JP2003126749A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
塗布装置および塗布方法Info
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- JP2003126749A JP2003126749A JP2001327042A JP2001327042A JP2003126749A JP 2003126749 A JP2003126749 A JP 2003126749A JP 2001327042 A JP2001327042 A JP 2001327042A JP 2001327042 A JP2001327042 A JP 2001327042A JP 2003126749 A JP2003126749 A JP 2003126749A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液体材料の塗布を塗布量一定に、かつ高速に
行なえるようにする。 【解決手段】 ワーク３の表面に塗布液１９を塗布する
塗布装置において、制御装置は、ワーク３を保持したス
テージを移動させてワーク３をノズル１６との間に所定
間隙を形成する予め決めた近接位置に配置した後、ノズ
ル１６を通じて塗布液１９を吐出させてワーク３の表面
に接触させ、このワーク３を保持したステージを塗布液
１９の吐出方向と垂直な方向に移動させる吐出移動動作
を繰り返すように構成する。吐出方向と垂直な方向にワ
ーク３を移動させるようにしたことで、ノズル１６の外
側の液溜りを低減することができ、常に一定量の塗布液
１９を塗布可能になるとともに、従来のようなワーク３
の上下動作を要さない分だけスピードアップも実現でき
る。
行なえるようにする。 【解決手段】 ワーク３の表面に塗布液１９を塗布する
塗布装置において、制御装置は、ワーク３を保持したス
テージを移動させてワーク３をノズル１６との間に所定
間隙を形成する予め決めた近接位置に配置した後、ノズ
ル１６を通じて塗布液１９を吐出させてワーク３の表面
に接触させ、このワーク３を保持したステージを塗布液
１９の吐出方向と垂直な方向に移動させる吐出移動動作
を繰り返すように構成する。吐出方向と垂直な方向にワ
ーク３を移動させるようにしたことで、ノズル１６の外
側の液溜りを低減することができ、常に一定量の塗布液
１９を塗布可能になるとともに、従来のようなワーク３
の上下動作を要さない分だけスピードアップも実現でき
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板に液体材料を
塗布するための塗布装置および塗布方法に関するもので
ある。
塗布するための塗布装置および塗布方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来の塗布装置では、図４に示すよう
に、架台１の上部のベースプレート２上に、ガラス基板
などの塗布対象の平板状ワーク３を設置するためのＸ−
Ｙ−Ｚステージ４が配置され、このＸ−Ｙ−Ｚステージ
４を跨ぐようにコの字状に配置された支柱５に、塗布用
のシリンジ６を含んだシリンジ駆動ユニット７が取り付
けられている。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４の近傍には、ワー
ク板３の位置を測定するためのレーザ変位計８が配置さ
れている。
に、架台１の上部のベースプレート２上に、ガラス基板
などの塗布対象の平板状ワーク３を設置するためのＸ−
Ｙ−Ｚステージ４が配置され、このＸ−Ｙ−Ｚステージ
４を跨ぐようにコの字状に配置された支柱５に、塗布用
のシリンジ６を含んだシリンジ駆動ユニット７が取り付
けられている。Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４の近傍には、ワー
ク板３の位置を測定するためのレーザ変位計８が配置さ
れている。
【０００３】シリンジ駆動ユニット７は、支柱５に固着
された支持部材９に、塗布液ビン１０，モータ１１が取
り付けられるとともに、図５にも示すように、シリンジ
６を上下方向に支持する支持部１３ａとモータ１１によ
り回転されるボールネジ１２に螺合するナット部１３ｂ
とを有したシリンジロッド１３がそのガイド部１３ｃに
おいて上下方向に移動自在に取り付けられていて、モー
タ１１の駆動によってシリンジ６を上昇下降可能であ
る。シリンジ６は吐出バルブ１４，チューブ１５を介し
て連通するノズル１６を有し、塗布液ビン１０に給液バ
ルブ１７，チューブ１８を介して連通している。塗布液
ビン１０には塗布液１９が入っている。
された支持部材９に、塗布液ビン１０，モータ１１が取
り付けられるとともに、図５にも示すように、シリンジ
６を上下方向に支持する支持部１３ａとモータ１１によ
り回転されるボールネジ１２に螺合するナット部１３ｂ
とを有したシリンジロッド１３がそのガイド部１３ｃに
おいて上下方向に移動自在に取り付けられていて、モー
タ１１の駆動によってシリンジ６を上昇下降可能であ
る。シリンジ６は吐出バルブ１４，チューブ１５を介し
て連通するノズル１６を有し、塗布液ビン１０に給液バ
ルブ１７，チューブ１８を介して連通している。塗布液
ビン１０には塗布液１９が入っている。
【０００４】そしてこのような構成により、吐出バルブ
１４を閉じ給液バルブ１７を開いた状態でモータ１１を
回転させると、シリンジロッド１３が下降し、塗布液ビ
ン１０内の塗布液１９がチューブ１８を通じてシリンジ
６内へ補充されるようになっている。これを給液動作と
呼ぶことにする。この状態より、給液バルブ１７を閉じ
吐出バルブ１４を開いた状態として、モータ１１を給液
動作の時と反対方向に回転させると、シリンジロッド１
３が上昇し、シリンジ６内の塗布液１９がチューブ１５
へ押し出され、ノズル１６から吐出されるようになって
いる。これを吐出動作と呼ぶことにする。２０は下記の
動作を実行させる制御装置である。
１４を閉じ給液バルブ１７を開いた状態でモータ１１を
回転させると、シリンジロッド１３が下降し、塗布液ビ
ン１０内の塗布液１９がチューブ１８を通じてシリンジ
６内へ補充されるようになっている。これを給液動作と
呼ぶことにする。この状態より、給液バルブ１７を閉じ
吐出バルブ１４を開いた状態として、モータ１１を給液
動作の時と反対方向に回転させると、シリンジロッド１
３が上昇し、シリンジ６内の塗布液１９がチューブ１５
へ押し出され、ノズル１６から吐出されるようになって
いる。これを吐出動作と呼ぶことにする。２０は下記の
動作を実行させる制御装置である。
【０００５】塗布を実行する際には、ワーク３がＸ−Ｙ
−Ｚステージ４に載置され、このＸ−Ｙ−Ｚステージ４
がＸ−Ｙ方向に移動されて、ワーク３が塗布の初期位置
へ配置される。そして、レーザ変位計８によりワーク３
の表面高さが測定され、その測定結果に基づきＸ−Ｙ−
Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワーク３が所定高
さに配置される。その状態で、上記の吐出動作によって
シリンジ６から所定量の塗布液１９が吐出され、吐出動
作の終了後に、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ方向に吐出前
の高さまで下降される。
−Ｚステージ４に載置され、このＸ−Ｙ−Ｚステージ４
がＸ−Ｙ方向に移動されて、ワーク３が塗布の初期位置
へ配置される。そして、レーザ変位計８によりワーク３
の表面高さが測定され、その測定結果に基づきＸ−Ｙ−
Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワーク３が所定高
さに配置される。その状態で、上記の吐出動作によって
シリンジ６から所定量の塗布液１９が吐出され、吐出動
作の終了後に、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ方向に吐出前
の高さまで下降される。
【０００６】次に、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４がＹ方向に所
定量だけ移動され、その位置で再度、レーザ変位計８に
よりワーク３の表面高さが測定され、その測定結果に基
づきＸ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワー
ク３が所定高さに配置される。その状態で、上記の吐出
動作によってシリンジ６から所定量の塗布液１９が吐出
され、吐出動作の終了後に、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ
方向に吐出前の高さまで下降される。
定量だけ移動され、その位置で再度、レーザ変位計８に
よりワーク３の表面高さが測定され、その測定結果に基
づきＸ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワー
ク３が所定高さに配置される。その状態で、上記の吐出
動作によってシリンジ６から所定量の塗布液１９が吐出
され、吐出動作の終了後に、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４がＺ
方向に吐出前の高さまで下降される。
【０００７】このような動作が繰り返し行われること
で、ワーク３の全体に塗布液１９が塗布される。
で、ワーク３の全体に塗布液１９が塗布される。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような従来の塗布装置では、図６に示すようにノズル
１６の先端部の周囲に液溜り２１が生じるため、塗布量
が一定せず、また上記したように吐出の都度にワーク３
を上下動作させていることが、塗布速度を増大する妨げ
になっている。
たような従来の塗布装置では、図６に示すようにノズル
１６の先端部の周囲に液溜り２１が生じるため、塗布量
が一定せず、また上記したように吐出の都度にワーク３
を上下動作させていることが、塗布速度を増大する妨げ
になっている。
【０００９】本発明は上記問題を解決するもので、液体
材料の塗布を塗布量一定に、かつ高速に行なうことがで
きる塗布装置および塗布方法を提供することを目的とす
る。
材料の塗布を塗布量一定に、かつ高速に行なうことがで
きる塗布装置および塗布方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、液体材料を収容し材料吐出口から吐出する
材料吐出容器と、ワークを保持する移動自在なステージ
と、前記材料吐出容器からの液体材料の吐出および前記
ステージの移動をそれぞれ制御する制御装置とを有し、
前記ワークの表面に前記液体材料を塗布する塗布装置に
おいて、前記制御装置は、ワークを保持した前記ステー
ジを移動させて前記ワークを前記材料吐出口との間に所
定間隙を形成する予め決めた近接位置に配置した後、前
記材料吐出容器より材料吐出口を通じて液体材料を吐出
させてワーク表面に接触させ、前記液体材料が接触した
ワークを保持したステージを前記液体材料の吐出方向と
垂直な方向に移動させる吐出移動動作を繰り返し、それ
により前記ワークの表面に液体材料を塗布するように構
成したことを特徴とする。
に本発明は、液体材料を収容し材料吐出口から吐出する
材料吐出容器と、ワークを保持する移動自在なステージ
と、前記材料吐出容器からの液体材料の吐出および前記
ステージの移動をそれぞれ制御する制御装置とを有し、
前記ワークの表面に前記液体材料を塗布する塗布装置に
おいて、前記制御装置は、ワークを保持した前記ステー
ジを移動させて前記ワークを前記材料吐出口との間に所
定間隙を形成する予め決めた近接位置に配置した後、前
記材料吐出容器より材料吐出口を通じて液体材料を吐出
させてワーク表面に接触させ、前記液体材料が接触した
ワークを保持したステージを前記液体材料の吐出方向と
垂直な方向に移動させる吐出移動動作を繰り返し、それ
により前記ワークの表面に液体材料を塗布するように構
成したことを特徴とする。
【００１１】さらに、上記塗布装置において、材料吐出
口に撥水コーティングが施されたことを特徴とする。ま
た本発明は、ワークの表面に液体材料を塗布する塗布方
法であって、前記ワークをステージに保持して、材料吐
出容器の材料吐出口との間に所定間隙を形成する予め決
めた近接位置に配置した後、前記材料吐出口を通じて液
体材料を吐出させてワーク表面に接触させ、この接触状
態においてワークと材料吐出口のいずれか一方を前記液
体材料の吐出方向と垂直な方向に移動させる吐出移動動
作を繰り返し、それにより前記ワークの表面に液体材料
を塗布することを特徴とする。
口に撥水コーティングが施されたことを特徴とする。ま
た本発明は、ワークの表面に液体材料を塗布する塗布方
法であって、前記ワークをステージに保持して、材料吐
出容器の材料吐出口との間に所定間隙を形成する予め決
めた近接位置に配置した後、前記材料吐出口を通じて液
体材料を吐出させてワーク表面に接触させ、この接触状
態においてワークと材料吐出口のいずれか一方を前記液
体材料の吐出方向と垂直な方向に移動させる吐出移動動
作を繰り返し、それにより前記ワークの表面に液体材料
を塗布することを特徴とする。
【００１２】さらに、上記塗布方法において、撥水コー
ティングが施された材料吐出口を用いることを特徴とす
る。上記した塗布装置または塗布方法によれば、吐出方
向と垂直な方向にワークを（あるいは材料吐出口を）移
動させることにより、材料吐出口の外側に液溜りが生じ
るのを低減することができ、常に一定量の液体材料を塗
布することが可能になるとともに、従来のような上下動
作を要さない分だけスピードアップも実現できる。
ティングが施された材料吐出口を用いることを特徴とす
る。上記した塗布装置または塗布方法によれば、吐出方
向と垂直な方向にワークを（あるいは材料吐出口を）移
動させることにより、材料吐出口の外側に液溜りが生じ
るのを低減することができ、常に一定量の液体材料を塗
布することが可能になるとともに、従来のような上下動
作を要さない分だけスピードアップも実現できる。
【００１３】撥水コーティングを施した材料吐出口はそ
れ自体、液溜りが生じにくいため、確実に一定量の液体
材料を塗布することが可能となる。
れ自体、液溜りが生じにくいため、確実に一定量の液体
材料を塗布することが可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。本発明の一実施形態におけ
る塗布装置は先に図４および図５を用いて説明した従来
のものとほぼ同様の構成を有しているので、図４，図５
を援用して詳しい説明を省略する。
面を参照しながら説明する。本発明の一実施形態におけ
る塗布装置は先に図４および図５を用いて説明した従来
のものとほぼ同様の構成を有しているので、図４，図５
を援用して詳しい説明を省略する。
【００１５】この塗布装置が従来の塗布装置と異なるの
は、図１に示すようにノズル１６の先端部に撥水皮膜１
６ａが形成されている点、および制御装置２０がＸ−Ｙ
−Ｚステージ４，シリンジ駆動ユニット７を後述するよ
うに制御する点である。
は、図１に示すようにノズル１６の先端部に撥水皮膜１
６ａが形成されている点、および制御装置２０がＸ−Ｙ
−Ｚステージ４，シリンジ駆動ユニット７を後述するよ
うに制御する点である。
【００１６】撥水皮膜１６ａの形成はたとえば、脱脂洗
浄したノズル１６の先端部を撥水コート液［２，２，２
−トリフルオロエタノール／エタノール／テトラエトキ
シシラン／（２−（パ−フルオロオクチル）エチル）ト
リメトキシシラン／塩酸／純水を混合した液］に３秒程
度浸し、１mm／ｓｅｃ程度の速度で引き上げ、その後に
ノズル１６を乾燥、焼成することにより行なわれる。
浄したノズル１６の先端部を撥水コート液［２，２，２
−トリフルオロエタノール／エタノール／テトラエトキ
シシラン／（２−（パ−フルオロオクチル）エチル）ト
リメトキシシラン／塩酸／純水を混合した液］に３秒程
度浸し、１mm／ｓｅｃ程度の速度で引き上げ、その後に
ノズル１６を乾燥、焼成することにより行なわれる。
【００１７】この塗布装置によれば、Ｘ−Ｙ−Ｚステー
ジ４にワーク３が載置されると、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４
がＸ−Ｙ方向に移動されて、ワーク３が塗布の初期位置
へ配置される。そして、レーザ変位計８によりワーク３
の表面高さが測定され、その測定結果に基づきＸ−Ｙ−
Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワーク３が所定高
さに配置される。
ジ４にワーク３が載置されると、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４
がＸ−Ｙ方向に移動されて、ワーク３が塗布の初期位置
へ配置される。そして、レーザ変位計８によりワーク３
の表面高さが測定され、その測定結果に基づきＸ−Ｙ−
Ｚステージ４がＺ方向に上昇されて、ワーク３が所定高
さに配置される。
【００１８】その位置で、前述した吐出動作によってシ
リンジ６から所定量の塗布液１９が吐出されて、図３に
示すように、ノズル１６とワーク３の両者に接触した状
態となり、そのままの状態で、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４が
吐出方向と交わるＹ方向（矢印で示す）に所定量だけ移
動される。この動作がワーク３の予め決めた領域の全体
にわたって必要な回数だけ繰り返し行われ、前記領域が
塗布液１９で塗布される。
リンジ６から所定量の塗布液１９が吐出されて、図３に
示すように、ノズル１６とワーク３の両者に接触した状
態となり、そのままの状態で、Ｘ−Ｙ−Ｚステージ４が
吐出方向と交わるＹ方向（矢印で示す）に所定量だけ移
動される。この動作がワーク３の予め決めた領域の全体
にわたって必要な回数だけ繰り返し行われ、前記領域が
塗布液１９で塗布される。
【００１９】その際に、ワーク３がＹ方向に移動される
ことと、ノズル１６の先端部に撥水皮膜１６ａが形成さ
れていることとで、ノズル１６の先端部に従来のように
塗布液１９が溜まることがないため、常に一定量の塗布
液１９を塗布することができ、従来のようにワーク３を
上下動作させなくてすむ分、スピードアップも実現でき
る。
ことと、ノズル１６の先端部に撥水皮膜１６ａが形成さ
れていることとで、ノズル１６の先端部に従来のように
塗布液１９が溜まることがないため、常に一定量の塗布
液１９を塗布することができ、従来のようにワーク３を
上下動作させなくてすむ分、スピードアップも実現でき
る。
【００２０】図３は塗布パターンの一例を示す。ワーク
３としてのガラス基板に、領域３ａをシールすることで
塗布領域３ｂが設けられていて、この塗布領域３ｂに塗
布液１９としての液晶がドット状に塗布されている。
３としてのガラス基板に、領域３ａをシールすることで
塗布領域３ｂが設けられていて、この塗布領域３ｂに塗
布液１９としての液晶がドット状に塗布されている。
【００２１】なお、塗布液１９が液晶である場合には特
に、ワーク３に転写しやすいという理由で上記の塗布方
法が有利である。撥水皮膜１６ａの形成に用いる材料お
よび方法は上記に限定されず、塗布液１９およびノズル
１６の材料に応じて、先端部に液溜まりが生じないよう
に適宜に選択すればよい。たとえば、粘度３０〜１００
ｃｐｓの流体を使用できる。
に、ワーク３に転写しやすいという理由で上記の塗布方
法が有利である。撥水皮膜１６ａの形成に用いる材料お
よび方法は上記に限定されず、塗布液１９およびノズル
１６の材料に応じて、先端部に液溜まりが生じないよう
に適宜に選択すればよい。たとえば、粘度３０〜１００
ｃｐｓの流体を使用できる。
【００２２】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液体材料
の吐出方向と垂直な方向にワークを移動させ、また撥水
コーティングを施した材料吐出口を用いるようにしたた
め、材料吐出口の先端部での液溜りを防止することがで
き、液体材料を常に一定の塗布量で、かつ高速に塗布す
ることが可能になった。
の吐出方向と垂直な方向にワークを移動させ、また撥水
コーティングを施した材料吐出口を用いるようにしたた
め、材料吐出口の先端部での液溜りを防止することがで
き、液体材料を常に一定の塗布量で、かつ高速に塗布す
ることが可能になった。
【図１】本発明の一実施形態における塗布装置のノズル
の正面図
の正面図
【図２】図１のノズルによる塗布状態を示す説明図
【図３】図１の塗布装置による液体材料の塗布パターン
【図４】従来の塗布装置の全体構成を示す斜視図
【図５】図４の塗布装置のシリンジ駆動ユニットの詳細
図
図
【図６】図４の塗布装置のノズルの液溜り状態を示す説
明図
明図
【符号の説明】
３ ワーク
４ Ｘ−Ｙ−Ｚステージ
６ シリンジ
16 ノズル
16ａ 撥水皮膜
19 塗布液
20 制御装置
Claims (4)
- 【請求項１】 液体材料を収容し材料吐出口から吐出す
る材料吐出容器と、ワークを保持する移動自在なステー
ジと、前記材料吐出容器からの液体材料の吐出および前
記ステージの移動をそれぞれ制御する制御装置とを有
し、前記ワークの表面に前記液体材料を塗布する塗布装
置において、 前記制御装置は、ワークを保持した前記ステージを移動
させて前記ワークを前記材料吐出口との間に所定間隙を
形成する予め決めた近接位置に配置した後、前記材料吐
出容器より材料吐出口を通じて液体材料を吐出させてワ
ーク表面に接触させ、前記液体材料が接触したワークを
保持したステージを前記液体材料の吐出方向と垂直な方
向に移動させる吐出移動動作を繰り返し、それにより前
記ワークの表面に液体材料を塗布するように構成した塗
布装置。 - 【請求項２】 材料吐出口に撥水コーティングが施され
た請求項１記載の塗布装置。 - 【請求項３】 ワークの表面に液体材料を塗布する塗布
方法であって、 前記ワークをステージに保持して、材料吐出容器の材料
吐出口との間に所定間隙を形成する予め決めた近接位置
に配置した後、前記材料吐出口を通じて液体材料を吐出
させてワーク表面に接触させ、この接触状態においてワ
ークと材料吐出口のいずれか一方を前記液体材料の吐出
方向と垂直な方向に移動させる吐出移動動作を繰り返
し、それにより前記ワークの表面に液体材料を塗布する
ことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項４】 撥水コーティングが施された材料吐出口
を用いる請求項３記載の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327042A JP2003126749A (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | 塗布装置および塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001327042A JP2003126749A (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | 塗布装置および塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003126749A true JP2003126749A (ja) | 2003-05-07 |
Family
ID=19143322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001327042A Pending JP2003126749A (ja) | 2001-10-25 | 2001-10-25 | 塗布装置および塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003126749A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006272335A (ja) * | 2006-07-10 | 2006-10-12 | Fujitsu Ltd | ディスペンサ装置 |
| KR100815310B1 (ko) * | 2003-10-22 | 2008-03-19 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 디스펜서 장치 |
| JP2008181061A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-08-07 | Ulvac Japan Ltd | 液晶材料吐出装置、ノズル製造方法 |
| KR20150126973A (ko) * | 2007-05-18 | 2015-11-13 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | 액체 재료 토출 방법 및 장치 |
-
2001
- 2001-10-25 JP JP2001327042A patent/JP2003126749A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100815310B1 (ko) * | 2003-10-22 | 2008-03-19 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 디스펜서 장치 |
| JP2006272335A (ja) * | 2006-07-10 | 2006-10-12 | Fujitsu Ltd | ディスペンサ装置 |
| JP2008181061A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-08-07 | Ulvac Japan Ltd | 液晶材料吐出装置、ノズル製造方法 |
| KR20150126973A (ko) * | 2007-05-18 | 2015-11-13 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | 액체 재료 토출 방법 및 장치 |
| KR101715089B1 (ko) | 2007-05-18 | 2017-03-10 | 무사시 엔지니어링 가부시키가이샤 | 액체 재료 토출 방법 및 장치 |
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