JP2003160542A - ニトロ化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のニトロ基を有する化合物を温和な条件
で簡易に且つ収率よく製造する方法を提供する。 【解決手段】 本発明のニトロ化合物の製造法は、有機
基質を、下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、ｎは０又は１を示す。Ｘは酸素原子又は−ＯＲ
基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）
を示す］で表される環状イミド骨格を有するイミド系化
合物の存在下、水含有量が１５重量％以下の硝酸若しく
は亜硝酸又はこれらの塩を有機基質に対して１．８〜
２．５当量用いて反応させて、対応するニトロ化合物を
生成させることを特徴とする。前記有機基質が、（ａ）
不飽和結合に隣接する部位に炭素−水素結合を有する構
造、（ｂ）メチン炭素原子を有する構造、及び（ｃ）非
芳香族性環状炭化水素を有する構造等からなる群から選
択された２以上の同一又は異なる構造を有する化合物で
あるのが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はニトロ化合物の製造
法に関する。特に、複数のニトロ基を有する有機化合物
の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ニトロ化合物は、有機基質に混
酸（硝酸と硫酸の混合物）を反応させて製造されてい
る。この方法を用いて、複数のニトロ基を有する化合物
の製造を行う場合には、大量の硝酸を使用し、また、高
温下で反応を行う必要があるなどの制約が多い。例え
ば、反応温度１７０℃、３，４００，０００〜４，１０
０，０００Ｐａ（３４〜４１気圧）の圧力下においてア
ダマンタンと硝酸を反応させる１，３−ジニトロアダマ
ンタンの製造法がＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，（ジャーナ
ル オブ オーガニック ケミストリー）２６，２２０
７−２２１２，（１９６１）に報告されている。しか
し、収率の点で満足できるものではない。

【０００３】特開平１１−２３９７３０号公報には、特
定の構造を有するイミド化合物の存在下、基質と窒素酸
化物とを接触させて、基質にニトロ基を導入する方法が
開示されている。この方法によれば、比較的温和な条件
下で基質にニトロ基を導入できるが、操作性や目的化合
物の収率等の点で、必ずしも満足できるものではない。

【０００４】特開２００１−２４７４８６号公報には、
特定構造のイミド系化合物の存在下、アダマンタンと硝
酸とを反応させて１−ニトロアダマンタンを製造する方
法が開示されている。しかし、複数個のニトロ基を導入
する方法は記載されていない。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、複数
のニトロ基を有する化合物を温和な条件で簡易に且つ収
率よく製造する方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するため鋭意検討した結果、特定構造のイミド系
化合物の存在下、水含有量が特定値以下の硝酸などを基
質に対し特定量用いると、温和な条件で広範な有機基質
に複数個のニトロ基を容易に導入できることを見出し、
本発明を完成した。

【０００７】すなわち、本発明は、有機基質を、下記式
（Ｉ）

【化３】 ［式中、ｎは０又は１を示す。Ｘは酸素原子又は−ＯＲ
基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）
を示す］で表される環状イミド骨格を有するイミド系化
合物の存在下、水含有量が１５重量％以下の硝酸若しく
は亜硝酸又はこれらの塩を有機基質に対して１．８〜
２．５当量用いて反応させて、対応するニトロ化合物を
生成させるニトロ化合物の製造法を提供する。

【０００８】前記ニトロ化合物の製造法に用いるイミド
系化合物が、下記式（１）

【化４】 ［式中、ｎは０又は１を示す。Ｘは酸素原子又は−ＯＲ
基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）
を示す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、同一又は
異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
ール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシ
ル基又はアシルオキシ基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２つが互いに結合して二重
結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成して
もよい。前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、又は
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２つ
が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
くは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ
−置換環状イミド基がさらに１又は２個以上形成されて
いてもよい］で表される化合物であってもよい。

【０００９】また、前記ニトロ化合物の製造法に用いる
有機基質が、（ａ）不飽和結合に隣接する部位に炭素−
水素結合を有する構造、（ｂ）メチン炭素原子を有する
構造、（ｃ）非芳香族性環状炭化水素を有する構造、
（ｄ）ヘテロ原子の隣接位に炭素−水素結合を有する非
芳香族性複素環を有する構造及び（ｅ）直鎖状アルカン
構造からなる群から選択された２以上の同一又は異なる
構造を有する化合物であってもよい。

【００１０】

【発明の実施の形態】［有機基質］本発明において有機
基質として用いられる化合物には広範な有機化合物が含
まれる。前記有機基質として、例えば、（ａ）不飽和結
合に隣接する部位に炭素−水素結合を有する構造、
（ｂ）メチン炭素原子を有する構造、（ｃ）非芳香族性
環状炭化水素構造、（ｄ）ヘテロ原子の隣接位に炭素−
水素結合を有する非芳香族性複素環を有する構造及び
（ｅ）直鎖状アルカン構造からなる群から選択された２
以上の同一又は異なる構造を有する化合物を使用でき
る。

【００１１】これらの化合物は、種々の置換基、例え
ば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、メルカ
プト基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基など）、置換チオ基、カル
ボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換又は無置換
カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換
アミノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基
（例えば、フェニル、ナフチル基など）、アラルキル
基、複素環基などを有していてもよい。好ましい有機基
質には、炭素−水素結合を複数個有する有機化合物が含
まれる。

【００１２】（ａ）不飽和結合に隣接する部位に炭素−
水素結合を有する構造 不飽和結合に隣接する部位に炭素−水素結合を有する構
造（ａ）としては、（a1）芳香族性環の隣接位（いわゆ
るベンジル位）にメチル基又はメチレン基を有する構
造、（a2）不飽和結合（例えば、炭素−炭素不飽和結
合、炭素−酸素二重結合など）の隣接位にメチル基又は
メチレン基を有する構造等が挙げられる。

【００１３】前記構造（a1）において、芳香族性環は、
芳香族炭化水素環、芳香族性複素環の何れであってもよ
い。芳香族炭化水素環には、ベンゼン環、縮合炭素環
（例えば、ナフタレン、アズレン、インダセン、アント
ラセン、フェナントレン、トリフェニレン、ピレンなど
の２〜１０個の４〜７員炭素環が縮合した縮合炭素環な
ど）などが含まれる。芳香族性複素環としては、例え
ば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環（例えば、
フラン、オキサゾール、イソオキサゾールなどの５員
環、４−オキソ−４Ｈ−ピランなどの６員環、ベンゾフ
ラン、イソベンゾフラン、４−オキソ−４Ｈ−クロメン
などの縮合環など）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含
む複素環（例えば、チオフェン、チアゾール、イソチア
ゾール、チアジアゾールなどの５員環、４−オキソ−４
Ｈ−チオピランなどの６員環、ベンゾチオフェンなどの
縮合環など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環
（例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、トリ
アゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミ
ジン、ピラジンなどの６員環、インドール、キノリン、
アクリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの
縮合環など）などが挙げられる。

【００１４】なお、芳香族性環の隣接位のメチレン基
は、前記芳香族性環に縮合した非芳香族性環を構成する
メチレン基であってもよい。また、構造（a1）におい
て、芳香族性環と隣接する位置にメチル基とメチレン基
の両方の基が存在していてもよい。

【００１５】芳香族性環の隣接位にメチル基を有する芳
香族化合物としては、例えば、芳香環に１〜６個程度の
メチル基が置換した芳香族炭化水素類（例えば、トルエ
ン、キシレン、１−エチル−４−メチルベンゼン、１−
エチル−３−メチルベンゼン、１−ｔ−ブチル−４−メ
チルベンゼン、１−メトキシ−４−メチルベンゼン、メ
シチレン、デュレン、メチルナフタレン、メチルアント
ラセン、４，４′−ジメチルビフェニルなど）、複素環
に１〜６個程度のメチル基が置換した複素環化合物（例
えば、２−メチルフラン、３−メチルフラン、３−メチ
ルチオフェン、２−メチルピリジン、３−メチルピリジ
ン、４−メチルピリジン、２，４−ジメチルピリジン、
２，４，６−トリメチルピリジン、４−メチルインドー
ル、２−メチルキノリンなど）などが例示できる。

【００１６】芳香族性環の隣接位にメチレン基を有する
芳香族化合物としては、例えば、炭素数２以上のアルキ
ル基又は置換アルキル基を有する芳香族炭化水素類（例
えば、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、１，４−ジ
エチルベンゼン、ジフェニルメタンなど）、炭素数２以
上のアルキル基又は置換アルキル基を有する芳香族性複
素環化合物（例えば、２−エチルフラン、３−プロピル
チオフェン、４−エチルピリジン、４−ブチルキノリン
など）、芳香族性環に非芳香族性環が縮合した化合物で
あって、該非芳香族性環のうち芳香族性環に隣接する部
位にメチレン基を有する化合物（ジヒドロナフタレン、
インデン、インダン、テトラリン、フルオレン、アセナ
フテン、フェナレン、インダノン、キサンテン等）など
が例示できる。

【００１７】不飽和結合の隣接位にメチル基又はメチレ
ン基を有する構造（a2）には、例えば、（a2-1）いわゆ
るアリル位にメチル基又はメチレン基を有する鎖状不飽
和炭化水素構造、（a2-2）カルボニル基の隣接位にメチ
ル基又はメチレン基を有する構造が例示できる。

【００１８】前記構造（a2-1）を含む化合物としては、
例えば、プロピレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペ
ンテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、１，５−ヘキサ
ジエン、１−オクテン、３−オクテン、ウンデカトリエ
ンなどの炭素数３〜２０程度の鎖状不飽和炭化水素類が
例示できる。前記構造（a2-2）を含む化合物には、ケト
ン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、３−ペ
ンタノン、アセトフェノンなどの鎖状ケトン類；シクロ
ヘキサノンなどの環状ケトン類）、カルボン酸又はその
誘導体（例えば、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペン
タン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、フェニル酢酸、マロ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、及びこれらのエステルな
ど）などが含まれる。

【００１９】（ｂ）メチン炭素原子を有する構造 メチン炭素原子（又は第３級炭素原子）を有する構造
（ｂ）には、（b1）環の構成単位としてメチン基（すな
わち、メチン炭素−水素結合）を含む環状構造、（b2）
メチン炭素原子を有する鎖状構造が含まれる。

【００２０】環状構造（b1）には、（b1-1）少なくとも
１つのメチン基を有する橋かけ環構造、（b1-2）環に炭
化水素基が結合した非芳香族性環構造（脂環式炭化水素
構造など）などが含まれる。なお、前記橋かけ環構造に
は、２つの環が２個の炭素原子を共有した構造、例え
ば、縮合多環式芳香族炭化水素類に水素添加した構造な
ども含まれる。

【００２１】橋かけ環構造（b1-1）を含む化合物として
は、例えば、デカリン、ビシクロ［２．２．０］ヘキサ
ン、ビシクロ［２．２．２］オクタン、ビシクロ［３．
２．１］オクタン、ビシクロ［４．３．２］ウンデカ
ン、ツジョン、カラン、ピナン、ピネン、ボルナン、ボ
ルニレン、ノルボルナン、ノルボルネン、カンファー、
ショウノウ酸、カンフェン、トリシクレン、トリシクロ
［４．３．１．１^2,5］ウンデカン、トリシクロ［５．
２．１．０^3,8］デカン、エキソトリシクロ［５．２．
１．０^2,6］デカン、エンドトリシクロ［５．２．１．
０^2,6］デカン、エンドトリシクロ［５．２．２．
０^2,6］ウンデカン、アダマンタン、１−アダマンタノ
ール、１−クロロアダマンタン、１−メチルアダマンタ
ン、１，３−ジメチルアダマンタン、１−メトキシアダ
マンタン、１−カルボキシアダマンタン、１−メトキシ
カルボニルアダマンタン、１−ニトロアダマンタン、テ
トラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデカン、
ペルヒドロアントラセン、ペルヒドロアセナフテン、ペ
ルヒドロフェナントレン、ペルヒドロフルオレン、ペル
ヒドロフェナレン、ペルヒドロインデン、キヌクリジン
などの２〜４環式の橋かけ環式炭化水素又は橋かけ複素
環化合物及びそれらの誘導体などが挙げられる。これら
の橋かけ環式化合物は、橋頭位（２環が２個の原子を共
有している場合には接合部位に相当）にメチン炭素原子
を有する。

【００２２】環に炭化水素基が結合した非芳香族性環構
造（b1-2）を含む化合物としては、１−メチルシクロペ
ンタン、１−メチルシクロヘキサン、リモネン、メンテ
ン、メントール、カルボメントン、メントンなどの、炭
素数１〜２０（好ましくは１〜１０）程度の炭化水素基
（例えば、アルキル基など）が環に結合した３〜１５員
程度の脂環式炭化水素及びその誘導体などが挙げられ
る。環に炭化水素基が結合した非芳香族性環状化合物
（b1-2）は、環と前記炭化水素基との結合部位にメチン
炭素原子を有する。

【００２３】メチン炭素原子を有する鎖状構造（b2）を
含む化合物としては、第３級炭素原子を有する鎖状炭化
水素類、例えば、イソブタン、イソペンタン、イソヘキ
サン、３−メチルペンタン、２，３−ジメチルブタン、
２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、３，４−ジ
メチルヘキサン、３−メチルオクタンなどの炭素数４〜
２０（好ましくは、４〜１０）程度の脂肪族炭化水素
類；イソプロピルベンゼン、イソプロピルビフェニルな
どの、芳香族性環が第３級炭素原子を有する脂肪族炭化
水素基で置換された芳香族炭化水素類；およびこれらの
誘導体などが例示できる。

【００２４】（ｃ）非芳香族性環状炭化水素構造 非芳香族性環状炭化水素構造（ｃ）には、（c1）シクロ
アルカン環構造及び（c2）シクロアルケン環構造が含ま
れる。

【００２５】シクロアルカン環構造（c1）を含む化合物
としては、３〜３０員のシクロアルカン環を含む化合
物、例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオク
タン、シクロノナン、シクロデカン、シクロドデカン、
シクロテトラデカン、シクロヘキサデカン、シクロテト
ラコサン、シクロトリアコンタン、及びこれらの誘導体
などが例示できる。好ましいシクロアルカン環には、５
〜３０員、特に５〜２０員のシクロアルカン環が含まれ
る。

【００２６】シクロアルケン環構造（c2）を含む化合物
には、３〜３０員のシクロアルケン環を含む化合物、例
えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテ
ン、シクロオクテン、シクロヘキセン、１−メチル−シ
クロヘキセン、イソホロン、シクロヘプテン、シクロド
デカエンなどのほか、シクロペンタジエン、１，３−シ
クロヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンなどの
シクロアルカジエン類、シクロオクタトリエンなどのシ
クロアルカトリエン類、及びこれらの誘導体等が含まれ
る。好ましいシクロアルケン環には、３〜２０員環、特
に３〜１２員環が含まれる。

【００２７】（ｄ）ヘテロ原子の隣接位に炭素−水素結
合を有する非芳香族性複素環を有する構造 ヘテロ原子の隣接位に炭素−水素結合を有する非芳香族
性複素環を有する構造（ｄ）における非芳香族性複素環
には、窒素原子、酸素原子及びイオウ原子から選択され
た少なくとも１種のヘテロ原子を有する３〜２０員（好
ましくは５〜１２員、さらに好ましくは５又は６員）の
複素環などが含まれる。前記複素環には、ベンゼン環、
シクロヘキサン環、ピリジン環などの芳香族性又は非芳
香族性の環が１又は２以上縮合していてもよい。前記構
造（ｄ）を含む化合物としては、例えば、ジヒドロフラ
ン、テトラヒドロフラン、ピラン、ジヒドロピラン、テ
トラヒドロピラン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジ
ン、モルホリン、インドリン、クロマン、イソクロマン
などが例示される。

【００２８】（ｅ）直鎖状アルカン構造 直鎖状アルカン構造（ｅ）を含む化合物としては、例え
ば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ドデカ
ン、テトラデカン、ヘキサデカン等の炭素数１〜３０程
度（好ましくは炭素数１〜２０程度）の直鎖状アルカン
が挙げられる。

【００２９】本発明における有機基質としては、前記
（ａ）〜（ｅ）からなる群から選択された２以上の同一
又は異なる構造を有する化合物が好ましい。例えば、前
記（ａ）〜（ｅ）の何れかの構造を含む化合物として各
構造ごとに例示された化合物であって、すでに前記
（ａ）〜（ｅ）の何れかの構造を２以上含有しているも
の、又は、前記例示された化合物にさらに前記（ａ）〜
（ｅ）から選択された構造を１以上導入したものが好ま
しく用いられる。有機基質は単独で用いてもよく、同種
又は異種のものを２種以上組み合わせて用いてもよい。

【００３０】［イミド系化合物］本発明では、触媒とし
て、前記式（Ｉ）で表される環状イミド骨格を有するイ
ミド系化合物を使用する。

【００３１】式（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合
は単結合又は二重結合である。前記イミド系化合物は、
分子中に、式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格
を複数個有していてもよい。また、このイミド系化合物
は、前記Ｘが−ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の
保護基である場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを
除く部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを
介して結合していてもよい。

【００３２】式（Ｉ）中、Ｒで示されるヒドロキシル基
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ_1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル、２−メトキシエ
チル基など）、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロ
フラニル基、１−ヒドロキシアルキル基（例えば、１−
ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシヘキシル、１−ヒド
ロキシデシル、１−ヒドロキシヘキサデシル、１−ヒド
ロキシ−１−フェニルメチル基など）等のヒドロキシル
基とアセタール又はヘミアセタール基を形成可能な基な
ど；アシル基（例えば、ホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ピバロイ
ル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナ
ノイル、デカノイル、ラウロイル、ミリストイル、パル
ミトイル、ステアロイル基などのＣ_1-20脂肪族アシル基
等の脂肪族飽和又は不飽和アシル基；アセトアセチル
基；シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボ
ニル基などのシクロアルカンカルボニル基等の脂環式ア
シル基；ベンゾイル、ナフトイル基などの芳香族アシル
基など）、スルホニル基（メタンスルホニル、エタンス
ルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ベンゼンス
ルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、ナフタレンスルホ
ニル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカ
ルボニル基などのＣ_1-4アルコキシ−カルボニル基な
ど）、アラルキルオキシカルボニル基（例えば、ベンジ
ルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル基など）、置換又は無置換カルバモイル基（例
えば、カルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカ
ルバモイル基など）、無機酸（硫酸、硝酸、リン酸、ホ
ウ酸など）からＯＨ基を除した基、ジアルキルホスフィ
ノチオイル基（例えば、ジメチルホスフィノチオイル基
など）、ジアリールホスフィノチオイル基（例えば、ジ
フェニルホスフィノチオイル基など）、置換シリル基
（例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリ
ル、トリベンジルシリル、トリフェニルシリル基など）
などが挙げられる。

【００３３】また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、アジポイル、フタロイル、イソフ
タロイル、テレフタロイル基などのポリカルボン酸アシ
ル基；カルボニル基；メチレン、エチリデン、イソプロ
ピリデン、シクロペンチリデン、シクロヘキシリデン、
ベンジリデン基などの多価の炭化水素基（特に、２つの
ヒドロキシル基とアセタール結合を形成する基）などが
挙げられる。

【００３４】Ｒとしては、アルキル基（メチル基など）
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基が好ましい。

【００３５】式（Ｉ）において、ｎは０又は１を示す。
前記イミド系化合物は、前記ｎが０の場合は、５員のＮ
−置換環状イミド骨格を有するイミド系化合物を示して
おり、前記ｎが１の場合は、６員のＮ−置換環状イミド
骨格を有するイミド系化合物を示している。

【００３６】前記イミド系化合物の代表的な例として、
前記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。こ
のイミド化合物において、置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵及びＲ⁶のうちハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩
素およびフッ素原子が含まれる。アルキル基には、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、
デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル基など
の炭素数１〜３０程度（特に、炭素数１〜２０程度）の
直鎖状又は分岐鎖状アルキル基が含まれる。

【００３７】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、
デシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシオ
クタデシルオキシ基などの炭素数１〜３０程度（特に、
炭素数１〜２０程度）のアルコキシ基が含まれる。

【００３８】置換オキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル、ヘプチルオキシカ
ルボニル、オクチルオキシカルボニル、デシルオキシカ
ルボニル、ドデシルオキシカルボニル、テトラデシルオ
キシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、オク
タデシルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニ
ル基（特に、Ｃ_1-30アルコキシ−カルボニル基）；シク
ロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカ
ルボニル基などのシクロアルキルオキシカルボニル基
（特に、３〜２０員シクロアルキルオキシカルボニル
基）；フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカル
ボニル基などのアリールオキシカルボニル基（特に、Ｃ
_6-20アリールオキシ−カルボニル基）；ベンジルオキシ
カルボニル基などのアラルキルオキシカルボニル基（特
に、Ｃ _7-21アラルキルオキシ−カルボニル基）などが挙
げられる。

【００３９】アシル基としては、例えば、ホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレ
リル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オク
タノイル、ノナノイル、デカノイル、ラウロイル、ミリ
ストイル、パルミトイル、ステアロイル基などのＣ_1-30
脂肪族アシル基（特に、Ｃ_1-20脂肪族アシル基）等の脂
肪族飽和又は不飽和アシル基；アセトアセチル基；シク
ロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル基な
どのシクロアルカンカルボニル基等の脂環式アシル基；
ベンゾイル、ナフトイル基などの芳香族アシル基などが
例示できる。

【００４０】アシルオキシ基としては、例えば、ホルミ
ルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチ
リルオキシ、イソブチリルオキシ、バレリルオキシ、ピ
バロイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、ヘプタノイルオ
キシ、オクタノイルオキシ、ノナノイルオキシ、デカノ
イルオキシ、ラウロイルオキシ、ミリストイルオキシ、
パルミトイルオキシ、ステアロイルオキシ基などのＣ
_1-30脂肪族アシルオキシ基（特に、Ｃ_1-20脂肪族アシル
オキシ基）等の脂肪族飽和又は不飽和アシルオキシ基；
アセトアセチルオキシ基；シクロペンタンカルボニルオ
キシ、シクロヘキサンカルボニルオキシ基などのシクロ
アルカンカルボニルオキシ基等の脂環式アシルオキシ
基；ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ基などの芳香
族アシルオキシ基などが例示できる。

【００４１】前記置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及び
Ｒ⁶は、同一又は異なっていてもよい。また、前記式
（１）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のう
ち少なくとも２つが互いに結合して、二重結合、または
芳香族性又は非芳香属性の環を形成してもよい。好まし
い芳香族性又は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜
１０員環程度であり、複素環又は縮合複素環であっても
よいが、炭化水素環である場合が多い。このような環に
は、例えば、非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環な
どの置換基を有していてもよいシクロアルカン環、シク
ロヘキセン環などの置換基を有していてもよいシクロア
ルケン環など）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネ
ン環などの置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素
環など）、ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有
していてもよい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。
前記環は、芳香族環で構成される場合が多い。前記環
は、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル
基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、
アミノ基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよ
い。

【００４２】前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶、又
はＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２
つが互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若
しくは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示される
Ｎ−置換環状イミド基がさらに１又は２個以上形成され
ていてもよい。例えば、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及び
Ｒ⁶が炭素数２以上のアルキル基である場合、このアル
キル基を構成する隣接する２つの炭素原子を含んで前記
Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。また、
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２つ
が互いに結合して二重結合を形成する場合、該二重結合
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。さらに、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち
少なくとも２つが互いに結合して芳香族性若しくは非芳
香族性の環を形成する場合、該環を構成する隣接する２
つの炭素原子を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成
されていてもよい。さらに、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵及びＲ⁶、又はＲ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のう
ち少なくとも２つが互いに結合して形成された二重結合
又は芳香族性若しくは非芳香族性の環には、上記式
（１）中に示されるＮ−置換環状イミド基のＮ−ヒドロ
キシ体や、式（１）中に示される６員のＮ−置換環状イ
ミド基に対応する５員のＮ−置換環状イミド基若しくは
そのヒドロキシ体が形成されていてもよい。

【００４３】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる５員のＮ−置換環状イミド化合物が含まれる。

【化５】 （式中、Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、同一又は異なって、水素原子、
アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコ
キシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、ア
シル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ
基、ハロゲン原子を示す。Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰は、隣接する基同
士が互いに結合して芳香族性又は非芳香族性の環を形成
していてもよい。式（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素
原子を示す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘは前記に同じ。式
（1c）のベンゼン環には、式（1c）中に示されるＮ−置
換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよ
い）

【００４４】置換基Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基が含ま
れ、ハロアルキル基には、トリフルオロメチル基などの
炭素数１〜３０程度（特に、炭素数１〜２０程度）のハ
ロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアルコ
キシ基、置換オキシカルボニル基には、前記と同様の置
換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、シク
ロアルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボ
ニル基、アラルキルオキシカルボニル基など）が含まれ
る。また、アシル基としては前記と同様のアシル基（脂
肪族飽和又は不飽和アシル基、アセトアセチル基、脂環
式アシル基、芳香族アシル基等）などが例示され、アシ
ルオキシ基としては前記と同様のアシルオキシ基（脂肪
族飽和又は不飽和アシルオキシ基、アセトアセチルオキ
シ基、脂環式アシルオキシ基、芳香族アシルオキシ基
等）などが例示される。ハロゲン原子としては、フッ
素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ⁷〜Ｒ
¹⁰は、通常、水素原子、アルキル基、カルボキシル基、
置換オキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲン原子であ
る場合が多い。Ｒ⁷〜Ｒ¹⁰が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち
少なくとも２つが互いに結合して形成する環と同様であ
り、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２員環が好ま
しい。

【００４５】好ましい５員のＮ−置換環状イミド化合物
の代表的な例として、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α−メチルコハク酸イミド、
Ｎ−ヒドロキシ−α，α−ジメチルコハク酸イミド、
α，β−ビス（ペンタノイルオキシ）−Ｎ−ヒドロキシ
コハク酸イミド、α，β−ビス（ラウロイルオキシ）−
Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、α，β−ビス（ベンゾ
イルオキシ）−Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒ
ドロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒド
ロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシシクロヘキ
サンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−ヒドロキシフタル
酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−ペンチルオキシカルボ
ニルフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−ドデシルオ
キシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４−
フェノキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ
−４，５−ビス（ペンチルオキシカルボニル）フタル酸
イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４，５−ビス（ドデシルオキ
シカルボニル）フタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシ−４，
５−ビス（フェノキシカルボニル）フタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘッ
ト酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミド、Ｎ−
ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロ
キシピロメリット酸ジイミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシ
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドなどのＸが−ＯＲ
基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキシコ
ハク酸イミド、Ｎ−アセトキシ−α−メチルコハク酸イ
ミド、Ｎ−アセトキシ−α，α−ジメチルコハク酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、Ｎ−アセトキシ
ヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシ
シクロヘキサンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−アセト
キシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラブロモフタ
ル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロロフタル酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ−アセトキシハ
イミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリメリット酸イミ
ド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシピロメリット酸ジイミド、
Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシナフタレンテトラカルボン酸ジ
イミド、Ｎ−バレリルオキシフタル酸イミド、Ｎ−ラウ
ロイルオキシフタル酸イミド、Ｎ−ベンゾイルオキシフ
タル酸イミド、Ｎ，α，β−トリスアセトキシコハク酸
イミド、Ｎ−アセトキシ−α，β−ビス（プロピオニル
オキシ）コハク酸イミド、Ｎ−アセトキシ−α，β−ビ
ス（バレリルオキシ）コハク酸イミド、Ｎ−アセトキシ
−α，β−ビス（ラウロイルオキシ）コハク酸イミド、
Ｎ−アセトキシ−α，β−ビス（ベンゾイルオキシ）コ
ハク酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４−メトキシカルボニ
ルフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４−エトキシカル
ボニルフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４−ペンチル
オキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４
−ドデシルオキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ−アセ
トキシ−４−フェノキシカルボニルフタル酸イミド、Ｎ
−アセトキシ−４，５−ビス（メトキシカルボニル）フ
タル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４，５−ビス（エトキ
シカルボニル）フタル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４，
５−ビス（ペンチルオキシカルボニル）フタル酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシ−４，５−ビス（ドデシルオキシカ
ルボニル）フタル酸イミド、Ｎ−アセトキシ−４，５−
ビス（フェノキシカルボニル）フタル酸イミドなどのＸ
が−ＯＲ基で且つＲがアセチル基等のアシル基である化
合物；Ｎ−メトキシメチルオキシフタル酸イミド、Ｎ−
（２−メトキシエトキシメチルオキシ）フタル酸イミ
ド、Ｎ−テトラヒドロピラニルオキシフタル酸イミドな
どのＸが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシル基とアセター
ル又はヘミアセタール結合を形成可能な基である化合
物；Ｎ−メタンスルホニルオキシフタル酸イミド、Ｎ−
（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）フタル酸イミドなど
のＸが−ＯＲ基で且つＲがスルホニル基である化合物；
Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドの硫酸エステル、硝酸エ
ステル、リン酸エステル又はホウ酸エステルなどのＸが
−ＯＲ基で且つＲが無機酸からＯＨ基を除した基である
化合物などが挙げられる。

【００４６】また、好ましいイミド化合物には、下記式
で表される６員のＮ−置換環状イミド化合物も含まれ
る。

【化６】 （式中、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶は、同一又は異なって、水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シクロアルキ
ル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル
基、置換オキシカルボニル基、アシル基又はアシルオキ
シ基を示す。Ｒ¹⁷〜Ｒ²²は、同一又は異なって、水素原
子、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル
基、アシル基、アシルオキシ基、ニトロ基、シアノ基、
アミノ基、ハロゲン原子を示す。Ｒ¹⁷〜Ｒ²²は、隣接す
る基同士が結合して、式（1h）又は（1i）中に示される
６員のＮ−置換環状イミド骨格若しくはそのＮ−ヒドロ
キシ体、又は対応する５員のＮ−置換環状イミド骨格若
しくはそのＮ−ヒドロキシ体を形成していてもよい。Ｘ
は前記に同じ）

【００４７】置換基Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁶におけるハロゲン原子、
アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、カルボキシル基、置換オキシカ
ルボニル基、アシル基、アシルオキシ基としては、前記
Ｒ¹〜Ｒ⁶における対応する基と同様のものが例示され
る。

【００４８】置換基Ｒ¹⁷〜Ｒ²²において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
置換オキシカルボニル基には、前記と同様の置換オキシ
カルボニル基（アルコキシカルボニル基、シクロアルキ
ルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
アラルキルオキシカルボニル基など）が含まれる。ま
た、アシル基としては前記と同様のアシル基（脂肪族飽
和又は不飽和アシル基、アセトアセチル基、脂環式アシ
ル基、芳香族アシル基等）などが例示され、アシルオキ
シ基としては前記と同様のアシルオキシ基（脂肪族飽和
又は不飽和アシルオキシ基、アセトアセチルオキシ基、
脂環式アシルオキシ基、芳香族アシルオキシ基等）など
が例示される。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、
臭素原子が例示できる。置換基Ｒ¹⁷〜Ｒ²²は、通常、水
素原子、炭素数１〜４程度の低級アルキル基、カルボキ
シル基、置換オキシカルボニル基、ニトロ基、ハロゲン
原子である場合が多い。

【００４９】好ましい６員のＮ−置換環状イミド化合物
の代表的な例として、例えば、Ｎ−ヒドロキシグルタル
イミド、Ｎ−ヒドロキシ−α，α−ジメチルグルタルイ
ミド、Ｎ−ヒドロキシ−β，β−ジメチルグルタルイミ
ド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−デカリンジカルボン酸イ
ミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシ−１，８；４，５−デカ
リンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，
８−ナフタレンジカルボン酸イミド（Ｎ−ヒドロキシナ
フタル酸イミド）、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシ−１，８；
４，５−ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドなどのＸ
が−ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセ
トキシグルタルイミド、Ｎ−アセトキシ−α，α−ジメ
チルグルタルイミド、Ｎ−アセトキシ−β，β−ジメチ
ルグルタルイミド、Ｎ−アセトキシ−１，８−デカリン
ジカルボン酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジアセトキシ−１，
８；４，５−デカリンテトラカルボン酸ジイミド、Ｎ−
アセトキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド
（Ｎ−アセトキシナフタル酸イミド）、Ｎ，Ｎ′−ジア
セトキシ−１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸ジイミド、Ｎ−プロピオニルオキシ−１，８−ナフタ
レンジカルボン酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（プロピオニ
ルオキシ）−１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボ
ン酸ジイミド、Ｎ−ヘキサノイルオキシ−１，８−ナフ
タレンジカルボン酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヘキサノ
イルオキシ）−１，８；４，５−ナフタレンテトラカル
ボン酸ジイミドなどの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で
且つＲがアセチル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メ
トキシメチルオキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸
イミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（メトキシメチルオキシ）−
１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン酸ジイミド
などの式（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲがヒドロ
キシル基とアセタール又はヘミアセタール結合を形成可
能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオキシ−
１，８−ナフタレンジカルボン酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス（メタンスルホニルオキシ）−１，８；４，５−ナフ
タレンテトラカルボン酸ジイミドなどの式（１）におけ
るＸが−ＯＲ基で且つＲがスルホニル基である化合物；
Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミ
ド又はＮ，Ｎ′−ジヒドロキシ−１，８；４，５−ナフ
タレンテトラカルボン酸ジイミドの硫酸エステル、硝酸
エステル、リン酸エステル又はホウ酸エステルなどの式
（１）におけるＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸からＯＨ
基を除した基である化合物などが挙げられる。

【００５０】前記イミド系化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基
で且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ₂ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水グル
タル酸などの飽和又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水
物、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタ
ル酸（１，２−シクロヘキサンジカルボン酸無水物）、
１，２，３，４−シクロヘキサンテトラカルボン酸１，
２−無水物、１，８−デカリンジカルボン酸無水物、メ
チルシクロヘキセントリカルボン酸無水物などの飽和又
は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂環式
多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイミッ
ク酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環式多
価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロモ無
水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニトロフ
タル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無
水メリット酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸無水
物、２，３；６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれる。

【００５１】前記イミド系化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基
で且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、例
えば、対応するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロ
キシ環状イミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利
用して、所望の保護基を導入することにより調製するこ
とができる。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド
は、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応さ
せたり、塩基の存在下でアセチルハライドを反応させる
ことにより得ることができ、また、Ｎ−アセトキシ−
１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドは、Ｎ−ヒドロ
キシ−１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドに無水酢
酸を反応させたり、塩基の存在下でアセチルハライドを
反応させることにより得ることができる。なお、前記イ
ミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で且つＲがヒドロキシ
ル基の保護基である化合物は、これら以外の方法で製造
することも可能である。

【００５２】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物から誘導されるＮ−ヒドロキシイミド
化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシグルタルイミドな
ど）、芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタレンジカルボン
酸イミド、Ｎ，Ｎ′−ジヒドロキシ−１，８；４，５−
ナフタレンテトラカルボン酸ジイミドなど）；及び該Ｎ
−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキシル基に保護基を
導入することにより得られる化合物などが含まれる。

【００５３】式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨
格を有するイミド系化合物は、反応において、単独で又
は２種以上組み合わせて使用できる。前記イミド系化合
物は反応系内で生成させてもよい。

【００５４】前記イミド系化合物触媒の使用量は、基質
１モルに対して、例えば０．００１〜１モル、好ましく
は０．０１〜０．５モル、さらに好ましくは０．１〜
０．３モル程度である。

【００５５】本発明では、前記イミド系化合物とともに
助触媒を用いることもできる。助触媒として、金属化合
物が挙げられる。前記イミド系化合物と金属化合物とを
併用することにより、反応速度や反応の選択性が向上す
る場合がある。

【００５６】金属化合物を構成する金属元素としては、
特に限定されないが、周期表２〜１５族の金属元素を用
いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属
元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素とし
て、周期表２族元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなど）、
３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元素、アクチノイド元素
など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなど）、５族元素
（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗなど）、７族元
素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕなど）、９族元
素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ
など）、１１族元素（Ｃｕなど）、１２族元素（Ｚｎな
ど）、１３族元素（Ｂ、Ａｌ、Ｉｎなど）、１４族元素
（Ｓｎ、Ｐｂなど）、１５族元素（Ｓｂ、Ｂｉなど）な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期
表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、と
りわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。金属元素
の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度であ
る。

【００５７】金属化合物としては、前記金属元素の単
体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン
化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩など
の無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン
酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、
錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成す
る配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ
（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、
アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカ
ルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、
ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ₂Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合
物、ＮＨ ₃（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ₂（ニトロ）、ＮＯ
₃（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合
物などが挙げられる。

【００５８】金属化合物の具体例としては、例えば、コ
バルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバ
ルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫
酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトな
どの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体
等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。
また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウ
ム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、
硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウム
などの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バ
ナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバ
ナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合
物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応
する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は
２種以上組み合わせて使用できる。

【００５９】前記金属化合物の使用量は、例えば、前記
イミド系化合物１モルに対して、０．００１〜１０モル
程度、好ましくは０．００５〜３モル程度である。

【００６０】本発明では、また、助触媒として、少なく
とも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元
素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンタ
ーイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。
助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度
や反応の選択性が向上する場合がある。

【００６１】前記有機塩において、周期表１５族元素に
は、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６
族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ま
しい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げら
れ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。

【００６２】前記元素の原子に結合する有機基には、置
換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基など
が含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数１〜３０程度（好ましくは炭素数１〜２
０程度）の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（ア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）；シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどの炭素数３〜８程度の脂環
式炭化水素基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素
基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン
原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例え
ば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基
など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、アルキル基（例えば、メチル、
エチル基などのＣ_1-4アルキル基など）、シクロアルキ
ル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基な
ど）、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基
には、炭素数１〜３０程度のアルキル基、炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基（特に、フェニル基又はナフ
チル基）などが含まれる。前記置換オキシ基には、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など
が含まれる。

【００６３】前記有機塩の代表的な例として、有機アン
モニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩
などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム
塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムク
ロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル
（ヘキサデシル）アンモニウムクロリド、ジ（オクタデ
シル）ジメチルアンモニウムクロリドなどの第４級アン
モニウムクロリド、及び対応する第４級アンモニウムブ
ロミドなどの、窒素原子に４つの炭化水素基が結合した
第４級アンモニウム塩；ジメチルピペリジニウムクロリ
ド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリ
ニウムクロリドなどの環状第４級アンモニウム塩などが
挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例として
は、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）ホ
スホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウム
クロリドなどの第４級ホスホニウムクロリド、及び対応
する第４級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に４
つの炭化水素基が結合した第４級ホスホニウム塩などが
挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、ト
リエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスル
ホニウムイオジドなどの、イオウ原子に３つの炭化水素
基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。

【００６４】また、前記有機塩には、メタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデ
カンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例え
ば、Ｃ _6-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼン
スルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよい
アリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ_6-18アルキル−アリ
ールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イ
オン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交
換体）なども含まれる。

【００６５】前記有機塩の使用量は、例えば、前記イミ
ド系化合物１モルに対して、０．００１〜０．１モル程
度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度である。

【００６６】また、本発明の方法では、系内に、ラジカ
ル発生剤やラジカル反応促進剤を存在させてもよい。こ
のような成分として、例えば、ハロゲン（塩素、臭素な
ど）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸など）、過
酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド
（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシドなど）などが挙げ
られる。これらの成分を系内に存在させると、反応が促
進される場合がある。前記成分の使用量は、前記イミド
系化合物１モルに対して、例えば０．００１〜０．１モ
ル程度である。

【００６７】［硝酸若しくは亜硝酸又はこれらの塩］本
発明では、ニトロ化剤として硝酸若しくは亜硝酸又はこ
れらの塩（以下、単に「硝酸類」と称する場合がある）
を用いる。これらは単独で用いてもよく２種以上を組み
合わせて用いてもよい。

【００６８】硝酸や亜硝酸の塩としては、ナトリウム
塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；マグネシウム
塩、カルシウム塩、バリウム塩などのアルカリ土類金属
塩；銀塩、アルミニウム塩、亜鉛塩などのその他の金属
塩などが挙げられる。好ましい塩には、硝酸又は亜硝酸
のアルカリ金属塩等が含まれる。

【００６９】前記硝酸類は、そのまま反応系に供給して
もよいが、水溶液などの溶液の形態で反応系に供給する
ことができる。また、これらは反応系中で生成させて反
応に用いることもできる。

【００７０】本発明の主な特徴は、水含有量が１５重量
％以下の硝酸類を有機基質に対して１．８〜２．５当量
用いて反応させることにある。

【００７１】本発明における硝酸類の水含有量は、１５
重量％以下のものに限って用いられる。水含有量が１５
重量％を越える場合は、硝酸類の添加に伴って反応系に
過剰な水が存在することとなり、イミド系化合物触媒の
加水分解が促進されるためか、ニトロ化反応が阻害され
る。その結果、反応系に残存する硝酸により基質の酸化
反応が進行し、基質の酸化物が副生しやすくなる。

【００７２】硝酸類は、系内に一括して供給してもよ
く、逐次的（連続的又は間欠的）に供給してもよい。

【００７３】本発明における硝酸類の使用量は、基質に
対して１．８〜２．５当量（基質１モルに対して１．８
〜２．５モル）の範囲内に限定される。１．８当量より
少ない場合は、反応の進行が遅く、複数個のニトロ基を
導入することが困難となる。一方、２．５当量を越える
と、イミド系化合物の加水分解が促進され、反応の進行
が妨げられる。

【００７４】［反応］本発明の製造法では、有機基質を
前記式（Ｉ）で表される環状イミド骨格を有するイミド
系化合物の存在下で前記硝酸類と反応させる。

【００７５】反応は溶媒の存在下又は不存在下で行われ
る。溶媒としては、基質の種類等に応じて適宜選択で
き、例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸；アセト
ニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニ
トリル類；ホルムアミド、アセトアミド、ジメチルホル
ムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類；ｔ−ブタノール、ｔ−アミルアルコールなどのア
ルコール類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水
素；ベンゼンなどの芳香族炭化水素；クロロホルム、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼ
ンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼン、ニトロ
メタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類；及びこれら
の混合溶媒などを使用できる。

【００７６】溶媒として、酢酸などの有機酸、ベンゾニ
トリルなどのニトリル類、クロロベンゼンやトリフルオ
ロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素等を用いる
場合が多い。

【００７７】反応系中の水の濃度は、４重量％以下（例
えば０．１〜４重量％）、好ましくは３重量％以下（例
えば０．１〜３重量％）である。水含有量が４重量％を
越える場合は、反応系に過剰な水が存在することとな
り、イミド系化合物触媒の加水分解が促進されるためか
ニトロ化反応が阻害され、収率の低下を引き起こす。

【００７８】反応温度は、基質の種類等に応じて、例え
ば０〜１５０℃、好ましくは５０〜１３０℃、さらに好
ましくは８０〜１２０℃程度の範囲から選択できる。反
応圧力は、常圧、加圧下の何れであってもよい。

【００７９】反応は不活性ガス（例えば、窒素、アルゴ
ンなど）の雰囲気下で行うことが好ましい。雰囲気中に
酸素原子含有ガスが存在すると、基質に酸素原子含有基
が導入された化合物が生成することがある。反応は、回
分式、半回分式、連続式などの慣用の方法により行うこ
とができる。

【００８０】反応終了後、反応生成物は、例えば、濾
過、濃縮、蒸留、抽出、晶析、再結晶、吸着、カラムク
ロマトグラフィーなどの分離手段やこれらを組み合わせ
ることにより分離精製できる。

【００８１】この方法によれば、温和な条件下でニトロ
化反応が円滑に進行し、複数個のニトロ基が導入された
対応するニトロ化合物が生成する。例えば、基質として
前記不飽和結合に隣接する部位に炭素−水素結合を有す
る構造（ａ）を含む化合物を用いると、該炭素−水素結
合に係る炭素原子がニトロ化される。また、基質として
メチン炭素原子を有する構造（ｂ）を含む化合物を用い
ると、該メチン炭素原子がニトロ化される。さらに、基
質として非芳香族性環状炭化水素構造（ｃ）を含む化合
物を用いると、環を構成する炭素原子にニトロ基が導入
され、例えば、シクロアルカン環構造（c1）を含む化合
物からは対応するニトロシクロアルカン環構造を含む化
合物が生成する。また、ヘテロ原子の隣接位に炭素−水
素結合を有する非芳香族性複素環を有する構造（ｄ）を
含む化合物では、該炭素−水素結合に係る炭素原子がニ
トロ化され、直鎖状アルカン構造（ｅ）を含む化合物か
らは対応するニトロアルカン構造を含む化合物などが生
成する。従って、上記の構造を２以上含む化合物を基質
として用いた場合、複数個のニトロ基が導入された化合
物を容易に得ることができる。

【００８２】

【発明の効果】本発明の方法によれば、水含有量及び使
用量が特定された硝酸類と特定構造のイミド系化合物と
を組み合わせて用いるため、ニトロ化反応が円滑に進行
し、対応する複数個のニトロ基を含有する化合物を温和
な条件下で簡易に且つ収率よく製造できる。また、温和
な条件で反応を行うことができるので、反応の選択性高
く、触媒（イミド系化合物）の失活を抑制できるととも
に、アダマンタンなどの昇華性の物質を基質として用い
ても、昇華によるトラブルや収率の低下等を防止でき
る。

【００８３】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定
されるものではない。なお、反応生成物の同定は、ＮＭ
Ｒ、ＩＲ、ＧＣ−ＭＳにより行った。

【００８４】実施例１ フラスコに、１，３−ジメチルアダマンタン３．０ｇ
（１８ミリモル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．５
９ｇ（３．６ミリモル）、９０重量％硝酸２．６ｇ（３
７ミリモル）、及び酢酸２７．０ｇを入れ、窒素雰囲気
下、攪拌しながら１００℃で８時間反応させた。反応混
合物をガスクロマトグラフィーにより分析した。その結
果、１，３−ジメチルアダマンタンの転化率は１００％
であり、１，３−ジメチル−５，７−ジニトロアダマン
タンが収率３８％で生成していた。また、１，３−ジメ
チル−５−ニトロアダマンタンが収率２０％、１−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルアダマンタンが収率１％、１
−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−７−ニトロアダマン
タンが収率１７％で生成していた。さらに、１−ヒドロ
キシ−３，５−ジメチルアダマンタン、及び１，３−ジ
メチル−５−ニトロアダマンタンにオキソ基が導入され
た化合物、並びに１，３−ジヒドロキシ−５，７−ジメ
チルアダマンタンの生成が確認された。

【００８５】比較例１ 実施例１において、６０重量％硝酸（３７ミリモル）を
用いた以外は、実施例１と同様の操作で反応を行った。
その結果、１，３−ジメチルアダマンタンの転化率は１
００％であり、１，３−ジメチル−５，７−ジニトロア
ダマンタンが収率２１％で生成していた。また、１，３
−ジメチル−５−ニトロアダマンタンが収率４０％、１
−ヒドロキシ−３，５−ジメチルアダマンタンが収率２
％、１−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−７−ニトロア
ダマンタンが収率１６％で生成していた。

【００８６】実施例２ フラスコに、１，３−ジメチルアダマンタン１００ｇ
（０．６モル）、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド２０ｇ
（０．１２モル）、及び酢酸４００ｇを入れ、窒素雰囲
気下、温度１００℃で、攪拌しながら９０重量％硝酸８
５ｇ（１．２モル）を１．５時間かけて滴下した。滴下
終了後、４．５時間攪拌を続けて反応させた。得られた
反応混合物をガスクロマトグラフィーにより分析した。
その結果、１，３−ジメチルアダマンタンの転化率は１
００％であり、１，３−ジメチル−５，７−ジニトロア
ダマンタンが収率３３％で生成していた。また、１，３
−ジメチル−５−ニトロアダマンタンが収率１６％、１
−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−７−ニトロアダマン
タンが収率１９％で生成していた。

【００８７】比較例２ 実施例２において、９０重量％硝酸を５５ｇ（０．７９
モル）用いた以外は、実施例２と同様の操作で反応を行
った。その結果、１，３−ジメチルアダマンタンの転化
率は９４％であり、１，３−ジメチル−５，７−ジニト
ロアダマンタンが収率４％で生成していた。また、１，
３−ジメチル−５−ニトロアダマンタンが収率６６％、
１−ヒドロキシ−３，５−ジメチル−７−ニトロアダマ
ンタンが収率２％で生成していた。

【００８８】実施例３ フラスコに、アダマンタン１００ｇ（０．７３モル）、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド２４ｇ（０．１５モル）、
及び酢酸４００ｇを入れ、窒素雰囲気下、温度１００℃
で、攪拌しながら９０重量％硝酸１０３ｇ（１．５モ
ル）を１．５時間かけて滴下した。滴下終了後、４．５
時間攪拌を続けて反応させた。得られた反応混合物をガ
スクロマトグラフィーにより分析した。その結果、アダ
マンタンの転化率は１００％であり、１，３−ジニトロ
アダマンタンが収率２８％で生成していた。１−ニトロ
アダマンタンが収率９％、１−ヒドロキシ−３−ニトロ
アダマンタンが収率１２％で生成していた。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 有機基質を、下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、ｎは０又は１を示す。Ｘは酸素原子又は−ＯＲ
   基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）
   を示す］で表される環状イミド骨格を有するイミド系化
   合物の存在下、水含有量が１５重量％以下の硝酸若しく
   は亜硝酸又はこれらの塩を有機基質に対して１．８〜
   ２．５当量用いて反応させて、対応するニトロ化合物を
   生成させるニトロ化合物の製造法。
2. 【請求項２】 イミド系化合物が、下記式（１） 【化２】 ［式中、ｎは０又は１を示す。Ｘは酸素原子又は−ＯＲ
   基（Ｒは水素原子又はヒドロキシル基の保護基を示す）
   を示す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は、同一又は
   異なって、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリ
   ール基、シクロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
   シ基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシ
   ル基又はアシルオキシ基を示し、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、
   Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２つが互いに結合して二重
   結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成して
   もよい。前記Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、又は
   Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうち少なくとも２つ
   が互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若し
   くは非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ
   −置換環状イミド基がさらに１又は２個以上形成されて
   いてもよい］で表される化合物である請求項１記載のニ
   トロ化合物の製造法。
3. 【請求項３】 有機基質が、（ａ）不飽和結合に隣接す
   る部位に炭素−水素結合を有する構造、（ｂ）メチン炭
   素原子を有する構造、（ｃ）非芳香族性環状炭化水素を
   有する構造、（ｄ）ヘテロ原子の隣接位に炭素−水素結
   合を有する非芳香族性複素環を有する構造及び（ｅ）直
   鎖状アルカン構造からなる群から選択された２以上の同
   一又は異なる構造を有する化合物である請求項１記載の
   ニトロ化合物の製造法。