JP2003144561A - レーザトリートメント装置 - Google Patents

レーザトリートメント装置

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JP2003144561A
JP2003144561A JP2001344959A JP2001344959A JP2003144561A JP 2003144561 A JP2003144561 A JP 2003144561A JP 2001344959 A JP2001344959 A JP 2001344959A JP 2001344959 A JP2001344959 A JP 2001344959A JP 2003144561 A JP2003144561 A JP 2003144561A
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JP2001344959A
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Iwao Yamazaki
岩男 山▲崎▼
Shoji Yamazaki
章次 山▲崎▼
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Ya Man Ltd
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Ya Man Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 頭皮へ適切なエネルギ密度のレーザ光を供給
することで、毛髪の生え具合などに応じた効果的な育毛
を行う。 【解決手段】 レーザトリートメント装置1は、レーザ
光照射装置5に設けられたロータスイッチ22の設定に
より、レーザダイオード20から発光されるレーザ光の
パワーを切り替えることができ、これにより頭皮へ照射
されるレーザ光のエネルギ密度を細かく調整することが
できる。これにより、レーザトリートメント装置1は、
ユーザの毛髪の生え具合に応じたエネルギ密度でレーザ
光を頭皮へ供給できるので、ユーザが所望とする効果的
な育毛トリーメントを実現することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を皮膚面
に照射することで、育毛、脱毛、美肌、痩身などのトリ
ートメントを行えるレーザトリートメント装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、人体に対しトリートメントを行う
装置として、レーザ光を用いて脱毛、育毛を行うレーザ
脱毛装置やレーザ育毛装置などが知られている。レーザ
光は、他の光に比べてエネルギ密度が高いため、被照射
部分の温度を容易に昇温させることが可能である。
【0003】レーザ脱毛装置は、脱毛対象の例えば体毛
の毛根などが、比較的高い温度に昇温されるようにレー
ザ光を照射し、その毛母細胞の蛋白質変性などを誘起さ
せ毛の成長を抑制する装置である。一方、レーザ育毛装
置は、育毛対象の例えば頭皮などが、40°Cを超えな
い程度の比較的低い温度に昇温されるようにレーザ光を
照射し、血行を良好にして新陳代謝を促し毛穴の皮脂の
詰まりなどを取り除く装置である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したレ
ーザ育毛装置などには次のような課題がある。すなわ
ち、従来のレーザ育毛装置は、間欠的に照射されるレー
ザ光の照射時間及びその照射間隔を適宜設定すること
で、頭皮へ供給すべき全体的な光エネルギを調整するも
のが一般的である。しかしながら、このようなレーザ光
の供給系では、頭皮へ供給すべき全体的な光エネルギを
微調整することが難しいため、例えば毛髪の残存状況な
どに合わせた最適なトリートメントを行うことが困難で
あった。
【0005】そこで本発明は、上記課題を解決するため
になされたもので、トリートメント対象の部位へ適切な
光エネルギを供給することで、トーリートメント効果を
向上させることができるレーザトリートメント装置を提
供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るレーザトリートメント装置は、トリー
トメント対象の部位にレーザ光を照射するためのレーザ
光照射手段と、前記レーザ光照射手段により照射される
前記レーザ光のパワーを切り替えるレーザパワー切替手
段とを具備することを特徴とする。
【0007】この発明のレーザトリートメント装置は、
トリートメント対象の部位へ照射されるレーザ光のパワ
ー(出力レベル)を切り替えることが可能なので、所望
の部位に供給すべき光エネルギの調整が容易となり、こ
れにより、トーリートメント効果の向上を図ることがで
きる。すなわち、この発明のレーザトリートメント装置
は、例えば育毛装置として適用された場合、ユーザの毛
髪の残存状況(生え具合)などに合わせた適切なエネル
ギ密度でレーザ光を頭皮へ供給できるので、ユーザが所
望とする効果的な育毛を行うことができる。また、この
発明のレーザトリートメント装置は、所望の部位へ照射
されるレーザ光のパワーを適宜設定することで、例えば
美肌を行うための装置や、ツボの刺激による痩身などを
行う装置などとしても勿論適用することが可能である。
【0008】また、本発明に係るレーザトリートメント
装置は、前記レーザ光照射手段による前記レーザ光の照
射領域を視覚的に示すように、前記レーザ光とは異なる
波長の可視光を照射する手段をさらに具備することを特
徴とする。
【0009】この発明のレーザトリートメント装置によ
れば、レーザ光の照射領域を可視光によりユーザが確認
しつつトリートメントを行うことが可能なので、トリー
トメント対象の部位にレーザ光を正確に照射させること
ができ、所望の部位に適切なエネルギ密度のレーザ光を
供給できる。また、この発明において、例えばレーザ光
照射前に赤色の可視光が照射されるように装置を構成す
ることで、トリートメント対象の部位を予め加温するこ
とができる。この場合、このプレヒーテイング機能によ
る温熱効果が加わり、効果的なトリートメントを行うこ
とができる。
【0010】さらに、本発明に係るレーザトリートメン
ト装置は、前記トリートメント対象の部位に接触させる
接触レンズと、前記接触レンズに振動を与える機構とを
さらに具備することを特徴とする。この発明のレーザト
リートメント装置によれば、振動が付与された接触レン
ズが、トリートメント対象の部位へ接触することによる
マッサージ効果と、レーザ光の光エネルギによる作用と
の相乗効果により、効果的なトリートメントを行うこと
ができる。
【0011】また、本発明に係るレーザトリートメント
装置は、前記レーザパワー切替手段が、レーザパワーの
設定内容を回転位置により視覚的に示すロータリスイッ
チを含むことを特徴とする。この発明のレーザトリート
メント装置は、回転位置の違いで設定内容を容易に把握
できるロータリスイッチによりレーザパワーを調整する
ので、レーザパワーの設定の誤りなどを抑制することが
できる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。 (第1の実施形態)図1は、本発明の第1の実施形態に
係るレーザトーリトメント装置を示す斜視図、図2は、
このレーザトリートメント装置を構成するレーザ光照射
装置を示す正面図、図3は図2のレーザ光照射装置を側
面からみた断面図、図4は、レーザトーリトメント装置
の制御系を示す機能ブロック図である。
【0013】まず、図1に示すように、このレーザトリ
ートメント装置1は、ユーザが自身で、育毛などのトリ
ートメントを行うための装置であって、コントローラ兼
器具収容ボックス(以下、「コントロールボックス」と
称する)2と、このコントロールボックス2に接続ケー
ブル3を通じて接続されたレーザ光照射装置5とから構
成される。
【0014】コントロールボックス2の前面には、装置
を操作するための情報や装置の動作状態などが表示され
る表示パネル6と、接続ケーブル3の接続端子(プラ
グ)を取り付けるソケット7などが設けられている。ま
た、コントロールボックス2には、レーザ光照射装置5
へ電力を供給するための電源や、レーザ光照射装置5か
らのレーザ光の照射を制御する制御回路が内蔵されてい
る。
【0015】さらに、このコントロールボックス2の前
面には、このトリートメント装置の電源のオン/オフを
行う電源スイッチ8と、電源のオン/オフの状態を示す
LED9と、各種設定を行う設定スイッチ10と、各設
定状態を視覚的に示すLED11とが設けられている。
【0016】また、図2及び図3に示すように、レーザ
光照射装置5は、ユーザが手で持ってトリートメントを
行うハンディタイプの装置である。すなわち、レーザ光
照射装置5は、装置の外郭を形成するケース12と、こ
のケース12の内部に基板15を介して搭載された制御
チップ16と、ケース12の表面に設けられたプッシュ
スイッチ19及びロータリスイッチ22と、レーザ光を
発光するレーザ光源としてのレーザダイオード20と、
レーザダイオード20の熱を除去するヒートシンク21
と、ヒートシンク21を冷却する冷却ファン17と、レ
ーザ光照射口23からレーザ光を外部に放光するための
球レンズ24とから主に構成されている。
【0017】球レンズ24は、レーザダイオード20か
ら発光されたレーザ光を集光して前方(図3中の球レン
ズ24の左側)に焦点を形成する。球レンズ24は、焦
点距離が通常のレンズより短いので、焦点深度も僅かで
あり狭い範囲に光パワーを絞り込むことが可能である。
また、球レンズ24によって集光されたレーザ光は、焦
点を過ぎた位置からは逆に同じ角度で広がり、広い範囲
に光パワーが分散する。このため、外部に放光されるレ
ーザ光は、焦点を過ぎた位置ではエネルギー密度が低く
なって光パワーが衰えるので、意図しない生体部分に誤
って照射してもその生体が損傷してしまうようなおそれ
がない。
【0018】また、レーザ光照射装置5には、レーザ光
照射口23を挟むように、皮膚面とのタッチセンサとし
て一対の接触子25、26が突設されている。すなわ
ち、レーザ光照射装置5は、接触子25、26が共に皮
膚面に接触した状態でレーザ光が照射されるように構成
されている。これにより、装置の安全性が高められてい
る。
【0019】プッシュスイッチ19は、トリートメント
装置本体の電源をレーザ光照射装置5側でオン/オフす
るためのスイッチであり、LED18の点灯/非点灯に
よりこれをユーザに報知する。
【0020】ロータリスイッチ22は、レーザダイオー
ド20から球レンズ24を経て頭皮などへ照射されるレ
ーザ光のパワー(出力レベル)を変更するための切り替
えスイッチである。すなわち、ロータリスイッチ22の
表面には、「200mW:地肌が見える」、「400m
W:かなり薄い」、「600mW:殆ど毛のない部
分」、及び「800mW:毛のない部分」といった文字
が記されている。
【0021】すなわち、ユーザは、ロータリスイッチ2
2を回転させて、ロータリスイッチ22上のこれらの表
示部分とレーザ光照射装置5表面の照準マーク27とを
合わせることで、レーザ光の照射パワーとして200m
W、400mW、600mW又は800mWのいずれか
を選択することが可能である。これにより、毛髪の残存
状況に合わせた適切なエネルギ密度でレーザ光が頭皮な
どへ供給され、好適な育毛トーリートメントが実現され
る。
【0022】ヒートシンク21は、レーザダイオード2
0の動作時の発熱を熱伝導によって拡散させて性能の低
下を抑える。このため、ヒートシンク21は、熱伝導率
のよいアルミニウム又はその合金などで鋳造され、ま
た、表面積を増やすために複数の貫通孔を備え放熱効果
が高められている。
【0023】レーザダイオード20は、GaAs(ガリ
ウムアルセナイド)などの化合物半導体を用いたPN接
合ダイオードに直接電流を流して励起し、レーザ発振を
得る。このレーザダイオード20としては、例えば波長
700〜900nm、光出力5mW〜1600mWのレ
ーザ光を発光することが可能な半導体素子が適用されて
いる。このようなレーザ光は、熱効率が良く皮膚に対し
十分な光熱反応を誘起させることができる。
【0024】また、このようなレーザ光は、光熱反応の
他、光電気反応、光磁気反応、光力学反応、光化学反
応、光免疫反応、光酵素反応等も誘起させる効果があ
り、光生物学的活性化により生体組織の新陳代謝を促し
て皮膚血行を高め、水分や血液に吸収されにくいため、
優れた皮膚深部への到達性を有する。
【0025】次に、レーザトーリトメント装置1の制御
系について説明する。すなわち、レーザトーリトメント
装置1の制御系は、図4に示すように、接触子25、2
6の皮膚面への接触を検出するタッチセンサ回路28
と、レーザ光の照射パターンが記憶されたメモリ29
と、レーザダイオード14からのレーザ光の発光を制御
するレーザ駆動回路30と、これらの回路を統括的に制
御するCPU31と、タッチセンサ回路28及びレーザ
駆動回路30とCPU31とを接続するインタフェース
32などとから構成されている。
【0026】タッチセンサ回路28は、図4及び図5に
示すように、接触子25、26が皮膚に接触したときに
発生する微弱な交流電圧を、それぞれ帯域フィルタ3
3、整流回路34、増幅器35を介して直流電圧に変換
し、これを波形整形、レベル調整、オフセット調整した
後、A/D変換器36、インタフェース32を介してC
PU31に入力するように構成されている。なお、タッ
チセンサ回路28は、接点式の他、静電容量や抵抗等の
インピーダンス変化を検知するものや、圧電素子によっ
て圧力変化を検知するものでもよい。
【0027】タッチセンサ回路28は、以上のような構
成で、接触子25、26の電圧値を読み込んで所定の交
流電圧が発生しているか否かを判定し、接触子25、2
6の両方に所定の交流電圧が発生しているとき、レーザ
ダイオード20のレーザ駆動回路30にオン信号を出力
する。このようなタッチセンサ回路27は、レーザ光照
射装置5に内蔵された例えば前記制御チップ16によっ
て実現されている。
【0028】メモリ29には、レーザダイオード20か
ら所定の時間間隔で間欠的に照射されるレーザ光の照射
タイミングの設定値、並びにロータリスイッチ22の設
定内容にそれぞれ対応するレーザ光の照射パワー(出力
レベル)の設定値などを含むプログラムが記憶されてい
る。
【0029】レーザ駆動回路30は、CPU31の制御
下でレーザダイオード20に所定の駆動電流電圧を供給
し、レーザダイオード20よりレーザ光を発光させる。
また、レーザ駆動回路30は、レーザダイオード20へ
供給されるべき電圧(電流値)を制御するレーザパワー
可変回路37を備えている。すなわち、レーザパワー可
変回路37は、ロータリスイッチ22の設定内容に合わ
せて、レーザダイオード20より出射されるレーザ光の
パワーを調整する。なお、本実施形態では、請求項記載
のレーザ光照射手段は、レーザダイオード20、球レン
ズ24、レーザ駆動回路30などによって主に構成さ
れ、また、レーザパワー切替手段は、レーザ駆動回路3
0が有するレーザパワー可変回路37やロータリスイッ
チ22などによって構成される。
【0030】次に、このように構成されたレーザトリー
トメント装置1により育毛トリートメントが実際に行わ
れる場合について説明する。ユーザからの設定スイッチ
10及びロータリスイッチ22の操作により、トリーメ
ントの種類として育毛トリートメントが選択され、さら
に育毛の種類が選択されると、CPU31を介してレー
ザ光の照射間隔及びレーザパワーなどが設定される。
【0031】この状態で、ユーザが頭皮におけるトリー
トメント対象の部位へ接触子25、26を接触させる
と、レーザ光が皮膚面へ照射される。ここで、ロータリ
スイッチ22により、「400mW:かなり薄い」が選
択されている場合、例えば出射時間0.5秒、出力40
0mWのレーザ光がレーザダイオード20より間欠的に
出射され、これにより当該レーザ光が球レンズ24を介
して頭皮へ照射される。
【0032】このように、本実施形態のレーザトリート
メント装置1は、レーザ光照射装置5から照射されるレ
ーザ光のパワーを変更することが可能なので、所望の部
位へ供給すべき光エネルギの調整が容易となり、これに
より、好適な育毛トーリートメントを行うことができ
る。すなわち、レーザトリートメント装置1は、例えば
育毛装置として適用された場合、ユーザの毛髪の生え具
合に合わせたエネルギ密度でレーザ光を頭皮へ供給でき
るので、ユーザが所望とする育毛効果を期待できる。
【0033】また、本実施形態のレーザトリートメント
装置1は、回転位置の違いで設定内容を容易に把握でき
るロータリスイッチ22によりレーザパワーを調整する
ので、レーザパワーの設定の誤りなどを抑制することが
できる。
【0034】なお、本実施形態のレーザトーリトメント
装置1では、レーザパワーを変更するためのロータリス
イッチ22がレーザ光照射装置5に設けられていたが、
勿論、図6に示すように、ロータリスイッチ22と同様
の機能を持つロータリスイッチ38をコントロールボッ
クスに備えたレーザトーリトメント装置39を本発明に
適用してもよい。
【0035】(第2の実施形態)この実施形態のレーザ
トリートメント装置は、第1の実施形態のレーザトリー
トメント装置1が備えたレーザ光照射装置5に代えて、
図7に示すレーザ光照射装置41を備えて構成されてい
る。すなわち、レーザ光照射装置41は、レーザ光照射
装置5の構成部品に加え、複数個の発光ダイオード42
と、発光ダイオード42から発光された光をレーザ光照
射口23へ導光する光学系43備えている。なお、図7
に示したレーザ光照射装置41では、レーザ光照射装置
5と同一の部材については同一の符号を付与する。
【0036】発光ダイオード42は、レーザダイオード
20によって発光されるレーザ光とは波長の異なる例え
ば620〜680nm程度の波長の赤色の可視光を発光
する。光学系43は、レーザダイオード20から球レン
ズ24を介して皮膚面へ照射されるレーザ光の照射領域
を視覚的に示すように、発光ダイオード42から発光さ
れた上記赤色の可視光を導光し皮膚面へ照射させる。
【0037】また、本実施形態のレーザトリートメント
装置では、レーザ光の照射が開始される数秒前に、上記
赤色の可視光の照射が開始されるようにトリートメント
の実行プログラムが設定されている。これにより、トリ
ートメント対象の部位を予め赤色光により加温すること
ができる。すなわち、本実施形態のレーザトリートメン
ト装置によれば、このプレヒーテイング機能による温熱
効果を付与した効果的なトリートメントを実施すること
ができる。
【0038】さらに、この実施形態のレーザトリートメ
ント装置によれば、レーザ光の照射領域を可視光により
ユーザが確認しつつトリートメントを行うことが可能な
ので、トリートメント対象の部位にレーザ光を正確に照
射させることができ、所望の部位に適切なエネルギ密度
のレーザ光を供給することができる。
【0039】(第3の実施形態)この実施形態のレーザ
トリートメント装置は、第1の実施形態のレーザトリー
トメント装置1が備えたレーザ光照射装置5に代えて、
図8、図9に示すようにレーザ光照射装置51を備えて
構成されている。すなわち、レーザ光照射装置51に
は、主に、トリートメント対象の部位に接触させるよう
にして用いられる接触レンズ52と、接触レンズ52に
振動を与える振動機構53とが設けられている。なお、
図8、図9に示したレーザ光照射装置51では、レーザ
光照射装置5と同一の部材については同一の符号を付与
する。
【0040】振動機構53は、接触レンズ52を支持す
るレンズホルダ54と、偏芯モータ55と、偏芯モータ
55の発生させる振動をレンズホルダ54介して接触レ
ンズ52へ伝達するモータ保持部材56とによって実現
される。レーザ光照射装置51の前面には、偏芯モータ
55のON/OFF、すなわち接触レンズ52を振動さ
せるか否かを切り替えるバイブレーションスイッチ57
や、これを視覚的に表示するLED58が設けられてい
る。
【0041】偏芯モータ55のモータ軸には、振動子と
して偏芯分銅59が固定されており、偏芯分銅59が高
速に偏芯を伴って回転することによって、モータ本体に
モータ軸のラジアル方向に振動が発生する。この偏芯モ
ータ55に発生した振動は、モータ保持部材56及びレ
ンズホルダ54介して接触レンズ52へ伝達される。
【0042】したがって、本実施形態のレーザトリート
メント装置によれば、振動が付与された接触レンズ52
が、トリートメント対象の部位へ接触することによるマ
ッサージ効果と、レーザ光の光エネルギによる作用との
相乗効果により、効果的なトリートメントを行うことが
できる。また、本実施形態のレーザトリートメント装置
によれば、接触レンズ52から照射されるレーザ光の照
射位置を連続的に移動させることができるので、レーザ
光の広範囲照射が可能となる。
【0043】以上、本発明を各実施の形態により具体的
に説明したが、本発明は前記実施形態にのみ限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能である。上述した実施形態では、レーザトリートメン
ト装置が、主に育毛トリートメントを行うための装置で
あったが、美肌を行うための装置、ツボの刺激による痩
身などを行う装置、又は脱毛装置などとして本発明のレ
ーザトリートメント装置を無論適用することが可能であ
る。
【0044】また、上記実施形態のレーザトリートメン
ト装置は、図2、図8に示したように、レーザパワーの
切り替えをロータリスイッチにより行うものであった
が、これに代えて、押す度にレーザパワーを段階的に切
り替え可能な単一のプッシュスイッチや、レーザの設定
パワー毎に各々対応させて設けた複数のプッシュスイッ
チにより、レーザパワーの切り替えを行えるようにして
もよい。
【0045】また、上記実施形態のレーザトリートメン
ト装置は、トリートメント対象の部位へ照射されるレー
ザ光のパワーを切り替えることで、所望の部位に供給さ
れる光エネルギを調整するものであったが、これに加え
てさらに、間欠照射されるレーザ光の照射時間及びその
照射間隔を適宜設定することで、供給すべき光エネルギ
を微調整できるようにしてもよい。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザト
リートメント装置は、トリートメント対象の部位へ照射
されるレーザ光のパワーを切り替えることができるの
で、所望の部位に供給すべき光エネルギの調整が容易と
なり、これにより、トーリートメント効果の向上を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係るレーザトリート
メント装置を概略的に示す図である。
【図2】図1のレーザトリートメント装置が備えるレー
ザ光照射装置を示す正面図である。
【図3】図2のレーザ光照射装置を側面からみた断面図
である。
【図4】図1のレーザトリートメント装置の制御系を示
す機能ブロック図である。
【図5】図4の制御系のタッチセンサ回路を示す機能ブ
ロック図である。
【図6】図1のレーザトリートメント装置と構造の異な
る他のレーザトリートメント装置を示す斜視図である。
【図7】本発明の第2の実施形態に係るレーザトリート
メント装置が備えるレーザ光照射装置を示す側面の断面
図である。
【図8】本発明の第3の実施形態に係るレーザトリート
メント装置が備えるレーザ光照射装置を示す正面図であ
る。
【図9】図8のレーザ光照射装置の側面からみた断面図
である。
【符号の説明】
1…レーザトリートメント装置、2…コントローラ兼器
具収容ボックス(コントロールボックス)、5,41,
51…レーザ光照射装置、20…レーザダイオード、2
2…ロータリスイッチ、24…球レンズ、30…レーザ
駆動回路、37…レーザパワー可変回路、42…発光ダ
イオード、43…光学系、52…接触レンズ、53…振
動機構、55…偏芯モータ、57…バイブレーションス
イッチ。
フロントページの続き Fターム(参考) 4C026 AA04 AA10 BB08 DD02 DD06 FF22 FF33 FF36 GG03 HH02 HH03 HH13 HH17 HH22 4C060 MM22 4C074 AA10 BB05 CC01 DD01 GG01 HH03 4C082 RA01 RA03 RC09 RE22 RE33 RE36 RG02 RG06 RJ03 RL02 RL03 RL13 RL17 RL22

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 トリートメント対象の部位にレーザ光を
    照射するためのレーザ光照射手段と、 前記レーザ光照射手段により照射される前記レーザ光の
    パワーを切り替えるレーザパワー切替手段とを具備する
    ことを特徴とするレーザトリートメント装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のレーザトリートメント装
    置において、 前記レーザ光照射手段による前記レーザ光の照射領域を
    視覚的に示すように、前記レーザ光とは異なる波長の可
    視光を照射する手段をさらに具備することを特徴とする
    レーザトリートメント装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載のレーザトリートメ
    ント装置において、 前記トリートメント対象の部位に接触させる接触レンズ
    と、 前記接触レンズに振動を与える機構とをさらに具備する
    ことを特徴とするレーザトリートメント装置。
  4. 【請求項4】 請求項1ないし3いずれかに記載のレー
    ザトリートメント装置において、 前記レーザパワー切替手段が、レーザパワーの設定内容
    を回転位置により視覚的に示すロータリスイッチを含む
    ことを特徴とするレーザトリートメント装置。
JP2001344959A 2001-11-09 2001-11-09 レーザトリートメント装置 Pending JP2003144561A (ja)

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