JP2002140807A - 磁気記録媒体およびその処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 エラーレートが低く、オフトラックの小さ
い、ＭＲヘッド対応磁気記録媒体および処理方法の提
供。 【解決手段】 非磁性支持体上の一面に、少なくとも一
層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面に
バックコート層を有する磁気記録媒体において、該磁性
層の厚さを0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａを
3.２ｎｍ以下とし、磁性層の凹凸の中心値をＰ₀ 、磁性
層の最大の凸量をＰ₁ 、第２０番目の凸量をＰ₂₀とした
時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）を３０ｎｍ以下、（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を
５ｎｍ以下に設定し、かつＥＳＣＡ観察で得られる窒素
と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）を0.２５以下に設定する。磁
気記録媒体の磁性層を研磨テープで研磨する工程と、回
転ドラムでの磁性層を平滑化する工程と、磁性層または
磁性層およびバックコート層の汚れを拭き取る工程とを
含む処理方法で磁気記録媒体の表面処理を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録容量、アクセ
ス速度、転送速度が高い磁気記録媒体とその処理方法に
関し、特に磁気抵抗効果素子（ＭＲ素子）を利用した再
生ヘッド（以下、ＭＲヘッド）を使用するデータバック
アップ用磁気記録媒体とその処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】磁気
テープは、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピユ
ーターテープなど種々の用途があるが、特にデータバッ
クアップ用テープの分野ではバックアップ対象となるハ
ードディスクの大容量化に伴い、１巻当たり数十ＧＢ以
上の記憶容量のものが商品化されており、今後ハードデ
ィスクのさらなる大容量化に対応するためバックアップ
テープの高容量化は不可欠である。また、アクセス速
度、転送速度を大きくするため、テープの送り速度、テ
ープとヘッド間の相対速度を高めることが必要不可欠で
ある。

【０００３】バックアップテープ１巻当たりの高容量化
のためには、テープ全厚を薄くして１巻あたりのテープ
長さを長くすること、磁性層厚さを0.３μｍ以下と極め
て薄くすることで厚さ減磁を小さくして記録波長を短く
することと共に、トラック幅を１５μｍ以下と狭くして
幅方向の記録密度を高くすることが必要である。

【０００４】磁性層厚さを0.３μｍ以下と極めて薄くす
ると、耐久性が劣化したりするので、非磁性支持体と磁
性層との間に少なくとも一層の下塗層を設ける必要があ
る。また、記録波長を短くすると、磁性層と磁気ヘッド
とのスペーシングの影響が大きくなるので、磁性層に大
きな突起があると、スペーシングロスにより、出力ピー
クの半値幅（ＰＷ５０）が広くなったり出力が低下した
りして、エラーレートが高くなる。

【０００５】トラック幅を１５μｍ以下と狭くして幅方
向の記録密度を高くすると磁気記録媒体からの漏れ磁束
が小さくなるため、再生ヘッドに微小磁束でも高い出力
が得られる磁気抵抗効果型素子を使用した再生ヘッド
（以下、ＭＲヘッド）を使用する必要がある。

【０００６】ＭＲヘッド対応の磁気記録媒体には、特開
平１１−２３８２２５号、特開平２０００−４０２１７
号、特開平２０００−４０２１８号に記載されたものが
ある。これらの従来技術では、磁気記録媒体の磁束（残
留磁束密度と厚さの積）を特定の値に制御してＭＲヘッ
ドの出力の歪を防止したり、磁性層表面のへこみを特定
の値以下にしてＭＲヘッドのサーマル・アスペリティを
低減したりしている。

【０００７】従来の磁気ヘッドは記録用の磁気誘導型ヘ
ッドと再生用磁気誘導型ヘッドとを貼り合わせたチップ
をそのまま使用する。一方、図２および図３に模式的に
示すようにＭＲヘッド２０は、記録用の磁気誘導型の記
録ヘッド２１と複合した形でスライダ２２に埋め込んで
使用される。これらの図において、符号２０ａはＭＲ素
子、２１ａ・２１ｂは記録ヘッド２１を構成する磁気素
子、２１ｃは書き込みギャップ、２３はシールド材を示
す。また、ＭＲヘッド２０はスライダ面２２ａより２５
ｎｍ程度引っ込んだ状態で埋め込まれている。すなわ
ち、従来のヘッドは非常に小さいチップからなり、ナイ
フエッジが磁気テープに食い込むような形態で走行する
のに対して、図２および図３に示したようなＭＲヘッド
２０は大きなスライダ２２に引っ込んだ状態で埋め込ま
れているので、スライダ２２に対して磁気テープ３０が
接触しながら走行する。また、磁気テープ３０がＭＲヘ
ッド２０の方に膨らむようにして磁気テープ３０とＭＲ
ヘッド２０とがコンタクトする。このようにコンタクト
形態が従来とは大幅に異なっているので、一口にスペー
シングロスの低減といっても、磁気テープに要求される
特性は全く異なっている。さらに、ＭＲヘッド２０はＭ
Ｒ素子２０ａが非常に薄い薄膜から構成されるので、摩
耗し易いという問題点もある。なお、図２および図３に
示したごとく、磁気テープ３０がフォワード方向および
バック方向のいずれの方向に走行しても記録・再生でき
るように、ＭＲヘッド２０および記録ヘッド２１は通常
は対で設けられ、また複数のトラックを同時に読み書き
できるように図２の左右方向に複数設けられる。

【０００８】加えて、ＭＲヘッドはトッラック幅が非常
に狭いので、ＭＲヘッドのトラッキングサーボのため
に、サーボ信号が設けられる。このサーボ信号には、磁
気記録層に磁気サーボ信号を記録する方式やバックコー
ト層にサーボピットを形成する方式が採用されている。

【０００９】テープの送り速度やテープとヘッド間の相
対速度の高速化に対応するためには、サーボ信号をトレ
ースしながら高速走行する必要があるが、スライダ材料
（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイド）やガイド
ローラ材料に対する磁性層やバックコート層との摩擦係
数の最適化が不充分であると、磁気テープが蛇行してト
ラッキングずれ（オフトラック）が起こり、ＰＷ５０が
広くなったり出力が低下したりして、エラーレートが高
くなるという問題がある。

【００１０】本発明の目的は、主として、ＭＲヘッドに
対応した磁気テープのスペーシングロスの低減と、磁気
テ−プの蛇行によるオフトラックの低減によるエラーレ
ートの向上を図ることにある。また、本発明の他の目的
は、この種の磁気テープを得るのに適した磁気記録媒体
の処理方法を提供することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、磁気テープの最
大凸量（Ｐ₁ ）と凹凸の平均値（Ｐ₀ ）との差（Ｐ₁ −
Ｐ₀ ）を特定の値以下、最大凸量（Ｐ₁ ）と第２０番目
の凸量（Ｐ₂₀）との差（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を特定の値以下、
かつＥＳＣＡ（電子分光法、詳しくは後述する。）観察
で得られる窒素と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）を特定の値以
下にすることで、（１）スペーシングロスや磁気テ−プ
の蛇行によるオフトラックが低減され、また、（２）ス
ライダ材料（例えば、アルミナ／チタニア／カーバイ
ド）やガイドローラ等との摩擦係数が特定の値に制御さ
れ、その結果エラーレートが向上することを見出した。
このオフトラック低減によるエラーレートの向上効果
は、トラック幅を５μｍ以下とした場合に特に大きい。
また、磁性層に特定の処理（後述のＬＲＴ処理）を施す
ことにより、磁気記録媒体の表面形態が上記のように制
御されると共に、摩擦係数増大の原因になる磁気記録媒
体表面の未反応架橋剤が除去されることを見出した。な
お、このＬＲＴ処理は、上記の二層磁気テープの他、単
層磁気記録媒体、磁気ディスクにも適用できる。

【００１２】本発明は、以上の知見をもとにして、完成
されたものである。すなわち、非磁性支持体上の一面
に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形
成され、反対面にバックコート層を有する磁気記録媒体
において、磁性層の厚さが0.３０μｍ以下、中心線平均
表面粗さＲａが3.２ｎｍ以下で、磁性層の凹凸の中心値
をＰ₀ 、磁性層の最大の凸量をＰ₁ 、第２０番目の凸量
をＰ₂₀とした時の（Ｐ₁−Ｐ₀ ）が３０ｎｍ以下、（Ｐ₁
−Ｐ₂₀）が５ｎｍ以下で、かつＥＳＣＡ観察で得られ
る窒素と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）が0.２５以下である磁
気記録媒体（請求項１）と、磁気抵抗効果型素子を利用
した再生ヘッドによって磁気記録信号が再生される磁気
記録媒体（請求項２）と、磁気記録媒体の処理方法であ
って、磁気記録媒体の磁性層を研磨テープ（ラッピング
テープ）で研磨する工程と、その後に回転ドラムで磁気
記録媒体の磁性層を平滑化する工程と、その後に磁気記
録媒体の磁性層または磁性層およびバックコート層の汚
れを拭き取る工程とを含む磁気記録媒体の処理方法（請
求項３）とに係るものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】非磁性支持体上の少なくとも一面
に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に形
成された磁気記録媒体において、磁性層の厚さを0.３μ
ｍ以下とした磁気記録媒体は、磁性層が極めて薄く厚み
損失が小さいので磁気ヘッド走行方向の記録密度が高
い。磁性層の厚さは、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.
０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍが
さらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好まし
い。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では
均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失
により、再生出力が小さくなるためである。

【００１４】磁性層の中心線平均面粗さ（Ｒａ）は3.２
ｎｍ以下が好ましく、0.５〜3.２ｎｍがより好ましく、
0.７〜2.９ｎｍがさらに好ましく、0.７〜2.５ｎｍがい
っそう好ましい。この範囲が好ましいのは、磁性層のＲ
ａが0.５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定にな
り、Ｒａが3.２ｎｍを越えると、スペーシングロスによ
り、ＰＷ５０が広くなったり出力が低下したりして、エ
ラーレートが高くなるためである。

【００１５】磁性層の凹凸の中心値をＰ₀ 、磁性層の最
大の凸量をＰ₁ とした時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）は、３０ｎｍ
以下が好ましく、５〜３０ｎｍがより好ましく、５〜２
５ｎｍがさらに好ましく、５〜２０ｎｍがいっそう好ま
しい。この範囲が好ましいのは、磁性層の（Ｐ₁ −Ｐ
₀ ）が５ｎｍ未満では磁気テープの走行が不安定になる
場合があり、（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）が３０ｎｍを越えると、ス
ペーシングロスにより、ＰＷ５０が広くなったり出力が
低下したりして、エラーレートが高くなるためである。
また、（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）を３０ｎｍ以下にすると、ＭＲヘ
ッドとの衝突によるサーマルアスペリティの低減にも有
効である。さらに、上記の条件を満たすと共に、磁性層
の最大の凸量をＰ₁ 、順次第２番目、第３番目、第４番
目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量
をＰ₂ 、Ｐ₃ 、Ｐ₄ 、Ｐ₅ 、・・・、Ｐ₁₉、Ｐ₂₀とした
時の（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）が５ｎｍ以下であることが好まし
い。（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）は1.８ｎｍ以下がより好ましく、1.
５ｎｍ以下がさらに好ましく、1.０ｎｍ以下が特に好ま
しい。この範囲が好ましいのは、（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を５ｎ
ｍ以下にすると、スライダ（アルミナ／チタニア／カー
バイド）から約２５ｎｍ引っ込んでに埋め込まれたＭＲ
ヘッドと磁気テープが均一に当たるのでコンタクトが良
くなり、ＰＷ５０の低減と出力の向上によって、エラー
レートが低くなるためである。このような効果は、（Ｐ
₁ −Ｐ₂₀）を1.８ｎｍ以下に設定したときに特に顕著で
ある。また、このような均一な突起があると、摩擦係数
が低くなると共に、ＭＲスライダ（ＡｌＴｉＣ；アルミ
ナ／チタニア／カーバイド）との引っ掛かりが低減さ
れ、スムーズな走行性が得られるという副次的な効果も
ある。なお、最大の凸量と第２０番目の凸量の差が重要
な理由は、ＭＲヘッドがスライダ面から約２５ｎｍ引っ
込んだ形態で埋め込まれていることと関係があると考え
られるが、明確な理由は不明である。現在のところは、
実験事実を述べるに留める。

【００１６】さらに、上記の磁気テープの磁性層表面の
形態に加えて、未反応の架橋剤が磁性層表面に存在しな
いことが重要である。すなわち、未反応の架橋剤が磁性
層表面に存在すると、記録・再生を繰り返すうちに、こ
の未反応物が、スライダ面やスライダに埋め込まれた状
態の記録ヘッドやＭＲヘッドに溜まり、スペーシングロ
スや摩擦係数の増大によるオフトラックが起こり、その
結果、エラーレートが増大し、極端な場合は磁気テープ
が走行しなくなるというトラブルが発生する。このよう
な未反応の架橋剤は、液状に磁性層表面を覆っており窒
素（Ｎ）を含有しているので、ＥＳＣＡ観察によって鉄
磁性粉のＦｅとの原子比（Ｎ／Ｆｅ）を調べることで検
出できる。窒素と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）は0.２５以下
が好ましく、0.０５〜0.２５より好ましく、0.０５〜0.
２３がさらに好ましく、0.０５〜0.２０がいっそう好ま
しい。0.２５以下が好ましいのは、Ｎ／Ｆｅが0.２５を
越えると、記録・再生を繰り返すにつれて、この未反応
物が、スライダ面やスライダ埋め込まれた状態の記録ヘ
ッドやＭＲヘッドに溜まり、スペーシングロスや摩擦係
数の増大によるオフトラックが起こり、その結果、エラ
ーレートが増大するためである。なお、架橋に寄与して
いる架橋剤とバインダのポリウレタンも磁性層表面に存
在し、その量は、Ｎ／Ｆｅで約0.０５である。

【００１７】このような磁気テープは、磁性層に施すラ
ッピング／ロータリ／ティシュ処理（ＬＲＴ処理）の処
理条件をコントロールすることによって得られる。な
お、類似の技術にＬＢＴ処理（ラッピング／ブレード／
ティッシュ処理、後述）があるが、このＬＢＴ処理で
は、ブレードが固定しており、しかもナイフエッジ形状
をしているので、磁気テープとの相対速度が小さく（磁
気テープ送り速度が磁気テープとの相対速度になる）、
しかも磁気テープとブレードとの接触面積が小さいの
で、本願発明で述べるＬＲＴ処理のような効果は得られ
ない。

【００１８】ＬＲＴ処理（ラッピング／ロータリ／ティ
ッシュ処理）の概略を図１を用いて説明する。

【００１９】＜ＬＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティッ
シュ処理＞ＬＲＴ処理の概略を図１を用いて説明する。
図１中の符号１は磁気テープ３０用の送り出しロール、
２は送りロール、３は研磨テープ（ラッピングテー
プ）、４は研磨テープ用のブロック、５は研磨テープ用
の回転ロール、６はロータリホイール、７は磁気テープ
３０のバックコート層３１ｂ側に対する不織布面当て用
の回転棒、８は磁性層３１ａ側に対する不織布面当て用
の回転棒、９は不織布（ティッシュ）、１０は不織布用
の回転ロール、１１はフィードローラ、１２は巻き取り
ロールを示す。 （１）ラッピング処理：図１に示すように研磨テープ
（ラッピングテープ）３は、回転ロール５によって磁気
テープ３０の送り方向（テープ送り速度は、標準：４０
０ｍ／min ）と反対方向に一定の速さ（標準：１4.４cm
／min ）で移動し、図中の下部側からガイドブロック４
によって押さえられることによって磁気テープ３０の磁
性層３０ａ側と接触し、この時の磁気テープ巻き出しテ
ンションおよび研磨テープ３のテンションを一定（標
準：各１００ｇ、２５０ｇ）として研磨処理を行う。こ
の工程で使用する研磨テープ（ラッピングテープ）３
は、例えば、Ｍ２００００番、ＷＡ１００００番あるい
はＫ１００００番のような研磨砥粒の細かいラッピング
テープである。なお、研磨ホイール（ラッピングホイー
ル）を研磨テープ（ラッピングテープ）３の代りにまた
は併用して使用することを排除するものではないが、頻
繁に交換を要する場合は、研磨テープ（ラッピングテー
プ）３のみを使用する。

【００２０】（２）ロータリ処理：図１に示す空気抜き
用溝付ロータリホイール［標準：幅１吋（２5.４mm）、
直径６０mmφ、空気抜き用溝２mm幅、溝角度４５度、協
和精工社製］６を、磁気テープ３０の走行方向（図中に
矢印で示す）と反対方向に一定の回転速度（通常：２０
０〜３０００ｒｐｍ、標準：１１００ｒｐｍ）で回転さ
せつつ、磁気テープ３０の磁性層３０ａに対して一定の
接触角度（標準：９０度）で接触させることにより、磁
性層３０ａの表面処理を行う。ロータリホイール（本発
明方法における回転ドラムを構成する）の材質は、通常
アルミニウム金属（Ａｌ）およびＳＵＳ鋼であるが、こ
れら以外にＭＲヘッド用のスライダ材料（例えば、アル
ミナ／チタニア／カーバイド）等を使用する。ホイール
の材質の表面粗さは、0.０２μｍ以下が好ましく、0.０
１５μｍ以下がより好ましく、0.０１μｍ以下がさらに
好ましい。0.０２μｍ以下が好ましいのは、0.０２μｍ
を越えると、（Ｐ₁ ―Ｐ₀ ）や（Ｐ₁ ―Ｐ₂₀）が大きく
なるためである。ロータリホイールの材質の表面粗さが
小さくなるほど（Ｐ₁ ―Ｐ₀ ）や（Ｐ₁ ―Ｐ₂₀）も小さ
くなるが、0.００１μｍのものはロータリホイールの加
工費が高くなる。この工程により、（Ｐ₁ ―Ｐ₀ ）や
（Ｐ₁ ―Ｐ₂₀）が小さくなると共に、未反応の架橋剤が
磁性層から絞りがされて次のティシュ処理工程で除去さ
れる。また、ロータリホイールと磁気テープの摩擦熱や
ロータリホイール材料の触媒作用により、未反応の架橋
剤の架橋が促進されると推定される。また、このロータ
リー工程では、未反応の架橋剤が一旦ホィール材料に転
写されて次のティシュ工程で除去され、ブレードに未反
応の架橋剤等がいつまでもたまらないので、未反応の架
橋剤の除去効率が高い。

【００２１】（３）ティッシュ処理：ティッシュ（不織
布、例えば東レ社製のトレシー）を、磁気テープの３０
の送り方向と反対方向に一定の速度（標準：１4.０mm／
min ）で送り、回転棒７・８でそれぞれ磁気テープ３０
のバックコート層３１ｂおよび磁気層３１ａの表面に押
し当ててクリーニング処理を行う。この工程により、ス
リッタ工程、ラッピング処理工程、ロータリー工程等で
発生した研磨屑や未反応の架橋剤が除去される。このテ
ィシュ処理工程は、可能な限りロータリー工程に近いと
ころで行うことが好ましい。その理由は、ロータリ工程
で絞りだされた未反応の架橋剤が再び磁性層に染み込ま
ないうちに未反応の架橋剤を拭き取れるからである。

【００２２】さらに、スライダに埋め込まれたＭＲヘッ
ドを使用する磁気テープでは、［（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）／Ｒ
ａ］は１２以下が好ましく、１０以下がさらに好まし
く、８以下がさらに好ましく、６以下がいっそう好まし
い。［（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）／Ｒａ］に関して１２以下が好ま
しいのは、ＭＲ素子の磨耗した場合にも、ＭＲヘッドと
磁気テープが均一に当たり、ＰＷ５０が狭く出力が高く
維持されてエラーレートがさらに低くなるためである。

【００２３】磁性層とスライダ材料（例えば、アルミナ
／チタニア／カーバイド）との動摩擦係数をμ_mSL 、磁
性層とＳＵＳ（ＳＵＳ３０４、以下単にＳＵＳという）
との動摩擦係数をμ_mSUS、該バックコート層とＳＵＳと
の動摩擦係数をμ_BSUS、とした時の［（μ_mSL ）／（μ
_mSUS）］を0.７〜1.３とし、かつ［（μ_mSL ）／（μ
_BSUS）］を0.８〜1.５、とすると、磁気テープの蛇行に
よるオフトラックが低減され、さらにエラーレートの向
上する。この効果は、トラック幅が１５μｍ以下の場合
に特に大きい。［（μ_mSL ）／（μ_mSUS）］が0.８５〜
1.１５で、かつ［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］が1.０〜1.
３、であればより好ましく、［（μ_mSL ）／
（μ_mSUS）］が0.９〜1.１で、かつ［（μ_mSL ）／（μ
_BSUS）］が1.０〜1.３、であればさらに好ましい。この
ような磁気テープは、（１）磁性層中の架橋剤量を減少
させる、（２）バックコート層に粒径２００〜４００ｎ
ｍの大粒径カーボンブラックと、５ｎｍ〜１００ｎｍの
小粒径カーボンブラックを含有させるとともに、（３）
上記のＬＲＴ処理を磁性層に施すことにより得られる。

【００２４】磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／
ｍが好ましく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好まし
く、１６０〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。この範
囲が好ましいのは、１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を
短くすると反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ
／ｍを越えると磁気ヘッドによる記録が困難になるため
である。

【００２５】磁性層における長手方向の残留磁束密度
（Ｂｒ）と厚さ（δ）との積（Ｂｒδ）は0.００１８μ
Ｔｍ〜0.０６μＴｍが好ましく、0.００３６〜0.０５０
μＴｍがより好ましく、0.００４〜0.０４５μＴｍがさ
らに好ましく、0.００４〜0.０４０μＴｍがいっそう好
ましい。この範囲が好ましいのは、0.００１８μＴｍ未
満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、0.０６μ
Ｔｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みやすい
からである。このような磁性層からなる磁気記録媒体
は、記録波長を短くでき、しかも、ＭＲヘッドで再生し
た時の再生出力を大きくでき、さらには再生出力の歪を
低減できて出力対ノイズ比を大きくできるので好まし
い。

【００２６】下塗層の厚さは、0.３〜3.０μｍが好まし
く、0.５〜2.５μｍがより好ましく、0.５〜2.０μｍが
さらに好ましく、0.５〜1.５μｍがいっそう好ましい。
この範囲が好ましいのは、0.３μｍ未満では磁気記録媒
体の耐久性が悪くなる場合があり、3.０μｍを越えると
磁気記録媒体の耐久性向上効果が飽和するばかりでな
く、磁気テープの場合は全厚が厚くなって、１巻当りの
テープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなるためであ
る。

【００２７】バックコート層の厚さは、0.２〜0.８μｍ
が好ましい。この範囲が好ましいのは、0.２μｍ未満で
は磁気記録媒体の走行性が悪くなり、0.８μｍを越える
と磁気記録媒体の全厚が厚くなって、１巻当りのテープ
長さが短くなり、記憶容量が小さくなるためである。バ
ックコート層の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）は２〜１５
ｎｍが好ましく、３〜１５ｎｍがより好ましい。この範
囲が好ましいのは、Ｒａが2ｎｍ未満では磁気テープの
走行が不安定になり、Ｒａが１５ｎｍ以上になると、裏
写により、磁性層の表面粗さが大きくなって、スペーシ
ングロスが大きくなるためである。このようなバックコ
ート層は、５ｎｍ〜１００ｎｍの小粒径カーボンブラッ
クと粒径２００〜４００ｎｍの大粒径カーボンブラック
とを、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラッ
ク合計の添加量が無機粉体重量を基準にして６０〜９８
重量％となるように含有し、粒子径が0.１μｍ〜0.６μ
ｍの酸化鉄を、無機粉体重量を基準にして２〜４０重量
％含有させ、カレンダ処理を行うことによって得られ
る。なお、大粒径カーボンブラックの添加量は、通常、
小粒径カーボンブラックの５〜１５重量％である。

【００２８】以下に、各構成要素毎の好ましい形態を述
べる。 ＜非磁性支持体＞非磁性支持体の厚さは、7.０μｍ以下
が好ましく、2.０〜7.０μｍがより好ましく、２〜6.５
μｍがさらに好ましく、2.５〜6.０μｍがいっそう好ま
しい。この範囲の厚さの非磁性支持体が好ましいのは、
２μｍ未満では製膜が難しく、またテープ強度が小さく
なり、7.０μｍを越えるとテープ全厚が厚くなり、テー
プ１巻当りの記憶容量が小さくなるためである。

【００２９】非磁性支持体の長手方向のヤング率は、非
磁性支持体の厚さによって異なるが、通常5.０７ＧＰａ
（５００kg／mm² ）以上のものが使用される。このヤン
グ率は6.０８ＧＰａ（６００kg／mm² ）以上が好まし
く、7.０９ＧＰａ（７００kg／mm² ）以上が好ましい。
また、非磁性支持体の厚さが、5.０μｍ以下の場合は、
１0.１３ＧＰａ（１０００kg／mm² ）以上のヤング率の
ものが好ましく使用される。この範囲のヤング率の非磁
性支持体が好ましいのは、１0.１３ＧＰａ（１０００kg
／mm² ）未満では、磁気テープの強度が弱くなったり、
磁気テープの走行が不安定になるためである。

【００３０】長手方向のヤング率をＭＤ、幅方向のヤン
グ率をＴＤとした時の比（ＭＤ／ＴＤ）が0.６〜1.８で
ある非磁性支持体を用いると、ＭＲヘッドとの当たりが
良くなるので好ましい。ＭＤ／ＴＤの好ましい範囲は、
ヘリキャルスキャンタイプとリニアレコーディングタイ
プとで異なっており、ヘリキャルスキャンタイプで好ま
しいＭＤ／ＴＤの範囲は、0.６〜1.２で、0.６〜1.０が
より好ましく、0.６０〜0.８０がさらに好ましい。この
範囲が好ましいのは、メカニズムは現在のところ不明で
あるが、磁気ヘッドのトラックの入り側から出側間の出
力のばらつき（フラットネス）が大きくなるためであ
る。リニアレコーディングタイプでは、1.０〜1.８が好
ましく、1.１〜1.７がより好ましく、1.２〜1.６がさら
に好ましい。この範囲が好ましいのは、ヘッドタッチが
良くなるためである。このような非磁性支持体には、ポ
リエチレンナフタレートフィルム、芳香族ポリアミドフ
ィルム、芳香族ポリイミドフィルム等がある。

【００３１】＜下塗層＞下塗層の厚さは、0.３〜3.０μ
ｍが好ましく、0.５〜2.５μｍがより好ましく、0.５〜
2.０μｍがさらに好ましく、0.５〜1.５μｍがいっそう
好ましい。この範囲が好ましいのは、0.３μｍ未満では
磁気記録媒体の耐久性が悪くなる場合があり、3.０μｍ
を越えると磁気記録媒体の耐久性向上効果が飽和するば
かりでなく、磁気テープの場合は全厚が厚くなって、１
巻当りのテープ長さが短くなり、記憶容量が小さくなる
ためである。

【００３２】下塗層には、導電性改良の目的でカーボン
ブラック、塗料粘度やテープ剛性の制御を目的に非磁性
粒子を添加する。下塗層に使用する非磁性粒子として
は、酸化チタン、酸化鉄、アルミナ等があるが、酸化鉄
単独または酸化鉄とアルミナの混合系が使用される。下
塗層に、下塗層中の全無機粉体の重量を基準にして、粒
径１０〜１００ｎｍのカーボンブラックを１５〜３５重
量％、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長５〜２００ｎ
ｍの非磁性の酸化鉄を３５〜８３重量％、必要に応じて
粒径１０〜１００ｎｍのアルミナを０〜２０重量％含有
させると、ウエット・オン・ウエットで、その上に形成
した磁性層の表面粗さが小さくなるので好ましい。な
お、非磁性酸化鉄は通常針状であるが、粒状または無定
形の非磁性酸化鉄を使用する場合には粒径５〜２００ｎ
ｍの酸化鉄が好ましい。なお、表面の平滑性を損なわな
い範囲で１００ｎｍ以上の大粒径カーボンブラックを添
加することを排除するものではない。その場合のカーボ
ンブラック量は、小粒径カーボンブラック量と大粒径カ
ーボンブラック量の和を上記範囲内にすることが好まし
い。大粒径カーボンブラック量は通常、全カーボンブラ
ック量の２０重量％である。

【００３３】下塗層に添加するカーボンブラック（以
下、ＣＢともいう）としては、アセチレンブラック、フ
ァーネスブラック、サーマルブラック等を使用できる。
通常、粒径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものが使用される
が、粒径１０〜１００ｎｍのものが好ましい。この範囲
が好ましいのは、カーボンブラックがストラクチャーを
持っているため、粒径が１０ｎｍ以下になるとＣＢの分
散が難しく、１００ｎｍ以上では平滑性が悪くなるため
である。ＣＢ添加量は、ＣＢの粒子径によって異なる
が、１５〜３５重量％が好ましい。この範囲が好ましい
のは、１５重量％未満では導電性向上効果が乏しく、３
５重量％を越えると効果が飽和するためである。粒径１
５ｎｍ〜８０ｎｍのＣＢを１５〜３５重量％使用するの
がより好ましく、粒径２０ｎｍ〜５０ｎｍのＣＢを２０
〜３０重量％用いるのがさらに好ましい。このような粒
径・量のカーボンブラックを添加することにより電気抵
抗が低減され、かつ走行むらが小さくなる。

【００３４】下塗層に添加する非磁性の酸化鉄として
は、針状の場合、長軸長0.０５〜0.２０μｍ、短軸長
（粒径）５〜２００ｎｍのものが好ましく、粒状または
無定形のものでは、粒径５〜２００ｎｍが好ましい。粒
径0.０５〜１５０ｎｍがより好ましく、粒径0.０５〜１
００ｎｍがさらに好ましい。なお、針状のものが磁性層
の配向がよくなるのでより好ましい。添加量は、３５〜
８３重量％が好ましく、４０〜８０重量％がより好まし
く、５０〜７５重量％がさらに好ましい。この範囲の粒
径（針状の場合は短軸長)が好ましいのは、粒径５ｎｍ
未満では均一分散が難しく、２００ｎｍを越えると下塗
層と磁性層の界面の凹凸が増加するためである。この範
囲の添加量が好ましいのは、３５重量％未満では塗膜強
度向上効果が小さく、８３重量％を越えると却って塗膜
強度が低下するためである。

【００３５】下塗層には酸化鉄に加えてアルミナを添加
してもよい。アルミナの粒径は、１０〜１００ｎｍが好
ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましく、３０〜１０
０ｎｍがさらに好ましい。この範囲の粒径が好ましいの
は、粒径１０ｎｍ未満では均一分散が難しく、１００ｎ
ｍを越えると下塗層と磁性層の界面の凹凸が増加するた
めである。アルミナの添加量は、通常０〜２０重量％で
あるが、２〜１０重量％がより好ましく、４〜８重量％
がさらに好ましい。

【００３６】＜潤滑剤＞下塗層と磁性層からなる塗布層
に、役割の異なる潤滑剤を使用する。下塗層には全粉体
に対して0.５〜4.０重量％の高級脂肪酸を含有させ、0.
２〜3.０重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させる
と、磁気テープと走行系のヘッドおよびガイドローラ等
との摩擦係数が小さくなるので好ましい。この範囲の高
級脂肪酸添加が好ましいのは、0.５重量％未満では、摩
擦係数低減効果が小さく、4.０重量％を越えると下塗層
が可塑化してしまい強靭性が失われる。また、この範囲
の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、0.５重量
％未満では、摩擦係数低減効果が小さく、3.０重量％を
越えると磁性層への移入量が多すぎるため、磁気テープ
と走行系のヘッドおよびガイドローラ等が貼り付く等の
副作用があるためである。

【００３７】磁性層に、強磁性粉末に対して0.２〜3.０
重量％の高級脂肪酸のエステルを含有させると、磁気テ
ープと走行系のヘッドおよびガイドローラやＭＲヘッド
のスライダ等との摩擦係数が小さくなるので好ましい。
この範囲の高級脂肪酸のエステル添加が好ましいのは、
0.２重量％未満では摩擦係数低減効果が小さく、3.０重
量％を越えると磁気テープと走行系のヘッドおよびガイ
ドローラ等が貼り付く等の副作用があるためである。ま
た必要に応じて、強磁性粉末に対して3.０重量％以下の
脂肪酸アミドを含有させと、ヘッドスライダ／磁性層の
摩擦係数が小さくなるので好ましい。3.０重量％以下の
脂肪酸アミド添加が好ましいのは、3.０重量％を越える
とブリードアウトしてしまいドロップアウトなどの欠陥
が発生するためである。脂肪酸アミドとしてはパルミチ
ン酸、ステアリン酸等のアミドが使用可能である。な
お、磁性層の潤滑剤と下塗層の潤滑剤との相互移動を排
除するものではない。ＭＲヘッドのスライダとの摩擦係
数は0.３０以下が好ましく、0.２５以下がより好まし
い。この範囲が好ましいのは、0.３０を越えると、スラ
イダ汚れによるスペーシングロスが起こりやすいためで
ある。なお、0.１０未満は実現が困難である。ＳＵＳと
の摩擦係数は0.１０〜0.２５が好ましく、0.１２〜0.２
０がより好ましい。この範囲が好ましいのは、0.１０未
満になるとヘッドおよびガイドローラ部分で滑りやすく
走行が不安定になり、0.２５を越えるとヘッドおよびガ
イドローラが汚れやすくなるためである。また、［（μ
_mSL ）／（μ_mSUS）］は0.７〜1.３が好ましく、0.８〜
1.２がより好ましい。この範囲が好ましいのは、磁気テ
−プの蛇行によるトラッキングずれ（オフトラック）が
小さくなるためである。

【００３８】＜磁性層＞磁性層の厚さは上述のように、
通常0.３μｍ以下で、0.０１〜0.３μｍが好ましく、0.
０１〜0.２５μｍがより好ましく、0.０１〜0.２μｍが
さらに好ましく、0.０１〜0.１５μｍがいっそう好まし
い。この範囲がより好ましいのは、0.０１μｍ未満では
均一な磁性層が得にくく、0.３μｍを越えると厚さ損失
により、再生出力が小さくなったり、磁性像の残留磁束
密度と厚さとの積（Ｂｒδ）が大きくなり過ぎて、ＭＲ
ヘッドの飽和による再生出力の歪が起こりやすくなるた
めである。

【００３９】磁性層の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／
ｍが好ましく、１４０〜３２０ｋＡ／ｍがより好まし
く、１６０〜３２０ｋＡ／ｍがさらに好ましい。この範
囲が好ましいのは、１２０ｋＡ／ｍ未満では記録波長を
短くすると反磁界減磁で出力低下が起こり、３２０ｋＡ
／ｍを越えると磁気ヘッドによる記録が困難になるため
である。長手方向の残留磁束密度と厚さの積は0.００１
８μＴｍ〜0.０６μＴｍが好ましく、0.００３６〜0.０
５０μＴｍがより好ましく、0.００４〜0.０４５μＴｍ
がさらに好ましく、0.００４〜0.０４０μＴｍがいっそ
う好ましい。この範囲が好ましいのは、0.００１８μＴ
ｍ未満では、ＭＲヘッドによる再生出力が小さく、0.０
６μＴｍを越えるとＭＲヘッドによる再生出力が歪みや
すいからである。

【００４０】磁性層に添加する磁性粉には、強磁性鉄系
金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉末が使用され
る。強磁性鉄系金属粉末、六方晶バリウムフェライト粉
末の保磁力は、１２０〜３２０ｋＡ／ｍが好ましく、飽
和磁化量は、強磁性鉄系金属粉末では、１２０〜２００
Ａ・ｍ² ／kg（１２０〜２００ｅｍｕ／ｇ）が好まし
く、１３０〜１８０Ａ・ｍ² ／kg（１３０〜１８０ｅｍ
ｕ／ｇ）がより好ましい。六方晶バリウムフェライト粉
末では、５０〜７０Ａ・ｍ² ／kg（５０〜７０ｅｍｕ／
ｇ）が好ましい。なお、この磁性層の磁気特性と、強磁
性粉末の磁気特性は、いずれも試料振動形磁束計で外部
磁場1.２８ＭＡ／ｍ（１６ｋＯｅ）での測定値をいうも
のである。

【００４１】また、本発明の磁気記録媒体に使用する強
磁性鉄系金属粉末の平均長軸長としては、0.０３〜0.２
μｍが好ましく、0.０３〜0.１８μｍがより好ましく、
0.０４〜0.１５μｍがさらに好ましい。この範囲が好ま
しいのは、平均長軸長が0.０３μｍ未満となると、磁性
粉の凝集力が増大するため塗料中への分散が困難にな
り、0.２μｍより大きいと、保磁力が低下し、また粒子
の大きさに基づく粒子ノイズが大きくなるからである。
また、六方晶バリウムフェライト粉末では、同様な理由
により、板径５〜２００ｎｍが好ましい。なお、上記の
平均長軸長、粒径は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて
撮影した写真の粒子サイズを実測し、１００個の平均値
により求めたものである。この強磁性鉄系金属粉末のＢ
ＥＴ比表面積は、３５ｍ² ／ｇ以上が好ましく、４０ｍ
² ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍ ² ／ｇ以上が最も好
ましい。六方晶バリウムフェライト粉末のＢＥＴ比表面
積は、１〜１００ｍ² ／ｇ以上が好ましく用いられる。

【００４２】下塗層、磁性層に含有させる結合剤として
は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹
脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化
ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹脂、塩化
ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂、
ニトロセルロースなどの中から選ばれる少なくとも１種
とポリウレタン樹脂との組み合わせを用いることができ
る。中でも、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレ
ート共重合樹脂とポリウレタン樹脂を併用するのが好ま
しい。ポリウレタン樹脂には、ポリエステルポリウレタ
ン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエス
テルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポ
リエステルポリカーボネートポリウレタンなどがある。

【００４３】官能基としてＣＯＯＨ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ
₂ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₃ 、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ ［Ｍは
水素原子、アルカリ金属塩基又はアミン塩］、ＯＨ、Ｎ
Ｒ'Ｒ''、Ｎ⁺ Ｒ''' Ｒ''''Ｒ''''' ［Ｒ' 、Ｒ''、
Ｒ''' 、Ｒ''''、Ｒ''''' は水素または炭化水素基］、
エポキシ基を有する高分子からなるウレタン樹脂等の結
合剤が使用される。このような結合剤を使用するのは、
上述のように磁性粉等の分散性が向上するためである。
２種以上の樹脂を併用する場合には、官能基の極性を一
致させるのが好ましく、中でも−ＳＯ₃ Ｍ基どうしの組
み合わせが好ましい。

【００４４】これらの結合剤は、強磁性粉末１００重量
部に対して、７〜５０重量部、好ましくは１０〜３５重
量部の範囲で用いられる。特に、結合剤として、塩化ビ
ニル系樹脂５〜３０重量部と、ポリウレタン樹脂２〜２
０重量部とを、複合して用いるのが最も好ましい。

【００４５】これらの結合剤とともに、結合剤中に含ま
れる官能基などと結合させて架橋する熱硬化性の架橋剤
を併用するのが望ましい。この架橋剤としては、トリレ
ンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネートなどや、これらのイソ
シアネート類とトリメチロールプロパンなどの水酸基を
複数個有するものとの反応生成物、上記イソシアネート
類の縮合生成物などの各種のポリイソシアネートが好ま
しい。これらの架橋剤は、結合剤１００重量部に対し
て、通常１０〜５０重量部の割合で用いられる。より好
ましくは１０〜３５重量部である。なお、磁性層に使用
する架橋剤の量を、下塗層に使用する量の１／２程度
（３０％〜６０％）にすれば、磁性層表面に存在する未
反応の架橋剤が少なくなり、ＥＳＣＡ観察で得られる窒
素と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）を0.２５以下にしやすく、
ＭＲヘッドのスライダに対する摩擦係数が小さくなるの
で好ましい。この範囲が好ましいのは、３０％未満で
は、結合剤樹脂の架橋が不充分になり磁性層の塗膜強度
が弱くなりやすく、６０％を越えると磁性層表面に存在
する未反応の架橋剤の量が多くなり、Ｎ／Ｆｅを小さく
してスライダに対する摩擦係数が小さくなるために、Ｌ
ＲＴ処理条件を強くする必要があり、コストアップにつ
ながるためである。

【００４６】導電性向上と表面潤滑性向上を目的に従来
公知のＣＢを添加する。これらのＣＢとしては、アセチ
レンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック
等を使用できる。粒子径が５ｎｍ〜１００ｎｍのものが
使用されるが、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものが好ま
しい。この範囲が好ましいのは、粒径が５ｎｍ以下にな
るとＣＢの分散が難しく、１００ｎｍ以上では多量のＣ
Ｂを添加することが必要になり、何れの場合も表面が粗
くなり、出力低下の原因になるためである。添加量は強
磁性粉末に対して0.２〜５重量％が好ましく、0.５〜４
重量％がより好ましく、0.５〜3.５重量％がさらに好ま
しく、0.５〜３重量％がいっそう好ましい。この範囲が
好ましいのは、0.２重量％未満では効果が小さく、５重
量％を越えるＣＢを添加すると、磁性層表面が粗くなり
やすいからである。

【００４７】＜バックコート層＞走行性向上を目的に、
厚さ0.２〜0.８μｍの従来公知のバックコート層を使用
できる。この範囲が良いのは、0.２μｍ未満では、走行
性向上効果が不充分で、0.８μｍを越えるとテープ全厚
が厚くなり、１巻当たりの記憶容量が小さくなるためで
ある。バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数は0.１０〜
0.３０が好ましく、0.１０〜0.２５がより好ましい。こ
の範囲が好ましいのは、0.１０未満になるとガイドロー
ラ部分で滑りやすく走行が不安定になり、0.３０を越え
るとガイドローラが汚れやすくなるためである。また、
［（μ_mSL ）／（μ_BSUS）］は0.８〜1.５が好ましく、
0.９〜1.４がより好ましい。この範囲が好ましいのは、
磁気テープの蛇行によるトラッキングずれ（オフトラッ
ク）が小さくなるためである。

【００４８】バックコート層のカーボンブラック（Ｃ
Ｂ）としては、アセチレンブラック、ファーネスブラッ
ク、サーマルブラック、等を使用できる。通常、小粒径
カーボンと大粒径カーボンを使用する。小粒径カーボン
には、粒子径が５ｎｍ〜２００ｎｍのものが使用される
が、粒径１０ｎｍ〜１００ｎｍのものがより好ましい。
この範囲がより好ましいのは、粒径が１０ｎｍ以下にな
るとＣＢの分散が難しく、粒径が１００ｎｍ以上では多
量のＣＢを添加することが必要になり、何れの場合も表
面が粗くなり、磁性層への裏移り（エンボス）原因にな
るためである。大粒径カーボンとして、小粒径カーボン
の５〜１５重量％、粒径３００〜４００ｎｍの大粒径カ
ーボンを使用すると、表面も粗くならず、走行性向上効
果も大きくなる。小粒径カーボンと大粒径カーボン合計
の添加量は無機粉体重量を基準にして６０〜９８重量％
が好ましく、７０〜９５重量％がより好ましい。バック
コート層の中心線平均表面粗さＲａは３〜１５ｎｍが好
ましく、４〜１０ｎｍがより好ましい。

【００４９】また、バックコート層には、強度向上を目
的に、粒子径が0.１μｍ〜0.６μｍの酸化鉄を添加する
のが好ましく、0.２μｍ〜0.５μｍがより好ましい。添
加量は無機粉体重量を基準にして２〜４０重量％が好ま
しく、５〜３０重量％がより好ましい。

【００５０】本発明のテープを組み込んだカセットテー
プは、１巻当たりの容量が大きく、ＭＲ再生ヘッドを使
用した場合の、ＰＷ５０が小さく、再生出力が高いの
で、エラーレートが低く、ハードディスクドライブのバ
ックアップ用テープとして、信頼性も高く、特に優れて
いる。

【００５１】

【実施例】以下、実施例によって本発明を詳しく説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、実施例、比較例の部は重量部を示す。

【００５２】 実施例１： 《下塗層用塗料成分》 （１） 酸化鉄粉末（粒径：0.１１×0.０２μｍ） ６８部 α―アルミナ（粒径：0.０７μｍ） ８部 カーボンブラック（粒径：２５ｎｍ、吸油量：５５ｇ／cc） ２４部 ステアリン酸 2.０部 塩化ビニル共重合体 8.８部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ） ポリエステルポリウレタン樹脂 4.４部 （Ｔｇ：４０℃、含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：１×１０^-4当量／ｇ） シクロヘキサノン ２５部 メチルエチルケトン ４０部 トルエン １０部 （２） ステアリン酸ブチル １部 シクロヘキサノン ７０部 メチルエチルケトン ５０部 トルエン ２０部 （３） ポリイソシアネート 4.４部 シクロヘキサノン １０部 メチルエチルケトン １５部 トルエン １０部

【００５３】 《磁性層用塗料成分》 （１） 強磁性鉄系金属粉（Ｃｏ／Ｆｅ：２０ａｔ％、Ｙ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：３ａｔ％ 、Ａｌ／（Ｆｅ＋Ｃｏ）：５ｗｔ％、Ｃａ／Ｆｅ：０、σs ：１５５Ａ・ｍ² ／ kg、Ｈｃ：１４9.６ｋＡ／ｍ、ｐＨ：9.４、長軸長：0.１０μｍ） １００部 塩化ビニル−ヒドロキシプロピルアクリレート共重合体 １2.３部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：0.７×１０^-4当量／ｇ） ポリエステルポリウレタン樹脂 5.５部 （含有−ＳＯ₃ Ｎａ基：1.０×１０^-4当量／ｇ） α−アルミナ（平均粒径：0.１２μｍ） ８部 α−アルミナ（平均粒径：0.０７μｍ） ２部 カ−ボンブラック 1.０部 (平均粒径：７５ｎｍ、ＤＢＰ吸油量：７２cc／１００ｇ） メルアシッドホスフェート ２部 ステアリン酸ｎ−ブチル 1.０部 テトラヒドロフラン ６５部 メチルエチルケトン ２４５部 トルエン ８５部 （２） ポリイソシアネート 2.０部 シクロヘキサノン １６７部

【００５４】上記の下塗層用塗料成分において（１）を
ニ―ダで混練したのち、（２）を加えて攪拌の後サンド
ミルで滞留時間を６０分として分散処理を行い、これに
（３）を加え攪拌・濾過した後、下塗層用塗料とした。
これとは別に、上記の磁性層用塗料成分（１）をニーダ
で混練したのち、サンドミルで滞留時間を４５分として
分散し、これに磁性層用塗料成分（２）を加え攪拌・濾
過後、磁性塗料とした。上記の下塗層用塗料を、ポリエ
チレンナフタレートフイルム（厚さ6.２μｍ、ＭＤ＝6.
０８ＧＰａ、ＭＤ／ＴＤ＝1.３、帝人製）からなる支持
体上に、乾燥、カレンダ後の厚さが1.８μｍとなるよう
に塗布し、この下塗層上に、さらに上記の磁性塗料を磁
場配向処理、乾燥、カレンダー処理後の磁性層の厚さが
0.１５μｍとなるようにウエット・オン・ウエットで塗
布し、磁場配向処理後、ドライヤを用いて乾燥し、磁気
シートを得た。なお、磁場配向処理は、ドライヤ前にＮ
−Ｎ対抗磁石（５ｋＧ）を設置し、ドライヤ内で塗膜の
指蝕乾燥位置の手前側７５cmからＮ−Ｎ対抗磁石（５ｋ
Ｇ）を２基５０cm間隔で設置して行った。塗布速度は１
００ｍ／分とした。

【００５５】 《バックコート層用塗料成分》 カーボンブラック（粒径：２５ｎｍ） ８０部 カ−ボンブラック（粒径：３７０ｎｍ） １０部 酸化鉄（長軸長：0.４μｍ、軸比：約１０） １０部 ニトロセルロ−ス ４５部 ポリウレタン樹脂（ＳＯ₃ Ｎａ基含有） ３０部 シクロヘキサノン ２６０部 トルエン ２６０部 メチルエチルケトン ５２５部

【００５６】上記バックコート層用塗料成分をサンドミ
ルで滞留時間４５分として分散した後、ポリイソシアネ
ート１５部を加えてバックコート層用塗料を調整し濾過
した後、上記で作製した磁気シートの磁性層の反対面
に、乾燥、カレンダ後の厚みが0.５μｍとなるように塗
布し、乾燥した。このようにして得られた磁気シートを
金属ロールからなる７段カレンダで、温度１００℃、線
圧１５０kg／cmの条件で鏡面化処理し、磁気シートをコ
アに巻いた状態で７０℃で７２時間エージングしたの
ち、１／２幅に裁断し、下記の条件でＬＲＴ処理を行っ
た。このようにして得られた磁気テープをカートリッジ
に組み込み、コンピュータ用磁気テープを作製した。

【００５７】＜ＬＲＴ（ラッピング／ロータリー／ティ
ッシュ処理＞ （１）ラッピング処理：図１に示すように研磨テープ
（ラッピングテープ）３を、回転ロール５によって磁気
テープ３０の送り方向（磁気テープ送り速度：標準で４
００ｍ／min ）と反対方向に１4.４cm／min の速さで移
動させ、図中の下部からガイドブロック４によって押さ
ることによって磁気テープ３０の磁性層３０ａの表面と
接触させ、この時の磁気テープ巻き出しテンションを１
００ｇ、研磨テープ３のテンションを２５０ｇとして研
磨処理を行った。 （２）ロータリホイール処理：第１図に示す幅１吋（２
5.４mm）、直径６０mmφで２mm幅の空気抜き用溝付アル
ミ製ロータリホイール（溝角度４５度、協和精工社製）
６を磁気テープ３０の送り方向と反対方向に回転（回転
速度１１００ｒｐｍ）させて、磁性層３０ａに対して接
触角度９０度で接触させることにより、磁性層３０ａの
表面処理を行った。 （３）ティッシュ処理：不織布（ここでは、東レ社製の
不織布トレシー）９を、磁気テープ３０の送り方向と反
対方向に１4.０mm／min の速度で送り、回転棒７・８で
各々バックコート層３０ｂおよび磁性層３０ａの表面と
押し当てて、これらの表面に対するクリーニング処理を
行った。

【００５８】実施例２〜１１：一部条件を表１ないし表
４の条件に変更したことを除き、実施例１と同様にして
コンピュータ用磁気テープをそれぞれ作製した。

【００５９】比較例１：ＬＲＴ処理を行わなかったこと
を除き、実施例１と同様にして比較例１のコンピュータ
用磁気テープを作製した。

【００６０】比較例２：ＬＲＴ処理の代りに下記のＬＢ
Ｔ処理を行ったことを除き、実施例１と同様にして比較
例２のコンピュータ用磁気テープを作製した。

【００６１】＜ＬＢＴ処理＞磁気テープを４００ｍ／分
で走行させながら磁性層表面をラッピングテープ研磨、
ブレード研磨そして表面拭き取りの後処理を行い、磁気
テ−プを作製した。この時、ラッピングテープにはＫ１
００００、ブレードには超硬刃、表面拭き取りにはトレ
シーを用い、走行テンション３０ｇで処理を行った。上
記のようにして得られた磁気テープを、カートリッジに
組み込み、コンピュータ用テープを作製した。

【００６２】比較例３および比較例４：ＬＢＴ処理を１
０回（比較例３）および２０回（比較例４）行ったこと
を除き、比較例２と同様にして比較例３および比較例４
のコンピュータ用テープをそれぞれ作製した。

【００６３】各磁気テープについての評価は、以下のよ
うにして行った。 ＜ＰＷ５０、再生出力およびエラーレート等の測定＞Ｐ
Ｗ５０、再生出力およびエラーレート（ＥＲＴ）の測定
は、薄手テープも測定できるように改造したＬＴＯドラ
イブを用いて記録（記録波長0.５５μｍ）・再生するこ
とによって求めた。ＰＷ５０は、比較例１テープのＰＷ
５０を１とした時の値、再生出力は、比較例１テープを
０ｄＢとした時の値、出力劣化およびＥＲＴ劣化はそれ
ぞれの磁気テープの初期値を０ｄＢとして記録再生を１
０回行った後の値である。 ＜磁性層の表面粗さ、凹凸の中心値および凸量の評価＞
ＺＹＧＯ社製汎用三次元表面構造解析装置ＮｅｗＶｉｅ
ｗ５０００による走査型白色光干渉法にてＳｃａｎ Ｌ
ｅｎｇｔｈを５μｍで測定した。測定視野は、３５０μ
ｍ×２６０μｍである。中心線平均表面粗さをＲａと
し、磁性層の凹凸の中心値をＰ₀ 、最大の凸量（第１番
目の凸量）をＰ₁ 、順次第２番目、第３番目、第４番
目、第５番目、・・・、第１９番目、第２０番目の凸量
を、Ｐ₂ 、Ｐ ₃ 、Ｐ₄ 、Ｐ₅ 、・・・、Ｐ₁₉、Ｐ₂₀とし
た時の（Ｐ₁ −Ｐ₀ ）と（Ｐ₁ −Ｐ_{20 ）および［（Ｐ1}
−Ｐ₀ ）／Ｒａ］を求めた。 ＜ＭＲヘッドの突出量と、磨耗量の測定＞ＤＩ(Digital
Instrument)社製の走査型プローブ顕微鏡(Nano Scopea
／Dimension-3100 Tapping mode AFM)で、８０μｍ×８
０μｍの視野を測定し、傾き、ノイズ等の補正をしたの
ち、断面プロファイルの解析を行い、ＭＲヘッドの突出
量、走行前後の磨耗量を測定した。 ＜磁性層とスライダ材料およびＳＵＳとの摩擦係数の測
定＞ ＜ＳＵＳ＞外径５mmのＳＵＳピン（ＳＵＳ３０４）に磁
気テープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、磁気テー
プの同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返し１０回
摺動させた時の摩擦係数を測定した。 ＜スライダ材料＞外径７mmのＡＬＴＩＣのピンに磁気テ
ープを角度９０°、荷重0.６４Ｎで掛け、磁気テープの
同一箇所を送り速度２０mm／sec で繰り返し１０回摺動
させた時の摩擦係数を測定した。 ＜非磁性支持体のヤング率（ＭＤ、ＴＤ）の測定＞小型
引っ張り試験機（横浜システム社製）を用い、２３℃、
５０％ＲＨの環境でもの歪み・引っ張り強度を測定し
た。試料の測定長さは１０mm、引っ張り速度１０％歪み
／分で引っ張り、得られた強度の0.３％歪みの値をもと
に、0.３％伸び弾性率を評価した。この評価は試料の長
手方向と幅方向で行った。 ＜ＥＳＣＡ測定＞表面の元素量の特定にはＥＳＣＡ分析
法を用いることが好ましい。ＶＧ社製のＸＰＳ分析装置
（ＥＳＣＡＬＡＢｍａｒｋII）を用い、Ｘ線源はＭｇＫ
α線、強度１２ｋＶ−１０ｍＡの条件で測定した。測定
は、塩素（２ｐ）、窒素（１ｓ）、鉄（２ｐ）の順序で
それぞれの積算回数を５回、５０回、２０回に定め、光
電子スペクトル強度を計測することにより行った。な
お、テープから脂肪酸アミド（Ｎ含有）を除去するた
め、テープをヘキサン中に１６時間保存した後、真空乾
燥してから測定を行った。

【００６４】以上の測定結果を表１ないし表５に示す。
表中の略号の意味は、以下の通りである。 ・μ_mSL ：磁性層とスライダ材料との摩擦係数 ・μ_mSUS：磁性層とＳＵＳとの摩擦係数 ・μ_BSUS：バックコート層とＳＵＳとの摩擦係数 ・Ｂｒδ：磁性層の残留磁束密度（Ｂｒ）と厚さ（δ）
との積 ・Ｈｃ：磁性層の保磁力 ・ＢＣ：バックコート層 ・ＣＢ：カーボンブラック ・ＭＤ／ＴＤ：非磁性支持体の長手方向のヤング率（Ｍ
Ｄ）と幅方向のヤング率（ＴＤ）との比 ・磁性面表面粗度Ｒａ：磁性層の中心線平均表面粗さＲ
ａ

【００６５】

【表１】

【００６６】

【表２】

【００６７】

【表３】

【００６８】

【表４】

【００６９】

【表５】

【００７０】

【発明の効果】表１ないし表５の実施例１〜１１および
比較例１〜４から明らかなように、非磁性支持体上の一
面に、少なくとも一層の下塗層と、磁性層とがこの順に
形成され、反対面にバックコート層を有する磁気記録媒
体において、該磁性層の厚さが0.３０μｍ以下、平均面
粗さＲａが3.２ｎｍ以下で、該磁性層の凹凸の中心値を
Ｐ₀ 、該磁性層の最大の凸量をＰ₁ 、第２０番目の凸量
をＰ₂₀とした時の（Ｐ₁−Ｐ₀ ）が３０ｎｍ以下、（Ｐ₁
−Ｐ₂₀）が５ｎｍ以下で、かつＥＳＣＡ観察で得られ
る窒素と鉄の原子比（Ｎ／Ｆｅ）が0.２５以下ある磁気
記録媒体は、エラーレート、オフトラックが小さい優れ
た磁気記録媒体であることが確認された。このような効
果は、特に（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）を1.８ｎｍ以下としたときに
顕著である。また、磁気記録媒体の磁性層を研磨テープ
（ラッピングテープ）で研磨する工程と、その後に回転
ドラムで磁気記録媒体の磁性層を平滑化する工程と、そ
の後に磁気記録媒体の磁性層または磁性層およびバック
コート層の汚れを拭き取る工程とを含む磁気記録媒体の
処理方法は、エラーレート、オフトラックが小さい優れ
た磁気記録媒体を作製するための優れた処理方法である
ことも確認された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体を製造する場合に行うＬ
ＲＴ（ラッピング／ロータリ／ティッシュ）処理の一例
を示す概略工程図である。

【図２】スライダ上に載置された、記録ヘッドと再生用
のＭＲヘッドとを示す概略平面図である。

【図３】図２のＹ−Ｙ線で切断した概略断面図である。

【符号の説明】

３ 研磨テープ（ラッピングテープ） ６ 回転ドラム（ロータリホイール） ２０ ＭＲヘッド ２２ スライダ ３０ 磁気記録媒体（磁気テープ） ３０ａ 磁性層 ３０ｂ バックコート層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上の一面に、少なくとも一
   層の下塗層と、磁性層とがこの順に形成され、反対面に
   バックコート層を有する磁気記録媒体において、磁性層
   の厚さが0.３０μｍ以下、中心線平均表面粗さＲａが3.
   ２ｎｍ以下で、磁性層の凹凸の中心値をＰ₀ 、磁性層の
   最大の凸量をＰ₁ 、第２０番目の凸量をＰ₂₀とした時の
   （Ｐ₁ −Ｐ₀ ）が３０ｎｍ以下、（Ｐ₁ −Ｐ₂₀）が５ｎ
   ｍ以下で、かつＥＳＣＡ観察で得られる窒素と鉄の原子
   比（Ｎ／Ｆｅ）が0.２５以下であることを特徴とする磁
   気記録媒体。
2. 【請求項２】 磁気抵抗効果型素子を利用した再生ヘッ
   ドによって磁気記録信号が再生される請求項１記載の磁
   気記録媒体。
3. 【請求項３】 磁気記録媒体の処理方法であって、磁気
   記録媒体の磁性層を研磨テープ（ラッピングテープ）で
   研磨する工程と、その後に回転ドラムで磁気記録媒体の
   磁性層を平滑化する工程と、その後に磁気記録媒体の磁
   性層または磁性層およびバックコート層の汚れを拭き取
   る工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体の処理方
   法。