JP2003137557A - ガラス、ガラス基板ブランクスおよびガラス基板それぞれの製造方法 - Google Patents

ガラス、ガラス基板ブランクスおよびガラス基板それぞれの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラ
ス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法
で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよび
ガラス基板を製造する方法を提供する。 【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、
アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法におい
て、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジル
コニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含ま
ない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、
この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロ
ート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および
該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス
基板の製造方法である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高度の品質が要求
される情報記録媒体用ガラス基板などに好適に用いられ
るガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用い
てガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方
法、該ガラス基板を用いた情報記録媒体、並びに前記ガ
ラスの製造方法において用いられるガラス溶解装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、ガラス溶解装置におけるガラス
接触部分の材料(以下、炉材と称すことがある。)とし
ては、高温部にはAZS系(Al23−ZrO2−Si
2系)電鋳耐火物が、また比較的低温部にはアルミナ
系電鋳耐火物が用いられている。これらの炉材はガラス
に対する汚染が少なく又発泡性が少ないという理由で好
んで使用されている(例えば、ソーダーライムガラス、
CRT用ガラス、光学ガラス、電子用ガラスの溶解装置
おけるガラス接触部分に使用されている。)磁気ディス
ク用ガラス基板などの情報記録媒体用基板の材料である
ガラスも上記の理由からガラス接触部分の炉材にAZS
系電鋳耐火物を使用することが望ましいと考えられてい
る。
【0003】ところで、従来の磁気ディスク用基板材料
はアルミニウム基板が主流であったが、近年、磁気デス
ク用基板材料は高密度化の要求の高まりとともに、ヤン
グ率が高い、ディスク表面の平坦性が出やすい等の理由
でアルミニウム材料からガラス材料へと移行しつつあ
る。また、磁気ディスクの高密度化に伴い記録媒体と書
込み読取りヘッドとの距離は著しく小さくなる。現在で
は、その距離は分子数個分程度の距離にまで近づけられ
ている。磁気ディスク動作時にはヘッドとディスクの距
離をこのような微小距離に保ちつつ、ディスクを1秒間
に数千回回転させなければならない。このような状態
は、大型ジェット旅客機がいずれの障害物にも衝突せず
に地面から数十cm以下の高さを保ちながら飛行するよ
うなもので、情報記録媒体用基板表面には微細な突起と
いえどもその存在は許されないのが実状である。
【0004】しかしながら、このような高記録密度化を
妨げる基板表面の欠陥の一つにZrO2マウンドの問題
があった。ZrO2マウンドは次のようにして生じるも
のと考えられる。ZrO2の硬度はガラスよりも遥かに
大きい。したがって、ZrO2粒子を含むガラス基板の
表面を研磨すると、表面に存在するZrO2粒子の減り
かたは遅く、ガラスの減りかたは速い。その結果、表面
に存在するZrO2粒子が基板表面に微小な突起として
現れることになる。この微小突起がジルコニアマウンド
であり、この突起があると記録媒体表面にも突起形状が
反映し、ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突するヘ
ッドクラッシュの原因となる。昨今の高記録密度媒体で
は、微小なZrO2マウンドが1個あっても不良品とな
ってしまう。そのため、情報記録媒体用基板材料として
のガラスを溶解する際、ZrO2粒子の混入を徹底的に
防止しなければならない。一方、上記用途におけるガラ
ス需要は大きく、大量生産しなければ、需要に応じた供
給が不可能になるという事情がある。したがって、Zr
2粒子を含まないガラスを安定して多量に生産するた
めの技術が必要とされてきた。
【0005】ところが、上記情報記録媒体用基板材料と
してのガラスをAZS系電鋳耐火物のガラス溶解装置で
溶解すると、ZrO2マウンドの問題が発生しやすい。
その原因は、ガラス中のZrO2の量が多くなる、例え
ば5重量%以上になるとZrO2が溶解しにくくなるた
めZrO2未溶融物が発生しやすくなると考えられてい
た。そのため、ZrO2の含有量のみに注意が払われた
がゆえに、溶解装置とZrO2結晶の発生との関連性に
ついては何ら注目されていなかった。以上のようなこと
から、これまでZrO2の結晶粒を全く含まず、したが
ってZrO2マウンドフリーのガラス基板を多量に得る
ことを実現できなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情のもとで、ZrO2マウンドのような高融点物質
(ZrO2,SiO2,Al23など)による表面微小突
起の問題がなく、高度の品質が要求される情報記録媒体
用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、こ
の方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクス
および高品質のガラス基板を生産性よく製造する方法、
該ガラス基板を用いた情報記録媒体、並びに前記のZr
2マウンドの問題などがないガラスの製造方法におい
て用いられるガラス溶解装置を提供することを目的とす
るものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の知見を
得た。
【0008】ZrO2マウンドの発生原因であるガラス
中のZrO2結晶粒の生成は、ガラス成分のZrO2原料
が難溶性であるためでもなく、また、ガラス組成がZr
2成分を5重量%以上含有するためでもないことが分
かった。
【0009】ZrO2系マウンド発生のメカニズムは、
ガラス成分中のLi元素と、溶解装置における高温のガ
ラスと接触する部分のAZS系電鋳耐火物に存在するガ
ラス相中のNa元素との反応によるものと考えられる。
AZS系電鋳耐火物はガラス相中に耐火物重量に基づき
1〜10%程度のNa2Oが構成成分として存在してい
る。したがって、AZS系電鋳耐火物のガラス相に含ま
れているNa2OのNaイオンとガラス成分であるLi2
OのLiイオンがイオン交換を起こし、ガラス相中のN
aがLiに置き換わったことで軟化を生起してAZS結
晶構造を壊してしまう。その結果、AZS系耐火物の形
が崩れて破片となり、接触する溶融ガラス内に入り、ガ
ラス相を構成しているZrO2がガラス内に混入するた
めに、融点の高いZrO2結晶粒は溶融ガラス中に無数
に存在することとなる。
【0010】一方、ZrO2を主成分とするジルコニア
系耐火物(ZrO2純度90重量%以上)はNa成分を殆
ど含まないもしくは実質的に含んでいないために、ガラ
スと耐火物との接触面は滑らかで形も原型をとどめてい
る。その結果、このような耐火物で溶解したガラスには
失透や不純物などの欠点は認められなかった。
【0011】以上のような事実から、Li元素を含むガ
ラスを溶融する場合、使用する電鋳耐火物中に含まれる
Na2O不純物濃度は1重量%以下とされ、望ましくは
0.5重量%以下である。この実験結果から明らかなよ
うに、Li元素を含むガラスと、Na元素含有のガラス
相を含む電鋳耐火物を使用した溶解装置の組合せが、ガ
ラス材料中にZrO2系結晶粒を生成する原因であり、
Li元素を含むガラスを溶解する溶解装置は、その材料
として、アルカリを含まない電鋳耐火物を使用すること
が、高度な品質が要求される、電子用材料、とりわけ磁
気ディスク基板材料のような平面平坦性が求められるガ
ラス素材の溶解には、必要不可欠であるとの結論に達し
た。本発明は、かかる知見に基づいて完成したものであ
る。
【0012】すなわち、本発明は、(1)ガラス原料を
ガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラ
スを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラ
ス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的に
アルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用
いることを特徴とするガラスの製造方法、(2)アルカ
リ金属元素を含むガラスが、リチウム元素を含むガラス
である上記(1)項に記載のガラスの製造方法、(3)
ガラス溶解装置におけるガラス接触部分の材料が、実質
的にナトリウム元素を含まない材料で構成されたもので
ある上記(1)または(2)項に記載のガラスの製造方
法、
【0013】(4)アルカリ金属元素を含むガラスが、
SiO2、Al23およびZrO2の中から選ばれる少な
くとも1種の酸化物を含むガラスである上記(1)、
(2)または(3)項に記載のガラスの製造方法、
(5)ガラスが化学強化用ガラスおよび/または結晶化
用ガラスである上記(1)ないし(4)項のいずれか1
項に記載のガラスの製造方法、(6)上記(1)ないし
(5)項のいずれか1項に記載の方法により製造された
ガラスを、溶融状態でプレス成形またはフロート成形す
ることを特徴とするガラス基板ブランクスの製造方法、
【0014】(7)上記(6)項に記載の方法により製
造されたガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施す
ことを特徴とするガラス基板の製造方法、(8)研削、
研磨加工を施した後に、化学強化処理を施す上記(7)
項に記載のガラス基板の製造方法、(9)最終研磨加工
を施す前にガラスを結晶化させる上記(7)項に記載の
ガラス基板の製造方法、(10)ガラス基板が情報記録
媒体用基板である上記(7)、(8)または(9)項に
記載のガラス基板の製造方法、
【0015】(11)上記(10)項に記載の方法で製
造された情報記録媒体用基板の主表面に、情報記録層が
設けられたことを特徴とする情報記録媒体、および(1
2)ガラス原料を溶解してアルカリ金属を含むガラスを
製造するガラス溶解装置において、前記原料を溶解する
際にガラスと接触する部分の材料が、ジルコニウムを含
み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構
成されていることを特徴とするガラス溶解装置、を提供
するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】まず、本発明のガラスの製造方法
について説明する。本発明のガラスの製造方法において
は、ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金
属元素を含むガラスを製造する際に、前記溶解装置とし
て、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ
実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成された
ものが用いられる。
【0017】情報記録媒体用ガラス基板などのガラス基
板では、基板強度を向上させる目的で、通常基板の化学
強化処理が行われる。この化学強化処理するガラスとし
ては、ガラス成分としてアルカリ金属元素、特にリチウ
ム元素を含むものが用いられる。
【0018】ガラス溶解中における結晶粒の混入は、上
記のようにガラス中のアルカリ成分と溶解装置における
ガラス接触部分の炉材のガラス相に含まれるアルカリ成
分のイオン交換によって炉材が侵蝕されるために生じ
る。すなわち、ガラス中のLi 2Oは溶解時に炉材のガ
ラス相中のナトリウムイオンとのイオン交換する成分で
もあるので、炉材にはアルカリ成分を含まないものを使
用することが必要である。溶解中のガラスが接触する部
分(以下、ガラス接触部分という。)のすべてに、この
ようなアルカリ金属成分を含まない炉材を使用すれば本
発明の目的を達成することができる。とりわけ好ましい
ガラス接触部分は、加熱用電極を除き、すべてZrO2
系電鋳耐火物よりなる炉材で構成することである。
【0019】また、情報記録媒体用基板の材料として結
晶化ガラスも優れた性質を有している。情報記録媒体用
基板などの平滑な主表面が要求される用途では、結晶相
の大きさや密度などの厳密な制御のものに結晶化が行わ
れる。リチウムなどのアルカリ金属を構成成分とする結
晶相を析出するには、結晶化ガラスのもとになるガラス
(母材ガラス)も当然、そのアルカリ金属を含有する。
このガラスの溶解時にも、炉材侵蝕による溶融ガラスの
汚染という問題が起る。結晶化工程で上記のような制御
を行っても、母材ガラス中に上記汚染による結晶粒の混
入があると、その結晶粒が基板表面に異常突起となって
現れ、基板表面の平滑性、平坦性を損なうことになる。
したがって、アルカリ金属を含む結晶化ガラスの母材ガ
ラスを溶解する際にも、本発明の方法が有効である。
【0020】ここで実質的にアルカリ金属成分を含まな
い炉材とは、溶解されるガラス中のアルカリ金属イオン
とのイオン交換によって炉材の侵蝕が生じることのない
含有量のアルカリ金属成分を含む炉材と、アルカリ金属
成分を含まない炉材とを意味する。前者の場合、溶解温
度、ガラス組成、ガラス原料などの条件によってアルカ
リ金属成分の許容含有量は決まるが、通常、1重量%以
下であれば炉材の侵蝕を防ぐことができる。好ましくは
0.5重量%以下とする。特にナトリウム元素を含まな
い炉材が好適である。
【0021】上記炉材としては、単斜型ジルコニアと単
斜型ジルコニアを結合するガラス相を含む耐火物、ジル
コニアを主成分(含有量が最大の成分)とし、SiO2
を含む電鋳耐火物などを挙げることができる。電鋳耐火
物は、耐火物原料を完全に溶融し、溶融物を鋳型に鋳込
み、成形、冷却固化することにより得られる。
【0022】本発明のガラスの製造方法は、アルカリ金
属元素を含むガラス、特にSiO2、Al23およびZ
rO2の中から選ばれる少なくとも1種の酸化物とアル
カリ金属元素を含むガラスの製造に好適である。上記ア
ルカリ金属成分としては、Li2Oのようなリチウム元
素を含む成分の場合、従来の方法と比較して特に顕著な
効果を得ることができる。炉材からの混入によってガラ
ス中に微小結晶粒を作りやすいZrO2、Al23、S
iO2などのガラス中における含有量が少なければ、炉
材から混入した物質がガラス中に溶解する可能性も考え
られるが、このような成分を含むガラスでは、上記物質
の溶解反応が極めて進みにくく、結果的に微小結晶粒を
発生させてしまう。したがって、本発明はアルミノシリ
ケートガラスの溶解、製造に適した方法であり、特にZ
rO2を含有するアルミノシリケートガラスの製造に好
適である。
【0023】具体的には、SiO2 50〜70モル
%、Al23 0〜20モル%およびZrO2 0〜1
5モル%を含み、かつアルカリ金属酸化物の合計含有量
が0.5〜25モル%のガラスを挙げることができる。
このうち、より好ましいガラスは、アルカリ金属酸化物
としてLi2Oを含むものであり、Li2Oを0.5〜2
0モル%含むものがさらに好ましい。さらには二価成分
であるCaOもしくはMgOをRO成分として10モル
%以下含むか、ガラス成分に含まないものがよい。
【0024】SiO2はガラス骨格を形成する主要成分
であり、50モル%未満であると液相温度が下がると共
に粘性が下がって成形が困難となり、70モル%を越え
ると粘性が上がりすぎて溶解が困難となる。したがって
SiO2の割合は、上記の範囲とすることが好ましい。
【0025】Al23はガラス表面のイオン交換性能を
向上させるため含有させるが、20モル%を越えると溶
解性の悪化による未溶解物の生成といった不具合を発生
させることがある。したがってAl23の割合は、上記
の範囲とすることが好ましい。
【0026】ZrO2はガラス中で溶解されにくく、微
小結晶粒を作りやすい成分であるが、化学的耐久性、基
板の強度や硬さ、イオン交換の効率を向上させる成分で
ある。しかしながら、15モル%を越えると溶融が困難
となる。したがってZrO2の割合は、上記の範囲とす
ることが好ましい。
【0027】アルカリ金属酸化物はガラス表層部でイオ
ン交換処理浴中のアルカリ金属イオンとイオン交換され
ることにより、ガラスを化学強化するための成分である
が、その合計含有量が0.5モル%未満であると化学強
化による強度の増強には不充分となり、25モル%を越
えると化学的耐久性の低下を招くことがある。したがっ
てアルカリ金属酸化物の合計含有量は、上記の範囲とす
ることが好ましい。
【0028】アルカリ金属酸化物において、Li2Oは
ガラス表層部でイオン交換処理浴中の主としてNaイオ
ンとイオン交換されることにより、ガラスを化学強化す
るための成分であるが、0.5モル%未満であるとヤン
グ率を低下させる原因となり、20モル%を越えると化
学的耐久性の低下を招くことがある。したがってLi 2
Oの割合は、上記の範囲とすることが好ましい。好まし
い組成について、以下にさらに例示する。
【0029】重量%表示で、SiO2を60〜75%、
Al23を5〜18%、Li2Oを4〜10%、Na2
を4〜15%、ZrO2を3〜15%含むガラス。前記
組成範囲内にあって、特にNa2O/ZrO2の重量比が
0.5〜2.0かつAl23/ZrO2の重量比が0.
4〜2.5であるガラス。(ガラス1) モル%表示で、SiO2を35〜65%、Al23
0.1〜15%未満、Li2Oを4〜20%、Na2Oを
0〜8%、Na2OとLi2Oを合計量で3〜30%、T
iO2を0.1〜30%、CaOを1〜45%、MgO
を前記CaOとの合計量で5〜40%含むガラス。(ガ
ラス2) モル%表示で、SiO2を50〜70%, Al23を1
〜30%, Li2Oを1〜20%, アルカリ金属総量
(Li2O+Na2O+K2O)で1〜25%, CaO+M
gO合計量で0〜10%, ZrO2を0〜5%, Ti
2を0〜4%含むガラス。(ガラス3)
【0030】なお、ガラス1および2は、化学強化に適
したガラスであり、ガラス3は、結晶化ガラスの母材ガ
ラス(熱処理により結晶化される前のガラス)に適した
ガラスである。
【0031】上記ガラスの溶解においては、酸化物、炭
酸塩、硝酸塩、水酸化物など原料を所定の量、秤取し、
混合して調合原料とし、これを通常1150〜1600
℃、好ましくは1200〜1500℃の温度に加熱した
溶解装置に投入、溶解、清澄後、攪拌して均一化し、溶
融ガラスを得る。これを所望の形状に成形して、SiO
2、Al23、ZrO2の全量が溶融状態で含まれる、す
なわち上記成分がすべて非晶質状態で含まれるガラスが
得られる。上記ガラスの溶解で使用される溶解装置は、
上述したものである。
【0032】なお、ガラス中のSiO2、Al23、Z
rO2の全量が溶融状態で含まれているかどうかは、肉
眼、顕微鏡もしくは単光色における乱反射によって確認
することができる。
【0033】次に、本発明のガラス基板ブランクスおよ
びガラス基板の製造方法について説明する。本発明のガ
ラス基板ブランクスの製造方法においては、上述の方法
により製造されたガラスを溶融状態でプレス成形または
フロート成形してガラス基板ブランクスを製造する。高
い生産性のもと高品質の情報記録媒体用ガラス基板を製
造する場合には、上述した方法で作製された溶融状態の
ガラスを、プレス成形可能な温度にあるときにプレス成
形して、基板に近似する形状を有する基板ブランクスを
作製するのがよい。このブランクスをアニールした後、
基板形状に研削、研磨加工を施して主表面が極めて高度
に平坦、平滑化されたガラス基板を作製する。そして、
必要に応じてガラス基板の強度を向上させるべく、基板
を化学強化もしくは熱処理で結晶化してもよい。
【0034】ガラス基板ブランクスの製造は、上記方法
で溶解され、均質化された溶融ガラスを流出パイプで、
成形面上に、好ましくは粉末状離型剤が塗布され、所定
温度に加熱された下型の成形面上に所定量、供給され、
ガラスの温度がプレス成形可能な温度範囲を下回らない
うちに、所定温度に加熱された上型と下型、あるいは前
記上下型に加えて胴型を用いて、ブランクス形状にプレ
ス成形される。その後、成形品の温度がガラス転移温度
付近になった時点で成形品を成形型から取り出す。この
成形品をガラスの歪み点付近まで急冷した後、アニール
炉中でアニールし、基板ブランクスを得る。なお、プレ
ス成形から成形品の型取り出しまでの間、成形品の反り
を直すために成形品を加圧してもよい。また、溶融ガラ
スの下型上への供給において、ガラスの温度はガラスが
連続して流出パイプから流出可能であり、失透しない温
度範囲に調整することが肝要である。このようにして得
られたガラス基板ブランクスは、溶解されたガラスと同
じ組成を有しており、ZrO2、あるいはSiO2、Al
23の結晶粒を含有していない。ここではブランクスの
製造方法として、プレス成形法を例にして説明したが、
フロート成形法で基板ブランクスを成形してもよいし、
あるいはダウンドロー成形法など、従来公知の他の成形
法も採用することができる。また、いずれの成形法にお
いても、成形時および成形後の処理でガラスの失透によ
る結晶化が起きないようにすることが望ましい。
【0035】このようにして得られたガラス基板ブラン
クスには、研削、研磨加工が施され、ガラス基板に仕上
げられる。研削、研磨加工は周知の方法を用いることが
できるが、本発明のガラス基板ブランクスは、Zr
2、またはZrSiO4の結晶質を含まない。これらの
結晶質はいずれもアモルファス状態のガラスと比べ、高
い硬度を有しており、基板ブランクスが上記結晶質を含
むと、基板の主表面を研削、研磨によって形成する際、
硬度の差によってアモルファス質の研磨スピードが結晶
質の研磨スピードよりも著しく速くなるので、結晶質の
突起が基板表面に形成されやすくなる。しかし、本発明
の基板ブランクスは上記結晶質を含まないので、得られ
たガラス基板は上記突起が形成されず、高記録密度を有
する情報記録媒体用基板として好適である。
【0036】次に、化学強化処理について説明する。研
削、研磨加工が施された基板をアルカリ金属イオンを含
む溶融塩に浸漬して、ガラス基板中のアルカリ金属イオ
ンと溶融塩中のアルカリ金属イオンとがイオン交換する
ように処理を施す。この際、溶融塩中に含まれるアルカ
リ金属イオンは、イオン交換されるガラス中のアルカリ
金属イオンのイオン半径よりも大きなものを選択する。
例えば、ガラス基板がリチウムイオンを含む場合、溶融
塩はナトリウムイオンおよび/またはカリウムイオンを
含むものが望ましく、ガラス基板がナトリウムイオンを
含む場合、溶融塩はカリウムイオンを含むものが望まし
い。本発明におけるガラス基板にはリチウムイオンおよ
びナトリウムイオンが含まれるので、溶融塩としてはナ
トリウムイオンおよびカリウムイオンを含むものが好ま
しい。溶融塩としては、これらアルカリ金属の硝酸塩を
用いることが好ましいが、硫酸塩、硫酸水素塩、炭酸
塩、炭酸水素塩、ハロゲン化物なども用いることができ
る。化学強化の効率を向上させる上から基板を構成する
ガラスは、ガラス成分としてZrO2を含むことが好ま
しいが、ZrO2を含むガラスは溶解の際に炉材から混
入するZrO2が結晶相として残留しやすい。しかし、
本発明によればガラスがガラス成分としてZrO 2を含
んでいても、炉材からZrO2が混入することがないの
で、ZrO2結晶質を含まないガラス基板を得ることが
でき、化学強化されたガラス基板を高生産性のもと製造
することができる。なお、化学強化されたガラス基板
は、必要に応じてアルカリ溶出処理を行ってもよい。
【0037】また、本発明においては、最終研磨加工を
施す前にガラスを結晶化させて結晶化ガラスにしてから
研磨加工を施し、ガラス基板を作製してもよい。
【0038】このようにして得られたガラス基板は、極
めて平坦かつ平滑な主表面を有しており、主表面上にS
iO2、Al23、ZrO2の結晶質からなる突起をもた
ない。したがって、情報記録媒体用基板として好適であ
る。
【0039】この基板を磁気記録媒体用基板に用いた場
合、高記録密度に対応して記録媒体表面と書込み読取り
ヘッドの距離を接近させても、媒体表面と上記ヘッドが
接触、衝突することなく、ヘッドを浮上させることがで
きる。そのため、高い信頼性を有する情報記録媒体を提
供することができる。このような基板の主表面に情報記
録層(例えば、磁気記録媒体の場合は磁性層)、あるい
は必要に応じて記録層を保護する保護層などを設けて多
層化し、周知の方法で情報記録媒体を得ることができ
る。なお、上記情報記録媒体用ガラス基板の主表面の平
坦度は、表面粗さ(Ra)で20nm以下である。
【0040】また、上記基板として、ZrO2を含むア
ルミノシリケートガラスを用い、化学強化処理を施した
ものは、耐候性、機械強度に優れた信頼性の高いもので
あるとともに、ディスク状の情報記録媒体の高速回転に
対する高安定性も備えている。
【0041】本発明はまた、ガラス原料を溶解してアル
カリ金属を含むガラスを製造する際に用いられるガラス
溶解装置として、前記原料を溶解する際にガラスと接触
する部分の材料が、ジルコニウムを含み、かつ実質的に
アルカリ金属元素を含まない材料で構成されている装置
をも提供する。
【0042】
【実施例】次に、本発明を実施例により、さらに詳細に
説明するが、本発明は、この例によってなんら限定され
るものではない。
【0043】実施例 本実施例におけるガラス溶融槽は、電鋳耐火物を組み合
わせて製作した容器にガラス原料を投入、加熱して溶融
ガラスにするものである。
【0044】図1は、本実施例におけるガラス溶解槽の
平面図(イ)、正面図(ロ)および側面図[左側面図
(ハ)、右側面図(ニ)]である。図1で示される溶解
槽においては、ガラス原料を溶解する部分を最前段(左
側)に備え、ここにガラス原料が投入される。この溶解
槽は4方向からなる側面と底面で構成され、槽手前(左
側)に原料投入口(a)と槽後方(右側)に溶融ガラス
の出口(b)を備えている。溶融ガラスと接触する部分
すべてにアルカリ金属を含まない電鋳耐火物を使用して
いる。
【0045】溶解槽上部にセリ(図示せず)と呼ばれる
煉瓦でできた屋根と加熱燃焼バーナー(図示せず)、ガ
スの排出口を備えている。図1で示すように溶解槽手前
の(a)部からガラス原料を間欠もしくは連続式で投入
する。加熱方法はガラス液面上部に可燃性ガス(ブタ
ン、プロパンなど)と支燃性ガス(空気、酸素など)を
混合したガスをバーナーで燃やして溶融する方法か、ま
たは溶融ガラスに直接通電電極(SnO2, MoO2
ど)を接触させて加熱する方法、またはその両方を併用
することができる。このような加熱方法で溶融したガラ
スはアルカリ金属を含まない耐火物に接触しながら順に
(a)→(b)へと流動する。(b)部はガラスの出口
であり、溢れたガラスは次の槽、例えば、清澄槽、攪拌
などにより溶融ガラスを均質化する作業槽へ順次流れて
いく。清澄槽も溶解槽と同様、溶融ガラスが接触する部
分をアルカリ金属を含まない電鋳耐火物を用いるか、白
金製または白金合金製とすればよい。作業槽は白金また
は白金合金により構成すればよい。なお、上記溶解槽で
は溶融ガラスの清澄も行うこともできる。出口から溢れ
たガラスは図1に示すような溶解槽の場合、ガラス液面
は側壁の高さの60〜80%程度が一般的であるが、そ
れ以下でも構わない。
【0046】なお、本実施例では、溶融ガラスと接触す
る部分にアルカリ金属を含まない耐火物を使用したが、
アルカリ金属の含有量が極めて低レベル(1重量%以
下、好ましくは0.5重量%以下)に制限された市販の
耐火物を使用することもできる。このような耐火物とし
て、単斜型ジルコニア94重量%がガラス相6重量%中
に分散した電鋳耐火物などを例示できる。耐火物中のN
2Oの含有量は0.3重量%以下に抑えられており、
主成分の他、SiO2、Al23、TiO2などを少量含
むものもある。
【0047】このような溶解装置を用い、SiO2、A
23、Li2O、Na2O、ZrO2を含む溶融ガラス
1が得られるガラス原料、SiO2、Al23、Li
2O、Na 2O、TiO2、CaO、MgOを含む溶融ガ
ラス2が得られるガラス原料、SiO2、Al23、L
2O、Na2O、K2O、CaO、MgO、ZrO2、T
iO2を含む溶融ガラス3が得られるガラス原料をそれ
ぞれ溶解した。
【0048】それぞれのガラス原料を溶解した後も、長
時間にわたって溶融ガラスと接触していた耐火物には全
く侵食が見られず、溶解槽のメンテナンスは、通常のレ
ベルで十分である。溶融ガラス1〜3を、以下の2つの
成形方法によって情報記録媒体用基板ブランクを作製し
た。第1の成形方法は、上記溶解装置に接続された白金
合金製の流出パイプから、一定スピードで清澄、均質化
された溶融ガラス1〜3を流出し、流出するガラスを次
々と金型(下型)で受け、前記下型と、下型に対向する
上型によってプレスし、薄板円盤状ガラスに成形すると
いうものである。薄板状ガラスはアニール炉に搬送され
アニールされる。溶融ガラス1および2より成形された
薄板円盤状ガラスは、外径、内径加工、表面の研削、研
磨加工が施された後、硝酸ナトリウムと硝酸カリウムの
混合溶融塩に浸漬することによって、化学強化され、デ
ィスク状の情報記録媒体用ガラス基板となる。
【0049】また、溶融ガラス3より形成された薄板状
ガラスは、外径、内径、表面の研削、研磨、熱処理によ
る結晶化の工程を含む一連の工程を経てディスク状の情
報記録媒体用結晶化ガラス基板となる。
【0050】上記いずれの薄板状ガラス、基板にも溶解
時の汚染による表面の微小突起は全く認められず、すべ
て情報記録媒体用基板としての要求を満たすものであっ
た。第2の成形方法は、清澄、均質化された溶融ガラス
1〜3をフロート成形して、薄板状ガラスを成形すると
いうものである。フロート成形によって得られた薄板状
ガラスはアニールされた後に、円盤状に加工される。そ
の後の工程は、第1の成形方法と同様にして、ディスク
状の情報記録媒体用基板を得た。上記いずれの薄板状ガ
ラス、基板にも溶解時の汚染による表面の微小突起は全
く認められず、すべて情報記録媒体用基板としての要求
を満たすものであった。これらの基板上に磁気記録層を
含む多層膜を形成し、情報記録媒体を作製した。
【0051】以上のように、溶融ガラスと接触する部分
にアルカリ金属を実質的に含まない炉材を使用したの
で、アルカリ金属成分を含むガラスでも、炉材の混入に
よる溶融ガラスの汚染を防ぐことが可能となり、高融点
物質の結晶質を含まないアルカリ金属成分を含むガラ
ス、前記ガラスからなる化学強化された基板、前記ガラ
スを熱処理して得られる結晶化ガラスからなる基板を高
い生産性のものに安定して製造することができる。また
このような基板を用いて磁気ディスクなどの情報記録媒
体を製造することにより、情報記録媒体を高い生産性の
もとに安定して製造することもできる。
【0052】比較例 ZrO2、Al23を主要構成成分とし、その他、Si
2、Na2Oなどを含む耐火物を用いた溶解槽で、上記
ガラス原料の溶解を行った。なお、この耐火物中のNa
2O含有量は1.5重量%であった。溶解を連続して行
ったところ、溶融ガラスと接触する部分の耐火物に侵蝕
が発生した。このようにして溶解されたガラスを清澄、
攪拌して、流出パイプから金型上に供給し、情報記録媒
体用基板のブランクをプレス成形した。ブランクをアニ
ールして歪みを除去した後、表面に研削、研磨加工を施
して基板とした。この基板表面を観察したところ、微小
な突起が認められた。この突起を分析したところ、ジル
コニアからなることがわかった。この突起はヘッドクラ
ッシュの原因となるため、磁気ディスク用基板として使
用することができなかった。
【0053】
【発明の効果】本発明のガラスの製造方法によれば、Z
rO2、またはZrSiO4などのような高融点物質の結
晶質が全く存在しない溶解状態として、アルカリ金属元
素含有のガラスを生産性よく製造することができる。
【0054】また、本発明によれば、炉材に起因するZ
rO2やZrSiO4などの高融点物質の結晶質が全く存
在しない溶解状態として、アルカリ金属元素含有のガラ
スを生産性よく製造する溶解装置、高融点物質からなる
結晶質を含まないガラス基板ブランクス、および微小結
晶質による表面突起をもたない平坦なガラス基板を提供
することができる。
【0055】さらに、本発明によれば、微小結晶質によ
る表面突起を持たない平坦な情報記録媒体用ガラス基板
を備えた情報記録媒体を提供することができ、高記録密
度に対応可能な信頼性の高い情報記録媒体を得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例におけるガラス溶解槽の平面図、正面図
および側面図である。
【符号の説明】
(a) ガラス原料の投入口 (b) 溶融ガラスの出口
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成14年10月16日(2002.10.
16)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0045
【補正方法】変更
【補正内容】
【0045】溶解槽上部にセリ(図示せず)と呼ばれる
煉瓦でできた屋根と加熱燃焼バーナー(図示せず)、ガ
スの排出口を備えている。図1で示すように溶解槽手前
の(a)部からガラス原料を間欠もしくは連続式で投入
する。加熱方法はガラス液面上部に可燃性ガス(ブタ
ン、プロパンなど)と支燃性ガス(空気、酸素など)を
混合したガスをバーナーで燃やして溶融する方法か、ま
たは溶融ガラスに直接通電電極(SnO2, MoO2
ど)を接触させて加熱する方法、またはその両方を併用
することができる。このような加熱方法で溶融したガラ
スはアルカリ金属を含まない耐火物に接触しながら順に
(a)→(b)へと流動する。(b)部はガラスの出口
であり、溢れたガラスは次の槽、例えば、清澄槽、攪拌
などにより溶融ガラスを均質化する作業槽へ順次流れて
いく。清澄槽も溶解槽と同様、溶融ガラスが接触する部
分をアルカリ金属を含まない電鋳耐火物を用いるか、白
金製または白金合金製とすればよい。作業槽は白金また
は白金合金により構成すればよい。なお、上記溶解槽で
は溶融ガラスの清澄も行うこともできる。1に示すよ
うな溶解槽の場合、ガラス液面は側壁の高さの60〜8
0%程度が一般的であるが、それ以下でも構わない。
フロントページの続き Fターム(参考) 4G062 AA11 BB01 CC04 DA06 DB02 DB03 DB04 DC01 DD01 DE01 DF01 EA02 EA03 EA04 EB01 EB02 EC01 EC02 ED01 ED02 ED03 EE01 EE02 EE03 EF01 EG01 FA01 FB01 FC01 FC02 FC03 FC04 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM27 NN30 NN32 NN33 NN34 5D112 AA02 AA24 BA03 BA09

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、
    アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法におい
    て、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジル
    コニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含ま
    ない材料で構成されたものを用いることを特徴とするガ
    ラスの製造方法。
  2. 【請求項2】 アルカリ金属元素を含むガラスが、リチ
    ウム元素を含むガラスである請求項1に記載のガラスの
    製造方法。
  3. 【請求項3】 ガラス溶解装置におけるガラス接触部分
    の材料が、実質的にナトリウム元素を含まない材料で構
    成されたものである請求項1または2に記載のガラスの
    製造方法。
  4. 【請求項4】 アルカリ金属元素を含むガラスが、Si
    2、Al23およびZrO2の中から選ばれる少なくと
    も1種の酸化物を含むガラスである請求項1、2または
    3に記載のガラスの製造方法。
  5. 【請求項5】 ガラスが化学強化用ガラスおよび/また
    は結晶化用ガラスである請求項1ないし4のいずれか1
    項に記載のガラスの製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれか1項に記載
    の方法により製造されたガラスを、溶融状態でプレス成
    形またはフロート成形することを特徴とするガラス基板
    ブランクスの製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6に記載の方法により製造された
    ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すことを特
    徴とするガラス基板の製造方法。
  8. 【請求項8】 研削、研磨加工を施した後に、化学強化
    処理を施す請求項7に記載のガラス基板の製造方法。
  9. 【請求項9】 最終研磨加工を施す前にガラスを結晶化
    させる請求項7に記載のガラス基板の製造方法。
  10. 【請求項10】 ガラス基板が情報記録媒体用基板であ
    る請求項7、8または9に記載のガラス基板の製造方
    法。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の方法で製造された
    情報記録媒体用基板の主表面に、情報記録層が設けられ
    たことを特徴とする情報記録媒体。
  12. 【請求項12】 ガラス原料を溶解してアルカリ金属を
    含むガラスを製造するガラス溶解装置において、前記原
    料を溶解する際にガラスと接触する部分の材料が、ジル
    コニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含ま
    ない材料で構成されていることを特徴とするガラス溶解
    装置。
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