JP2003149476A - 光導波路用樹脂組成物及びその硬化物 - Google Patents
光導波路用樹脂組成物及びその硬化物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】導波路形成工程が容易で、多層の光配線が可能
な光導波路用樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 【解決手段】オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合
開始剤（Ｂ）を含有することを特徴とする光導波路用樹
脂組成物。
な光導波路用樹脂組成物及びその硬化物を提供する。 【解決手段】オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合
開始剤（Ｂ）を含有することを特徴とする光導波路用樹
脂組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般光学や微小光
学分野で、さらに光通信や光情報処理の分野で用いられ
る種々の光集積回路または光配線板等に利用できる光導
波路用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
学分野で、さらに光通信や光情報処理の分野で用いられ
る種々の光集積回路または光配線板等に利用できる光導
波路用樹脂組成物及びその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術】光情報処理、光通信分野で用いる光導波
路は、集積化、微小化、高機能化、低価格化をめざし
て、近年、検討が盛んになってきている。実際に、石英
系光導波路が、光通信分野の一部では実用化されるに至
っている。また、安価な材料を用いて、簡便な作製法が
選択できる高分子導波路の検討も盛んである。例えば、
リソグラフィーやエッチングなど半導体加工に用いる方
法の適用や感高性高分子あるいはレジストを用いる方法
を挙げることができる。特に、感光性高分子を用いてコ
アを形成して導波路を形成する方法は、その作製方法が
簡便で低価格には適しているが、感光性高分子の透明性
が不十分で吸収損失が高かったり、作製されるコア形状
の均一性、再現性に問題があって、散乱損失が高くなる
ことがあり、その導波路特性が石英系光導波路と同程度
の性能を有する光導波路は作製されていなかった。
路は、集積化、微小化、高機能化、低価格化をめざし
て、近年、検討が盛んになってきている。実際に、石英
系光導波路が、光通信分野の一部では実用化されるに至
っている。また、安価な材料を用いて、簡便な作製法が
選択できる高分子導波路の検討も盛んである。例えば、
リソグラフィーやエッチングなど半導体加工に用いる方
法の適用や感高性高分子あるいはレジストを用いる方法
を挙げることができる。特に、感光性高分子を用いてコ
アを形成して導波路を形成する方法は、その作製方法が
簡便で低価格には適しているが、感光性高分子の透明性
が不十分で吸収損失が高かったり、作製されるコア形状
の均一性、再現性に問題があって、散乱損失が高くなる
ことがあり、その導波路特性が石英系光導波路と同程度
の性能を有する光導波路は作製されていなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した課題を解決し、加工性に優れる低価格と高性能化を
同時に満足する光導波路用樹脂組成物及びその硬化性を
提供することにある。
した課題を解決し、加工性に優れる低価格と高性能化を
同時に満足する光導波路用樹脂組成物及びその硬化性を
提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合開始
剤（Ｂ）を主成分とする樹脂組成物は、組成を変えるこ
とにより屈折率をある程度自由に制御できること、これ
らの樹脂は硬化前の粘度が低く、スピンコーティング等
の塗布性に優れ、光導波路のコア部やクラッド層に適用
したとき光透過性に優れ、且つ平坦性に極めて優れてい
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
の結果、オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合開始
剤（Ｂ）を主成分とする樹脂組成物は、組成を変えるこ
とにより屈折率をある程度自由に制御できること、これ
らの樹脂は硬化前の粘度が低く、スピンコーティング等
の塗布性に優れ、光導波路のコア部やクラッド層に適用
したとき光透過性に優れ、且つ平坦性に極めて優れてい
ることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】すなわち、本発明は、（１）、オキセタン
化合物（Ａ）と光カチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する
ことを特徴とする光導波路用樹脂組成物、（２）、エポ
キシ樹脂（Ｃ）を含有する（１）記載の光導波路用樹脂
組成物、（３）、オキセタン化合物（Ａ）が脂肪族オキ
セタン化合物、フッ素原子含有オキセタン化合物、芳香
族オキセタン化合物から選ばれた１種以上である（１）
または（２）記載の光導波路用樹脂組成物、（４）、エ
ポキシ樹脂（Ｃ）が脂環式エポキシ樹脂、水添ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、フッ素原子含有エポキシ樹
脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹
脂から選ばれた１種以上である（１）ないし（３）のい
ずれか１項記載の光導波路用樹脂組成物、（５）、
（１）ないし（４）のいずれか１項記載の光導波路用樹
脂組成物の硬化物、に関する。
化合物（Ａ）と光カチオン重合開始剤（Ｂ）を含有する
ことを特徴とする光導波路用樹脂組成物、（２）、エポ
キシ樹脂（Ｃ）を含有する（１）記載の光導波路用樹脂
組成物、（３）、オキセタン化合物（Ａ）が脂肪族オキ
セタン化合物、フッ素原子含有オキセタン化合物、芳香
族オキセタン化合物から選ばれた１種以上である（１）
または（２）記載の光導波路用樹脂組成物、（４）、エ
ポキシ樹脂（Ｃ）が脂環式エポキシ樹脂、水添ビスフェ
ノールＡ型エポキシ樹脂、フッ素原子含有エポキシ樹
脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹
脂から選ばれた１種以上である（１）ないし（３）のい
ずれか１項記載の光導波路用樹脂組成物、（５）、
（１）ないし（４）のいずれか１項記載の光導波路用樹
脂組成物の硬化物、に関する。
【０００６】
【本発明の実施の形態】本発明の光導波路用樹脂組成物
は、オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合開始剤
（Ｂ）との混合物である。
は、オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合開始剤
（Ｂ）との混合物である。
【０００７】本発明では、オキセタン化合物（Ａ）を使
用する。オキセタン化合物（Ａ）は、分子中に少なくと
も１個のオキセタン基を有するものであればどのような
ものでも使用できる。
用する。オキセタン化合物（Ａ）は、分子中に少なくと
も１個のオキセタン基を有するものであればどのような
ものでも使用できる。
【０００８】オキセタン化合物（Ａ）の具体例として
は、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３
−エチル−３−オキセタニルメトキシブチル、１，６−
ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキシ
ル、１−ヒドロキシ−６−（３−エチル−３−オキセタ
ニルメトキシ）ヘキシル等の脂肪族オキセン化合物（Ａ
−１）、
は、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３
−エチル−３−オキセタニルメトキシブチル、１，６−
ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキシ
ル、１−ヒドロキシ−６−（３−エチル−３−オキセタ
ニルメトキシ）ヘキシル等の脂肪族オキセン化合物（Ａ
−１）、
【０００９】
【００１０】
【００１１】
【００１２】
【００１３】等のフッ素原子含有オキセタン化合物（Ａ
−２）、ビスフェノールＡジ（３−エチル−３−オキセ
タニルメチルエーテル）、ビスフェノールＦジ（３−エ
チル−３−オキセタニルメチルエーテル）、ビスフェノ
ールＳジ（３−エチル−３−オキセタニルメチルエーテ
ル）、ビフェニルジ（３−エチル−３−オキセタニルメ
チルエーテル）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オ
キセタニルメトキシメチル）〕ベンゼン等の芳香族オキ
セタン化合物（Ａ−３）、その他、シリコン変性オキセ
タン化合物、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオ
キシメチルオキセタンと（メタ）アクリル酸エステル類
との共重合体等を挙げることができる。特に好ましいも
のとしては、前記、脂肪族オキセタン化合物（Ａ−
１）、フッ素原子含有オキセタン化合物（Ａ−２）、芳
香族オキセタン化合物（Ａ−３）等を挙げることができ
る。
−２）、ビスフェノールＡジ（３−エチル−３−オキセ
タニルメチルエーテル）、ビスフェノールＦジ（３−エ
チル−３−オキセタニルメチルエーテル）、ビスフェノ
ールＳジ（３−エチル−３−オキセタニルメチルエーテ
ル）、ビフェニルジ（３−エチル−３−オキセタニルメ
チルエーテル）、１，４−ビス〔（３−エチル−３−オ
キセタニルメトキシメチル）〕ベンゼン等の芳香族オキ
セタン化合物（Ａ−３）、その他、シリコン変性オキセ
タン化合物、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオ
キシメチルオキセタンと（メタ）アクリル酸エステル類
との共重合体等を挙げることができる。特に好ましいも
のとしては、前記、脂肪族オキセタン化合物（Ａ−
１）、フッ素原子含有オキセタン化合物（Ａ−２）、芳
香族オキセタン化合物（Ａ−３）等を挙げることができ
る。
【００１４】本発明では、光カチオン重合開始剤（Ｂ）
を使用する。光カチオン重合開始剤（Ｂ）の具体例とし
ては、紫外線を照射することによりオキセタン基を反応
させるものであれば何でも良いが、例えば、Ｐ−メトキ
シベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等
の芳香族ジアゾニウム、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩、ジ
フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等の
芳香族ヨードニウム塩、芳香族ヨードシル塩、芳香族ス
ルホキソニウム塩、メタロセン化合物などが挙げられ
る。
を使用する。光カチオン重合開始剤（Ｂ）の具体例とし
ては、紫外線を照射することによりオキセタン基を反応
させるものであれば何でも良いが、例えば、Ｐ−メトキ
シベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等
の芳香族ジアゾニウム、トリフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩、ジ
フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等の
芳香族ヨードニウム塩、芳香族ヨードシル塩、芳香族ス
ルホキソニウム塩、メタロセン化合物などが挙げられ
る。
【００１５】本発明では、エポキシ樹脂（Ｃ）を使用す
る。エポキシ樹脂（Ｃ）の具体例としては、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘ
キシルエチル−８，４−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−
ｍ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）ジエチルシロキサン、市販品としては、セロキ
サイド２０２１（エポキシ当量１２８〜１４５）、セロ
キサイド２０８０（エポキシ当量１９０〜２１０）など
のダイセル化学工業（株）製、２官能性脂環式エポキシ
化合物、エポリードＧＴ−３０１（エポキシ当量２００
〜２２０）、エポリードＧＴ−４０１（エポキシ当量２
１０〜２３５）などのダイセル化学工業（株）製、３及
び４官能性脂環式エポキシ化合物、ＥＨＰＥ（エポキシ
当量１７０〜１９０、軟化点７０〜９０℃）、ＥＨＰＥ
Ｌ３１５０ＣＥなどのダイセル化学工業（株）製、固形
の脂環式エポキシ化合物等の脂環式エポキシ化合物（Ｃ
−１）、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等
の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｃ−２）、ビ
スフェノールヘキサフルオロアセトンジグリシジルエー
テル、１，３−ビス〔１−（２，３−エポキシプロポキ
シ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフル
オロエチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−（２，３−
エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，
２，２−トリフルオロエチル〕ベンゼン、４，４’−ビ
ス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフ
ェニル、
る。エポキシ樹脂（Ｃ）の具体例としては、３，４−エ
ポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロ
ヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘ
キシルエチル−８，４−エポキシシクロヘキサンカルボ
キシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−
ｍ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エーテル、ビス（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）ジエチルシロキサン、市販品としては、セロキ
サイド２０２１（エポキシ当量１２８〜１４５）、セロ
キサイド２０８０（エポキシ当量１９０〜２１０）など
のダイセル化学工業（株）製、２官能性脂環式エポキシ
化合物、エポリードＧＴ−３０１（エポキシ当量２００
〜２２０）、エポリードＧＴ−４０１（エポキシ当量２
１０〜２３５）などのダイセル化学工業（株）製、３及
び４官能性脂環式エポキシ化合物、ＥＨＰＥ（エポキシ
当量１７０〜１９０、軟化点７０〜９０℃）、ＥＨＰＥ
Ｌ３１５０ＣＥなどのダイセル化学工業（株）製、固形
の脂環式エポキシ化合物等の脂環式エポキシ化合物（Ｃ
−１）、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル等
の水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｃ−２）、ビ
スフェノールヘキサフルオロアセトンジグリシジルエー
テル、１，３−ビス〔１−（２，３−エポキシプロポキ
シ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフル
オロエチル〕ベンゼン、１，４−ビス〔１−（２，３−
エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，
２，２−トリフルオロエチル〕ベンゼン、４，４’−ビ
ス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフ
ェニル、
【００１６】
ｎ＝４〜１２の整数
【００１７】
【００１８】
【００１９】等のフッ素原子含有エポキシ樹脂（Ｃ−
３）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジ
グリシジルエーテル、テトラメチルビスフェノールＡジ
グリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ樹脂
（Ｃ−４）、ジブロモメチルフェニルグリシジルエーテ
ル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ブロモメチ
ルフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチル
グリコールジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテル等の臭素化エポキシ樹
脂（Ｃ−５）、その他、ポリブタジエンジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパンポリグリシジルエーテル、２−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、Ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニルグリシジルエーテル、ラウリルアルコールペンタ
デカ（オキシエチレン）グリシジルエーテル、ペンタエ
リスリトールポリグリシジルエーテル、グリシジルメタ
クリレートと（メタ）アクリル酸エステルの共重合体等
のその他エポキシ化合物（Ｃ−６）等を挙げることがで
きる。特に好ましいエポキシ樹脂（Ｃ）としては、前
記、（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）
及び（Ｃ−５）等を挙げることができる。
３）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフ
ェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジ
グリシジルエーテル、テトラメチルビスフェノールＡジ
グリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ樹脂
（Ｃ−４）、ジブロモメチルフェニルグリシジルエーテ
ル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ブロモメチ
ルフェニルグリシジルエーテル、ジブロモネオペンチル
グリコールジグリシジルエーテル、テトラブロモビスフ
ェノールＡジグリシジルエーテル等の臭素化エポキシ樹
脂（Ｃ−５）、その他、ポリブタジエンジグリシジルエ
ーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメ
チロールプロパンポリグリシジルエーテル、２−エチル
ヘキシルグリシジルエーテル、Ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェニルグリシジルエーテル、ラウリルアルコールペンタ
デカ（オキシエチレン）グリシジルエーテル、ペンタエ
リスリトールポリグリシジルエーテル、グリシジルメタ
クリレートと（メタ）アクリル酸エステルの共重合体等
のその他エポキシ化合物（Ｃ−６）等を挙げることがで
きる。特に好ましいエポキシ樹脂（Ｃ）としては、前
記、（Ｃ−１）、（Ｃ−２）、（Ｃ−３）、（Ｃ−４）
及び（Ｃ−５）等を挙げることができる。
【００２０】本発明の光導波路用樹脂組成物中、前記、
（Ａ）〜（Ｃ）成分の使用割合としては、（Ａ）成分１
００重量部に対して、（Ｃ）成分は、０〜５００重量部
が好ましく、特に好ましくは１０〜２００重量部であ
り、（Ａ）＋（Ｃ）成分の総量１００重量部に対して、
（Ｂ）成分は０．０１〜１０重量部が好ましく、特に好
ましくは、０．１〜５重量部である。
（Ａ）〜（Ｃ）成分の使用割合としては、（Ａ）成分１
００重量部に対して、（Ｃ）成分は、０〜５００重量部
が好ましく、特に好ましくは１０〜２００重量部であ
り、（Ａ）＋（Ｃ）成分の総量１００重量部に対して、
（Ｂ）成分は０．０１〜１０重量部が好ましく、特に好
ましくは、０．１〜５重量部である。
【００２１】なお、本発明において、必要な場合は、光
カチオン重合促進剤（例、９，１０−ジメトキシ−２−
エチル−アントラセン、９，１０−ジエトキシアントラ
セン、２−エチルチオキサントン等）、シランカップリ
ング剤、チタン系カップリング剤、可とう性付与剤、特
性改質剤等を加えることができる。これらの材料を単独
あるいは混合して主成分に加えることにより樹脂組成物
の特性を改質することができる。
カチオン重合促進剤（例、９，１０−ジメトキシ−２−
エチル−アントラセン、９，１０−ジエトキシアントラ
セン、２−エチルチオキサントン等）、シランカップリ
ング剤、チタン系カップリング剤、可とう性付与剤、特
性改質剤等を加えることができる。これらの材料を単独
あるいは混合して主成分に加えることにより樹脂組成物
の特性を改質することができる。
【００２２】例えば、本発明の樹脂組成物の接着性を高
めるために加えるシランカップリング剤としては、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミ
ノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−β−（アミノエチル）−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエ
チル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸
塩、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、オクタデシルジメチル〔３−（トリメトキ
シシリル）プロピル〕アンモニウムクロライド、γ−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
めるために加えるシランカップリング剤としては、γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミ
ノエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、
Ｎ−β−（アミノエチル）−β−（アミノエチル）−γ
−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエ
チル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸
塩、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、γ−
アニリノプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、オクタデシルジメチル〔３−（トリメトキ
シシリル）プロピル〕アンモニウムクロライド、γ−ク
ロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルメチルジメトキシシラン、メチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシランなどが挙げられる。
【００２３】本発明の樹脂組成物は、（Ａ）〜（Ｃ）成
分及び前記のカップリング剤等を混合、溶解し、クリー
ンルーム内でのロ過をすることにより得ることができ
る。
分及び前記のカップリング剤等を混合、溶解し、クリー
ンルーム内でのロ過をすることにより得ることができ
る。
【００２４】本発明における光導波路の作製方法として
はクラッドは、通常の高分子樹脂を用いる場合とコア材
と同様の紫外線硬化樹脂を用いる場合では若干異なるが
その一例として、
はクラッドは、通常の高分子樹脂を用いる場合とコア材
と同様の紫外線硬化樹脂を用いる場合では若干異なるが
その一例として、
【００２５】（１）任意の基板に下層クラッドとなるコ
アよりも屈折率の小さな樹脂を塗布する。塗布後、加熱
乾燥などにより溶媒を除去する。ここに紫外線硬化樹脂
を用いるときは、紫外線を照射することにより硬化す
る。 （２）この上にコアとなる本発明の樹脂を塗布し、次
に、導波路パターンを有するネガマスクを介して紫外線
を照射し硬化した。その後、この試料を有機溶剤類、例
えば、γ−ブチロラクトンで未露光部分を除去したとこ
ろ、マスクパターンに従い、光照射部のみ硬化し、導波
路パターンが作製できた。 （３）その後、この上にクラッド用の高分子樹脂又は紫
外線硬化樹脂を塗布し、溶媒除去、又は紫外線により硬
化する。ここで下層クラッド、並びに最後に形成するコ
ア側面部及び上部のクラッドは同じ屈折率であることが
望ましく、同一の材料である方が好適である。更に、ク
ラッドに紫外線硬化樹脂を用いた場合、最上面表面が平
坦化できる。この場合、多層の光配線が可能になり、多
層化を行う場合は（２）、（３）を繰り返せばよい。
アよりも屈折率の小さな樹脂を塗布する。塗布後、加熱
乾燥などにより溶媒を除去する。ここに紫外線硬化樹脂
を用いるときは、紫外線を照射することにより硬化す
る。 （２）この上にコアとなる本発明の樹脂を塗布し、次
に、導波路パターンを有するネガマスクを介して紫外線
を照射し硬化した。その後、この試料を有機溶剤類、例
えば、γ−ブチロラクトンで未露光部分を除去したとこ
ろ、マスクパターンに従い、光照射部のみ硬化し、導波
路パターンが作製できた。 （３）その後、この上にクラッド用の高分子樹脂又は紫
外線硬化樹脂を塗布し、溶媒除去、又は紫外線により硬
化する。ここで下層クラッド、並びに最後に形成するコ
ア側面部及び上部のクラッドは同じ屈折率であることが
望ましく、同一の材料である方が好適である。更に、ク
ラッドに紫外線硬化樹脂を用いた場合、最上面表面が平
坦化できる。この場合、多層の光配線が可能になり、多
層化を行う場合は（２）、（３）を繰り返せばよい。
【００２６】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが本発明は、これら実施例に限定されない。 （実施例１）１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセ
タニルメトキシメチル）ベンゼン９５．２ｇ、３，４−
エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート４．８ｇ及びビス〔４−
（ジフェニルスルホニウム）フェニル〕スルフィド−ビ
スヘキサフルオロホスフェート３ｇから調製した樹脂組
成物（ａ）を準備した。この樹脂組成物（ａ）の硬化後
の屈折率は波長５８９ｎｍで１．５３０であった。
説明するが本発明は、これら実施例に限定されない。 （実施例１）１，４−ビス〔（３−エチル−３−オキセ
タニルメトキシメチル）ベンゼン９５．２ｇ、３，４−
エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシク
ロヘキサンカルボキシレート４．８ｇ及びビス〔４−
（ジフェニルスルホニウム）フェニル〕スルフィド−ビ
スヘキサフルオロホスフェート３ｇから調製した樹脂組
成物（ａ）を準備した。この樹脂組成物（ａ）の硬化後
の屈折率は波長５８９ｎｍで１．５３０であった。
【００２７】次に、シリコン基板上に、１，４−ビス
〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシメチル）ベ
ンゼン５５．７ｇ、１，４−ビス（１−（２，３−エポ
キシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，
２−トリフルオロエチル）ベンゼン４４．３ｇ及びビス
〔４−（ジフェニルスルホニウム）フェニル〕スルフィ
ド−ビスヘキサフルオロホスフェート３ｇから調製した
樹脂組成物（ｂ）をスピンコートにより塗布して、その
全面に紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射して１０μｍ
の下部クラッド層を作製した。
〔（３−エチル−３−オキセタニルメトキシメチル）ベ
ンゼン５５．７ｇ、１，４−ビス（１−（２，３−エポ
キシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，
２−トリフルオロエチル）ベンゼン４４．３ｇ及びビス
〔４−（ジフェニルスルホニウム）フェニル〕スルフィ
ド−ビスヘキサフルオロホスフェート３ｇから調製した
樹脂組成物（ｂ）をスピンコートにより塗布して、その
全面に紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ2照射して１０μｍ
の下部クラッド層を作製した。
【００２８】次に、この下部クラッド層の上に、前記、
樹脂組成物（ａ）をスピンコートにより５μｍの厚さに
塗布した。なお、下部クラッド層の硬化後の屈折率は波
長５８９ｎｍで１．５００であった。
樹脂組成物（ａ）をスピンコートにより５μｍの厚さに
塗布した。なお、下部クラッド層の硬化後の屈折率は波
長５８９ｎｍで１．５００であった。
【００２９】次に、導波路パターンを有するネガマスク
を介して紫外線を照射し、その後、この試料をγ−ブチ
ロラクトンで現像し、導波路パターンを作製した。その
後、この導波路パターンおよび下部クラッド層の上に、
前記、樹脂組成物（ｂ）を１５μｍの厚さに塗布し、紫
外線を照射し硬化させ、光導波路を作製した。この操作
により硬化後の屈折率１．５００の樹脂組成物（ｂ）の
硬化物からなる下部クラッド層と上部クラッド層および
屈折率１．５３０の樹脂組成物（ａ）の硬化物からなる
コアを有するマルチモードチャンネル導波路が作製でき
た。
を介して紫外線を照射し、その後、この試料をγ−ブチ
ロラクトンで現像し、導波路パターンを作製した。その
後、この導波路パターンおよび下部クラッド層の上に、
前記、樹脂組成物（ｂ）を１５μｍの厚さに塗布し、紫
外線を照射し硬化させ、光導波路を作製した。この操作
により硬化後の屈折率１．５００の樹脂組成物（ｂ）の
硬化物からなる下部クラッド層と上部クラッド層および
屈折率１．５３０の樹脂組成物（ａ）の硬化物からなる
コアを有するマルチモードチャンネル導波路が作製でき
た。
【００３０】得られた光導波路を５ｃｍの長さに切り出
し、波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光を用いて光
導波損失を調べた結果、０．２５ｄＢ／ｃｍであった。
し、波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光を用いて光
導波損失を調べた結果、０．２５ｄＢ／ｃｍであった。
【００３１】
Claims (5)
- 【請求項１】オキセタン化合物（Ａ）と光カチオン重合
開始剤（Ｂ）を含有することを特徴とする光導波路用樹
脂組成物。 - 【請求項２】エポキシ樹脂（Ｃ）を含有する請求項１記
載の光導波路用樹脂組成物。 - 【請求項３】オキセタン化合物（Ａ）が脂肪族オキセタ
ン化合物、フッ素原子含有オキセタン化合物、芳香族オ
キセタン化合物から選ばれた１種以上である請求項１ま
たは２記載の光導波路用樹脂組成物。 - 【請求項４】エポキシ樹脂（Ｃ）が脂環式エポキシ樹
脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フッ素原子
含有エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、臭
素化エポキシ樹脂から選ばれた１種以上である請求項１
ないし３のいずれか１項記載の光導波路用樹脂組成物。 - 【請求項５】請求項１ないし４のいずれか１項記載の光
導波路用樹脂組成物の硬化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001347164A JP2003149476A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 光導波路用樹脂組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001347164A JP2003149476A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 光導波路用樹脂組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003149476A true JP2003149476A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19160211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001347164A Pending JP2003149476A (ja) | 2001-11-13 | 2001-11-13 | 光導波路用樹脂組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003149476A (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007070326A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | オキセタン環を有するビス（ヒドロキシフェニル）アルカン誘導体およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070321A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | ビスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070325A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | オキセタン環を有するビス（ヒドロキシフェニル）アルキルベンゼン誘導体およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070324A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | フルオレン構造を有するビスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070327A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | カルボキシル基を有するオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070328A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070320A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | トリスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| JP2007070323A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Nitto Denko Corp | フルオレン構造を有するテトラキスオキセタンエーテル化合物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| WO2007105795A1 (ja) * | 2006-03-15 | 2007-09-20 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | 光学材料用フェノキシ樹脂、光学材料用樹脂組成物、光学材料用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路 |
| JP2011021177A (ja) * | 2009-06-18 | 2011-02-03 | Nitto Denko Corp | 光硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光学部品 |
| JP2011089127A (ja) * | 2010-12-03 | 2011-05-06 | Nitto Denko Corp | 光導波路形成用樹脂組成物およびその製法、ならびにそれを用いた光導波路 |
| KR101046835B1 (ko) * | 2006-04-06 | 2011-07-06 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 트리스옥세탄 화합물, 이의 제조 방법, 및 이를 사용하는광 도파로 |
| JP2011132487A (ja) * | 2009-11-25 | 2011-07-07 | Nitto Denko Corp | 光硬化型樹脂組成物およびそれを用いた光学部品 |
| US9056941B2 (en) | 2009-06-18 | 2015-06-16 | Nitto Denko Corporation | Photocurable resin composition and optical component using the same |
| KR20170023834A (ko) | 2014-06-23 | 2017-03-06 | 주식회사 다이셀 | 광 경화성 조성물 및 그것을 포함하는 광학 소자용 접착제 |
-
2001
- 2001-11-13 JP JP2001347164A patent/JP2003149476A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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