JP2003146978A - シス−β構造を有するサレンコバルト錯体を用いる光学活性なラクトン化合物の製造方法 - Google Patents
シス−β構造を有するサレンコバルト錯体を用いる光学活性なラクトン化合物の製造方法Info
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-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プロキラルな環状ケトン化合物から高いエナ
ンチオ選択性で不斉バイヤー・ビリガー酸化を行い、光
学純度の高いラクトン化合物を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 下記式(I)及び(II)の何れかで表される
シス-β構造を有するサレンコバルト錯体を触媒として
使用し、環状ケトン化合物を過酸化水素及び尿素-過酸
化水素付加物(UHP)からなる群から選択される少なく
とも一種の酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化することを
特徴とする光学活性なラクトン化合物の製造方法であ
る。 【化1】 (式中、X及びYはそれぞれ独立してH、t-ブチル基
又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。) 【化2】 (式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
ンチオ選択性で不斉バイヤー・ビリガー酸化を行い、光
学純度の高いラクトン化合物を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 下記式(I)及び(II)の何れかで表される
シス-β構造を有するサレンコバルト錯体を触媒として
使用し、環状ケトン化合物を過酸化水素及び尿素-過酸
化水素付加物(UHP)からなる群から選択される少なく
とも一種の酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化することを
特徴とする光学活性なラクトン化合物の製造方法であ
る。 【化1】 (式中、X及びYはそれぞれ独立してH、t-ブチル基
又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。) 【化2】 (式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性なラクト
ン化合物の製造方法に関し、より詳細には、シス-β構
造を有するサレンコバルト錯体を触媒として使用し、環
状ケトン化合物を酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化する
ことを特徴とする、光学活性なラクトン化合物の製造方
法に関する。このような光学活性なラクトン化合物は医
農薬品の合成に使用できる。また、触媒の選択により、
S、R両鏡像体ともに合成できる。
ン化合物の製造方法に関し、より詳細には、シス-β構
造を有するサレンコバルト錯体を触媒として使用し、環
状ケトン化合物を酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化する
ことを特徴とする、光学活性なラクトン化合物の製造方
法に関する。このような光学活性なラクトン化合物は医
農薬品の合成に使用できる。また、触媒の選択により、
S、R両鏡像体ともに合成できる。
【0002】
【従来の技術】不斉バイヤー・ビリガー酸化は有機合成
化学上重要な反応であるが、未だ十分なエナンチオ選択
性は得られておらず、確立された方法はない。この反応
はカルボニル基への酸化剤による求核攻撃で開始し、引
き続き中間体のクリーギー(Criegee)付加体においてカ
ルボニル置換基が立体配置を保持しながら転位すること
によりラクトンが生成する。この反応の第一段階は、ル
イス酸へのカルボニル基の配位により促進される。反応
式を下記に示す。
化学上重要な反応であるが、未だ十分なエナンチオ選択
性は得られておらず、確立された方法はない。この反応
はカルボニル基への酸化剤による求核攻撃で開始し、引
き続き中間体のクリーギー(Criegee)付加体においてカ
ルボニル置換基が立体配置を保持しながら転位すること
によりラクトンが生成する。この反応の第一段階は、ル
イス酸へのカルボニル基の配位により促進される。反応
式を下記に示す。
【化11】
【0003】これまでに、向山条件下(分子状酸素とア
ルデヒドとの組み合わせ)で銅-ビス(オキサゾリン)錯
体を触媒として使用した、2-置換シクロアルカノンの
ラセミ体の鏡像体区別反応がBolmらによって報告されて
いる(Bolm C., SchlingloffG. 及び Weickhardt K., An
gew. Chem. Int. Ed. Engl. 1994, 33, 1848-1849)。ま
た、不斉白金錯体を触媒として使用した鏡像体区別バイ
ヤー・ビリガー反応がStrukulらによって報告されてい
る(Gusso A., Baccin C., Pinna F., 及びStrukul G.,
Organometallics, 1994, 13, 3442-3451)。これ以降、
種々の光学活性金属錯体を触媒とした不斉バイヤー・ビ
リガー酸化が検討され、特定の基質では高いエナンチオ
選択性が得られることが報告されている。
ルデヒドとの組み合わせ)で銅-ビス(オキサゾリン)錯
体を触媒として使用した、2-置換シクロアルカノンの
ラセミ体の鏡像体区別反応がBolmらによって報告されて
いる(Bolm C., SchlingloffG. 及び Weickhardt K., An
gew. Chem. Int. Ed. Engl. 1994, 33, 1848-1849)。ま
た、不斉白金錯体を触媒として使用した鏡像体区別バイ
ヤー・ビリガー反応がStrukulらによって報告されてい
る(Gusso A., Baccin C., Pinna F., 及びStrukul G.,
Organometallics, 1994, 13, 3442-3451)。これ以降、
種々の光学活性金属錯体を触媒とした不斉バイヤー・ビ
リガー酸化が検討され、特定の基質では高いエナンチオ
選択性が得られることが報告されている。
【0004】しかしながら、種々の光学活性金属錯体を
触媒とし、プロキラルなケトン類、特にプロキラルな3
-置換シクロブタノン化合物を基質とした不斉バイヤー
・ビリガー酸化では、そのエナンチオ選択性は最高でも
47%eeであり不充分であった(Lopp M., Paju A., Kanger
T., 及びPehk T., Tetrahedron Lett., 1996, 37, 758
3-7586)、(Bolm C., Schlingloff G., 及びBienewald
F., J. Mol. Cat. A; Chem., 1997, 117, 347-350)、(B
olm C., 及びBeckmann O., Chirality, 2000, 12, 523-
525)、(Shinohara T., Fujioka S., 及びKotsuki, H.,
Heterocycles, 2001, 55, 237-241)。
触媒とし、プロキラルなケトン類、特にプロキラルな3
-置換シクロブタノン化合物を基質とした不斉バイヤー
・ビリガー酸化では、そのエナンチオ選択性は最高でも
47%eeであり不充分であった(Lopp M., Paju A., Kanger
T., 及びPehk T., Tetrahedron Lett., 1996, 37, 758
3-7586)、(Bolm C., Schlingloff G., 及びBienewald
F., J. Mol. Cat. A; Chem., 1997, 117, 347-350)、(B
olm C., 及びBeckmann O., Chirality, 2000, 12, 523-
525)、(Shinohara T., Fujioka S., 及びKotsuki, H.,
Heterocycles, 2001, 55, 237-241)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、プロキラルなケトン類から高いエナンチオ選択性で
不斉バイヤー・ビリガー酸化を行い、光学純度の高いラ
クトン化合物を製造する方法を提供することにある。
は、プロキラルなケトン類から高いエナンチオ選択性で
不斉バイヤー・ビリガー酸化を行い、光学純度の高いラ
クトン化合物を製造する方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意研究を行った結果、特定のサレンコ
バルト錯体を触媒とし、特定の酸化剤を用いて環状ケト
ン化合物をバイヤー・ビリガー酸化することにより、光
学純度の高いラクトン化合物を製造できることを見出
し、本発明を完成させるに至った。
解決するために鋭意研究を行った結果、特定のサレンコ
バルト錯体を触媒とし、特定の酸化剤を用いて環状ケト
ン化合物をバイヤー・ビリガー酸化することにより、光
学純度の高いラクトン化合物を製造できることを見出
し、本発明を完成させるに至った。
【0007】即ち、本発明は、
(1) 下記式(I)及び(II)の何れかで表されるシス-β
構造を有するサレンコバルト錯体を触媒として使用し、
環状ケトン化合物を過酸化水素及び尿素-過酸化水素付
加物(UHP)からなる群から選択される少なくとも一種
の酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化することを特徴とす
る光学活性なラクトン化合物の製造方法である。
構造を有するサレンコバルト錯体を触媒として使用し、
環状ケトン化合物を過酸化水素及び尿素-過酸化水素付
加物(UHP)からなる群から選択される少なくとも一種
の酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化することを特徴とす
る光学活性なラクトン化合物の製造方法である。
【化12】
(式中、X及びYはそれぞれ独立してH、t-ブチル基
又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。)
又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。)
【化13】
(式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
【0008】また、本発明の製造方法の好ましい態様に
は以下のものがある。 (2) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル基、F、
Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴とするラ
クトン化合物の製造方法である。 (3) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基であるこ
とを特徴とするラクトン化合物の製造方法である。 (4) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Wがヨウ素であることを特徴とするラクトン化合
物の製造方法である。
は以下のものがある。 (2) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル基、F、
Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴とするラ
クトン化合物の製造方法である。 (3) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基であるこ
とを特徴とするラクトン化合物の製造方法である。 (4) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Wがヨウ素であることを特徴とするラクトン化合
物の製造方法である。
【0009】(5) 前記式(II)で表されるサレンコバ
ルト錯体において、X及びYがそれぞれ独立してF、C
l、Br又はIであることを特徴とするラクトン化合物
の製造方法である。 (6) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、X及びYがFであることを特徴とするラクトン化
合物の製造方法である。 (7) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Z−がSbF6 −であることを特徴とするラクト
ン化合物の製造方法である。
ルト錯体において、X及びYがそれぞれ独立してF、C
l、Br又はIであることを特徴とするラクトン化合物
の製造方法である。 (6) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、X及びYがFであることを特徴とするラクトン化
合物の製造方法である。 (7) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体にお
いて、Z−がSbF6 −であることを特徴とするラクト
ン化合物の製造方法である。
【0010】(8) 前記環状ケトン化合物が、下記式
(III)、(IV)及び(V)の何れかで表されることを特徴とす
るラクトン化合物の製造方法である。
(III)、(IV)及び(V)の何れかで表されることを特徴とす
るラクトン化合物の製造方法である。
【化14】
(式中、R1は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
【化15】
(式中、R2は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
【化16】
【0011】(9) 前記環状ケトン化合物が上記式(I
II)で表されることを特徴とするラクトン化合物の製造
方法である。 (10) 前記環状ケトン化合物が3-フェニルシクロ
ブタノン、3-(p-クロロフェニル)シクロブタノン、3
-(p-メトキシフェニル)シクロブタノン又は3-オクチ
ルシクロブタノンであることを特徴とするラクトン化合
物の製造方法である。 (11) 前記環状ケトン化合物が上記式(V)で表され
ることを特徴とするラクトン化合物の製造方法である。
II)で表されることを特徴とするラクトン化合物の製造
方法である。 (10) 前記環状ケトン化合物が3-フェニルシクロ
ブタノン、3-(p-クロロフェニル)シクロブタノン、3
-(p-メトキシフェニル)シクロブタノン又は3-オクチ
ルシクロブタノンであることを特徴とするラクトン化合
物の製造方法である。 (11) 前記環状ケトン化合物が上記式(V)で表され
ることを特徴とするラクトン化合物の製造方法である。
【0012】(12) 前記ラクトン化合物が下記式(V
I)、(VII)及び(VIII)の何れかで表されることを特徴と
する製造方法である。
I)、(VII)及び(VIII)の何れかで表されることを特徴と
する製造方法である。
【化17】
(式中、R1は上記と同義である。)
【化18】
(式中、R2は上記と同義である。)
【化19】
【0013】(13) 前記ラクトン化合物が上記式(V
I)で表されることを特徴とする製造方法である。 (14) 前記ラクトン化合物が、β-フェニル-γ-ブ
チロラクトン、β-(p-クロロフェニル)-γ-ブチロラク
トン、β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブチロラクトン又
はβ-オクチル-γ-ブチロラクトンであることを特徴と
する製造方法である。 (15) 前記ラクトン化合物が上記式(VIII)で表され
ることを特徴とする製造方法である。
I)で表されることを特徴とする製造方法である。 (14) 前記ラクトン化合物が、β-フェニル-γ-ブ
チロラクトン、β-(p-クロロフェニル)-γ-ブチロラク
トン、β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブチロラクトン又
はβ-オクチル-γ-ブチロラクトンであることを特徴と
する製造方法である。 (15) 前記ラクトン化合物が上記式(VIII)で表され
ることを特徴とする製造方法である。
【0014】(16) 前記ラクトン化合物の光学純度
が47%eeより大きいことを特徴とする製造方法である。
が47%eeより大きいことを特徴とする製造方法である。
【0015】(17) 少なくとも一種の極性溶媒を用
いることを特徴とするラクトン化合物の製造方法であ
る。 (18) 前記極性溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)及
び炭素数1から3のアルコールの何れかであることを特
徴とするラクトン化合物の製造方法である。
いることを特徴とするラクトン化合物の製造方法であ
る。 (18) 前記極性溶媒が、アセトニトリル、酢酸エチ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(THF)及
び炭素数1から3のアルコールの何れかであることを特
徴とするラクトン化合物の製造方法である。
【0016】(19) -20℃から0℃でバイヤー・ビリ
ガー酸化することを特徴とするラクトン化合物の製造方
法である。
ガー酸化することを特徴とするラクトン化合物の製造方
法である。
【0017】なお、特に矛盾しない限り、上記(2)か
ら(19)の任意の組み合わせもまた本発明の好ましい
態様である。
ら(19)の任意の組み合わせもまた本発明の好ましい
態様である。
【0018】更に、本発明は、上記製造方法に用いる触
媒であり、即ち、 (20) 下記式(I)及び(II)の何れかで表されるシス-
β構造を有するサレンコバルト錯体である。
媒であり、即ち、 (20) 下記式(I)及び(II)の何れかで表されるシス-
β構造を有するサレンコバルト錯体である。
【化20】
(式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。)
基又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。)
【化21】
(式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。)
【0019】また、本発明の錯体の好ましい態様には以
下のものがある。 (21) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル基、
F、Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴とす
る錯体である。 (22) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基である
ことを特徴とする錯体である。 (23) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Wがヨウ素であることを特徴とする錯体であ
る。
下のものがある。 (21) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル基、
F、Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴とす
る錯体である。 (22) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基である
ことを特徴とする錯体である。 (23) 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Wがヨウ素であることを特徴とする錯体であ
る。
【0020】(24) 前記式(II)で表されるサレンコ
バルト錯体において、X及びYがそれぞれ独立してF、
Cl、Br又はIであることを特徴とする錯体である。 (25) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、X及びYがFであることを特徴とする錯体であ
る。 (26) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Z−がSbF6 −であることを特徴とする錯体
である。
バルト錯体において、X及びYがそれぞれ独立してF、
Cl、Br又はIであることを特徴とする錯体である。 (25) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、X及びYがFであることを特徴とする錯体であ
る。 (26) 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯体に
おいて、Z−がSbF6 −であることを特徴とする錯体
である。
【0021】なお、上記(21)から(26)の任意の
組み合わせもまた本発明の好ましい態様である。
組み合わせもまた本発明の好ましい態様である。
【0022】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。本発明の製造方法で利用するバイヤー・ビリガー酸
化は、バイヤー・ビリガー反応又はバイヤー・ビリガー
転位とも呼ばれ、ケトンの過酸による酸化でエステルを
生成する反応である。この反応を環状ケトン化合物に対
して行うことによりラクトン化合物が得られる。また、
プロキラルな環状ケトン化合物に対しエナンチオ選択的
に該反応を行うと、光学活性なラクトン化合物が得られ
る。
る。本発明の製造方法で利用するバイヤー・ビリガー酸
化は、バイヤー・ビリガー反応又はバイヤー・ビリガー
転位とも呼ばれ、ケトンの過酸による酸化でエステルを
生成する反応である。この反応を環状ケトン化合物に対
して行うことによりラクトン化合物が得られる。また、
プロキラルな環状ケトン化合物に対しエナンチオ選択的
に該反応を行うと、光学活性なラクトン化合物が得られ
る。
【0023】上記バイヤー・ビリガー酸化は2段階反応
であり、即ち、(i)酸化剤の求核的付加がクリーギー(Cr
iegee)付加体を生成する段階と(ii)該付加体がエステル
(又はラクトン)に転位する段階とからなる。そのた
め、バイヤー・ビリガー酸化の立体化学は二つの因子、
即ち(i)酸化剤の付加における面選択性と(ii)転位にお
けるエナンチオ場選択性とに影響される。本発明では、
プロキラルな環状ケトン化合物に対し、後述する特定の
金属錯体及び特定の酸化剤を使用してバイヤー・ビリガ
ー酸化を行うことにより、上記面選択性とエナンチオ場
選択性とを向上させ、光学活性なラクトン化合物を得
る。
であり、即ち、(i)酸化剤の求核的付加がクリーギー(Cr
iegee)付加体を生成する段階と(ii)該付加体がエステル
(又はラクトン)に転位する段階とからなる。そのた
め、バイヤー・ビリガー酸化の立体化学は二つの因子、
即ち(i)酸化剤の付加における面選択性と(ii)転位にお
けるエナンチオ場選択性とに影響される。本発明では、
プロキラルな環状ケトン化合物に対し、後述する特定の
金属錯体及び特定の酸化剤を使用してバイヤー・ビリガ
ー酸化を行うことにより、上記面選択性とエナンチオ場
選択性とを向上させ、光学活性なラクトン化合物を得
る。
【0024】本発明で触媒として使用するシス-β構造
を有するサレンコバルト錯体は、下記式(I)及び(II)の
何れかで表される。
を有するサレンコバルト錯体は、下記式(I)及び(II)の
何れかで表される。
【化22】
【化23】
【0025】上記式(I)において、X及びYは、それぞ
れ独立してH、t-ブチル基又は電子吸引性置換基を表
す。ここで、電子吸引性置換基としては、F、Cl、B
r及びI等のハロゲン元素、並びにニトロ基が挙げられ
る。式(I)中のX及びYとしては、t-ブチル基、F、C
l、Br、I及びニトロ基が好ましく、Xがt-ブチル
基で且つYがニトロ基であるのが特に好ましい。また、
Wはハロゲン元素であり、該ハロゲン元素としては、B
r及びIが挙げられ、コバルトとの結合が弱く、反応系
で容易に解離する点で、Iが好ましい。
れ独立してH、t-ブチル基又は電子吸引性置換基を表
す。ここで、電子吸引性置換基としては、F、Cl、B
r及びI等のハロゲン元素、並びにニトロ基が挙げられ
る。式(I)中のX及びYとしては、t-ブチル基、F、C
l、Br、I及びニトロ基が好ましく、Xがt-ブチル
基で且つYがニトロ基であるのが特に好ましい。また、
Wはハロゲン元素であり、該ハロゲン元素としては、B
r及びIが挙げられ、コバルトとの結合が弱く、反応系
で容易に解離する点で、Iが好ましい。
【0026】上記式(II)において、X及びYは、それぞ
れ独立してH、t-ブチル基又は電子吸引性置換基を表
す。該電子吸引性置換基としては、式(I)中のX及びY
の説明で述べたのと同一のものが挙げられる。式(II)中
のX及びYとしては、F、Cl、Br及びIが好まし
く、X及びYがFであるのが特に好ましい。また、Z−
は一価の非配位性陰イオンであり、例えば、Sb
F6 −、PF6 −が例示でき、好ましくは、SbF6 −
である。ここでZ−が一価の非配位性陰イオンであるの
で、式(II)で表される錯体はカチオン性を帯びている。
れ独立してH、t-ブチル基又は電子吸引性置換基を表
す。該電子吸引性置換基としては、式(I)中のX及びY
の説明で述べたのと同一のものが挙げられる。式(II)中
のX及びYとしては、F、Cl、Br及びIが好まし
く、X及びYがFであるのが特に好ましい。また、Z−
は一価の非配位性陰イオンであり、例えば、Sb
F6 −、PF6 −が例示でき、好ましくは、SbF6 −
である。ここでZ−が一価の非配位性陰イオンであるの
で、式(II)で表される錯体はカチオン性を帯びている。
【0027】式(II)で表されるサレンコバルト錯体は、
式(I)で表されるサレンコバルト錯体に、例えばヘキサ
フルオロアンチモン酸銀等を反応させて得られる。従っ
て、式(I)で表されるサレンコバルト錯体の方が、式(I
I)で表されるサレンコバルト錯体よりも合成が容易であ
る。また、式(I)で表されるサレンコバルト錯体は、式
(II)で表されるサレンコバルト錯体よりも取り扱いが容
易である。従って、錯体の製造コスト及び取り扱いの容
易さの点で、式(I)で表されるサレンコバルト錯体がよ
り好ましい。
式(I)で表されるサレンコバルト錯体に、例えばヘキサ
フルオロアンチモン酸銀等を反応させて得られる。従っ
て、式(I)で表されるサレンコバルト錯体の方が、式(I
I)で表されるサレンコバルト錯体よりも合成が容易であ
る。また、式(I)で表されるサレンコバルト錯体は、式
(II)で表されるサレンコバルト錯体よりも取り扱いが容
易である。従って、錯体の製造コスト及び取り扱いの容
易さの点で、式(I)で表されるサレンコバルト錯体がよ
り好ましい。
【0028】本発明における触媒の使用量は、基質の環
状ケトンのモル量に対し、1〜10mol%、好ましくは4〜6
mol%の範囲である。
状ケトンのモル量に対し、1〜10mol%、好ましくは4〜6
mol%の範囲である。
【0029】上記式(II)で表されるカチオン性サレンコ
バルト錯体は、中心金属上に空いたシス配位座を隣接し
て2個有し、該配位座を基質と酸化剤とに提供する。一
方、上記式(I)で表されるサレンコバルト錯体は、中心
金属に配位しているWが反応系で容易に解離し、式(II)
で表されるサレンコバルト錯体と同様に、中心金属上に
空いたシス配位座を隣接して2個有する形体をとり、該
配位座を基質と酸化剤とに提供する。
バルト錯体は、中心金属上に空いたシス配位座を隣接し
て2個有し、該配位座を基質と酸化剤とに提供する。一
方、上記式(I)で表されるサレンコバルト錯体は、中心
金属に配位しているWが反応系で容易に解離し、式(II)
で表されるサレンコバルト錯体と同様に、中心金属上に
空いたシス配位座を隣接して2個有する形体をとり、該
配位座を基質と酸化剤とに提供する。
【0030】従って、式(I)及び(II)の何れかで表され
るサレンコバルト錯体を不斉バイヤー・ビリガー(Baeye
r-Villiger)酸化に使用すると、基質のカルボニル基の
酸素原子と酸化剤の酸素原子とが同時に中心金属上でシ
ス位に配位し、この配位状態が反応終了時まで保たれ
る。そのため、酸化剤の酸素原子が基質のカルボニル基
の炭素原子を求核攻撃する際の面選択性と、該求核攻撃
によって生じたクリーギー(Criegee)付加体からの転位
の際のエナンチオ場選択性とが向上し、不斉バイヤー・
ビリガー酸化が効率よく進行する。従って、本発明の製
造方法に使用するサレンコバルト錯体は、中心金属上に
空いたシス配位座を隣接して2個有するか、中心金属上
に空いたシス配位座を隣接して2個有する形体を反応中
にとれる必要がある。
るサレンコバルト錯体を不斉バイヤー・ビリガー(Baeye
r-Villiger)酸化に使用すると、基質のカルボニル基の
酸素原子と酸化剤の酸素原子とが同時に中心金属上でシ
ス位に配位し、この配位状態が反応終了時まで保たれ
る。そのため、酸化剤の酸素原子が基質のカルボニル基
の炭素原子を求核攻撃する際の面選択性と、該求核攻撃
によって生じたクリーギー(Criegee)付加体からの転位
の際のエナンチオ場選択性とが向上し、不斉バイヤー・
ビリガー酸化が効率よく進行する。従って、本発明の製
造方法に使用するサレンコバルト錯体は、中心金属上に
空いたシス配位座を隣接して2個有するか、中心金属上
に空いたシス配位座を隣接して2個有する形体を反応中
にとれる必要がある。
【0031】本発明で使用する環状ケトン化合物は、プ
ロキラルな環状ケトン化合物であり、バイヤー・ビリガ
ー酸化により不斉炭素を生じ、例えば下記式(III)、(I
V)、(V)等で表される化合物が挙げられる。ここでプロ
キラルな環状ケトン化合物とは、反応により不斉炭素を
生じる環状ケトンを意味する。
ロキラルな環状ケトン化合物であり、バイヤー・ビリガ
ー酸化により不斉炭素を生じ、例えば下記式(III)、(I
V)、(V)等で表される化合物が挙げられる。ここでプロ
キラルな環状ケトン化合物とは、反応により不斉炭素を
生じる環状ケトンを意味する。
【0032】
【化24】
(式中、R1は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
【0033】
【化25】
(式中、R2は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。)
【0034】
【化26】
【0035】式(III)中のR1におけるアルキル基とし
ては、 メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2
-エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、イソトリデシル、ミリスチル、パル
ミチル、ステアリル、イコシル、ドコシル等が例示でき
る。
ては、 メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、t-ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2
-エチルヘキシル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデ
シル、トリデシル、イソトリデシル、ミリスチル、パル
ミチル、ステアリル、イコシル、ドコシル等が例示でき
る。
【0036】式(III)中のR1におけるアリール基とし
ては、 フェニル、トルイル、キシリル、クメニル、メ
シチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニル、ペンチルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチ
ルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、α-
ナフチル、β-ナフチル等が例示できる。
ては、 フェニル、トルイル、キシリル、クメニル、メ
シチル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ブチルフ
ェニル、ペンチルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチ
ルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、α-
ナフチル、β-ナフチル等が例示できる。
【0037】上記アルキル基及びアリール基は、ハロゲ
ン、炭素数1から4のアルコキシ基等で置換されていて
もよい。
ン、炭素数1から4のアルコキシ基等で置換されていて
もよい。
【0038】式(IV)中のR2におけるアルキル基及びア
リール基としては、上記した式(III)中のR1における
アルキル基及びアリール基として例示したものが同様に
挙げられる。これらのアルキル基及びアリール基も、ハ
ロゲン、炭素数1から4のアルコキシ基等で置換されて
いてもよい。
リール基としては、上記した式(III)中のR1における
アルキル基及びアリール基として例示したものが同様に
挙げられる。これらのアルキル基及びアリール基も、ハ
ロゲン、炭素数1から4のアルコキシ基等で置換されて
いてもよい。
【0039】本発明で使用する酸化剤は、過酸化水素又
は尿素-過酸化水素付加物(UHP)である。これらの酸
化剤は、サレンコバルト錯体の中心金属に配位し、基質
のカルボニル基を攻撃して、キレート化したクリーギー
付加体を生成する。一方、t-ブチルヒドロペルオキシド
(TBHP)又はメタ-クロロ過安息香酸(m-CPBA)を
酸化剤に使用すると、中間体としてキレート化していな
いクリーギー付加体が生成する。この場合、基質のカル
ボニル基の酸素原子と酸化剤の酸素原子とが同時に中心
金属上でシス位に配位していないため、エナンチオ選択
性が著しく低下する。上記酸化剤の使用量は、基質の環
状ケトンに対し1〜2当量(eq)、好ましくは1.2〜1.3当量
(eq)の範囲である。
は尿素-過酸化水素付加物(UHP)である。これらの酸
化剤は、サレンコバルト錯体の中心金属に配位し、基質
のカルボニル基を攻撃して、キレート化したクリーギー
付加体を生成する。一方、t-ブチルヒドロペルオキシド
(TBHP)又はメタ-クロロ過安息香酸(m-CPBA)を
酸化剤に使用すると、中間体としてキレート化していな
いクリーギー付加体が生成する。この場合、基質のカル
ボニル基の酸素原子と酸化剤の酸素原子とが同時に中心
金属上でシス位に配位していないため、エナンチオ選択
性が著しく低下する。上記酸化剤の使用量は、基質の環
状ケトンに対し1〜2当量(eq)、好ましくは1.2〜1.3当量
(eq)の範囲である。
【0040】本発明における生成物である光学活性なラ
クトン化合物は、上述したプロキラルな環状ケトン化合
物を不斉バイヤー・ビリガー酸化することによって製造
する。本発明の製造方法では、前述の通り酸化剤の酸素
原子が環状ケトン化合物のカルボニル基の炭素を求核攻
撃する際の面選択性と、該求核攻撃によって生じたクリ
ーギー付加体からの転位の際のエナンチオ場選択性とが
高いため、光学活性なラクトン化合物が得られる。本発
明で製造する光学活性なラクトン化合物は、前記した環
状ケトンに対応するものであり、下記式(VI)、(VII)、
(VIII)等で表される化合物が例示できる。
クトン化合物は、上述したプロキラルな環状ケトン化合
物を不斉バイヤー・ビリガー酸化することによって製造
する。本発明の製造方法では、前述の通り酸化剤の酸素
原子が環状ケトン化合物のカルボニル基の炭素を求核攻
撃する際の面選択性と、該求核攻撃によって生じたクリ
ーギー付加体からの転位の際のエナンチオ場選択性とが
高いため、光学活性なラクトン化合物が得られる。本発
明で製造する光学活性なラクトン化合物は、前記した環
状ケトンに対応するものであり、下記式(VI)、(VII)、
(VIII)等で表される化合物が例示できる。
【0041】
【化27】
(式中、R1は上記と同義である。)
【0042】
【化28】
(式中、R2は上記と同義である。)
【0043】
【化29】
【0044】本発明で光学異性体の純度の尺度として用
いる光学純度は、以下の式で表される。
いる光学純度は、以下の式で表される。
【数1】
式中、[α]Dは試料の比旋光度を、[α]Dmaxは光学的に
純粋な物質の比旋光度を、Rは試料中に占めるR体の割
合を、Sは試料中に占めるS体の割合を示す。従って、
光学純度は、鏡像体過剰率と一致する。R体とS体の割
合が同じ場合、即ちラセミ体の場合は、光学純度は0%e
eとなる。生成物の光学純度(鏡像体過剰率)は、光学
活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(HP
LC)により測定することができる。
純粋な物質の比旋光度を、Rは試料中に占めるR体の割
合を、Sは試料中に占めるS体の割合を示す。従って、
光学純度は、鏡像体過剰率と一致する。R体とS体の割
合が同じ場合、即ちラセミ体の場合は、光学純度は0%e
eとなる。生成物の光学純度(鏡像体過剰率)は、光学
活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィー(HP
LC)により測定することができる。
【0045】本発明の製造方法は、通常溶媒中で行う。
溶媒としては、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキ
ル、テトラヒドロフラン(THF)及びジエチルエーテル
等のエーテル化合物、アセトニトリル等のニトリル化合
物、酢酸エチル等のエステル化合物、メタノール、エタ
ノール及びイソプロパノール等の炭素数1〜3のアルコ
ール化合物、ヘキサン等の脂肪属炭化水素、並びにベン
ゼン及びトルエン等の芳香属炭化水素等が例示できる。
この中でも、反応速度と鏡像体過剰率を向上させる観点
からは、ハロゲン化アルキル、エーテル化合物、ニトリ
ル化合物、エステル化合物及びアルコール化合物等の極
性溶媒が好ましく、アセトニトリル、酢酸エチル、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、及び炭素数1から
3のアルコール化合物が特に好ましい。上記溶媒の使用
量は、基質の環状ケトン1mmolに対し1〜10ml、好ましく
は4〜5mlの範囲である。
溶媒としては、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキ
ル、テトラヒドロフラン(THF)及びジエチルエーテル
等のエーテル化合物、アセトニトリル等のニトリル化合
物、酢酸エチル等のエステル化合物、メタノール、エタ
ノール及びイソプロパノール等の炭素数1〜3のアルコ
ール化合物、ヘキサン等の脂肪属炭化水素、並びにベン
ゼン及びトルエン等の芳香属炭化水素等が例示できる。
この中でも、反応速度と鏡像体過剰率を向上させる観点
からは、ハロゲン化アルキル、エーテル化合物、ニトリ
ル化合物、エステル化合物及びアルコール化合物等の極
性溶媒が好ましく、アセトニトリル、酢酸エチル、テト
ラヒドロフラン、ジエチルエーテル、及び炭素数1から
3のアルコール化合物が特に好ましい。上記溶媒の使用
量は、基質の環状ケトン1mmolに対し1〜10ml、好ましく
は4〜5mlの範囲である。
【0046】本発明の製造方法は、室温で行うことがで
きる。室温以下、例えば0℃から-20℃で反応を行うと、
生成物の収率は下がるものの、鏡像体過剰率が向上する
ため、生成物の光学純度を上げる観点からは好ましい。
きる。室温以下、例えば0℃から-20℃で反応を行うと、
生成物の収率は下がるものの、鏡像体過剰率が向上する
ため、生成物の光学純度を上げる観点からは好ましい。
【0047】本発明では、環状ケトン化合物、酸化剤、
溶媒及び触媒の混合溶液を撹拌することにより、光学活
性なラクトン化合物を製造することができる。撹拌方法
は、混合溶液の均一性を確保できさえすれば特に限定さ
れず、公知の方法が適用できる。また、反応時間は特に
限定されず、上記反応温度に合わせて適宜選択される。
反応温度が高い場合は反応時間を短く、反応温度が低い
場合は反応時間を長くすることが好ましい。
溶媒及び触媒の混合溶液を撹拌することにより、光学活
性なラクトン化合物を製造することができる。撹拌方法
は、混合溶液の均一性を確保できさえすれば特に限定さ
れず、公知の方法が適用できる。また、反応時間は特に
限定されず、上記反応温度に合わせて適宜選択される。
反応温度が高い場合は反応時間を短く、反応温度が低い
場合は反応時間を長くすることが好ましい。
【0048】
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく
説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を
限定されるものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を
限定されるものではない。
【0049】錯体合成例1
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0050】(1S,2S)-1,2-ジフェニルエチレンジアミン
[環境科学センター株式会社](106.2mg, 0.5mmol)をエタ
ノール(10ml)に溶解させる。該溶液に3,5-ジブロモサリ
チルアルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0m
mol)を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流す
る。反応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1
時間加熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバル
トのエタノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時
間後室温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時
間加熱乾燥させる。
[環境科学センター株式会社](106.2mg, 0.5mmol)をエタ
ノール(10ml)に溶解させる。該溶液に3,5-ジブロモサリ
チルアルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0m
mol)を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流す
る。反応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1
時間加熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバル
トのエタノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時
間後室温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時
間加熱乾燥させる。
【0051】乾燥した沈殿物を、窒素雰囲気下ジクロロ
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(S,S)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリデン)
-1,2-ジフェニルエチレンジアミナートコバルト(III)]
ヘキサフルオロアンチモネート(437.2mg, 収率85%)を得
た。
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(S,S)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリデン)
-1,2-ジフェニルエチレンジアミナートコバルト(III)]
ヘキサフルオロアンチモネート(437.2mg, 収率85%)を得
た。
【化30】
【0052】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3065, 3056, 2959,1632, 1583, 1502, 1
439, 1375, 1310, 1217, 1167, 1078, 1005, 964, 864,
789, 748, 714, 664, 550, 521cm-1であった。また、H
RFAB-MS m/zの測定結果は、C28H18O2N2 79
Br4Co(M+-SbF6 −)の理論値788.7434に対
し、実測値788.7429であった。
測定の結果は、3065, 3056, 2959,1632, 1583, 1502, 1
439, 1375, 1310, 1217, 1167, 1078, 1005, 964, 864,
789, 748, 714, 664, 550, 521cm-1であった。また、H
RFAB-MS m/zの測定結果は、C28H18O2N2 79
Br4Co(M+-SbF6 −)の理論値788.7434に対
し、実測値788.7429であった。
【0053】錯体合成例2
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0054】(1S,2S)-1,2-ジアミノシクロヘキサン[環
境科学センター株式会社](57.0mg, 0.5mmol)をエタノー
ル(10ml)に溶解させる。該溶液に3,5-ジブロモサリチル
アルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0mmol)
を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反
応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエ
タノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後、
室温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。
境科学センター株式会社](57.0mg, 0.5mmol)をエタノー
ル(10ml)に溶解させる。該溶液に3,5-ジブロモサリチル
アルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0mmol)
を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反
応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエ
タノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後、
室温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。
【0055】乾燥した沈殿物を、窒素雰囲気下ジクロロ
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(S,S)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリデン)
-1,2-シクロヘキサンジアミナートコバルト(III)]ヘキ
サフルオロアンチモネート(372.2mg, 収率80%)を得た。
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(S,S)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリデン)
-1,2-シクロヘキサンジアミナートコバルト(III)]ヘキ
サフルオロアンチモネート(372.2mg, 収率80%)を得た。
【化31】
【0056】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3065, 2937, 2862,1637, 1581, 1516, 1
441, 1377, 1344, 1315, 1290, 1165, 1034, 957, 868,
746, 715, 660, 586, 552, 511, 457cm-1であった。ま
た、HRFAB-MS m/zの測定結果は、C20H16O2N2
79Br4Co(M+-SbF6 −)の理論値690.7277に
対し、実測値690.7283であった。
測定の結果は、3065, 2937, 2862,1637, 1581, 1516, 1
441, 1377, 1344, 1315, 1290, 1165, 1034, 957, 868,
746, 715, 660, 586, 552, 511, 457cm-1であった。ま
た、HRFAB-MS m/zの測定結果は、C20H16O2N2
79Br4Co(M+-SbF6 −)の理論値690.7277に
対し、実測値690.7283であった。
【0057】錯体合成例3
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0058】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にトリフルオロ酢酸中で
3,5-ジフルオロフェノールとヘキサメチレンテトラミン
を作用させて(90℃)合成した3,5-ジフルオロサリチルア
ルデヒド(158.1mg, 1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌
下、6時間加熱還流する。反応終了後室温に戻し、生じ
た沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥させる。乾燥した沈
殿物を上記酢酸コバルトのエタノール溶液に加え、6時
間加熱還流を行う。6時間後室温に戻し、エタノールを
ロータリーエバポレーターを用いて除去し、残渣を1時
間加熱乾燥させる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にトリフルオロ酢酸中で
3,5-ジフルオロフェノールとヘキサメチレンテトラミン
を作用させて(90℃)合成した3,5-ジフルオロサリチルア
ルデヒド(158.1mg, 1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌
下、6時間加熱還流する。反応終了後室温に戻し、生じ
た沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥させる。乾燥した沈
殿物を上記酢酸コバルトのエタノール溶液に加え、6時
間加熱還流を行う。6時間後室温に戻し、エタノールを
ロータリーエバポレーターを用いて除去し、残渣を1時
間加熱乾燥させる。
【0059】乾燥した残渣を、窒素雰囲気下ジクロロメ
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタン
をロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時
間加熱乾燥し、下記化学式(XI)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタン
をロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時
間加熱乾燥し、下記化学式(XI)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
【化32】
【0060】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3057, 1606, 1553,1448, 1350, 1304, 1
263, 1231, 1178, 1124, 1051, 991, 949, 825, 750, 6
94,644cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果は、
C34H18O2N2F4Co(M+-I−)の理論値62
1.06に対し、実測値620.9であった。
測定の結果は、3057, 1606, 1553,1448, 1350, 1304, 1
263, 1231, 1178, 1124, 1051, 991, 949, 825, 750, 6
94,644cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果は、
C34H18O2N2F4Co(M+-I−)の理論値62
1.06に対し、実測値620.9であった。
【0061】次に、上記化学式(XI)で表されるCo(III)
(サレン)錯体(374mg, 0.5mmol)をジクロロメタンに溶解
させ、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. C
o.](172.8mg, 0.5mmol)を加え、1時間撹拌する。1時間
後反応溶液をセライトろ過し、ろ液をロータリーエバポ
レーターで濃縮して、ジクロロメタンを除く。残渣をジ
クロロメタン/メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリ
カゲルカラムで分離し、下記化学式(XII)で表されるCo
(III)(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオ
ロサリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナート
コバルト(III)]ヘキサフルオロアンチモネート(300.0m
g, 収率70%)を得た。
(サレン)錯体(374mg, 0.5mmol)をジクロロメタンに溶解
させ、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. C
o.](172.8mg, 0.5mmol)を加え、1時間撹拌する。1時間
後反応溶液をセライトろ過し、ろ液をロータリーエバポ
レーターで濃縮して、ジクロロメタンを除く。残渣をジ
クロロメタン/メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリ
カゲルカラムで分離し、下記化学式(XII)で表されるCo
(III)(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオ
ロサリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナート
コバルト(III)]ヘキサフルオロアンチモネート(300.0m
g, 収率70%)を得た。
【化33】
【0062】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3385, 3236, 3057,2930, 1713, 1610, 1
553, 1506, 1450, 1352, 1308, 1267, 1232, 1180, 112
6,1066, 989, 951, 831, 750, 694, 660, 582, 536, 48
8cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果は、C
34H18O2N2F4Co(M+-SbF6 −)の理論
値621.0636に対し、実測値621.0641であった。
測定の結果は、3385, 3236, 3057,2930, 1713, 1610, 1
553, 1506, 1450, 1352, 1308, 1267, 1232, 1180, 112
6,1066, 989, 951, 831, 750, 694, 660, 582, 536, 48
8cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果は、C
34H18O2N2F4Co(M+-SbF6 −)の理論
値621.0636に対し、実測値621.0641であった。
【0063】錯体合成例4
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0064】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にトリフルオロ酢酸中で
3,5-ジフルオロフェノールとヘキサメチレンテトラミン
を作用させて(90℃)合成した3,5-ジフルオロサリチルア
ルデヒド(158.1mg, 1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌
下、6時間加熱還流する。反応終了後室温に戻し、生じ
た沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥させる。乾燥した沈
殿物を上記酢酸コバルトのエタノール溶液に加え、6時
間加熱還流を行う。6時間後室温に戻し、エタノールを
ロータリーエバポレーターを用いて除去し、残渣を1時
間加熱乾燥させる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にトリフルオロ酢酸中で
3,5-ジフルオロフェノールとヘキサメチレンテトラミン
を作用させて(90℃)合成した3,5-ジフルオロサリチルア
ルデヒド(158.1mg, 1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌
下、6時間加熱還流する。反応終了後室温に戻し、生じ
た沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥させる。乾燥した沈
殿物を上記酢酸コバルトのエタノール溶液に加え、6時
間加熱還流を行う。6時間後室温に戻し、エタノールを
ロータリーエバポレーターを用いて除去し、残渣を1時
間加熱乾燥させる。
【0065】乾燥した残渣を、窒素雰囲気下ジクロロメ
タンに溶解させる。この溶液に臭素(40.0mg, 0.25mmol)
を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタンを
ロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時間
加熱乾燥し、下記化学式(XIII)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]ブロマイドを得る。これを単離することなく、目的
の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取し、
以下の測定結果を得た。
タンに溶解させる。この溶液に臭素(40.0mg, 0.25mmol)
を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタンを
ロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時間
加熱乾燥し、下記化学式(XIII)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジフルオロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]ブロマイドを得る。これを単離することなく、目的
の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取し、
以下の測定結果を得た。
【化34】
【0066】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、2964, 1612, 1585,1560, 1468, 1389, 1
327, 1271, 1227, 1180, 1126, 1070, 991, 925, 806,
748, 679cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2F 4Co(M+-Br−)の理
論値621.06に対し、実測値620.9であった。
測定の結果は、2964, 1612, 1585,1560, 1468, 1389, 1
327, 1271, 1227, 1180, 1126, 1070, 991, 925, 806,
748, 679cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2F 4Co(M+-Br−)の理
論値621.06に対し、実測値620.9であった。
【0067】錯体合成例5
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0068】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジクロロサリチル
アルデヒド[東京化成工業(株)製](191.0mg, 1.0mmol)を
加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応
終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタ
ノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温
に戻し、エタノールをロータリーエバポレーターを用い
て除去し、残渣を1時間加熱乾燥させる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジクロロサリチル
アルデヒド[東京化成工業(株)製](191.0mg, 1.0mmol)を
加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応
終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタ
ノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温
に戻し、エタノールをロータリーエバポレーターを用い
て除去し、残渣を1時間加熱乾燥させる。
【0069】乾燥した残渣を、窒素雰囲気下ジクロロメ
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタン
をロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時
間加熱乾燥し、下記化学式(XIV)で表されるCo(III)(サ
レン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジクロロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタン
をロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1時
間加熱乾燥し、下記化学式(XIV)で表されるCo(III)(サ
レン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジクロロサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
【化35】
【0070】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3059, 2930, 2374,1603, 1508, 1433, 1
379, 1306, 1200, 1163, 970, 864, 822, 748, 691cm-1
であった。また、ESI-MS m/zの測定結果は、C34H
18O2N2Cl4Co(M +-I−)の理論値684.9に対
し、実測値684.8であった。
測定の結果は、3059, 2930, 2374,1603, 1508, 1433, 1
379, 1306, 1200, 1163, 970, 864, 822, 748, 691cm-1
であった。また、ESI-MS m/zの測定結果は、C34H
18O2N2Cl4Co(M +-I−)の理論値684.9に対
し、実測値684.8であった。
【0071】錯体合成例6
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0072】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジブロモサリチル
アルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0mmol)
を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反
応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエ
タノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室
温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジブロモサリチル
アルデヒド[東京化成工業株式会社](279.9mg, 1.0mmol)
を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反
応終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加
熱乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエ
タノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室
温に戻し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。
【0073】乾燥した沈殿物を、窒素雰囲気下ジクロロ
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタ
ンをロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1
時間加熱乾燥し、下記化学式(XV)で表されるCo(III)(サ
レン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ジクロロメタ
ンをロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1
時間加熱乾燥し、下記化学式(XV)で表されるCo(III)(サ
レン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモサリチリ
デン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(II
I)]アイオダイドを得る。これを単離することなく、目
的の反応に利用する。但し、同定のために一部を採取
し、以下の測定結果を得た。
【化36】
【0074】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3057, 3009, 2922,1601, 1501, 1427, 1
377, 1304, 1265, 1200, 1150, 1070, 1043, 955, 866,
818, 750, 714, 687, 658cm-1であった。また、ESI-MS
m/zの測定結果は、C34H18O2N2 79Br4C
o(M+-I−)の理論値860.7に対し、実測値860.5であ
った。
測定の結果は、3057, 3009, 2922,1601, 1501, 1427, 1
377, 1304, 1265, 1200, 1150, 1070, 1043, 955, 866,
818, 750, 714, 687, 658cm-1であった。また、ESI-MS
m/zの測定結果は、C34H18O2N2 79Br4C
o(M+-I−)の理論値860.7に対し、実測値860.5であ
った。
【0075】次に、上記化学式(XV)で表されるCo(III)
(サレン)錯体(496mg, 0.5mmol)をジクロロメタンに溶解
させ、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. C
o.](172.8mg, 0.5mmol)を加え、1時間撹拌する。1時間
後反応溶液をセライトろ過し、ろ液をロータリーエバポ
レーターで濃縮して、ジクロロメタンを除く。残渣をジ
クロロメタン/メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリ
カゲルカラムで分離し、下記化学式(XVI)で表されるCo
(III)(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモ
サリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコ
バルト(III)]ヘキサフルオロアンチモネート(495.4mg,
収率90%)を得た。
(サレン)錯体(496mg, 0.5mmol)をジクロロメタンに溶解
させ、ヘキサフルオロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. C
o.](172.8mg, 0.5mmol)を加え、1時間撹拌する。1時間
後反応溶液をセライトろ過し、ろ液をロータリーエバポ
レーターで濃縮して、ジクロロメタンを除く。残渣をジ
クロロメタン/メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリ
カゲルカラムで分離し、下記化学式(XVI)で表されるCo
(III)(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジブロモ
サリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコ
バルト(III)]ヘキサフルオロアンチモネート(495.4mg,
収率90%)を得た。
【化37】
【0076】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3381, 3290, 3230,3059, 3014, 2924, 2
854, 1601, 1504, 1431, 1367, 1306, 1265, 1203, 116
1,1092, 951, 864, 820, 777, 750, 723, 662, 540, 49
6, 438cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2 79Br4Co(M+-SbF
6 −)の理論値860.7434に対し、実測値860.7443であっ
た。
測定の結果は、3381, 3290, 3230,3059, 3014, 2924, 2
854, 1601, 1504, 1431, 1367, 1306, 1265, 1203, 116
1,1092, 951, 864, 820, 777, 750, 723, 662, 540, 49
6, 438cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2 79Br4Co(M+-SbF
6 −)の理論値860.7434に対し、実測値860.7443であっ
た。
【0077】錯体合成例7
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0078】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジヨードサリチル
アルデヒド[Aldrich Chem. Co.](373.9mg, 1.0mmol)を
加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応
終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタ
ノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温
に戻し、エタノールをロータリーエバポレーターを用い
て除去し、残渣を1時間加熱乾燥させる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に3,5-ジヨードサリチル
アルデヒド[Aldrich Chem. Co.](373.9mg, 1.0mmol)を
加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応
終了後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱
乾燥させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタ
ノール溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温
に戻し、エタノールをロータリーエバポレーターを用い
て除去し、残渣を1時間加熱乾燥させる。
【0079】乾燥した残渣を、窒素雰囲気下ジクロロメ
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後、ジクロロメタ
ンをロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1
時間加熱乾燥し、下記化学式(XVII)で表されるCo(III)
(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジヨードサリ
チリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバル
ト(III)]アイオダイドを得る。これを単離することな
く、目的の反応に用いた。但し、同定のために一部を採
取し、以下の測定結果を得た。
タンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25mmo
l)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後、ジクロロメタ
ンをロータリーエバポレーターを用いて除去、残渣を1
時間加熱乾燥し、下記化学式(XVII)で表されるCo(III)
(サレン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3,5-ジヨードサリ
チリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバル
ト(III)]アイオダイドを得る。これを単離することな
く、目的の反応に用いた。但し、同定のために一部を採
取し、以下の測定結果を得た。
【化38】
【0080】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3051, 2923, 2301,1595, 1487, 1421, 1
371, 1302, 1204, 1146, 1113, 1072, 955, 864, 814,
748, 679cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2I 4Co(M+-I−)の理論
値1052.7に対し、実測値1052.5であった。
測定の結果は、3051, 2923, 2301,1595, 1487, 1421, 1
371, 1302, 1204, 1146, 1113, 1072, 955, 864, 814,
748, 679cm-1であった。また、ESI-MS m/zの測定結果
は、C34H18O2N2I 4Co(M+-I−)の理論
値1052.7に対し、実測値1052.5であった。
【0081】錯体合成例8
(R)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン[Aldrich Chem. C
o.](200mg, 0.7mmol)をエタノール(7ml)に懸濁させる。
該懸濁液に3-tert-ブチルサリチルアルデヒド[Aldrich
Chem. Co.]を濃硝酸-濃硫酸の混合物で処理して合成し
た3-tert-ブチル-5-ニトロサリチルアルデヒド(314mg,
1.4mmol)を加える。この溶液を撹拌下、12時間90℃で加
熱する。12時間後室温に戻し、生じた沈殿物をろ過によ
り分離し、真空中で乾燥する。
o.](200mg, 0.7mmol)をエタノール(7ml)に懸濁させる。
該懸濁液に3-tert-ブチルサリチルアルデヒド[Aldrich
Chem. Co.]を濃硝酸-濃硫酸の混合物で処理して合成し
た3-tert-ブチル-5-ニトロサリチルアルデヒド(314mg,
1.4mmol)を加える。この溶液を撹拌下、12時間90℃で加
熱する。12時間後室温に戻し、生じた沈殿物をろ過によ
り分離し、真空中で乾燥する。
【0082】酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株
式会社]を真空下70〜80℃で色がピンクから紫になるま
で加熱し、得られた酢酸コバルト(II)(50mg, 0.2mmol)
を、脱気したN,N'-ジメチルホルムアミド(DMF)(4ml)に
加え溶解させる。この溶液に、上記沈殿物(139mg, 0.2m
mol)を加え、24時間110℃で加熱し、更に真空下で濃縮
した後、ジクロロメタン(4ml)に溶解させる。この溶液
にヨウ素(25.4mg, 0.1mmol)を加えて、1時間撹拌を行
う。1時間後混合液を濃縮し、残渣をヘキサン/ジクロロ
メタン(=1/0〜1/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
で分離し、下記化学式(XVIII)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3-tert-ブチル-5-ニトロ
サリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコ
バルト(III)]アイオダイド(113mg, 収率64%)を得た。
式会社]を真空下70〜80℃で色がピンクから紫になるま
で加熱し、得られた酢酸コバルト(II)(50mg, 0.2mmol)
を、脱気したN,N'-ジメチルホルムアミド(DMF)(4ml)に
加え溶解させる。この溶液に、上記沈殿物(139mg, 0.2m
mol)を加え、24時間110℃で加熱し、更に真空下で濃縮
した後、ジクロロメタン(4ml)に溶解させる。この溶液
にヨウ素(25.4mg, 0.1mmol)を加えて、1時間撹拌を行
う。1時間後混合液を濃縮し、残渣をヘキサン/ジクロロ
メタン(=1/0〜1/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
で分離し、下記化学式(XVIII)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(3-tert-ブチル-5-ニトロ
サリチリデン)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコ
バルト(III)]アイオダイド(113mg, 収率64%)を得た。
【化39】
【0083】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3059, 2957, 2916,2870, 1593, 1554, 1
500, 1470, 1419, 1387, 1315, 1200, 1173, 1115, 107
6,1028, 984, 922, 866, 829, 798, 739, 681, 561, 50
9, 484cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果
は、C42H36O6N4Co(M+-I−)の理論値75
1.1967に対し、実測値751.1971であった。
測定の結果は、3059, 2957, 2916,2870, 1593, 1554, 1
500, 1470, 1419, 1387, 1315, 1200, 1173, 1115, 107
6,1028, 984, 922, 866, 829, 798, 739, 681, 561, 50
9, 484cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測定結果
は、C42H36O6N4Co(M+-I−)の理論値75
1.1967に対し、実測値751.1971であった。
【0084】錯体合成例9
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0085】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にサリチルアルデヒド
[ナカライテスク株式会社](122.1mg, 1.0mmol)を加え
る。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応終了
後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥
させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタノー
ル溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温に戻
し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥さ
せる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液にサリチルアルデヒド
[ナカライテスク株式会社](122.1mg, 1.0mmol)を加え
る。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流する。反応終了
後室温に戻し、生じた沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥
させる。乾燥した沈殿物を上記酢酸コバルトのエタノー
ル溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温に戻
し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥さ
せる。
【0086】乾燥した沈殿物を、窒素雰囲気下ジクロロ
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(XIX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(R)-N,N'-ビス(サリチリデン)-1,1'-ビナフチ
ル-2,2'-ジアミナートコバルト(III)]ヘキサフルオロア
ンチモネート(325.9mg, 収率83%)を得た。
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
してジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/メ
タノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラムで
分離し、下記化学式(XIX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体、即ち[(R)-N,N'-ビス(サリチリデン)-1,1'-ビナフチ
ル-2,2'-ジアミナートコバルト(III)]ヘキサフルオロア
ンチモネート(325.9mg, 収率83%)を得た。
【化40】
【0087】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3298, 3236, 3055,3014, 2926, 1607, 1
527, 1441, 1375, 1313, 1190, 1149, 1074, 957, 910,
816, 752, 660, 492, 440cm-1であった。また、HRFAB-
MS m/zの測定結果は、C3 4H22O2N2Co(M+-
SbF6 −)の理論値549.1013に対し、実測値549.1012
であった。
測定の結果は、3298, 3236, 3055,3014, 2926, 1607, 1
527, 1441, 1375, 1313, 1190, 1149, 1074, 957, 910,
816, 752, 660, 492, 440cm-1であった。また、HRFAB-
MS m/zの測定結果は、C3 4H22O2N2Co(M+-
SbF6 −)の理論値549.1013に対し、実測値549.1012
であった。
【0088】錯体合成例10
酢酸コバルト(II)(4水和物)[キシダ化学株式会社](124.
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
5mg, 0.5mmol)を80℃に加熱し、1時間真空乾燥する。1
時間後室温に戻し、窒素気流下脱水エタノール(5ml)を
加え溶解させる。
【0089】(R)-(+)-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミン
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に2-ヒドロキシ-5-メト
キシベンズアルデヒド[Aldrich Chem. Co.](152.2mg,
1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流
する。反応終了後室温に戻し、エタノールをロータリー
エバポレーターを用いて除去し、残渣を1時間加熱乾燥
させる。乾燥した残渣を上記酢酸コバルトのエタノール
溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温に戻
し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥さ
せる。
[Aldrich Chem. Co.](142.2mg, 0.5mmol)をエタノール
(10ml)に懸濁させる。該懸濁液に2-ヒドロキシ-5-メト
キシベンズアルデヒド[Aldrich Chem. Co.](152.2mg,
1.0mmol)を加える。この溶液を撹拌下、6時間加熱還流
する。反応終了後室温に戻し、エタノールをロータリー
エバポレーターを用いて除去し、残渣を1時間加熱乾燥
させる。乾燥した残渣を上記酢酸コバルトのエタノール
溶液に加え、6時間加熱還流を行う。6時間後室温に戻
し、窒素雰囲気下で沈殿物をろ取し、1時間加熱乾燥さ
せる。
【0090】乾燥した沈殿物を、窒素雰囲気下ジクロロ
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
して、ジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/
メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
で分離し、下記化学式(XX)で表されるCo(III)(サレン)
錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(5-ジメトキシサリチリデン)
-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(III)]ヘ
キサフルオロアンチモネート(367.7mg, 収率87%)を得
た。
メタンに溶解させる。この溶液にヨウ素(63.5mg, 0.25m
mol)を加えて、1時間撹拌を行う。1時間後ヘキサフルオ
ロアンチモン酸銀[Aldrich Chem. Co.](172.8mg, 0.5mm
ol)を加え、更に1時間撹拌する。1時間後反応溶液をセ
ライトろ過し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮
して、ジクロロメタンを除く。残渣をジクロロメタン/
メタノール(=20/1)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
で分離し、下記化学式(XX)で表されるCo(III)(サレン)
錯体、即ち[(R)-N,N'-ビス(5-ジメトキシサリチリデン)
-1,1'-ビナフチル-2,2'-ジアミナートコバルト(III)]ヘ
キサフルオロアンチモネート(367.7mg, 収率87%)を得
た。
【化41】
【0091】上記方法で得られた錯体のIR(KBr)
測定の結果は、3385, 3302, 3238,3055, 3001, 2937, 2
837, 1593, 1533, 1510, 1462, 1431, 1356, 1302, 126
7,1219, 1155, 1076, 1036, 947, 818, 750, 660, 575,
527, 494, 440cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測
定結果は、C36H26O4N2Co(M+-Sb
F 6 −)の理論値609.1225に対し、実測値606.1225であ
った。
測定の結果は、3385, 3302, 3238,3055, 3001, 2937, 2
837, 1593, 1533, 1510, 1462, 1431, 1356, 1302, 126
7,1219, 1155, 1076, 1036, 947, 818, 750, 660, 575,
527, 494, 440cm-1であった。また、HRFAB-MS m/zの測
定結果は、C36H26O4N2Co(M+-Sb
F 6 −)の理論値609.1225に対し、実測値606.1225であ
った。
【0092】実施例1
室温にて、3-フェニルシクロブタノン(14.6mg, 0.1mmo
l)を0.5mlのジクロロメタン(CH2Cl2)に溶解させ
る。このジクロロメタン溶液に前記式(XVI)で表されるC
o(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μmol)を加える。この
溶液に30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有
量0.13mmol)を加え、室温にて24時間撹拌する。反応終
了後、ジクロロメタンをロータリーエバポレーターで除
去し、残渣をヘキサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒と
してシリカゲルカラムでクロマトグラフ分離し、β-フ
ェニル-γ-ブチロラクトン(4.9mg, 収率30%)を得た。こ
のラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD
-H(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプ
ロパノール(=49/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラ
フィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率
は20%eeであった。結果を表1に示す。
l)を0.5mlのジクロロメタン(CH2Cl2)に溶解させ
る。このジクロロメタン溶液に前記式(XVI)で表されるC
o(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μmol)を加える。この
溶液に30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有
量0.13mmol)を加え、室温にて24時間撹拌する。反応終
了後、ジクロロメタンをロータリーエバポレーターで除
去し、残渣をヘキサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒と
してシリカゲルカラムでクロマトグラフ分離し、β-フ
ェニル-γ-ブチロラクトン(4.9mg, 収率30%)を得た。こ
のラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD
-H(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプ
ロパノール(=49/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラ
フィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率
は20%eeであった。結果を表1に示す。
【0093】実施例2
30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13m
mol)の代わりに尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg,
過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外は実施例1と
同様に行った。結果を表1に示す。
mol)の代わりに尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg,
過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外は実施例1と
同様に行った。結果を表1に示す。
【0094】実施例3
式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(4.3mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様
に行った。結果を表1に示す。
ol)の代わりに前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(4.3mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様
に行った。結果を表1に示す。
【0095】実施例4
式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XIX)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(3.9mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様
に行った。結果を表1に示す。
ol)の代わりに前記式(XIX)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(3.9mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様
に行った。結果を表1に示す。
【0096】参照例1
式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例1と同様に
行った。結果を表1に示す。
ol)の代わりに前記式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例1と同様に
行った。結果を表1に示す。
【0097】参照例2
30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13m
mol)の代わりにt-ブチルヒドロペルオキシド(TBH
P)のトルエン溶液(3.34N)(30μl, TBHP含有量0.1m
mol)を用いた以外は参照例1と同様に行った。結果を表
1に示す。
mol)の代わりにt-ブチルヒドロペルオキシド(TBH
P)のトルエン溶液(3.34N)(30μl, TBHP含有量0.1m
mol)を用いた以外は参照例1と同様に行った。結果を表
1に示す。
【0098】参照例3
3-フェニルシクロブタノン(14.6mg, 0.1mmol)を0.5mlの
ジクロロメタン(CH 2Cl2)に溶解させる。このジク
ロロメタン溶液に前記式(IX)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体(5.1mg, 5.0μmol)を加え、-78℃に冷却する。
この溶液にメタ-クロロ過安息香酸(m-CPBA)(26mg,
0.1mmol)及びN-メチルモルフォリン-N-オキサイド(1
2mg, 0.1mmol)を加え、-78℃にて24時間撹拌する。以
下、実施例1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラク
トンを分離して、分析した。結果を表1に示す。
ジクロロメタン(CH 2Cl2)に溶解させる。このジク
ロロメタン溶液に前記式(IX)で表されるCo(III)(サレ
ン)錯体(5.1mg, 5.0μmol)を加え、-78℃に冷却する。
この溶液にメタ-クロロ過安息香酸(m-CPBA)(26mg,
0.1mmol)及びN-メチルモルフォリン-N-オキサイド(1
2mg, 0.1mmol)を加え、-78℃にて24時間撹拌する。以
下、実施例1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラク
トンを分離して、分析した。結果を表1に示す。
【0099】参照例4
式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.1mg, 5.0μmo
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例1と同様に行
った。結果を表1に示す。
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例1と同様に行
った。結果を表1に示す。
【0100】参照例5
式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.1mg, 5.0μmo
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例2と同様に行
った。結果を表1に示す。
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例2と同様に行
った。結果を表1に示す。
【0101】参照例6
式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.1mg, 5.0μmo
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例3と同様に行
った。結果を表1に示す。
l)の代わりに前記式(X)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例3と同様に行
った。結果を表1に示す。
【0102】参照例7
式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.1mg, 5.0μmo
l)の代わりに前記式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例2と同様に
行った。結果を表1に示す。
l)の代わりに前記式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例2と同様に
行った。結果を表1に示す。
【0103】参照例8
式(IX)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.1mg, 5.0μmo
l)の代わりに前記式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例3と同様に
行った。結果を表1に示す。
l)の代わりに前記式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は参照例3と同様に
行った。結果を表1に示す。
【0104】参照例9
式(XVI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(5.5mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(4.3mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様に
行った。結果を表1に示す。
ol)の代わりに前記式(XX)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(4.3mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例2と同様に
行った。結果を表1に示す。
【0105】
【表1】
【0106】表1の実施例1〜4及び参照例1〜9に対
応する反応式を下記に示す。
応する反応式を下記に示す。
【化42】
【0107】表1から、触媒として式(XVI)、(XII)、(X
IX)で表されるカチオン性サレンコバルト錯体が、鏡像
体過剰率の点で優れることが分かる。また、酸化剤とし
てH 2O2及びUHPが、鏡像体過剰率の点で優れるこ
とが分かる。
IX)で表されるカチオン性サレンコバルト錯体が、鏡像
体過剰率の点で優れることが分かる。また、酸化剤とし
てH 2O2及びUHPが、鏡像体過剰率の点で優れるこ
とが分かる。
【0108】実施例5
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにテト
ラヒドロフラン(THF)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
ラヒドロフラン(THF)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
【0109】実施例6
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにアセ
トニトリル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
トニトリル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
【0110】実施例7
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにエタ
ノール(EtOH)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同
様に行った。結果を表2に示す。
ノール(EtOH)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同
様に行った。結果を表2に示す。
【0111】実施例8
尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有
量0.13mmol)の代わりに30%の過酸化水素(H2O2)水
溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外
は実施例7と同様に行った。結果を表2に示す。
量0.13mmol)の代わりに30%の過酸化水素(H2O2)水
溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外
は実施例7と同様に行った。結果を表2に示す。
【0112】実施例9
3-フェニルシクロブタノン(14.6mg, 0.1mmol)を0.5mlの
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に尿素-
過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有量0.1
3mmol)を加え、0℃にて24時間撹拌する。以下、実施例
1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを分離
して、分析した。結果を表2に示す。
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に尿素-
過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有量0.1
3mmol)を加え、0℃にて24時間撹拌する。以下、実施例
1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを分離
して、分析した。結果を表2に示す。
【0113】実施例10
尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有
量0.13mmol)の代わりに30%の過酸化水素(H2O2)水
溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外
は実施例9と同様に行った。結果を表2に示す。
量0.13mmol)の代わりに30%の過酸化水素(H2O2)水
溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外
は実施例9と同様に行った。結果を表2に示す。
【0114】実施例11
3-フェニルシクロブタノン(14.6mg, 0.1mmol)を0.5mlの
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、-20℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、-20℃にて24時間撹拌する。以下、実施例1
と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを分離し
て、分析した。結果を表2に示す。
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、-20℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、-20℃にて24時間撹拌する。以下、実施例1
と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを分離し
て、分析した。結果を表2に示す。
【0115】実施例12
3-フェニルシクロブタノン(14.6mg, 0.1mmol)を0.5mlの
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、-78℃に冷却する。この溶液に尿
素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有量
0.13mmol)を加え、-78℃にて24時間撹拌する。以下、実
施例1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを
分離して、分析した。結果を表2に示す。
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶
液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3m
g, 5.0μmol)を加え、-78℃に冷却する。この溶液に尿
素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg, 過酸化水素含有量
0.13mmol)を加え、-78℃にて24時間撹拌する。以下、実
施例1と同様にしてβ-フェニル-γ-ブチロラクトンを
分離して、分析した。結果を表2に示す。
【0116】実施例13
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにメタ
ノール(MeOH)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同
様に行った。結果を表2に示す。
ノール(MeOH)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同
様に行った。結果を表2に示す。
【0117】実施例14
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにイソ
プロパノール(i-PrOH)(0.5ml)を用いた以外は実施
例3と同様に行った。結果を表2に示す。
プロパノール(i-PrOH)(0.5ml)を用いた以外は実施
例3と同様に行った。結果を表2に示す。
【0118】実施例15
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりに酢酸
エチル(AcOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と
同様に行った。結果を表2に示す。
エチル(AcOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例3と
同様に行った。結果を表2に示す。
【0119】実施例16
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにジエ
チルエーテル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
チルエーテル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例
3と同様に行った。結果を表2に示す。
【0120】実施例17
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにヘキ
サン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
サン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
【0121】実施例18
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにベン
ゼン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
ゼン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
【0122】実施例19
ジクロロメタン(CH2Cl2)(0.5ml)の代わりにトル
エン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
エン(0.5ml)を用いた以外は実施例3と同様に行った。
結果を表2に示す。
【0123】
【表2】
【0124】表2の実施例5〜19に対応する反応式を
下記に示す。
下記に示す。
【化43】
【0125】表2から、鏡像体過剰率の点でテトラヒド
ロフラン(THF)、アセトニトリル、エタノール、メタ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル及びジエチルエ
ーテルが溶媒として優れることが分かる。また、-20〜0
℃の反応温度が、鏡像体過剰率の点で優れることが分か
る。
ロフラン(THF)、アセトニトリル、エタノール、メタ
ノール、イソプロパノール、酢酸エチル及びジエチルエ
ーテルが溶媒として優れることが分かる。また、-20〜0
℃の反応温度が、鏡像体過剰率の点で優れることが分か
る。
【0126】実施例20;3-(p-クロロフェニル)シクロ
ブタノンの不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-(p-クロロフェニル)シクロブタノン(18.0mg, 0.1mmo
l)を0.5mlのエタノールに溶解させる。このエタノール
溶液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3
mg, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタ
ノールをロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘ
キサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲル
カラムでクロマトグラフ分離し、β-(p-クロロフェニ
ル)-γ-ブチロラクトン(14.9mg, 収率76%)を得た。この
ラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD-H
(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロ
パノール(=19/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率は
75%eeであった。なお、絶対配置はキロプティカル比較
により決定した。因みに、20℃におけるβ-(p-クロロフ
ェニル)-γ-ブチロラクトンのS体の比旋光度[α]D=+46.
5°(c 0.5, CHCl3)であり、24℃におけるβ-(p-クロロ
フェニル)-γ-ブチロラクトンの比旋光度[α]D=+39.8°
(c 0.47, CHCl3)であるので絶対配置はSである。反応式
を下記に示す。
ブタノンの不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-(p-クロロフェニル)シクロブタノン(18.0mg, 0.1mmo
l)を0.5mlのエタノールに溶解させる。このエタノール
溶液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3
mg, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタ
ノールをロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘ
キサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲル
カラムでクロマトグラフ分離し、β-(p-クロロフェニ
ル)-γ-ブチロラクトン(14.9mg, 収率76%)を得た。この
ラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD-H
(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロ
パノール(=19/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率は
75%eeであった。なお、絶対配置はキロプティカル比較
により決定した。因みに、20℃におけるβ-(p-クロロフ
ェニル)-γ-ブチロラクトンのS体の比旋光度[α]D=+46.
5°(c 0.5, CHCl3)であり、24℃におけるβ-(p-クロロ
フェニル)-γ-ブチロラクトンの比旋光度[α]D=+39.8°
(c 0.47, CHCl3)であるので絶対配置はSである。反応式
を下記に示す。
【化44】
【0127】実施例21;3-(p-メトキシフェニル)シク
ロブタノンの不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-(p-メトキシフェニル)シクロブタノン(17.6mg, 0.1mm
ol)を0.5mlのエタノールに溶解させる。このエタノール
溶液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3
mg, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタ
ノールをロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘ
キサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲル
カラムでクロマトグラフ分離し、β-(p-メトキシフェニ
ル)-γ-ブチロラクトン(14.5mg, 収率75%)を得た。この
ラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD-H
(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロ
パノール(=19/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率は
78%eeであった。反応式を下記に示す。
ロブタノンの不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-(p-メトキシフェニル)シクロブタノン(17.6mg, 0.1mm
ol)を0.5mlのエタノールに溶解させる。このエタノール
溶液に前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3
mg, 5.0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%
の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmo
l)を加え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタ
ノールをロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘ
キサン/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲル
カラムでクロマトグラフ分離し、β-(p-メトキシフェニ
ル)-γ-ブチロラクトン(14.5mg, 収率75%)を得た。この
ラクトンの鏡像体過剰率をダイセル・キラルパックAD-H
(DAICEL CHIRALPAK AD-H)カラム及びヘキサン/イソプロ
パノール(=19/1)溶離液を用い高速液体クロマトグラフ
ィーで分析したところ、S体が主でその鏡像体過剰率は
78%eeであった。反応式を下記に示す。
【0128】(β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブチロラ
クトン) 1H NMR(400MHz):δ7.15(d, J=8.5Hz, 2H), 6.
90(d, J=8.5Hz, 2H), 4.63(dd, J=7.8, 9.0Hz, 1H), 4.
22(dd,J=8.3, 9.0Hz, 1H), 3.81(s, 3H), 3.78-3.69(m,
1H), 2.89(dd, J=8.7, 17.6Hz, 1H), 2.63(dd, J=9.3,
17.6Hz, 1H). IR(KBr法):3527, 3454, 3014, 29
62, 2904, 1774, 1483, 1356, 1300, 1167, 1092, 101
1, 905, 833, 681, 590,542, 501, 455cm-1.
クトン) 1H NMR(400MHz):δ7.15(d, J=8.5Hz, 2H), 6.
90(d, J=8.5Hz, 2H), 4.63(dd, J=7.8, 9.0Hz, 1H), 4.
22(dd,J=8.3, 9.0Hz, 1H), 3.81(s, 3H), 3.78-3.69(m,
1H), 2.89(dd, J=8.7, 17.6Hz, 1H), 2.63(dd, J=9.3,
17.6Hz, 1H). IR(KBr法):3527, 3454, 3014, 29
62, 2904, 1774, 1483, 1356, 1300, 1167, 1092, 101
1, 905, 833, 681, 590,542, 501, 455cm-1.
【化45】
【0129】実施例22;3-オクチルシクロブタノンの
不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-オクチルシクロブタノン(18.2mg, 0.1mmol)を0.5mlの
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶液に
前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.
0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%の過酸
化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を加
え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタノール
をロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘキサン
/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
でクロマトグラフ分離し、β-オクチル-γ-ブチロラク
トン(14.9mg, 収率75%)を得た。このラクトンの鏡像異
性体過剰率はプロトン核磁気共鳴分光法(1H NMR)でシフ
ト試薬を用いて分析したところ、その鏡像異性体過剰率
は73%eeであった。反応式を下記に示す。
不斉バイヤー・ビリガー酸化 3-オクチルシクロブタノン(18.2mg, 0.1mmol)を0.5mlの
エタノール(EtOH)に溶解させる。このエタノール溶液に
前記式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.
0μmol)を加え、0℃に冷却する。この溶液に30%の過酸
化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13mmol)を加
え、0℃にて24時間撹拌する。反応終了後、エタノール
をロータリーエバポレーターで除去し、残渣をヘキサン
/酢酸エチル(=45/7)を展開溶媒としてシリカゲルカラム
でクロマトグラフ分離し、β-オクチル-γ-ブチロラク
トン(14.9mg, 収率75%)を得た。このラクトンの鏡像異
性体過剰率はプロトン核磁気共鳴分光法(1H NMR)でシフ
ト試薬を用いて分析したところ、その鏡像異性体過剰率
は73%eeであった。反応式を下記に示す。
【0130】(β-オクチル-γ-ブチロラクトン) 1H NMR
(400MHz):δ4.41(dd, J=8.8及び7.3Hz, 1H), 3.92(dd,
J=8.8及び7.1Hz, 1H), 2.61(dd, J=16.6及び8.3Hz, 1
H), 2.54(ddd, J=8.3, 7.6及び7.3Hz, 1H), 2.17(dd, J
=16.6及び7.6Hz, 1H), 2.20-2.15(m, 2H), 1.32-1.26
(m, 10H), 0.88(t, J=7.8Hz, 3H). IR(液膜法):292
4, 2854, 1780, 1462, 1421, 1377, 1259, 1169, 1020,
798cm-1.
(400MHz):δ4.41(dd, J=8.8及び7.3Hz, 1H), 3.92(dd,
J=8.8及び7.1Hz, 1H), 2.61(dd, J=16.6及び8.3Hz, 1
H), 2.54(ddd, J=8.3, 7.6及び7.3Hz, 1H), 2.17(dd, J
=16.6及び7.6Hz, 1H), 2.20-2.15(m, 2H), 1.32-1.26
(m, 10H), 0.88(t, J=7.8Hz, 3H). IR(液膜法):292
4, 2854, 1780, 1462, 1421, 1377, 1259, 1169, 1020,
798cm-1.
【化46】
【0131】実施例21、22及び23から、本発明の
カチオン性サレンコバルト錯体は、種々の環状ケトン化
合物の不斉バイヤー・ビリガー酸化に有効であることが
分かる。
カチオン性サレンコバルト錯体は、種々の環状ケトン化
合物の不斉バイヤー・ビリガー酸化に有効であることが
分かる。
【0132】実施例23
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XIII)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(3.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例7と同様
に行った。結果を表3に示す。
ol)の代わりに前記式(XIII)で表されるCo(III)(サレン)
錯体(3.5mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例7と同様
に行った。結果を表3に示す。
【0133】実施例24
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例7と同様に
行った。結果を表3に示す。
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例7と同様に
行った。結果を表3に示す。
【0134】実施例25
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにテトラヒドロ
フラン(THF)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
フラン(THF)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
【0135】実施例26
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにアセトニトリ
ル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
ル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
【0136】実施例27
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりに酢酸エチル(A
cOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同様に行
った。結果を表3に示す。
cOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同様に行
った。結果を表3に示す。
【0137】実施例28
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにジエチルエー
テル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
テル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と同
様に行った。結果を表3に示す。
【0138】実施例29
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにヘキサン(0.5m
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
【0139】実施例30
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにベンゼン(0.5m
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
【0140】実施例31
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにトルエン(0.5m
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
l)を用いた以外は実施例24と同様に行った。結果を表
3に示す。
【0141】実施例32
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにジクロロメタ
ン(CH2Cl2)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と
同様に行った。結果を表3に示す。
ン(CH2Cl2)(0.5ml)を用いた以外は実施例24と
同様に行った。結果を表3に示す。
【0142】
【表3】
【0143】表3の実施例23〜32に対応する反応式
を以下に示す。
を以下に示す。
【化47】
【0144】表3から、カチオン性サレンコバルト錯体
の前駆体に当る錯体も、環状ケトン化合物の不斉バイヤ
ー・ビリガー酸化に有効であることが分かる。
の前駆体に当る錯体も、環状ケトン化合物の不斉バイヤ
ー・ビリガー酸化に有効であることが分かる。
【0145】実施例33
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例10と同様
に行った。その結果、β-フェニル-γ-ブチロラクトン
を収率96%で得、該ラクトンはS体が主で鏡像体過剰率
が79%eeであった。
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例10と同様
に行った。その結果、β-フェニル-γ-ブチロラクトン
を収率96%で得、該ラクトンはS体が主で鏡像体過剰率
が79%eeであった。
【0146】実施例34
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例20と同様
に行った。その結果、β-(p-クロロフェニル)-γ-ブチ
ロラクトンを収率82%で得、該ラクトンはS体が主で鏡
像体過剰率が75%eeであった。
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例20と同様
に行った。その結果、β-(p-クロロフェニル)-γ-ブチ
ロラクトンを収率82%で得、該ラクトンはS体が主で鏡
像体過剰率が75%eeであった。
【0147】実施例35
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例21と同様
に行った。その結果、β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブ
チロラクトンを収率99%で得、該ラクトンはS体が主で
鏡像体過剰率が75%eeであった。
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例21と同様
に行った。その結果、β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブ
チロラクトンを収率99%で得、該ラクトンはS体が主で
鏡像体過剰率が75%eeであった。
【0148】実施例36
式(XII)で表されるCo(III)(サレン)錯体(4.3mg, 5.0μm
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例22と同様
に行った。その結果、β-オクチル-γ-ブチロラクトン
を収率89%で得、該ラクトンはS体が主で鏡像体過剰率
が69%eeであった。
ol)の代わりに前記式(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(3.7mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例22と同様
に行った。その結果、β-オクチル-γ-ブチロラクトン
を収率89%で得、該ラクトンはS体が主で鏡像体過剰率
が69%eeであった。
【0149】実施例33〜36から、カチオン性サレン
コバルト錯体の前駆体に当る錯体も、種々の環状ケトン
化合物の不斉バイヤー・ビリガー酸化に有効であること
が分かる。
コバルト錯体の前駆体に当る錯体も、種々の環状ケトン
化合物の不斉バイヤー・ビリガー酸化に有効であること
が分かる。
【0150】実施例37
前記式(V)で表されるトリシクロ[4.2.1.03,9]ノ
ナン-2-オン(13.6mg,0.1mmol)を0.5mlのエタノールに
溶解させる。このエタノール溶液に前記式(XI)で表され
るCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)を加える。こ
の溶液に30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含
有量0.13mmol)を加え、室温にて24時間撹拌する。反応
終了後、混合液を濃縮し、残渣をヘキサン/酢酸エチル
(=8/2)を展開溶媒としてシリカゲルカラムでクロマトグ
ラフ分離し、前記式(VIII)で表される2-オキサトリシ
クロ[5.2.1.04,10]デカン-3-オン(4.7mg, 収率
31%)を得た。該生成物の鏡像体過剰率を以下のように
して測定した。
ナン-2-オン(13.6mg,0.1mmol)を0.5mlのエタノールに
溶解させる。このエタノール溶液に前記式(XI)で表され
るCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)を加える。こ
の溶液に30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含
有量0.13mmol)を加え、室温にて24時間撹拌する。反応
終了後、混合液を濃縮し、残渣をヘキサン/酢酸エチル
(=8/2)を展開溶媒としてシリカゲルカラムでクロマトグ
ラフ分離し、前記式(VIII)で表される2-オキサトリシ
クロ[5.2.1.04,10]デカン-3-オン(4.7mg, 収率
31%)を得た。該生成物の鏡像体過剰率を以下のように
して測定した。
【0151】ジクロロメタン(1.5ml)にベンジルアミン
(110ml, 1.0mmol)を溶かし、該溶液にトリメチルアルミ
ニウム(0.98Mのヘキサン溶液1.0ml, 1.0mmol)を室温で
加え、1時間撹拌した。得られたアルミニウム-アミド溶
液(1.0ml)を上記2-オキサトリシクロ[5.2.1.0
4,10]デカン-3-オン(4.7mg)に室温で加えた。24時
間撹拌の後、混合液を1MのHCl水溶液でクエンチし、
ジクロロメタンで抽出した。抽出液を無水MgSO4で
乾燥し、濃縮した。残渣をヘキサン/酢酸エチル(8/2)を
用いてシリカゲルでクロマトグラフ分離し、対応するγ
-ヒドロキシベンジルアミドを得た。この生成物の鏡像
体過剰率をダイセル・キラルセルOB-H(DAICEL CHIRALCE
L OB-H)カラム及びヘキサン/イソプロパノール(=9/1)溶
離液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、1R,4S,7S,10R体が主でその鏡像体過剰率
は36%eeであった。結果を表4に示す。
(110ml, 1.0mmol)を溶かし、該溶液にトリメチルアルミ
ニウム(0.98Mのヘキサン溶液1.0ml, 1.0mmol)を室温で
加え、1時間撹拌した。得られたアルミニウム-アミド溶
液(1.0ml)を上記2-オキサトリシクロ[5.2.1.0
4,10]デカン-3-オン(4.7mg)に室温で加えた。24時
間撹拌の後、混合液を1MのHCl水溶液でクエンチし、
ジクロロメタンで抽出した。抽出液を無水MgSO4で
乾燥し、濃縮した。残渣をヘキサン/酢酸エチル(8/2)を
用いてシリカゲルでクロマトグラフ分離し、対応するγ
-ヒドロキシベンジルアミドを得た。この生成物の鏡像
体過剰率をダイセル・キラルセルOB-H(DAICEL CHIRALCE
L OB-H)カラム及びヘキサン/イソプロパノール(=9/1)溶
離液を用い高速液体クロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、1R,4S,7S,10R体が主でその鏡像体過剰率
は36%eeであった。結果を表4に示す。
【0152】実施例38
30%の過酸化水素水溶液(15μl, 過酸化水素含有量0.13m
mol)の代わりに尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg,
過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外は実施例37
と同様に行った。結果を表4に示す。
mol)の代わりに尿素-過酸化水素付加物(UHP)(12mg,
過酸化水素含有量0.13mmol)を用いた以外は実施例37
と同様に行った。結果を表4に示す。
【0153】実施例39
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにアセトニトリ
ル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同
様に行った。結果を表4に示す。
ル(CH3CN)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同
様に行った。結果を表4に示す。
【0154】実施例40
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりにジエチルエー
テル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同
様に行った。結果を表4に示す。
テル(Et2O)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同
様に行った。結果を表4に示す。
【0155】実施例41
エタノール(EtOH)(0.5ml)の代わりに酢酸エチル(A
cOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同様に行
った。結果を表4に示す。
cOEt)(0.5ml)を用いた以外は実施例38と同様に行
った。結果を表4に示す。
【0156】実施例42
撹拌時間(反応時間)を48時間に変更する以外は実施例
41と同様に行った。結果を表4に示す。
41と同様に行った。結果を表4に示す。
【0157】実施例43
(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)
の代わりに前記式(XIV)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様に
行った。結果を表4に示す。
の代わりに前記式(XIV)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(4.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様に
行った。結果を表4に示す。
【0158】実施例44
(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)
の代わりに前記式(XV)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(5.0mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様に
行った。結果を表4に示す。
の代わりに前記式(XV)で表されるCo(III)(サレン)錯体
(5.0mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様に
行った。結果を表4に示す。
【0159】実施例45
(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)
の代わりに前記式(XVII)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様
に行った。結果を表4に示す。
の代わりに前記式(XVII)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(5.1mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様
に行った。結果を表4に示す。
【0160】実施例46
(XI)で表されるCo(III)(サレン)錯体(3.7mg, 5.0μmol)
の代わりに前記式(XVIII)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(4.4mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様
に行った。結果を表4に示す。
の代わりに前記式(XVIII)で表されるCo(III)(サレン)錯
体(4.4mg, 5.0μmol)を用いた以外は実施例42と同様
に行った。結果を表4に示す。
【0161】
【表4】
【0162】表4の実施例37〜46に対応する反応式
を以下に示す。
を以下に示す。
【化48】
【0163】表4から、本発明の錯体は、前記式(V)で
表される環状ケトン化合物の不斉バイヤー・ビリガー酸
化にも有効であることが分かる。
表される環状ケトン化合物の不斉バイヤー・ビリガー酸
化にも有効であることが分かる。
【0164】
【発明の効果】上記に示したように、本発明の製造方法
を用いることにより、光学活性なラクトン化合物を製造
することができ、反応条件を適切に選択することによ
り、47%eeを超えた高い光学純度のラクトン化合物を製
造することができる。また、本発明では溶媒として安価
なアルコール類やエーテル類が利用でき、更に、酸化剤
として安価な過酸化水素が利用できるため、原料コスト
を下げることができるといった経済的な利点もある。こ
れにより、医農薬品の合成に使用できる光学活性なラク
トン化合物を光学純度の高い状態で提供できる。
を用いることにより、光学活性なラクトン化合物を製造
することができ、反応条件を適切に選択することによ
り、47%eeを超えた高い光学純度のラクトン化合物を製
造することができる。また、本発明では溶媒として安価
なアルコール類やエーテル類が利用でき、更に、酸化剤
として安価な過酸化水素が利用できるため、原料コスト
を下げることができるといった経済的な利点もある。こ
れにより、医農薬品の合成に使用できる光学活性なラク
トン化合物を光学純度の高い状態で提供できる。
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
C07M 7:00 C07D 307/32 E
H
G
Fターム(参考) 4C037 EA05 EA07 EA10 EA12 UA03
4G069 AA06 BA27A BA27B BC67A
BC67B BE20A BE20B BE33A
BE33B BE34A BE37A BE37B
BE38A BE38B BE45A BE45B
CB07 CB57 CB59 CB67
4H006 AA02 AC81 BA20 BA46 BA50
BA60 BB12 BE32
4H039 CA42 CC50
Claims (26)
- 【請求項1】 下記式(I)及び(II)の何れかで表される
シス-β構造を有するサレンコバルト錯体を触媒として
使用し、環状ケトン化合物を過酸化水素及び尿素-過酸
化水素付加物(UHP)からなる群から選択される少なく
とも一種の酸化剤でバイヤー・ビリガー酸化することを
特徴とする光学活性なラクトン化合物の製造方法。 【化1】 (式中、X及びYはそれぞれ独立してH、t-ブチル基
又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。) 【化2】 (式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。) - 【請求項2】 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯
体において、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル
基、F、Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴
とする請求項1記載のラクトン化合物の製造方法。 - 【請求項3】 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯
体において、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基で
あることを特徴とする請求項2記載のラクトン化合物の
製造方法。 - 【請求項4】 前記式(I)で表されるサレンコバルト錯
体において、Wがヨウ素であることを特徴とする請求項
1から3の何れかに記載のラクトン化合物の製造方法。 - 【請求項5】 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯
体において、X及びYがそれぞれ独立してF、Cl、B
r又はIであることを特徴とする請求項1記載のラクト
ン化合物の製造方法。 - 【請求項6】 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯
体において、X及びYがFであることを特徴とする請求
項5記載のラクトン化合物の製造方法。 - 【請求項7】 前記式(II)で表されるサレンコバルト錯
体において、Z−がSbF6 −であることを特徴とする
請求項1、5及び6の何れかに記載のラクトン化合物の
製造方法。 - 【請求項8】 前記環状ケトン化合物が、下記式(II
I)、(IV)及び(V)の何れかで表されることを特徴とする
請求項1から7の何れかに記載のラクトン化合物の製造
方法。 【化3】 (式中、R1は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。) 【化4】 (式中、R2は炭素数1から20の置換若しくは非置換
のアルキル基、又は炭素数6から15の置換若しくは非
置換のアリール基を示す。) 【化5】 - 【請求項9】 前記環状ケトン化合物が上記式(III)で
表されることを特徴とする請求項8に記載のラクトン化
合物の製造方法。 - 【請求項10】 前記環状ケトン化合物が3-フェニル
シクロブタノン、3-(p-クロロフェニル)シクロブタノ
ン、3-(p-メトキシフェニル)シクロブタノン又は3-
オクチルシクロブタノンであることを特徴とする請求項
9に記載のラクトン化合物の製造方法。 - 【請求項11】 前記環状ケトン化合物が上記式(V)で
表されることを特徴とする請求項8に記載のラクトン化
合物の製造方法。 - 【請求項12】 前記ラクトン化合物が下記式(VI)、(V
II)及び(VIII)の何れかで表されることを特徴とする請
求項1から11の何れかに記載の製造方法。 【化6】 (式中、R1は上記と同義である。) 【化7】 (式中、R2は上記と同義である。) 【化8】 - 【請求項13】 前記ラクトン化合物が上記式(VI)で表
されることを特徴とする請求項12に記載の製造方法。 - 【請求項14】 前記ラクトン化合物が、β-フェニル-
γ-ブチロラクトン、β-(p-クロロフェニル)-γ-ブチ
ロラクトン、β-(p-メトキシフェニル)-γ-ブチロラク
トン又はβ-オクチル-γ-ブチロラクトンであることを
特徴とする請求項13に記載の製造方法。 - 【請求項15】 前記ラクトン化合物が上記式(VIII)で
表されることを特徴とする請求項12に記載の製造方
法。 - 【請求項16】 前記ラクトン化合物の光学純度が47%
eeより大きいことを特徴とする請求項1から15の何れ
かに記載の製造方法。 - 【請求項17】 少なくとも一種の極性溶媒を用いるこ
とを特徴とする請求項1から16の何れかに記載のラク
トン化合物の製造方法。 - 【請求項18】 前記極性溶媒が、アセトニトリル、酢
酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン(T
HF)及び炭素数1から3のアルコールの何れかである
ことを特徴とする請求項17に記載のラクトン化合物の
製造方法。 - 【請求項19】 -20℃から0℃でバイヤー・ビリガー酸
化することを特徴とする請求項1から18の何れかに記
載のラクトン化合物の製造方法。 - 【請求項20】 下記式(I)及び(II)の何れかで表され
るシス-β構造を有するサレンコバルト錯体。 【化9】 (式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Wはハロゲン元素を表
す。) 【化10】 (式中、X及びYは、それぞれ独立してH、t-ブチル
基又は電子吸引性置換基を表し、Z−は一価の陰イオン
を表す。) - 【請求項21】 前記式(I)で表されるサレンコバルト
錯体において、X及びYがそれぞれ独立してt-ブチル
基、F、Cl、Br、I又はニトロ基であることを特徴
とする請求項20記載の錯体。 - 【請求項22】 前記式(I)で表されるサレンコバルト
錯体において、Xがt-ブチル基で、且つYがニトロ基
であることを特徴とする請求項21記載の錯体。 - 【請求項23】 前記式(I)で表されるサレンコバルト
錯体において、Wがヨウ素であることを特徴とする請求
項20から22の何れかに記載の錯体。 - 【請求項24】 前記式(II)で表されるサレンコバルト
錯体において、X及びYがそれぞれ独立してF、Cl、
Br又はIであることを特徴とする請求項20記載の錯
体。 - 【請求項25】 前記式(II)で表されるサレンコバルト
錯体において、X及びYがFであることを特徴とする請
求項24記載の錯体。 - 【請求項26】 前記式(II)で表されるサレンコバルト
錯体において、Z−がSbF6 −であることを特徴とす
る請求項20、24及び25の何れかに記載の錯体。
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