JP2003156446A - 照明光学装置およびそれを備えた検査装置 - Google Patents

照明光学装置およびそれを備えた検査装置

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JP2003156446A
JP2003156446A JP2001353571A JP2001353571A JP2003156446A JP 2003156446 A JP2003156446 A JP 2003156446A JP 2001353571 A JP2001353571 A JP 2001353571A JP 2001353571 A JP2001353571 A JP 2001353571A JP 2003156446 A JP2003156446 A JP 2003156446A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 空間的にも角度的にも均一な強度分布の照明
光を射出することができる照明光学装置、およびそれを
備えた検査装置を提供する。 【解決手段】 光源31と、光源からの光を集光する第
1光学系32と、ロッド型オプティカルインテグレータ
22と、ロッド型オプティカルインテグレータからの光
を集光する第2光学系23と、バンドル型ランダムライ
トガイド24とを順に配置する。ロッド型オプティカル
インテグレータ22は、第1光学系32によって形成さ
れる光源像の形成面または該形成面と共役な面に配置さ
れた光入射面22aと、第2光学系23の前側焦点面に
配置された光射出面22bとを有する。バンドル型ラン
ダムライトガイド24は、第2光学系23によって形成
される光源像の形成面または該形成面と共役な面に配置
された光入射面24aと、外部に照明光を射出する光射
出面24bとを有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、照明光を射出する
照明光学装置およびそれを備えた検査装置に関し、特
に、半導体素子などの製造工程における基板の表面検査
に好適な照明光学装置およびそれを備えた検査装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来より、光源とバンドル型ランダムラ
イトガイドとを備えた照明光学装置が知られている。バ
ンドル型ランダムライトガイドは、多数の光ファイバ素
線を束ねたものであり、光入射面と光射出面とで光ファ
イバ素線の配列がランダムになっている。
【0003】このような照明光学装置では、光源からの
光をバンドル型ランダムライトガイドの光入射面に入射
させ、バンドル型ランダムライトガイドの光射出面から
外部に照明光を射出することになる。したがって、バン
ドル型ランダムライトガイドの光入射面に入射する光の
強度分布が空間的に不均一であっても、バンドル型ラン
ダムライトガイドの光射出面から射出される照明光の強
度分布を空間的に均一化できる。すなわち、空間的に均
一な強度分布の照明光を射出することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の照明光学装置では、バンドル型ランダムライト
ガイドの光入射面に入射する光の強度分布が角度的に不
均一な場合、バンドル型ランダムライトガイドの光射出
面から射出される照明光の強度分布を角度的に均一化す
ることはできなかった。
【0005】これは、バンドル型ランダムライトガイド
の各々の光ファイバ素線において、光の角度的な強度分
布が維持されるからである。このため、従来の照明光学
装置では、空間的には均一でも角度的には不均一な強度
分布の照明光を射出することになっていた。本発明の目
的は、空間的にも角度的にも均一な強度分布の照明光を
射出することができる照明光学装置、およびそれを備え
た検査装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の照明光
学装置は、光源と、該光源からの光を集光する第1光学
系と、ロッド型オプティカルインテグレータと、該ロッ
ド型オプティカルインテグレータからの光を集光する第
2光学系と、バンドル型ランダムライトガイドとが順に
配置され、前記ロッド型オプティカルインテグレータ
が、前記第1光学系によって形成される前記光源の像の
形成面または該形成面と共役な面に配置された光入射面
と、前記第2光学系の前側焦点面に配置された光射出面
とを有し、前記バンドル型ランダムライトガイドが、前
記第2光学系によって形成される前記光源の像の形成面
または該形成面と共役な面に配置された光入射面と、外
部に照明光を射出する光射出面とを有するものである。
【0007】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の照明光学装置において、前記バンドル型ランダムライ
トガイドの前記光入射面は、前記第2光学系による前記
像の形成面と共役な面に配置され、前記第2光学系と前
記バンドル型ランダムライトガイドとの間に、前記第2
光学系からの光を入射して、前記第2光学系による前記
像を前記バンドル型ランダムライトガイドの前記光入射
面に再結像する第3光学系と、前記照明光の波長を選択
する選択手段とが配置されたものである。
【0008】請求項3に記載の発明は、請求項1または
請求項2に記載の照明光学装置と、前記照明光学装置の
前記バンドル型ランダムライトガイドの前記光射出面か
ら射出された前記照明光を被検物体に照射する照射手段
と、前記照明光が照射された前記被検物体の像を撮像
し、前記被検物体の像に基づいて前記被検物体の欠陥を
検出する検出手段とを備えたものである。
【0009】請求項4に記載の照明光学装置は、光源
と、前記光源からの光を集光する第1光学系と、前記第
1光学系から射出される光の角度的不均一性を補正する
第1補正光学系と、前記第1補正光学系から射出される
光の空間的不均一性を補正する第2補正光学系とを備
え、前記光源からの光の角度的不均一性の補正後に空間
的不均一性の補正を行い、照明光を作り出すものであ
る。
【0010】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の照明光学装置において、前記第1補正光学系が、ロッ
ド型オプティカルインテグレータと、該ロッド型オプテ
ィカルインテグレータからの光を集光する第2光学系と
から構成され、前記第2補正光学系が、バンドル型ラン
ダムライトガイドから構成されたものである。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
形態を詳細に説明する。
【0012】(第1実施形態)本発明の第1実施形態は、
請求項1,請求項3〜請求項5に対応する。第1実施形
態の検査装置10は、図1に示すように、被検物体であ
る基板11を保持するステージ12と、ステージ12上
の基板11の表面に照明光L1を照射する照明光学系1
3と、照明光L1が照射された基板11の表面からの戻
り光L2(正反射光、散乱光、または回折光)を受光す
る受光光学系14と、画像処理装置15とで構成されて
いる。
【0013】第1実施形態の検査装置10は、半導体回
路素子などの製造工程において、基板11の表面に形成
された繰り返しパターンの欠陥検査を行うための装置で
ある。繰り返しパターンとは、周期的に繰り返される線
配列形状の回路パターンのことである。基板11は、半
導体ウエハや液晶ディスプレイパネルなどである。第1
実施形態の検査装置10の全体構成を具体的に説明する
前に、この検査装置10に組み込まれた照明光学装置2
0の説明を行う。
【0014】照明光学装置20は、図1に示すように、
ランプ21と、ロッド型オプティカルインテグレータ2
2と、リレーレンズ23と、バンドル型ランダムライト
ガイド24とで構成されている。このうち、ランプ21
は、光源31と楕円鏡32とで構成され、ランプハウス
21aの内部に収納されている。楕円鏡32は、回転楕
円面の内側を反射面とした凹面反射鏡である。光源31
と楕円鏡32とは、図2に示すように、光源31の発光
点31aが楕円鏡32の第1焦点32aと一致するよう
に配置されている。
【0015】このため、光源31の発光点31aから射
出された光は、楕円鏡32で反射して、楕円鏡32の第
2焦点32bに集光する(光La)。そして、楕円鏡3
2の第2焦点32bには、光源31の像が形成される。
以下、楕円鏡32の第1焦点32aと第2焦点32bと
を結ぶ仮想的な線(図中点線で示す線)を光軸O20と
いう。
【0016】なお、楕円鏡32は請求項の「第1光学
系」に対応する。楕円鏡32の第2焦点32bを通って
光軸O20に垂直な面は、楕円鏡32によって光源31
の像が形成される面であり、請求項の「光源の像の形成
面」に対応する。上記ランプ21の後段に配置されたロ
ッド型オプティカルインテグレータ22は、棒状のガラ
ス材料(石英や蛍石など)からなる内面反射型のガラス
ロッドである。その屈折率分布は均一である。また、ロ
ッド型オプティカルインテグレータ22の断面は例えば
円形状であり、その径が中心軸に沿って一定である。
【0017】このロッド型オプティカルインテグレータ
22の配置は、中心軸が上記の光軸O20に一致し、か
つ、一方の端面22aが上記の楕円鏡32の第2焦点3
2bに一致するようになっている。一方の端面22a
は、請求項の「光入射面」に対応する。このため、楕円
鏡32の第2焦点32bに集光した光Laは、ロッド型
オプティカルインテグレータ22の一方の端面22aか
ら内部に入射して、他方の端面22bから射出する(光
Lb)。ロッド型オプティカルインテグレータ22の内
部における光の伝搬などについては、後で詳細に説明す
る。他方の端面22bは、請求項の「光射出面」に対応
する。
【0018】なお、ロッド型オプティカルインテグレー
タ22の2つの端面22a,22bは、中心軸(光軸O
20)に略垂直な平面であり、側面22cは円筒面であ
る。2つの端面22a,22bと側面22cとは、何れ
も、精密に研磨されている。ちなみに、ロッド型オプテ
ィカルインテグレータ22の端面22bは、照明光学装
置20の開口絞りに相当する。
【0019】また、上記ロッド型オプティカルインテグ
レータ22の後段に配置されたリレーレンズ23は、そ
の光軸が上記の光軸O20に一致し、かつ、前側焦点面
がロッド型オプティカルインテグレータ22の端面22
b(開口絞り相当)に一致するように配置されている。
このため、リレーレンズ23の像側は、テレセントリッ
ク系になる。
【0020】このリレーレンズ23は、ロッド型オプテ
ィカルインテグレータ22の端面22b(開口絞り相
当)から射出した光Lbを集光して、主光線が光軸O2
0と平行な光Lcに変換し、ロッド型オプティカルイン
テグレータ22の端面22aの像を形成する。なお、リ
レーレンズ23は請求項の「第2光学系」に対応する。
リレーレンズ23の像側において光軸O20に垂直な面
は、リレーレンズ23によって端面22aの像が形成さ
れる面であり、請求項の「光源の像の形成面」に対応す
る。
【0021】また、上記リレーレンズ23の後段に配置
されたバンドル型ランダムライトガイド24(図1)
は、数10μm〜数100μmの光ファイバ素線を多数
束ねたものである。光ファイバ素線の配列は、一方の端
面24aと他方の端面24bとでランダムになってい
る。一方の端面24aは請求項の「光入射面」に対応
し、他方の端面は「光射出面」に対応する。
【0022】このバンドル型ランダムライトガイド24
は、一方の端面24aが上記の光軸O20に対して略垂
直となるように配置されている。バンドル型ランダムラ
イトガイド24は、リレーレンズ23から得られる光L
cを伝送して、端面24bから外部の球面反射鏡25
(後述する)に照明光L0を射出する。バンドル型ランダ
ムライトガイド24は、請求項の「第2補正光学系」に
対応する。
【0023】なお、上記のロッド型オプティカルインテ
グレータ22およびリレーレンズ23は、請求項の「第
1補正光学系」に対応し、楕円鏡32から射出された光
Laを平行光束(Lc)に変換するコリメイト光学系とし
て機能する。上記のように構成された照明光学装置20
において、光源31の発光点31a(図2)から射出さ
れた光は、既に説明したように、楕円鏡32で反射して
第2焦点32bに集光する(光La)。ここで、光源3
1からの光は、光軸O20に垂直な方向を中心にして、
ある角度範囲Δθ(<180°)内に発生する。このた
め、楕円鏡32の第2焦点32bに集光する光Laに
は、光軸O20と略平行な成分が存在しない(図2の斜
線部分)。
【0024】つまり、第2焦点32bに集光する光La
の角度方向(図2中α方向)に関する強度分布は、光軸
O20とのなす角度αがβより小さい範囲(0≦α<
β,斜線部分)内でほぼ零であり、光軸O20とのなす
角度αがβ以上でかつγ以下の範囲(β≦α≦γ)内で
ほぼ一定値となる。なお、角度α=0は、光軸O20の
方向である。
【0025】そして、第2焦点32bに集光する光La
は、角度方向(α方向)に関する強度分布が上記のように
不均一なままで、ロッド型オプティカルインテグレータ
22の一方の端面22aから内部に入射する。ちなみ
に、ロッド型オプティカルインテグレータ22の端面2
2aには、光源31の像(実像)が形成される。さて、
ロッド型オプティカルインテグレータ22の端面22a
から内部に入射した光Ldは、図3(a)に示すように、
側面22cに到達すると、そのときの入射角φ1,φ2,
…が臨界角より大きければ、そこで全反射する(内面反
射)。ロッド型オプティカルインテグレータ22の方が
周囲(空気)より屈折率が高いためである。
【0026】端面22aから内部に入射した光Ldが最
初に全反射する地点P1,P2,…は、光Ldの端面22
aでの屈折角Φ1,Φ2,…が小さいほど、つまり、光L
aの端面22aでの入射角α1,α2,…が小さいほど、
端面22aから遠く離れる。そして、端面22aでの屈
折角Φが閾値(端面22aから端面22bを見込む角
度)より小さい光Ldは、側面22cに到達することな
く、直接、他方の端面22bに到達して、そのまま外部
のリレーレンズ23に向けて射出する。
【0027】一方、側面22cの地点P1,P2,…で全
反射した後の光Ldは、再びロッド型オプティカルイン
テグレータ22の内部を進行して、側面22cの別の地
点に到達すると再び全反射する。また、他方の端面22
bに到達すると、外部のリレーレンズ23に向けて射出
する。このように、端面22aから内部に入射した光L
dは、他方の端面22bに到達するまで、側面22cに
おける全反射を繰り返すことになる。
【0028】光Ldが端面22bに到達するまでの間に
全反射する回数Nは、光Ldの端面22aでの屈折角Φ
によって異なる。つまり、光Laの端面22aでの入射
角αによって異なる。傾向としては、光Laの端面22
aでの入射角αが大きく、光Ldの端面22aでの屈折
角Φが大きいほど、全反射の回数Nは多くなる。ただ
し、全反射の回数Nが等しくなるような光Ldの屈折角
Φや光Laの入射角αは、ある幅をもっている。以下、
全反射の回数Nと光Laの入射角αとの関係を説明す
る。
【0029】例えば、図3(b)に示すように、全反射の
回数Nが2回となる光La(1)の入射角αを、角度α1
1より大きくかつ角度α12より小さいとする(α11
<α<α12)。また、図3(c)に示すように、全反射
の回数Nが4回となる光La(2)の入射角αを、角度α
13より大きく角度α14より小さいとする(α13<
α<α14)。このとき、これらの角度α11,α12,
α13,α14と、図2に示す角度β,γとの間には、
「β≦α11<α12<α13<α14≦γ」の大小関
係が成立する。
【0030】ちなみに、ロッド型オプティカルインテグ
レータ22の端面22aに入射する光Laは、既に説明
したように、入射角αが「β≦α≦γ」を満たす範囲内
でほぼ一定の強度をもつ。そして、上記の光Laのう
ち、入射角αが「α11<α<α12」を満たす部分範
囲内の光La(1)は、側面22cにおける2回の全反射
を経て端面22bから外部のリレーレンズ23へ射出し
(図3(b))、入射角αが「α13<α<α14」を満
たす部分範囲内の光La(2)は、4回の全反射を経て端
面22bから外部へ射出する(図3(c))。
【0031】なお、図示省略したが、入射角αが「α1
2<α<α13」を満たす部分範囲内の光La(3)は、
3回の全反射を経て端面22bから射出すると考えられ
る。同様に、その他の部分範囲内の光La(n)は、その
入射角αに応じた回数だけ全反射して、端面22bから
射出すると考えられる。このように、ロッド型オプティ
カルインテグレータ22の端面22aに入射する光La
は、側面22cにおける全反射の回数Nに応じて、角度
方向(α方向)に分割されることになる(図4のLa
(1),La(2),La(3),…参照)。光Laの入射角αが大
きいほど全反射の回数Nが多くなる傾向は、上述した通
りである。
【0032】そして、角度方向(α方向)に分割された
光La(1),La(2),La(3),…の各々は、ロッド型オプ
ティカルインテグレータ22の内部に入射すると、その
入射角αに応じた回数だけ側面22cで全反射して、他
方の端面22bに到達すると、外部のリレーレンズ23
に向けて射出する(図3,図4の光Lb(1),Lb(2),…
参照)。
【0033】このとき端面22bから射出される光Lb
(1),Lb(2),…の光軸O20とのなす角度(射出角)は、
各々、対応する光La(1),La(2),…の入射角αと等し
い。例えば、光Lb(1)の射出角は「α11<α<α1
2」の範囲内に含まれ、光Lb(2)の射出角は「α13
<α<α14」の範囲内に含まれる。つまり、端面22
bから射出される光Lb(1),Lb(2),…の射出角は、互
いに異なっている。
【0034】したがって、端面22bから射出された光
Lb(1),Lb(2),…は、各々、後段に配置されたリレー
レンズ23を介して集光し(図3,図4の光Lc(1),L
c(2),…参照)、バンドル型ランダムライトガイド24
の端面24aに光源31の像Q1,Q2,…を形成する。
ここで、バンドル型ランダムライトガイド24の端面2
4aに形成された光源31の像Q1,Q2,…の各々は、
上記の分割された光La(1),La(2),…ごとに対応し
て、また、側面22cでの全反射の回数Nが異なる光L
b(1),Lb(2),…ごとに対応して、各々形成されたもの
である。
【0035】換言すると、バンドル型ランダムライトガ
イド24の端面24aに形成された光源31の像Q1,
Q2,…の各々は、ロッド型オプティカルインテグレー
タ22の端面22aに形成された光源31の像(実像S
0)が、上記した端面22aでの入射角αや全反射の回
数Nに応じて、空間的に分割されたものである。また、
ロッド型オプティカルインテグレータ22の端面22a
を拡張した仮想平面22e(図4に点線で示す面)に
は、ロッド型オプティカルインテグレータ22による光
源31の虚像S1,S2,…(二次光源)が形成されてい
る。このため、バンドル型ランダムライトガイド24の
端面24aに形成された光源31の像Q1,Q2,…の各
々は、仮想平面22eに形成された虚像S1,S2,…の
各々を光源としたときに形成される像と考えることもで
きる。
【0036】ちなみに、バンドル型ランダムライトガイ
ド24の端面24aに形成された光源31の像Q1,Q
2,…は、図5に示すように、それぞれ径の異なるリン
グ状であり、光軸O20を中心にして同心円状に形成さ
れている。像Q1,Q2,…の数および間隔は、ロッド型
オプティカルインテグレータ22の端面22a,22b
の径と、側面22cの長さと、端面22aに対する光L
aの入射角α(つまり端面22bからの光Lbの射出
角)に応じて決まる。
【0037】さらに、既に説明したように、リレーレン
ズ23の像側がテレセントリック系であるため、バンド
ル型ランダムライトガイド24の端面24aに集光し、
光源31の像Q1,Q2,…を形成する光Lc(1),Lc
(2),…は、主光線が何れも光軸O20と平行である(図
2参照)。また、光源31の像Q1,Q2,…を形成する
光Lc(1),Lc(2),…の各々の角度方向(図4中ε方
向)に関する強度分布は、上記の角度方向(α方向)に
分割された光La(1),La(2),La(3),…の各々におけ
る強度分布を反映しているため、光軸O20とのなす角
度εに関わらずほぼ一定値となる。なお、角度ε=0
は、光軸O20に平行な方向である。
【0038】したがって、光源31の像Q1,Q2,…を
形成する光Lc(1),Lc(2),…の各々は、角度方向(ε
方向)に関する強度分布が均一な状態で、バンドル型ラ
ンダムライトガイド24の端面24aから内部に入射す
ることになる。また、このとき端面24aに入射する光
Lc(1),Lc(2),…の空間的な強度分布は、図5に示す
像Q1,Q2,…の通りであり、不均一である。
【0039】そして、バンドル型ランダムライトガイド
24は、上記の空間的には不均一だが角度的には均一な
強度分布の光Lc(1),Lc(2),…を伝送して、図1に示
すように、他方の端面24bから外部の球面反射鏡25
(後述する)に対して照明光L0を射出する。ここで、バ
ンドル型ランダムライトガイド24は、端面24aと端
面24bとで光ファイバ素線の配列がランダムになって
いるため、端面24aに入射する光Lc(1),Lc(2),…
の強度分布が空間的に不均一(図5参照)であっても、
図6に示すように、端面24bから射出される照明光L
0の強度分布を空間的に均一化することができる。
【0040】さらに、バンドル型ランダムライトガイド
24は、光Lc(1),Lc(2),…を伝送するに当たり、各
々の光ファイバ素線において光の角度的な強度分布を維
持するため、端面24aに入射するときの角度方向(ε
方向)に関する均一な強度分布と同じ強度分布をもった
照明光L0を射出する。すなわち、上記した照明光学装
置20によれば、光源31から射出される光の強度分布
が空間的にも角度的にも不均一な場合でも、常に、空間
的にも角度的にも均一な強度分布の光に変換することが
でき、これを照明光L0として外部に射出することがで
きる。
【0041】さらに、上記した照明光学装置20によれ
ば、次のような効果も奏する。一般的に、ランプ21を
交換する際には、ランプ21の取り付け位置にずれが生
じたり、ランプ21を構成する光源31の位置が楕円鏡
32の第1焦点32aからずれることがある。そして、
このような位置ずれが生じると、バンドル型ランダムラ
イトガイド24の端面24aにおいて、光Lc(1),Lc
(2),…の集光位置(図5の像Q1,Q2,…の位置)が変
化したり、入射角度が光軸O20に対して変化したりす
ることがある。
【0042】しかし、バンドル型ランダムライトガイド
24は、端面24aと端面24bとで光ファイバ素線の
配列がランダムになっているため、光Lc(1),Lc(2),
…の集光位置(図5の像Q1,Q2,…の位置)が変化し
た場合でも、その位置ずれの影響はほとんど無く、空間
的に均一な強度分布の照明光L0を射出できる。
【0043】さらに、バンドル型ランダムライトガイド
24の端面24aに入射する光Lc(1),Lc(2),…の角
度条件が何れも同じであるため、光Lc(1),Lc(2),…
の入射角度が光軸O20に対して変化しても、その角度
ずれの影響はほとんど無く、角度的にも均一な強度分布
の照明光L0を射出できる。さて次に、上記の照明光学
装置20を組み込んだ検査装置20の全体構成につい
て、図1を用いて具体的に説明する。
【0044】ステージ12には、不図示のチルト機構が
設けられている。このため、ステージ12は、基板11
の表面を通る軸Axのまわりに所定の角度範囲内でチル
ト可能である。なお、ステージ12は、不図示の搬送装
置によって搬送されてきた基板11を上面に載置し、真
空吸着によって固定保持する。ここで、ステージ12
(基板11)の軸Axに平行な方向をX方向とする。ま
た、ステージ12(基板11)が水平に保たれた状態で
の法線(基準法線)に平行な方向をZ方向とする。さら
に、X方向およびZ方向に直交する方向をY方向とす
る。
【0045】また、照明光学系13は、上記の照明光学
装置20と球面反射鏡25とで構成された偏心光学系で
ある。球面反射鏡25は請求項の「照射手段」に対応す
る。照明光学装置20は、バンドル型ランダムライトガ
イド24の端面24bが球面反射鏡25の前側焦点面と
一致するように配置されている。そして、照明光学装置
20は、バンドル型ランダムライトガイド24の端面2
4bから球面反射鏡25に向けて照明光L0を射出す
る。照明光L0は、空間的にも角度的にも均一な強度分
布の光である。
【0046】球面反射鏡25は、球面の内側を反射面と
した凹面反射鏡であり、ステージ12の斜め上方に配置
される。つまり、球面反射鏡25の中心とステージ12
の中心とを通る軸(光軸O1)は、基準法線(Z方向)に
対して所定の角度θiだけ傾けられている。θiは固定
値である。
【0047】また、球面反射鏡25は、光軸O1がステ
ージ12の軸Ax(X方向)に対して直交すると共に、
後側焦点面が基板11と略一致するように配置されてい
る。検査装置10の照明光学系13は、基板11側に対
してテレセントリックな光学系である。上記の照明光学
系13において、照明光学装置20のバンドル型ランダ
ムライトガイド24の端面24bから射出された照明光
L0は、球面反射鏡25を介してほぼ平行な光(照明光
L1)となり、ステージ12上の基板11の表面に全体
的に照射される。
【0048】このとき、基板11の表面は、空間的にも
角度的にも均一な強度で良好に照明される。ちなみに、
端面24bから射出された照明光L0の空間的な均一性
は、基板11の表面に照射された照明光L1の角度的な
均一性となる。また、端面24bから射出された照明光
L0の角度的な均一性は、基板11の表面に照射された
照明光L1の空間的な均一性となる。
【0049】このようにして照明光L1が照射される
と、基板11の表面に形成された繰り返しパターンから
は、回折光や正反射光や散乱光(戻り光L2)が発生す
る。戻り光L2の強度は、繰り返しパターンの欠陥箇所
と正常箇所とで異なる。また、戻り光L2を受光する受
光光学系14は、球面反射鏡26と、レンズ27と、C
CDカメラ28とで構成された偏心光学系である。
【0050】球面反射鏡26は、上記の球面反射鏡25
と同様の反射鏡であり、ステージ12の斜め上方に配置
される。つまり、球面反射鏡26の中心とステージ12
の中心とを通る軸(光軸O2)が基準法線(Z方向)に対
して所定の角度θdだけ傾くように配置されている。θ
dは固定値である。レンズ27は、球面反射鏡26の前
側焦点面と一致するように、受光光学系14の瞳近傍に
配置されている。CCDカメラ28は、複数の画素が2
次元的に配列されたCCD撮像素子であり、その撮像面
がレンズ27の後側焦点面と一致するように配置されて
いる。
【0051】上記の受光光学系14において、基板11
の表面から発生した戻り光L2は、球面反射鏡26とレ
ンズ27とを介して集光され、CCDカメラ28の撮像
面上に到達する。CCDカメラ28の撮像面上には、戻
り光L2による基板11の像が形成される。CCDカメ
ラ28は、撮像面に形成された基板11の像を撮像し
て、画像信号を画像処理装置15に出力する。なお、上
記した受光光学系14と画像処理装置15とは、請求項
の「検出手段」に対応する。
【0052】画像処理装置15は、CCDカメラ28か
ら画像信号を入力することにより、基板11の画像を取
り込み、この画像に対する画像処理によって基板11の
繰り返しパターンの欠陥検出処理を行う。繰り返しパタ
ーンの欠陥箇所とは、デフォーカスによる膜厚むら、パ
ターン形状の異常、傷などである。第1実施形態の検査
装置10では、基板11の表面に対して、空間的にも角
度的にも均一な強度分布の照明光L1を照射するため、
基板11の表面から発生する戻り光L2の強度が欠陥か
否かを正確に反映したものとなる。
【0053】したがって、簡単な画像処理によって、基
板11の繰り返しパターンの欠陥箇所を正確に検出する
ことができる。その結果、欠陥検出率が向上し、疑似欠
陥の発生を回避できる。また、半導体プロセスでの歩留
まり向上が図られると同時に、無駄な戻り作業を減少さ
せ、コスト削減が可能となる。 (第2実施形態)次に、本発明の第2実施形態(請求項1
〜請求項5に対応)について説明する。
【0054】第2実施形態では、異なる構成の照明光学
装置40について説明する。照明光学装置40は、図7
に示すように、上記した照明光学装置20(図1)のリ
レーレンズ23とバンドル型ランダムライトガイド24
との間に、リレーレンズ41と波長選択フィルタ42と
リレーレンズ43とを配置したものである。
【0055】このため、バンドル型ランダムライトガイ
ド24の端面24aは、リレーレンズ23によって形成
される光源31の像Q1,Q2,…(図5)の形成面23
aと共役な面に配置される。リレーレンズ41,43
は、リレーレンズ23から得られる光Lc(図4の光L
c(1),Lc(2),…)を入射して、リレーレンズ23によ
る形成面23a上の像Q1,Q2,…(図5)をバンドル
型ランダムライトガイド24の端面24aに再結像す
る。リレーレンズ41の像側は、テレセントリック系で
ある。リレーレンズ41,43は、請求項の「第3光学
系」に対応する。
【0056】波長選択フィルタ42は、干渉フィルタや
ダイクロイックミラーなどである。また、透過波長域が
異なる複数種類のフィルタと、これらのフィルタを切り
換えるターレット機構とで構成することもできる。この
波長選択フィルタ42は、光源31からの光のうち、特
定の波長域の光のみを選択的に透過させる手段である。
波長選択フィルタ24を用いることで、照明光学装置4
0から射出される照明光L0の波長を選択することがで
きる。波長選択フィルタ42は請求項の「選択手段」に
対応する。
【0057】したがって、第2実施形態の照明光学装置
40を上記の照明光学装置20に代えて組み込んだ検査
装置10では、基板11の表面に繰り返しパターンが形
成されている場合(特に基板11が半導体ウエハの場
合)に、照明光L1の波長を制限することで、回折光に
よる検査の感度を向上させることができる。さらに、散
乱光による検査では、迷光を防止することができる。
【0058】なお、上記した実施形態では、ロッド型オ
プティカルインテグレータ22の端面22aを楕円鏡3
2の第2焦点32bに一致させたが、本発明はこの構成
に限定されない。ロッド型オプティカルインテグレータ
22の端面22aは、楕円鏡32によって形成される光
源31の像の形成面(第2焦点32b)と共役な面に配置
しても良い。
【0059】また、上記した実施形態では、ロッド型オ
プティカルインテグレータ22の断面が円形状の例を説
明したが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、
矩形状や多角形状の断面を有するロッド型オプティカル
インテグレータを用いた場合にも本発明を適用できる。
さらに、ロッド型オプティカルインテグレータとして、
光ファイバーを束ねたものを用いることもできる。
【0060】さらに、上記した実施形態では、光源31
からの光を集光する第1光学系として反射光学系の楕円
鏡32を用いたが、反射光学系に代えて屈折光学系の集
光レンズを用いることもできる。さらに、上記した実施
形態では、照明光学装置20,40を検査装置10に組
み込み、半導体素子などの製造工程における基板の表面
検査に照明光L0を用いたが、本発明はこれに限定され
ない。例えば、照明光学装置20,40を半導体露光装
置に組み込み、マスクに形成された回路パターンを基板
上のレジスト膜に焼き付ける際の露光光として、照明光
学装置20,40の照明光L0を用いることもできる。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光源から射出される光の強度分布が空間的にも角度的に
も不均一な場合でも、常に、空間的にも角度的にも均一
な強度分布の照明光を外部に射出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態の検査装置10と照明光学装置2
0の全体構成を示す図である。
【図2】照明光学装置20を拡大して示す図である。
【図3】ロッド型オプティカルインテグレータ22の内
部における光の経路、および、端面22bから射出され
た光の経路を説明する図である。
【図4】ロッド型オプティカルインテグレータ22の端
面22aに入射する光Laの角度方向の分割と、バンド
ル型ランダムライトガイド24の端面24aにおける光
源31の像Q1,Q2,…の空間的な分割との関係を示す
図である。
【図5】バンドル型ランダムライトガイド24の端面2
4aにおける光源31の像Q1,Q2,…を示す図であ
る。
【図6】バンドル型ランダムライトガイド24における
光の伝送を説明する図である。
【図7】第2実施形態の照明光学装置40の全体構成を
示す図である。
【符号の説明】
10 検査装置 11 基板 12 ステージ 13 照明光学系 14 受光光学系 15 画像処理装置 20,40 照明光学装置 21 ランプ 22 ロッド型オプティカルインテグレータ 23,41,43 リレーレンズ 24 バンドル型ランダムライトガイド 25,26 球面反射鏡 27 レンズ 28 CCDカメラ 31 光源 32 楕円鏡 42 波長選択フィルタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // F21Y 101:00

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、該光源からの光を集光する第1
    光学系と、ロッド型オプティカルインテグレータと、該
    ロッド型オプティカルインテグレータからの光を集光す
    る第2光学系と、バンドル型ランダムライトガイドとが
    順に配置され、 前記ロッド型オプティカルインテグレータは、前記第1
    光学系によって形成される前記光源の像の形成面または
    該形成面と共役な面に配置された光入射面と、前記第2
    光学系の前側焦点面に配置された光射出面とを有し、 前記バンドル型ランダムライトガイドは、前記第2光学
    系によって形成される前記光源の像の形成面または該形
    成面と共役な面に配置された光入射面と、外部に照明光
    を射出する光射出面とを有することを特徴とする照明光
    学装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の照明光学装置におい
    て、 前記バンドル型ランダムライトガイドの前記光入射面
    は、前記第2光学系による前記像の形成面と共役な面に
    配置され、 前記第2光学系と前記バンドル型ランダムライトガイド
    との間に、 前記第2光学系からの光を入射して、前記第2光学系に
    よる前記像を前記バンドル型ランダムライトガイドの前
    記光入射面に再結像する第3光学系と、 前記照明光の波長を選択する選択手段とが配置されたこ
    とを特徴とする照明光学装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の照明光
    学装置と、 前記照明光学装置の前記バンドル型ランダムライトガイ
    ドの前記光射出面から射出された前記照明光を被検物体
    に照射する照射手段と、 前記照明光が照射された前記被検物体の像を撮像し、前
    記被検物体の像に基づいて前記被検物体の欠陥を検出す
    る検出手段とを備えたことを特徴とする検査装置。
  4. 【請求項4】 光源と、前記光源からの光を集光する第
    1光学系と、前記第1光学系から射出される光の角度的
    不均一性を補正する第1補正光学系と、前記第1補正光
    学系から射出される光の空間的不均一性を補正する第2
    補正光学系とを備え、 前記光源からの光の角度的不均一性の補正後に空間的不
    均一性の補正を行い、照明光を作り出すことを特徴とす
    る照明光学装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の照明光学装置におい
    て、 前記第1補正光学系は、ロッド型オプティカルインテグ
    レータと、該ロッド型オプティカルインテグレータから
    の光を集光する第2光学系とから構成され、 前記第2補正光学系は、バンドル型ランダムライトガイ
    ドから構成されることを特徴とする照明光学装置。
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