攪拌した。その後、４０
℃に加熱し、１時間攪拌した。氷浴で５℃にした後、実
施例４０（２）で使用したものと同じロットの加熱処理
したシリカ３５５ｇを入れ、次いでトルエン ０．３リ
ットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカを洗い流
した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ４１．０ｇ（２．２８ｍｏ
ｌ）を１時間で滴下した。滴下終了後、５℃で２．５時
間、８０℃で２時間攪拌した。その後、静置し、固体成
分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー
部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り
除き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過した
後、トルエン３リットルを加え、室温にて一晩静置し
た。その後、８０℃でトルエン ３リットルにて４回、
室温でヘキサン ３リットルにて２回、静置し、固体成
分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー
部分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り
除き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過する洗
浄を行った。その後、固体成分を減圧下、６０℃で２時
間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）８６４ｇを得た。
元素分析の結果、Ｚｎ＝３．５ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝６．
８ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０３０３】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．０１ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５３（１）で得られた成分（Ａ）８．７ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２６ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８５ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は５．７×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は９７７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．８であ
った。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７０ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．０１ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５３（１）で得られた成分（Ａ）８．７ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２６ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 ８５ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は５．７×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は９７７０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．８であ
った。
【０３０４】［実施例５４］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、トルエン
２．５リットル、テトラヒドロフラン ７１ｍｌおよ
びジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏｌ／リッ
トル）０．８７１リットル（１．７５ｍｏｌ）を入れ５
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノール １
６４．８ｇ（０．９０ｍｏｌ）をトルエン ２７７ｍｌ
に溶解させた溶液を８０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で１時間攪拌した。その後、４０℃に加熱し、１時
間攪拌した。氷浴で５℃にした後、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ３５０
ｇを入れ、次いでトルエン ０．１リットルを入れてフ
ラスコ壁面に付着したシリカを洗い流した。５分間攪拌
後、Ｈ2Ｏ ２３．８ｇ（１．３２ｍｏｌ）を１．５時
間で滴下した。滴下終了後、５℃で８５分間、４０℃で
２時間攪拌した。その後、室温にて一晩静置した。その
後８０℃で２時間攪拌した。その後、静置し、固体成分
を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー部
分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過した後、
トルエン ３．５リットルを加え９５℃で２時間攪拌し
た。その後、９５℃でトルエン ３．５リットルにて４
回、室温でヘキサン ３．５リットルにて２回、静置
し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層
のスラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー
部分を取り除き、次いで残りの液成分をフェルターにて
ろ過する洗浄を行った。その後、固体成分を減圧下、１
２０℃で４時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）５７
１ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝４．９ｍｍｏｌ／ｇであった。
２．５リットル、テトラヒドロフラン ７１ｍｌおよ
びジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏｌ／リッ
トル）０．８７１リットル（１．７５ｍｏｌ）を入れ５
℃に冷却した。これに、ペンタフルオロフェノール １
６４．８ｇ（０．９０ｍｏｌ）をトルエン ２７７ｍｌ
に溶解させた溶液を８０分間で滴下した。滴下終了後、
５℃で１時間攪拌した。その後、４０℃に加熱し、１時
間攪拌した。氷浴で５℃にした後、実施例４０（２）で
使用したものと同じロットの加熱処理したシリカ３５０
ｇを入れ、次いでトルエン ０．１リットルを入れてフ
ラスコ壁面に付着したシリカを洗い流した。５分間攪拌
後、Ｈ2Ｏ ２３．８ｇ（１．３２ｍｏｌ）を１．５時
間で滴下した。滴下終了後、５℃で８５分間、４０℃で
２時間攪拌した。その後、室温にて一晩静置した。その
後８０℃で２時間攪拌した。その後、静置し、固体成分
を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層のスラリー部
分との界面が見えた時点で上層のスラリー部分を取り除
き、次いで残りの液成分をフェルターにてろ過した後、
トルエン ３．５リットルを加え９５℃で２時間攪拌し
た。その後、９５℃でトルエン ３．５リットルにて４
回、室温でヘキサン ３．５リットルにて２回、静置
し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上層
のスラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリー
部分を取り除き、次いで残りの液成分をフェルターにて
ろ過する洗浄を行った。その後、固体成分を減圧下、１
２０℃で４時間乾燥を行うことにより、成分（Ａ）５７
１ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．６ｍｍｏｌ／
ｇ、Ｆ＝４．９ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０３０５】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５４（１）で得られた成分（Ａ）８．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２６ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１６ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は７．７×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は１３８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．９、Ｍ
ＦＲ＝１．７０、ＭＦＲＲ＝４６．０、ＳＲ＝１．２９
であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７５ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５４（１）で得られた成分（Ａ）８．４ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２６ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 １１６ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は７．７×１０
7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は１３８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１６．９、Ｍ
ＦＲ＝１．７０、ＭＦＲＲ＝４６．０、ＳＲ＝１．２９
であった。
【０３０６】［実施例５５］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５０ｍｌの四つ口フラスコに、ジエチル亜
鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏｌ／リットル）１２．
５ｍｌ（２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１２．５
ｍｌを入れ５℃に冷却した。これに、濃度を２ｍｍｏｌ
／ｍｌに調整したペンタフルオロフェノールのテトラヒ
ドロフラン溶液 ６．２５ｍｌを２１分間で滴下した。
滴下終了後、５℃で１時間、４０℃で１時間攪拌した。
その後、氷浴で５℃にした後、実施例４０（２）で使用
したものと同じロットの加熱処理したシリカ２．９８ｇ
を入れ、次いでテトラヒドロフラン ８ｍｌを入れてフ
ラスコ壁面に付着したシリカを洗い流した。５分間攪拌
後、Ｈ2Ｏ ０．３４ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）を３８分
間で滴下した。滴下終了後、５℃で２．５時間、６０℃
で２時間攪拌した。その後、８０℃でトルエン ２５ｍ
ｌにて４回、室温でヘキサン ２５ｍｌにて２回、フィ
ルターを用いた洗浄を行った。その後、固体成分を減圧
下、１２０℃で２時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．８０ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
９ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝５．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
鉛のヘキサン溶液（２．０１ｍｏｌ／リットル）１２．
５ｍｌ（２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン１２．５
ｍｌを入れ５℃に冷却した。これに、濃度を２ｍｍｏｌ
／ｍｌに調整したペンタフルオロフェノールのテトラヒ
ドロフラン溶液 ６．２５ｍｌを２１分間で滴下した。
滴下終了後、５℃で１時間、４０℃で１時間攪拌した。
その後、氷浴で５℃にした後、実施例４０（２）で使用
したものと同じロットの加熱処理したシリカ２．９８ｇ
を入れ、次いでテトラヒドロフラン ８ｍｌを入れてフ
ラスコ壁面に付着したシリカを洗い流した。５分間攪拌
後、Ｈ2Ｏ ０．３４ｇ（１８．８ｍｍｏｌ）を３８分
間で滴下した。滴下終了後、５℃で２．５時間、６０℃
で２時間攪拌した。その後、８０℃でトルエン ２５ｍ
ｌにて４回、室温でヘキサン ２５ｍｌにて２回、フィ
ルターを用いた洗浄を行った。その後、固体成分を減圧
下、１２０℃で２時間乾燥を行うことにより、成分
（Ａ）４．８０ｇを得た。元素分析の結果、Ｚｎ＝２．
９ｍｍｏｌ／ｇ、Ｆ＝５．３ｍｍｏｌ／ｇであった。
【０３０７】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．１９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５５（１）で得られた成分（Ａ）８．０ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 １７４ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．２×１０
8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は２１８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．７、Ｍ
ＦＲ＝０．８９、ＭＦＲＲ＝６３．３、ＳＲ＝１．２９
であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１５ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝０．７４ｍｏｌ
％、１−ブテン＝３．１９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．７５ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５５（１）で得られた成分（Ａ）８．０ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つようにエチレ
ン／水素混合ガス（水素０．２５ｍｏｌ％）をフィード
しながら７０℃で、６０分間重合を行った。その結果、
粒子性状の良好なオレフィン重合体 １７４ｇが得られ
た。ジルコニウム原子当たりの重合活性は１．２×１０
8ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの重合活
性は２１８００ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であった。ま
た、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．７、Ｍ
ＦＲ＝０．８９、ＭＦＲＲ＝６３．３、ＳＲ＝１．２９
であった。
【０３０８】［実施例５６］
（１）成分（Ａ）の合成
窒素置換した５リットルの四つ口フラスコに、トルエン
２．９リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
００ｍｏｌ／リットル）０．５２５リットル（１．０５
ｍｏｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオ
ロフェノール１０１ｇ（０．５５ｍｏｌ）をトルエン
１２０ｍｌに溶解させた溶液を６０分間で滴下した。滴
下終了後、５℃で１時間攪拌した。その後、４０℃に加
熱し、１時間攪拌した。氷浴で５℃にした後、１，１，
１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン処理したシリ
カ（デビソン社製 ＸＰＯ２４０３；平均粒子径＝４１
μｍ；細孔容量＝１．３８ｍｌ／ｇ；比表面積＝３３４
ｍ2／ｇ）３５１ｇを入れ、次いでトルエン ０．１リ
ットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカを洗い流
した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ １４．７ｇ（０．８２ｍ
ｏｌ）を１．５時間で滴下した。滴下終了後、５℃で
１．５時間、４０℃で２時間攪拌した。その後、室温に
て一晩静置した。その後８０℃で２時間攪拌した後、静
置し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上
層のスラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリ
ー部分を取り除き、次いで残りの液成分をフェルターに
てろ過した後、トルエン ３．７リットルを加え９５℃
で２時間攪拌した。その後、９５℃でトルエン ３．７
リットルにて４回、室温でヘキサン ３．７リットルに
て２回、静置し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成
分の層と上層のスラリー部分との界面が見えた時点で上
層のスラリー部分を取り除き、次いで残りの液成分をフ
ェルターにてろ過する洗浄を行った。その後、固体成分
を減圧下、１２０℃で４時間乾燥を行うことにより、成
分（Ａ）４８７ｇを得た。
２．９リットル、ジエチル亜鉛のヘキサン溶液（２．
００ｍｏｌ／リットル）０．５２５リットル（１．０５
ｍｏｌ）を入れ５℃に冷却した。これに、ペンタフルオ
ロフェノール１０１ｇ（０．５５ｍｏｌ）をトルエン
１２０ｍｌに溶解させた溶液を６０分間で滴下した。滴
下終了後、５℃で１時間攪拌した。その後、４０℃に加
熱し、１時間攪拌した。氷浴で５℃にした後、１，１，
１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン処理したシリ
カ（デビソン社製 ＸＰＯ２４０３；平均粒子径＝４１
μｍ；細孔容量＝１．３８ｍｌ／ｇ；比表面積＝３３４
ｍ2／ｇ）３５１ｇを入れ、次いでトルエン ０．１リ
ットルを入れてフラスコ壁面に付着したシリカを洗い流
した。５分間攪拌後、Ｈ2Ｏ １４．７ｇ（０．８２ｍ
ｏｌ）を１．５時間で滴下した。滴下終了後、５℃で
１．５時間、４０℃で２時間攪拌した。その後、室温に
て一晩静置した。その後８０℃で２時間攪拌した後、静
置し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成分の層と上
層のスラリー部分との界面が見えた時点で上層のスラリ
ー部分を取り除き、次いで残りの液成分をフェルターに
てろ過した後、トルエン ３．７リットルを加え９５℃
で２時間攪拌した。その後、９５℃でトルエン ３．７
リットルにて４回、室温でヘキサン ３．７リットルに
て２回、静置し、固体成分を沈降させ、沈降した固体成
分の層と上層のスラリー部分との界面が見えた時点で上
層のスラリー部分を取り除き、次いで残りの液成分をフ
ェルターにてろ過する洗浄を行った。その後、固体成分
を減圧下、１２０℃で４時間乾燥を行うことにより、成
分（Ａ）４８７ｇを得た。
【０３０９】（２）重合
減圧乾燥後、アルゴンで置換した内容積３リットルの撹
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１９ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝１．００ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．５０ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５６（１）で得られた成分（Ａ）５．１ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つように水素を
０．３５ｍｏｌ％含有したエチレンと水素の混合ガスを
フィードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。そ
の結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は４．６
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は９０２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
８、ＭＦＲ＝０．１４、ＭＦＲＲ＝１２１、ＳＲ＝１．
０７であった。
拌機付きオートクレーブ内を真空にし、水素をその分圧
が０．０１９ＭＰａになるように加え、ブタンを６９０
ｇ、１−ブテンを６０ｇ仕込み、７０℃まで昇温した。
その後、エチレンを、その分圧が１．６ＭＰａになるよ
うに加え系内を安定させた。ガスクロマトグラフィー分
析の結果、系内のガス組成は、水素＝１．００ｍｏｌ
％、１−ブテン＝２．７９ｍｏｌ％であった。これに、
濃度を１ｍｍｏｌ／ｍｌに調整したトリイソブチルアル
ミニウムのヘプタン溶液 ０．９ｍｌを投入した。次
に、濃度を２μｍｏｌ／ｍｌに調整したラセミ−エチレ
ンビス（１−インデニル）ジルコニウムジクロライドの
トルエン溶液 ０．５０ｍｌを投入し、続いて上記実施
例５６（１）で得られた成分（Ａ）５．１ｍｇを固体触
媒成分として投入した。全圧を一定に保つように水素を
０．３５ｍｏｌ％含有したエチレンと水素の混合ガスを
フィードしながら７０℃で、６０分間重合を行った。そ
の結果、粒子性状の良好なオレフィン重合体 ４６ｇが
得られた。ジルコニウム原子当たりの重合活性は４．６
×１０7ｇ／ｍｏｌＺｒ／時間で、固体触媒成分当りの
重合活性は９０２０ｇ／ｇ固体触媒成分／時間であっ
た。また、得られたオレフィン重合体はＳＣＢ＝１４．
８、ＭＦＲ＝０．１４、ＭＦＲＲ＝１２１、ＳＲ＝１．
０７であった。
【０３１０】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、シ
ングルサイト触媒を形成する遷移金属化合物とともに用
いて付加重合することにより、外観の良好なフィルムの
得られる付加重合体を製造し得る粒子、担体および付加
重合用触媒成分、該粒子の製造方法、該粒子を用いてな
る予備重合済付加重合用触媒成分、該粒子を用いてなる
付加重合用触媒、ならびに該付加重合用触媒を用いる付
加重合体の製造方法が提供される。また本発明によれ
ば、付加重合体粒子の形成を伴う重合（例えばスラリー
重合、気相重合、バルク重合等）に適用した場合に、形
状、粒子性状に優れた付加重合体を与える付加重合用触
媒の調整に有用な粒子、担体および付加重合用触媒成
分、該粒子の製造方法、該粒子を用いてなる予備重合済
付加重合用触媒成分、該粒子を用いてなる付加重合用触
媒、ならびに該付加重合用触媒を用いる付加重合体粒子
の形成を伴う重合（例えばスラリー重合、気相重合、バ
ルク重合等）に適用した場合に、粒子性状に優れた付加
重合体の製造方法も提供される。さらにいえば、本発明
においては高活性な付加重合用触媒、および効率的な付
加重合体の製造方法も提供される。
ングルサイト触媒を形成する遷移金属化合物とともに用
いて付加重合することにより、外観の良好なフィルムの
得られる付加重合体を製造し得る粒子、担体および付加
重合用触媒成分、該粒子の製造方法、該粒子を用いてな
る予備重合済付加重合用触媒成分、該粒子を用いてなる
付加重合用触媒、ならびに該付加重合用触媒を用いる付
加重合体の製造方法が提供される。また本発明によれ
ば、付加重合体粒子の形成を伴う重合（例えばスラリー
重合、気相重合、バルク重合等）に適用した場合に、形
状、粒子性状に優れた付加重合体を与える付加重合用触
媒の調整に有用な粒子、担体および付加重合用触媒成
分、該粒子の製造方法、該粒子を用いてなる予備重合済
付加重合用触媒成分、該粒子を用いてなる付加重合用触
媒、ならびに該付加重合用触媒を用いる付加重合体粒子
の形成を伴う重合（例えばスラリー重合、気相重合、バ
ルク重合等）に適用した場合に、粒子性状に優れた付加
重合体の製造方法も提供される。さらにいえば、本発明
においては高活性な付加重合用触媒、および効率的な付
加重合体の製造方法も提供される。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大嶋 秀樹
千葉県市原市姉崎海岸５の１ 住友化学工
業株式会社内
Ｆターム(参考） 4J015 DA02 DA03 DA10
4J028 AA01A AB01A AC01A AC02A
AC22A AC49A BC01B BC09B
BC14B CA14C CA16C CB64C
CB82C CB87C EB02 EB03
Claims (19)
- 【請求項１】下記（ａ）、下記（ｂ）、下記（ｃ）およ
び粒子（ｄ）を接触させて得られる改質された粒子。 （ａ）：下記一般式［１］で表される化合物 Ｍ1Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：下記一般式［２］で表される化合物 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：下記一般式［３］で表される化合物 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （上記一般式［１］〜［３］においてそれぞれ、Ｍ1 は
周期律表第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｒ1 は電子吸引性基または電子吸引性基を
含有する基を表し、Ｒ1 が複数存在する場合はそれらは
互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ2 は炭化
水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔはそれぞ
れ独立に周期律表の第１５族または第１６族の非金属原
子を表し、ｔはそれぞれの化合物のＴの原子価を表
す。） - 【請求項２】粒子（ｄ）が、多孔性の物質であることを
特徴とする請求項１記載の改質された粒子。 - 【請求項３】粒子（ｄ）が、１００〜１５００℃で１０
分間〜５０時間加熱処理された無機物質であることを特
徴とする請求項１または２記載の改質された粒子。 - 【請求項４】粒子（ｄ）が、２００〜８００℃で１時間
〜３０時間加熱処理されたシリカであることを特徴とす
る請求項１または２記載の改質された粒子。 - 【請求項５】下記（ａ）、下記（ｂ）、下記（ｃ）およ
び粒子（ｄ）を接触させることを特徴とする改質された
粒子の製造方法。 （ａ）：下記一般式［１］で表される化合物 Ｍ1 Ｌ1 m ［１］ （ｂ）：下記一般式［２］で表される化合物 Ｒ1 t-1ＴＨ ［２］ （ｃ）：下記一般式［３］で表される化合物 Ｒ2 t-2ＴＨ2 ［３］ （上記一般式［１］〜［３］においてそれぞれ、Ｍ1 は
周期律表第１、２、１２、１４または１５族の典型金属
原子を表し、ｍはＭ1 の原子価を表す。Ｌ1 は水素原
子、ハロゲン原子または炭化水素基を表し、Ｌ1 が複数
存在する場合はそれらは互いに同じであっても異なって
いても良い。Ｒ1 は電子吸引性基または電子吸引性基を
含有する基を表し、Ｒ1 が複数存在する場合はそれらは
互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｒ2 は炭化
水素基またはハロゲン化炭化水素基を表す。Ｔはそれぞ
れ独立に周期律表の第１５族または第１６族の非金属原
子を表し、ｔはそれぞれの化合物のＴの原子価を表
す。） - 【請求項６】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を接
触させる際に溶媒を使用し、接触処理の後、溶媒を留去
し、その後２５℃以上の温度で１時間〜２４時間減圧下
乾燥を行う請求項５記載の改質された粒子の製造方法。 - 【請求項７】請求項１〜４のいずれかに記載の改質され
た粒子よりなる担体。 - 【請求項８】請求項１〜４のいずれかに記載の改質され
た粒子よりなる付加重合用触媒成分。 - 【請求項９】請求項１〜４のいずれかに記載の改質され
た粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノイ
ド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる付
加重合用触媒。 - 【請求項１０】請求項１〜４のいずれかに記載の改質さ
れた粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化
合物（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒。 - 【請求項１１】第３〜１１族もしくはランタノイド系列
の遷移金属化合物（Ｂ）が、シクロペンタジエン形アニ
オン骨格を有する基を少なくとも一つ持つ遷移金属化合
物である請求項９または１０記載の付加重合用触媒。 - 【請求項１２】請求項１〜４のいずれかに記載の改質さ
れた粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる
一次触媒の存在下に、オレフィンを予備重合して得られ
る予備重合済付加重合用触媒成分。 - 【請求項１３】請求項１〜４のいずれかに記載の改質さ
れた粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化
合物（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、
オレフィンを予備重合して得られる予備重合済付加重合
用触媒成分。 - 【請求項１４】請求項１２または１３記載の予備重合済
付加重合用触媒成分、並びに有機アルミニウム化合物
（Ｃ）を接触させて得られる付加重合用触媒。 - 【請求項１５】請求項１〜４のいずれかに記載の改質さ
れた粒子（Ａ）、並びに第３〜１１族もしくはランタノ
イド系列の遷移金属化合物（Ｂ）を接触させて得られる
一次触媒の存在下に、オレフィンを予備重合して得られ
る付加重合用触媒。 - 【請求項１６】請求項１〜４のいずれかに記載の改質さ
れた粒子（Ａ）、第３〜１１族もしくはランタノイド系
列の遷移金属化合物（Ｂ）、並びに有機アルミニウム化
合物（Ｃ）を接触させて得られる一次触媒の存在下に、
オレフィンを予備重合して得られる付加重合用触媒。 - 【請求項１７】請求項９〜１１、１４〜１６のいずれか
に記載の付加重合用触媒を用いる付加重合体の製造方
法。 - 【請求項１８】付加重合体が、オレフィン重合体である
請求項１７記載の付加重合体の製造方法。 - 【請求項１９】付加重合体が、エチレンとα−オレフィ
ンとの共重合体である請求項１７記載の付加重合体の製
造方法。
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- 2001-12-26 JP JP2001393678A patent/JP3960039B2/ja not_active Expired - Fee Related
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