JP2003157517A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エラーレートが低く、オフトラックの小さ
い、ＭＲヘッド対応磁気記録媒体の提供。 【解決手段】 非磁性支持体、下塗層、磁性層、バック
コート層からなる磁気記録媒体において、磁性層の厚さ
を0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａを3.２ｎｍ
以下に設定し、磁性層とスライダ材料との摩擦係数をμ
_mSL 、磁性層とＳＵＳとの摩擦係数をμ_mSUS、バックコ
ート層とＳＵＳとの摩擦係数をμ_BSUSとした時の［（μ
_mSL ）／（μ_mSUS）］を0.７〜1.３に設定し、かつ
［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］を0.８〜1.５に設定する。
これにより、オフトラックが小さい優れた磁気記録媒体
が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、記録容量、アクセ
ス速度、転送速度が高い磁気記録媒体に関し、特に磁気
抵抗効果型素子（ＭＲ素子）を利用した再生ヘッド（以
下、ＭＲヘッド）を使用するデータバックアップ用磁気
記録媒体に関する。 【０００２】 【従来の技術および発明が解決しようとする課題】磁気
テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピユ
ータ用テープなど種々の用途があるが、特にデータバッ
クアップ用テープの分野ではバックアップ対象となるハ
ードディスクの大容量化に伴い、１巻当たり数十ＧＢ以
上の記憶容量のものが商品化されており、今後ハードデ
ィスクのさらなる大容量化に対応するためバックアップ
テープの高容量化は不可欠である。また、アクセス速
度、転送速度を大きくするため、テープの送り速度、テ
ープとヘッド間の相対速度を高めることが必要不可欠で
ある。 【０００３】バックアップテープ１巻当たりの高容量化
のためには、テープ全厚を薄くして１巻あたりのテープ
長さを長くすること、磁性層厚さを0.３μｍ以下と極め
て薄くすることで厚さ減磁を小さくして記録波長を短く
することと共に、トラック幅（テープ上の信号パターン
幅）を１５μｍ以下と狭くして幅方向の記録密度を高く
することが必要である。 【０００４】磁性層厚さを0.３μｍ以下と極めて薄くす
ると、耐久性が劣化したりするので、非磁性支持体と磁
性層との間に少なくとも一層の下塗層を設ける必要があ
る。また、記録波長を短くすると、磁性層と磁気ヘッド
とのスペーシングの影響が大きくなるので、磁性層に大
きな突起があると、スペーシングロスにより、出力ピー
クの半値幅（以下、ＰＷ５０）が広くなったり出力が低
下したりして、エラーレートが高くなる。 【０００５】トラック幅を１５μｍ以下と狭くして幅方
向の記録密度を高くすると磁気記録媒体からの漏れ磁束
が小さくなるため、再生ヘッドに微小磁束でも高い出力
が得られる磁気抵抗効果型素子を使用した再生ヘッド
（以下、ＭＲヘッド）を使用する必要がある。 【０００６】従来、ＭＲヘッド対応の磁気記録媒体にお
いては、磁気記録媒体の磁束（残留磁束密度と厚さの
積）を特定の値に制御してＭＲヘッドの出力の歪を防止
したり（例えば特許文献１、２参照）、磁性層表面のへ
こみを特定の値以下にしてＭＲヘッドのサーマル・アス
ペリティを低減したり（例えば特許文献３参照）するこ
とが提案されている。 【０００７】 【特許文献１】特開平１１−２３８２２５号公報（特許
請求の範囲、段落番号０００７〜００１１、実施例） 【特許文献２】特開２０００−４０２１７号公報（特許
請求の範囲、段落番号０００６〜０００９、実施例） 【特許文献３】特開２０００−４０２１８号公報（特許
請求の範囲、段落番号０００５〜００１４、００２３、
実施例、図２、図３） 【０００８】従来の磁気ヘッドは記録用の磁気誘導型ヘ
ッドと再生用の磁気誘導型ヘッドとを貼り合わせたチッ
プをそのまま使用する。一方、図２および図３に模式的
に示すようにＭＲヘッド２０は、記録用の磁気誘導型の
記録ヘッド２１と複合した形でスライダ２２に埋めこん
で使用される。これらの図において、符号２０ａはＭＲ
素子、２１ａ・２１ｂは記録ヘッド２１を構成する磁気
素子、２１ｃは書き込みギャップ、２３はシールド材を
示す。また、ＭＲヘッド２０はスライダ面２２ａより２
５ｎｍ程度引っ込んだ状態で埋め込まれている。すなわ
ち、従来のヘッドは非常に小さいチップからなり、ナイ
フエッジが磁気テープに食い込むような形態で走行する
のに対して、図２および図３に示したようなＭＲヘッド
２０は大きなスライダ２２に引っ込んだ状態で埋め込ま
れているので、スライダ２２に対して磁気テープ３０が
接触しながら走行する。また、磁気テープ３０がＭＲヘ
ッド２０の方に膨らむようにして磁気テープ３０とＭＲ
ヘッド２０とがコンタクトする。このようにコンタクト
形態が従来とは大幅に異なっているので、一口にスペー
シングロスの低減といっても、磁気テープに要求される
特性は全く異なっている。さらに、ＭＲヘッド２０はＭ
Ｒ素子２０ａが非常に薄い薄膜から構成されるので、摩
耗し易いという問題点もある。なお、図２および図３に
示したごとく、磁気テープ３０がフォワード方向および
バック方向のいずれの方向に走行しても記録・再生でき
るように、ＭＲヘッド２０および記録ヘッド２１は通常
は対で設けられ、また複数のトラックを同時に読み書き
できるように図２の左右方向に複数設けられる。 【０００９】加えて、ＭＲヘッドはトラック幅が非常に
狭いので、ＭＲヘッドのトラッキングサーボのために、
サーボ信号が設けられる。トラックサーボ方式には磁気
サーボ方式や光学サーボ方式があるが、前者は、サーボ
バンドを磁気記録により磁性層に形成し、これを磁気的
に読み取ってサーボトラッキングを行うものであり、後
者は、凹部アレイからなるサーボバンドをレーザー照射
等でバックコート層に形成し、これを光学的に読み取っ
てサーボトラッキングを行うものである。なお、これら
以外に、磁気サーボ方式にはバックコート層にも磁性を
持たせ、このバックコート層に磁気サーボ信号を記録す
る方式があり、また光学サーボ方式にはバックコート層
に光を吸収する材料等で光学サーボ信号を記録する方式
もある。 【００１０】テープの送り速度やテープとヘッド間の相
対速度の高速化に対応するためには、サーボ信号をトレ
ースしながら高速走行する必要があるが、スライダ材料
（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）やガイド
ローラ材料等に対する磁性層やバックコート層との摩擦
係数の最適化が不充分であると、磁気テ−プが蛇行して
トラッキングずれ（オフトラック）が起こり、ＰＷ５０
が広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが
高くなるという問題がある。 【００１１】本発明は、ＭＲヘッドに対応した磁気テー
プのスペーシングロスの低減と、磁気テープの蛇行によ
るオフトラックの低減とを図ることにより、エラーレー
トを向上させることを目的とする。また、本発明の磁気
記録媒体と組み合わせて使用されるＭＲヘッドの摩耗低
減を目的とする。 【００１２】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、磁性層とスライ
ダ材料（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）と
の動摩擦係数（以下単に摩擦係数という）をμ_mSL 、磁
性層とＳＵＳ（ＳＵＳ３０４、以下単にＳＵＳという）
との摩擦係数をμ_mSUS、バックコート層とＳＵＳとの摩
擦係数をμ_BSUSとした時の（μ_mSL ／μ_mSUS）および
（μ_mSL ／μ_BSUS）を特定の値に制御することにより、
磁気テ−プの蛇行によるオフトラックが低減され、エラ
ーレートが向上することを見出した。このオフトラック
低減によるエラーレートの向上効果は、トラック幅を１
５μｍ以下とした場合に特に大きい。 【００１３】本発明は、以上の知見をもとにして完成さ
れたもので、非磁性支持体上の一面に、少なくとも一層
の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面にバ
ックコート層を有する磁気記録媒体において、磁性層の
厚さが0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａが3.２
ｎｍ以下で、磁性層とスライダ材料との摩擦係数をμ
_mSL 、磁性層とＳＵＳとの摩擦係数をμ_mSUS、バックコ
ート層とＳＵＳとの摩擦係数をμ_BSUS、とした時の
［（μ_mSL ）／（μ_mSUS）］が0.７〜1.３で、かつ
［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］が0.８〜1.５である磁気記
録媒体に係るものである。なお、本発明でいう摩擦係数
は先にも述べたように動摩擦係数を意味し、その具体的
な測定法は後述する実施例で説明する。 【００１４】 【発明の実施の形態】非磁性支持体上の少なくとも一面
に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形
成された磁気記録媒体において、磁性層の厚さを0.３μ
ｍ以下とした磁気記録媒体は、磁性層が極めて薄く厚み
損失が小さいので磁気ヘッド走行方向の記録密度が高
い。磁性層の厚さは、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.
０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍが
さらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好まし
い。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では
均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失
により、再生出力が小さくなるためである。 【００１５】磁性層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は3.
２ｎｍ以下が好ましく、0.５〜3.２ｎｍがより好まし
く、0.７〜2.９ｎｍがさらに好ましく、0.７〜2.５ｎｍ
がいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、磁性層
のＲａが0.５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定に
なり、Ｒａが3.２ｎｍを越えると、スペーシングロスに
より、ＰＷ５０が広くなったり出力が低下したりして、
エラーレートが高くなるためである。 【００１６】磁性層の凹凸の中心値をＰ₀ 、磁性層の最
大の凸量をＰ₁ とした時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）は、３０ｎｍ
以下が好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましく、５〜２
５ｎｍがさらに好ましく、５〜２０ｎｍがいっそう好ま
しい。この範囲が好ましいのは、磁性層の（Ｐ₁ −Ｐ
₀ ）が５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定になる
場合があり、（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）が３０ｎｍを越えると、ス
ペーシングロスにより、ＰＷ５０が広くなったり出力が
低下したりして、エラーレートが高くなるためである。
また、（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）を３０ｎｍ以下にすると、ＭＲヘ
ッドとの衝突によるサーマル・アスペリティの低減にも
有効である。さらに、上記の条件を満たすと共に、磁性
層の最大の凸量をＰ₁ 、順次第２番目、第３番目、第４
番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸
量をＰ₂ 、Ｐ₃ 、Ｐ₄ 、Ｐ₅ 、・・・、Ｐ₁₉、Ｐ₂₀とし
た時の（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）が５ｎｍ以下であることが好まし
い。（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）は1.８ｎｍ以下がより好ましく、1.
５ｎｍ以下がさらに好ましく、1.０ｎｍ以下が特に好ま
しい。この範囲が好ましいのは、（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を５ｎ
ｍ（より好ましくは1.８ｎｍ）以下にすると、スライダ
（アルミナ／チタニア／カーバイド）から約２５ｎｍ引
っ込んで埋め込まれたＭＲヘッドと磁気テープが均一に
当たるのでコンタクトが良くなり、ＰＷ５０の低減と出
力の向上によって、エラーレートが低くなるためであ
る。また、このような均一な突起があると、摩擦係数が
低くなると共に、ＭＲスライダ（ＡｌＴｉＣ；アルミナ
／チタニア／カーバイド）との引っ掛かりが低減され、
スムーズな走行性が得られるという副次的な効果もあ
る。なお、最大の凸量と第２０番目の凸量の差が重要な
理由は、ＭＲヘッドがスライダ面から約２５ｎｍ引っ込
んだ形態で埋め込まれていることと関係があると考えら
れるが、明確な理由は不明である。現在のところは、実
験事実を述べるに留める。 【００１７】さらに、スライダに埋め込まれたＭＲヘッ
ドを使用する磁気テープでは、［（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）／Ｒ
ａ］は１２以下が好ましく、１０以下がさらに好まし
く、８以下がさらに好ましく、６以下がいっそう好まし
い。[ （Ｐ₁ −Ｐ₀ ）／Ｒａ ]について１２以下が好ま
しいのは、ＭＲ素子が磨耗した場合にも、ＭＲヘッドと
磁気テープが均一に当たり、ＰＷ５０が狭く出力が高く
維持されてエラーレートが低くなるためである。このよ
うな磁気テープは、磁性層に施すラッピング／ロータリ
／ティシュ処理（ＬＲＴ処理）の処理条件のコントロー
ルによって得られる。 【００１８】磁性層とスライダ材料（例えば、アルミナ
／チタニア／カーバイド）との摩擦係数をμ_mSL 、磁性
層とＳＵＳとの摩擦係数をμ_mSUS、バックコート層とＳ
ＵＳとの摩擦係数をμ_BSUSとした時の［（μ_mSL ）／
（μ_mSUS）］を0.７〜1.３に設定し、かつ［（μ_mSL ）
／（μ_BSUS）］を0.８〜1.５に設定すると、磁気テープ
の蛇行によるオフトラックが低減され、エラーレートが
向上する。この効果は、トラック幅が５μｍ以下の場合
に特に大きい。［（μ_mSL ）／（μ_mSUS）］が0.８５〜
1.１５で、かつ［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］が1.０〜1.
３であればより好ましく、［（μ_mSL ）／（μ_mSUS）］
が0.９〜1.１で、かつ［（μ_mSL ）／（μ _BSUS）］が1.
０〜1.３であればさらに好ましい。このような磁気テー
プは、（１）磁性層に高級脂肪酸のエステルとともに脂
肪酸アミドを含有させ、あるいは磁性層中の架橋剤量を
減少させる等の工夫を磁性層に施し、（２）バックコー
ト層に粒径３００ｎｍ〜４００ｎｍの大粒径カーボンブ
ラックと、粒径５ｎｍ〜２００ｎｍの小粒径カーボンブ
ラックとを含有させるとともに、（３）上記のＬＲＴ処
理（詳細は後述する）を磁性層に施すことにより得られ
る。 【００１９】磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／
ｍが好ましく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好まし
く、１６０〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。磁性層
の保磁力が１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を短くする
と反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ／ｍを越
えると磁気ヘッドによる記録が困難になることがある。 【００２０】長手方向の残留磁束密度と厚さの積は0.０
０１８〜0.０６μＴｍが好ましく、0.００３６〜0.０５
０μＴｍがより好ましく、0.００４〜0.０４５μＴｍが
さらに好ましく、0.００４〜0.０４０μＴｍがいっそう
好ましい。長手方向の残留磁束密度と厚さの積が0.００
１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さ
く、0.０６μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力
が歪みやすくなることがある。このような磁性層からな
る磁気記録媒体は、記録波長を短くでき、しかも、ＭＲ
ヘッドで再生した時の再生出力を大きくすることがで
き、さらには再生出力の歪を低減できて出力対ノイズ比
を大きくできるので好ましい。 【００２１】下塗層の厚さは、0.３〜3.０μｍが好まし
く、0.５〜2.５μｍがより好ましく、0.５〜2.０μｍが
さらに好ましく、0.５〜1.５μｍがいっそう好ましい。
下塗層の厚さが0.３μｍ未満では磁気記録媒体の耐久性
が悪くなる場合があり、3.０μｍを越えると磁気記録媒
体の耐久性向上効果が飽和するばかりでなく、磁気テー
プの場合は全厚が厚くなって、１巻当りのテープ長さが
短くなり、記憶容量が小さくなることがある。 【００２２】バックコート層の厚さは、0.２〜0.８μｍ
が好ましい。この範囲が好ましいのは、0.２μｍ未満で
は磁気記録媒体の走行性が悪くなり、0.８μｍを越える
と磁気記録媒体の全厚が厚くなって、１巻当りのテープ
長さが短くなり、記憶容量が小さくなるためである。バ
ックコート層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は２〜１５
ｎｍが好ましく、３〜８ｎｍがより好ましい。バックコ
ート層のＲａが２ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安
定になることがあり、Ｒａが１５ｎｍを越えると、裏写
により、磁性層の表面粗さが大きくなって、スペーシン
グロスが大きくなることがある。このようなバックコー
ト層は、粒径５ｎｍ〜１００ｎｍの小粒径カーボンブラ
ックと粒径３００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラッ
クとを、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラ
ック合計の添加量が無機粉体重量を基準にして６０〜９
８重量％となるように含有し、粒子径が0.１μｍ〜0.６
μｍの酸化鉄を、無機粉体重量を基準にして２〜４０重
量％含有させ、カレンダ処理を行うことによって得られ
る。なお、大粒径カーボンブラックの添加量は、通常、
小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％である。 【００２３】以下に、各構成要素毎の好ましい形態を述
べる。 〈非磁性支持体〉非磁性支持体の厚さは、7.０μｍ以下
が好ましく、2.０〜7.０μｍがより好ましく、２〜6.５
μｍがさらに好ましく、2.５〜6.０μｍがいっそう好ま
しい。この範囲の厚さの非磁性支持体が好ましいのは、
２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さく
なり、7.０μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テー
プ１巻当りの記憶容量が小さくなるためである。 【００２４】非磁性支持体の長手方向のヤング率は、非
磁性支持体の厚さによって異なるが、通常5.０７ＧＰａ
（５００kg／mm² ）以上のものが使用される。このヤン
グ率は6.０８ＧＰａ（６００kg／mm² ）以上が好まし
く、7.０９ＧＰａ（７００kg／mm² ）以上が好ましい。
また、非磁性支持体の厚さが5.０μｍ以下の場合は、１
0.１３ＧＰａ（１０００kg／mm² ）以上のヤング率のも
のが好ましく使用される。非磁性支持体の長手方向のヤ
ング率が6.０８ＧＰａ（６００kg／mm² ）未満では、磁
気テープの強度が弱くなったり、磁気テープの走行が不
安定になったりすることがある。 【００２５】非磁性支持体の長手方向のヤング率をＭ
Ｄ、幅方向のヤング率をＴＤとした時の比（ＭＤ／Ｔ
Ｄ）が0.６〜1.８である非磁性支持体を用いると、ＭＲ
ヘッドとの当たりが良くなるので好ましい。ＭＤ／ＴＤ
の好ましい範囲は、ヘリキャルスキャンタイプとリニア
レコーディングタイプとで異なっており、ヘリキャルス
キャンタイプで好ましいＭＤ／ＴＤの範囲は、0.６〜1.
２で、0.６〜1.０がより好ましく、0.６０〜0.８０がさ
らに好ましい。この範囲が好ましいのは、メカニズムは
現在のところ不明であるが、磁気ヘッドのトラックの入
り側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）が大
きくなるためである。リニアレコーディングタイプで
は、1.０〜1.８が好ましく、1.１〜1.７がより好まし
く、1.２〜1.６がさらに好ましい。この範囲が好ましい
のは、ヘッドタッチが良くなるためである。このような
非磁性支持体には、ポリエチレンナフタレートフィル
ム、芳香族ポリアミドフィルム、芳香族ポリイミドフィ
ルム等がある。 【００２６】〈下塗層〉上述のように、下塗層の厚さ
は、0.３〜3.０μｍが好ましく、0.５〜2.５μｍがより
好ましく、0.５〜2.０μｍがさらに好ましく、0.５〜1.
５μｍがいっそう好ましい。この範囲が好ましいのは、
0.３μｍ未満では磁気記録媒体の耐久性が悪くなる場合
があり、3.０μｍを越えると磁気記録媒体の耐久性向上
効果が飽和するばかりでなく、磁気テープの場合は全厚
が厚くなって、１巻当りのテープ長さが短くなり、記憶
容量が小さくなるためである。 【００２７】下塗層には、導電性改良の目的でカーボン
ブラック、塗料粘度やテープ剛性の制御を目的に非磁性
粒子を添加する。下塗層に使用する非磁性粒子として
は、酸化チタン、酸化鉄、アルミナ等があるが、酸化鉄
単独または酸化鉄とアルミナの混合系が使用される。下
塗層に、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、粒
径１０〜１００ｎｍのカーボンブラックを１５〜３５重
量％、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長５〜２００ｎ
ｍの非磁性の酸化鉄を３５〜８３重量％、必要に応じて
粒径１０〜１００ｎｍのアルミナを０〜２０重量％含有
させると、ウエット・オン・ウエットで、その上に形成
した磁性層の表面粗さが小さくなるので好ましい。な
お、非磁性酸化鉄は通常針状であるが、粒状または無定
形の非磁性酸化鉄を使用する場合には粒径５〜２００ｎ
ｍの酸化鉄が好ましい。なお、表面の平滑性を損なわな
い範囲で１００ｎｍ以上の大粒径カーボンブラックを添
加することを排除するものではない。その場合のカーボ
ンブラック量は、小粒径カーボンブラック量と大粒径カ
ーボンブラック量との和を上記範囲内にすることが好ま
しい。大粒径カーボンブラック量は通常、全カーボンブ
ラック量の２０重量％以下である。 【００２８】下塗層に添加するカーボンブラック（以
下、ＣＢともいう）としては、アセチレンブラック、フ
ァーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。
通常、粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものが使用される
が、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ましい。この
範囲が好ましいのは、ＣＢがストラクチャーを持ってい
るため、粒径が１０ｎｍ未満になるとＣＢの分散が難し
く、１００ｎｍを越えると平滑性が悪くなるためであ
る。ＣＢ添加量は、ＣＢの粒子径によって異なるが、１
５〜３５重量％が好ましい。この範囲が好ましいのは、
１５重量％未満では導電性向上効果が乏しく、３５重量
％を越えると効果が飽和するためである。粒径１５ｎｍ
〜８０ｎｍのＣＢを１５〜３５重量％使用するのがより
好ましく、粒径２０ｎｍ〜５０ｎｍのＣＢを２０〜３０
重量％用いるのがさらに好ましい。このような粒径・量
のカーボンブラックを添加することにより電気抵抗が低
減され、かつ走行むらが小さくなる。 【００２９】下塗層に添加する非磁性の酸化鉄として
は、針状の場合、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長
（粒径）５〜２００ｎｍのものが好ましく、粒状または
無定形のものでは、粒径５〜２００ｎｍが好ましい。粒
径0.０５〜１５０ｎｍがより好ましく、粒径0.０５〜１
００ｎｍがさらに好ましい。なお、針状のものが磁性層
の配向がよくなるのでより好ましい。添加量は、３５〜
８３重量％が好ましく、４０〜８０重量％がより好まし
く、５０〜７５重量％がさらに好ましい。この範囲の粒
径（針状の場合は短軸長）が好ましいのは、粒径５ｎｍ
未満では均一分散が難しく、２００ｎｍを越えると下塗
層と磁性層の界面の凹凸が増加するためである。この範
囲の添加量が好ましいのは、３５重量％未満では塗膜強
度向上効果が小さく、８３重量％を越えると却って塗膜
強度が低下することがあるためである。 【００３０】下塗層には酸化鉄に加えてアルミナを添加
してもよい。アルミナの粒径は、１０〜１００ｎｍが好
ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましく、３０〜１０
０ｎｍがさらに好ましい。粒径１０ｎｍ未満では均一分
散が難しく、１００ｎｍを越えると下塗層と磁性層の界
面の凹凸が増加することがある。アルミナの添加量は、
通常０〜２０重量％であるが、２〜１０重量％がより好
ましく、４〜８重量％がさらに好ましい。 【００３１】〈潤滑剤〉下塗層と磁性層からなる塗布層
に、役割の異なる潤滑剤を使用する。下塗層には全粉体
に対して0.５〜4.０重量％の高級脂肪酸を含有させ、0.
２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させる
と、磁気テープと走行系のヘッドおよびガイドローラ等
との摩擦係数が小さくなるので好ましい。高級脂肪酸の
添加量が0.５重量％未満では、摩擦係数低減効果が小さ
く、4.０重量％を越えると下塗層が可塑化してしまい強
靭性が失われることがある。また、この範囲の高級脂肪
酸のエステル添加が好ましいのは、0.５重量％未満で
は、摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を越えると
磁性層への移入量が多すぎるため、磁気テープと走行系
のヘッドおよびガイドローラ等が貼り付く等の副作用が
あるためである。 【００３２】磁性層に、強磁性粉末に対して0.２〜3.０
重量％の脂肪酸アミドを含有させ、0.２〜3.０重量％の
高級脂肪酸のエステルを含有させると、磁気テープと走
行系のキャプスタンやＭＲヘッドのスライダ等との摩擦
係数が小さくなるので好ましい。前記脂肪酸アミドの含
有量が0.２重量％未満ではヘッドスライダ／磁性層の摩
擦係数が大きくなりやすく、3.０重量％を越えるとブリ
ードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥が発生
することがある。脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレ
イン酸、リノール酸などの高級脂肪酸が使用される。脂
肪酸エステルとしては、ステアリン酸ブチル、ステアリ
ン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソ
オクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキ
シエチル、モノ−ステアリン酸無水ソルビタン、ジ−ス
テアリン酸無水ソルビタン、トリ−ステアリン酸無水ソ
ルビタンなどが使用される。脂肪酸アミドとしては、パ
ルミチン酸、ステアリン酸等の上記高級脂肪酸のアミド
が使用可能である。また、上記範囲の高級脂肪酸のエス
テル添加が好ましいのは、0.２重量％未満では摩擦係数
低減効果が小さく、3.０重量％を越えると磁気テープと
走行系のヘッドおよびガイドローラ等が貼り付く等の副
作用があるためである。なお、磁性層の潤滑剤と下塗層
の潤滑剤の相互移動を排除するものではない。ＭＲヘッ
ドのスライダとの摩擦係数は0.３０以下が好ましく、0.
２５以下がより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.
３０を越えると、スライダ汚れによるスペーシングロス
が起こりやすいためである。なお、0.１０未満は実現が
困難である。ＳＵＳとの摩擦係数は0.１０〜0.２５が好
ましく、0.１２〜0.２０がより好ましい。この範囲が好
ましいのは、0.１０未満になるとヘッドおよびガイドロ
ーラ部分で滑りやすく走行が不安定になり、0.２５を越
えるヘッドおよびガイドローラが汚れやすくなるためで
ある。また、［（μ_mSL ）／（μ_mSUS）］は0.７〜1.３
が好ましく、0.８〜1.２がより好ましい。この範囲が好
ましいのは、磁気テ−プの蛇行によるトラッキングずれ
（オフトラック）が小さくなるためである。 【００３３】〈磁性層〉磁性層の厚さは上述のように、
通常0.３μｍ以下で、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.
０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍが
さらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好まし
い。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では
均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失
により、再生出力が小さくなったり、当該磁性層におけ
る残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さ（δ）との積（Ｂｒδ）
が大きくなり過ぎて、ＭＲヘッドの飽和による再生出力
の歪が起こりやすくなるためである。また、上述のよう
に、磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ま
しく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好ましく、１６０
〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。磁性層の保磁力が
１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を短くした場合に反磁
界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ／ｍを越えると
磁気ヘッドによる記録が困難になることがある。長手方
向の残留磁束密度と厚さの積は0.００１８〜0.０６μＴ
ｍが好ましく、0.００３６〜0.０５０μＴｍがより好ま
しく、0.００４〜0.０４５μＴｍがさらに好ましく、0.
００４〜0.０４０μＴｍがいっそう好ましい。この範囲
が好ましいのは、0.００１８μＴｍ未満では、ＭＲヘッ
ドによる再生出力が小さく、0.０６μＴｍを越えるとＭ
Ｒヘッドによる再生出力が歪みやすいからである。 【００３４】磁性層に添加する磁性粉には、強磁性鉄系
金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉末が使用され
る。強磁性鉄系金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉
末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽
和磁化量は、強磁性鉄系金属粉末では、１２０〜２００
Ａ・ｍ² ／kg（１２０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好まし
く、１３０〜１８０Ａ・ｍ² ／kg（１３０〜１８０ｅｍ
ｕ／ｇ）がより好ましい。六方晶バリウムフェライト粉
末では、５０〜７０Ａ・ｍ² ／kg（５０〜７０ｅｍｕ／
ｇ）が好ましい。なお、この磁性層の磁気特性と、強磁
性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部
磁場1.２８ＭＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうも
のである。 【００３５】本発明の磁気記録媒体において使用する強
磁性鉄系金属粉末の平均長軸長としては、0.０３〜0.２
μｍが好ましく、0.０３〜0.１８μｍがより好ましく、
0.０４〜0.１５μｍがさらに好ましい。この範囲が好ま
しいのは、平均長軸長が0.０３μｍ未満となると、磁性
粉の凝集力が増大するため塗料中への分散が困難にな
り、0.２μｍより大きいと、保磁力が低下し、また粒子
の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。
また、六方晶バリウムフェライト粉末では、同様の理由
により、板径５〜２００ｎｍが好ましい。なお、上記の
平均長軸長、粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて
撮影した写真の粒子サイズを実測し、１００個の平均値
により求めたものである。また、この強磁性鉄系金属粉
末のＢＥＴ比表面積は、３５ｍ² ／ｇ以上が好ましく、
４０ｍ² ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ² ／ｇ以上が
最も好ましい。六方晶バリウムフェライト粉末のＢＥＴ
比表面積は、１〜１００ｍ² ／ｇ以上が好ましい。 【００３６】下塗層、磁性層に含有させる結合剤として
は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、塩化ビニル
−水酸基含有アルキルアクリレート共重合体、ニトロセ
ルロースなどの中から選ばれる少なくとも１種とポリウ
レタン樹脂との組み合わせを用いることができる。中で
も、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重
合体とポリウレタン樹脂を併用するのが好ましい。ポリ
ウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタン、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウ
レタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステル
ポリカーボネートポリウレタンなどがある。 【００３７】官能基としてＣＯＯＨ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ
₂ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₃ 、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ ［Ｍは
水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩］、ＯＨ、Ｎ
Ｒ'Ｒ''、Ｎ⁺ Ｒ''' Ｒ''''Ｒ''''' ［Ｒ' 、Ｒ''、
Ｒ''' 、Ｒ''''、Ｒ''''' は水素または炭化水素基］、
エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等の結
合剤が使用される。このような結合剤を使用するのは、
上述のように磁性粉等の分散性が向上するためである。
２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一
致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ₃ Ｍ基どうしの組
み合わせが好ましい。 【００３８】これらの結合剤は、強磁性粉末１００重量
部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重
量部の範囲で用いられる。特に、結合剤として、塩化ビ
ニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２
０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。 【００３９】これらの結合剤とともに、結合剤中に含ま
れる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤
を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソ
シアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を
複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート
類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ま
しい。これらの架橋剤は、結合剤１００重量部に対し
て、通常１０〜５０重量部の割合で用いられる。より好
ましくは１０〜３５重量部である。なお、磁性層に使用
する架橋剤の量を、下塗層に使用する量の１／２程度
（３０％〜６０％）にすれば、ＭＲヘッドのスライダに
対する摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲が
好ましいのは、３０％未満では、磁性層の塗膜強度が弱
くなりやすく、６０％を越えるとスライダに対する摩擦
係数を小さくするために、ＬＲＴ処理条件を強くする必
要があり、コストアップにつながるためである。 【００４０】導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来
公知のＣＢを添加することができる。これらのＣＢとし
ては、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サー
マルブラック等を使用できる。粒径が５ｎｍ〜１００ｎ
ｍのものが使用されるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍの
ものが好ましい。この範囲が好ましいのは、粒径が５ｎ
ｍ以下になるとＣＢの分散が難しく、１００ｎｍ以上で
は多量のＣＢを添加することが必要になり、何れの場合
も表面が粗くなり、出力低下の原因になるためである。
添加量は強磁性粉末に対して0.２〜５重量％が好まし
く、0.５〜４重量％がより好ましく、0.５〜3.５重量％
がさらに好ましく、0.５〜３重量％がいっそう好まし
い。この範囲が好ましいのは、0.２重量％未満では効果
が小さく、５重量％を越えるＣＢを添加すると、磁性層
表面が粗くなりやすいからである。 【００４１】〈バックコート層〉走行性向上を目的に、
厚さ0.２〜0.８μｍの従来公知のバックコート層を使用
できる。この範囲が良いのは、0.２μｍ未満では、走行
性向上効果が不充分であり、0.８μｍを越えるとテープ
全厚が厚くなって１巻当たりの記憶容量が小さくなるた
めである。バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数は0.１
０〜0.３０が好ましく、0.１０〜0.２５がより好まし
い。この範囲が好ましいのは、0.１０未満になるとガイ
ドローラ部分で滑りやすく走行が不安定になり、0.３０
を越えるとガイドローラが汚れやすくなるためである。
また、［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］は0.８〜1.５が好ま
しく、0.９〜1.４がより好ましい。この範囲が好ましい
のは、磁気テープの蛇行によるトラッキングずれ（オフ
トラック）が小さくなることがあるためである。 【００４２】バックコート層のカーボンブラック（Ｃ
Ｂ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラッ
ク、サーマルブラック等を使用できる。通常、小粒径カ
ーボンと大粒径カーボンを使用する。小粒径カーボンに
は、粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものを使用することが
できるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ま
しい。この範囲がより好ましいのは、粒径が１０ｎｍ以
下になるとＣＢの分散が難しく、粒径が１００ｎｍ以上
では多量のＣＢを添加することが必要になり、何れの場
合も表面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原
因になるためである。大粒径カーボンとして、粒径３０
０〜４００ｎｍのカーボンを小粒径カーボンの添加量に
対して５〜１５重量％の割合で添加すると、表面も粗く
ならず、走行性向上効果も大きくなる。小粒径カーボン
と大粒径カーボン合計の添加量は無機粉体重量を基準に
して６０〜９８重量％が好ましく、７０〜９５重量％が
より好ましい。バックコート層の中心線平均表面粗さＲ
ａは２〜１５ｎｍが好ましく、３〜８ｎｍがより好まし
い。 【００４３】また、バックコート層には、強度向上を目
的に、粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍの酸化鉄を添加する
のが好ましく、0.２μｍ〜0.５μｍがより好ましい。添
加量は無機粉体重量を基準にして２〜４０重量％が好ま
しく、５〜３０重量％がより好ましい。 【００４４】バックコート層には結合剤として、前述し
た磁性層や下塗層に用いるのと同じ樹脂を用いることが
できるが、これらの中でも摩擦係数を低減し走行性を向
上させるため、セルロース系樹脂とポリウレタン樹脂を
複合して併用することが好ましい。結合剤の含有量は通
常、カーボンブラックと前記無機非磁性粉末との合計量
１００重量部に対して４０〜１５０重量部で、５０〜１
２０重量部が好ましく、６０〜１１０重量部がより好ま
しく、７０〜１１０重量部がさらに好ましい。この範囲
が好ましいのは、５０重量部未満では、バックコート層
の強度が不十分で、１２０重量部を越えると摩擦係数が
高くなりやすいためである。セルロース系樹脂を３０〜
７０重量部、ポリウレタン系樹脂を２０〜５０重量部使
用することが好ましい。また、さらに結合剤を硬化する
ために、ポリイソシアネート化合物などの架橋剤を用い
ることが好ましい。 【００４５】バックコート層には架橋剤として、前述し
た磁性層や下塗層に用いる架橋剤を使用する。架橋剤の
量は、結合剤１００重量部に対して、通常１０〜５０重
量部の割合で用いられる。好ましくは１０〜３５重量
部、より好ましくは１０〜３０重量部である。この範囲
が好ましいのは、１０重量部未満では、バックコート層
の塗膜強度が弱くなりやすく、３５重量部を越えるとＳ
ＵＳに対する動摩擦係数が大きくなるためである。 【００４６】磁気サーボ信号が記録される特殊用途のバ
ックコート層には、磁性層に使用する上述の強磁性粉末
を３０〜６０重量部、バックコート層に使用する上述の
カーボンブラックを４０〜７０重量部、必要に応じて、
バックコート層に使用する上述の酸化鉄、アルミナを２
〜１５重量部添加する。また、結合剤には、強磁性粉
末、カーボンブラック、無機非磁性粉末との合計量１０
０重量部に対して、上記バックコート層に用いる樹脂を
通常、４０〜１５０重量部、好ましくは５０〜１２０重
量部使用する。また、架橋剤には、上述の架橋剤を結合
剤１００重量部に対して、通常１０〜５０重量部の割合
で用いることができる。上述の磁性層で述べたのと同じ
理由で、保磁力は１２０〜３２０ｋＡ／ｍ、残留磁束密
度Ｂｒと膜厚の積は、0.０１８〜0.０６μＴｍが好まし
い。 【００４７】〈ＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシ
ュ）処理〉ＬＲＴ処理の概略を図１を用いて説明する。
図１中の符号１は磁気テープ３０用の送り出しロール、
２は送りロール、３は研磨テープ（ラッピングテー
プ）、４は研磨テープ用のブロック、５は研磨テープ用
の回転ロール、６はアルミ製のロータリホイール、７は
磁気テープ３０のバックコート層３０ｂ側に対する不織
布面当て用の回転棒、８は磁性層３０ａ側に対する不織
布面当て用の回転棒、９は不織布（ティシュ）、１０は
不織布用の回転ロール、１１はフィードローラ、１２は
巻き取りロールを示す。 【００４８】（１）ラッピング処理： 図１に示すよう
に研磨テープ（ラッピングテープ）３は、回転ロール５
によって磁気テープ３０の送り方向（テープ送り速度
は、標準：４００ｍ／min ）と反対方向に一定の速さ
（標準：１4.４cm／min ）で移動し、図中の下部側から
ガイドブロック４によって押さえられることによって磁
気テープ３０の磁性層３０ａ側と接触し、この時の磁気
テープ巻き出しテンションおよび研磨テープ３のテンシ
ョンを一定（標準：各１００ｇ、２５０ｇ）として研磨
処理を行う。この工程で使用する研磨テープ（ラッピン
グテープ）３は、例えば、Ｍ２００００番、ＷＡ１００
００番あるいはＫ１００００番のような研磨砥粒の細か
いラッピングテープである。なお、研磨ホイール（ラッ
ピングホイール）を研磨テープ（ラッピングテープ）３
の代りにまたは併用して使用することを排除するもので
はないが、頻繁に交換を要する場合は、研磨テープ（ラ
ッピングテープ）３のみを使用する。 【００４９】（２）ロータリ処理： 図１に示す空気抜
き用溝付ロータリホイール［標準：幅１インチ（２5.４
mm）、直径６０mmφ、空気抜き用溝２mm幅、溝の角度４
５度、協和精工社製］６を、磁気テープ３０の走行方向
（図中に矢印で示す）と反対方向に一定の回転速度（通
常：２００〜３０００ｒｐｍ、標準：１１００ｒｐｍ）
で回転させつつ、磁気テープ３０の磁性層３０ａに対し
て一定の接触角度（標準：９０度）で接触させることに
より、磁性層３０ａの表面処理を行う。 【００５０】（３）ティシュ処理： ティシュ（不織
布、例えば東レ社製のトレシー）を、磁気テープの３０
の送り方向と反対方向に一定の速度（標準：１4.０mm／
min ）で送り、回転棒７・８でそれぞれ磁気テープ３０
のバックコート層３０ｂおよび磁気層３０ａの表面に押
し当ててクリーニング処理を行う。 【００５１】本発明のテープを組み込んだカセットテー
プは、１巻当たりの容量が大きく、ＭＲ再生ヘッドを使
用した場合のＰＷ５０が小さく、再生出力が高いので、
エラーレートが低く、ハードディスクドライブのバック
アップ用テープとして、信頼性も高く、特に優れてい
る。 【００５２】 【実施例】以下に実施例によって本発明を詳しく説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、実施例、比較例の部は重量部を示す。 【００５３】 実施例１： 《下塗層用塗料成分》 （１） 酸化鉄粉末（平均粒径：0.１１×0.０２μｍ） ６８部 α−アルミナ（平均粒径：0.０７μｍ） ８部 カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ、吸油量：５５ｇ／cc） ２４部 ステアリン酸 2.０部 塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 0.８部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ） ポリエステルポリウレタン樹脂 4.４部 （Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：１×１０^-4当量／ｇ） シクロヘキサノン ２５部 メチルエチルケトン ４０部 トルエン １０部 （２） ステアリン酸ブチル １部 シクロヘキサノン ７０部 メチルエチルケトン ５０部 トルエン ２０部 （３） ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ） 4.４部 シクロヘキサノン １０部 メチルエチルケトン １５部 トルエン １０部 【００５４】 《磁性層用塗料成分》 （１） 強磁性鉄系金属粉 １００部 （Ｃｏ／Ｆｅ：２０ａｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：３ａｔ％、 Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：５ｗｔ％、Ｃａ／Ｆｅ：０ｗｔ％、 σs ：１５５Ａ・ｍ² ／kg、Ｈｃ：１４9.６ｋＡ／ｍ、 ｐＨ：9.４、長軸長：0.１０μｍ） 塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １2.３部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ） ポリエステルポリウレタン樹脂 5.５部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ） α−アルミナ（平均粒径：0.１２μｍ） ８部 α−アルミナ（平均粒径：0.０７μｍ） ２部 カーボンブラック 1.０部 （平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：７２cc／１００ｇ） メタルアシッドホスフェート ２部 パルミチン酸アミド 1.５部 ステアリン酸ｎ−ブチル 1.０部 テトラヒドロフラン ６５部 メチルエチルケトン ２４５部 トルエン ８５部 （２） ポリイソシアネート 2.０部 シクロヘキサノン １６７部 【００５５】上記の下塗層用塗料成分において（１）を
ニーダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンド
ミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに
（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗層用塗料とした。
これとは別に、上記の磁性層用塗料成分（１）をニーダ
で混練したのち、サンドミルで滞留時間を４５分として
分散し、これに磁性層用塗料成分（２）を加え攪拌・濾
過後、磁性塗料とした。上記の下塗層用塗料を、ポリエ
チレンナフタレートフイルム（厚さ6.２μｍ、ＭＤ＝6.
０８ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝1.３、帝人社製）からなる支
持体上に、乾燥、カレンダ後の厚さが1.８μｍとなるよ
うに塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を
磁場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さ
が0.１５μｍとなるようにウエット・オン・ウエットで
塗布し、磁場配向処理後、ドライヤを用いて乾燥し、磁
気シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤ前に
Ｎ−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜
の指蝕乾燥位置の手前側７５cmからＮ−Ｎ対抗磁石（５
ｋＧ）を２基５０cm間隔で設置して行った。塗布速度は
１００ｍ／分とした。 【００５６】 《バックコート層用塗料成分》 カーボンブラック（平均粒径：２５ｎｍ） ８０部 カーボンブラック（平均粒径：３７０ｎｍ） １０部 酸化鉄（長軸長：0.４μｍ、軸比：約１０） １０部 ニトロセルロース ４５部 ポリウレタン樹脂（ＳＯ₃ Ｎａ基含有） ３０部 シクロヘキサノン ２６０部 トルエン ２６０部 メチルエチルケトン ５２５部 【００５７】上記バックコート層用塗料成分をサンドミ
ルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネ
ート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整し濾過
した後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面
に、乾燥、カレンダ後の厚みが0.５μｍとなるように塗
布し、乾燥した。このようにして得られた磁気シートを
金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線
圧１５０kg／cmの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコ
アに巻いた状態で７０℃で７２時間エージングしたの
ち、１／２インチ幅に裁断し、下記の条件でＬＲＴ処理
を行った。このようにして得られた磁気テープを、カー
トリッジに組み込み、コンピュータ用テープを作製し
た。バックコート層のＲａは８ｎｍであった。 【００５８】〈ＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシ
ュ）処理〉 （１）ラッピング処理： 図１に示すように研磨テープ
（ラッピングテープ）３を、回転ロール５によって磁気
テープ３０の送り方向（磁気テープ送り速度：標準で４
００ｍ／min ）と反対方向に１4.４cm／min の速さで移
動させ、図中の下部からガイドブロック４によって押さ
ることによって磁気テープ３０の磁性層３０ａの表面と
接触させ、この時の磁気テープ巻き出しテンションを１
００ｇ、研磨テープ３のテンションを２５０ｇとして研
磨処理を行った。 【００５９】（２）ロータリホイール処理： 図１に示
す幅１インチ（２5.４mm）、直径６０mmφ、溝幅２mmの
空気抜き用溝付アルミ製ロータリホイール（溝角度４５
度、協和精工社製）６を磁気テープ３０の送り方向と反
対方向に回転（回転速度１１００ｒｐｍ）させて、磁性
層３０ａに対して接触角度９０度で接触させることによ
り、磁性層３０ａの表面処理を行った。 【００６０】（３）ティシュ処理： 不織布（ここで
は、東レ社製の不織布トレシー）９を、磁気テープ３０
の送り方向と反対方向に１4.０mm／min の速度で送り、
回転棒７、８で各々バックコート層３０ｂおよび磁性層
３０ａの表面に押し当てて、これらの表面に対するクリ
ーニング処理を行った。 【００６１】実施例２〜１０：一部条件を表１〜表３の
条件に変更したことを除き、実施例１と同様にして実施
例２〜１０のコンピュータ用磁気テープを作製した。 【００６２】比較例１：ＬＲＴ処理を行わなかったこと
を除き、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ
用テープを作製した。 【００６３】比較例２：ＬＲＴ処理の代りに下記のＬＢ
Ｔ処理を行ったことを除き、実施例１と同様にして比較
例２のコンピュータ用テープを作製した。 【００６４】〈ＬＢＴ処理〉磁気テープを４００ｍ／mi
n で走行させながら磁性層表面をラッピングテープ研
磨、ブレード研磨そして表面拭き取りの後処理を行い、
磁気テ−プを作製した。この時、ラッピングテープ（研
磨テープ）にはＫ１００００、ブレードには超硬刃、表
面拭き取りには東レ製トレシーを用い、走行テンション
３０ｇで処理を行った。上記のようにして得られた磁気
テープを、カートリッジに組み込み、コンピュータ用磁
気テープを作製した。 【００６５】比較例３：ＬＢＴ処理を１０回行ったこと
を除き、比較例２と同様にして比較例３のコンピュータ
用テープを作製した。 【００６６】比較例４〜６：一部条件を表５の条件に変
更したことを除き、比較例２と同様にして比較例４〜６
のコンピュータ用磁気テープを作製した。 【００６７】特性の評価は、以下のようにして行った。 〈ＰＷ５０、再生出力およびエラーレート等の測定〉Ｐ
Ｗ５０、再生出力およびエラーレート（ＥＲＴ）の測定
は、薄手テープも測定できるように改造したＬＴＯドラ
イブを用いて記録（記録波長0.５５μｍ）・再生するこ
とによって求めた。ＰＷ５０は、比較例１テープのＰＷ
５０を１とした時の値、再生出力は、比較例１テープを
０ｄＢとした時の値、出力劣化はそれぞれの磁気テープ
の初期値を０ｄＢとして記録再生を１００回行った後の
値である。 【００６８】〈磁性層の表面粗さ、凹凸の中心値および
凸量の評価〉ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置
ＮｅｗＶｉｅｗ５０００による走査型白色光干渉法にて
Ｓｃａｎ Ｌｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。測定視野
は、３５０μｍ×２６０μｍである。磁性層の中心線平
均表面粗さをＲａとし、凹凸の中心値をＰ₀ 、最大の凸
量（第１番目の凸量）をＰ₁ 、順次第２番目、第３番
目、第４番目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０
番目の凸量を、Ｐ₂ 、Ｐ ₃ 、Ｐ₄ 、Ｐ₅ 、・・・、
Ｐ₁₉、Ｐ₂₀とした時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）と（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）
および［（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）／Ｒａ］を求めた。 【００６９】〈ＭＲヘッドの突出量と、磨耗量の測定〉
ＤＩ(Digital Instrument)社製の走査型プローブ顕微鏡
(Nano Scopea／Dimension-3100 Tapping mode AFM)で、
８０μｍ×８０μｍの視野を測定し、傾き、ノイズ等の
補正をしたのち、断面プロファイルの解析を行い、ＭＲ
ヘッドの突出量、走行前後の磨耗量を測定した。 【００７０】〈磁性層とスライダ材料およびＳＵＳとの
摩擦係数の測定〉 ［ＳＵＳ］外径５mmのＳＵＳピン（ＳＵＳ３０４）に磁
気テープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、磁気テー
プの同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返し１０回
摺動させた時の摩擦係数を測定した。 【００７１】［スライダ材料］外径７mmのＡＬＴＩＣの
ピンに磁気テープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、
磁気テープの同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返
し１０回摺動させた時の摩擦係数を測定した。 【００７２】〈非磁性支持体のヤング率（ＭＤ、ＴＤ）
の測定〉小型引っ張り試験機（横浜システム社製）を用
い、２３℃、５０％ＲＨの環境での歪み・引っ張り強度
を測定した。試料の測定長さは１０mm、引っ張り速度１
０％歪み／分で引っ張り、得られた強度の0.３％歪みの
値をもとに、0.３％伸び弾性率を評価した。この評価は
試料の長手方向と幅方向で行った。 【００７３】以上の測定結果を表１〜表５に示す。表中
の略号の意味は、以下の通りである。 ・μ_mSL ：磁性層とスライダ材料との摩擦係数 ・μ_mSUS：磁性層とＳＵＳとの摩擦係数 ・μ_BSUS：バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数 ・Ｂｒδ：磁性層の残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さ（δ）
との積 ・Ｈｃ：磁性層の保磁力 ・ＢＣ：バックコート層 ・ＣＢ：カーボンブラック ・ＭＤ／ＴＤ：非磁性支持体の長手方向のヤング率（Ｍ
Ｄ）と幅方向のヤング率（ＴＤ）との比 ・磁性面表面粗度Ｒａ：磁性層の中心線平均表面粗さＲ
ａ 【００７４】 【表１】【００７５】 【表２】【００７６】 【表３】【００７７】 【表４】【００７８】 【表５】【００７９】 【発明の効果】表１ないし表５に示した実施例１〜１０
および比較例１〜６から明らかなように、非磁性支持
体、下塗層、磁性層、バックコート層からなる磁気記録
媒体であって、磁性層の厚さが0.３０μｍ以下、中心線
平均表面粗さＲａが3.２ｎｍ以下で、磁性層の凹凸の中
心値をＰ₀ 、該磁性層の最大の凸量をＰ₁ 、第２０番目
の凸量をＰ₂₀とした時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）が３０ｎｍ以下
で、かつ（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）が５ｎｍ以下である磁気記録媒
体は、エラーレートが小さい優れた磁気記録媒体であ
る。このような効果は、（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を1.８ｎｍ以下
とした磁気記録媒体において特に顕著である。また、磁
性層とスライダ材料との摩擦係数をμ_mSL 、磁性層とＳ
ＵＳとの摩擦係数をμ_mSUS、バックコート層とＳＵＳと
の摩擦係数をμ _BSUSとした時の［（μ_mSL ）／
（μ_mSUS）］が0.７〜1.３で、かつ［（μ_mSL ）／（μ
_BSUS）］が0.８〜1.５である磁気記録媒体は、オフトラ
ックが小さい優れた磁気記録媒体である。

【図面の簡単な説明】 【図１】本発明の磁気記録媒体を製造する場合に行うＬ
ＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティシュ）処理の一例を
示す概略工程図である。 【図２】スライダ上に載置された、記録ヘッドと再生用
のＭＲヘッドとを示す概略平面図である。 【図３】図２のＹ−Ｙ線で切断した概略断面図である。 【符号の説明】 ２０ ＭＲヘッド ２２ スライダ ３０ 磁気記録媒体（磁気テープ） ３０ａ 磁性層 ３０ｂ バックコート層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉本 規寿 大阪府茨木市丑寅１丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 吉田 健一郎 大阪府茨木市丑寅１丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内 Ｆターム(参考） 5D006 BA19 CC03

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 非磁性支持体上の一面に、少なくとも一
   層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面に
   バックコート層を有する磁気記録媒体において、磁性層
   の厚さが0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａが3.
   ２ｎｍ以下で、磁性層とスライダ材料との摩擦係数をμ
   _mSL 、磁性層とＳＵＳ（ＳＵＳ３０４）との摩擦係数を
   μ_mSUS、バックコート層とＳＵＳ（ＳＵＳ３０４）との
   摩擦係数をμ_BSUSとした時の［（μ_mSL ）／
   （μ_mSUS）］が0.７〜1.３で、かつ［（μ _mSL ）／（μ
   _BSUS）］が0.８〜1.５であることを特徴とする磁気記録
   媒体。