JP2003167108A - 拡散反射板、それを製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィルム及び拡散反射板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶セル等の表示装置上方方位や左右の側方
方位の各方位から入射する外光を使用者の方向に効率よ
く返し反射特性に指向性を与え、表示品質の良好な拡散
反射板及びそれを製造するのに用いられる転写原型、転
写ベースフィルム、転写フィルム、拡散反射板及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 光を拡散反射させる拡散反射板におい
て、拡散反射板の基材表面に対し、垂直面（ａ）と傾斜
面（ｂ）から構成される断面鋸刃状で、垂直面（ａ）と
傾斜面（ｂ）の鋸刃状の断面が連続して繰り返され、基
材表面に対する傾斜面（ｂ）の傾斜角が、２〜３０度、
基材表面に対する垂直面（ａ）の傾斜角が７５〜１０５
度であり、その鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の
断面が振幅を有する波形で、連続した凹凸面を有する拡
散反射板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、バックライトを必
要としない反射型液晶表示装置や高効率を必要とされる
太陽電池などに使用される反射型液晶ディスプレイ用拡
散反射板、表示素子用拡散反射板及びその製造に使用さ
れる転写ベースフィルム、転写フィルム、転写原型に関
する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと略す）
は、薄型、小型、低消費電力などの特長を生かし、現
在、時計、電卓、ＴＶ、パソコン等の表示部に用いられ
ている。更に近年、カラーＬＣＤが開発されＯＡ・ＡＶ
機器を中心にナビゲーションシステム、ビュウファイン
ダー、パソコンのモニター用など数多くの用途に使われ
始めており、その市場は今後、急激に拡大するものと予
想されている。特に、外部から入射した光を反射させて
表示を行う反射型ＬＣＤは、バックライトが不要である
ために消費電力が少なく、薄型、軽量化が可能である点
で携帯用端末機器用途として注目されている。

【０００３】従来から反射型ＬＣＤにはツイステッドネ
マティック方式並びにスーパーツイステッドネマティッ
ク方式が採用されているが、これらの方式では直線偏光
子により入射光の１／２が表示に利用されないことにな
り表示が暗くなってしまう。そこで、偏光子を１枚に減
らし、位相差板と組み合わせた方式や相転移型ゲスト・
ホスト方式の表示モードが提案されている。

【０００４】反射型ＬＣＤにおいて外光を効率良く利用
して明るい表示を得るためには、更にあらゆる角度から
の入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光
の強度を増加させる必要がある。そのために、反射板上
の反射膜を適切な反射特性が得られるように制御するこ
とが必要である。このため反射板に反射率の高い金属、
例えばアルミニウムや銀を使用したり、金属表面の反射
率を向上するために、増反射膜を金属に積層することが
試みられている。さらに、基板に感光性樹脂を塗布しフ
ォトマスクを用いてパターン化して凹凸を形成し、金属
薄膜を形成して反射板を形成するいわゆるフォトリソグ
ラフィー法による方法（特開平４−２４３２２６号公
報）が提案されている。このとき、凹凸の傾斜角度を所
定の角度以下に制御することで、正反射方向を中心とし
た所定の限定した角度範囲で、反射率の向上が試みられ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】適切な反射特性は、例
えば液晶セル等の表示装置の使用方法に立ち返り検討を
すすめなければならない。例えば液晶セルは、外光から
の反射によって、光源そのものの像が液晶セル表面や表
面に平行に存在する界面に鏡の様に映るため、正反射方
向で使用されることは無く、正反射方向からずれた明る
い角度で使用される。基材表面に微細な凹凸面の形成さ
れた拡散反射板の多数の凹部が不規則に配置される場
合、反射特性には反射光量の視野角依存性が生じ、正反
射方向で最も明るい表示が得られるはずであるが、前述
の通り、液晶セルは正反射方向で使用されることはな
く、正反射方向をはずれた角度で使用されるので、反射
光量が低くなり、液晶セルの表示品位が低いものとな
る。さらに、多くの外光は、液晶セルを使用する人が存
在する方位の表示下方側にはない。液晶セル等の表示装
置下方側は、キーボードや机、液晶セル使用者等の外光
を発しにくい環境におかれる場合が多い。すなわち、ほ
とんどの外光は、液晶セル等の表示装置上方方位や左右
の側方方位から入射する。したがって、表示品質の優れ
る明るい反射光量を液晶セルに与える拡散反射板は、表
示上方方位や左右の側方方位の各方位から入射する外光
を使用者の方向に効率よく返す反射特性の指向性が要求
される。本発明は、上記課題に取り組み、表示品質の良
好な拡散反射板を与えるためになされたもので、液晶セ
ル等の表示装置上方方位や左右の側方方位の各方位から
入射する外光を使用者の方向に効率よく返し反射特性に
指向性を与え、表示品質の良好な拡散反射板及びそれを
製造するのに用いられる転写原型、転写ベースフィル
ム、転写フィルム、拡散反射板及びその製造方法を提供
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、［１］光を拡
散反射させる拡散反射板において、拡散反射板の基材表
面に対し、垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）から構成される
断面鋸刃状で、垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）の鋸刃状の
断面が連続して繰り返され、基材表面に対する傾斜面
（ｂ）の傾斜角が、２〜３０度、基材表面に対する垂直
面（ａ）の傾斜角が７５〜１０５度であり、その鋸刃状
の断面と直交する傾斜面（ｂ）の断面が振幅を有する波
形で、連続した凹凸面を有することを特徴とする拡散反
射板である。また、［２］鋸刃状の断面と直交する傾斜
面（ｂ）の断面が振幅を有する波形で、その波形が、正
弦波であることを特徴とする上記［１］に記載の拡散反
射板である。また、［３］垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）
が粗面化処理されていることを特徴とする上記［１］ま
たは上記［２］に記載の拡散反射板である。また、
［４］垂直面（ａ）の配置間隔が２μｍ以上、１５０μ
ｍ以下である上記［１］ないし上記［３］のいずれかに
記載の拡散反射板である。また、［５］すべての鋸刃状
断面の中で、垂直方向の最大高さと最低高さの差（凹凸
面の最大段差）が６μｍ以下である上記［１］ないし上
記［４］のいずれかに記載の拡散反射板である。また、
［６］垂直面（ａ）の配置間隔が一定の間隔でない上記
［１］ないし上記［５］のいずれかに記載の拡散反射板
である。また、［７］鋸刃状の断面と直交する傾斜面
（ｂ）の断面波形の振幅が、一定でない上記［１］ない
し上記［６］のいずれかに記載の拡散反射板である。ま
た、［８］鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の断面
波形の波長が、一定でない上記［１］ないし上記［７］
のいずれかに記載の拡散反射板である。また、本発明
は、［９］上記［１］ないし上記［８］のいずれかに記
載の拡散反射板の凹凸面を形成した転写原型である。ま
た、［１０］上記［９］に記載の転写原型の凹凸面を形
成する転写原型である。また、［１１］上記［９］また
は上記［１０］に記載の転写原型を用い、転写原型を被
転写層に押し当てることにより形状が転写された転写ベ
ースフィルムである。また、［１２］上記［１１］に記
載の転写ベースフィルムを仮支持体として用い、仮支持
体の転写原型を転写した面に薄膜層を形成し、薄膜層の
仮支持体に形成されていない面が被転写基板への接着面
を構成する転写フィルムである。また、［１３］上記
［１２］に記載の転写フィルムにおいて、仮支持体と薄
膜層の間に反射膜が形成された転写フィルムである。ま
た、本発明は、［１４］上記［１２］に記載の転写フィ
ルムを被転写基板に薄膜層が面するように押し当てる工
程と、前記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写され
た表面に反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製
する拡散反射板の製造方法である。また、［１５］上記
［１１］に記載の転写ベースフィルムを基板上に形成さ
れた薄膜層に、転写された面が面するように押し当てる
工程と、前記転写ベースフィルムを剥がす工程と、表面
に反射膜を形成する工程を含む拡散反射板の製造方法で
ある。また、本発明は、［１６］上記［１３］に記載の
転写フィルムを被転写基板に薄膜層が面するように押し
当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程を含む拡散反
射板の製造方法である。また、本発明は、［１７］上記
［１４］〜［１６］のいずれかに記載の拡散反射板の製
造方法により得られた拡散反射板である。また、［１
８］上記［１１］に記載の転写ベースフィルムの転写原
型を転写した面に反射膜を設けた拡散反射板である。ま
た、［１９］上記［１］〜［８］、［１７］、［１８］
のいずれかに記載の拡散反射板を反射型液晶ディスプレ
イに用いたことを特徴とする拡散反射板である。また、
［２０］上記［１］〜［８］、［１７］、［１８］のい
ずれかに記載の拡散反射板の基材表面に対し、垂直面
（ａ）と傾斜面（ｂ）から構成される断面鋸刃状でその
表面の尾根または谷の線と平行する傾斜で生じる高低差
の高い方を表示画面の概ね下方に向けて反射型液晶ディ
スプレイに用いたことを特徴とする拡散反射板である。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明により、液晶セル等の表示
装置上方方位や左右の側方方位の各方位から入射する外
光を使用者の方向に効率よく返し反射特性に指向性を与
え、表示品質の良好な拡散反射板及びそれを製造するの
に用いられる転写原型、転写ベースフィルム、転写フィ
ルム、拡散反射板及びその製造方法を提供することがで
きる。

【０００８】本発明の反射型液晶ディスプレイ等に用い
る拡散反射板は、例えば転写法により、容易に大量に生
産される。拡散反射板は、基材表面に微細な凹凸面の形
成された転写原型の表面形状を転写することにより、ま
た、さらに、その転写原型の表面形状を転写し、転写し
た転写原型の表面形状をさらに転写することにより作製
することができる。転写原型の微細な凹凸面を転写する
と、その凹凸形状の反転された凹凸形状が転写され、こ
れをさらに転写すると転写原型と同じ表面形状を転写す
ることができる。また、転写原型をフィルム状の被転写
層に押し当てることにより形状が転写された転写ベース
フィルムとすることができる。この転写ベースフィルム
の転写原型を転写した面に反射膜を設けて拡散反射板と
することができる。さらに、この転写ベースフィルムを
仮支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面
に薄膜層を形成し、薄膜層の仮支持体に形成されていな
い面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルムと
することができる。この場合、仮支持体と薄膜層の間に
反射膜が形成された転写フィルムとすることもできる。
転写ベースフィルムに反射膜を形成した後、薄膜層を形
成して得ることができる。そして、この転写フィルムを
被転写基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、
前記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面
に反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製するこ
とができる。さらに、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が
形成された転写フィルムを基板に薄膜層が面するように
押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程により拡
散反射板を作製することができる。また、本発明の拡散
反射板は、転写原型を被転写フィルムに押し当てること
により形状が転写された転写ベースフィルムを基板上に
形成された薄膜層に、転写された面が面するように押し
当てる工程と、前記転写ベースフィルムを剥がす工程
と、表面に反射膜を形成する工程を含むことにより製造
することができる。

【０００９】本発明の拡散反射板の基材表面に対し、垂
直面（ａ）と傾斜面（ｂ）から構成される断面鋸刃状
で、垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）の鋸刃状の断面が連続
して繰り返される凹凸面の一例を図７、図１０に示し
た。この凹凸面は、例えば図１に示すように彫刻子の上
下運動と被彫刻材表面の水平運動により凹凸面を形成す
る機械的加工等によって形成することができる。その例
として以下の工程により形成されるが、これに制限され
るものではなく、レーザーカッティング、フォトリソ法
や斜方エッチング等を施してもよく、それらを組み合わ
せて用いることもできる。ｘｙｚ空間上ｘｙ面内に基材
表面または転写原型表面または転写原型の転写原型表面
を配置し、ｘ方向に等速運動させながら、右半分の先端
角度と左半分の先端角度が、−１５〜１５度と７０〜８
８度の組み合わせの角度とした彫刻子をｚ方向に上下運
動させ基材表面または転写原型表面または転写原型の転
写原型表面に直線上に並ぶ一組の垂直面（ａ）と傾斜面
（ｂ）の凹凸面を連続形成する。ｘ方向に等速運動する
基材表面または転写原型表面または転写原型の転写原型
表面を端部まで彫刻し終えたら、次に先の彫刻始点に彫
刻子を戻し、彫刻始点をｙ方向に所定の距離移動し、再
度ｘ方向に基材表面または転写原型表面または転写原型
の転写原型表面を等速運動させ、上下運動をして彫刻を
施す。この作業を繰り返し、基材表面または転写原型表
面または転写原型の転写原型表面全面に、垂直面（ａ）
と傾斜面（ｂ）で形成された連続した凹凸面を形成す
る。このとき、基材表面または転写原型表面または転写
原型の転写原型表面がロール状である場合、ｘ方向に等
速運動の他に、一定角速度で回転運動していてもよく、
さらに好ましくは、１周分の彫刻を終えたときに、回転
軸方向に所定の距離移動しているように所定速度で運動
させかつ彫刻子の上下運動が１周で半位相ずれるように
螺旋状に彫刻すると連続してロール全面に彫刻穴である
凹部が形成される。また、彫刻子の上下運動は、等速運
動である必要はなく、時間軸を横軸に変位量を縦軸にし
たとき正弦波運動、三角波運動、２次曲線運動等でもよ
い。上記各運動、水平運動、回転運動、上下運動は、彫
刻子と被彫刻材表面との相対運動であればよく、上記は
一例である。基材表面または転写原型表面または転写原
型の転写原型表面の彫刻子加工の後、凹部により形成さ
れた面を、サンドブラスト、めっき、ビーズ含有の膜積
層等によりさらに微細な凹凸を形成して粗面化する。ま
た、基材表面または転写原型表面または転写原型の転写
原型表面の彫刻子加工の後、レベリングを施し、粗面化
し凹部または凸部としてもよい。レベリングの工程とし
て、例えば、レベリングメッキ、リフロー、ソフトエッ
チング、レベリング膜積層等がある。粗化メッキ後に再
度光沢メッキを行って凹部または凸部形状を最適化する
こともできる。彫刻子の形状を選択することで反射特性
を最適化することができる。また、さらに表面の硬度を
上げたり、酸化を防止する目的で保護メッキを行っても
よい。保護メッキとしてクロム、ニッケル、亜鉛等のメ
ッキを行うのが好ましい。

【００１０】本発明の転写原型または、転写原型の転写
原型の材質は金属、樹脂等、限定されないが、好ましく
は寸法安定性、導電性に優れるステンレス等の鉄合金、
さらに加工裕度のある銅または銅合金が積層されたもの
を用いる。表面は機械研磨、エッチング、洗浄する等し
て均一にして用いる。板状、シート状、ロール状等限定
されないが、ロール状であると回転しながら加工が可能
となるのでより好ましい。光を拡散し得る凹凸形状面が
形成された転写原型または、転写原型の転写原型は、シ
ート状、平板またはロール状または曲面の一部等の基材
の表面に全面または必要な部分に光を拡散し得る凹凸形
状面が形成されたものを用いることができ、加圧装置に
貼り付けたり、凹凸を形成する面と加圧装置との間に挟
み込んで用いてもよい。押し当てる工程で熱、光等を与
えてもよい。

【００１１】本発明の拡散反射板は、凹凸面の形状によ
って拡散性や反射性能を容易に調整することが可能なの
で、凹凸面は、拡散反射板の拡散反射特性を考慮して設
計する必要がある。拡散反射板の凹凸面の形状として、
基材表面に対する傾斜面（ｂ）の傾斜角が２度以上３０
度以下、さらには、２．５度以上１５度以下であること
が好ましい。このとき、基板表面に対する傾斜面（ｂ）
の傾斜角とは、垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）から構成さ
れる鋸刃状断面（直角三角形に近い形状）において、１
つの傾斜面（ｂ）の線分の両端を通る直線と、拡散反射
板の基材表面のなす角をいう。同様に、基材表面に対す
る垂直面（ａ）の傾斜角とは、垂直面（ａ）と傾斜面
（ｂ）から構成される鋸刃状断面において、１つの垂直
面（ａ）の線分の両端を通る直線と、拡散反射板の基材
表面のなす角をいう。鋸刃状の断面と直交する傾斜面
（ｂ）の断面の振幅を有する波形は、図８に示すよう
に、正弦波形の他、円や楕円の一部を連ねた波形、放物
線の一部を連ねた波形、三角波形、これらの波形を組み
合わせて連ねた波形であってよいが、曲面とすること
で、より広範囲の光源位置からの拡散反射光を期待でき
るうえ、製造単価を下げられるので、正弦波形とするこ
とが好ましい。傾斜面（ｂ）の断面の波形の波長は、規
則的であってもよいが、モアレや分光を抑制するため
に、一定でない配置間隔としてもよい。すなわち、正弦
波形の波形の場合、正弦波波長を一定でなくしてもよ
い。垂直面（ａ）を介して隣接する傾斜面（ｂ）の断面
の波形の正弦波等の位相は一致していてよいが、モアレ
や分光を抑制するために好ましくは、半位相ずれていた
方がよく、さらに好ましくは、一致していないほうがよ
い。傾斜面（ｂ）の断面の波形の振幅は、規則的であっ
てもよいが、モアレや分光を抑制するために、一定でな
い配置間隔としてもよい。すなわち、正弦波形の波形の
場合、正弦波の振幅を一定でなくしてもよい。また、拡
散反射板の基材表面に対し、垂直面（ａ）と傾斜面
（ｂ）から構成される断面鋸刃状の凹凸面の頂角、その
鋸刃状の断面と直交する方向の頂角が連なって形成する
峰、谷は、曲率をもった形状であってかまわない。拡散
反射板を観察したときに、各々の垂直面（ａ）の面積が
減ることで、視差やスジムラの無い、視認性の優れた拡
散反射板を得ることができるので、垂直面（ａ）の配置
間隔は１５０μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下の間隔
で配置する。一方、垂直面（ａ）の配置間隔が狭いと分
光を生じやすくなるので、２μｍ以上、好ましくは、５
μｍ以上の配置間隔とする。垂直面（ａ）の配置間隔
は、規則的であってもよいが、モアレや分光を抑制する
ために、一定でない配置間隔としたほうが好ましい。拡
散反射板の凹凸面は、凹凸のため表面に段差が生じる
が、例えば液晶表示装置の２枚のガラス板間に形成する
拡散反射板の場合、段差を小さくする必要がある。ま
た、他の表示装置である例えば、電界発光表示装置等に
本発明の拡散反射板を利用した場合、段差が小さい方が
拡散反射板に各表示装置を構成する部材を積層する上
で、製造工程が簡便になる。すなわち、本発明の拡散反
射板は、すべての鋸刃状断面の中で、垂直方向の最大高
さと最低高さの差（凹凸面の最大段差）が６μｍ以下と
することが好ましく、より好ましくは、３．５μｍ以下
である。

【００１２】本発明の転写原型または、転写原型の転写
原型の凹凸面は、通常、薄膜層の硬化の際の変形を考慮
して設計する必要がある。すなわち、転写原型から薄膜
層に転写される課程で、転写される形状がなだらかに変
形することを考慮し、転写原型の凹凸面の段差や傾斜角
度を、求める薄膜層の凹凸形状より大きくし、転写原型
の凹凸面の頂角や峰、谷の曲率を小さくすることが好ま
しい。

【００１３】本発明の転写原型は、転写原型を用いて転
写原型を被転写層に押し当てることにより形状が転写さ
れた転写ベースフィルムとすることができる。この転写
ベースフィルムは、以下の転写ベースフィルム、下塗り
層が設けられた転写ベースフィルムであってもよい。ベ
ースフィルムとしては、化学的、熱的に安定であり、シ
ートまたは板状に成形できるものを用いることができ
る。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等
のポリハロゲン化ビニル類、セルロースアセテート、ニ
トロセルロース、セロハン等のセルロース誘導体、ポリ
アミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリイミ
ド、ポリエステル、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＰＯ、
ポリスルホン、エポキシ樹脂などの各種プラスチックあ
るいはアルミニウム、銅等の金属類等である。これらの
中で特に好ましいのは寸法安定性に優れた２軸延伸ポリ
エチレンテレフタレートである。

【００１４】下塗り層が設けられた転写ベースフィルム
の下塗り層としては、凹凸形成後は後述の薄膜層よりも
硬いものが好ましい。例えばポリエチレン、ポリプロピ
レンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル、エ
チレンとアクリル酸エステル、エチレンとビニルアルコ
ールのようなエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニルと酢酸ビニルの共重合体、塩化ビニルとビニルア
ルコールの共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレ
ン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステルのようなス
チレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエン
と（メタ）アクリル酸エステルのようなビニルトルエン
共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）
アクリル酸ブチルと酢酸ビニルのような（メタ）アクリ
ル酸エステルの共重合体、合成ゴム、セルロース誘導体
等から選ばれた、少なくとも１種類以上の有機高分子を
用いることができる。凹凸形成後硬化させるために必要
に応じて光開始剤やエチレン性二重結合を有するモノマ
ー等を添加することができる。ネガ型、ポジ型の感光タ
イプであっても問題はない。これらの転写ベースフィル
ム、下塗り層が設けられた転写ベースフィルムは、転写
原型を用い、転写原型を被転写層に押し当てることによ
り形状が転写された転写ベースフィルムとする。

【００１５】本発明では、上記の転写ベースフィルムを
仮支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写した面
に薄膜層を形成し、薄膜層の仮支持体に形成されていな
い面が被転写基板への接着面を構成する転写フィルムと
することができる。また、転写ベースフィルムを基板上
に形成された薄膜層に、転写された面が面するように押
し当て、転写ベースフィルムを剥がし、表面に反射膜を
形成して拡散反射板を製造する。この薄膜層は、転写ベ
ースフィルムの支持体や基板上に塗布・貼りつけ等で形
成しフィルム状に巻き取ることが可能な樹脂組成物を用
いることができる。また薄膜中に必要に応じて、染料、
有機顔料、無機顔料、粉体及びその複合物を単独または
混合して用いてもよい。薄膜層には光硬化性樹脂組成物
や熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。薄膜層の
軟化温度は特に制限されないが、２００℃以下であるこ
とが望ましい。また加熱による流動性を得るために分子
量１００００以下の低融点物質を添加することができ
る。

【００１６】そのようなものの中で、転写ベースフィル
ムや基板に対する密着性が良好で、転写ベースフィルム
に対しては、それからの剥離性がよいものを用いるのが
好ましい。たとえば光硬化性樹脂組成物に含まれる有機
重合体としては、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩
化ビニリデン等のポリハロゲン化ビニル類、セルロース
アセテート、ニトロセルロース、セロハン等のセルロー
ス誘導体、ポリアミド、ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリエステル等を用いることができる。ＴＦＴ液晶
表示装置に用いる場合は基板に形成されたＴＦＴとのコ
ンタクトホールを形成するためにその部分の薄膜層を除
けるように、アルカリ等で現像可能な感光性樹脂を用い
ることもできる。また耐熱性、耐溶剤性、形状安定性を
向上させるために、熱によって硬化可能な樹脂組成物を
用いることもできる。さらに、カップリング剤、接着性
付与剤を添加することで転写ベースフィルムとの密着を
向上させることもできる。接着を向上させる目的で転写
ベースフィルムまたは薄膜層の接着面に接着性付与剤を
形成することもできる。

【００１７】薄膜層の加熱による流動性を得るために分
子量１００００以下の低融点物質を添加することができ
る。例えば「プラスチックス配合剤」（遠藤 昭定、須
藤眞編、大成社発行、平成８年１１月３０日発行）記載
の可塑剤や、エチレン性二重結合を分子内に少なくとも
１つ以上有するモノマーを添加する。本成分の使用量
は、感光性組成物中の固形分総量の１〜７０重量％とす
ることが好ましい。

【００１８】例えば、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリ
コールジアクリレート、テトラエチレングリコールジア
クリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、フルフリ
ルアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリ
レート、レゾルシノールジアクリレート、ｐ，ｐ’−ジ
ヒドロキシジフェニルジアクリレート、スピログリコー
ルジアクリレート、シクロヘキサンジメチロールジアク
リレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート、エチレングリコール化ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、及び上記のアクリレートに対
応するメタクリレート化合物、メチレンビスアクリルア
ミド、ウレタン系ジアクリレート等の多官能モノマーが
挙げられる。また、ＥＣＨ変性フタル酸ジアクリレー
ト、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、
トリス（メタクリロキシエチル）イソシアヌレート、ト
リス（２-ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エチレングリコールジメタクリレート、トリブロモフェ
ニルアクリレート、ＥＯ変性トリブロモフェノールアク
リレート，ＥＯ変性テトラブロモビスフェノールジメタ
クリレートなどの２５℃で固体または粘度が１００Ｐａ
・ｓ（１０万ｃｓｐ）以上であるモノマー及びオリゴマ
ーを用いてもよい。さらに「感光材料リストブック」
（フォトポリマー懇話会編、ぶんしん出版発行、１９９
６年３月３１日発行）記載のものから選ばれるのが好ま
しい。

【００１９】また、メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメ
タクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ア
ルキルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジル
メタクリレート、モノ（２−メタクリロイルオキシエチ
ル）アシッドホスフェート、ジメチルアミノエチルメタ
クリレート四級化物等の単官能モノマーが挙げられる。
これらの成分は単独または２種以上を混合して用いるこ
ともできる。

【００２０】光硬化性樹脂組成物の光開始剤としては、
例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−
４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−
４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、ベンジル、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベ
ンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフ
ェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メ
チル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モル
ホリノ−１−プロパン、ｔ−ブチルアントラキノン、１
−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキ
ノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エ
チルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０
−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン
ラチ−１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニル
アントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５
−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。これ
らの光開始剤は単独で又は２種類以上を組み合わせて使
用される。本成分の使用量は、感光性組成物中の固形分
総量の０．０１〜２５重量％とすることが好ましく、１
〜２０重量％であることがより好ましい。

【００２１】薄膜層や下塗り層の塗布方法としては、ロ
ールコータ塗布、スピンコータ塗布、スプレー塗布、デ
ィップコータ塗布、カーテンフローコータ塗布、ワイヤ
バーコータ塗布、グラビアコータ塗布、エアナイフコー
タ塗布等が挙げられる。仮支持体等の表面に上記の方法
で薄膜層または下塗り層を塗布する。

【００２２】本発明では、薄膜層の転写された表面や転
写ベースフィルムに反射膜を形成する。この反射膜を薄
膜層上に形成した一例を図３、４に示した。反射膜とし
ては、反射したい波長領域によって材料を適切に選択す
れば良く、例えば反射型ＬＣＤ表示装置では、可視光波
長領域である３００ｎｍから８００ｎｍにおいて反射率
の高い金属、例えばアルミニウムや金、銀等を真空蒸着
法またはスパッタリング法等によって形成する。また反
射増加膜（光学概論２、辻内順平、朝倉書店、１９７６
年発行）を上記の方法で積層してもよい。屈折率差を利
用して反射させる場合、金属だけでなく、ＩＴＯや五酸
化タンタル等の膜とシリコンやアルミニウム等の酸化膜
や窒化膜、酸窒化膜を真空蒸着法またはスパッタリング
法等によって形成する。あるいは、薄膜層単体として大
気や低屈折率の膜を積層する。反射膜の厚みは、０．０
１〜５０μｍが好ましい。また反射膜は、必要な部分だ
けフォトリソグラフィー法、マスク蒸着法等によりパタ
ーン形成してもよい。

【００２３】薄膜層の基板に転写される面の保護のた
め、保護フィルムであるカバーフィルムを設けても良
い。このカバーフィルムとしては、化学的および熱的に
安定で、薄膜層との剥離が容易であるものが望ましい。
具体的にはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリビニルアルコール等の薄いシー
ト状のもので表面の平滑性が高いものが好ましい。剥離
性を付与するために表面に離型処理をしたものも含まれ
る。これらカバーフィルムの厚みは、５〜１２０μｍが
望ましい。５μｍ未満ではフィルムが切れることがあ
り、不良になり易い。また、１２０μｍを超えると後工
程でフィルムを巻き取る際にしわになり易く、作業性が
低下してくる。

【００２４】図２に示したように、本発明の転写フィル
ムは、転写原型をベースフィルムと下塗り層からなる被
転写層に押し当てることにより形状が転写された転写ベ
ースフィルムを仮支持体として用い、仮支持体の転写原
型を転写した面に薄膜層を形成し（図２では薄膜層の保
護のためカバーフィルムを積層して形成している）、薄
膜層の仮支持体に積層されていない面が被転写基板への
接着面を構成するものである。転写フィルム上の薄膜層
を基板に転写する方法としては、図４に示したようにカ
バーフィルムを剥がし、被転写基板として例えばガラス
基板上に加熱圧着すること等が挙げられる。さらに密着
性を必要とする場合には基板を必要な薬液等で洗浄した
り、基板に接着付与剤を塗布したり、基板に紫外線等を
照射する等の方法を用いてもよい。薄膜層を転写する装
置としては基板を加熱、加圧可能なゴムロールとベース
フィルムとの間に挟み、ロールを回転させて、薄膜層を
基板に押し当てながら基板を送りだすロールラミネータ
を用いることが好ましい。このようにして基板表面に形
成した薄膜層の膜厚は、０．１μｍ〜５０μｍの範囲が
好ましい。このとき凹凸形状の最大高低差より薄膜層の
膜厚が厚い方が凹凸形状を再現しやすい。膜厚が等しい
場合、あるいは薄い場合では、原型凸部で薄膜層を突き
破ってしまい、不必要な平面部が発生し反射効率の良好
な拡散反射板を得にくくなる。

【００２５】光を拡散し得る形状を保持するために、光
硬化性樹脂の場合、薄膜層を露光し、感光、硬化させ
る。露光機としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀
灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、蛍光ランプ、タングステンランプ等が挙げられる。
露光は仮支持体を剥がす前、または剥がした後に行うこ
とができる。露光後、温風加熱炉、または赤外線加熱
炉、ホットプレート等で加熱を行う場合がある。

【００２６】以上では反射型液晶ディスプレイで説明し
たが、本発明の拡散反射板は外部光線を拡散反射させる
ことが必要な表示デバイスに用いることが出来る。以下
の実施例により本発明を具体的に説明する。

【００２７】

【実施例】（実施例１）図１に示したように、直径１３
０ｍｍの円筒形の鉄製基材を回転させながら、銅メッキ
を行って、鉄に銅が２００μｍ積層された原型基材を得
た。これを研磨して表面が鏡面となるように加工した。
次にこれを回転させながら右半分の先端角度が０度で左
半分の先端角度が８０度の組み合わせのダイヤモンド針
で連続的に螺旋彫刻し、形状が、波長２７μｍ、振幅
２．５μｍ、傾斜角１０度の正弦波の襞を備えた傾斜面
（ｂ）を有し、また、垂直面（ａ）を介して２５μｍの
配置間隔で全面に並んだロール型を得た。次にこれを回
転させながら以下に示す銅メッキ液に浸漬し、電流密度
（メッキ面積１０平方センチメートルあたりの電流値）
が８Ａ／平方デシメートルとなるように電流を調節し、
光沢メッキを行った後、同じメッキ液中で電流密度を２
Ａ／平方デシメートルとなるように電流を調整し、粗化
メッキを行った後、メッキ液を除去する目的で純水を用
いて洗浄した。次に銅の酸化を抑えるために、以下に示
すニッケルメッキ液に浸漬しながら、電流密度２Ａ／平
方デシメートルとなるように電流を調整して光沢ニッケ
ルメッキを行って転写原型を得た。 （銅メッキ液）： 硫酸銅 ２１０ｇ／リットル 硫酸 ６０ｇ／リットル チオ尿素 ０．０１ｇ／リットル デキストリン ０．０１ｇ／リットル 塩酸 ０．０１ｇ／リットル 液温 ３０℃ （ニッケルメッキ液）： 硫酸ニッケル ２４０ｇ／リットル 塩化ニッケル ４５ｇ／リットル 硼酸 ３０ｇ／リットル 浴温 ５０℃

【００２８】ベースフィルムとして厚さ１００μｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムを用い、このベース
フィルム上に下塗り層として光硬化性樹脂溶液をコンマ
コーターで２０μｍの膜厚になるよう塗布乾燥した。次
に前記転写原型を押しあて紫外線を照射し光硬化性樹脂
を硬化し転写原型から分離し、転写原型の凹凸形状が光
硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成された転写ベー
スフィルムを得た。 （光硬化性樹脂（下塗り層）溶液）： アクリル酸-ブチルアクリレート-ビニルアセテート共重合体 ５重量部 ブチルアセテート（モノマー） ８重量部 ビニルアセテート（モノマー） ２重量部 アクリル酸（モノマー） ０.３重量部 ヘキサンジオールアクリレート（モノマー） ０.２重量部 ベンゾインイソブチルエーテル（開始剤） ２.５重量％

【００２９】次に光硬化性樹脂層（下塗り層）上に下記
の薄膜層形成用溶液をコンマコーターで平均膜厚が８μ
ｍの膜厚になるよう塗布乾燥し、カバーフィルムとして
ポリエチレンフィルムを被覆して転写フィルムを得た
（図２）。 次に、図４に示したように、この転写フィ
ルムのカバーフィルムを剥がしながら、薄膜層がガラス
基板に接する様にラミネータ（ロールラミネータＨＬＭ
１５００、日立化成テクノプラント株式会社製商品名）
を用いて基板温度９０℃、ロール温度８０℃、ロール圧
力０．６８６ＭＰａ（７ｋｇ／ｃｍ²）、速度０．５ｍ
／分でラミネートし、ガラス基板上に薄膜層、光硬化性
樹脂層（下塗り層）、ベースフィルムが積層された基板
を得た。次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベースフ
ィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸形状と
同様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０℃、３０
分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニウム薄膜
を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成して
拡散反射板を作製した。

【００３０】図６に本発明の拡散反射板の反射特性の測
定装置を示す。反射光２０と入射光１９のなす角度を反
射角度θとすると、必要とされるθの範囲で拡散反射板
の法線方向で観測される輝度すなわち反射強度を大きく
すれば反射特性に優れる拡散反射板が得られる。図１１
には方位角（φ）を３０度とした場合の本実施例による
拡散反射板の反射強度（標準白色板に対する相対強度）
の入射角度依存性を示す。方位角φ＝３０度と−３０度
で反射角度θ＝１６度の反射強度が４０を得られ、さら
に方位角φ＝０度で反射強度が２０を得られ、反射特性
にすぐれた拡散反射板を得ることができた。 （薄膜層形成用溶液）：ポリマーとしてスチレン、メチ
ルメタクリレート、エチルアクリレート、アクリル酸、
グリシジルメタクリレート共重合樹脂を用いた（ポリマ
ーＡ）。分子量は約３５０００、酸価は１１０である。 ポリマーＡ ７０重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート（モノマー） ３０重量部 イルガキュアー369(チバスペシャルティーケミカルズ)(開始剤)２．２重量部 N，N−テトラエチル-４,４’-ジアミノベンゾフェノン(開始剤)２．２重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル（溶剤） ４９２重量部 ｐ−メトキシフェノール（重合禁止剤） ０．１重量部 パーフルオロアルキルアルコキシレート（界面活性剤） ０．０１重量部

【００３１】（実施例２）実施例１で得られた転写ベー
スフィルムの凹凸面に真空蒸着法で、アルミニウム薄膜
を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を形成し
た。これにより方位角φ＝３０度と−３０度で反射角度
θ＝１８度の反射強度が４０を得られ、さらに方位角φ
＝０度で反射角度θ＝１８度の反射強度が１８を得ら
れ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることができ
た。実施例１は、転写原型と同じ凹凸形状であるが、実
施例２は、転写原型の凹凸を反転させた形状である。

【００３２】（実施例３）基板としてガラス基板を用
い、実施例１と同様の薄膜層形成用溶液を塗布し２００
０回転で１５秒間スピンコートし、ホットプレートで９
０℃、２分間加熱して８μｍの薄膜層を得た。次に実施
例１と同様にベースフィルムに厚さ１００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用い、下塗り層として
光硬化性樹脂溶液をコンマコーターで２０μｍの膜厚に
なるよう塗布乾燥して転写原型を押しあて紫外線を照射
し光硬化性樹脂を硬化し転写原型から分離して得られた
凹凸形状が光硬化性樹脂層（下塗り層）の表面に形成さ
れた転写ベースフィルムを作製した。この転写ベースフ
ィルムの凹凸面が前記の薄膜層に面するようにラミネー
タ（ロールラミネータＨＬＭ１５００、日立化成テクノ
プラント株式会社製商品名）を用いて基板温度９０℃、
ロール温度８０℃、ロール圧力０．６８６ＭＰａ（７ｋ
ｇ／ｃｍ²）、速度０．５ｍ／分でラミネートし、ガラ
ス基板上に薄膜層、光硬化性樹脂層（下塗り層）、ベー
スフィルムが積層された基板を得た。これに露光装置で
紫外線を照射し次に、光硬化性樹脂層（下塗り層）とベ
ースフィルムを剥離し、ガラス基板上に転写原型の凹凸
形状と同様な薄膜層を得た。次に、オーブンで２３０
℃、３０分間の熱硬化を行い、真空蒸着法で、アルミニ
ウム薄膜を０．２μｍの膜厚になるよう積層し反射層を
形成した。これにより方位角φ＝３０度と−３０度で反
射角度θ＝１６度の反射強度が４０を得られ、さらに方
位角φ＝０度で反射角度θ＝１６度の反射強度が２０を
得られ、反射特性にすぐれた拡散反射板を得ることがで
きた。

【００３３】（実施例４）実施例１で示した図１と同様
に、直径１３０ｍｍの円筒形の鉄製基材を回転させなが
ら、銅メッキを行って、鉄に銅が２００μｍ積層された
原型基材を得た。これを研磨して表面が鏡面となるよう
に加工した。次にこれを回転させながら右半分の先端角
度が０度で左半分の先端角度が８０度の組み合わせのダ
イヤモンド針で連続的に螺旋彫刻し、形状が、波長２５
μｍ〜２９μｍの一定でない不規則な波長、振幅２．３
μｍ〜２．７μｍの一定でない不規則な振幅、傾斜角１
０度の様々な波形の正弦波が連続して並ぶ波形の襞を備
えた傾斜面（ｂ）を有し、また、垂直面（ａ）を介して
２５μｍ〜２７μｍの一定でない不規則な配置間隔で全
面に並んだロール型を得た。実施例１とは凹凸に周期性
がない点が異なる。次にこれを回転させながら実施例１
と同じ銅メッキ液に浸漬し、電流密度（メッキ面積１０
平方センチメートルあたりの電流値）が８Ａ／平方デシ
メートルとなるように電流を調節し、光沢メッキを行っ
た後、同じメッキ液中で電流密度を２Ａ／平方デシメー
トルとなるように電流を調整し、粗化メッキを行った
後、メッキ液を除去する目的で純水を用いて洗浄した。
次に銅の酸化を抑えるために、実施例１と同様のニッケ
ルメッキ液に浸漬しながら、電流密度２Ａ／平方デシメ
ートルとなるように電流を調整して光沢ニッケルメッキ
を行って転写原型を得た。以下実施例１と同様に、この
転写原型から拡散反射板を作製した。これにより方位角
φ＝３０度と−３０度で反射角度θ＝１８度の反射強度
が４０を得られ、さらに方位角φ＝０度で反射角度θ＝
１８度の反射強度が１８を得られ、反射特性にすぐれた
拡散反射板を得ることができた。

【００３４】（比較例１）実施例１で示した図１と同様
に、直径１３０ｍｍの円筒形の鉄製基材を回転させなが
ら、銅メッキを行って、鉄に銅が２００μｍ積層された
原型基材を得た。これを研磨して表面が鏡面となるよう
に加工した。次にこれを回転させながら右半分の先端角
度が０度で左半分の先端角度が８０度の組み合わせのダ
イヤモンド針で連続的に螺旋彫刻し、形状が、ダイヤモ
ンド針を振幅をさせずに傾斜角１０度、傾斜平面が垂直
面（ａ）を介して２５μｍの配置間隔で全面に並んだロ
ール型を得た。実施例１とは鋸刃状の断面と直交する傾
斜面（ｂ）の断面が振幅を有する波形でなく、一定の傾
斜平面がある点が異なる。次にこれを回転させながら以
下に示す銅メッキ液に浸漬し、電流密度（メッキ面積１
０平方センチメートルあたりの電流値）が８Ａ／平方デ
シメートルとなるように電流を調節し、光沢メッキを行
った後、同じメッキ液中で電流密度を２Ａ／平方デシメ
ートルとなるように電流を調整し、粗化メッキを行った
後、メッキ液を除去する目的で純水を用いて洗浄した。
次に銅の酸化を抑えるために、実施例１と同様のニッケ
ルメッキ液に浸漬しながら、電流密度２Ａ／平方デシメ
ートルとなるように電流を調整して光沢ニッケルメッキ
を行って転写原型を得た。以下実施例１と同様に、本比
較例の転写原型から拡散反射板を作製した。これによる
方位角φ＝３０度と−３０度での反射角度θ＝１８度の
反射強度は２であり、十分な反射強度を得られなかっ
た。比較例１は、実施例１と、拡散反射板および転写原
型の凹凸面の傾斜面（ｂ）が傾斜平面である点が異な
る。

【００３５】本発明では、垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）
から構成される断面鋸刃状でその表面の尾根または谷の
線と平行する傾斜で生じる高低差の高い方を表示画面の
概ね下方に向けて反射型液晶ディスプレイに用いると好
ましく、図５に反射型ＬＣＤの一例を示したが、図５の
左側を表示画面の概ね下方に向けると反射特性が良好と
なる。

【００３６】

【発明の効果】本発明の拡散反射板は、反射型液晶表示
装置、電界発光表示装置、電気泳動表示装置等の表示品
質向上を目的に、新規な特徴を凹凸面の形状にもたせ
た。その特徴は、襞を備える傾斜面（ｂ）と垂直面
（ａ）を交互に並べた点にあり、この拡散反射板によ
り、液晶セル等の表示装置上方方位や左右の側方方位の
各方位から入射する外光を使用者の方向に効率よく返し
反射特性に指向性を与え、表示品質を明るく高めた表示
を実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の転写原型の製造工程の一例を示す断
面図。

【図２】 本発明の転写フィルムの一例を示す断面図。

【図３】 本発明の拡散反射板の一例を示す断面図。

【図４】 本発明の拡散反射板の製造例を示す断面図。

【図５】 反射型ＬＣＤの一例を示す断面図。

【図６】 拡散反射板の反射特性の測定装置を示す斜視
図。

【図７】 本発明の拡散反射板の凹凸面形状の一例を示
す斜視図。

【図８】 本発明の拡散反射板の凹凸面の傾斜面（ｂ）
の波形の例を示す断面図。

【図９】 実施例１の拡散反射板の凹凸面の傾斜面
（ｂ）と垂直面（ａ）を交互に並べた形状を示す断面
図。

【図１０】 実施例１の拡散反射板の凹凸面形状を示す
斜視図。

【図１１】 実施例１の拡散反射板の反射強度の反射角
度の依存性を示す図。

【符号の説明】

１．銅基材 ２．鉄基材 ３．ダイヤモンド彫刻子 ４．銅粗化メッキ粒子 ５．ニッケル ６．ガラス基板 ７．薄膜層 ８．反射膜 ９．ベースフィルム（図５においてのみカラーフィル
タ） １０．ブラックマトリクス １１．透明電極 １２．平坦化膜 １３．配向膜 １４．液晶層 １５．スペーサ １６．位相差フィルム １７．偏光板 １８．サンプル １９．入射光 ２０．反射光 ２１．輝度計 ２２．反射角度 ２３．方位角度 ２４．基材表面 ２５．鋸刃状断面 ２６．垂直面（ａ） ２７．傾斜面（ｂ）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木沢 桂子 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 岩室 光則 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 津田 義博 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 吉田 健 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA14 BA15 BA20 DA02 DA04 DA05 DA08 DA11 DA17 DA22 DC02 DC08 DE04 2H091 FA14Y FA31Y FA42Z FC01 FC02 FC26 GA13 GA17 KA10 LA16 LA19

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光を拡散反射させる拡散反射板におい
   て、拡散反射板の基材表面に対し、垂直面（ａ）と傾斜
   面（ｂ）から構成される断面鋸刃状で、垂直面（ａ）と
   傾斜面（ｂ）の鋸刃状の断面が連続して繰り返され、基
   材表面に対する傾斜面（ｂ）の傾斜角が、２〜３０度、
   基材表面に対する垂直面（ａ）の傾斜角が７５〜１０５
   度であり、その鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の
   断面が振幅を有する波形で、連続した凹凸面を有するこ
   とを特徴とする拡散反射板。
2. 【請求項２】 鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の
   断面が振幅を有する波形で、その波形が、正弦波である
   ことを特徴とする請求項１に記載の拡散反射板。
3. 【請求項３】 垂直面（ａ）と傾斜面（ｂ）が粗面化処
   理されていることを特徴とする請求項１または請求項２
   に記載の拡散反射板。
4. 【請求項４】 垂直面（ａ）の配置間隔が２μｍ以上、
   １５０μｍ以下である請求項１ないし請求項３のいずれ
   かに記載の拡散反射板。
5. 【請求項５】 すべての鋸刃状断面の中で、垂直方向の
   最大高さと最低高さの差（凹凸面の最大段差）が６μｍ
   以下である請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の
   拡散反射板。
6. 【請求項６】 垂直面（ａ）の配置間隔が一定の間隔で
   ない請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の拡散反
   射板。
7. 【請求項７】 鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の
   断面波形の振幅が、一定でない請求項１ないし請求項６
   のいずれかに記載の拡散反射板。
8. 【請求項８】 鋸刃状の断面と直交する傾斜面（ｂ）の
   断面波形の波長が、一定でない請求項１ないし請求項７
   のいずれかに記載の拡散反射板。
9. 【請求項９】 請求項１ないし請求項８のいずれかに記
   載の拡散反射板の凹凸面を形成した転写原型。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の転写原型の凹凸面を
    形成する転写原型。
11. 【請求項１１】 請求項９または請求項１０に記載の転
    写原型を用い、転写原型を被転写層に押し当てることに
    より形状が転写された転写ベースフィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の転写ベースフィル
    ムを仮支持体として用い、仮支持体の転写原型を転写し
    た面に薄膜層を形成し、薄膜層の仮支持体に形成されて
    いない面が被転写基板への接着面を構成する転写フィル
    ム。
13. 【請求項１３】 請求項１２に記載の転写フィルムにお
    いて、仮支持体と薄膜層の間に反射膜が形成された転写
    フィルム。
14. 【請求項１４】 請求項１２に記載の転写フィルムを被
    転写基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前
    記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に
    反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する拡散
    反射板の製造方法。
15. 【請求項１５】 請求項１１に記載の転写ベースフィル
    ムを基板上に形成された薄膜層に、転写された面が面す
    るように押し当てる工程と、前記転写ベースフィルムを
    剥がす工程と、表面に反射膜を形成する工程を含む拡散
    反射板の製造方法。
16. 【請求項１６】 請求項１３に記載の転写フィルムを被
    転写基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前
    記仮支持体を剥がす工程を含む拡散反射板の製造方法。
17. 【請求項１７】 請求項１４ないし請求項１６のいずれ
    かに記載の拡散反射板の製造方法により得られた拡散反
    射板。
18. 【請求項１８】 請求項１１に記載の転写ベースフィル
    ムの転写原型を転写した面に反射膜を設けた拡散反射
    板。
19. 【請求項１９】 請求項１〜８、１７、１８のいずれか
    に記載の拡散反射板を反射型液晶ディスプレイに用いた
    ことを特徴とする拡散反射板。
20. 【請求項２０】 請求項１〜８、１７、１８のいずれか
    に記載の拡散反射板の基材表面に対し、垂直面（ａ）と
    傾斜面（ｂ）から構成される断面鋸刃状でその表面の尾
    根または谷の線と平行する傾斜で生じる高低差の高い方
    を表示画面の概ね下方に向けて反射型液晶ディスプレイ
    に用いたことを特徴とする拡散反射板。