JP2003170168A - 浴水浄化装置 - Google Patents

浴水浄化装置

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JP2003170168A
JP2003170168A JP2001372934A JP2001372934A JP2003170168A JP 2003170168 A JP2003170168 A JP 2003170168A JP 2001372934 A JP2001372934 A JP 2001372934A JP 2001372934 A JP2001372934 A JP 2001372934A JP 2003170168 A JP2003170168 A JP 2003170168A
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JP
Japan
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water
additive
bath water
hypochlorous acid
electrolytic
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Withdrawn
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JP2001372934A
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English (en)
Inventor
Hirokazu Takeuchi
浩和 竹内
Kenji Masuda
健治 増田
Masaya Ichikawa
雅弥 市川
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Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電解電流値に応じて添加剤の供給を制御して
電気分解を行なう電解水生成手段を配設させることで、
良好に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を生成して浴
水に供給できる浴水浄化装置を実現する。 【解決手段】 添加溶液を電気分解することにより次亜
塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段1と、浴
水を浄化する浴水浄化手段2とを備える浴水浄化装置に
おいて、電解水生成手段1は、添加剤溶解槽14より電
解槽11への添加溶液の供給を制御して、所定濃度の次
亜塩素酸を含む電解水を生成させる制御装置30を有
し、制御装置30は、電極12a、12b間に流れる電
解電流値に応じて複数回に分けて添加溶液を供給させ、
濃度を段階的に変えて所定濃度の次亜塩素酸を含む電解
水を生成させるようにした。これにより、所定濃度の次
亜塩素酸を生成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽内の浴水を浄
化する浴水浄化装置に関するものであり、特に浴水を抗
菌するための所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を良好
に生成するための制御に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の浴水浄化装置として、例
えば特開平10−314748号公報(第1公報)で開
示されているものが知られている。この第1公報では、
一対の対向する電極が配設された電解槽に浴槽内の浴水
を流入させ、一対の電極に電圧を印加し、浴水を電気分
解することにより、浴水に含まれる塩素イオンから次亜
塩素酸を含む電解水を生成し、次亜塩素酸の抗菌作用を
利用して浴槽内の浴水を循環させて抗菌および浄化する
装置である。
【0003】また、電解槽内に添加剤として食塩などの
水溶液を添加させることで、上記公報よりもさらに次亜
塩素酸の濃度を高めるための電解水生成装置として、例
えば特開平10−328666号公報(第2公報)で開
示されているものが知られている。
【0004】この第2公報では、被処理水を入れる電解
槽と、この電解槽内に対向して配設される互いに極性の
異なる不溶性の電極を有し、電解槽内に所定量の食塩な
どの添加剤を添加させた被処理水を電気分解することに
より次亜塩素酸を含有する電解水を生成する装置であっ
て、次亜塩素酸の濃度に応じて電解電流値が求められる
ことで、電極間に流れる電解電流値を検知し、この電解
電流値の大きさによって次亜塩素酸の生成時間を制御す
る制御手段が設けられている。
【0005】そして、電解電流値が所定の範囲内にある
ときに、電解電流値に応じて生成時間を制御させて所定
濃度の次亜塩素酸を含む電解水が生成されるものであ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、第1公
報によれば、使用者の所望する次亜塩素酸の濃度が高い
ときには浴水に含まれる塩素イオンのみでは応じること
ができないことがある。しかも、浴水を循環させて次亜
塩素酸を生成するため、次亜塩素酸の生成時間が第2公
報に比べて長い時間を要する問題がある。
【0007】また、所定濃度の次亜塩素酸を生成するた
めには、第2公報のように食塩などの添加剤を添加させ
ることが必要であるが、上述の第2公報のように一度に
所定量の添加剤を添加する装置であると、被処理水にも
水道水に含まれる塩素イオンが含まれており、かつ塩素
イオンの量が常時一定でなく、計量も容易にできないた
め、所定量の添加剤を添加させると被処理水に含まれる
塩素イオンの量が加算され、概して所望する濃度を超え
た次亜塩素酸が生成されてしまう問題がある。そこで、
本発明の目的は、上記点に鑑み、生成される次亜塩素酸
の濃度と電解電流値との間に相関があることに着目して
なされたものであり、電解電流値に応じて添加剤の供給
を制御して電気分解を行なう電解水生成手段を配設させ
ることで、良好に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を
生成して浴水に供給できる浴水浄化装置を提供するもの
である。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1ないし請求項3に記載の技術的手段を採用
する。すなわち、請求項1に記載の発明では、食塩など
の添加剤を浴水に溶解してなる添加溶液を蓄える添加剤
溶解槽(14)、この添加剤溶解槽(14)より添加溶
液が供給される電解槽(11)およびこの電解槽(1
1)内に対向して配設され互いに極性の異なる電極(1
2a、12b)を有し、電解槽(11)内に供給された
添加溶液を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電
解水を生成する電解水生成手段(1)と、浴水を通過さ
せて浄化する浄化手段(21)を有し、必要に応じて電
解水生成手段(1)による電解水を混入させて浴水を抗
菌するとともに、浴槽(3)から浴水を循環させて浴水
を浄化する浴水浄化手段(2)とを備える浴水浄化装置
において、電解水生成手段(1)は、添加剤溶解槽(1
4)より電解槽(11)への添加溶液の供給を制御し
て、所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を生成させる制
御手段(30)を有し、制御手段(30)は、電極(1
2a、12b)間に流れる電解電流値に応じて複数回に
分けて添加溶液を供給させ、濃度を段階的に変えて所定
濃度の次亜塩素酸を含む電解水を生成させるようにした
ことを特徴としている。
【0009】請求項1に記載の発明によれば、上記電解
電流値は次亜塩素酸の濃度により求めることができる。
しかもこの次亜塩素酸の濃度は、電解槽(11)に供給
された添加溶液に含まれる塩素イオンの供給量に応じて
求められるものである。
【0010】また、添加溶液を形成する浴水には、水道
水に含まれる塩素イオンや浴水を使用した使用者の汗な
どの体液に含まれる塩素イオンが溶解しており塩素イオ
ンの量が一定ではなく計量も容易でない。従って、例え
ば食塩などの添加剤を所定量添加しても添加溶液内の塩
素イオンの量が一定ではない。
【0011】そこで、本発明では、制御手段(30)に
より電解電流値に応じて、複数回に分けて添加溶液を電
解槽(11)内に供給させ、濃度を段階的に変えて所定
濃度の次亜塩素酸を含む電解水となるように制御するこ
とにより、所望する所定濃度に向けて濃度を徐変でき、
良好かつ安定的に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を
生成ができる。
【0012】また、概して過剰気味となる従来の一度に
所定量の添加剤を供給する装置と比較して所定濃度を超
える電解水の生成が防止できる。
【0013】請求項2に記載の発明では、制御手段(3
0)は、電解電流値が安定する毎に添加溶液を供給させ
るようにしたことを特徴としている。
【0014】請求項2に記載の発明によれば、上述した
ように添加溶液に含まれる塩素イオンの量に応じて生成
される次亜塩素酸の濃度、所謂電解電流値が異なるた
め、具体的には、複数回に分けて添加溶液を供給させ、
電解電流値が安定する毎に添加溶液を供給させることに
より、浴水に含まれる塩素イオンの量の影響を受けずに
良好かつ安定的に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水が
生成できる。
【0015】請求項3に記載の発明では、浄化手段(2
1)は、電解水生成手段(1)により所定濃度の次亜塩
素酸を含む電解水が供給されることを特徴としている。
【0016】請求項3に記載の発明によれば、例えば浄
化手段(21)が浴水中の懸濁物質粒子などをろ過する
タイプの場合には、懸濁物質粒子中の有機物質の存在下
で浴水中の菌が増殖して生物膜などが生成することがあ
る。生物膜などの生成が進行すると浄化手段(21)の
ろ過性能が急激に低下する。
【0017】そこで、本発明では、生成された次亜塩素
酸が浄化手段(21)に供給されることにより、浴槽
(3)内の浴水より先に浄化手段(21)内を効率的に
抗菌することができるとともに、生物膜などの生成を抑
制できる。
【0018】また、浄化手段(21)に供給された次亜
塩素酸は浴水に混ざり、浴槽(3)および浴水浄化手段
(2)を構成する機器内、配管など、浴水が触れる部分
を抗菌することができる。
【0019】なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述
する実施形態の具体的手段との対応関係を示すものであ
る。
【0020】
【発明の実施の形態】以下、本発明の浴水浄化装置を浴
槽内の浴水を浄化および加温する浴水浄化装置に適用し
た一実施形態を図1ないし図4に基づいて説明する。図
1は浴水浄化装置の全体構成を示す模式図である。
【0021】本実施形態の浴水浄化装置は、図1に示す
ように大別すると、次亜塩素酸を含む電解水を生成する
電解水生成手段1と浴槽3内の浴水を循環させて浴水を
浄化、加温する浴水浄化手段2とで構成されている。
【0022】浴水浄化手段2には、使用者が入浴した
り、時間が経過することにより汚れが生じた浴槽3内の
浴水を浄化する浄化部21aを内部に備えた浄化手段で
ある浄化槽21、浴水を汲み上げる循環ポンプ22およ
び浴水を加温しその浴水の温度を調整するヒータ23な
どの機能部品が備えられている。
【0023】そして、浴槽3から浴水を汲み上げて浄化
槽21、循環ポンプ22、ヒータ23および浴槽3に戻
すための各接続配管A、B、C、D、E、F、Gによっ
てなる循環通水路と、上流端が図示しない給湯器に接続
され下流端が接続配管Eと接続配管Fとの間に設けられ
た第3三方弁26に接続される給湯配管Hからなる給水
路と、上流端が接続配管Cと接続配管Dとの間に設けら
れた第2三方弁25に接続される下流端が浴槽3外に排
水する排水配管Jからなる排水路とが形成されている。
【0024】さらに、接続配管Aと接続配管Bとの間に
は、流れ方向を切り換えるための第1三方弁24が設け
られ、さらに給湯配管Hの中途には、給水路を開閉する
開閉弁27が設けられている。
【0025】また、図示しないが浄化槽21には操作盤
が設けられており、上記機能部品の操作を行なう操作ボ
タンが備えられている。なお、循環ポンプ22、ヒータ
23、第1、第2、第3三方弁24、25、26および
開閉弁27は、制御手段である後述する制御装置30に
より制御される。
【0026】接続配管Aは、浴槽3から浴水を吸入する
ための吸入管であって、上流側端部には、浴槽3内から
接続配管Aに浴水を吸入するための図示しない吸入ユニ
ットが取り付けられている。この吸入ユニットには、浴
槽3に溜められる浴水に浸漬される位置に形成された吸
入口(図示しない)と、この吸入口よりも下流側に設け
られたフィルタ(図示しない)と、このフィルタよりも
さらに下流側に設けられた逆止弁(図示しない)とを有
している。
【0027】これにより、浴水が吸入ユニットを通過す
る際に、フィルタ(図示せず)により使用者の髪の毛な
どの大きなごみは除去される。また、さらに下流側に設
けられた逆止弁(図示せず)によって浴水の浴槽3への
逆流は防止される。
【0028】第1三方弁24は、接続配管Aから吸入し
た浴水を電解水生成手段1か、または浴水浄化手段2の
いずれか一方に流れ方向を切り換えるための三方弁であ
る。そして、接続配管Bは、上流端が第1三方弁24に
接続され下流端が後述する電解槽11の流出口11cと
第2三方弁25とに接続される接続配管Cの中途に接続
されている。
【0029】第2三方弁25は、接続配管Bまたは接続
配管Cから吸入される浴水を浄化槽21へ流通させる
か、または浄化槽21から排水路へ流通させるかのいず
れか一方に流れ方向を切り換えるための三方弁である。
接続配管Dは第2三方弁25と浄化槽21との間に接続
されている。
【0030】次に、浄化槽21の浄化部21aは、濾材
として、例えばφ0.3〜0.5mm程度のセラミック
スからなるビーズを積層させたもので、その浄化部21
aに浴水を流通させて浴水中の懸濁物質粒子などを物理
的に除去する。
【0031】第3三方弁26は、浄化槽21から後述す
るヒータ23へ流通させるか、または給水路から浄化槽
21へ流通させるかのいずれか一方に切り換えるための
三方弁である。なお、接続配管Eは一端が浄化槽21に
他端が第3三方弁26に接続されている。
【0032】接続配管Fは一端が第3三方弁26に他端
がヒータ23に接続されて、中途に循環ポンプが設けら
れている。ヒータ23は浄化槽21により浄化された浴
水を加温するための加熱手段であって、図示しない水温
センサによって検知される浴水温度に基づいて、浴水を
所定の水温に維持するように加温する。
【0033】接続配管Gは浄化、加温された浴水を浴槽
3内に戻すための吐出管である。下流側端部には浴槽3
に溜められる浴水に浸漬される位置に形成された吐出口
(図示しない)を有する吐出ユニットが取り付けられて
いる。
【0034】そして、運転モードのうち、浴水を浄化、
加温する浄化モードのときには、後述する制御装置30
の制御によって、第1、第2、第3三方弁24、25、
26が図1に示す実線の矢印の方向に流れ方向が切り換
えられ、かつ循環ポンプ22が作動されることで、浴槽
3内の浴水が、浴槽3→接続配管A→接続配管B→接続
配管C→接続配管D→接続配管E→接続配管F→接続配
管G→浴槽3の経路で循環される。
【0035】また、本実施形態では、上述の浄化により
浄化部21aの上流側に溜まった浴水中の懸濁物質粒子
などを除去するために、浄化槽21内を浄化のときと逆
方向にお湯を流す洗浄モードを運転モードの一つとして
有している。
【0036】洗浄モードのときには、後述する制御装置
30の制御によって、第2、第3三方弁25、26が図
4に示す破線の矢印の方向に流れ方向が切り換えられ、
かつ開閉弁27が開弁されることで、図示しない給湯器
からのお湯が、給湯配管H→接続配管E→浄化槽21→
接続配管D→排水配管J→機外の順に流通される。
【0037】これにより、浄化部21aに溜まった懸濁
物質粒子などが機外に排水されて浄化槽21が洗浄され
る。なお、ここでは図示しない給湯器からお湯を浄化槽
21に導いたが、これに限らず、上水に接続して水道水
で洗浄しても良い。
【0038】次に、本発明の要部である電解水生成手段
1について説明する。電解水生成手段1は、浴水を抗菌
するための次亜塩素酸を電気分解によって生成させて浴
水浄化手段2に供給するものであって、食塩などの添加
剤を浴水に溶解してなる添加溶液を蓄える添加剤溶解槽
14、添加溶液が供給され、その添加溶液を電気分解を
行なうための電解槽11、電解槽11内に配設された互
いに極性の異なる電極12a、12bに電圧を印加する
電圧印加手段13および制御装置30などの機能部品を
備えている。
【0039】そして、浴槽3内の浴水を添加剤溶解槽1
4へ導き、添加剤溶解槽14内の添加溶液を電解槽11
へ導き、電解槽11で生成された電解水を浴水浄化手段
2へ導くための次亜塩素酸供給通水路が形成されてい
る。
【0040】この次亜塩素酸供給通水路は、一端が第1
三方弁24に接続され他端が第4三方弁15に接続され
た接続配管K、一端が第4三方弁15に接続され他端が
添加剤溶解槽14に接続された接続配管L、一端が添加
剤溶解槽14に接続され他端が電解槽11の第1流入口
11aに接続された接続配管Mおよび一端が第4三方弁
15に接続され他端が電解槽11の第2流入口11bに
接続された接続配管Nから構成されている。
【0041】なお、第4三方弁15および電圧印加手段
13は、制御手段である制御装置30により制御され
る。
【0042】また、第4三方弁15は、接続配管Kから
添加剤溶解槽14へ流通させるか、または接続配管Kか
ら電解槽11へ流通させるかのいずれか一方の流れ方向
に切り換えるための三方弁である。
【0043】次に、添加剤溶解槽14は、浴水に所定量
の添加剤を添加させて図示しない攪拌手段によって攪拌
させて添加溶液として蓄えるための槽である。本実施形
態では、所定日数分の食塩を図示しない供給口より添加
剤溶解槽14内に供給し、図示しない添加溶液生成スイ
ッチを作動させると、制御装置30の制御により、第
1、第2、第3、第4三方弁24、25、26、15
が、図2に示す実線の矢印の方向に流れ方向が切り換え
られ、そして循環ポンプ22が作動されることで、浴水
が添加剤溶解槽14内に導かれ、添加溶液として飽和食
塩水が生成されるように構成されている。
【0044】次に、電解槽11は、添加剤溶解槽14か
ら供給された添加溶液を電気分解を行なう槽であって、
電解槽11内には、電源である電圧印加手段13に接続
されたチタン白金からなる一対の電極12a、12bが
対向して配設されている。
【0045】そして、この電圧印加手段13は電解効率
の低下を防止するために、電極12a、12bに印加さ
れる電圧の極性が所定時間T1(例えば5分)ごとに陽
極から陰極に極性が反転するように制御装置30によっ
て制御される。これにより、陰極側へのスケールの付着
を防止して電解性能を維持するようにしてある。
【0046】また、制御装置30には、図示していない
が電極12a、12b間に流れる電解電流値を検知する
電流値検知手段が設けられている。
【0047】ここで、飽和食塩水の添加溶液を電解槽1
1に供給し、電解槽11内の添加溶液を電気分解を行な
い次亜塩素酸を含む電解水を生成して、この電解水を浴
水浄化手段2の循環通水路に供給して浴水を浄化させる
作動は、自動的に行なうように構成されている。
【0048】本実施形態では、図示していないが、浴槽
3内の水位を検出する水位スイッチが設けられおり、こ
の水位スイッチの水位レベルの上昇により入浴者の有無
を検知し、この検知より所定時間(例えば7から8時間
程度)後に上記一連の作動を行なうことで浴水を浄化す
る。
【0049】なお、添加剤溶解槽14から飽和食塩水の
添加溶液を電解槽11に供給させるときには、第1〜第
4三方弁24、25、26、15を図2に示す実線の矢
印の流れ方向に切り換えて循環ポンプ22を作動させ
る。
【0050】また、生成された次亜塩素酸を含む電解水
を電解槽11から循環通水路に供給させるときには、第
4三方弁15のみを図2に示す破線の矢印の方向に流れ
方向を切り換えて循環ポンプ22を作動させる。さら
に、電解水を循環通水路に供給後には、第1三方弁24
の流れ方向を配管Aから配管Bの流れ方向に切り換えて
循環ポンプ22を作動させる。
【0051】次に、以上の構成による一実施形態の浴水
抗菌装置1の作動について説明する。まず、家庭用や業
務用の風呂などでは、使用者が入浴すると浴水中に含ま
れる湯垢などの懸濁物質粒子中の有機物質や繁殖した雑
菌などの汚れが生じる。しかも、使用済の浴水中の塩素
イオンの量は使用者の汗などの体液により浴水に溶解さ
れた塩素イオンの量は常に一定ではない。
【0052】そこで、本発明の浴水浄化装置は、浴水の
汚れを浄化部21aの濾材で物理的にろ過させることに
より浴水の浄化と、所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水
を浄化部21aおよび循環水通水路に供給して浴水を抗
菌するとともに、浄化部21aに形成されるぬめりなど
の生物膜を抗菌するものである。また、ヒータ23によ
って使用者が設定した浴水の温度を維持するように浴水
温の調整を行なう機能も有している。
【0053】ここでは、水位センサ(図示せず)により
入浴を検知後、所定時間後に自動運転が開始される。つ
まり、制御装置30により、第1〜第4三方弁24、2
5、26、15を図2に示す実線の矢印の流れ方向に切
り換えさせて循環ポンプ22を作動させて添加溶液を電
解槽11内に供給させる。
【0054】本発明では、この添加溶液を複数回に分け
て供給して、徐々に次亜塩素酸の濃度を高めながら所望
とする所定濃度となるように電気分解を行なわせたの
で、以下、図3に示すタイムチャートに基づいて説明す
る。
【0055】(a)に示す電解電流値は、電解槽11内
に生成される次亜塩素酸の濃度、言換えれば添加溶液の
導電率に応じた(つまり、相関した)値になることに着
目したものである。
【0056】そこで、本発明では、電解電流値を次亜塩
素酸の濃度モニターに利用し、しかも、電解電流値に応
じて複数回に分けて電解槽11内への添加溶液の供給を
行ない、添加溶液の供給量を徐変させている。そして、
電気分解を行なって徐々に電解電流値を高めて所望とす
る所定濃度に相当する目標電流値に達するまで電気分解
を行なうことにより、良好かつ安定的に所定濃度の次亜
塩素酸を含む電解水の生成を行なうものである。
【0057】また、本実施形態では、添加溶液を添加剤
溶解槽14から電解槽11に供給させるには、上述の添
加剤モードのときの流れ方向(図2に示す実線の矢印で
示す)において、所定時間T2(例えば、5秒程度)の
間、(c)に示す循環ポンプ22を作動させるようにし
ている。
【0058】図3に示すタイムチャートは、添加剤溶解
槽14内の添加溶液を4回に分けて電解槽11内に供給
したものであって、1回目に(c)に示す循環ポンプ2
2を所定時間T2の間、作動させる。これにより、添加
剤溶解槽14内から一定量の添加溶液が電解槽11内に
供給される。
【0059】次に、(b)に示す電圧印加手段13を作
動させることで、電極12a、12bに電圧が印加され
添加溶液を電気分解が行われる。これにより、電解槽1
1内に次亜塩素酸(後で詳述する)が生成されること
で、徐々に次亜塩素酸の濃度が高まるとともに、図中X
に示す電解電流値も同様に上昇して暫く経過後に、ある
電解電流値で安定となる。
【0060】この電解電流値が安定したときに、2回目
の(c)に示す循環ポンプ22を所定時間T2の間、作
動させる。これにより、添加剤溶解槽14内から一定量
の添加溶液が電解槽11内に供給されて電気分解が継続
して行われる。これにより、1回目よりも高い電解電流
値で安定となる。
【0061】これらを順次繰り返すことで目標電流値
(図中Yに示す)に達したときに、(b)に示す電圧印
加手段13停止させる。これにより、所定濃度の次亜塩
素酸の生成が完了するものである。
【0062】次に、所定濃度に生成された次亜塩素酸を
含む電解水は、(d)に示す第4三方弁15を電解槽1
1側へ流れ方向(図2に示す破線の矢印に示す)を切り
換えて、循環ポンプ22を作動させることで、電解槽1
1内の所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水が浄化槽21
内に供給される。
【0063】そして、その後に運転モードが電解水供給
モードから自動的に浄化モードに切り替わることで第1
三方弁24が、図1に示す実線の矢印の方向に流れ方向
が切り換えられ、かつ循環ポンプ22が作動されること
で、浴槽3内の浴水が循環通水路に循環されて浴水を浄
化するとともに次亜塩素酸による抗菌が行われる。
【0064】なお、因みに、食塩などの塩素イオンによ
る電気分解による次亜塩素酸(HOCl)が生成される
化学式について説明する。
【0065】まず、陽極側の電極12bでは、下記化学
式(1)によって示されるように水酸化物イオン(OH
-)が分解され、相対的に水素イオン(H+)濃度が高ま
ることによって強酸性水が生成されるとともに、化学式
(2)、(3)によって示すように、塩素イオン(Cl
-)がいったん塩素ガス(Cl2↑)となった後、水と反
応し抗菌成分である次亜塩素酸(HOCl)が生成され
る。このように生成された強酸性水および次亜塩素酸に
よって浴水の抗菌が行われる。
【0066】4OH-+4e+→O2↑+H2O(1) 2Cl-+2e+→Cl2↑(2) H2O+Cl2→HOCl+H++Cl-(3) 一方の陰極側の電極12aでは、下記化学式(4)に示
すように、水素イオン(H+)が水素ガス(H2↑)に分
解され、相対的に水酸化イオン(OH-)の濃度が高め
られアルカリイオン水が生成される。
【0067】2H++2e-→H2↑(4) なお、電極12a、12bの陽陰が反転したときには、
電極12aでは化学式(1)〜(3)で示す反応が起こ
り、電極12bでは化学式(4)で示す反応が起こるの
で、説明は省略する。
【0068】以上の一実施形態の浴水浄化装置によれ
ば、電極12a、12b間に流れる電解電流値を検知し
て、検知された電解電流値に応じて、所定量の添加溶液
を少なくとも複数回に分けて供給させるように制御装置
30により制御することにより、例えば所定濃度に相当
する目標電解電流値Yに達するまで複数回に分けて行な
うことで、所望する所定濃度に向けて濃度を徐変でき、
良好かつ安定的に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を
生成ができる。
【0069】また、概して過剰気味となる従来の一度に
所定量の添加剤を供給する装置と比較して所定濃度を超
える電解水の生成が防止できる。
【0070】また、複数回に分けて添加溶液を供給さ
せ、電解電流値が安定する毎に添加溶液を供給させるこ
とにより、順次電解電流値を高めることができる。従っ
て、浴水に含まれる塩素イオンの量の影響を受けずに良
好かつ安定的に所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水が生
成できる。
【0071】また、生成された次亜塩素酸が浄化部21
aに供給されることにより、浄化部21aには、懸濁物
質粒子中の有機物質の存在下で浴水中の菌が増殖して生
物膜などが生成することがある。生物膜などの生成が進
行すると、浄化部21aのろ過性能が急激に低下する。
従って、この部分に次亜塩素酸を供給することで、いち
早くこの個所の抗菌ができる。
【0072】(他の実施形態)以上の一実施形態では、
浴水浄化手段2に備えられた循環ポンプ22から浴水を
添加剤溶解槽14および電解槽11に流入したが、上述
した循環ポンプ22よりも小型の循環ポンプを電解水生
成手段1内に設けて浴水浄化手段2と別体で構成しても
良い。
【0073】なお、本実施形態に示した具体的な数値な
どはあくまでも一例であり、本発明はこれらに限定され
るものではない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態における浴水浄化装置の全
体構成を示す模式図である。
【図2】本発明の一実施形態における添加剤モードおよ
び電解水供給モードのときの浴水の循環形態を示す説明
図である。
【図3】本発明の一実施形態における(a)に示す電解
電流値に応じて(b)に示す電圧印加手段13、(c)
に示す循環ポンプ22および(d)に示す第4三方弁1
5の作動を示すタイムチャートである。
【図4】本発明の一実施形態における洗浄モードのとき
の浴水の循環形態を示す説明図である。
【符号の説明】
1…電解水生成手段 2…浴水浄化手段 3…浴槽 11…電解槽 12a、12b…電極 14…添加剤溶解槽 30…制御装置(制御手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/50 540 C02F 1/50 540B 550 550D 550L 560 560F 1/76 1/76 A (72)発明者 市川 雅弥 愛知県刈谷市昭和町1丁目1番地 株式会 社デンソー内 Fターム(参考) 4D050 AA10 AB06 BB04 BD04 BD06 BD08 CA10 4D061 DA07 DB09 EA02 EB02 EB05 EB14 EB37 EB39 ED13 GA12 GA21 GA30 GC06 GC16 GC20

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 食塩などの添加剤を浴水に溶解してなる
    添加溶液を蓄える添加剤溶解槽(14)、前記添加剤溶
    解槽(14)より添加溶液が供給される電解槽(11)
    および前記電解槽(11)内に対向して配設され互いに
    極性の異なる電極(12a、12b)を有し、前記電解
    槽(11)内に供給された添加溶液を電気分解すること
    により次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手
    段(1)と、 浴水を通過させて浄化する浄化手段(21)を有し、必
    要に応じて前記電解水生成手段(1)による電解水を混
    入させて浴水を抗菌するとともに、浴槽(3)から浴水
    を循環させて浴水を浄化する浴水浄化手段(2)とを備
    える浴水浄化装置において、 前記電解水生成手段(1)は、前記添加剤溶解槽(1
    4)より前記電解槽(11)への添加溶液の供給を制御
    して、所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を生成させる
    制御手段(30)を有し、前記制御手段(30)は、前
    記電極(12a、12b)間に流れる電解電流値に応じ
    て複数回に分けて添加溶液を供給させ、濃度を段階的に
    変えて前記所定濃度の次亜塩素酸を含む電解水を生成さ
    せるようにしたことを特徴とする浴水浄化装置。
  2. 【請求項2】 前記制御手段(30)は、前記電解電流
    値が安定する毎に添加溶液を供給させるようにしたこと
    を特徴とする請求項1に記載の浴水浄化装置。
  3. 【請求項3】 前記浄化手段(21)は、前記電解水生
    成手段(1)により前記所定濃度の次亜塩素酸を含む電
    解水が供給されることを特徴とする請求項1に記載の浴
    水浄化装置。
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