JP2003135925A

JP2003135925A - 処理筒及び除害装置

Info

Publication number: JP2003135925A
Application number: JP2001333145A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Tabata; 真大田畑; Hideji Kawanaka; 秀治川中; Yoshihiro Ibaraki; 義浩茨木; Shinichi Ando; 伸一安藤
Original assignee: Air Liquide Japan GK
Current assignee: Air Liquide Japan GK
Priority date: 2001-10-30
Filing date: 2001-10-30
Publication date: 2003-05-13

Abstract

(57)【要約】【課題】モノシラン等の特殊材料ガスの除害処理を行
う処理筒の小型化を課題としている。【解決手段】本発明による処理筒２６は、内部に除害
処理のための薬剤２８が充填されている。また、処理筒
２６は、内部が複数枚の仕切り板８４により複数の小室
８６に区切られている。仕切り板８４にはオリフィス等
のガス通路９６が形成されている。かかる構成では、仕
切り板８４に形成されたガス通路９６によりガスの流れ
が制限され、各小室８６内でのガスの滞留時間が延び
る。これによって、薬剤２８による処理効率が向上し、
使用薬剤の量を低減でき、処理筒自体の大きさを小さく
することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスを処理するた
めの処理筒に関し、特に半導体製造等に用いられる特殊
材料ガスの除害処理のための処理筒及び除害装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造等に用いられる特殊材料ガ
ス、例えばモノシラン（ＳｉＨ₄）、ジシラン（Ｓｉ₂Ｈ
₆）、ジボラン（Ｂ₂Ｈ₆）、ジクロロシラン（ＳｉＨ₂Ｃ
ｌ₂）、アルシン（ＡｓＨ₃）、ホスフィン（ＰＨ₃）、
塩素（Ｃｌ₂）、フッ素（Ｆ₂）、臭化水素（ＨＢｒ）等
は、通常、ガスボンベないしはガスシリンダと称される
可搬型のガス容器に貯蔵された状態で使用される。かか
る半導体製造用の特殊材料ガスには、可燃性（爆発
性）、毒性、腐食性、支燃性等の危険性を有するものが
多く、その使用に際しては十分な安全上の配慮がなされ
なければならない。このため、従来、危険性のある特殊
材料ガスが封入されたガス容器は、シリンダキャビネッ
トと呼ばれる筐体内に収容することとし、万が一のガス
漏れに備えている。

【０００３】また、シリンダキャビネット内には、ガス
容器を交換する場合等に用いられるパージ回路が設けら
れている。パージ回路は、ガス容器を配管から取り外し
た際に、配管内に残留している特殊材料ガスがシリンダ
キャビネット内に漏出しないよう、予め窒素ガス等のパ
ージガスによって配管内の残留ガスを強制的に排出し除
去するためのものである。この排出された特殊材料ガス
は、シリンダキャビネットに隣接して配置された除害装
置に送られ、適切な除害処理が施される。なお、本明細
書において、「除害」なる語は、人体や環境に対する無
害化処理のみならず、爆発性や支燃性を低減させる処理
等も含む広い概念である。

【０００４】従来一般の除害装置は、排出されるガスの
種類に応じた乾式薬剤が充填された処理筒を備えてお
り、排出ガスを処理筒内に通すことで、酸化や還元等の
反応を行わせ、或いは薬剤に吸着させて、特殊材料ガス
の除害化を図っている。従来の処理筒は縦置き型の略円
筒体であり、下方から特殊材料ガスを取り入れ、処理済
みのガスを頂部から取り出すようになっている。また、
処理筒は、特殊材料ガスの万が一の漏洩に対し、シリン
ダキャビネットと同様なキャビネット内に収容されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来一般の除害装置で用いられている処理筒
は、１回当たりの処理ガス量が特殊材料ガスのガス容器
を配管から取り外す際に生じる縁切り弁で封じ込められ
た配管内に残留している小容量のガスであるにも拘わら
ず、放出弁を開け該残留特殊材料ガスを処理筒へ放出す
る時の瞬間流量は概してそれを考慮した安全設計とな
り、高さが１ｍ以上で、また径も偏流を防止できるよう
適当に大きくする必要があり、従って重量もある大型な
ものとなるため、種々の問題があった。

【０００６】すなわち、処理筒内の薬剤は処理能力に限
りがあるため、処理筒を適時交換する必要があるが、処
理筒が大型であるので、交換作業に手間がかかるという
問題があった。

【０００７】また、半導体製造の分野では上述したよう
に多種多様な特殊材料ガスが用いられるため、除害処理
のために使用される薬剤の種類、従って処理筒の本数は
相当な数量となる。このため、処理筒が大型であると、
除害装置の設置面積の拡大化は免れない。

【０００８】そこで、本発明は、処理筒の小型化、併せ
てそのような処理筒を用いる除害装置の小型化を目的と
している。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、特殊材料ガス等のガスを処理する薬剤が
充填されている処理筒において、内部を複数の小室に区
切る複数の仕切り板を備え、仕切り板に流れを制限する
ガス通路を形成したことを特徴としている。特に、ガス
通路は小孔ないしはオリフィスとしたことを特徴として
いる。

【００１０】かかる構成では、仕切り板に形成された、
オリフィス等のガス通路によりガスの流れが制限され、
各小室内でのガスの滞留時間が延びる。あわせて、処理
筒内の処理ガスの偏流も押さえることができる。これに
よって、薬剤による処理効率が向上し、使用薬剤の量を
低減でき、処理筒自体の大きさ（径及び長さ）を小さく
することができる。

【００１１】また、処理筒は横置き型とすることが好適
である。すなわち、処理筒は、複数の小室が横方向に並
ぶよう配置されるよう構成されたものが好ましく、かか
る横置き型では、更に、仕切り板のガス通路がガスの流
れ方向に沿って上下に千鳥配列となるよう仕切り板が配
置されていることが好ましい。この構成では、ガスは或
る小室を下から上に流れた後、次の小室に入ると、上か
ら下に流れ、薬剤と十分に接触し、処理効率がより向上
することになる。

【００１２】また、処理筒は、ホルダと、このホルダに
脱着可能に取り付けられた薬剤カートリッジとから構成
し、薬剤カートリッジ内に仕切り板及び薬剤を配備する
ことが好ましい。これにより、薬剤カートリッジのみの
交換が可能となる。

【００１３】一方、本発明は、特殊材料ガスを含むガス
を除害処理する除害装置にも係るものであり、当該除害
装置は、上述したような処理筒と、処理筒のガス導入口
に導入されるガスの圧力による負荷を緩和する圧力緩和
手段と、処理筒及び圧力緩和手段を囲むキャビネットと
からなることを特徴としている。

【００１４】圧力緩和手段としては、処理筒のガス導入
口に接続されるバッファ容器や、処理筒のガス導入口に
連通する配管中に設けられたオリフィスが考えられる。
圧力緩和手段により処理筒に対する圧力負荷を緩和する
ことができ、それによって、薬剤の必要量を低減するこ
とが可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
適な実施形態について詳細に説明する。

【００１６】図１は、本発明による処理筒及び除害装置
の構成を概略的に示したものである。図示実施形態の除
害装置１０はモノシラン（ＳｉＨ₄）ガスに対するもの
であり、モノシランガスが封入されたガス容器１２が内
部に設置されたシリンダキャビネット１４に隣接して配
置されている。

【００１７】シリンダキャビネット１４内には、半導体
製造装置等のガス供給先にガス容器１２内の特殊材料ガ
スを供給するためのガス供給回路１６が配設されてい
る。また、このガス供給回路１６の管継手１８からガス
容器１２を切り離す際等にガス供給回路１６の配管内に
残留している特殊材料ガスをパージして窒素ガス等のパ
ージガスに置換するためのパージ回路２０が、シリンダ
キャビネット１４内に設けられている。パージ回路２０
の出口部分には、回路１６，２０内のガスを吸引し外部
に排出するためのエジェクタ２２が取り付けられてい
る。このエジェクタ２２の排出口からは、特殊材料ガス
を含むガス（以下「ベントガス」という）を導くベント
管２２が延びている。なお、ガス供給回路１６及びパー
ジ回路２０は周知の構成であり、ここでは更なる詳細な
説明は省略する。

【００１８】パージ回路２０から排出されたベントガス
は、ベント管２２を経て除害装置１０に送られる。除害
装置１０は、ベント管２２からのベントガスが導入され
る処理筒２６を備えている。処理筒２６は横置き型であ
り、内部にモノシランガスを酸化により除害するための
薬剤２８、例えば酸化銅のような酸化金属系薬剤、或い
は活性金属系薬剤が充填されている。

【００１９】除害装置１０はまた、ガスの万が一の漏洩
に備えて処理筒２６を収容し固定するキャビネット３０
を有している。キャビネット３０はシリンダキャビネッ
ト１４と同様にステンレス鋼板等からなる筐体である。
キャビネット３０内には、更に、逆止弁３２及びバッフ
ァ容器３４が配設されている。逆止弁３２はベント管２
４の先端に接続されており、ベントガスの逆流の防止を
図っている。また、逆止弁３２の出口から延びる配管３
６はバッファ容器３４に接続されており、バッファ容器
３４は配管３８を介して処理筒２６の導入管３９に接続
されている。バッファ容器３４は、エジェクタ２２から
の高圧のベントガスを一旦蓄積し、圧力を下げて処理筒
２６に対する圧力による負荷を緩和するよう機能する。
バッファ容器３４の出口部ないしは配管３８にはオリフ
ィス４０が設けられており、バッファ容器３４から流出
するガスの流れを絞り、処理筒２６に対する圧力負荷を
緩和するようになっている。

【００２０】処理筒２６は、図２及び図３に明示するよ
うに、一端が閉じられ他端が開放された略円筒状のホル
ダ４２と、このホルダ４２に嵌合され、内部に薬剤２８
が充填された薬剤カートリッジ４４とから構成されてい
る。

【００２１】ホルダ４２はキャビネット３０内の適所
に、その中心軸線が略水平方向となるようにして固定さ
れている。ホルダ４２の閉鎖端部４３の中央部には処理
済みガスの排出口４６が形成されており、そこに配管４
８が接続されている。この配管４８は、キャビネット３
０の外部に設けられたウォータスクラバー等に接続し
て、処理済みガスに含まれている、モノシランの酸化に
より生じたＳｉＯ₂粒子を除去できるようにすることが
好ましい。

【００２２】ホルダ４２の開放端部の周縁には、薬剤カ
ートリッジ４４を固定するためのフランジ５８が形成さ
れている。フランジ５８の、閉鎖端部４３とは反対側の
面には環状のシール材６０が配設されている。

【００２３】薬剤カートリッジ４４は、ホルダ４２の内
径よりも小さな外径を有する略円筒形の容器である。図
示実施形態の薬剤カートリッジ４４は、カップ状部分６
４と、このカップ状部分６４のフランジ６６にスナップ
リング６８で固定された略円筒状部分７０とから構成さ
れている。

【００２４】カップ状部分６４の側壁６５には、ベント
ガスの導入管３９が貫通して気密に固定されている。こ
の導入管３９の外側端部は、図１に示すように、好まし
くは伸縮継手４５を介してキャビネット３０に設置され
た配管３８に接続される。導入管３９の内側端部は、そ
の開口がカップ状部分６４の閉鎖端部６７に向けられて
いる。

【００２５】また、略円筒状部分７０は、実質的にホル
ダ４２に嵌合される部分である。この略円筒状部分７０
の一端（カップ状部分６４とは反対側の端部）は閉鎖端
部７２となっている。この閉鎖端部７２の中央部には開
口７４が形成されており、略円筒状部分７０がホルダ４
２に適正に嵌合された状態で、開口７４は接続管７６に
よってホルダ４２の排出口４６に接続されるようになっ
ている。

【００２６】図示実施形態では、カップ状部分６４のフ
ランジ６６は、略円筒状部分７０をホルダ４２に嵌合し
た場合、ホルダ４２のフランジ５８と重なる。また、フ
ランジ６６の外周面にはねじ部７８が形成されており、
このねじ部７８に、ユニオンナットの如き内向きフラン
ジ付きめねじ部材８０を螺合することで、両フランジ５
８，６６は締結される。なお、フランジ５８上のシール
材６０がフランジ６６に接するため、両者間は気密にシ
ールされる。また、薬剤カートリッジ４４のカップ状部
分６４と略円筒状部分７０との間の接合部は、フランジ
５８，６６の間であって、シール材６０よりも内側に位
置しているので、この接合部から万が一ガスが漏洩して
も、それが処理筒２６の外部に漏出することはない。

【００２７】薬剤カートリッジ４４のカップ状部分６４
の開放側端部には、薬剤２８が充填されたカートリッジ
本体部８２が接合され、これはまた、略円筒状部分７０
の内側に同軸に配置されている。カートリッジ本体部８
２は、複数の仕切り板８４により内部が複数の小室８６
に区切られており、各小室８６内には除害用の薬剤２８
が密に充填されている。前述したように、処理筒２６は
横置き型であるので、小室８６は横方向に並べて配置さ
れることになる。

【００２８】カートリッジ本体部８２の構成としては種
々考えられるが、図示実施形態では、複数の略円筒体８
８を互いに結合して構成されたものである。略円筒体８
８同士の結合方法としてはねじ結合や接着等があり、略
円筒体８８同士の間には気密性を維持するためにシール
材（図示しない）が配置される。また、仕切り板８４
は、隣合う略円筒体８８の間に挟持されるよう配置され
ている。カートリッジ本体部８２の端部を構成する略円
筒体８８ａ，８８ｂは閉鎖板９０ａ，９０ｂにより閉じ
られている。閉鎖板９０ａの中央部には開口９２が形成
されており、これは適当なシール材を介して略円筒状部
分７０の閉鎖端部７２の開口７４と連通している。ま
た、他方の閉鎖板９０ｂはその中央部に、ベントガスが
導入されるガス導入口９４が形成されている。

【００２９】カートリッジ本体部８２内の仕切り板８４
には、ガスの通路となるオリフィス（小孔）９６が形成
されている。各オリフィス９６は仕切り板８４の中心点
から偏心して形成されている。このような仕切り板８４
は、処理筒２６をキャビネット３０内に所定の向きにて
取り付けた状態においては、オリフィス９６がガスの流
れ方向に沿って上下に互い違いとなるよう配列されてい
ることが有効である。

【００３０】なお、上述したシール材は、ベントガスに
対して耐久性のある材料、本実施形態ではモノシランに
対して耐久性のある例えば「バイトン（ＶＩＴＯＮ）」
（米国デュポン社の商標）のようなエラストマーからな
るものが好ましい。

【００３１】次に、上述したような構成において本発明
による除害装置１０の作用について説明する。

【００３２】まず、シリンダキャビネット１４内のパー
ジ回路２０から、配管内に残留しているモノシランを含
むガスがエジェクタ２２の吸引・排出作用により排出さ
れると、このベントガスはベント管２４を経て除害装置
１０のキャビネット３０内のバッファ容器３４に導入さ
れる。バッファ容器３４の上流側には逆止弁３２がある
ため、ベントガスがシリンダキャビネット１４内に戻る
おそれはない。

【００３３】バッファ容器３４内で一旦蓄積されたベン
トガスは、バッファ容器３４の出口部のオリフィス４０
を通り、配管３８，４５及び導入管３９から処理筒２６
内に導入される。処理筒２６を流れるベントガスは、バ
ッファ容器３４内で一旦蓄積された結果、エジェクタ２
２の出口側の高圧状態及び圧力変動が緩和されている。
また、バッファ容器３４の出口部に設けられたオリフィ
ス４０によっても、ベントガスの圧力が降下する。従っ
て、処理筒２６に対しての圧力による負荷は、エジェク
タ２２から直接ベントガスを送り込む場合に比して小さ
なものとなる。従来においては、エジェクタ２２から直
接ベントガスを処理筒に送り込んでいたため、多量の薬
剤を使用し処理筒が大型にならざるを得なかったが、図
示実施形態の如く、バッファ容器３４やオリフィス４０
のような圧力緩和手段をエジェクタ２２と処理筒２６と
の間に介在させることで、薬剤２８は少なくて済み、処
理筒２６は小型化される。

【００３４】また、導入管３９の内側端部は、薬剤カー
トリッジ４４のカップ状部分６４内で開口されている
が、カップ状部分６４内には薬剤２８は充填されておら
ず、バッファ容器と同様な圧力緩和作用を呈する。更
に、導入管３９の内側端部の開口はカップ状部分６４の
閉鎖端部６７に向けられており、これによっても圧力変
動が緩和されることになる。

【００３５】導入管３９から薬剤カートリッジ４４のカ
ップ状部分６４内に送り込まれたベントガスは、カート
リッジ本体部８２内に開口９４を通って導入される。そ
して、ベントガスは仕切り板８４の偏心オリフィス９６
を通って薬剤２８中を進み、ベントガス中のモノシラン
ガスが薬剤２８によって酸化され、除害された処理済み
ガスとして開口９４、７４及び接続管７６を経て、ホル
ダ４２の排出口４６から排出される。この際、仕切り板
８４の存在により各小室８６における薬剤２８中でのベ
ントガスの滞留時間が延び、薬剤２８による酸化反応が
促進される。これは、少量の薬剤２８でも効果的な除害
が可能なことを意味する。更にまた、オリフィス９６は
偏心して設けられて、且つ、上下に千鳥配列となってい
るので、図２の矢印で示すようにベントガスは或る小室
８６では下から上に流れ、その次の小室８６では上から
下に流れ、薬剤２８全体にむら無く接する。従って、カ
ートリッジ本体部８２内を仕切り板８４で小室８６に区
切った効果と相俟って、薬剤２８による除害は更に促進
され、薬剤２８のより一層の少量化、ひいては処理筒２
６の更なる小型化を図ることが可能となる。

【００３６】カートリッジ本体部８２から排出された処
理済みガスは配管４８を通り、ウォータスクラバー等を
通してＳｉＯ₂粒子が除去された後、大気等に放出され
る。

【００３７】薬剤２８は一定の分量のベントガスを処理
し破過に達したならば、薬剤２８の交換が必要となる。
従来においては、薬剤は単筒構造の処理筒内に充填され
ていたため、薬剤の交換には処理筒全体をキャビネット
から取り出す必要があったが、図示実施形態の処理筒２
６は、薬剤２８が薬剤カートリッジ４４に納められてい
るため、薬剤カートリッジ４４の交換のみで足りるもの
となっている。薬剤カートリッジ４４をホルダ４２から
取り外すには、めねじ部材８０を緩めて、フランジ５
８，６６を締結を解く。そして、導入管３９を伸縮継手
４５から切り離し、薬剤カートリッジ４４をホルダ４２
から引き出すだけでよい。また、新規な薬剤カートリッ
ジ４４をホルダ４２に装着する場合には、前記とは逆の
手順を行えばよい。この際、処理筒２６自体が小型軽量
であるので、交換作業を容易に行うことができる。

【００３８】なお、薬剤カートリッジ４４のみの交換で
足りることにより、伸縮継手４５は１個だけでよいとい
う効果も奏する。すなわち、処理筒全体を交換する場合
には、処理筒の入口側での継手部及び出口側での継手部
の２カ所において伸縮継手を用いて、処理筒の移動に伴
う固定配管への影響を抑制する必要があったが、本実施
形態では入口側となるホルダ４２がキャビネット３０内
で固定されるため、伸縮継手４５は可動な薬剤カートリ
ッジ４４との継手部のみでよい。

【００３９】また、横置き型の処理筒２６で、薬剤カー
トリッジ４４とホルダ４２とからなる構成では、薬剤カ
ートリッジ４４を水平方向に引き出すことで交換が可能
となる。これは、図４に示すように、キャビネット３０
内に処理筒２６を縦に並べても、薬剤カートリッジ４４
の交換が可能であり、一つのキャビネット３０内に多数
の処理筒２６を設置できることを意味する。従って、同
処理筒２６を縦置きとした場合に比較しても、一つの除
害装置１０における処理筒２６の数を多くすることがで
き、処理すべきガスの種類の増加にも省スペースにて対
応可能となる。

【００４０】以上、本発明の好適な実施形態について詳
細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない
ことは言うまでもない。

【００４１】例えば、薬剤カートリッジ４４は、上記実
施形態とは異なり、内部が仕切り板で複数の小室に区切
られ、各小室に薬剤が充填されたものであれば、どのよ
うな形式であってもよい。例えば、図５及び図６に示す
ように、一つの筒体２００からなる薬剤カートリッジ４
４であってもよい。この場合、図５に示すように、筒体
２００の内周面にねじ部２０２を設け、外周面にねじ部
が形成された仕切り板２０４をそこに螺合させ、小室２
０６を複数形成したものが考えられる。なお、図５及び
図６において、符号２０８は、仕切り板２０４と筒体２
００との間からのガスの漏洩を防止するためのＯリング
であり、符号２１０は、筒体２００内の内周面のねじ部
２０２と螺合して仕切り板２０４との間でＯリング２０
８を挟持する押えリングである。

【００４２】また、仕切り板に形成されるベントガスの
通路はオリフィスでなくとも、色々な形態が考えられ、
図６に示すような形状に仕切り板２０４を形成して、符
号２１２で示す小さな開口をガス通路としたものであっ
てもよい。このようなガス通路２１２も流れを制限し、
オリフィス９６と同等の機能を果たす。

【００４３】なお、図５及び図６に示す第２実施形態
は、ホルダ４２と薬剤カートリッジ４４との締結手段も
先の第１実施形態と異なっている。第２実施形態では、
筒体２００の側壁面にフランジ１８６が一体形成されて
いる。このフランジ１８６は、筒体２００をホルダ４２
に嵌合した場合、ホルダ４２のフランジ５８と当接す
る。また、フランジ１８６には、ホルダ４２のフランジ
５８に形成された切欠き１６６とそれぞれ一致する切欠
き１８８が形成されている。従って、これらのフランジ
５８，１８６を重ね合わせた状態で、ホルダ４２の外壁
面に設けられたスイングボルト１６４を切欠き１６６，
１８８に挿入した後、スイングボルト１６４の先端部の
ねじ部にナット１９０を螺合することで、両フランジ５
８，１８６は締結される。この状態では、薬剤カートリ
ッジ４４のホルダ４２に対する周方向の位置が一定に定
まり、図示実施形態では導入管３９は常に下向きとな
る。

【００４４】更に、上記実施形態では、処理筒は横置き
としているが、縦置き型であっても、処理筒の内部内が
仕切り板により区切られている場合には従来よりも小型
なものとなる。

【００４５】また、処理筒に対する圧力負荷を緩和する
圧力緩和手段としては、バッファ容器やオリフィスに限
られず、圧力制御弁の如きものであってもよい。

【００４６】薬剤の種類についても、ベントガス内の被
処理ガスに応じて変更可能である。

【００４７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、処
理筒の小型化、除害装置の小型化が可能となる。従っ
て、薬剤が破過に達した際等の処理筒の交換を少ない労
力で容易に行うことが可能となる。また、多種多様なベ
ントガスの除害処理にも、除害装置の設置面積は小さく
て済み、施設のスペースの有効利用を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による除害装置を示す概略図である。

【図２】本発明よる処理筒の一実施形態を示す断面図で
ある。

【図３】図２のIII−III線に沿っての断面図である。

【図４】図２の処理筒をキャビネットに組み込んだ状態
を示す部分斜視図である。

【図５】本発明よる処理筒の別の実施形態を示す断面図
である。

【図６】図５のVI−VI線に沿っての断面図である。

【符号の説明】

１０…除害装置、１２…ガス容器、１４…シリンダキャ
ビネット、２２…エジェクタ、２６…処理筒、２８…薬
剤、３０…キャビネット、３２…逆止弁、３４…バッフ
ァ容器（圧力緩和手段）、４０…オリフィス（圧力緩和
手段）、４２…ホルダ、４４…薬剤カートリッジ、６４
…カップ状部分、７０…略円筒状部分、８２…カートリ
ッジ本体部、８４，２０４…仕切り板、８６，２０６…
小室、９６…オリフィス（ガス通路）、２１２…ガス通
路。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者川中秀治兵庫県加古郡播磨町新島16番地日本エア・リキード株式会社播磨テクニカルセンター内 (72)発明者茨木義浩東京都江東区東雲１丁目９番１号日本エア・リキード株式会社東京マネージメントセンター内 (72)発明者安藤伸一東京都江東区東雲１丁目９番１号日本エア・リキード株式会社東京マネージメントセンター内Ｆターム(参考） 4D002 AA18 AA22 AA24 AA26 AA27 AA40 AC10 BA05 CA07 DA11 DA23 EA02 EA13 GA03 GB04 HA10 5F045 BB08 EG07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガスを処理する薬剤が充填されている処
理筒であって、内部を複数の小室に区切る複数の仕切り板を備え、前記
仕切り板に、流れを制限するガス通路が形成されている
ことを特徴とする処理筒。
【請求項２】前記ガス通路はオリフイスであることを
特徴とする請求項１に記載の処理筒。
【請求項３】前記複数の小室が横方向に並ぶよう配置
されるよう構成されており、前記仕切り板の前記ガス通路がガスの流れ方向に沿って
上下に千鳥配列となるよう前記仕切り板が配置されてい
ることを特徴とする請求項１又は２に記載の処理筒。
【請求項４】特殊材料ガスを含むガスを除害処理する
除害装置であって、請求項１〜３のいずれか１項に記載の処理筒と、前記処理筒のガス導入口に導入されるガスの圧力による
負荷を緩和する圧力緩和手段と、前記処理筒及び前記圧力緩和手段を囲むキャビネットと
を備える除害装置。
【請求項５】前記圧力緩和手段が、前記処理筒の前記
ガス導入口に接続されるバッファ容器であることを特徴
とする請求項４に記載の除害装置。
【請求項６】前記圧力緩和手段が、前記処理筒の前記
ガス導入口に連通する配管中に設けられたオリフィスで
あることを特徴とする請求項４に記載の除害装置。