JP2003140341A - 画像記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 通常の保存における所望されない硬化反応が
抑制され、保存安定性に優れ、形成された画像部の強度
が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成し得るヒート
モード対応ネガ型画像記録材料を提供する。 【解決手段】 （Ａ）側鎖に炭素−炭素二重結合を少な
くとも１つ有し、ガラス転移温度が８０℃以上であるア
ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物と、（Ｂ）光熱変
換剤と、（Ｃ）該光熱変換剤が吸収することの可能な波
長の光の露光によりラジカルを生成する化合物と、を含
有し、露光により画像形成可能なことを特徴とする。さ
らに、（Ｄ）ラジカル重合性化合物を含有することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像記録材料に関
し、詳しくは、赤外線レーザの露光により画像形成する
ことが可能であり、記録層の画像部の強度が高く、耐刷
性に優れた平版印刷版を形成し得るヒートモード対応の
ネガ型画像記録材料に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目覚しく、
特に、近赤外線から赤外線領域に発光領域を持つ個体レ
ーザや半導体レーザ（以下、赤外線レーザと称する。）
では、高出力・小型化が進んでいる。かかる赤外線レー
ザは、コンピュータ等のデジタルデータに沿って、直接
印刷版を製版する際の露光光源として非常に有用であ
る。

【０００３】赤外線レーザによって露光可能なネガ型の
平版印刷版は、赤外線吸収剤と、光又は熱によりラジカ
ルを発生する重合開始剤と、重合性化合物と、を含有す
るネガ型画像記録材料を記録層として使用する。通常、
前記ネガ型画像記録材料は、光又は熱により発生したラ
ジカルが開始剤となり重合性化合物の重合反応を生起さ
せ、露光部の記録層を硬化させて画像部を形成する記録
方式を利用している。

【０００４】このようなネガ型画像記録材料は、赤外線
レーザ照射のエネルギーにより記録層の可溶化を起こさ
せるポジ型と比較して、画像形成性が低い。そのため、
前記ネガ型画像記録材料は、重合による硬化反応を促進
させて強固な画像部を形成することを目的として、現像
工程前に加熱処理を行うのが一般的である。

【０００５】このような画像形成機構を利用した記録層
を使用する印刷版としては、特開平８−１０８６２１
号、特開平９−３４１１０号の各公報に記載されるよう
な光重合性或いは熱重合性組成物を記録層（感光層）と
して用いる技術が知られている。これらの記録層は高感
度画像形成性に優れているものの、支持体として親水化
処理された基板を用いた場合、記録層と基板との界面に
おける密着性が低く、耐刷性に劣るという問題があっ
た。

【０００６】また、感度を向上させるため、露光の際、
高出力の赤外線レーザを用いることも検討されている
が、レーザ走査時に記録層のアブレーションが発生し光
学系を汚染する懸念がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、通常
の保存における所望されない硬化反応が抑制され、保存
安定性に優れ、形成された画像部の強度が高く、耐刷性
に優れた平版印刷版を形成し得るネガ型画像記録材料を
提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
の結果、画像記録材料に用いるアルカリ性水溶液に可溶
な高分子化合物として、側鎖に不飽和結合を有し、且
つ、特定のガラス転移温度を有する高分子化合物を選択
することにより、画像部の強度が高く、優れた記録が可
能となることを見出し、本発明を完成した。

【０００９】即ち、本発明のネガ型画像記録材料は、
（Ａ）側鎖に炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有
し、ガラス転移温度が８０℃以上、より好ましくはガラ
ス転移温度が１００℃以上であるアルカリ水溶液に可溶
な高分子化合物と（以下、適宜「特定アルカリ可溶性高
分子」と称する）、（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）該光熱
変換剤が吸収することの可能な波長の光の露光によりラ
ジカルを生成する化合物（以下、適宜、「ラジカル開始
剤」と称する）と、を含有し、露光により画像形成可能
なことを特徴とする。また、前記ネガ型画像記録材料
は、さらに（Ｄ）ラジカル重合性化合物を含有していて
もよい。

【００１０】本発明の作用は明確ではないが、アルカリ
水溶液に可溶な高分子化合物として、側鎖に炭素−炭素
二重結合を少なくとも１つ有し、ガラス転移温度が８０
℃以上であるものを用いるため、高分子化合物自体のガ
ラス転移温度が８０℃以上という比較的高温であること
から、強度に優れた画像を得ることできる。通常、ネガ
型画像記録材料の如く、重合反応、架橋反応などの化学
反応を利用して画像形成を行う材料においては、流動的
すなわち材料として柔軟であるものの方が化学反応が起
こりやすく、画像形成性に優れる結果となるが、化学反
応が起こりやすいということは、反面、安定性が低くな
るということでもあり、例えば、屋内、屋外での通常の
保管温度条件下でも所望されない化学反応が生じて未露
光領域での残膜が発生し、平版印刷版として使用した場
合、非画像部の汚れが生じやすくなるといった傾向があ
る。本発明に用いられる高分子化合物は、反応性の二重
結合を有する化合物であるが、ガラス転移温度が高いた
めに、この材料により構成された記録層自体も高いガラ
ス転移温度を有するものとなり、屋内、屋外での通常の
保管温度条件下では流動性を有しない強固で剛直な層が
形成され、そのような条件下では未露光領域では安定性
に優れた特性を有するが、露光領域では、ヒートモード
露光によりガラス転移温度より高い温度に加熱されるた
め、瞬時に記録層が融解し、流動状態となって化学反応
が生起され、速やかに硬化して画像が形成される。この
ように、本発明に係る特定のアルカリ可溶性高分子化合
物を用いることで、保存安定性と画像形成性とが共に優
れている画像記録材料が得られ、これを平版印刷版の記
録層に適用した場合、耐刷性、保存安定性に優れた印刷
版を得ることができるものと考えられる。

【００１１】なお、本発明の画像記録材料において、
（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子は、側鎖に炭素−炭素
二重結合を１．５ｍｅｑ／ｇ以上有し、ガラス転移温度
が８０℃以上であるものが好ましく、また、その分子量
としては、重量平均分子量が６，０００以上でものが好
ましい。より具体的には、（Ａ）特定アルカリ可溶性高
分子は、側鎖に炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有
し、ガラス転移温度が８０℃以上であり、且つ、側鎖に
少なくとも１つのアミド基を有する高分子化合物、或い
は、その構成単位として、スチレン誘導体を少なくとも
１つ有する高分子化合物であることが好ましい態様であ
る。また、本発明の画像記録材料において、前記（Ａ）
特定アルカリ可溶性高分子と、（Ｂ）光熱変換剤と、
（Ｃ）ラジカル開始剤と、を含有して形成される感光層
膜の軟化温度は６０℃以上であることが好ましい。本発
明の画像記録材料を記録層として用いた平版印刷版原版
は、露光パワー密度５，０００Ｗ／ｃｍ²以上で露光す
ることによって製版する製造方法に適用してその効果が
著しく、このような、（Ｂ）光熱変換剤を含有する記録
層を高エネルギーで露光することを、本発明において
は、ヒートモード露光と称し、このような画像記録材料
をヒートモード対応画像記録材料と称する。

【００１２】なお、本発明において「ヒートモード対
応」とは、ヒートモード露光による記録が可能であるこ
とを意味する。以下、本発明におけるヒートモード露光
の定義について詳述する。Ｈａｎｓ−Ｊｏａｃｈｉｍ
Ｔｉｍｐｅ，ＩＳ＆Ｔｓ ＮＩＰ １５：１９９９ Ｉ
ｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ ｏ
ｎ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏ
ｌｏｇｉｅｓ．Ｐ．２０９に記載されているように、感
光体材料において光吸収物質（例えば色素）を光励起さ
せ、化学的或いは物理的変化を経て、画像を形成するそ
の光吸収物質の光励起から化学的或いは物理的変化まで
のプロセスには大きく分けて二つのモードが存在するこ
とが知られている。１つは光励起された光吸収物質が感
光材料中の他の反応物質と何らかの光化学的相互作用
（例えば、エネルギー移動、電子移動）をすることで失
活し、その結果として活性化した反応物質が上述の画像
形成に必要な化学的或いは物理変化を引き起こすいわゆ
るフォトンモードであり、もう１つは光励起された光吸
収物質が熱を発生し失活し、その熱を利用して反応物質
が上述の画像形成に必要な化学的或いは物理変化を引き
起こすいわゆるヒートモードである。その他、物質が局
所的に集まった光のエネルギーにより爆発的に飛び散る
アブレーションや１分子が多数の光子を一度に吸収する
多光子吸収など特殊なモードもあるがここでは省略す
る。

【００１３】上述の各モードを利用した露光プロセスを
フォトンモード露光及びヒートモード露光と呼ぶ。フォ
トンモード露光とヒートモード露光の技術的な違いは目
的とする反応のエネルギー量に対し露光する数個の光子
のエネルギー量を加算して使用できるかどうかである。
例えばｎ個の光子を用いて、ある反応を起こすことを考
える。フォトンモード露光では光化学的相互作用を利用
しているため、量子のエネルギー及び運動量保存則の要
請により１光子のエネルギーを足し併せて使用すること
ができない。つまり、何らかの反応を起こすためには
「１光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係
が必要である。一方、ヒートモード露光では光励起後に
熱を発生し、光エネルギーを熱に変換し利用するためエ
ネルギー量の足し併せが可能となる。そのため、「ｎ個
の光子のエネルギー量≧反応のエネルギー量」の関係が
あれば十分となる。但し、このエネルギー量加算には熱
拡散による制約を受ける。即ち、今注目している露光部
分（反応点）から熱拡散により熱が逃げるまでに次の光
励起−失活過程が起こり熱が発生すれば、熱は確実に蓄
積加算し、その部分の温度上昇につながる。しかし、次
の熱の発生が遅い場合には熱が逃げて蓄積されない。つ
まり、ヒートモード露光では同じ全露光エネルギー量で
あっても高エネルギー量の光を短い時間照射した場合と
低エネルギー量の光を長い時間照射した場合とでは結果
が異なり、短時間の方が熱の蓄積に有利になる。

【００１４】無論、フォトンモード露光では後続反応種
の拡散の影響で似た様な現象が起こる場合もあるが基本
的には、このようなことは起こらない。即ち、感光材料
の特性として見た場合、フォトンモードでは露光パワー
密度（Ｗ／ｃｍ²）（＝単位時間当たりのエネルギー密
度）に対し感光材料の固有感度（画像形成に必要な反応
のためのエネルギー量）は一定となるが、ヒートモード
では露光パワー密度に対し感光材料の固有感度が上昇す
ることになる。従って、実際に画像記録材料として実用
上、必要な生産性を維持できる程度の露光時間を固定す
ると、各モードを比較した場合、フォトンモード露光で
は通常は約０．１ｍＪ／ｃｍ²程度の高感度化が達成で
きるもののどんな少ない露光量でも反応が起こるため、
未露光部での低露光カブリの問題が生じ易い。これに対
し、ヒートモード露光ではある一定以上の露光量でない
と反応が起こらず、また感光材料の熱安定性との関係か
ら通常は５０ｍＪ／ｃｍ²程度が必要となるが、低露光
カブリの問題が回避される。

【００１５】そして、事実上ヒートモード露光では感光
材料の版面での露光パワー密度が５０００Ｗ／ｃｍ²以
上が必要であり、好ましくは１００００Ｗ／ｃｍ²以上
が必要となる。但し、ここでは詳しく述べなかったが
５．０×１０⁵Ｗ／ｃｍ²以上の高パワー密度レーザを利
用するとアブレーションが起こり、光源を汚す等の問題
から好ましくない。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の画像記録材料につ
いて詳細に説明する。

【００１７】本発明のネガ型画像記録材料は、（Ａ）側
鎖に炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有し、ガラス
転移温度が８０℃以上であるアルカリ水溶液に可溶な高
分子化合物と、（Ｂ）光熱変換剤と、（Ｃ）該光熱変換
剤が吸収することの可能な波長の光の露光によりラジカ
ルを生成する化合物と、を含有することを特徴とする。
このような画像記録材料は、赤外線レーザなどを用いた
ヒートモード露光によって、コンピュータなどのデジタ
ルデータから直接記録することが可能である。

【００１８】以下、本発明のネガ型画像記録材料に含有
され得る各化合物について、順次説明する。 ＜（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子＞本発明において、
特定アルカリ可溶性高分子は、ガラス転移温度が８０℃
以上であることを要する。本発明において「ガラス転移
温度」（以下、適宜、Ｔｇと記載する）とは、「高分子
化学」（共立出版、１９９３年刊）に定義されるよう
に、高分子物資の比容を温度の関数として測定したとき
の、２本の直線の交点に対応する温度を指し、示差走査
熱量計（ＤＳＣ）により測定できる。本発明における各
高分子化合物のＴｇもＤＳＣにより測定した値を採用す
る。特定アルカリ可溶性高分子としては、Ｔｇが８０℃
以上のものを選択するが、安定性の観点からは１００℃
以上のものがより好ましい。また、Ｔｇの上限には特に
制限はないが、感度、画像形成性の観点からは、２５０
℃以下のものが好ましい。

【００１９】Ｔｇが８０℃以上のアルカリ可溶性高分子
の主鎖構造について述べれば、それぞれの樹脂を構成す
るユニットに、脂環基や芳香環のような嵩高い官能基や
アミド基のような凝集性を有する官能基を導入すること
で、所望のＴｇに調整することができるため、高分子の
主鎖構造には特に制限はない。主鎖構造の好ましいもの
としては、以下に詳述するように、ポリ（メタ）アクリ
ル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、
ポリビニル樹脂のアセタール変性体等が挙げられ、なか
でも、平版印刷版に使用した場合の、着肉性など他の印
刷性能に対する影響を考慮すれば、ポリスチレン系樹脂
が好適である。

【００２０】本発明で使用される特定アルカリ可溶性高
分子は、その構造において、側鎖に炭素−炭素二重結合
を少なくとも１つ有することを要するが、その「炭素−
炭素二重結合」構造としては、好ましい具体的な態様と
して、側鎖に下記一般式（１）乃至一般式（３）で表さ
れる基のうち少なくとも１つ以上を有するものが挙げら
れる。アルカリ性水溶液に可溶であり、ネガ型画像記録
材料のバインダー樹脂として使用されるこの樹脂は、側
鎖に「炭素−炭素二重結合」を少なくとも１つ有するも
のであり、その構造内に「炭素−炭素二重結合」を含む
一般式（１）〜（３）で表される基を側鎖に少なくとも
一種有すればよく、当然、このような基を複数有してい
てもよく、これらの全てを同時に有していてもよい。以
下、一般式（１）〜一般式（３）で表される側鎖につい
て詳細に説明する。

【００２１】

【化１】

【００２２】一般式（１）〜（３）中、Ｒ¹〜Ｒ¹¹はそ
れぞれ独立に１価の有機基を表す。Ｘ、Ｙは、それぞれ
独立に、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ¹²）−を表
し、Ｚは、酸素原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ¹²）−、又は
置換基を有してもよいフェニレン基を表す。

【００２３】

【化２】

【００２４】上記一般式（１）において、Ｒ^l〜Ｒ³はそ
れぞれ独立に、１価の有機基を表すが、Ｒ¹としては、
好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいアルキ
ル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基が
ラジカル反応性が高いことから好ましい。また、Ｒ²、
Ｒ³は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ア
ミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ス
ルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有してもよいア
ルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を
有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリ
ールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ
基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を
有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有しても
よいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかでも、
水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよ
いアリール基がラジカル反応性が高いことから好まし
い。

【００２５】Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ
¹²）−を表し、Ｒ¹²は、水素原子、又は１価の有機基を
表す。ここで、Ｒ¹²は、置換基を有してもよいアルキル
基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基がラジカル反応性が高いことか
ら好ましい。

【００２６】ここで、導入し得る置換基としては、アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、アミノ
基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、
シアノ基、アミド基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基などが挙げられる。

【００２７】

【化３】

【００２８】上記一般式（２）において、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は、
それぞれ独立に１価の有機基を表すが、Ｒ⁴〜Ｒ⁸は、好
ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基、ジアル
キルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換基を有しても
よいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置
換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよ
いアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルア
ミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換
基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有し
てもよいアリールスルホニル基などが挙げられ、なかで
も、水素原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有して
もよいアリール基が好ましい。

【００２９】導入し得る置換基としては、一般式（１）
と同様のものが例示される。また、Ｙは、酸素原子、硫
黄原子、又は−Ｎ（Ｒ¹²）−を表す。Ｒ¹²は、一般式
（１）のＲ¹²の場合と同義であり、好ましい例も同様で
ある。

【００３０】

【化４】

【００３１】上記一般式（３）において、Ｒ⁹として
は、好ましくは、水素原子又は置換基を有してもよいア
ルキル基などが挙げられ、なかでも、水素原子、メチル
基がラジカル反応性が高いことから好ましい。Ｒ¹⁰、Ｒ
¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アミ
ノ基、ジアルキルアミノ基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、スルホ基、ニトロ基、シアノ基、置換
基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいア
リール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基
を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよ
いアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールア
ミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、
置換基を有してもよいアリールスルホニル基などが挙げ
られ、なかでも、水素原子、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、置換基を有してもよいアルキル基、置
換基を有してもよいアリール基がラジカル反応性が高い
ことから好ましい。

【００３２】ここで、導入し得る置換基としては、一般
式（１）と同様のものが例示される。また、Ｚは、酸素
原子、硫黄原子、−Ｎ（Ｒ¹²）−、又は置換基を有して
もよいフェニレン基を表す。Ｒ¹²は、一般式（１）のＲ
¹²の場合と同義であり、好ましい例も同様である。

【００３３】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子の
主鎖構造としては、好ましくは、ポリ（メタ）アクリル
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポ
リビニル樹脂のアセタール変性体などが例示されるが、
ガラス転移温度が高いという点で特に好ましいのはポリ
スチレン系樹脂である。ここで、ポリスチレン系樹脂と
は、ポリマー中の組成に於いて、スチレン誘導体より導
かれる構成単位を含むものであり、ガラス転移温度が高
いという点で、好ましくは、ポリマー中の組成の合計を
１００モル％としたとき、スチレン誘導体より導かれる
構成単位を３０モル％以上、更に好ましくは５０モル％
以上含む。さらには、上述の一般式（１）、（２）、
（３）で表される側鎖構造がスチレン誘導体構成単位に
連結しているものが好ましい。

【００３４】スチレン誘導体より導かれる構成単位の好
ましい構造は下記一般式（４）で表される構造のもので
ある。

【００３５】

【化５】

【００３６】一般式（４）中、Ｒ¹³は、水素原子、また
は、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。また、式
中、Ｒ¹⁴〜Ｒ¹⁸は、それぞれ独立に１価の有機基を表
し、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、芳香族基、複素環基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ
基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、
アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，
Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキ
シ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルア
ミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールア
シルアミノ基、ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールウレイド基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ，
Ｎ−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ，Ｎ−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド
基、Ｎ，Ｎ−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ
−アルキル−Ｎ−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール−Ｎ−アリールウレイド
基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカル
ボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボ
ニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボ
ニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニ
ルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニ
ルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及
びその共役塩基基（以下、カルボキシラートと称す）、
アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、
カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニ
ル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及
びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、

【００３７】アルコキシスルホニル基、アリーロキシス
ルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフ
ィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル
基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキル
スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル
基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリー
ルスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスル
ファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共
役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基
（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基
基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ
₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−
アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリールス
ルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙ
ｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓ
ｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ
（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ₃
Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）
₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ
₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基
（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以
後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスホナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙ
ｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオ
キシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基である。

【００３８】ここで、前記一般式（１）乃至一般式
（３）より選択される側鎖構造がスチレン誘導体構成単
位に連結しているものの好ましい構造としては下記一般
式（５）で表されるものが挙げられる。

【００３９】

【化６】

【００４０】前記一般式（５）中、Ｒ¹⁹は、水素原子、
または、炭素原子数１〜５のアルキル基を表す。また、
Ｒ²⁰〜Ｒ²⁴は、それぞれ独立に１価の有機基を表し、少
なくとも１つは前記一般式（１）、一般式（２）、また
は一般式（３）で表される構造を有するものである。こ
こで、一般式（１）乃至一般式（３）から選択される有
機基以外の１価の有機基としては前記一般式（４）にお
けるＲ¹⁴〜Ｒ¹⁸と同義のものが挙げられる。

【００４１】ここで、スチレン誘導体構成単位の側鎖に
前記一般式（１）乃至一般式（３）より選択される不飽
和基を導入する方法としては、以下の方法が挙げられる
が、これに限定されるものではない。

【００４２】合成法１）下記一般式（６）で表されるラ
ジカル重合性化合物を１種以上を共重合させるか、ある
いは一般式（６）で表されるラジカル重合性化合物を１
種以上と他の、即ち前記のような基を有さないラジカル
重合性化合物の１種以上と、を通常のラジカル重合法に
よって共重合し、所望の高分子化合物の前駆体を合成し
た後に、塩基を用いてプロトンを引き抜き、Ｚを脱離さ
せて所望の高分子化合物を得る方法。高分子化合物前駆
体の製造には、一般的に公知の懸濁重合法あるいは溶液
重合法などを適用することができる。その共重合体の構
成としては、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グ
ラフト共重合体等のいずれであってもよい。

【００４３】

【化７】

【００４４】前記一般式（６）中、Ａｒは置換基を有し
ても良いスチリル基、α−メチルスチリル基を表す。Ｚ
は、アニオン性脱離基を表す。Ｑは、酸素原子、−ＮＨ
−、または−ＮＲ⁴−を表す。Ｒ⁴は水素原子または置換
基を有しても良いアルキル基を表す。Ａは２価の有機連
結基を表す。ここで用い得る一般式（６）で表されるラ
ジカル重合性化合物としては、下記の化合物を例として
挙げることできるがこれらに限定されるものではない。

【００４５】

【化８】

【００４６】プロトンの引き抜きに用いられる塩基とし
ては、無機化合物、有機化合物のどちらを使用しても良
い。好ましい無機化合物塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、
有機化合物塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナト
リウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドのような金
属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソ
プロピルエチルアミンのような有機アミン化合物等が挙
げられる。

【００４７】合成法２）官能基を有するラジカル重合性
化合物を１種以上を共重合させるか、あるいは官能基を
有するラジカル重合性化合物を１種以上と他の、即ち前
記のような基を有さないラジカル重合性化合物の１種以
上と、を通常のラジカル重合法によって共重合し幹高分
子化合物（主鎖を構成する高分子化合物）を合成した後
に、重合させて幹高分子化合物を合成した後に、側鎖官
能基と下記一般式（１Ｂ）、又は、前記一般式（２）で
表される構造を有する低分子化合物とを反応させて所望
の高分子化合物を得る方法。幹高分子化合の製造には、
一般的に公知の懸濁重合法あるいは溶液重合法などを適
用することができる。その共重合体の構成としては、ブ
ロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体
等のいずれであってもよい。

【００４８】

【化９】

【００４９】前記一般式（１Ｂ）中、Ｒ^l〜Ｒ³は前記一
般式（１）におけるのと同義である。官能基を有するラ
ジカル重合性化合物の官能基の例としては、水酸基、カ
ルボキシル基、カルボン酸ハライド基、カルボン酸無水
物基、アミノ基、ハロゲン化アルキル基、イソシアネー
ト基、エポキシ基、オキサゾリン基、オキシム基等が挙
げられる。これら官能基を有するラジカル重合性化合物
としては、４−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメ
チルスチレン、４−（２−ヒドロキシエチル）スチレ
ン、４−クロロメチルスチレン、４−カルボキシルスチ
レン、４−アミノスチレン、４−メチルアミノスチレ
ン、等が挙げられる。

【００５０】一般式（１Ｂ）で表される基を有する化合
物の例としては、２−ヒドロキシルエチルアクリレー
ト、２−ヒドロキシルエチルメタクリレート、４−ヒド
ロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタ
クリレート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸ク
ロリド、メタクリル酸クロリド、メタクリル酸無水物、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−アミノエチルメタクリレート、
２−クロロエチルメタクリレート、３−ブロモプロピル
アクリレート、６−ブロモヘキシルアクリレート、３−
ブロモプロピルメタクリレート、６−ブロモヘキシルメ
タクリレート、２−イソシアン酸エチルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、等が挙げられる。

【００５１】本発明に係る一般式（２）で示される基を
側鎖に有する特定アルカリ可溶性高分子化合物は、下記
に示す３）、４）の合成法の少なくとも１つを取ること
により製造することできる。 合成法３）一般式（２）で表されるより不飽和基と、該
不飽和基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不
飽和基とを有するラジカル重合性化合物を１種以上重合
させて、必要に応じて他のラジカル重合性化合物と共重
合さて、高分子化合物を得る方法。合成法３）に用いら
れる一般式（２）で表されるより不飽和基と、該不飽和
基よりもさらに付加重合性に富んだエチレン性不飽和基
とを有するラジカル重合性化合物としては、４−アリロ
キシスチレン、４−（２−アリロキシ）エチルスチレ
ン、３−アリロキシメチルスチレン、４−（Ｎ−アリ
ル）アミノスチレン等が例として挙げられる。

【００５２】合成法４）官能基を有するラジカル重合性
化合物を１種以上重合させて高分子化合物を合成した後
に、側鎖官能基と一般式（２Ｂ）で表される構造を有す
る化合物を反応させて導入する方法。

【００５３】

【化１０】

【００５４】官能基を有するラジカル重合性化合物を１
種以上重合させて得られる高分子化合物の例としては、
前述の合成法２）で示した例が挙げられる。合成法４）
に用いられる一般式（２Ｂ）で表される構造を有する化
合物としては、アリルブロミド、アリルアルコール、ア
リルアミン、ジアリルアミン、２−アリロキシエチルア
ルコール、２−クロロ−１−ブテン、アリルイソシアネ
ート等が例として挙げられる。

【００５５】本発明に係る一般式（３）で示される基を
側鎖に有する特定アルカリ可溶性高分子化合物は、下記
に示す５）の合成法により製造することできる。 合成法５）官能基を有するラジカル重合性化合物を１種
以上重合させて高分子化合物を合成した後に、側鎖官能
基と一般式（３Ｂ）で表される構造を有する化合物を反
応させて導入する方法。

【００５６】

【化１１】

【００５７】官能基を有するラジカル重合性化合物を１
種以上重合させて得られる高分子化合物の例としては、
前述の合成法２）で示した例が挙げられる。合成法５）
に用いられる一般式（３Ｂ）で表される構造を有する化
合物としては、２−ヒドロキシエチルモノビニルエーテ
ル、４−ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ジエチ
レングリコールモノビニルエーテル、２−クロロエチル
ビニルエーテル、１−アミノエチルビニルエーテル、、
４−ヒドロキシスチレン、３−ヒドロキシメチルスチレ
ン、４−（２−ヒドロキシエチル）スチレン、４−クロ
ロメチルスチレン、４−カルボキシルスチレン、４−ア
ミノスチレン、４−メチルアミノスチレン等が例として
挙げられる。また、一般式（１）〜（３）で表される側
鎖「炭素−炭素二重結合」を有する構成単位は、一般式
（５）で表されるスチレン誘導体構成単位以外のものを
含んでもよい。具体的には特願２０００−２４９５６９
記載のものが挙げられる。

【００５８】これら製造方法（合成法）は、いづれかひ
とつを行うか、または、それぞれ組み合わせて特定アル
カリ可溶性高分子を得てもよい。得られた特定アルカリ
可溶性高分子は本発明の画像記録材料中に、１種あるい
は２種以上含有することができる。また、「炭素−炭素
二重結合」の含有量は、高分子化合物１グラムあたりの
当量数として表すと、１．５ｍｅｑ／ｇ（ミリモル当
量）以上が好ましく、特に１．５〜７．０ｍｅｑ／ｇが
好ましい。１．５ｍｅｑ／ｇを下回ると、硬化性が不足
し、十分な画像強度が得られない。なお、７．０ｍｅｑ
／ｇを超えると、保存安定性が低下する傾向がある。

【００５９】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子
は、ガラス転移温度を高める目的で、側鎖に少なくとも
１つのアミド基を有することが好ましい。また、このよ
うな側鎖アミド基は、耐刷性向上と非画像部除去性の観
点からも有効である。好ましい側鎖アミド基は、下記一
般式（７）で表される。

【００６０】

【化１２】

【００６１】Ｒ²⁵、Ｒ²⁶は、それぞれ独立に１価の有機
基を表す。好ましくは、水素原子、それぞれ置換基を有
していてもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、脂環式基を表し、Ｒ²⁵と
Ｒ²⁶が互いに結合して環構造を形成してもよい。

【００６２】一般式（７）中、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶で表されるア
ルキル基としては炭素原子数が１から２０までの直鎖
状、分岐状、または環状のアルキル基をあげることがで
き、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルへキシル基、２−メチルへキシル基、シクロ
へキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を
あげることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。

【００６３】上記アルキル基としては、置換基とアルキ
レン基との結合により置換アルキル基を構成していても
よい。このような置換アルキル基の置換基としては、水
素原子を除く一価の非金属原子団からなる基が用いら
れ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂ
ｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリ
ールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、ア
ミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルア
ミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシル
オキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、
アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、
Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウ
レイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−
アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−
Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリー
ルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−
ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル
−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−ア
ルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルア
ミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミ
ノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミ
ノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコ
キシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバ
モイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルカルバモイル基、

【００６４】Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
カルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールス
ルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホ
ニル基、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基
（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル
基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、
Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキル
スルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイ
ル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基（−Ｐ
Ｏ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）₂：ａｌｋｙｌ＝アルキル基、以下同）、ジアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂：ａｒｙｌ＝アリ
ール基、以下同）、アルキルアリールホスホノ基（−Ｐ
Ｏ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホス
ホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役
塩基基（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以
後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノ
オキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキル
アリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）
（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−Ｏ
ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、
アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその
共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称
す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基等があげられ
る。

【００６５】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホス
ホナトフェニル基などをあげることができる。

【００６６】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル
基、２−クロロ−１−エテニル基、等があげられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル
基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
あげられる。

【００６７】上述のアシル基（Ｒ⁰¹ＣＯ−）におけるＲ
⁰¹としては、水素原子、ならびに上記のアルキル基、ア
リール基を挙げることができる。これらの置換基のう
ち、より好ましいものとしては、ハロゲン原子（−Ｆ、
−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ
基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリール
カルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、
アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アル
キルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−
アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、ス
ルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，
Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルフ
ァモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイ
ル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ
基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、
アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリ
ールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキ
シ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。ヘテロ
環基としては、ピリジル基、ピペリジニル基等が挙げら
れる。シリル基としてはトリメチルシリル基等が挙げら
れる。

【００６８】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものをあげることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基をあげることができる。このような置換基とアルキ
レン基を組み合わせることで得られる置換アルキル基
の、好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル
基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブト
キシメチル基、ｓ−ブトキシブチル基、メトキシエトキ
シエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル
基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジ
ルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、Ｎ−
アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチ
ルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエ
チル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピ
ル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチ
ル基、Ｎ−シクロへキシルカルバモイルオキシエチル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチ
ルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピ
ル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カ
ルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、ア
リルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカル
ボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカ
ルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル
メチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチ
ル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイ
ルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、ス
ルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、
Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ
−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホ
スホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホス
ホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチル
ホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリル
ホスホノへキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホ
スホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、
ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１
−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル
基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル
基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチル
プロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル
基、３−ブチニル基、等をあげることができる。

【００６９】次に、上記一般式（７）中、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶で
表される、アリール基としては１個から３個のベンゼン
環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環
が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例と
しては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェ
ナントリル基、、インデニル基、アセナフテニル基、フ
ルオレニル基等をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００７０】これらのアリール基は、置換基がアリール
基に結合した置換アリール基を構成し得る。置換アリー
ル基は、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基
として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが
用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキ
ル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基
における置換基として示したものをあげることができ
る。このような、置換アリール基の好ましい具体例とし
ては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル
基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ト
リフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、ア
リルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチル
チオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノ
フェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフ
ェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキ
シフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシ
フェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル
基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル
基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモ
イルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メ
トキシフェニル）力ルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−ト
リルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホ
スホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノ
フェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノ
フェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホ
スホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリ
ルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、
アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、
２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル
基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニル
フェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフ
ェニル基、等をあげることができる。

【００７１】上記一般式（７）中、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶で表され
るアルケニル基、置換アルケニル基（−Ｃ（Ｒ⁰²）＝Ｃ
（Ｒ⁰³）（Ｒ⁰⁴））、又はアルキニル基、置換アルキニ
ル基（−Ｃ≡Ｃ（Ｒ⁰⁵））としては、Ｒ⁰²、Ｒ⁰³、
Ｒ⁰⁴、Ｒ⁰⁵が一価の非金属原子団からなる基のものが使
用できる。好ましいＲ⁰²、Ｒ⁰³、Ｒ⁰⁴、Ｒ⁰⁵の例として
は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基ならびに置換アリール基を挙げること
ができる。これらの具体例としては、前述の例として示
したものを挙げることができる。Ｒ⁰²、Ｒ⁰³、Ｒ⁰⁴、Ｒ
⁰⁵のより好ましい基としては、水素原子、ハロゲン原子
ならびに炭素原子教１から１０までの直鎖状、分岐状、
環状のアルキル基を挙げることができる。このようなア
ルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換ア
ルキニル基の好ましい具体例としては、ビニル基、１−
プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１
−ヘキセニル基、１−オクテニル基、１−−メチル−１
−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−
メチル−１−ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル
基、２−クロロ−１−エテニル基、エチニル基、１−プ
ロピニル基、１−ブチニル基、フェニルエチニル基を挙
げることができる。

【００７２】また、上記一般式（７）中、Ｒ²⁵とＲ²⁶と
が互いに結合して形成される環としては、モルホリン、
ピペラジン、ピロリジン、ピロール、インドリン等が挙
げられる。これらは、さらに前述のような置換基で置換
されていてもよい。なかでも脂環を形成する場合が好ま
しい。

【００７３】一般式（７）中、特に好ましいＲ²⁵、Ｒ²⁶
としては、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、および、Ｒ²⁵とＲ²⁶とで脂環を形成したものが
挙げられる。

【００７４】前記一般式（７）で表されるアミド基を側
鎖に導入する方法としては、このようなアミド基を有す
る重合性化合物を、前述した特定アルカリ可溶性高分子
の合成時に、通常のラジカル重合法によって共重合させ
ればよい。このような一般式（７）で表されるアミド基
を側鎖に有する重合性化合物としては、アクリルアミド
類、またはメタクリルアミド類などが挙げられ、具体例
としては、アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミ
ド等のアクリルアミド類（例えば、Ｎ−メチルアクリル
アミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルアク
リルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、モルホ
リルアクリルアミド、ピペリジルアクリルアミド、Ｎ−
ブチルアクリルアミド、Ｎ−sec−ブチルアクリルアミ
ド、Ｎ−t-ブチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリ
ルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フ
ェニルアクリルアミド、Ｎ−ナフチルアクリルアミド、
Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、Ｎ−アリルアクリルアミド、Ｎ
−プロパギルアクリルアミド、４−ヒドロキシフェニル
アクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチ
ルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−
ジブチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ−sec−ブチルア
クリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ−t-ブチルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジヘキシルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジシクロ
ヘキシルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−フェニルアクリルア
ミド、Ｎ、Ｎ−ジヒドロキシエチルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジアリルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジプロパギ
ルアクリルアミド、

【００７５】メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリ
ルアミド等のメタクリルアミド類（例えば、Ｎ−メチル
メタクリルアミド、Ｎ−エチルメタクリルアミド、Ｎ−
プロピルメタクリルアミド、Ｎ−イソプロピルメタクリ
ルアミド、モルホリルメタクリルアミド、ピペリジルメ
タクリルアミド、Ｎ−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−se
c−ブチルメタクリルアミド、Ｎ−t-ブチルメタクリル
アミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘ
キシルメタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミ
ド、Ｎ−ナフチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメ
チルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリ
ルアミド、Ｎ−アリルメタクリルアミド、Ｎ−プロパギ
ルメタクリルアミド、４−ヒドロキシフェニルメタクリ
ルアミド、２−ヒドロキシフェニルメタクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチル
メタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジプロピルメタクリルアミ
ド、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ
−ジブチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ−sec−ブチ
ルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ−t-ブチルメタクリル
アミド、Ｎ、Ｎ−ジヘキシルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ
−ジシクロヘキシルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−フェニ
ルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジヒドロキシエチルメタ
クリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジアリルメタクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジプロパギルメタクリルアミドなどが挙げられ
る。

【００７６】これらアミド基を有する構造単位は、１種
あるいは２種以上用いることができる。また、特定アル
カリ可溶性高分子中、アミド基を有する構造単位の含有
量は、５〜６０モル％が好ましく、１０〜４０モル％が
より好ましい。

【００７７】さらに、本発明に係る特定アルカリ可溶性
高分子は、画像強度などの諸性能を向上する目的で、本
発明の効果を損なわない限りにおいて、前述の特定の官
能基を有するラジカル重合性化合物に加えて、更に他の
ラジカル重合性化合物を共重合させることも好ましい態
様である。

【００７８】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子に
共重合可能なラジカル重合性化合物としては、例えば、
アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、スチ
レン類、アクリロニトリル類、メタクリロニトリル類な
どから選ばれるラジカル重合性化合物が挙げられる。

【００７９】具体的には、例えば、アルキルアクリレー
ト（該アルキル基の炭素原子数は１〜２０のものが好ま
しい）等のアクリル酸エステル類、（具体的には、例え
ば、ベンジルアクリレート、４−ビフェニルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、sec-ブチルアクリレート、t-
ブチルアクリレート、４−t-ブチルフェニルアクリレー
ト、４−クロロフェニルアクリレート、ペンタクロロフ
ェニルアクリレート、４−シアノベンジルアクリレー
ト、シアノメチルアクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、２−エトキシエチルアクリレート、エチルアク
リレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ヘプチル
アクリレート、ヘキシルアクリレート、イソボロニルア
クリレート、イソプロピルアクリレート、メチルアクリ
レート、３，５−ジメチルアダマンチルアクリレート、
２−ナフチルアクリレート、ネオペンチルアクリレー
ト、オクチルアクリレート、フェネチルアクリレート、
フェニルアクリレート、プロピルアクリレート、トリル
アクリレート、アミルアクリレート、テトラヒドロフル
フリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアク
リレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレート、アリ
ルアクリレート、２−アリロキシエチルアクリレート、
プロパギルアクリレートなど）

【００８０】アルキルメタクリレート（該アルキル基の
炭素原子は１〜２０のものが好ましい）等のメタクリル
酸エステル類（例えば、ベンジルメタクリレート、４−
ビフェニルメタクリレート、ブチルメタクリレート、se
c-ブチルメタクリレート、t-ブチルメタクリレート、４
−t-ブチルフェニルメタクリレート、４−クロロフェニ
ルメタクリレート、ペンタクロロフェニルメタクリレー
ト、４−シアノフェニルメタクリレート、シアノメチル
メタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−
エトキシエチルメタクリレート、エチルメタクリレー
ト、２−エチルヘキシルメタクリレート、ヘプチルメタ
クリレート、ヘキシルメタクリレート、イソボロニルメ
タクリレート、イソプロピルメタクリレート、メチルメ
タクリレート、３，５−ジメチルアダマンチルメタクリ
レート、２−ナフチルメタクリレート、ネオペンチルメ
タクリレート、オクチルメタクリレート、フェネチルメ
タクリレート、フェニルメタクリレート、プロピルメタ
クリレート、トリルメタクリレート、アミルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピ
ルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、５−ヒド
ロキシペンチルメタクリレート、アリルメタクリレー
ト、２−アリロキシエチルメタクリレート、プロパギル
メタクリレートなど

【００８１】スチレン、アルキルスチレン等のスチレン
類、（例えば、メチルスチレン、ジメチルスチレン、ト
リメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレ
ン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシル
スチレン、シクロへキシルスチレン、デシルスチレン、
ベンジルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフルオ
ルメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキ
シメチルスチレンなど）、アルコキシスチレン（例えば
メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチルスチレ
ン、ジメトキシスチレンなど）、ハロゲンスチレン（例
えばクロルスチレン、ジクロルスチレン、トリクロルス
チレン、テトラクロルスチレン、ペンタクロルスチレ
ン、ブロムスチレン、ジブロムスチレン、ヨードスチレ
ン、フルオルスチレン、トリフルオルスチレン、２−ブ
ロム−４−トリフルオルメチルスチレン、４−フルオル
−３−トリフルオルメチルスチレンなど）、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等が挙げられる。

【００８２】これらラジカル重合性化合物のうち、好適
に使用されるのは、メタクリル酸エステル類、アクリル
アミド類、メタクリルアミド類、スチレン類であり、特
に好適に使用されるのは、ベンジルメタクリレート、t-
ブチルメタクリレート、４−t-ブチルフェニルメタクリ
レート、ペンタクロロフェニルメタクリレート、４−シ
アノフェニルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、イソボロニルメタクリレート、イソプロ
ピルメタクリレート、メチルメタクリレート、３，５−
ジメチルアダマンチルメタクリレート、２−ナフチルメ
タクリレート、ネオペンチルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピル
メタクリレート、アリルメタクリレート、

【００８３】アクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミ
ド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、モルホリルアク
リルアミド、ピペリジルアクリルアミド、Ｎ−t-ブチル
アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、
Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ナフチルアクリルア
ミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ヒド
ロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−アリルアクリルアミ
ド、４−ヒドロキシフェニルアクリルアミド、２−ヒド
ロキシフェニルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアク
リルアミド、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジ−t-ブチルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジシク
ロヘキシルアクリルアミド、Ｎ、Ｎ−フェニルアクリル
アミド、Ｎ、Ｎ−ジヒドロキシエチルアクリルアミド、
Ｎ、Ｎ−ジアリルアクリルアミド、

【００８４】メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリル
アミド、Ｎ−イソプロピルメタクリルアミド、モルホリ
ルメタクリルアミド、ピペリジルメタクリルアミド、Ｎ
−t-ブチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルメタ
クリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−ナ
フチルメタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド、
Ｎ−アリルメタクリルアミド、４−ヒドロキシフェニル
メタクリルアミド、２−ヒドロキシフェニルメタクリル
アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−
ジイソプロピルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ−t-ブチ
ルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジシクロヘキシルメタク
リルアミド、Ｎ、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ、
Ｎ−ジヒドロキシエチルメタクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジ
アリルメタクリルアミド

【００８５】スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチ
レン、トリメチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブ
チルスチレン、シクロへキシルスチレン、クロルメチル
スチレン、トリフルオルメチルスチレン、エトキシメチ
ルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチ
レン、４−メトキシ−３−メチルスチレン、クロルスチ
レン、ジクロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラ
クロルスチレン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレ
ン、ジブロムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチ
レン、トリフルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフ
ルオルメチルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオ
ルメチルスチレン

【００８６】これらを１種あるいは２種以上用いること
ができ、特定アルカリ可溶性高分子中、これら共重合成
分の好適に使用される含有量は、０〜９０モル％であ
り、特に好ましくは、０〜６０モル％である。６０モル
％を越えると硬化膜強度が不足する。

【００８７】本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子に
は、非画像部除去性などの諸性能を向上させるために、
酸基を有するラジカル重合性化合物を共重合させてもよ
い。このような酸基としては、例えば、カルボン酸、ス
ルホン酸、リン酸基、フェノール性水酸基などがあり、
特に好ましいものは、カルボン酸、フェノール性水酸基
である。カルボン酸を含有するラジカル重合性化合物と
しては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン
酸、クロトン酸、インクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カ
ルボキシルスチレンなどがあり、特に好ましいものは、
アクリル酸、メタクリル酸、ｐ−カルボキシルスチレン
である。フェノール性水酸基を有するラジカル重合性化
合物としては、４−ヒドロキシスチレンが挙げられる。
これらを１種あるいは１種以上用いることができ、これ
ら共重合成分の好適に使用される含有量は、０〜５０モ
ル％であり、特に好ましくは、アルカリ水現像による画
像強度ダメージ抑制という観点から、０〜４０モル％で
ある。４０モル％を越えるとアルカリ水現像による画像
強度ダメージを受けやすくなる。

【００８８】このような高分子化合物を合成する際に用
いられる溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−
２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル
などが挙げられる。これらの溶媒は単独あるいは２種以
上混合してもよい。

【００８９】本発明の画像記録材料に用いられる高分子
化合物は、重量平均分子量で、好ましくは６，０００以
上であり、さらに好ましくは、５万〜２０万の範囲であ
る。６，０００を下回るとガラス転移温度が低くなり、
画像強度が不足するため、好ましくない。２０万を越え
ると現像性が低下する。また、本発明に係る特定アルカ
リ可溶性高分子中には、未反応の単量体を含んでいても
よい。この場合、単量体の高分子化合物中に占める割合
は、１５重量％以下が望ましい。

【００９０】本発明に係る高分子化合物は単独で用いて
も、２種以上を混合して用いてもよい。この場合、本発
明に係る（Ａ）特定アルカリ可溶性高分子に包含されな
い他の高分子化合物を含んでいてもよく、そのような高
分子化合物は、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子
中、８０重量％以下であることが好ましく、５０重量％
以下であることがより好ましい。

【００９１】本発明の画像記録材料中に含まれる（Ａ）
特定アルカリ可溶性高分子の含有量は固形分で約５〜９
５重量％であり、好ましくは、約１０〜８５重量％であ
る。添加量が５重量％未満の場合は、画像形成した際、
画像部の強度が不足する。また添加量が９５重量％を越
える場合は、画像形成されない。

【００９２】＜（Ｂ）光熱変換剤＞本発明の画像記録材
料は、赤外線を発するレーザにより記録を行うことか
ら、光熱変換剤を用いることが必須である。光熱変換剤
は、所定の波長の光を吸収し、熱に変換する機能を有し
ている。この際発生した熱により、後述する（Ｃ）成
分、即ちこの（Ｂ）光熱変換剤が吸収し得る波長の光の
露光によりラジカルを生成する化合物が分解し、ラジカ
ルを発生する。

【００９３】本発明において使用される光熱変換剤とし
ては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収し、熱
を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用
いることができる。本発明において使用される好ましい
光熱変換剤は、入手容易な高出力レーザーへの適合性の
観点から波長７６０ｎｍから１２００ｎｍに吸収極大を
有する赤外線吸収性染料又は顔料である。

【００９４】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。

【００９５】好ましい染料としては、例えば、特開昭５
８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開
昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等
に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６
９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１
９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５
８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特
開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、
特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１
１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。

【００９６】また、米国特許第５，１５６，９３８号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベ
ンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５
号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同
５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９
−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４
６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載
のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３
５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。

【００９７】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。

【００９８】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式（ａ）〜一般式（ｅ）で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明に係る重合性
組成中で使用した場合に、高い重合活性を与え、且つ、
安定性、経済性に優れるため最も好ましい。

【００９９】

【化１３】

【０１００】一般式（ａ）中、Ｘ¹は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−ＮＰｈ₂、Ｘ²−Ｌ¹または以下に示す基を
表す。ここで、Ｘ²は酸素原子または、硫黄原子を示
し、Ｌ¹は、炭素原子数１〜１２の炭化水素基、ヘテロ
原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数１
〜１２の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子と
は、Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅを示す。

【０１０１】

【化１４】

【０１０２】Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、炭素原
子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存
安定性から、Ｒ¹およびＲ²は、炭素原子数２個以上の炭
化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ¹とＲ²とは
互いに結合し、５員環または６員環を形成していること
が特に好ましい。

【０１０３】Ａｒ¹、Ａｒ²は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環およびナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Ｙ¹、Ｙ²は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、硫黄原子または炭素原子数１２個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴は、それぞれ同
じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い
炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置
換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、
カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ
⁷およびＲ⁸は、それぞれ同じでも異なっていても良く、
水素原子または炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示
す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。ま
た、Ｚa^-は、対アニオンを示す。ただし、Ｒ¹〜Ｒ⁸のい
ずれかにスルホ基が置換されている場合は、Ｚa^-は必要
ない。好ましいＺa^-は、記録層塗布液の保存安定性か
ら、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
およびスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩
素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、お
よびアリールスルホン酸イオンである。

【０１０４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平１１−３１０６２
３号明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特
願２０００−２２４０３１号明細書の段落番号［００１
２］〜［００３８］、特願２０００−２１１１４７号明
細書の段落番号［００１２］〜［００２３］に記載され
たものを挙げることができる。

【０１０５】

【化１５】

【０１０６】

【化１６】

【０１０７】

【化１７】

【０１０８】

【化１８】

【０１０９】前記一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数
７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Ｚb⁺は対カチオンを示す。好ましい対カチ
オンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニ
ウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチ
オン（Ｎｉ⁺、Ｋ⁺、Ｌｉ⁺）などが挙げられる。Ｒ⁹〜Ｒ
¹⁴及びＲ¹⁵〜Ｒ²⁰は互いに独立に水素原子又はハロゲン
原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素
原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ⁹〜Ｒ¹⁴及び
Ｒ¹⁵〜Ｒ²⁰がすべて水素原子を表すものが入手の容易性
と効果の観点から好ましい。

【０１１０】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【０１１１】

【化１９】

【０１１２】

【化２０】

【０１１３】前記一般式（ｃ）中、Ｙ³及びＹ⁴は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。
Ｒ²¹〜Ｒ²⁴及びＲ²⁵〜Ｒ²⁸は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚ
a^-は対アニオンを表し、前記一般式（ａ）におけるＺa^-
と同義である。

【０１１４】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【０１１５】

【化２１】

【０１１６】

【化２２】

【０１１７】前記一般式（ｄ）中、Ｒ²⁹ないしＲ³¹は各
々独立に、水素原子、アルキル基、またはアリール基を
示す。Ｒ³³およびＲ³⁴は各々独立に、アルキル基、置換
オキシ基、またはハロゲン原子を示す。ｎおよびｍは各
々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ²⁹とＲ³⁰、または
Ｒ³¹とＲ³²はそれぞれ結合して環を形成してもよく、ま
たＲ²⁹および／またはＲ³⁰はＲ³³と、またＲ³¹および／
またはＲ³²はＲ³⁴と結合して環を形成しても良く、さら
に、Ｒ³³或いはＲ³⁴が複数存在する場合に、Ｒ ³³同士あ
るいはＲ³⁴同士は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｘ²およびＸ³は各々独立に、水素原子、アルキル基、ま
たはアリール基であり、Ｘ²およびＸ³の少なくとも一方
は水素原子またはアルキル基を示す。Ｑは置換基を有し
ていてもよいトリメチン基またはペンタメチン基であ
り、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚ
c^-は対アニオンを示し、前記一般式（ａ）におけるＺa^-
と同義である。

【０１１８】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【０１１９】

【化２３】

【０１２０】

【化２４】

【０１２１】前記一般式（ｅ）中、Ｒ³⁵〜Ｒ⁵⁰はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Ｍは２つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、IIＡ、II
IＢ、IVＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。

【０１２２】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。

【０１２３】

【化２５】

【０１２４】本発明において光熱変換剤として使用され
る顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協
会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ
出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出
版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられ
る。

【０１２５】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。

【０１２６】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【０１２７】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。

【０１２８】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。

【０１２９】本発明においては、これらの光熱変換剤は
１種のみを用いてもよく、２種以上を併用することもで
きるが、感度の観点から、一般式（ａ）で示される色素
が最も好ましく、なかでも、ジアリールアミノ基を有す
るシアニン色素が最も好ましい。

【０１３０】これらの光熱変換剤は、感熱性組成物中
に、全固形分の０．１〜２０重量％添加されることが好
ましい。この範囲より少なすぎる場合には露光による特
性変化の感度が低くなり、感光性が充分に得られない傾
向があり、多すぎる場合には膜の均一性や強度が低下す
る傾向にあるため、いずれも好ましくない。これらの光
熱変換剤は、他の成分と同一の層に添加してもよいし、
別の層を設けそこへ添加してもよいが、ネガ型画像記録
材料を作成した際に、記録層の波長７６０ｎｍ〜１２０
０ｎｍの範囲における吸収極大での光学濃度が、０．１
〜３．０の間にあることが好ましい。この範囲をはずれ
た場合、感度が低くなる傾向がある。光学濃度は前記光
熱変換剤の添加量と記録層の厚みとにより決定されるた
め、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより
得られる。記録層の光学濃度は常法により測定すること
ができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白
色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必
要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成
し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム
等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測
定する方法等が挙げられる。

【０１３１】＜（Ｃ）ラジカル開始剤＞前記光熱変換剤
が吸収することの可能な波長の光の露光によりラジカル
を生成する化合物（ラジカル開始剤）は、前記（Ｂ）光
熱変換剤と組み合わせて用い、光熱変換剤が吸収し得る
波長の光、例えば、赤外線レーザを照射した際にその光
又は熱或いはその双方のエネルギーによりラジカルを発
生し、（Ａ）側鎖に炭素−炭素二重結合を少なくとも１
つ有し、ガラス転移温度が８０℃以上であるアルカリ性
水溶液に可溶な高分子化合物、及び、所望により併用さ
れる後述する（Ｄ）重合性の不飽和基を有するラジカル
重合性化合物の重合を開始、促進させる化合物を指す。

【０１３２】ラジカル開始剤としては、公知の光重合開
始剤、熱重合開始剤などを選択して使用することがで
き、例えば、オニウム塩、トリハロメチル基を有するト
リアジン化合物、過酸化物、アゾ系重合開始剤、アジド
化合物、キノンジアジドなどが挙げられるが、オニウム
塩が高感度であり、好ましい。

【０１３３】本発明において好適に用いられるラジカル
を発生する化合物としては、オニウム塩が挙げられ、具
体的には、ヨードニウム塩、ジアゾニウム塩、スルホニ
ウム塩である。これらのオニウム塩は酸発生剤としての
機能も有するが、後述するラジカル重合性化合物と併用
する際には、ラジカル重合の開始剤として機能する。本
発明において好適に用いられるオニウム塩は、下記一般
式（Ｉ）〜（III）で表されるオニウム塩である。

【０１３４】

【化２６】

【０１３５】式（Ｉ）中、Ａｒ¹¹とＡｒ¹²は、それぞれ
独立に、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以
下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有す
る場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニト
ロ基、炭素原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数
１２個以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下
のアリールオキシ基が挙げられる。Ｚ^11-はハロゲンイ
オン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオン、テトラフル
オロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、及びスルホン酸イオンからなる群より選択される対
イオンを表し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフ
ルオロフォスフェートイオン、及びアリールスルホン酸
イオンである。

【０１３６】式（II）中、Ａｒ²¹は、置換基を有してい
ても良い炭素原子数２０個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下
のアルコキシ基、炭素原子数１２個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数１２個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数１２個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数１
２個以下のアリールアミノ基又は、炭素原子数１２個以
下のジアリールアミノ基が挙げられる。Ｚ^21-はＺ^11-と
同義の対イオンを表す。

【０１３７】式（III）中、Ｒ³¹、Ｒ³²及びＲ³³は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有してい
ても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数１２個以下のアルキル基、炭素原子数１２個以下
のアルコキシ基、又は炭素原子数１２個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Ｚ^31-はＺ^11-と同義の対イオン
を表す。

【０１３８】本発明において、好適に用いることのでき
るオニウム塩の具体例としては、本願出願人が先に提案
した特願平１１−３１０６２３号明細書の段落番号［０
０３０］〜［００３３］に記載されたものや特願２００
０−１６０３２３号明細書の段落番号［００１５］〜
［００４６］に記載されたものを挙げることができる。

【０１３９】本発明において用いられるオニウム塩は、
極大吸収波長が４００ｎｍ以下であることが好ましく、
さらに３６０ｎｍ以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。

【０１４０】これらのオニウム塩は、記録層塗布液の全
固形分に対し０．１〜５０重量％、好ましくは０．５〜
３０重量％、特に好ましくは１〜２０重量％の割合で記
録層塗布液中に添加することができる。添加量が０．１
重量％未満であると感度が低くなり、また５０重量％を
越えると印刷時非画像部に汚れが発生する。これらのオ
ニウム塩は、１種のみを用いても良いし、２種以上を併
用しても良い。また、これらのオニウム塩は他の成分と
同一の層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加
してもよい。

【０１４１】＜（Ｄ）ラジカル重合性化合物＞本発明の
画像記録材料には、感度、画像形成性を向上させる目的
で、ラジカル重合性化合物を併用することができる。こ
こで、併用可能なラジカル重合性化合物は、少なくとも
一個のエチレン性不飽和二重結合を有するラジカル重合
性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくと
も１個、好ましくは２個以上有する化合物から選ばれ
る。このような化合物群は当該産業分野において広く知
られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定
なく用いる事ができる。これらは、例えばモノマー、プ
レポリマー、すなわち２量体、３量体及びオリゴマー、
又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化
学的形態をもつ。

【０１４２】モノマー及びその共重合体の例としては、
不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸など）や、そのエステル類、アミド類があげられ、
好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキ
シル基や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を
有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能も
しくは多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反
応物、単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮
合反応物等も好適に使用される。

【０１４３】また、イソシアナート基やエポキシ基等の
親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又は
アミド類と、単官能もしくは多官能のアルコール類、ア
ミン類及びチオール類との付加反応物、さらに、ハロゲ
ン基やトシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和
カルボン酸エステル又はアミド類と、単官能もしくは多
官能のアルコール類、アミン類及びチオール類との置換
反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽
和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン
等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。

【０１４４】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルであるラジカル重合性化合物の具体
例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリ
コールジアクリレート、トリエチレングリコールジアク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テ
トラメチレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシ
プロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シ
クロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエ
リスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、
ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ
（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリ
エステルアクリレートオリゴマー等がある。

【０１４５】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【０１４６】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【０１４７】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。

【０１４８】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。

【０１４９】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。

【０１５０】その他のエステルの例として、例えば、特
公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４７３３４、特開
昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アルコール系エステ
ル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭５９−５２４
１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族系骨格を有す
るもの、特開平１−１６５６１３記載のアミノ基を含有
するもの等も好適に用いられる。

【０１５１】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。

【０１５２】その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものをあげる事ができる。

【０１５３】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記式（VI）で示される水酸基を含有するビニ
ルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【０１５４】 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ³⁴）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ³⁵）ＯＨ （VI）

【０１５５】一般式（VI）中、Ｒ³⁴及びＲ³⁵は、それぞ
れ独立に水素原子又はメチル基を示す。

【０１５６】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号記載のエチ
レンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適
である。

【０１５７】さらに、特開昭６３−２７７６５３号、特
開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号
に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を
有するラジカル重合性化合物類を用いても良い。

【０１５８】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号、各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートをあげることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等もあげることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１
９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹
介されているものも使用することができる。

【０１５９】ラジカル重合性化合物は単独で用いても２
種以上併用してもよい。これらのラジカル重合性化合物
について、どの様な構造を用いるか、単独で使用するか
併用するか、添加量はどうかといった、使用方法の詳細
は、最終的な記録材料の性能設計にあわせて、任意に設
定できる。

【０１６０】画像記録材料中のラジカル重合性化合物の
配合比に関しては、多い方が感度的に有利であるが、多
すぎる場合には、好ましくない相分離が生じたり、画像
記録層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、記録
層成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液か
らの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点か
ら、ラジカル重合性化合物の好ましい配合比は、多くの
場合、組成物全成分に対して５〜８０重量％、好ましく
は２０〜７５重量％である。

【０１６１】本発明において、前記（Ａ）特定アルカリ
可溶性高分子と、（Ｄ）ラジカル重合性化合物とを併用
する場合、（Ａ）成分と（Ｄ）成分の比率は、重量比
で、１：０．０５〜１：３の範囲で併用され、好ましく
は１：０．１〜１：２の範囲、さらに好ましくは１：
０．３〜１：１．５の範囲である。

【０１６２】ラジカル重合性化合物の使用法は、酸素に
対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面接着性等の観点から、適切な構造、配合、添加
量を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上
塗りといった層構成・塗布方法も実施し得る。

【０１６３】＜その他の成分＞本発明の画像記録材料に
は、さらに必要に応じてこれら以外に種々の化合物を添
加してもよい。例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染
料を画像の着色剤として使用することができる。具体的
には、オイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０
３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイ
ルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０
５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチル
バイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、
マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブル
ー（ＣＩ５２０１５）等、及び特開昭６２−２９３２４
７号に記載されている染料を挙げることができる。ま
た、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラ
ック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができ
る。

【０１６４】これらの着色剤は、画像形成後、画像部と
非画像部の区別がつきやすいので、添加する方が好まし
い。なお、添加量は、記録層塗布液全固形分に対し、
０．０１〜１０重量％の割合である。

【０１６５】また、本発明においては、画像記録材料の
調製中あるいは保存中においてラジカル重合性化合物の
不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添
加することが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハ
イドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチ
ル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニ
トロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム
塩等が挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物
の重量に対して約０．０１重量％〜約５重量％が好まし
い。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止する
ためにベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘
導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で記録層の表面
に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全
組成物の約０．１重量％〜約１０重量％が好ましい。

【０１６６】また、本発明における画像記録材料は、主
として平版印刷版原版の画像記録層を形成するために用
いられるが、そのような画像記録層の現像条件に対する
処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０
号や特開平３−２０８５１４号に記載されているような
非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号、特
開平４−１３１４９号に記載されているような両性界面
活性剤を添加することができる。

【０１６７】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。

【０１６８】両性界面活性剤の具体例としては、アルキ
ルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエ
チル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、
商品名アモーゲンＫ、第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤及び両性界面活性剤の記録
層塗布液中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好
ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【０１６９】さらに、本発明に係る記録層塗布液中に
は、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑
剤が加えられる。例えば、ポリエチレングリコール、ク
エン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチ
ル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸
トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチ
ル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられ
る。

【０１７０】本発明の画像記録材料を使用して平版印刷
版原版を製造するには、通常、画像記録材料の構成成分
を塗布液に必要な各成分とともにを溶媒に溶かして、適
当な支持体上に塗布すればよい。ここで使用する溶媒と
しては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メ
トキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテ
ート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメト
キシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テト
ラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスル
ホキシド、スルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエ
ン、水等を挙げることができるがこれに限定されるもの
ではない。これらの溶媒は単独又は混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。

【０１７１】また塗布、乾燥後に得られる支持体上の記
録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、平
版印刷版原版についていえば一般的に０．５〜５．０ｇ
／ｍ ²が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見か
けの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下す
る。塗布する方法としては、種々の方法を用いることが
できるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプ
レー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができ
る。

【０１７２】本発明に係る記録層塗布液には、塗布性を
良化するための界面活性剤、例えば、特開昭６２−１７
０９５０号に記載されているようなフッ素系界面活性剤
を添加することができる。好ましい添加量は、全記録層
の材料固形分中０．０１〜１重量％、さらに好ましくは
０．０５〜０．５重量％である。

【０１７３】以上のようにして、支持体上に形成された
画像記録層、すなわち感光層膜の軟化温度は、６０℃以
上であることが好ましい。６０℃を下回ると、保存安定
性が低下する。通常、感光層組成物中に、ラジカル重合
性化合物などの低分子成分が存在すると、感光層膜の軟
化温度が低くなるため好ましくないが、ガラス転移温度
が８０℃以上である本発明に係る特定アルカリ可溶性高
分子をバインダーポリマーとして使用することにより、
この軟化温度を６０℃以上に維持することが可能となり
好ましい。なお、感光層膜の軟化温度とは、示差走査熱
量計（ＤＣＳ）や、粘弾性測定器により測定されたもの
とする。

【０１７４】本発明の画像記録材料は、主として、平版
印刷版原版の記録層として使用される。前記平版印刷版
原版は、少なくとも、支持体と、記録層とを有し、必要
に応じて、更に保護層を有する。以下、前記平版印刷版
原版の構成要素である支持体及び保護層について説明す
る。

【０１７５】＜支持体＞本発明の画像記録材料を用いて
平版印刷版原版を形成する場合に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、
例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた
紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プ
ラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等）等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板
などの単一成分のシートであっても、２以上の材料の積
層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミ
ネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィル
ム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が
含まれる。

【０１７６】前記支持体としては、ポリエステルフィル
ム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定
性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ま
しい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及び
アルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板
であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着さ
れたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金
に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量％
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。前記アルミニウム板の厚みは、
およそ０．１〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５〜
０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２〜０．３ｍｍであ
る。

【０１７７】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液等による脱脂処理
が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化
学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラス
ト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることがで
きる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝
酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。ま
た、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているよ
うに両者を組み合わせた方法も利用することができる。

【０１７８】このように粗面化されたアルミニウム板
は、所望により、アルカリエッチング処理、中和処理を
経て、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化
処理を施すことができる。アルミニウム板の陽極酸化処
理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成
する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リ
ン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられ
る。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜
決められる。

【０１７９】陽極酸化の処理条件は、用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、
電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解
時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化
皮膜の量は１．０ｇ／ｍ²以上が好適であるが、より好
ましくは２．０〜６．０ｇ／ｍ²の範囲である。陽極酸
化被膜が１．０ｇ／ｍ²未満であると耐刷性が不十分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は
平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電
気力線の裏回りにより、裏面にも０．０１〜３ｇ／ｍ²
の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。

【０１８０】支持体表面の親水化処理は、上記陽極酸化
処理の後に施されるものであり、従来より知られている
処理法が用いられる。このような親水化処理としては、
米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４
６１号、第３，２８０，７３４号及び第３，９０２，７
３４号公報に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩
（例えば、珪酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法
においては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか、又は電解処理される。他に特公昭３６−２２
０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウ
ム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５
３，４６１号、同第４，６８９，２７２号公報に開示さ
れているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法等
が用いられる。これらの中で、本発明において特に好ま
しい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理につい
て、以下に説明する。

【０１８１】上述の如き処理を施したアルミニウム板の
陽極酸化皮膜を、アルカリ金属珪酸塩が０．１〜３０重
量％、好ましくは０．５〜１０重量％であり、２５℃で
のｐＨが１０〜１３である水溶液に、例えば１５〜８０
℃で０．５〜１２０秒浸漬する。アルカリ金属珪酸塩水
溶液のｐＨが１０より低いと液はゲル化し１３．０より
高いと酸化皮膜が溶解されてしまう。本発明に用いられ
るアルカリ金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸
カリウム、珪酸リチウムなどが使用される。アルカリ金
属珪酸塩水溶液のｐＨを高くするために使用される水酸
化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウムなどがある。なお、上記の処理液にアルカリ
土類金属塩もしくは第IVＢ族金属塩を配合してもよい。
アルカリ土類金属塩としては、硝酸カルシウム、硝酸ス
トロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウムのよう
な硝酸塩や、硫酸塩、塩酸塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸
塩、ホウ酸塩などの水溶性の塩が挙げられる。第IVＢ族
金属塩として、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チ
タンカリウム、蓚酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨ
ウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウ
ム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムなど
を挙げることができる。アルカリ土類金属塩もしくは、
第IVＢ族金属塩は単独又は２以上組み合わせて使用する
ことができる。これらの金属塩の好ましい範囲は０．０
１〜１０重量％であり、更に好ましい範囲は０．０５〜
５．０重量％である。珪酸塩処理により、アルミニウム
板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、イ
ンクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上す
る。

【０１８２】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開
平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特
開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合
物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物から
なる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のう
ち、Ｓｉ（ＯＣＨ₃）₄、Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄、Ｓｉ（Ｏ
Ｃ₃Ｈ₇）₄、Ｓｉ（ＯＣ₄Ｈ₉）₄などの珪素のアルコキシ
化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化
物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。

【０１８３】＜保護層＞本発明の画像記録材料を平版印
刷版原版に用いる場合は、通常、露光を大気中で行うた
め、光重合性組成物を含む画像記録層の上に、さらに、
保護層を設ける事が好ましく、この様な保護層に望まれ
る特性としては、酸素等の低分子化合物の透過性が低
く、露光に用いる光の透過性が良好で、記録層との密着
性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できる
ことであり、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポ
リアクリル酸などのような比較的結晶性に優れた水溶性
高分子化合物を用いることが一般的である。

【０１８４】本発明の画像記録材料においては、皮膜形
成樹脂として、塗膜形成後の膜中溶存酸素量が低く、更
に外部からの酸素遮断性が高い前記特定のポリウレタン
樹脂を用いているため、酸素などの重合阻害による画像
形成性の低下を抑制し得るという利点を有するため、必
ずしもこのような保護層を備えなくてもよいが、さらに
外部からの酸素遮断性を高め、画像形成性、特に、画像
強度を高める目的で上記保護層を備えてもよい。

【０１８５】＜平版印刷版原版による印刷＞上述された
支持体表面に、本発明の画像記録材料を記録層として作
製した平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録すること
ができる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる
熱的な記録も可能である。本発明においては、波長７６
０ｎｍから１２００ｎｍの赤外線を放射する固体レーザ
及び半導体レーザにより画像露光されることが好まし
い。

【０１８６】なお、本発明の画像記録材料を記録層とし
て作製した平版印刷版原版は、露光パワー密度５，００
０Ｗ／ｃｍ²以上で露光することが好ましく、１０，０
００Ｗ／ｃｍ²以上で露光することがさらに好ましい。
本発明の画像記録材料をこのような高エネルギー露光対
応、即ち、ヒートモード露光対応とすることで、フォト
ンモード露光に適する画像記録材料においていばしば生
じる、未露光部におけるカブリの問題などが生じ難いと
いう利点をも有することになる。但し、５．０×１０⁵
Ｗ／ｃｍ²以上の高パワー密度レーザを使用するとアブ
レーションが起こり、光源を汚すなどの問題から好まし
くない。

【０１８７】赤外線レーザにより露光した後、本発明の
画像記録材料は、好ましくは、水又はアルカリ性水溶液
にて現像される。

【０１８８】現像液として、アルカリ性水溶液を用いる
場合、本発明の画像記録材料の現像液及び補充液として
は、従来公知のアルカリ性水溶液が使用できる。例え
ば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、
同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同
カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリ
ウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニ
ウム、同カリウム及び同リチウム等の無機アルカリ塩が
挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられ
る。これらのアルカリ剤は単独又は２種以上を組み合わ
せて用いられる。

【０１８９】さらに、自動現像機を用いて現像する場合
には、現像液と同じもの又は、現像液よりもアルカリ強
度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによっ
て、長時間現像タンク中の現像液を交換することなく、
多量の平版印刷版原版を処理できることが知られてい
る。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用され
る。

【０１９０】現像液及び補充液には現像性の促進や抑
制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高
める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤等
を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオン
系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げ
られる。好ましい有機溶剤としてはベンジルアルコール
等が挙げられる。また、ポリエチレングリコール若しく
はその誘導体、又はポリプロピレングリコール若しくは
その誘導体等の添加も好ましい。また、アラビット、ソ
ルビット、マンニット等の非還元糖を添加することもで
きる。

【０１９１】さらに、現像液及び補充液には必要に応じ
て、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸又は亜硫酸水
素酸のナトリウム塩及びカリウム塩等の無機塩系還元
剤、さらに有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加え
ることもできる。

【０１９２】以上記述した現像液及び補充液を用いて現
像処理された印刷版は、水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷用版材
として使用する場合の後処理としては、これらの処理を
種々組み合わせて用いることができる。

【０１９３】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷用版材用の自動現像機が広く
用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後
処理部からなり、印刷用版材を搬送する装置と各処理液
槽とスプレー装置とからなり、露光済みの印刷版を水平
に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレ
ーノズルから吹き付けて現像処理するものである。ま
た、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイド
ロール等によって印刷用版材を浸漬搬送させて処理する
方法も知られている。このような自動処理においては、
各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充し
ながら処理することができる。また、電気伝導度をセン
サーにて感知し、自動的に補充することもできる。ま
た、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨
て処理方式も適用できる。

【０１９４】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１
−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３
１８５９号、同６１−１５９６５５号の各公報に記載さ
れているような整面液で処理することが好ましい。

【０１９５】その方法としては、該整面液を浸み込ませ
たスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、
整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する
方法や、自動コーターによる塗布等が適用される。ま
た、塗布した後でスキージ又はスキージローラーで、そ
の塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与え
る。整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ²
（乾燥重量）が適当である。整面液が塗布された平版印
刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッ
サー（例えば、富士写真フイルム（株）より販売されて
いるバーニングプロセッサー：ＢＰ−１３００）等で高
温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像
を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００
℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。

【０１９６】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引き等の従来行なわれている
処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物等を
含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどのい
わゆる不感脂化処理を省略することができる。

【０１９７】このような処理によって、本発明の画像記
録材料より得られた平版印刷版はオフセット印刷機等に
かけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１９８】

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例及び比較例に
よって更に詳細に説明するが、本発明はこれらによって
制限されるものではない。

【０１９９】［合成例］ （合成例１：特定アルカリ可溶性高分子化合物１）コン
デンサー、攪拌機を取り付けた５００ｍｌ三口フラスコ
に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド ６０ｍｌを入れ、
７０℃に加熱した。窒素気流下、４−カルボキシルスチ
レン５０ｇ、Ｖ−６５（和光純薬製） ２．４９ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド ６０ｍｌ溶液を２時間
半かけて滴下した。更に、７０℃で２時間反応させた。
反応混液をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド １２０ｍｌ
で希釈、室温まで冷却した後、撹拌しながら、トリエチ
ルアミン ３４ｇを滴下ロートを用いて滴下した。滴下
終了後、撹拌しながら、３−ブロモプロピルメタクリレ
ート４７ｇを滴下ロートを用いて滴下し、８時間反応さ
せた。反応混液を０℃に冷却した後に、撹拌しながら、
５Ｍ ＨＣｌを反応混液のｐＨが６以下になるまで滴下
した。反応液を水 ５ｌ中に投じ、重合体を析出させ
た。これを濾取、水で洗浄、乾燥し、高分子化合物１を
得た。ＮＭＲスペクトルより、カルボキシル基のうち７
０％が３−メタクリロイロキシプロピルエステルに変換
されたことが確認された。ＤＳＣによりガラス転移温度
を測定した結果、１０５℃であり、ポリスチレンを標準
物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法
（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、９
０，０００であった。

【０２００】（合成例２：特定アルカリ可溶性高分子化
合物２）コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍ
ｌ三口フラスコに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド １
５０ｍｌを入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、４−
カルボキシスチレン７４ｇ、スチレン５２ｇ、Ｖ−６５
（和光純薬製） ２．４６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセト
アミド １５０ｍｌ溶液を２時間半かけて滴下した。更
に、７０℃で２時間反応させた。反応混液をＮ，Ｎ−ジ
メチルアセトアミド １５０ｍｌで希釈、室温まで冷却
した後、撹拌しながら、トリエチルアミン５２ｇを滴下
ロートを用いて滴下した。滴下終了後、撹拌しながら、
３−ブロモプロピルメタクリレート６０ｇを滴下ロート
を用いて滴下し、８時間反応させた。反応混液を０℃に
冷却した後に、撹拌しながら、５Ｍ ＨＣｌを反応混液
のｐＨが６以下になるまで滴下した。反応液を水 ５ｌ
中に投じ、重合体を析出させた。これを濾取、水で洗
浄、乾燥し、高分子化合物２を得た。ＮＭＲスペクトル
より、カルボキシル基のうち３０％が３−メタクリロイ
ロキシプロピルエステルに変換されたことが確認され
た。ＤＳＣによりガラス転移温度を測定した結果、１１
０℃であり、ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミ
エーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重
量平均分子量を測定した結果、１１０，０００であっ
た。

【０２０１】（合成例３：特定アルカリ可溶性高分子化
合物３）コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍ
ｌ三口フラスコに、重量平均分子量４０，０００のポリ
−ｐ−ヒドロキシスチレン１００ｇをＮ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド ５００ｍｌに溶解した。室温で、撹拌し
ながら、トリエチルアミン ４２ｇを滴下ロートを用い
て滴下した。滴下終了後、撹拌しながら、３−ブロモプ
ロピルメタクリレート８３ｇを滴下ロートを用いて滴下
し、８時間反応させた。反応混液を０℃に冷却した後
に、撹拌しながら、５Ｍ ＨＣｌを反応混液のｐＨが６
以下になるまで滴下した。反応液を水 ５ｌ中に投じ、
重合体を析出させた。これを濾取、水で洗浄、乾燥し、
高分子化合物３を得た。ＮＭＲスペクトルより、ヒドロ
キシル基のうち５０％が３−メタクリロイロキシプロピ
ルエーテルに変換されたことが確認された。ＤＳＣによ
りガラス転移温度を測定した結果、１１２℃であり、ポ
リスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロ
マトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を
測定した結果、５０，０００であった。

【０２０２】以下、合成例１〜３と同様にして、表１〜
表３に表した各モノマーを用い、特定アルカリ可溶性高
分子化合物（高分子化合物１〜高分子化合物２３）を合
成した。更に、表１〜表３には、各高分子化合物のＤＳ
Ｃにより測定したガラス転移温度（表中、Ｔｇと記
載）、及び、ＧＰＣによる分子量の測定結果を示した。

【０２０３】

【表１】

【０２０４】

【表２】

【０２０５】

【表３】

【０２０６】（実施例１〜４、比較例１、２） ［支持体の作成］９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆ
ｅ ０．３０％、Ｓｉ ０．１０％、Ｔｉ ０．０２
％、Ｃｕ ０．０１３％を含むＪＩＳ Ａ１０５０合金
の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理に
は、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱
ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこな
った。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５０
０ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物
が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質
化処理を行った。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続
焼鈍炉中で５００℃、６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延
を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とし
た。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延
後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。
その後、平面性を向上させるためにテンションレベラー
にかけた。

【０２０７】次に平版印刷版支持体とするための表面処
理を行った。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去
するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒
間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間
中和、スマット除去処理を行った。

【０２０８】次いで、支持体と記録層の密着性を良好に
し、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％
の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５
℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接
給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ²、デューティー
比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ
²を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％
アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処
理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、ス
マット除去処理を行った。

【０２０９】さらに耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用
い、アルミウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電
セルにより１４Ａ／ｄｍ²の直流で電解処理を行うこと
で２．５ｇ／ｍ²の陽極酸化皮膜を作成した。

【０２１０】その後、印刷版非画像部としての親水性を
確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪
酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの
接触時間が１５秒となるよう通搬し、さらに水洗した。
Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ ²であった。以上により作
成した支持体のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍ
であった。

【０２１１】［記録層の形成］下記記録層塗布液（Ｐ−
１）を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム
支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置
にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版
印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ
／ｍ²の範囲内であった。

【０２１２】なお、実施例に使用したアルカリ可溶性高
分子は、前記合成例により得られた特定アルカリ可溶性
高分子であり、比較例１使用したアルカリ可溶性高分子
Ｂ−１および、比較例２に使用したアルカリ可溶性高分
子Ｂ−２の構成単位については下記に示す。また、ラジ
カル重合性化合物として使用したＤＰＨＡは、ジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートである。

【０２１３】 ＜記録層塗布液（Ｐ−１）＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表４に記載の化合物、表４に記載の量） ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表４に記載の化合物、表４に記載の量） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−１」：（Ｂ）成分 ０．０８ｇ ・重合開始剤「Ｓ−１」：（Ｃ）成分 ０．３０ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０ｌｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・ｐ−メトキシフェノール ０．００１ｇ ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

【０２１４】

【化２７】

【０２１５】［平版印刷版原版の評価］得られた前記各
平版印刷版原版の記録層の感度の指標としてジメチルス
ルホキシドに対する不溶化率を、室温で３日間保存した
後、レーザー露光を行ったもの、および６０℃で３日間
保存し、レーザー露光しないものについて測定を行い、
露光硬化度と保存安定性について評価を行った。露光条
件は、以下の通りである。なお、評価結果は下記表４に
記載した。 ［露光］水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣ
ｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳに
て、出力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面
エネルギー１８８ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉ
の条件で露光した。

【０２１６】

【表４】

【０２１７】表４に明らかなように、本発明の画像記録
材料を記録層として用いた実施例の平版印刷版は、レー
ザー露光による硬化度が高く、高温雰囲気下で保存した
強制経時においては硬化が起きないことから、露光によ
る高い硬化度を達成し、保存安定性に優れているもので
あった。一方、本発明に係る特定アルカリ可溶性高分子
を用いなかった比較例１では、硬化度は同等であった
が、強制経時により記録層の硬化が生じ、保存安定性に
問題があった。同様に、本発明に係る特定アルカリ可溶
性高分子を用いなかった比較例２では、保存安定性に優
れるものの、硬化度に劣ることが確認された。

【０２１８】（実施例５〜１０、比較例３〜６）前記実
施例１と同様のアルミニウム支持体上に、下記に示す下
塗り層用塗布液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾
燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ²であった。

【０２１９】（下塗り層用塗布液）下記組成の化合物を
混合し、下塗り層用塗布液を調製した。 ・２−アミノエチルホスホン酸 ０．５ｇ ・メタノール ４０ｇ ・純水 ６０ｇ

【０２２０】下記に示す記録層塗布液（Ｐ−２）を前記
下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布
し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平
版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．２〜１．
３ｇ／ｍ²の範囲内であった。なお、実施例に使用した
アルカリ可溶性高分子は、前記合成例により得られた特
定アルカリ可溶性高分子であり、ＡＴＭＭＴは、ペンタ
エリスリトールテトラアクリレートである。

【０２２１】 ＜記録層塗布液（Ｐ−２）＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表５に記載の化合物、表５に記載の量） ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表５に記載の化合物、表５に記載の量） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−２」：（Ｂ）成分 ０．０８ｇ ・重合開始剤「Ｓ−２」：（Ｃ）成分 ０．３０ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム ０．００１ｇ ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

【０２２２】

【化２８】

【０２２３】［露光］得られた平版印刷版原版を、水冷
式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔ
ｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、
外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１３３
ｍＪ／ｃｍ²、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光し
た。

【０２２４】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処
理した。現像液は、下記「Ｄ−１」を仕込み液、下記
「Ｄ−２」を補充液に用いた。現像欲浴の温度は３０
℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自
動現像機の現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となる
ように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシ
ャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水
希釈液を用いた。

【０２２５】 （現像液［Ｄ−１］） ・水酸化カリウム ３ｇ ・炭酸水素カリウム １ｇ ・炭酸カリウム ２ｇ ・亜硫酸ナトリウム １ｇ ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル １５０ｇ ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 ５０ｇ ・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩 ８ｇ ・水 ７８５ｇ

【０２２６】 （現像液［Ｄ−２］） ・水酸化カリウム ６ｇ ・炭酸カリウム ２ｇ ・亜硫酸ナトリウム １ｇ ・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル １５０ｇ ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 ５０ｇ ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩 ４ｇ ・シリコンＴＳＡ−７３１ ０．１ｇ （東芝シリコーン社（株）製） ・水 ７８６．９ｇ

【０２２７】［耐刷性の評価］次に、小森コーポレーシ
ョン（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を表
５に併記する。

【０２２８】

【表５】

【０２２９】表５の結果より、本発明の画像記録材料を
記録層として用いた実施例の平版印刷版は、比較例３〜
６に比べ、優れた耐刷性を達成していることがわかる。

【０２３０】（実施例１１〜１４、比較例７、８） ［支持体の作成］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム版
を、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水
懸濁液とを用いその表面を砂目立てした後、水でよく洗
浄した。１０重量％水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で
６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２
０重量％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをＶ
Ａ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用い
て１重量％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄｍ²の陽
極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを
測定したところ、０．６μｍ（Ｒａ表示）であった。引
き続いて３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し５５℃で２
分間デスマットした後、２０重量％硫酸水溶液中、電流
密度２Ａ／ｄｍ²において、陽極酸化被膜の厚さが２．
７ｇ／ｍ²になるように、２分間陽極酸化処理した。前
記の下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０
秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ²であっ
た。

【０２３１】［記録層の形成］下記記録層塗布液（Ｐ−
３）を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム
支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置
にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版
印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ
／ｍ²の範囲内であった。実施例５と同様の条件でレー
ザ走査露光、現像処理し、平版印刷版を得た。

【０２３２】 ＜記録層塗布液（Ｐ−３）＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表６に記載の化合物、表６に記載の量） ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表６に記載の化合物、表６に記載の量） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−２」：（Ｂ）成分 ０．０８ｇ ・スルホニウム塩「Ｓ−１」：（Ｃ）成分 ０．３０ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・ｔ−ブチルカテコール ０．００１ｇ ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

【０２３３】

【化２９】

【０２３４】その印刷版を、前記実施例５と同様に印刷
し、感度、耐刷性及び汚れ性を評価した。また、得られ
た平版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及
び、４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時
させた後、前記と同様の印刷を行った。結果を表６に併
記する。

【０２３５】

【表６】

【０２３６】表６によれば、本発明の画像記録材料を記
録層として用いた平版印刷版は、非画像部の汚れもな
く、耐刷性に優れ、また、高温、高湿環境下で保存した
後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定
性に優れていることがわかった。

【０２３７】（実施例１５〜１８、比較例９） ［支持体の作成］厚さ０．３０ｍｍのアルミニウム版
を、ナイロンブラシと４００メッシュのパミストンの水
懸濁波とを用いその表面を砂目立てした後、水でよく洗
浄した。１０重量％水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で
６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２
０重量％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをＶ
Ａ＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用い
て１重量％硝酸水溶液中で１６０クーロン／ｄｍ²の陽
極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを
測定したところ、０．６μｍ（Ｒａ表示）であった。引
き続いて３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し５５℃で２
分間デスマットした後、２０重量％硫酸水溶液中、電流
密度２Ａ／ｄｍ²において、陽極酸化被膜の厚さが２．
７ｇ／ｍ²になるように、２分間陽極酸化処理した。

【０２３８】［下塗り層の形成］次に下記の手順により
ＳＧ法の液状組成物（ゾル液）を調整した。 ＜ゾル液組成物＞ ・メタノール １３０ｇ ・水 ２０ｇ ・８５重量％リン酸 １６ｇ ・テトラエトキシシラン ５０ｇ ・３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン ６０ｇ 上記ゾル液組成物を混合し、撹拌した。約５分で発熱が
認められた。６０分間反応させた後、内容物を別の容器
へ移し、メタノール３０００ｇを加えることにより、ゾ
ル液を得た。このゾル液をメタノール／エチレングリコ
ール＝９／１（重量比）で希釈して、基板上のＳｉの量
が３０ｍｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃１分間
乾燥させた。

【０２３９】このように処理されたアルミニウム支持体
上に、下記に示す組成の記録層塗布液（Ｐ−４）を上記
の下塗り済みのアルミニウム支持体にワイヤーバーを用
いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾
燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２
〜１．３ｇ／ｍ²の範囲内であった。

【０２４０】 ＜記録層塗布液（Ｐ−４）＞ ・アルカリ可溶性高分子：（Ａ）成分（表７に記載の化合物、表７に記載の量） ・ラジカル重合性化合物：（Ｄ）成分（表７に記載の化合物、表７に記載の量） ・赤外線吸収剤「ＩＲ−１」：（Ｂ）成分 ０．０８ｇ ・スルホニウム塩「Ｓ−１」：（Ｃ）成分 ０．３０ｇ ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 ０．０４ｇ ・フッ素系界面活性剤 ０．０１ｇ （メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製） ・メチルエチルケトン ９．０ｇ ・メタノール １０．０ｇ ・ｐ−メトキシフェノール ０．００１ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ８．０ｇ

【０２４１】［露光］得られた平版印刷版原版を、マル
チチャンネルレーザヘッドを搭載した富士写真フイルム
（株）製Ｌｕｘｅｌ Ｔ−９０００ＣＴＰにて、ビーム
１本当たりの出力２５０ｍＷ、外面ドラム回転数８００
ｒｐｍ、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。

【０２４２】［現像処理］露光後、富士写真フイルム
（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理
した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイ
ルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像
欲浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、
富士写真フイルム（株）製ＧＵ−７の１：２水希釈液を
用いた。

【０２４３】［耐刷性及び汚れ性の評価］次に、ハイデ
ルベルクＳＯＲ−ＫＺ印刷機を用いて印刷した。この
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを計測し、耐刷性を評価した。また、得られた印
刷物について非画像部の汚れ性を目視にて評価した。結
果を表７に併記する。

【０２４４】

【表７】

【０２４５】表７によれば、本発明の画像記録材料を記
録層として用いた平版印刷版は、非画像部の汚れもな
く、耐刷性に優れていることがわかった。

【０２４６】

【発明の効果】本発明の画像記録材料は、側鎖に不飽和
基を有し、所定のＴｇのアルカリ可溶性高分子を含有し
ていることから、保存安定性が良好であり、形成された
画像部の強度が高く、画像形成性に優れる。また、本発
明の画像記録材料は、平版印刷版原版用の記録層として
用いた場合、当該平版印刷版原版は、保存安定性に優
れ、赤外線レーザを用いて記録することが可能であり、
優れた耐刷性を達成し得る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA12 AB03 AC08 AD01 BC13 BC42 BC85 BC97 BD47 CA00 CC11 FA17 2H096 AA06 BA06 EA04 EA23 GA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）側鎖に炭素−炭素二重結合を少な
   くとも１つ有し、ガラス転移温度が８０℃以上であるア
   ルカリ性水溶液に可溶な高分子化合物と、 （Ｂ）光熱変換剤と、 （Ｃ）該光熱変換剤が吸収することの可能な波長の光の
   露光によりラジカルを生成する化合物と、 を含有し、露光により画像形成可能なことを特徴とする
   ネガ型画像記録材料。
2. 【請求項２】 （Ｄ）ラジカル重合性化合物を更に含有
   することを特徴とする請求項１に記載のネガ型画像記録
   材料。