JP2003124104A - 位置検出装置、露光装置、および露光方法 - Google Patents
位置検出装置、露光装置、および露光方法Info
- Publication number
- JP2003124104A JP2003124104A JP2001320588A JP2001320588A JP2003124104A JP 2003124104 A JP2003124104 A JP 2003124104A JP 2001320588 A JP2001320588 A JP 2001320588A JP 2001320588 A JP2001320588 A JP 2001320588A JP 2003124104 A JP2003124104 A JP 2003124104A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- mark
- photoelectric detector
- optical system
- signal processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001320588A JP2003124104A (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 位置検出装置、露光装置、および露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001320588A JP2003124104A (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 位置検出装置、露光装置、および露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003124104A true JP2003124104A (ja) | 2003-04-25 |
| JP2003124104A5 JP2003124104A5 (enExample) | 2005-08-04 |
Family
ID=19137954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001320588A Pending JP2003124104A (ja) | 2001-10-18 | 2001-10-18 | 位置検出装置、露光装置、および露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003124104A (enExample) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005167139A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Canon Inc | 波長選択方法、位置検出方法及び装置、並びに、露光装置 |
| JP2006278715A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 画像計測装置 |
| JP2006300545A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Nikon Corp | 位置測定装置 |
| JP2006308556A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| JP2006317306A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Nikon Corp | 重ね合わせ測定装置 |
| JP2007053374A (ja) * | 2005-08-16 | 2007-03-01 | Asml Netherlands Bv | 位置合わせ測定機構及び位置合わせ測定方法 |
| JP2007101310A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Nikon Corp | 位置検出装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786126A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-31 | Hitachi Ltd | パターン検出方法及びパターン検出装置及びそれを用いた投影露光装置及び露光システム |
| JP2000077295A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-14 | Nikon Corp | 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置 |
| JP2001189256A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Toshiba Corp | アライメント装置、収差測定方法、及び収差測定マーク |
-
2001
- 2001-10-18 JP JP2001320588A patent/JP2003124104A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0786126A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-31 | Hitachi Ltd | パターン検出方法及びパターン検出装置及びそれを用いた投影露光装置及び露光システム |
| JP2000077295A (ja) * | 1998-08-28 | 2000-03-14 | Nikon Corp | 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置 |
| JP2001189256A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Toshiba Corp | アライメント装置、収差測定方法、及び収差測定マーク |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005167139A (ja) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Canon Inc | 波長選択方法、位置検出方法及び装置、並びに、露光装置 |
| JP2006278715A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Nikon Corp | 画像計測装置 |
| JP2006308556A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ムラ検査装置およびムラ検査方法 |
| JP2006300545A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Nikon Corp | 位置測定装置 |
| JP2006317306A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Nikon Corp | 重ね合わせ測定装置 |
| JP2007053374A (ja) * | 2005-08-16 | 2007-03-01 | Asml Netherlands Bv | 位置合わせ測定機構及び位置合わせ測定方法 |
| JP2010171448A (ja) * | 2005-08-16 | 2010-08-05 | Asml Netherlands Bv | 位置合わせ測定機構及び位置合わせ測定方法 |
| JP2007101310A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-04-19 | Nikon Corp | 位置検出装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100400893B1 (ko) | 위치검출장치 | |
| US20090040489A1 (en) | Position sensor | |
| EP2466384A2 (en) | Plane position detecting apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
| JPH10172898A (ja) | 観察装置、位置検出装置および該位置検出装置を備えた露光装置 | |
| JP3298212B2 (ja) | 位置検出方法及び装置、露光方法、投影露光装置、並びに素子製造方法 | |
| JP2003124104A (ja) | 位置検出装置、露光装置、および露光方法 | |
| JPH09246160A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2002231616A (ja) | 位置計測装置及び方法、露光装置及び方法、並びにデバイス製造方法 | |
| JP2004134474A (ja) | 位置検出装置の検査方法、位置検出装置、露光装置、および露光方法 | |
| KR100592822B1 (ko) | 리소그래피장치, 디바이스제조방법 | |
| JP2000299276A (ja) | 露光装置 | |
| JP2002340520A (ja) | 位置計測装置およびその調整方法 | |
| JPH04348019A (ja) | 焦点位置検出装置及び投影露光装置 | |
| JP2002122412A (ja) | 位置検出装置、露光装置およびマイクロデバイスの製造方法 | |
| JPH10172900A (ja) | 露光装置 | |
| JP2004119663A (ja) | 位置検出装置、位置検出方法、露光装置、および露光方法 | |
| JP2006078283A (ja) | 位置計測装置、該位置計測装置を備えた露光装置及び該位置計測装置を使用する露光方法 | |
| JP2005175383A (ja) | 露光装置、アライメント方法、及び、デバイスの製造方法 | |
| JP4258378B2 (ja) | 位置検出装置、露光装置、および露光方法 | |
| JP2003035511A (ja) | 位置検出装置、および該位置検出装置を備えた露光装置 | |
| JP2007042966A (ja) | 位置検出装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法 | |
| JP3211246B2 (ja) | 投影露光装置及び素子製造方法 | |
| JP4258035B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2006234647A (ja) | 位置計測方法、位置計測装置、露光方法及び露光装置 | |
| JP3885576B2 (ja) | 顕微鏡装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041018 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041224 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060417 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060808 |