JP2004209102A - トリートメント装置 - Google Patents

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Iwao Yamazaki
岩男 山▲崎▼
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Abstract

【課題】美肌等を行うトリートメント装置において、複数種のトリートメントを効果的に行うことができるようにする。
【解決手段】トリートメント装置1は、皮膚面に直接又は水溶性の有効成分を含む媒質を介して接触させるイオン導入電極6と、水溶性成分をイオン化させるための電圧をイオン導入電極6に印加するイオン導入/クレンジング回路31と、イオン導入電極6を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザダイオード18及びレンズ20を介してレーザ光を照射するレーザ駆動回路21と、これらの回路を切り替えて動作させる主制御回路17とを備える。したがって、トリートメント装置1では、レーザ光照射による美肌トリートメントとイオン導入による美肌トリートメントとを選択的に実施することができる。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば顔、手足、首筋等に対し美肌等のトリートメントを行うためのトリートメント装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
肌荒れは、新陳代謝の低下又は血行不良や、これに伴う皮脂の分泌不良等が原因で、皮膚が乾燥し易くなることにより起こる。皮膚が乾燥し易くなると、皮膚表面を保護する角質層にひび割れが起き、皮膚の水分が著しく低下し肌荒れとなる。一方、シミ、ソバカス又は皮膚の黒ずみ等の色素沈着は、皮膚の正常な細胞に付着した汚れ成分である。
【0003】
このような肌荒れ部分やシミ、ソバカスのある皮膚面にレーザ光を照射することで、美肌トリートメントを行えるレーザ光照射型のトリートメント装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
【特許文献1】
特開2001−252363号公報(第2−3頁,図2)
【0005】
上記トリートメント装置を用い、肌荒れ部分に比較的エネルギ密度の低いレーザ光を照射すると、皮膚の血行が促進され新陳代謝が活発になる。これにより、皮脂の分泌が促されて皮膚の乾燥が抑えられ、肌面を潤いのあるみずみずしいに状態にすることができる。さらに、上記装置を用い、シミ、ソバカス等のある皮膚面にレーザ光を照射すると、皮膚の表皮や真皮に散在するメラニンが昇温される。この場合、光熱作用によってメラニンの熱変性が誘起され、シミ、ソバカス等が除去される。また、上記トリートメント装置には、レーザ光の照射方向に突出するタッチセンサが設けられており、このタッチセンサが皮膚に接触した時にのみレーザ光が照射される安全装置が付与されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようなレーザ光照射型のトリートメント装置では、上述したシミ、ソバカス等の除去や肌荒れの改善を目的とする場合、所望の美肌効果を期待できるものの、例えば肌面のシワ、たるみ、ニキビ跡の改善や、ニキビ自体の発生防止等を求める場合、所望の美肌効果を得ることが困難である。
【0007】
そこで、例えば肌のたるみの改善やニキビ発生の抑止効果を得るために、レーザ照射以外の他の機能を上記トリートメント装置に付加すること等が考えられる。しかしながら、この場合、装置構成の複雑化やこれに伴う操作性の低下等が予想されるため、この点に如何に対処するかが、例えば新たなトリートメント装置を開発する上での重要な課題となる。
【0008】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、構造の簡略化が図られていると共に操作性にも優れ、しかも複数種のトリートメントを効果的に行うことができるトリートメント装置を提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係るトリートメント装置は、皮膚面に直接又は水溶性成分を含む媒質を介して接触させるイオン導入電極と、前記イオン導入電極に水溶性成分をイオン化させるための電圧を印加する電圧印加手段と、前記イオン導入電極を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザ光を照射するレーザ光照射手段とを具備することを特徴とする。
【0010】
この発明によれば、イオン導入電極を接触させた部分の近傍の皮膚面にレーザ光を照射できると共に、イオン導入電極により例えば化粧水や美容液中の水溶性の有効成分を含む媒質を通じて、例えばビタミンCやビタミンE等を皮膚内へイオン導入できるので、例えばシミ、ソバカス等の除去や肌荒れの改善等に加え、肌面のシワ、たるみ、ニキビ跡の改善や、ニキビ発生の抑止等、用途に応じて複数種のトリートメントを使い分けこれを効果的に実施することができる。
【0011】
本発明のトリートメント装置は、前記イオン導入電極と前記皮膚との接触を検出して、前記レーザ光照射手段による前記レーザ光の照射/非照射を切り替えるタッチセンサ機構をさらに具備することを特徴とする。
すなわち、この発明によれば、レーザ光照射の安全装置として機能するタッチセンサ機構の接触子とイオン導入電極とが共用(兼用)されているので、構造の簡略化を図ることができる。
【0012】
本発明のトリートメント装置は、前記イオン導入電極が、前記レーザ光照射手段により照射される前記レーザ光を通過させるための貫通孔を備えることを特徴とする。
この発明は、装置本体の部品設置スペースが有効利用され、例えば装置の小型化を図る際等に適した構造である。また、この発明では、イオン導入とレーザ照射とによるそれぞれのトリートメントをいずれもイオン導入電極の設置位置を基準に実施でき、操作性の向上が図られている。
【0013】
本発明のトリートメント装置は、前記レーザ光照射手段が、前記レーザ光のビーム径を可変させこのレーザ光を前記皮膚上へ導光するレンズをさらに備え、前記レンズを通じて前記皮膚面に形成されるレーザスポットが所定のスポットサイズになるように、前記イオン導入電極における前記レーザ光の光軸方向の長さが設定されていることを特徴とする。
この発明によれば、レンズ及び皮膚間の離間距離を定めるイオン導入電極の長さを設定し、レーザ光を所定のスポットサイズにして皮膚面に照射できるので、適切なエネルギ密度のレーザ光を皮膚面に供給でき、これにより効果的なトリートメントを行うことができる。
【0014】
本発明のトリートメント装置は、前記電圧印加手段及び前記レーザ光照射手段を少なくとも収容するケーシングをさらに備え、このケーシングが、前記電圧印加手段及び前記レーザ光照射手段を始動させるための入力スイッチ及び前記イオン導入電極と対の接地電極を保持するベース筐体部と、前記ベース筐体部の中央部分から突出するように設けられ、その先端部で前記イオン導入電極を保持する突状筐体部と、前記ベース筐体部の周縁に設けられていると共に前記入力スイッチを入力操作可能な位置で且つ前記接地電極と皮膚面が接触する位置に配置された把持部とを具備することを特徴とする。
この発明によれば、ベース筐体部の周縁にある把持部をユーザが把持することにより、イオン導入電極を手のひらのほぼ中央部分に位置させることができるので、皮膚上の所望の部位を正確にトリートメントすることができる。また、この把持部を把持した状態で、接地電極と皮膚面が接触し、しかも各トリートメントを始動するための入力スイッチを操作できるので、良好な操作性を得ることができる。
【0015】
また、本発明のトリートメント装置は、前記レーザ光照射手段又は前記電圧印加手段の一方を選択的に動作させる制御手段をさらに具備することを特徴とする。
さらに、本発明のトリートメント装置は、前記制御手段が、前記レーザ光照射手段及び前記電圧印加手段を順に動作又は同時に動作させることを特徴とする。
これらの発明では、レーザ光照射によるトリートメントあるいはイオン導入によるトリートメントを個別に実施することもできるし、また、レーザ光照射によるトリートメントを行った後、連続的にイオン導入によるトリートメントを実施することもできるし、さらには、レーザ照射によるトリートメントとイオン導入によるトリートメントとをリアルタイムに実施することもできる。
【0016】
ここで、レーザ照射とイオン導入とを連続的に行うトリートメントの場合、まず、レーザ光による光熱作用により毛穴を開かせ皮膚面にイオンを吸収させ易い状態にしたところで、イオン導入が行われるので、効果的なトリートメントを実施することができる。また、レーザ光照射とイオン導入とを同時に行うトリートメントの場合、イオン導入により皮膚内へ有効成分が浸透する際の皮膚組織に起こる作用と、レーザ光を皮膚面に照射することで起こる光熱作用との相乗効果により好適な美肌トリートメントが行われる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。
ここで、図1は、本発明の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図、図2は、その正面図、図3は、その背面図、図4は、その平面図、図5は、トリートメント装置を右側面方向からみた断面図、図6は、図1のトリートメント装置を用いて美肌トリートメントを行っている状態を示す斜視図、図7は、図1のトリートメント装置の制御系を示す機能ブロック図である。
【0018】
図1、図2に示すように、このトリートメント装置1は、レーザ光照射機能とイオン導入機能とを兼ね備えたハンディタイプの美肌装置である。トリートメント装置1は、ケーシング2によりその外郭が形成されている。ケーシング2は、その周縁に把持部3を備えたベース筐体部5と、ベース筐体部5の正面の中央部分から突出するように設けられ、その先端部でイオン導入電極6を保持する突状筐体部7とからなる。ベース筐体部5は、ある程度の厚みを持たせるように円柱をその軸方向に押しつぶしたかたちで成形されており、その周縁の所定位置(図2、図3の上部)には、入力スイッチである電源/モードスイッチ8及びレーザ光照射スイッチ9が設けられている。
【0019】
ベース筐体部5の背面には、図3に示すように、イオン導入電極6と対の接地電極である把持電極10が保持されている。さらに、ベース筐体部5の背面には、内部の発熱部品等の熱を放散させるための通気孔5a、5bが設けられている。ベース筐体部5の周縁の底面には、AC(交流)アダプタ等の電源出力端子11を装着するための電源入力端子部12が設けられている。電源として例えば乾電池や充電池を用いることができるように装置本体を構成してもよい。
【0020】
ここで、上記把持部3は、図6に示すように、この電源入力端子部12並びに電源/モードスイッチ8及びレーザ光照射スイッチ9の設置部分を除く、ベース筐体部5の周縁部分である。把持部3を同図6に示すように、例えば右手で把持した状態では、人差指で上記電源/モードスイッチ8及びレーザ光照射スイッチ9からの入力操作が可能であると共に、把持電極10が人差指の付根部分や手のひらと接触することになる。
【0021】
また、ベース筐体部5の正面には、電源/モードスイッチ8からの入力操作にに応じてその表示色や点燈状態を切替える電源/モード表示用LED14が設けられている。上記電源/モードスイッチ8は、主電源のON/OFFや、トリートメントのモードを切り替えるためのスイッチである。電源/モードスイッチ8は、例えば1秒以上の長押しで主電源のON/OFFを行い、0.5秒以下の短押しでトリートメントのモードを切替えるように動作するマルチファンクションスイッチである。トリートメントのモードには、大きく分けて、レーザ光照射による美肌トリートメントと、イオン導入による美肌トリートメントとがある。
【0022】
レーザ光照射による美肌トリートメントには、皮膚面に供給されるレーザ光のエネルギ密度の大小により1〜4段階のモードが用意されている。一方、イオン導入による美肌トリートメントには、プラスモード、及びマイナスモードが用意されている。主電源がONの状態で電源/モードスイッチ8を短押しして行くと、モードが、レーザ照射によるレベル1、2、3、4のモード、イオン導入によるプラスモード、マイナスモードの順に切替わる。電源/モード表示用LED14は、このようなモード変化に対応して、緑色点燈、緑色点滅、橙色点燈、橙色点滅、赤色点燈、赤色点滅の順に切替わる。また、このモードとLED表示との対応関係は、電源/モード表示用LED14の近傍にステッカ等で貼着可能に構成された動作表示マーク15として予め記されている。
【0023】
次に、レーザ光照射機能を実現するレーザ光照射手段と、イオン導入機能を実現する電圧印加手段とを構成するハードウェアについて主に図5の断面図及び図7の機能ブロック図に基づき説明する。
レーザ光照射手段は、上記電源/モードスイッチ8及びレーザ光照射スイッチ9等に加え、ケーシング2のベース筐体部5に内蔵されたメイン基板16と、メイン基板16に搭載された主制御回路(主制御チップ)17と、突状筐体部7の先端部分に配置され、レーザ光を放射するレーザダイオード18と、レーザダイオード18の動作時の熱を除去するヒートシンク19と、レーザダイオード18から放射されたレーザ光のビーム径を可変、すなわちレーザ光を集光して身体の皮膚面に照射(導光)するレンズ20と、レーザダイオード18を駆動制御するドライバであるレーザ駆動回路(レーザ駆動チップ)21とを備えている。さらに、上記ヒートシンク19は、支持プレート22を介して突状筐体部7に固定されている。また、発熱部品であるレーザ駆動回路(レーザ駆動チップ)21の上面にも、専用のヒートシンク23が接合されている。
【0024】
レーザダイオード18は、例えばGaAs(ガリウムアルセナイド)等の化合物半導体を用いたPN接合ダイオードであって、この素子に直接的に電流を流して励起させることにより、レーザ発振が得られる。また、このレーザダイオード18としては、例えば波長700〜900nm、光出力5mW〜5Wのレーザ光を放射することが可能な半導体素子が適用されている。
【0025】
このようなレーザ光は、光電気反応、光磁気反応、光力学反応、光化学反応、光免疫反応、光酵素反応等を誘起させる効果があり、光生物学的活性化により生体組織の新陳代謝を促して皮膚血行を高め、また、水分や血液に吸収され難いため、優れた皮膚深部への到達性を有する。
【0026】
ヒートシンク19は、例えばベアチップで構成されたレーザダイオード18に接合されており、レーザダイオード18の動作熱を熱伝導によって拡散させて性能の低下を抑える。このため、ヒートシンク19は、熱伝導率の高いアルミニウム又はその合金等で鋳造され、その表面積を増やすために複数の貫通孔やフィン等を備え放熱効果が高められている。
【0027】
さらに、突状筐体部7の最先端部に配置された上記イオン導入電極6は、タッチセンサ回路24と電気的に接続されている。タッチセンサ回路24は、イオン導入電極6と皮膚面との接触を検出して、その検出結果を主制御回路17に通知することで、レーザ光の照射/非照射を切替え、これにより、皮膚面の意図しない部位にエネルギ密度の高いレーザ光が誤って照射されることを防止する安全装置として機能する。このタッチセンサ回路24としては、例えば、静電容量や抵抗等のインピーダンス変化を検知するものや、圧電素子によって圧力変化を検知するもの等が例示される。また、イオン導入電極6は、レンズ20を通じて皮膚面に形成されるレーザスポットが所定のスポットサイズになるように、イオン導入電極6におけるレーザ光の光軸方向の長さが設定されている。したがって、レンズ20及び皮膚間の離間距離を定めるイオン導入電極6の長さが設定され、レーザ光を所定のスポットサイズにして皮膚面に照射できるので、適切なエネルギ密度のレーザ光を皮膚面に供給でき、これにより効果的なトリートメントを行うことができる。
【0028】
さらに、イオン導入電極6には、レーザダイオード18からレンズ20を介して照射されるレーザ光を通過させるための貫通孔25が形成されている。このような部品レイアウトは、ケーシング2(装置本体)内の部品設置スペースが有効利用されていることから、小型化を図る際等に適した構造である。また、このような部品レイアウトにより、後述するイオン導入とレーザ光照射とによるそれぞれのトリートメントをいずれもイオン導入電極6の設置位置を基準に実施できるので、装置本体の操作性の向上が図られている。
【0029】
また、上述した主制御回路17は、トリートメント装置1の全体的な制御や各種演算を実行するプロセッサ、RAM、ROM等を内蔵する。ROMには実行される制御や演算のためのプログラムや各種パラメータ等のソフトウェアが格納されており、プロセッサはこのROMからソフトウェアを読み込み、命令文を解釈し、RAMのメモリ空間を用いて命令を実行する。また、主制御回路17の前段には、操作入力回路26が接続されており、この操作入力回路26は、メイン基板16上のプッシュスイッチ27等を介して入力される電源/モードスイッチ8やレーザ光照射スイッチ9の操作状況を常時監視しており、その監視結果であるユーザからの入力命令を主制御回路17に通知する。
【0030】
すなわち、主制御回路17では、トリートメントモード切替部28や、このトリートメントモード切替部28により設定されたモードを識別可能に電源/モード表示用LED14に可視表示させる表示制御部29等をソフトウェア的に実現する。トリートメントモード切替部28は、レーザ照射による美肌トリートメントを設定する場合、上述したように、皮膚面に供給されるレーザ光のエネルギ密度の大小により、レベル1〜4のレーザ照射モードを設定可能である。レーザ光のエネルギ密度のレベル調整は、レーザダイオード18より、例えば間欠(パルス)照射されるレーザ光のオンタイム時間(デューティ比)を適宜変更することにより行ってもよいし、また、レーザダイオード18からのレーザ出力(レーザパワー)自体を変更することにより行ってもよい。
【0031】
ここで、レーザ光照射による美肌トリートメントでは、皮膚の表皮や真皮に散在するメラニンが比較的高い温度に昇温されるようにレーザ光が照射され、光熱作用によって熱変性が誘起され、アザ、シミ、ソバカス等を除去する効果が得られる。
【0032】
一方、イオン導入による美肌トリートメントを実現する電圧印加手段は、上記電源/モードスイッチ8と、上記主制御回路17及び操作入力回路26並びにイオン導入/クレンジング回路31と、イオン導入電極6と、把持電極10とで実現される。制御回路17内のトリートメントモード切替部28は、レーザ照射によるレベル1〜4のモード設定に代えて、イオン導入による美肌トリートメントを設定する場合、レーザ駆動回路21に代えて、イオン導入/クレンジング回路31を選択すると共に、イオン導入/クレンジング回路31を上述したマイナスモードあるいはプラスモードで制御する。
【0033】
イオン導入/クレンジング回路31は、主制御回路17により、イオン導入モードであるマイナスモードを設定された場合、イオン導入電極6がマイナス極(負極)、把持電極10がプラス極(正極)になるように電圧を印加する。電圧印加の形態をイオン導入電極6を基準に説明すると、連続的なマイナス直流電圧(負の一定電圧)の印加、マイナスパルス電圧(負側で交番する直流のパルス電圧)の印加、又はマイナス交流電圧の印加等が例示される。この他、連続的なマイナス直流電圧とマイナスパルス電圧とを重畳させた電圧供給を行ってもよい。ここで、上記マイナスパルス電圧は、例えば1〜200Hzの周波数範囲内で例えば0Vから−36Vの間を交番する矩形波である。
【0034】
また、イオン導入/クレンジング回路31は、主制御回路17により、クレンジングモードであるプラスモードを設定された場合、イオン導入電極6がプラス極(正極)、把持電極10がマイナス極(負極)になるように電圧を印加する。電圧印加の形態をイオン導入電極6を基準に説明すると、プラスパルス電圧(正側で交番する直流のパルス電圧)の印加、又はプラス交流電圧の印加等が例示される。この他、連続的なプラス直流電圧(正の一定電圧)とプラスパルス電圧とを重畳させた電圧供給を行ってもよい。
【0035】
このようなマイナスモード/プラスモードは、イオン導入電極6、身体、及び把持電極10が電気的に接続された状態で実現される。したがって、イオン導入電極6は、図示しない接続線によりメイン基板16を介してイオン導入/クレンジング回路31に接続され、一方、把持電極10もその導通部10a及びメイン基板16を介してイオン導入/クレンジング回路31に接続されている。すなわち、イオン導入(マイナスモード/プラスモード)による美肌トリートメントの際には、図6に示すように、ユーザが把持部3を把持し手のひらを把持電極10に接触させ、さらに電源/モードスイッチ8を操作してマイナスモードあるいはプラスモードを選択した状態で、トリートメント対象の皮膚面にイオン導入電極6を接触させることにより実現される。
【0036】
したがって、同図6に示すように、ベース筐体部5の周縁にある把持部3をユーザが把持した状態では、イオン導入電極6を手のひらの面方向においてほぼ中央部分に位置させることができるので、皮膚上の所望の部位を正確にトリートメント(レーザ光照射又はイオン導入にてトリートメント)することができる。また、トリートメント装置1では、この把持部3を把持した状態で、把持電極10と皮膚面が接触し、しかも上記各トリートメントを始動するための電源/モードスイッチ8及びレーザ光照射スイッチ9を操作できるので、良好な操作性を得ることができる。ここで、このようなイオン導入電極6は、レーザ光の照射/非照射を制御するタッチセンサ回路24の接触子を兼ねている。これにより、トリートメント装置1では、装置全体の構造の簡略化を図られている。なお、マイナスモード又はプラスモードの始動時の上記操作に加え、レーザ光照射スイッチ9を押した場合に初めて、上記イオン導入電極6や把持電極10に電圧が印加されるように主制御回路17を構成してもよい。
【0037】
さらに、ケーシング2内のメイン基板16上には、圧電ブザー32が搭載されており、この圧電ブザー32は、マイナスモードやプラスモードが選択されている場合に、ユーザの手のひらや人差指の付根部分が把持電極10から離間した際に警告音を発生させる。これにより、ユーザは、イオン導入による美肌トリートメントが正しく行われているか否かを把握することができる。
【0038】
ここで、マイナスモードによる美肌トリートメントは、トリートメント対象の皮膚面、例えば顔、手足、首筋等の肌面に媒質として化粧水や美容液を塗り、その上からイオン導入電極6を押し当て電圧の印加、つまりイオン導入電極6をマイナス電位とし且つ把持電極10をプラス電位とする電圧差を与えることで、皮膚に微弱な電流を流し化粧水や美容液に含まれている水溶性の有効成分をイオン化し、これを皮膚(肌)に効率的に浸透させるものである。有効成分とは、例えばビタミンC、E等である。また、皮膚面に化粧水や美容液を塗る代わりに、図4に示すように、水溶性の有効成分を含浸させたコットン33を媒質として用い、このコットン33をイオン導入電極6と皮膚面34との間に介在させてマイナスモードによるイオン導入を行ってもよい。
【0039】
コットン30に染み込ませる美容処理剤としては、各種のビタミンやセラミド、またコラーゲン(コラーゲンビーズなどを含む)や美白剤のような美容成分、各種化粧品として用いられている化粧成分、紫外線吸収剤や日焼け抑制剤、保湿剤、油分補給剤、炎症抑制剤のような皮膚保護成分等を含むもの、また場合によっては洗顔成分等を含むものが挙げられる。これら各成分は1種又は2種以上の混合物として使用することができる。さらに、これら美容処理剤の主目的成分に加えて、抗炎症作用や抗酸化作用等を有する成分を配合したり、また、香料や顔料等を副成分として添加してもよい。
【0040】
美容処理剤の主目的成分であるビタミンには、ビタミンA油(ビタミンAパルミテート)、ビタミンE油(d1−α−トコフェロール)、ビタミンC(テトラ2−ヘキシルデカン酸アスコルビル)等が効果的に用いられる。例えば、ビタミンAは角質化した皮膚をやわらげ、また肥厚した皮膚や毛孔壁を柔軟にして、ニキビ等のでき易い油漏性角化肌の解消等に効果を発揮する。ビタミンEは細胞の若さを保つ働きを有し、肌荒れ、シワ等の原因となるターンオーバの改善等に効果を発揮し、さらにシミの原因となる褐色の色素の沈着が抑制される。ビタミンCはシミ、ソバカスの発生原因となるメラニン色素の形成を阻害すると共に、シミの要因となる活性酸素を阻害する抗酸化作用を有する。また、バイオ技術で作られたセラミドは、肌の保湿機能を高める等の効果を有する。したがって、このようなイオン導入(マイナスモード)によるトリートメントでは、レーザ光照射(マイナスモード)によるトリートメントでは得られない美肌効果を得ることができる。
【0041】
一方、プラスモードによる美肌トリートメントは、トリートメント対象の皮膚面にイオン導入電極6を押し当て電圧の印加、つまりイオン導入電極6をプラス電位とし且つ把持電極10をマイナス電位とする電圧差を与えることで、マイナスに帯電した肌内の汚れ成分が叩き出されてイオン導入電極6に吸着される。この際、毛穴が引き締まり肌のきめを整える効果等も得られる。
【0042】
なお、このようなマイナスモードやプラスモードの他に、マッサージモードを設けてもよい。すなわち、マッサージモードとは、イオン導入電極6及び把持電極10に例えば10Hz〜50Hz程度の低周波で正負に交番する交番電圧(交流パルス電圧)を印加することで、皮膚中のイオンを上下に動作させ、肌の活性化を図るものである。これにより、肌面は、低周波の刺激によって、筋肉がほぐれ、毛穴が開き、マイナスモードにより有効成分の導入され易い状態となる。
【0043】
このように構成された本実施形態のトリートメント装置1によれば、イオン導入電極6を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザ光を照射できると共に、イオン導入電極6を通じて例えばビタミンCやビタミンEを皮膚内へイオン導入できるので、例えばシミ、ソバカス等の除去や肌荒れの改善等に加え、肌面のシワ、たるみ、ニキビ跡の改善や、ニキビ発生の抑止等、用途に応じて複数種のトリートメントを使い分けこれを効果的に実施することができる。
【0044】
以上、本発明を実施の形態により具体的に説明したが、本発明は前記実施形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、上記実施形態では、レーザ照射(レーザ照射レベル1〜4)による美肌トリートメント若しくはイオン導入(マイナス/プラスモード)による美肌トリートメントが個別に行われるものであったが、これに代えて、レーザ光照射によるトリートメントを行った後、連続的にイオン導入によるトリートメントを実施できるように、主制御回路17内のROMを構成してもよいし、また、レーザ光照射によるトリートメントとイオン導入によるトリートメントとをリアルタイムに実施できるように上記ROMを構成してもよい。
【0045】
また、イオン導入電極6に所定電圧を印加することにのみならず、イオン導入電極6に超音波振動を付与できるようにトリートメント装置を構成してもよい。この場合、超音波振動を付与されたイオン導入電極6が、強いエネルギを持つ振動波を発生し、この振動波が皮膚に作用すると、皮膚表層を殺菌して老廃物や角質層等を剥離し、ニキビ、毛穴の油、汚れ、化粧残り等を除去して肌面を清浄化し、また、皮膚表層の血行を促して組織を活性化し、さらには筋肉の緊張をほぐして皮膚のシミ、シワ、たるみ等を除去する美肌効果を発揮する。これにより、レーザ光照射又はイオン導入によるトリートメントと振動波によるトリートメントとの相乗効果を得ることができる。
さらに、本実施形態では、本発明を美肌装置に適用した場合について説明したが、勿論本発明を育毛装置等に適用してもよい。
【0046】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明は、イオン導入電極を接触させた部分の近傍の皮膚面にレーザ光を照射できると共に、イオン導入電極により例えばビタミンCやビタミンE等を皮膚内へイオン導入できるので、用途に応じて複数種のトリートメントを使い分けこれを実施することができる。したがって、本発明によれば、例えば肌面のシミ等の除去や肌荒れの改善等に加え、肌面にあるシワの改善やニキビ発生の防止といった複数種の美肌効果等を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係るトリートメント装置を示す斜視図である。
【図2】図1のトリートメント装置を示す正面図である。
【図3】図1のトリートメント装置を示す背面図である。
【図4】図1のトリートメント装置を示す平面図である。
【図5】図1のトリートメント装置を右側面方向からみた断面図である。
【図6】図1のトリートメント装置を用いて美肌トリートメントを行っている状態を示す図である。
【図7】図1のトリートメント装置の制御系を示す機能ブロック図である。
【符号の説明】
1…トリートメント装置、2…ケーシング、3…把持部、5…ベース筐体部、6…イオン導入電極、7…突状筐体部、8…電源/モードスイッチ、9…レーザ光照射スイッチ、10…把持電極、17…主制御回路(主制御チップ)、18…レーザダイオード、20…レンズ、21…レーザ駆動回路(レーザ駆動チップ)、24…タッチセンサ回路、25…イオン導入電極の貫通孔、26…操作入力回路、27…プッシュスイッチ、28…トリートメントモード切替部、31…イオン導入/クレンジング回路、33…コットン、34…皮膚面。

Claims (7)

  1. 皮膚面に直接又は水溶性成分を含む媒質を介して接触させるイオン導入電極と、
    前記イオン導入電極に水溶性成分をイオン化させるための電圧を印加する電圧印加手段と、
    前記イオン導入電極を接触させた部位の近傍の皮膚面にレーザ光を照射するレーザ光照射手段と
    を具備することを特徴とするトリートメント装置。
  2. 前記イオン導入電極と前記皮膚との接触を検出して、前記レーザ光照射手段による前記レーザ光の照射/非照射を切り替えるタッチセンサ機構をさらに具備することを特徴とする請求項1記載のトリートメント装置。
  3. 前記イオン導入電極が、前記レーザ光照射手段により照射される前記レーザ光を通過させるための貫通孔を備えることを特徴とする請求項1又は2記載のトリートメント装置。
  4. 前記レーザ光照射手段が、前記レーザ光のビーム径を可変させこのレーザ光を前記皮膚上へ導光するレンズをさらに備え、
    前記レンズを通じて前記皮膚面に形成されるレーザスポットが所定のスポットサイズになるように、前記イオン導入電極における前記レーザ光の光軸方向の長さが設定されていることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項に記載のトリートメント装置。
  5. 前記電圧印加手段及び前記レーザ光照射手段を少なくとも収容するケーシングを備え、
    このケーシングが、
    前記電圧印加手段及び前記レーザ光照射手段を始動させるための入力スイッチ及び前記イオン導入電極と対の接地電極を保持するベース筐体部と、
    前記ベース筐体部の中央部分から突出するように設けられ、その先端部で前記イオン導入電極を保持する突状筐体部と、
    前記ベース筐体部の周縁に設けられていると共に前記入力スイッチを入力操作可能な位置で且つ前記接地電極と皮膚面が接触する位置に配置された把持部と
    を具備することを特徴とする請求項1ないし4いずれか1項に記載のトリートメント装置。
  6. 前記レーザ光照射手段又は前記電圧印加手段の一方を選択的に動作させる制御手段をさらに具備することを特徴とする請求項1ないし5いずれか1項に記載のトリートメント装置。
  7. 前記制御手段が、前記レーザ光照射手段及び前記電圧印加手段を順に動作又は同時に動作させることを特徴とする請求項6記載のトリートメント装置。
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