JP2002343719A - 高純度液体物質の貯蔵容器 - Google Patents
高純度液体物質の貯蔵容器Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4401—Means for minimising impurities, e.g. dust, moisture or residual gas, in the reaction chamber
- C23C16/4407—Cleaning of reactor or reactor parts by using wet or mechanical methods
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
- C23C16/4481—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 貯蔵容器の接続部品やラインを浄化するため
の操作が容易で、信頼性の高い装置を提供する。 【構成】 消費装置へ供給する液体物質の貯蔵容器
（１）に、該貯蔵容器（１）を切り換えた場合、複数の
接続部品(７、８、１３、１８)を浄化するための装置が
配設される。これらの接続部品（７，８，１３，１４）
を洗浄するための溶媒容器（２３）とこれら接続部品
（７，８，１３，１４）内に溶媒を吸入するため真空源
として内部排気される使用済み溶媒のための容器（２
８）とが、該貯蔵容器（１）と共に匣体（３０）を構成
する。
の操作が容易で、信頼性の高い装置を提供する。 【構成】 消費装置へ供給する液体物質の貯蔵容器
（１）に、該貯蔵容器（１）を切り換えた場合、複数の
接続部品(７、８、１３、１８)を浄化するための装置が
配設される。これらの接続部品（７，８，１３，１４）
を洗浄するための溶媒容器（２３）とこれら接続部品
（７，８，１３，１４）内に溶媒を吸入するため真空源
として内部排気される使用済み溶媒のための容器（２
８）とが、該貯蔵容器（１）と共に匣体（３０）を構成
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特許請求の範囲請求項
１の前文において規定したように、貯蔵容器を切り換え
た場合複数の接続部品及び接続ラインを洗浄するための
装置を有してなる、消費装置へ供給する液体物質のため
の貯蔵容器に係わる。
１の前文において規定したように、貯蔵容器を切り換え
た場合複数の接続部品及び接続ラインを洗浄するための
装置を有してなる、消費装置へ供給する液体物質のため
の貯蔵容器に係わる。
【０００２】かかる消費装置とは、例えば化学蒸着（Ｃ
ＶＤ）反応装置である。このようなＣＶＤ反応装置は、
半導体チップ、即ち集積微小回路やその他の類似素子を
製造するために使用される。更に、例えば硬質材料層又
はガラス繊維を製造する装置には、液状化学薬品が供給
されねばならず、このような機器素子に対する需要が絶
えず増大するのに対応するために、対応するプロセスに
おいて極めて高純度の物質を使用する必要がある。
ＶＤ）反応装置である。このようなＣＶＤ反応装置は、
半導体チップ、即ち集積微小回路やその他の類似素子を
製造するために使用される。更に、例えば硬質材料層又
はガラス繊維を製造する装置には、液状化学薬品が供給
されねばならず、このような機器素子に対する需要が絶
えず増大するのに対応するために、対応するプロセスに
おいて極めて高純度の物質を使用する必要がある。
【０００３】
【従来の技術】このような消費装置に供給される物質を
含む貯蔵容器を切り換えした場合、当該貯蔵容器から反
応装置に到るラインにおいて不純物・汚染物が生じる危
険がある。特に当該貯蔵容器を切り換えた場合、空気の
流入・混入が不可避である。その結果、特に前記物質
は、通常は有機金属化合物又は半金属化合物であるの
で、空気及び/又は湿気に対して極めて感受性が高く、
供給ライン内において液体物質の残渣が分解するに到り
得る。
含む貯蔵容器を切り換えした場合、当該貯蔵容器から反
応装置に到るラインにおいて不純物・汚染物が生じる危
険がある。特に当該貯蔵容器を切り換えた場合、空気の
流入・混入が不可避である。その結果、特に前記物質
は、通常は有機金属化合物又は半金属化合物であるの
で、空気及び/又は湿気に対して極めて感受性が高く、
供給ライン内において液体物質の残渣が分解するに到り
得る。
【０００４】前記した不純物を除去するために従来か
ら、貯蔵容器を切り換えた後、特定のラインを真空ポン
プで排気し、次いで溶媒容器から溶媒を吸入してからそ
の溶媒を廃棄物容器内に排出することによって、消費装
置と洗浄ラインとを接続するライン及び貯蔵容器内の物
質に加圧するための圧力ガスラインとを清掃して、浄化
してきた。この洗浄プロセスは、一般的には数回実施す
るのであるが、浄化処理操作には、注意深い作業を行え
る、信頼性の高い作業者が必要であり、長時間を要し
（例えば、当該溶媒容器及び使用済み溶媒のための廃棄
物容器の液面や真空度をモニターする必要がある）而も
これら以外の溶媒容器や使用済み溶媒のための廃棄物容
器があるため念入りな作業となる。
ら、貯蔵容器を切り換えた後、特定のラインを真空ポン
プで排気し、次いで溶媒容器から溶媒を吸入してからそ
の溶媒を廃棄物容器内に排出することによって、消費装
置と洗浄ラインとを接続するライン及び貯蔵容器内の物
質に加圧するための圧力ガスラインとを清掃して、浄化
してきた。この洗浄プロセスは、一般的には数回実施す
るのであるが、浄化処理操作には、注意深い作業を行え
る、信頼性の高い作業者が必要であり、長時間を要し
（例えば、当該溶媒容器及び使用済み溶媒のための廃棄
物容器の液面や真空度をモニターする必要がある）而も
これら以外の溶媒容器や使用済み溶媒のための廃棄物容
器があるため念入りな作業となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、特許請求の範囲請求項１の前文において記載した態
様の貯蔵容器の接続部品やラインを浄化するための操作
が容易で、信頼性の高い装置を提供することである。
は、特許請求の範囲請求項１の前文において記載した態
様の貯蔵容器の接続部品やラインを浄化するための操作
が容易で、信頼性の高い装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かかる装置の提供は、本
発明に従えば、請求項１において特徴づけられた、貯蔵
容器の接続部品やラインを浄化するための一体化された
装置を有してなる、高純度液体物質のための貯蔵容器に
よって実現されるのである。従属請求項においては、本
発明に従った貯蔵容器の有利な実施態様を幾つか記載す
るものである。
発明に従えば、請求項１において特徴づけられた、貯蔵
容器の接続部品やラインを浄化するための一体化された
装置を有してなる、高純度液体物質のための貯蔵容器に
よって実現されるのである。従属請求項においては、本
発明に従った貯蔵容器の有利な実施態様を幾つか記載す
るものである。
【０００７】
【発明を実施する形態】即ち、本発明に従えば、当該貯
蔵容器は、溶媒容器及び/又はこの洗浄プロセスの真空
源となる内部排気された容器と共に匣体として構成され
るのである。
蔵容器は、溶媒容器及び/又はこの洗浄プロセスの真空
源となる内部排気された容器と共に匣体として構成され
るのである。
【０００８】さらには、洗浄に使用した使用済み溶媒の
ための容器を提供することが出来る。前記容器はまた、
内部排気された容器と組み合わせることが出来る。かか
る貯蔵容器はかくして、一基、二基又は三基の更に追加
された容器と共に匣体を構成することが可能であり、か
くして容器を切り換えた場合新規の匣体で全体を置換出
来ることになる。
ための容器を提供することが出来る。前記容器はまた、
内部排気された容器と組み合わせることが出来る。かか
る貯蔵容器はかくして、一基、二基又は三基の更に追加
された容器と共に匣体を構成することが可能であり、か
くして容器を切り換えた場合新規の匣体で全体を置換出
来ることになる。
【０００９】このことによって、ロジスティックスは大
幅に簡略化され、同時に又操作上の誤謬が生じる可能性
はかなり低減される。その理由は、例えば溶媒容器、使
用済み溶媒を収容するための容器及び内部排気された容
器を、充分な溶媒、使用済み溶媒の全量及び真空が、容
器切り換え時の洗浄に常時利用できるように設計するこ
とが出来るからである。
幅に簡略化され、同時に又操作上の誤謬が生じる可能性
はかなり低減される。その理由は、例えば溶媒容器、使
用済み溶媒を収容するための容器及び内部排気された容
器を、充分な溶媒、使用済み溶媒の全量及び真空が、容
器切り換え時の洗浄に常時利用できるように設計するこ
とが出来るからである。
【００１０】基も単純な場合においては、このかかる匣
体は、当該液体物質貯蔵容器以外に一基だけの溶媒容器
からなっていてもよい。接続部品を浄化するための真空
は、例えば真空ポンプによって生成させることが出来、
また使用済み溶媒を収容するため、匣体とは独立して廃
棄物容器を設けてもよい。
体は、当該液体物質貯蔵容器以外に一基だけの溶媒容器
からなっていてもよい。接続部品を浄化するための真空
は、例えば真空ポンプによって生成させることが出来、
また使用済み溶媒を収容するため、匣体とは独立して廃
棄物容器を設けてもよい。
【００１１】接続部品を洗浄するための真空源として内
部排気された容器の一基を設けた匣体を貯蔵容器と共に
構成するか、又は貯蔵容器以外に使用済み溶媒のための
廃棄物容器のみを設けた匣体を構成することも可能であ
る。
部排気された容器の一基を設けた匣体を貯蔵容器と共に
構成するか、又は貯蔵容器以外に使用済み溶媒のための
廃棄物容器のみを設けた匣体を構成することも可能であ
る。
【００１２】しかしながら、匣体は、好ましくは、貯蔵
容器以外に溶媒容器及び使用済み溶媒を収容するための
容器としても構成されていてもよい。
容器以外に溶媒容器及び使用済み溶媒を収容するための
容器としても構成されていてもよい。
【００１３】溶媒容器、内部排気された容器及び使用済
み溶媒のための独立した廃棄物容器とは、内部が排気さ
れた容器以外に存在する場合は極めて多様な態様で組み
合わせて貯蔵容器と共に一つの匣体にすることが出来
る。例えば、前記した三つの容器類は、液体物質貯蔵容
器と並列して、その下方又はその内部のいずれかで設置
することが出来る。溶媒用、真空用及び/又は使用済み
溶媒用容器は幾つか複数設けてもよく、またメインの容
器の周囲に二重又は多重ジャケットにより構成されてい
てもよい。しかしながら、これら容器類は常に、輸送や
貯蔵に使用できる貯蔵容器と共に匣体を構成する。
み溶媒のための独立した廃棄物容器とは、内部が排気さ
れた容器以外に存在する場合は極めて多様な態様で組み
合わせて貯蔵容器と共に一つの匣体にすることが出来
る。例えば、前記した三つの容器類は、液体物質貯蔵容
器と並列して、その下方又はその内部のいずれかで設置
することが出来る。溶媒用、真空用及び/又は使用済み
溶媒用容器は幾つか複数設けてもよく、またメインの容
器の周囲に二重又は多重ジャケットにより構成されてい
てもよい。しかしながら、これら容器類は常に、輸送や
貯蔵に使用できる貯蔵容器と共に匣体を構成する。
【００１４】内部排気された容器は、固体の吸収剤、例
えばゼオライトなどのモレキュラーシーブを含んでいて
もよい。この吸収剤は、内部排気された容器内の真空を
保持するために、即ち洩れ口から侵入した空気を吸収す
るために設けられるのである。内部排気された容器が、
使用済み溶媒を収容した場合は、この吸収剤は、溶媒を
吸収する機能を持つ。この吸収剤の特性は従って、当該
溶媒に適合したものである。即ち、へキサンなどの疎水
性溶媒については、疎水性吸収剤を使用し、また例えば
エタノールなどの親水性溶媒に対しては、親水性吸収剤
を用いるのである。
えばゼオライトなどのモレキュラーシーブを含んでいて
もよい。この吸収剤は、内部排気された容器内の真空を
保持するために、即ち洩れ口から侵入した空気を吸収す
るために設けられるのである。内部排気された容器が、
使用済み溶媒を収容した場合は、この吸収剤は、溶媒を
吸収する機能を持つ。この吸収剤の特性は従って、当該
溶媒に適合したものである。即ち、へキサンなどの疎水
性溶媒については、疎水性吸収剤を使用し、また例えば
エタノールなどの親水性溶媒に対しては、親水性吸収剤
を用いるのである。
【００１５】溶媒容器、内部排気された容器及び使用済
み溶媒のための容器―存在した場合―とは、遮断装置を
介して圧力ガスライン及び洗浄ラインの接続部品に、好
ましくは圧力ガスラインの継手と遮断装置との間又は洗
浄ラインの継手と遮断装置との間において接続されるよ
うに適合される。この遮断装置は、バルブ、コックなど
であればよい。好ましくは、貯蔵容器への圧力ガスライ
ンの接続部品は、遮断装置を付した接続ラインによって
洗浄ラインの接続部品と接続される。
み溶媒のための容器―存在した場合―とは、遮断装置を
介して圧力ガスライン及び洗浄ラインの接続部品に、好
ましくは圧力ガスラインの継手と遮断装置との間又は洗
浄ラインの継手と遮断装置との間において接続されるよ
うに適合される。この遮断装置は、バルブ、コックなど
であればよい。好ましくは、貯蔵容器への圧力ガスライ
ンの接続部品は、遮断装置を付した接続ラインによって
洗浄ラインの接続部品と接続される。
【００１６】圧力ガスラインと洗浄ラインの接続部品に
おける遮断装置並びに溶媒容器、内部排気された容器及
び使用済み溶媒の容器―存在した場合―を圧力ガスライ
ンと洗浄ガスラインの接続部品に接続する遮断装置とは
好ましくは、洗浄ラインに加えて圧力ガスラインと洗浄
ラインのための接続部品及び選択的には圧力ガスを貯蔵
容器に供給するポートとに接続したチャンネルを付設し
た一枚のプレートに接続される。このプレートにはもう
一つ別のチャンネルを、圧力ガスラインと洗浄ラインの
ための接続部品を相互に接続する接続ラインによって構
成させてもよい。
おける遮断装置並びに溶媒容器、内部排気された容器及
び使用済み溶媒の容器―存在した場合―を圧力ガスライ
ンと洗浄ガスラインの接続部品に接続する遮断装置とは
好ましくは、洗浄ラインに加えて圧力ガスラインと洗浄
ラインのための接続部品及び選択的には圧力ガスを貯蔵
容器に供給するポートとに接続したチャンネルを付設し
た一枚のプレートに接続される。このプレートにはもう
一つ別のチャンネルを、圧力ガスラインと洗浄ラインの
ための接続部品を相互に接続する接続ラインによって構
成させてもよい。
【００１７】遮断バルブを取り付けたこのようなプレー
トは、“表面装着装置”と称され、短いチャンネル、従
って小さい死容積(dead volumes)、より優れたシール及
び簡単な取り付けが特徴である。その理由は、例えば当
該遮断装置は、プレート中のシール効果のある相当した
ネジ切り孔にネジ止めしさえすればよいからである。こ
れらの接続部品及び選択的には圧力ガスライン及び洗浄
ラインのための継手も同様に、前記プレートに一体化す
ることが出来る。
トは、“表面装着装置”と称され、短いチャンネル、従
って小さい死容積(dead volumes)、より優れたシール及
び簡単な取り付けが特徴である。その理由は、例えば当
該遮断装置は、プレート中のシール効果のある相当した
ネジ切り孔にネジ止めしさえすればよいからである。こ
れらの接続部品及び選択的には圧力ガスライン及び洗浄
ラインのための継手も同様に、前記プレートに一体化す
ることが出来る。
【００１８】圧力ガスラインと洗浄ラインの接続部品に
おける遮断装置並びに溶媒容器、内部排気された容器及
び使用済み溶媒の容器―存在した場合―を圧力ガスライ
ンと洗浄ガスラインの接続部品に接続する遮断装置とは
好ましくは、自動的に作動可能であるように構成され
る。かかる自動作動化のために、遮断装置は、空気力式
又は電気式に作動可能であるように構成することが出来
る。
おける遮断装置並びに溶媒容器、内部排気された容器及
び使用済み溶媒の容器―存在した場合―を圧力ガスライ
ンと洗浄ガスラインの接続部品に接続する遮断装置とは
好ましくは、自動的に作動可能であるように構成され
る。かかる自動作動化のために、遮断装置は、空気力式
又は電気式に作動可能であるように構成することが出来
る。
【００１９】好ましくは、貯蔵容器を設けた匣体を切り
換えた後、洗浄・浄化プロセスが自動的に行われるよう
にこれらの遮断装置を駆動するための制御装置が設けら
れるのである。
換えた後、洗浄・浄化プロセスが自動的に行われるよう
にこれらの遮断装置を駆動するための制御装置が設けら
れるのである。
【００２０】これらの遮断装置を、電気制御ラインを介
した外部制御装置によって駆動する場合、かかる遮断装
置からの制御ラインをプラグ、ソケット又は該制御装置
と接続するための接合部品と嵌合できるその他のプラグ
型部品で接続することが有利である。こうすることによ
って、匣体を切り換えた後に制御ラインが制御装置に接
続した場合、エラーが起きるのを防止することが出来
る。かかるプラグ型部品はまた同時に、液面表示計を備
えた貯蔵容器中の液面測定装置に接続していてもよい。
した外部制御装置によって駆動する場合、かかる遮断装
置からの制御ラインをプラグ、ソケット又は該制御装置
と接続するための接合部品と嵌合できるその他のプラグ
型部品で接続することが有利である。こうすることによ
って、匣体を切り換えた後に制御ラインが制御装置に接
続した場合、エラーが起きるのを防止することが出来
る。かかるプラグ型部品はまた同時に、液面表示計を備
えた貯蔵容器中の液面測定装置に接続していてもよい。
【００２１】
【実施例】以下において、本発明の分析装置のシングル
チャンネル及びダブルチャンネルでの実施態様を、図面
を参照して実施例として説明する。
チャンネル及びダブルチャンネルでの実施態様を、図面
を参照して実施例として説明する。
【００２２】図１に従えば、液面２にまで液体物質で満
たした貯蔵容器１は、圧力ガスライン３及び例えばＣＶ
Ｄ反応装置などの消費装置に到る排出ライン４とに接続
されている。
たした貯蔵容器１は、圧力ガスライン３及び例えばＣＶ
Ｄ反応装置などの消費装置に到る排出ライン４とに接続
されている。
【００２３】圧力ガスライン3及び排出ライン4とは、そ
れぞれバルブ５，６を有してなるが、特にライン４にお
けるバルブ６はまた、当該液体物質を複数の消費装置に
供給するマニホルドに配設することも出来る。バルブ
５，６は、接続部品７，８を介して継手１０，１１と接
続される。
れぞれバルブ５，６を有してなるが、特にライン４にお
けるバルブ６はまた、当該液体物質を複数の消費装置に
供給するマニホルドに配設することも出来る。バルブ
５，６は、接続部品７，８を介して継手１０，１１と接
続される。
【００２４】貯蔵容器１内の液体物質２を圧力ライン３
の圧力に供するために、接続部品１３は、容器１のカバ
ー１２に配設されるが、前記接続部品は、例えばポート
１４を経由して物質２の上方において容器１に開口し且
つ継手１０と接続することが出来るバルブ１５及び継手
１６を有してなるのである。接続部品１３を介して供与
された圧力ガスによって加圧された貯蔵容器中の液体２
を消費装置へのライン４に供給するには、カバー１の下
部に突出し且つ洗浄ライン１７として構成された排出ラ
インが、カバー１２に配設され、且つバルブ１９及び継
手１１と接続するための継手２１とを付設した接続部品
１８に接続される。相互に接続可能な継手１０，１６及
び１１，２１は、ガスラインに使用する通常の接続部品
により構成される。
の圧力に供するために、接続部品１３は、容器１のカバ
ー１２に配設されるが、前記接続部品は、例えばポート
１４を経由して物質２の上方において容器１に開口し且
つ継手１０と接続することが出来るバルブ１５及び継手
１６を有してなるのである。接続部品１３を介して供与
された圧力ガスによって加圧された貯蔵容器中の液体２
を消費装置へのライン４に供給するには、カバー１の下
部に突出し且つ洗浄ライン１７として構成された排出ラ
インが、カバー１２に配設され、且つバルブ１９及び継
手１１と接続するための継手２１とを付設した接続部品
１８に接続される。相互に接続可能な継手１０，１６及
び１１，２１は、ガスラインに使用する通常の接続部品
により構成される。
【００２５】二つの接続部品１３及び１８は、接続ライ
ン２２によってバルブ２０と接続される。この接続部品
１８にバルブ２５を介して接続されるのは、溶媒２４の
ための容器２３であり、またバルブ２６を介して接続さ
れるのは、内部が排気され且つ固体吸収剤を含む容器２
７である。容器２４及び/又は２８の接続は、接続部品
１３及び/又は接続ライン２２に対して行ってもよい。
ン２２によってバルブ２０と接続される。この接続部品
１８にバルブ２５を介して接続されるのは、溶媒２４の
ための容器２３であり、またバルブ２６を介して接続さ
れるのは、内部が排気され且つ固体吸収剤を含む容器２
７である。容器２４及び/又は２８の接続は、接続部品
１３及び/又は接続ライン２２に対して行ってもよい。
【００２６】容器２３及び２７は、貯蔵容器１と共に匣
体３０を構成する（図２を参照）。新規の匣体３０への
供給は、閉止バルブ１５，１９、２０、２５及び２６に
よって行われる。バルブ５及び６は、先に接続していた
匣体を切り替える前に閉止する。継手１０，１６及び１
１，２１を接続する前に空気充填接続部品７，８，１３
及び１８清浄・浄化するためには、先ずバルブ２０及び
１６を開放して、接続部品７，８、１３，１８を、接続
ライン２２及び接続部品１８からバルブ２５，２６まで
のラインを含めて排気処理して真空とするのである。次
いで、バルブ２６を閉止すると共にバルブ２５を開放
し、かくして溶媒２４を容器２３から接続部品７，８，
１３，１８及び接続ライン２２内に流入させる。バルブ
２５を閉止した後、バルブ２６を開放し、その結果接続
部品７，８，１３，１８及び接続ライン２２内の溶媒が
容器２７に吸入されて、内部にある吸収剤に吸収される
ことになる。このプロセスは、数回反復繰り返し実行出
来る。
体３０を構成する（図２を参照）。新規の匣体３０への
供給は、閉止バルブ１５，１９、２０、２５及び２６に
よって行われる。バルブ５及び６は、先に接続していた
匣体を切り替える前に閉止する。継手１０，１６及び１
１，２１を接続する前に空気充填接続部品７，８，１３
及び１８清浄・浄化するためには、先ずバルブ２０及び
１６を開放して、接続部品７，８、１３，１８を、接続
ライン２２及び接続部品１８からバルブ２５，２６まで
のラインを含めて排気処理して真空とするのである。次
いで、バルブ２６を閉止すると共にバルブ２５を開放
し、かくして溶媒２４を容器２３から接続部品７，８，
１３，１８及び接続ライン２２内に流入させる。バルブ
２５を閉止した後、バルブ２６を開放し、その結果接続
部品７，８，１３，１８及び接続ライン２２内の溶媒が
容器２７に吸入されて、内部にある吸収剤に吸収される
ことになる。このプロセスは、数回反復繰り返し実行出
来る。
【００２７】このプロセスを自動的に実行させるために
は、バルブ１５，１９，２０，２５及び２６を、プラグ
型部品３７，３８からなるプラグ接続器を経由して制御
装置３９と接続可能に適合させた電気式制御ライン３１
乃至３４を介して自動的に、例えば空気力式又は電気式
により作動可能とする。接続部品７，８のバルブ５及び
６は、制御ライン３５，３６を経由して制御装置３９に
より作動可能である。浄化処理の終了時点で、バルブ２
０，２５及び２６を閉止する。次いで、バルブ５，１５
及び６，１９を開放すれば、該液体物質を圧力ガスによ
りライン４を経由して当該消費装置に供給することが出
来る。
は、バルブ１５，１９，２０，２５及び２６を、プラグ
型部品３７，３８からなるプラグ接続器を経由して制御
装置３９と接続可能に適合させた電気式制御ライン３１
乃至３４を介して自動的に、例えば空気力式又は電気式
により作動可能とする。接続部品７，８のバルブ５及び
６は、制御ライン３５，３６を経由して制御装置３９に
より作動可能である。浄化処理の終了時点で、バルブ２
０，２５及び２６を閉止する。次いで、バルブ５，１５
及び６，１９を開放すれば、該液体物質を圧力ガスによ
りライン４を経由して当該消費装置に供給することが出
来る。
【００２８】図2に従えば、図1において破線４０によっ
て枠囲みした本装置の部分４０を表面装着装置としてプ
レート４１に一体化し、貯蔵容器１を同時に閉止するも
のとすることが出来る。接続部品７，８，１３及び１８
はまた、フランジ４１に設けた中ぐり繰り穴によって構
成するか又は継手１０，１１，１６及び２１と同様にバ
ルブ５，６，１５及び１９に一体化することも可能であ
ることは明らかである。また、接続ライン２０は、接続
部７と８との間に配設することも出来る。
て枠囲みした本装置の部分４０を表面装着装置としてプ
レート４１に一体化し、貯蔵容器１を同時に閉止するも
のとすることが出来る。接続部品７，８，１３及び１８
はまた、フランジ４１に設けた中ぐり繰り穴によって構
成するか又は継手１０，１１，１６及び２１と同様にバ
ルブ５，６，１５及び１９に一体化することも可能であ
ることは明らかである。また、接続ライン２０は、接続
部７と８との間に配設することも出来る。
【００２９】カバー又はプレート４１を保護するため
に、容器１は、辺縁部４３を付したループ形状の繰出し
・伸展部４２を有しており、かくして保護カバーを例え
ば緊縮リングによって固定することが可能となる。
に、容器１は、辺縁部４３を付したループ形状の繰出し
・伸展部４２を有しており、かくして保護カバーを例え
ば緊縮リングによって固定することが可能となる。
【００３０】図2に従えば、図3に図示した匣体３０は、
円周壁４５、環状基部４７を設けた内側に湾曲した底部
４６及び隔壁４８とを有する円筒体として構成させるの
であるが、該隔壁４８は、辺縁部４３を有する繰出し・
伸展部４２に連なる。
円周壁４５、環状基部４７を設けた内側に湾曲した底部
４６及び隔壁４８とを有する円筒体として構成させるの
であるが、該隔壁４８は、辺縁部４３を有する繰出し・
伸展部４２に連なる。
【００３１】洗浄ライン又は排出ライン１７を設けた貯
蔵容器１は、円筒体の内部に円周壁４５と同心状に配置
し、底部４６上に支持される。円周壁４５、底部４６、
隔壁４８と貯蔵容器１との間の空間は、排気されて真空
となり、使用済み溶媒のための容器２７を構成する；即
ち、例えばゼオライトなどの固体吸収剤で満たしてもよ
い。使用済み溶媒はかくして吸収されるため、例えば円
周壁４５が損傷されたとしても、火災の危険は、低減さ
れる。同様に、容器１の中の液体物質２は、容器１が損
傷された場合吸収されることになるので、匣体３０の安
全性は大幅に増大される。容器２７をバルブ２６（図１
を参照）に接続する接続部品４９は、隔壁４８の内部に
設けられる。溶媒容器２３は、貯蔵容器１の周囲におい
て空間２７内に配置されたパイプコイルから構成され
る。またはその代わりに、貯蔵容器１を囲むリング又は
中空円筒が、溶媒容器を構成することも出来る。
蔵容器１は、円筒体の内部に円周壁４５と同心状に配置
し、底部４６上に支持される。円周壁４５、底部４６、
隔壁４８と貯蔵容器１との間の空間は、排気されて真空
となり、使用済み溶媒のための容器２７を構成する；即
ち、例えばゼオライトなどの固体吸収剤で満たしてもよ
い。使用済み溶媒はかくして吸収されるため、例えば円
周壁４５が損傷されたとしても、火災の危険は、低減さ
れる。同様に、容器１の中の液体物質２は、容器１が損
傷された場合吸収されることになるので、匣体３０の安
全性は大幅に増大される。容器２７をバルブ２６（図１
を参照）に接続する接続部品４９は、隔壁４８の内部に
設けられる。溶媒容器２３は、貯蔵容器１の周囲におい
て空間２７内に配置されたパイプコイルから構成され
る。またはその代わりに、貯蔵容器１を囲むリング又は
中空円筒が、溶媒容器を構成することも出来る。
【００３２】継手１６，２１及び表面装着装置４０は、
繰出し・伸展部４２内に配置される。表面装着装置４０
は、貯蔵容器１の上に設けたフランジ５２によって接続
されたフランジ４１の上に位置する。表面装着装置内の
バルブ２５（図１を参照）に溶媒容器２３を接続するラ
イン５１は、溶媒容器２３の下端部に接続され、この溶
媒容器は、隔壁４８を貫通する接続部品５３を経由して
充填される。辺縁部４３のカバー５４は、匣体３０をそ
の上端部において閉鎖・終了させる。更に図3において
は、バルブ１５，１９，２０，２５及び２６を駆動・作
動する駆動装置５５−５８の幾つかを示している（図１
を参照）。
繰出し・伸展部４２内に配置される。表面装着装置４０
は、貯蔵容器１の上に設けたフランジ５２によって接続
されたフランジ４１の上に位置する。表面装着装置内の
バルブ２５（図１を参照）に溶媒容器２３を接続するラ
イン５１は、溶媒容器２３の下端部に接続され、この溶
媒容器は、隔壁４８を貫通する接続部品５３を経由して
充填される。辺縁部４３のカバー５４は、匣体３０をそ
の上端部において閉鎖・終了させる。更に図3において
は、バルブ１５，１９，２０，２５及び２６を駆動・作
動する駆動装置５５−５８の幾つかを示している（図１
を参照）。
【図1】 貯蔵容器、溶媒のための容器及び使用済み溶
媒を収容する、真空源としての容器とを備えた匣体の概
略図である；
媒を収容する、真空源としての容器とを備えた匣体の概
略図である；
【図２】 貯蔵容器及び該貯蔵容器中に配置した溶媒の
ための又は使用済み溶媒を収容するための、真空源とし
ての容器を含んでなる匣体の断面図を模式的に示すもの
である；及び
ための又は使用済み溶媒を収容するための、真空源とし
ての容器を含んでなる匣体の断面図を模式的に示すもの
である；及び
【図３】 かかる匣体の一実施態様の断面図を示す。
１ 貯蔵容器 ２ 液体 ３ 圧力ガスライン ４ 排出ライン ５ バルブ ６ バルブ ７ 接続部 １０ 継手 １１ 継手 １２ カバー １３ 接続部品 １４ ポート １５ バルブ １６ 継手 １７ 洗浄ライン １８ 接続部品 １９ バルブ ２０ バルブ ２１ 継手 ２２ 接続ライン ２３ 溶媒容器 ２５ バルブ ２６ バルブ ２７ 排気された容器 ３０ 匣体 ３９ 制御装置 ４０ 表面装着装置 ４５ 円周壁 ４６ 底部 ４７ 環状基部 ４８ 隔壁 ４９ 接続部品 ５１ ライン ５２ フランジ ５３ 接続部品 ５４ カバー ５５ 駆動装置
【手続補正書】
【提出日】平成１４年４月１日（２００２．４．１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図２】
【図３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリストフ・ショルツ ドイツ国、デー−83666 ヴァーキルヘン、 リーデルン、55 Ｆターム(参考） 5F045 AA04 AC07 BB14 EB06 EC07 EE02
Claims (14)
- 【請求項１】 貯蔵容器（１）を切り換えた場合複数の
接続部品（７，８，１３，１８）を浄化するための装置
を有してなる、消費装置へ供給する液体物質の貯蔵容器
（１）において、 遮断装置及び遮断装置を有する圧力ガスラインへの継手
を設けた接続部品に接続する継手とを付設した接続部
品、並びに継手と当該容器中において圧力ガスに供せし
めた物質を消費装置に供給するための遮断装置とを設け
た接続部品に該貯蔵容器内の排出ラインを接続するため
の継手とを有してなり、 更に該貯蔵容器には、該接続部品を洗浄するための溶媒
容器、使用済み溶媒のための容器と該接続部品中に溶媒
を吸入するための真空源とが配設されるに際して、該溶
媒容器（２３）及び/又は内部排気された容器（２７）
とが、該貯蔵容器（１）を含む匣体（３０）からの真空
源を構成するものである前記貯蔵容器。 - 【請求項２】 使用済み溶媒のための容器が、該貯蔵容
器（１）と共に匣体（３０）を構成するものである、請
求項１において記載された貯蔵容器。 - 【請求項３】 内部排気された容器（２７）が、使用済
み溶媒のための容器を構成するものである、請求項１に
おいて記載された貯蔵容器。 - 【請求項４】 内部排気された容器（２７）が、固体の
吸収剤（２８）を含んでいるものである、請求項１又は
３において記載された貯蔵容器。 - 【請求項５】 溶媒容器（２３）、内部排気された容器
（２７）及び/又は使用済み溶媒のための容器とが、遮
断装置（２５，２６）を介して圧力ガスライン（３）へ
の接続部品（１３）及び排出ライン（１７）への接続部
品（１８）とに接続できるように適合されているもので
ある、請求項１ないし４の内のいずれか一項において記
載された貯蔵容器。 - 【請求項６】 圧力ガスライン（３）への接続部品（１
３）及び排出ライン（１７）への接続部品（１８）が、
遮断装置（２０）を配設した接続ライン（２２）を介し
て接続されるものである、請求項１ないし５の内のいず
れか一項において記載された貯蔵容器。 - 【請求項７】 圧力ガスライン（３）及び排出ライン
（１７）へのそれぞれの接続部品（１３、１８）におけ
る該遮断装置（１５，１９）及び/又は溶媒容器（２
３）、内部排気された容器（２７）及び/又は使用済み
溶媒のための容器とを圧力ガスライン（３）及び排出ラ
イン（１７）への接続部品（１３）及び（１８）に接続
する遮断装置（２５，２６）が、貯蔵容器（１）の内部
と排出ライン（１７）及び/又は接続ライン（２２）へ
の該接続部品（１３，１８）を接続するための複数のチ
ャンネルを有する一枚のプレート（４１）の上に配設さ
れるものである、請求項１ないし６の内のいずれか一項
において記載された貯蔵容器。 - 【請求項８】 フランジ（４１）が、貯蔵容器（１）の
開口部を閉止するものである、請求項７において記載さ
れた貯蔵容器。 - 【請求項９】 圧力ガスライン（３）及び排出ライン
（１７）への接続部品（１３、１８）における該遮断装
置（１５，１９）及び/又は溶媒容器（２３）、内部排
気された容器（２７）及び/又は使用済み溶媒のための
容器とを接続部品（１３、１８）に接続する遮断装置
（２５，２６）及び/又は接続ライン（２２）における
遮断装置（２０）とが、制御ライン（３１乃至３４）を
介して自動的に作動可能であるように構成されたもので
ある、請求項１ないし８の内の何れか一項において記載
された貯蔵容器。 - 【請求項１０】 遮断装置（１４，１９，２０，２５，
２６）からの制御ライン（３１乃至３４）が、プラグ式
部品（３７）に接続されて、その結果制御装置（３９）
と接続するための接合部品（３８）と嵌合するにいたる
ものである、請求項９において記載された貯蔵容器。 - 【請求項１１】プラグ式部品（３７）が、迅速着脱継手
として構成されるものである、請求項１０において記載
された貯蔵容器。 - 【請求項１２】貯蔵容器（１）が、ラインをプラグ型部
品（３７）に接続することによって液面表示器に接続さ
れた液面測定装置を含むものである、請求項１０又は１
１において記載された貯蔵容器。 - 【請求項１３】 貯蔵容器が、円筒体の内部に配置され
ており且つ貯蔵容器（１）と円筒体の円周壁（４５）と
の間の空間が、使用済み溶媒のための容器（２７）を構
成するものである、請求項１ないし１２の内のいずれか
一項において記載された貯蔵容器。 - 【請求項１４】 溶媒容器（２３）が、貯蔵容器（１）
の周りを囲んで、貯蔵容器（１）と円筒体の円周壁（４
５）との間の空間内において配置されるものである、請
求項１３において記載された貯蔵容器。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP01108033.0 | 2001-03-29 | ||
| EP01108033A EP1245527B1 (de) | 2001-03-29 | 2001-03-29 | Vorratsbehälter für flüssige, hochreine Substanzen mit einer Einrichtung zur Reinigung der Anschlussstücke und Rohrleitungen des Vorratsbehälters |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002343719A true JP2002343719A (ja) | 2002-11-29 |
| JP4146148B2 JP4146148B2 (ja) | 2008-09-03 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002086165A Expired - Fee Related JP4146148B2 (ja) | 2001-03-29 | 2002-03-26 | 高純度液体物質の貯蔵容器 |
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|---|---|
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| KR (1) | KR100863082B1 (ja) |
| CN (1) | CN1214956C (ja) |
| AT (1) | ATE227242T1 (ja) |
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7237565B2 (en) | 2003-10-08 | 2007-07-03 | Adeka Engineering & Construction Co., Ltd | Fluid feeding apparatus |
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|---|---|---|---|---|
| CN103184412A (zh) * | 2011-12-27 | 2013-07-03 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 真空镀膜机清洗设备 |
| CN107448273B (zh) * | 2017-07-18 | 2021-02-19 | 中国电建集团河南工程公司 | 一种管道系统冲洗设备及燃机油系统化学清洗方法 |
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| DE4142567C1 (ja) * | 1991-12-21 | 1993-06-09 | Burdosa Ing. Herwig Burgert, 6305 Buseck, De | |
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2002
- 2002-02-01 CN CNB021032556A patent/CN1214956C/zh not_active Expired - Fee Related
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- 2002-03-27 SG SG200201770A patent/SG104305A1/en unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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