JP2003113710A - 内燃機関の排気浄化装置 - Google Patents

内燃機関の排気浄化装置

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微粒子を連続的に酸化除去し且つNOを浄
化することができるパティキュレートフィルタを備えた
排気浄化装置において、その微粒子酸化除去レベルおよ
びNO浄化レベルを高める。 【解決手段】 排気通路に並列して配置された一対のパ
ティキュレートフィルタ22a,22bと、フィルタ温
度を上昇させることができる機関排気ガスの昇温能力よ
りも高い昇温能力を有する排気ガスをフィルタに供給す
るための燃焼装置74とを具備する。NO触媒と酸化
物質とをフィルタに担持させる。NO触媒に吸収され
ているNOを還元すべきであるときには、当該NO
を還元すべきNO触媒を担持している方のフィルタへ
の機関排気ガスの流入を抑制し、フィルタ温度がNO
還元温度範囲内において微粒子連続酸化温度よりも高く
維持されるように、フィルタに燃焼装置からリッチ空燃
比の排気ガスを供給する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は内燃機関の排気浄化
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】活性酸素を放出するための活性酸素放出
剤と、NOを浄化するためのNO触媒とを担持した
パティキュレートフィルタが既に出願されている(特願
2000−122409)。活性酸素放出剤はパティキ
ュレートフィルタに捕集された微粒子を活性酸素により
連続的に短時間のうちに酸化除去する。一方、NO
媒は流入する排気ガスの空燃比がリーンであるときに排
気ガス中のNOを吸収し、流入する排気ガスの空燃比
がリッチになったときに、吸収しているNOを放出し
て排気ガス中の炭化水素によりNOを還元浄化する。
【0003】さて上記特許出願に記載のパティキュレー
トフィルタは、その温度(以下、フィルタ温度と称す)
が高いほど、単位時間当たりに、より多くの微粒子を連
続的に酸化する。すなわち、上記特許出願に記載のパテ
ィキュレートフィルタが連続的に酸化除去することがで
きる微粒子の量(以下、単位微粒子連続酸化量と称す)
はフィルタ温度が高いほど多くなる。したがって、上記
特許出願に記載のパティキュレートフィルタには、単位
流入微粒子量に応じて、流入する排気ガス中の微粒子を
連続的に酸化除去することができる温度(以下、微粒子
連続酸化温度と称す)が存在する。
【0004】そこで上記特許出願では、単位微粒子連続
酸化量が単位時間当たりにパティキュレートフィルタに
流入する微粒子の量(以下、単位流入微粒子量と称す)
よりも多くなるようにフィルタ温度が微粒子連続酸化温
度よりも高くなるようにフィルタ温度を制御するように
している。
【0005】一方、上記特許出願に記載のNO触媒
は、流入する排気ガスの空燃比がリーンである間に、い
ったんNOを吸収しておき、流入する排気ガスの空燃
比がリッチになったときに吸収したNOを放出して還
元浄化する。したがって、全体としてNO触媒のNO
浄化率を高く維持するためには、NO触媒のNO
吸収率を高く維持する必要がある。ここでNO触媒
は、その温度が或る温度範囲(以下、NO吸収温度範
囲と称す)内にあるときにNOを高い吸収率で吸収す
ることができる。したがって、NO触媒のNO浄化
率を高く維持するためには、フィルタ温度をNO吸収
温度範囲内に維持することが必要である。
【0006】そこで上記特許出願では、単位微粒子連続
酸化量が単位流入微粒子量よりも多くなるように、フィ
ルタ温度を制御するときに、NO触媒の温度が上記N
吸収温度範囲内に収まるように、フィルタ温度を制
御するようにしている。
【0007】すなわち、上記特許出願においては、パテ
ィキュレートフィルタの微粒子酸化除去レベルおよびN
浄化レベルを高いレベルに維持するために、フィル
タ温度がNO吸収温度範囲内において微粒子連続酸化
温度よりも高くなるようにフィルタ温度を制御するよう
にしている。
【0008】そして上記特許出願では、フィルタ温度が
NO吸収温度範囲の下限温度よりも低くなったとき、
或いは微粒子連続酸化温度よりも低くなったときには、
内燃機関から排出される排気ガスの温度を上昇させ、こ
の高温の排気ガスによりパティキュレートフィルタを加
熱し、フィルタ温度がNO吸収温度範囲内において微
粒子連続酸化温度よりも高くなるようにしている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記特許出
願では、NO触媒中に吸収されているNOを還元浄
化すべきときには、リッチ空燃比の排気ガスをパティキ
ュレートフィルタに供給することにより、NO触媒か
らNOを放出させ、この放出されたNOを排気ガス
中の炭化水素(HC)により還元浄化する。ところが、
上記特許出願に記載のNO触媒は、その温度が或る温
度範囲(以下、NO還元温度範囲と称す)内にあると
きに、NOを還元浄化することができる。
【0010】したがって、NOを高い還元率で還元す
るためには、リッチ空燃比の排気ガスをパティキュレー
トフィルタに供給したときに、フィルタ温度がこのNO
還元温度範囲内に維持する必要があり、また、NO
を還元浄化している間においても、パティキュレートフ
ィルタに捕集された微粒子を連続的に酸化除去すること
も、微粒子酸化除去レベルを高く維持するためには好ま
しい。
【0011】しかしながら、上記特許出願に記載のパテ
ィキュレートフィルタにおいては、NO還元浄化中
に、フィルタ温度を制御する点に関しては何ら開示され
ておらず、したがって、上記特許出願に記載のパティキ
ュレートフィルタに対しても、さらに微粒子酸化除去レ
ベルおよびNO浄化レベルを高められる余地が残され
ている。
【0012】したがって本発明の目的は、微粒子を連続
的に酸化除去し且つNOを浄化することができるパテ
ィキュレートフィルタを備えた排気浄化装置において、
その微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルを高
めることにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の1番目の発明では、機関排気通路に並列して配置され
た一対のパティキュレートフィルタと、機関から排出さ
れる機関排気ガスのほとんど全てをいずれのパティキュ
レートフィルタに流入させるかを切り換えるための排気
流切換手段と、パティキュレートフィルタの温度を上昇
させることができる機関排気ガスの昇温能力よりも高い
昇温能力を有する排気ガスをパティキュレートフィルタ
に供給するための燃焼装置とを具備し、流入する排気ガ
スの空燃比がリーンであるときに排気ガス中のNO
吸収し且つ流入する排気ガスの空燃比がリッチになると
吸収したNOを放出して排気ガス中の炭化水素により
NOを還元浄化することができるNO触媒と、微粒
子を連続的に酸化除去することができる酸化物質とをパ
ティキュレートフィルタに担持させ、上記NO触媒は
その温度がNO還元温度範囲内にあるときにNO
放出して還元することができ、一方、上記酸化物質の温
度が微粒子連続酸化温度よりも高いときに該酸化物質が
流入するほとんど全ての微粒子を連続的に酸化除去する
ことができる内燃機関の排気浄化装置において、NO
触媒に吸収されているNOを還元すべきか否かを判定
するための還元判定手段を具備し、該還元判定手段によ
りNO 触媒に吸収されているNOを還元すべきであ
ると判定されたときには、上記排気流切換手段により当
該NOを還元すべきであると判定されたNO触媒を
担持している方のパティキュレートフィルタへの機関排
気ガスの流入を抑制し、当該パティキュレートフィルタ
の温度がNO還元温度範囲内において微粒子連続酸化
温度よりも高く維持されるように、当該パティキュレー
トフィルタに燃焼装置からリッチ空燃比の排気ガスを供
給する。すなわち本発明によれば、パティキュレートフ
ィルタの温度がNO還元温度範囲内において微粒子連
続酸化温度よりも高く維持されるように、パティキュレ
ートフィルタに流入する機関排気ガスの量が少なくされ
た状態にて、燃焼装置からリッチ空燃比の排気ガスがパ
ティキュレートフィルタに供給される。
【0014】2番目の発明では1番目の発明において、
還元判定手段によりNO触媒に吸収されているNO
を還元すべきであると判定されたときに、該NOを還
元すべきであると判定されたNO触媒を担持している
方のパティキュレートフィルタの温度がNO還元温度
範囲の下限温度よりも低いときには、上記排気流切換手
段により当該パティキュレートフィルタへの機関排気ガ
スの流入を抑制し、上記燃焼装置から酸素濃度が予め定
められた濃度よりも高いリッチ空燃比の排気ガスを当該
パティキュレートフィルタに供給して当該パティキュレ
ートフィルタの温度をNO還元温度範囲内にまで上昇
させ、当該パティキュレートフィルタの温度がNO
元温度範囲内となったときには、上記燃焼装置から酸素
濃度が上記予め定められた濃度よりも低いリッチ空燃比
の排気ガスを当該パティキュレートフィルタに供給す
る。これによれば、パティキュレートフィルタの温度が
NO 還元温度範囲内にあるときにのみ、NOを還元
するためのリッチ空燃比の排気ガスがパティキュレート
フィルタに供給される。
【0015】3番目の発明では1番目の発明において、
上記還元判定手段によりNO触媒に吸収されているN
を還元すべきであると判定されたときに、該NO
を還元すべきであると判定されたNO触媒を備えた方
のパティキュレートフィルタの温度がNO還元温度範
囲の下限温度よりも低いときには、上記排気流切換手段
により当該一方のパティキュレートフィルタへの機関排
気ガスの流入を抑制し、上記燃焼装置から当該パティキ
ュレートフィルタにリーン空燃比の排気ガスを供給して
当該パティキュレートフィルタの温度をNO還元温度
範囲内にまで上昇させ、当該パティキュレートフィルタ
の温度がNO還元温度範囲内となったときには、上記
燃焼装置から当該パティキュレートフィルタにリッチ空
燃比の排気ガスを供給する。これによれば、パティキュ
レートフィルタの温度がNO還元温度範囲内にあると
きにのみ、NOを還元するためのリッチ空燃比が排気
ガスがパティキュレートフィルタに供給される。
【0016】4番目の発明では1番目の発明において、
NO触媒に吸収されているNOの還元が完了したと
きに、上記燃焼装置から当該パティキュレートフィルタ
にリーン空燃比の排気ガスを供給する。これによれば、
NO触媒に吸収されているNOの還元が完了したと
きに、燃焼装置からパティキュレートフィルタに供給さ
れるリーン空燃比の排気ガスにより、パティキュレート
フィルタに付着した炭化水素が燃焼除去される。
【0017】5番目の発明では1〜4番目の発明のいず
れか1つにおいて、パティキュレートフィルタから流出
する排気ガスの空燃比を検出することができる空燃比セ
ンサを具備し、該空燃比センサの出力に基づいて上記燃
焼装置から当該パティキュレートフィルタに供給される
排気ガスの空燃比を制御する。
【0018】6番目の発明では1番目の発明において、
機関始動時において上記排気流切換手段により一方のパ
ティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制
し、上記燃焼装置から当該一方のパティキュレートフィ
ルタに排気ガスを供給して当該一方のパティキュレート
フィルタの温度を上昇させる。これによれば、パティキ
ュレートフィルタに流入する機関排気ガスの量が少なく
された状態にて、燃焼装置から排気ガスがパティキュレ
ートフィルタに供給される。
【0019】7番目の発明では6番目の発明において、
要求トルクと機関回転数とに基づいて機関運転が制御さ
れる第1の機関運転と、該第1の機関運転が実行された
ときに機関から排出される機関排気ガスの温度よりも温
度が高い機関排気ガスを機関から排出させる第2の機関
運転とを選択的に実行するための機関運転制御手段を具
備し、機関始動時においては該機関運転制御手段により
第2の機関運転制御を実行して他方のパティキュレート
フィルタの温度を上昇する。すなわちこれによれば、一
方のパティキュレートフィルタには燃焼装置から排気ガ
スが供給され、他方のパティキュレートフィルタには機
関から機関排気ガスが供給される。
【0020】8番目の発明では1番目の発明において、
は流入する排気ガスの空燃比がリーンであるときに排気
ガス中の硫黄成分を吸収し且つ流入する排気ガスの空燃
比がリッチになったときにその温度が吸収している硫黄
成分を放出することができる硫黄成分放出温度よりも高
いと吸収している硫黄成分を放出することができ、さら
にNO触媒に吸収されている硫黄成分をNO触媒か
ら放出すべきか否かを判定するための硫黄成分放出判定
手段を具備し、該硫黄成分放出判定手段によりNO
媒に吸収されている硫黄成分を放出させるべきであると
判定されたときに、当該硫黄成分を放出すべきであると
判定された方のパティキュレートフィルタの温度が硫黄
成分放出温度よりも低いときには、当該パティキュレー
トフィルタの温度を硫黄成分放出温度にまで上昇させ、
当該パティキュレートフィルタの温度が硫黄成分放出温
度に達したときに、上記排気流切換手段により当該パテ
ィキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制
し、上記燃焼装置から当該パティキュレートフィルタに
リッチ空燃比の排気ガスを供給する。
【0021】9番目の発明では1番目の発明において、
は流入する排気ガスの空燃比がリーンであるときに排気
ガス中の硫黄成分を吸収し且つ流入する排気ガスの空燃
比がリッチになったときにその温度が吸収している硫黄
成分を放出することができる硫黄成分放出温度よりも高
いと吸収している硫黄成分を放出することができ、さら
にNO触媒に吸収されている硫黄成分をNO触媒か
ら放出すべきか否かを判定するための硫黄成分放出判定
手段を具備し、該硫黄成分放出判定手段によりNO
媒に吸収されている硫黄成分を放出させるべきであると
判定されたときに、当該硫黄成分を放出すべきであると
判定された方のパティキュレートフィルタの温度が硫黄
成分放出温度よりも低いときには、当該パティキュレー
トフィルタの温度を硫黄成分放出温度にまで上昇させ、
当該パティキュレートフィルタの温度が硫黄成分放出温
度に達したときに、上記排気流切換手段により当該パテ
ィキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制
し、上記燃焼装置から当該パティキュレートフィルタに
リッチ空燃比の排気ガスとリーン空燃比の排気ガスとを
交互に供給する。これによれば、パティキュレートフィ
ルタの温度が硫黄成分放出温度に達した後においては、
その温度上昇が抑制されつつNO触媒から硫黄成分が
放出される。
【0022】10番目の発明では9番目の発明におい
て、NO触媒から硫黄成分が放出されているときに機
関回転数が予め定められた値よりも小さくなったときに
は上記燃焼装置からパティキュレートフィルタに供給さ
れる排気ガスの空燃比をリーンに維持する。
【0023】11番目の発明では8または9番目の発明
において、トルクと機関回転数とに基づいて機関運転が
制御される第1の機関運転と、該第1の機関運転が実行
されたときに機関から排出される機関排気ガスの温度よ
りも温度が高い機関排気ガスを機関から排出させる第2
の機関運転とを選択的に実行するための機関運転制御手
段を具備し、上記硫黄成分放出判定手段によりNO
媒に吸収されている硫黄成分を放出させるべきであると
判定されたときに、上記機関運転制御手段により第2の
機関運転を実行し、当該硫黄成分を放出させるべきであ
ると判定された方のパティキュレートフィルタの温度を
硫黄成分放出温度まで上昇させる。
【0024】12番目の発明では1〜11番目の発明の
いずれか1つにおいて、上記燃焼装置が機関排気ガスを
取り込んで該機関排気ガス中の酸素により燃料を燃焼せ
しめる。
【0025】13番目の発明では12番目の発明におい
て、上記燃焼装置が取り込んだ機関排気ガス中に空気を
供給するための空気供給手段を有する。
【0026】14番目の発明では1〜11番目の発明の
いずれか1つにおいて、上記燃焼装置が空気を取り込む
と共に排気ガスを取り込む。
【0027】15番目の発明では14番目の発明におい
て、上記燃焼装置がパティキュレートフィルタから流出
した排気ガスを取り込む。
【0028】16番目の発明では1〜11番目の発明の
いずれか1つにおいて、各パティキュレートフィルタ下
流からの排気ガスの流出を抑制するための流出抑制手段
を具備し、上記排気流切換手段により一方のパティキュ
レートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制している
ときに、上記流出制御手段により当該一方のパティキュ
レートフィルタ下流への排気ガスの流出を抑制する。
【0029】17番目の発明では16番目の発明におい
て、パティキュレートフィルタ内の圧力を検出するため
の圧力センサを具備し、上記排気流切換手段により一方
のパティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を
抑制し且つ上記流出抑制手段により当該一方のパティキ
ュレートフィルタ下流からの排気ガスの流出を抑制して
いるときに、当該一方のパティキュレートフィルタ内の
圧力を上記圧力センサにより検出し、当該一方のパティ
キュレートフィルタ内の圧力が燃焼装置の作動を阻害す
るほど高い圧力を超えないように上記流出抑制手段によ
る流出抑制度合を制御する。
【0030】18番目の発明では1番目の発明におい
て、各パティキュレートフィルタ下流側の機関排気通路
がそれぞれ予め定められた距離以上に亘って各パティキ
ュレートフィルタから別個に延在し、上記排気流切換手
段により一方のパティキュレートフィルタへの機関排気
ガスの流入を抑制してほとんど全ての機関排気ガスを他
方のパティキュレートフィルタに流入させたときに、他
方のパティキュレートフィルタから流出する機関排気ガ
スが一方のパティキュレートフィルタにその下流から流
入することがないような距離に上記予め定められた距離
を設定した。
【0031】19番目の発明では1番目の発明におい
て、燃焼装置から排気ガスをパティキュレートフィルタ
に供給するための排気供給通路内に、パティキュレート
フィルタから燃焼装置への排気ガスの逆流を防止するた
めの逆流防止弁を配置した。
【0032】
【発明の実施の形態】以下、図示した実施例を参照して
本発明を説明する。図1は本発明を圧縮着火式内燃機関
に適用した場合を示している。なお本発明は火花点火式
内燃機関、特に直噴ガソリンエンジンに適用することも
できる。図1を参照すると、1は機関本体、2はシリン
ダブロック、3はシリンダヘッド、4はピストン、5は
燃焼室、6は電気制御式燃料噴射弁、7は吸気弁、8は
吸気ポート、9は排気弁、10は排気ポートを夫々示
す。吸気ポート8は対応する吸気枝管11を介してサー
ジタンク12に連結され、サージタンク12は吸気ダク
ト13を介して排気ターボチャージャ14のコンプレッ
サ15に連結される。
【0033】吸気ダクト13内にはステップモータ16
により駆動されるスロットル弁17が配置され、さらに
吸気ダクト13周りには吸気ダクト13内を流れる吸入
空気を冷却するための冷却装置18が配置される。図1
に示した実施例では冷却装置18内に機関冷却水が導か
れ、この機関冷却水により吸入空気が冷却される。一
方、排気ポート10は排気マニホルド19および排気管
20を介して排気ターボチャージャ14の排気タービン
21に連結され、排気タービン21の出口は機関排気通
路71を介して排気浄化装置70に連結される。
【0034】排気浄化装置70の詳細は図2に示されて
いる。図2を参照すると機関排気通路71は一対の排気
枝通路71a,71bに分岐せしめられる。第1の排気
枝通路71aには機関排気通路71の一部として第1の
ケーシング23aが連結され、第2の排気枝通路71b
にも同様に機関排気通路71の一部として第2のケーシ
ング23bが連結される。第1のケーシング23aは第
1のパティキュレートフィルタ22aを内蔵し、第2の
ケーシング23bは第2のパティキュレートフィルタ2
2bを内蔵する。したがって、排気浄化装置70は機関
排気通路71に並列して配置された一対のパティキュレ
ートフィルタ22a,22bを有する。
【0035】パティキュレートフィルタ22a,22b
は排気ガス中の微粒子を捕集し、その捕集した微粒子を
連続的に酸化除去することができる酸化物質を担持して
いる。この酸化物質の構成および作用については後述に
て詳細に説明するが、ここで作用についてのみ簡単に説
明すると、酸化物質はその温度が或る温度よりも高くな
ると微粒子を酸化することができるようになり、単位時
間当たりに酸化することができる微粒子の量(以下、単
位微粒子連続酸化量と称す)はその温度が高いほど多く
なる。
【0036】したがって、単位時間当たりにパティキュ
レートフィルタ22a,22bに流入する微粒子の量よ
りも単位微粒子連続酸化量が多くなる温度(以下、微粒
子連続酸化温度と称す)にフィルタ温度を維持すれば、
酸化物質はパティキュレートフィルタ22a,22bに
流入するほとんど全ての微粒子を酸化除去することがで
きる。
【0037】さらに、各パティキュレートフィルタ22
a,22bはNOを浄化することができるNO触媒
を担持している。このNO触媒の構成および作用につ
いては後述にて詳細に説明するが、ここで作用について
のみ簡単に説明すると、NO 触媒はその温度が或る温
度範囲(以下、NO吸収温度範囲と称す)内にあると
きに流入する排気ガスの空燃比がリーンであると排気ガ
ス中のNOを吸収し、その温度が或る温度範囲(以
下、NO還元温度範囲と称す)内にあるときに流入す
る排気ガスの空燃比がリッチとなると吸収しているNO
を放出して排気ガス中の未燃の炭化水素(HC)によ
りNOを還元浄化することができる。
【0038】パティキュレートフィルタ22a,22b
上流において機関排気通路71が一対の排気枝通路71
a,71bに分岐する領域(以下、排気通路分岐領域と
称す)には切換バルブ72が配置される。切換バルブ7
2にはステップモータ73が接続される。切換バルブ7
2は図2において実線で示した作動状態(以下、第1の
作動状態と称す)と、図2において破線で示した作動状
態(以下、第2の作動状態と称す)との間でその作動状
態を切換可能である。
【0039】切換バルブ72の作動状態が第1の作動状
態にあるときには、第1のパティキュレートフィルタ2
2a上流の第1の排気枝通路(以下、第1の上流側排気
枝通路と称す)71aが遮断され、逆に、第2のパティ
キュレートフィルタ22b上流の第2の排気枝通路(以
下、第2の上流側排気枝通路と称す)71bは開放され
ている。したがって、切換バルブ72の作動状態が第1
の作動状態にあるときには、内燃機関の燃焼室5から排
出される排気ガス(以下、機関排気ガスと称す)のほと
んど全てが第2のパティキュレートフィルタ22bに流
入し、機関排気ガスは第1のパティキュレートフィルタ
22aにはほとんど流入しない。すなわち、切換バルブ
72の作動状態が第1の作動状態にあるときには、切換
バルブ72は第1のパティキュレートフィルタ22aへ
の機関排気ガスの流入を抑制し、ほとんど全ての機関排
気ガスを第2のパティキュレートフィルタ22bに流入
させる。
【0040】一方、切換バルブ72の作動状態が第2の
作動状態にあるときには、切換バルブ72は第2のパテ
ィキュレートフィルタ22bへの機関排気ガスの流入を
抑制し、ほとんど全ての機関排気ガスを第1のパティキ
ュレートフィルタ22aに流入させる。
【0041】一方、切換バルブ72の作動状態が第1の
作動状態と第2の作動状態のちょうど中間に位置する状
態(以下、中立作動状態と称す)にあるときには、機関
排気ガスは両パティキュレートフィルタ22a,22b
にほぼ等しく流入する。
【0042】排気浄化装置70は燃料を燃焼することに
より排気ガスを排出する燃焼装置として燃焼式ヒータ7
4を有する。燃焼式ヒータ74には機関本体1に燃料を
供給するための燃料供給管6aと同じ燃料供給管6a
と、空気供給管89とが接続される。燃焼式ヒータ74
には燃料供給管6aを介して燃料が供給され、空気供給
管89を介して空気が供給される。
【0043】また、燃焼式ヒータ74は排気供給管75
を介して排気通路分岐領域に接続され、この排気供給管
75を介して排気通路分岐領域に排気ガスを供給するこ
とができる。排気供給管75には、排気ガスが排気供給
管75を介して排気通路分岐領域から燃焼式ヒータ74
に逆流することを防止するために、排気供給管75を遮
蔽することができる逆流防止弁76が配置される。逆流
防止弁76は、燃焼式ヒータ74が作動されていないと
きには、閉弁されて排気供給管75を遮断している。
【0044】燃焼式ヒータ74は空気供給管89を介し
て吸入される空気の量と、この空気に混合させる燃料の
量とを制御することにより、空燃比の異なる排気ガスを
排出することができる。そして、燃焼式ヒータ74から
排出される排気ガス(以下、ヒータ排気ガスと称す)が
パティキュレートフィルタの温度を上昇させることがで
きる昇温能力は、機関排気ガスがパティキュレートフィ
ルタの温度を上昇させることができる昇温能力よりも高
い。すなわち、ヒータ排気ガスは、パティキュレートフ
ィルタの温度を上昇させるために必要な燃料の量や時間
という観点から、機関排気ガスよりも効率良く、パティ
キュレートフィルタの温度を上昇させることができる。
【0045】切換バルブ72の作動状態が第1の作動状
態にあるときには、ヒータ排気ガスは第1のパティキュ
レートフィルタ22aに供給される。一方、切換バルブ
72の作動状態が第2の作動状態にあるときには、ヒー
タ排気ガスは第2のパティキュレートフィルタ22bに
供給される。一方、切換バルブ72の作動状態が中立作
動状態にあるときには、ヒータ排気ガスは両パティキュ
レートフィルタ22a,22bに等しく供給される。な
お、切換バルブ72の作動状態は、通常は、中立作動状
態とされる。
【0046】ケーシング23a,23b下流の排気枝通
路(以下、下流側排気枝通路と称す)92a,92bに
はそれぞれ対応するパティキュレートフィルタ22a,
22bの温度を推定するために、パティキュレートフィ
ルタ22a,22bから流出した排気ガスの温度を検出
するための温度センサ77a,77bが配置される。ま
た、下流側排気枝通路92a,92bは集合せしめられ
て共通の機関排気通路92に接続される。
【0047】なお、燃焼式ヒータ74は燃料(炭化水
素)を単に燃焼させるタイプのヒータでもよいが、例え
ば酸化触媒を有する触媒バーナでもよい。この触媒バー
ナには酸素が少なくても着火しやすいという利点があ
る。また、本実施例の燃焼式ヒータ74はリッチ空燃比
にて燃焼を行うことによりリッチ空燃比の排気ガスを生
成する。しかしながら、この燃焼式ヒータ74の代わり
に、該燃焼式ヒータ74により生成されるリッチ空燃比
の排気ガスがパティキュレートフィルタ内において果た
す役割と同様の役割を果たすことができるガスとして、
気化された軽油を含むガスや加熱分解された軽油を含む
ガスを生成する装置を採用してもよい。
【0048】また、本実施例の燃焼式ヒータ74は、リ
ッチ空燃比の排気ガスを生成するときには、高温下で燃
料(炭化水素)を分解して一酸化炭素(CO)を比較的
多く含む排気ガスを生成するような燃焼を行うタイプで
ある。このタイプの燃焼式ヒータ74によれば、当該燃
焼式ヒータ74からリッチ空燃比の排気ガスがパティキ
ュレートフィルタに供給され、パティキュレートフィル
タ内において排気ガス中のHCとNOとが還元反応し
たときに、これらHCとNOとの反応熱が少なくな
る。これによればフィルタ温度が一気に高くなってNO
がNO触媒から一気に放出されることが抑制され
る。このように大量のNOがNO触媒から一気に放
出されることが抑制されていれば、NOがHCにより
還元されずにパティキュレートフィルタから下流へ流出
することが抑制される。
【0049】再び図1を参照すると、排気マニホルド1
9とサージタンク12とは排気ガス再循環(以下、EG
R)通路24を介して互いに連結され、EGR通路24
内には電気制御式EGR制御弁25が配置される。ま
た、EGR通路24周りにはEGR通路24内を流れる
EGRガスを冷却するための冷却装置26が配置され
る。図1に示した実施例では、冷却装置26内に機関冷
却水が導かれ、この機関冷却水によりEGRガスが冷却
される。
【0050】一方、各燃料噴射弁6は燃料供給管6aを
介して燃料リザーバ、いわゆるコモンレール27に連結
される。このコモンレール27内へは電気制御式の吐出
量可変な燃料ポンプ28から燃料が供給され、コモンレ
ール27内に供給された燃料は各燃料供給管6aを介し
て燃料噴射弁6に供給される。コモンレール27にはコ
モンレール27内の燃料圧を検出するための燃料圧セン
サ29が取り付けられ、燃料圧センサ29の出力信号に
基づいてコモンレール27内の燃料圧が目標燃料圧とな
るように燃料ポンプ28の吐出量が制御される。
【0051】電子制御ユニット30はデジタルコンピュ
ータからなり、双方向性バス31により互いに接続され
たROM(リードオンリメモリ)32、RAM(ランダ
ムアクセスメモリ)33、CPU(マイクロプロセッ
サ)34、入力ポート35および出力ポート36を具備
する。燃料圧センサ29、および温度センサ77a,7
7bの出力信号は対応するAD変換器37を介して入力
ポート35に入力される。
【0052】アクセルペダル40にはアクセルペダル4
0の踏込量Lに比例した出力電圧を発生する負荷センサ
41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応する
AD変換器37を介して入力ポート35に入力される。
さらに入力ポート35にはクランクシャフトが例えば3
0°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角セン
サ42が接続される。
【0053】一方、出力ポート36は対応する駆動回路
38を介して燃料噴射弁6、スロットル弁駆動用ステッ
プモータ16、EGR制御弁25、燃料ポンプ28、お
よび切換バルブ72駆動用ステップモータに接続され
る。
【0054】ところで本実施例では、後述するNO
元処理やS成分放出処理や昇温処理などが行われる時以
外の通常の機関運転時においては、切換バルブ72の作
動状態は第1の作動状態か、或いは第2の作動状態とさ
れている。例えば、切換バルブ72の作動状態が第1の
作動状態にあるときには、ほとんど全ての機関排気ガス
が第2のパティキュレートフィルタ22bに流入するの
で、機関排気ガス中の微粒子は第2のパティキュレート
フィルタ22bに捕集される。ここで第2のパティキュ
レートフィルタ22bの温度が微粒子連続酸化温度より
も高ければ、捕集された微粒子は第2のパティキュレー
トフィルタ22bにおいて連続的に酸化除去される。
【0055】また、本実施例の内燃機関では大部分の機
関運転領域においてリーン空燃比で運転せしめられる。
したがって、機関排気ガスの空燃比は大部分の機関運転
領域においてリーンであるので、例えば、切換バルブ7
2の作動状態が第1の作動状態にあるときに第2のパテ
ィキュレートフィルタ22bに流入する機関排気ガス中
のNOは、第2のパティキュレートフィルタ22bの
温度がNO吸収温度範囲内にあれば、機関排気ガス中
のNOが第2のパティキュレートフィルタ22bのN
触媒に吸収される。
【0056】ところで、NO触媒が吸収することがで
きるNOの量には限界がある。したがって、或る一定
期間に亘って切換バルブ72の作動状態が第1の作動状
態にあると、第2のパティキュレートフィルタ22bの
NO触媒(以下、第2のNO触媒と称す)に吸収さ
れているNOの量が当該第2のNO触媒のNO
収限界に達してしまう。もちろん、或る一定期間に亘っ
て切換バルブ72の作動状態が第2の作動状態にあると
きには、第1のパティキュレートフィルタ22aのNO
触媒(以下、第1のNO触媒と称す)に吸収されて
いるNOの量が当該第1のNO触媒のNO吸収限
界に達してしまう。
【0057】こうした場合、パティキュレートフィルタ
のNO触媒はもはやNOを吸収することができない
ので、機関排気ガスをパティキュレートフィルタに流入
させ続けると、NOが排気浄化装置70から下流へと
流出してしまう。こうした理由により、NOが排気浄
化装置70から下流へと流出することを抑制するために
は、NO触媒に吸収されているNOがNO吸収限
界に達する前に、NO 触媒に吸収されているNO
還元浄化することが望まれる。
【0058】そこで本実施例では、図2に示した構成に
おいて、以下のNO浄化処理を実行する。すなわち本
実施例のNO浄化処理では、切換バルブ72の作動状
態が第1の作動状態と第2の作動状態のいずれか一方の
作動状態とされている間に、NO触媒に吸収されてい
るNOを還元すべきであると判定されたときには、切
換バルブ72の作動状態を切り換えて、当該NOを還
元すべきであると判定されたNO触媒を備えた方のパ
ティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制
した上で、逆流防止弁76を開弁し、燃焼式ヒータ74
を作動し、燃焼式ヒータ74から当該パティキュレート
フィルタにリッチ空燃比の排気ガスを供給する。
【0059】このように、パティキュレートフィルタに
リッチ空燃比のヒータ排気ガスが供給されると、パティ
キュレートフィルタ内の雰囲気はリッチ雰囲気となる。
このときにパティキュレートフィルタの温度(以下、フ
ィルタ温度と称す)がNO還元温度範囲内にあれば、
NO触媒からNOが放出されて、この放出されたN
がヒータ排気ガス中のHCにより還元浄化される。
そこで本実施例のNO 浄化処理では、パティキュレー
トフィルタにリッチ空燃比のヒータ排気ガスが供給され
ている間において、フィルタ温度がNO還元温度範囲
内に収まるように、フィルタ温度を制御する。これによ
れば、NO触媒から放出されたNOが確実に還元さ
れる。したがって本実施例によれば、全体として、排気
浄化装置のNO浄化レベルが高く維持される。
【0060】さらに上述したように、パティキュレート
フィルタの酸化物質は、その温度が微粒子連続酸化温度
以上であるときに、パティキュレートフィルタに流入す
る微粒子のほとんど全てを連続的に酸化除去することが
できる。パティキュレートフィルタに燃焼式ヒータ74
から排気ガスを供給しているときにおいても、量の多少
に係わらず、パティキュレートフィルタには微粒子が流
入することから、パティキュレートフィルタの微粒子酸
化除去レベルを高く維持するためには、NO浄化処理
中において、フィルタ温度が微粒子連続酸化温度よりも
高く維持されていることが望まれる。
【0061】そこで本実施例のNO浄化処理では、パ
ティキュレートフィルタにリッチ空燃比のヒータ排気ガ
スを供給している間において、フィルタ温度をNO
元温度範囲内において微粒子連続酸化温度よりも高く維
持するようにする。これによれば、NO浄化処理中に
おいても微粒子が連続的に酸化除去される。したがって
本実施例によれば、全体として、排気浄化装置の微粒子
酸化除去レベルが高く維持される。
【0062】なお本実施例のNO浄化処理において
は、NO触媒に吸収されているNO を還元すべきか
否かは、当該NO触媒に吸収されているトータルのN
の量(以下、総NO吸収量)が、当該NO触媒
のNO吸収限界値に達するか否かに基づいて判定され
る。ここで、総NO吸収量を算出するための手段とし
ては次のようなものがある。
【0063】すなわち、単位時間当たりにパティキュレ
ートフィルタに吸収されるNOの量(以下、単位NO
吸収量と称す)は単位時間当たりに内燃機関から放出
されるNOの量(以下、単位NO放出量と称す)か
ら推定でき、この単位NO放出量は機関回転数と機関
トルクとの関数である。そこで、単位NO吸収量を機
関回転数と機関トルクとの関数として実験などにより求
めて機関回転数と機関トルクとの関数のマップとして予
めROMに記憶させておき、このマップを利用して算出
される単位NO吸収量を積算することにより総NO
吸収量を算出することができる。
【0064】本実施例のNO浄化処理を実行するため
のフローの一例を図3〜図5に示した。図3では、始め
にステップ10において、NO還元処理Iが要求され
ているか否か、すなわち、第1のパティキュレートフィ
ルタ22aに担持されているNO触媒に吸収されてい
るNOを還元浄化すべきことが要求されているか否か
が判別される。ステップ10において、NO還元処理
Iが要求されていると判別されたときには、ルーチンは
ステップ11に進んで、図4に示したフローに従ってN
還元処理Iが実行される。一方、ステップ10にお
いて、NO還元処理Iが要求されていないと判別され
たときには、ルーチンはステップ12に進む。
【0065】ステップ12では、NO還元処理IIが要
求されているか否か、すなわち、第2のパティキュレー
トフィルタ22bに担持されているNO触媒に吸収さ
れているNOを還元浄化すべきことが要求されている
か否かが判別される。ステップ12において、NO
元処理IIが要求されていると判別されたときには、ルー
チンはステップ13に進んで、図5に示したフローに従
ってNO還元処理IIが実行される。一方、ステップ1
2において、NO還元処理IIが要求されていないと判
別されたときには、ルーチンは終了する。
【0066】図4に示したNO還元処理Iでは、始め
にステップ20において、切換制御Iが実行される。こ
の切換制御Iでは、第1のパティキュレートフィルタ2
2aへの機関排気ガスの流入が抑制されるように、切換
バルブ72の作動状態が第1の作動状態に切り換えられ
る。次いでステップ21において、逆流防止弁76が開
弁され、次いでステップ22において、燃焼式ヒータ7
4が作動される。ここでは燃焼式ヒータ74からリッチ
空燃比の排気ガスが第1のパティキュレートフィルタ2
2aに供給され、第1のNO触媒に吸収されているN
が還元浄化される。
【0067】次いでステップ23では、第1のNO
媒に吸収されているNOの還元浄化が完了したか否か
が判別される。ステップ23において、NO還元浄化
が完了していないと判別されたときには、ルーチンはス
テップ23に戻る。したがって、ステップ23におい
て、NO還元浄化が完了したと判別されるまで、ルー
チンはステップ23を繰り返す。一方、ステップ23に
おいて、NO還元浄化が完了したと判別されたときに
は、ルーチンはステップ24に進んで、燃焼式ヒータ7
4の作動が停止され、次いでステップ25において、逆
流防止弁76が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0068】このNO還元処理Iが終了した段階で
は、第1のパティキュレートフィルタ22aへの機関排
気ガスの流入が抑制されたままとされ、NO還元処理
IIの実行が開始されたときに、第1のパティキュレート
フィルタ22aに機関排気ガスが流入せしめられる。
【0069】一方、図5に示したNO還元処理IIで
は、始めにステップ30において、切換制御IIが実行さ
れる。この切換制御IIでは、第2のパティキュレートフ
ィルタ22bへの機関排気ガスの流入が抑制されるよう
に、切換バルブ72の作動状態が第2の作動状態に切り
換えられる。次いでステップ31において、逆流防止弁
76が開弁され、次いでステップ32において、燃焼式
ヒータ74が作動される。ここでは燃焼式ヒータ74か
らリッチ空燃比の排気ガスが第2のパティキュレートフ
ィルタ22bに供給され、第2のNO触媒に吸収され
ているNOが還元浄化される。
【0070】次いでステップ33では、第2のNO
媒に吸収されているNOの還元浄化が完了したか否か
が判別される。ステップ33において、NO還元浄化
が完了していないと判別されたときには、ルーチンはス
テップ33を繰り返す。ステップ33において、NO
還元浄化が完了したと判別されたときには、ルーチンは
ステップ34に進んで、燃焼式ヒータ74の作動が停止
され、次いでステップ34において、逆流防止弁76が
閉弁され、ルーチンが終了する。
【0071】このNO還元処理IIが終了した段階で
は、第2のパティキュレートフィルタ22bへの機関排
気ガスの流入が抑制されたままとされ、NO還元処理
Iの実行が開始されたときに、第2のパティキュレート
フィルタ22bに機関排気ガスが流入せしめられる。
【0072】ところで、パティキュレートフィルタの微
粒子酸化除去レベルを高いレベルに維持するためには、
フィルタ温度が微粒子連続酸化温度よりも高い温度に維
持されていることが望まれる。一方、NO触媒のNO
浄化レベルを高いレベルに維持するためには、リーン
空燃比の排気ガスがパティキュレートフィルタに流入し
ているときに、フィルタ温度がNO吸収温度範囲内に
維持されていることが望まれる。すなわち全体として、
排気浄化装置70の微粒子酸化除去レベルおよびNO
浄化レベルを高いレベルに維持するためには、パティキ
ュレートフィルタにリーン空燃比の排気ガスが流入して
いるときに、フィルタ温度がNO吸収温度範囲内にお
いて微粒子連続酸化温度よりも高い温度に維持されてい
ることが望まれる。
【0073】そこで本実施例では、図2に示した構成に
おいて、以下のようなフィルタ温度制御を実行する。す
なわち本実施例のフィルタ温度制御では、フィルタ温度
がNO吸収温度範囲の下限温度よりも低いか、或いは
微粒子連続酸化温度よりも低いときには、フィルタ温度
がNO吸収温度範囲の下限温度よりも低いか、或いは
微粒子連続酸化温度よりも低い方のパティキュレートフ
ィルタへの機関排気ガスの流入が抑制されるように、切
換バルブ72の作動状態を切り換えた上で、当該パティ
キュレートフィルタの温度がNO吸収温度範囲内にお
いて微粒子連続酸化温度よりも高くなるように、燃焼式
ヒータ74からヒータ排気ガスを当該パティキュレート
フィルタに供給し、当該パティキュレートフィルタを加
熱する。
【0074】これによれば、両パティキュレートフィル
タ22a,22bの温度がNO吸収温度範囲内におい
て微粒子連続酸化温度よりも高く維持される。したがっ
て本実施例によれば、全体として、排気浄化装置70の
微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルが高いレ
ベルに維持される。
【0075】なお本実施例のフィルタ温度制御におい
て、フィルタ温度がNO吸収温度範囲の上限温度より
も高いときには、フィルタ温度がNO吸収温度範囲内
において微粒子連続酸化温度よりも高くなるように、フ
ィルタ温度を制御する。
【0076】なお本実施例のフィルタ温度制御におい
て、微粒子連続酸化温度は、フィルタ温度とその温度に
おいて単位時間当たりに連続的に酸化除去することがで
きる微粒子の量との関係を予め実験により求め、この関
係をマップの形でROMに予め記憶しておき、この記憶
されている関係と、機関運転状態により推定される単位
流入微粒子量とから求められる。
【0077】また、フィルタ温度が微粒子連続酸化温度
よりも低いときには、微粒子が徐々にパティキュレート
フィルタ内に堆積し、パティキュレートフィルタの圧損
が徐々に上昇することから、パティキュレートフィルタ
の圧損が予め定められた値よりも高くなったことをもっ
て、フィルタ温度が微粒子連続酸化温度よりも低いと判
定するようにしてもよい。
【0078】本実施例のフィルタ温度制御を実行するた
めのフローの一例を図6〜図8に示した。図6では、始
めにステップ40において、昇温処理Iが要求されてい
るか否か、すなわち、第1のパティキュレートフィルタ
22aの温度をNO吸収温度範囲内において微粒子連
続酸化温度よりも高くするために、第1のパティキュレ
ートフィルタ22aの温度を昇温することが要求されて
いるか否かが判別される。ステップ40において、昇温
処理Iが要求されていると判別されたときには、ルーチ
ンはステップ41に進んで、昇温処理Iが図7に示した
フローに従って実行される。
【0079】図7では、始めにステップ50において、
切換制御Iが実行される。この切換制御Iでは、第1の
パティキュレートフィルタ22aへの機関排気ガスの流
入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態が第
1の作動状態に切り換えられる。次いでステップ51に
おいて、逆流防止弁76が開弁され、次いでステップ5
2において、燃焼式ヒータ74が作動される。ここでは
燃焼式ヒータ74からリーン空燃比の排気ガスが第1の
パティキュレートフィルタ22aに供給される。
【0080】次いでステップ53において、温度判定が
実行される。この温度判定は図8に示したフローに従っ
て実行される。すなわち、図8では、始めにステップ6
0において、第1のパティキュレートフィルタ22aの
温度TaがNO吸収温度範囲の下限温度TNLよりも
高く且つNO吸収温度範囲の上限温度TNHよりも低
いか否か、すなわちフィルタ温度TaがNO吸収温度
範囲内にあるか否かが判別される。
【0081】ステップ60において、TNL<Ta<T
NHであると判別されたときには、ルーチンはステップ
61に進んで、フィルタ温度TaがNO吸収温度範囲
内にあることを示すNOフラグFNがセットされる。
一方、Ta≦TNLであると判別されるか、或いはTa
≧TNHであると判別されたときには、ルーチンはステ
ップ62にスキップする。
【0082】ステップ62では、第1のパティキュレー
トフィルタ22aの温度Taが微粒子連続酸化温度TP
よりも高いか否かが判別される。ステップ62におい
て、Ta>TPであると判別されたときには、ルーチン
はステップ63に進んで、フィルタ温度Taが微粒子連
続酸化温度よりも高いことを示す微粒子フラグTPがセ
ットされる。一方、ステップ62において、Ta≦TP
であると判別されたときには、ルーチンはステップ64
にスキップする。
【0083】次いでステップ64では、NOフラグF
Nがセットされ且つ微粒子フラグFPがセットされてい
るか否かが判別される。ステップ64において、これら
NO フラグFNおよび微粒子フラグFPが共にセット
されていると判別されたときには、ルーチンが終了す
る。このとき、フィルタ温度TaはNO吸収温度範囲
内において微粒子連続酸化温度以上となっている。一
方、ステップ64において、NOフラグFNまたは微
粒子フラグFPのいずれか一方がリセットされたままで
あると判別されたときには、ステップ65において、こ
れらNOフラグFNおよび微粒子フラグFPがリセッ
トされ、ルーチンはステップ60に戻り、ステップ60
〜ステップ64が繰り返される。したがって、ステップ
64において、NOフラグFNおよび微粒子フラグF
Pが共にセットされていると判別されるまで、ステップ
60〜64が繰り返される。
【0084】図8のフローが終了すると、ルーチンは図
7のステップ54に進んで、燃焼式ヒータ74の作動が
停止され、次いでステップ55において、逆流防止弁7
6が閉弁され、次いでステップ56において、切換制御
IIが実行される。切換制御IIでは、第1のパティキュレ
ートフィルタ22aへ機関排気ガスが流入するように、
切換バルブ72の作動状態が第2の作動状態に切り換え
られる。
【0085】ところで、図6のステップ40において、
昇温処理Iが要求されていないと判別されたときには、
ルーチンはステップ42に進んで、昇温処理IIが要求さ
れているか否か、すなわち、第2のパティキュレートフ
ィルタ22bの温度をNO吸収温度範囲内において微
粒子連続酸化温度よりも高くするために、第2のパティ
キュレートフィルタ22bの温度を昇温することが要求
されているか否かが判別される。ステップ42におい
て、昇温処理IIが要求されていないと判別されたときに
は、ルーチンはステップ44に進む。一方、ステップ4
2において、昇温処理IIが要求されていると判別された
ときには、ルーチンはステップ43に進んで、昇温処理
IIが実行される。
【0086】昇温処理IIは、以下で説明する点を除い
て、図7および図8に示したフローと同じフローにて実
行される。昇温処理IIでは、図7のステップ50におい
て、切換制御IIが実行される。この切換制御IIでは、第
2のパティキュレートフィルタ22bへの機関排気ガス
の流入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態
が第2の作動状態に切り換えられる。また、昇温処理II
では、図7のステップ56において、切換制御Iが実行
される。すなわち、第2のパティキュレートフィルタ2
2bに機関排気ガスが流入するように、切換バルブ72
の作動状態が第1の作動状態に切り換えられる。
【0087】さらに、昇温処理IIでは、図8のステップ
60において、第2のパティキュレートフィルタ22b
の温度TbがNO吸収温度範囲の下限温度TNLより
も高く且つNO吸収温度範囲の上限温度TNHよりも
低いか否かが判別される。また、昇温処理IIでは、図8
のステップ62において、第2のパティキュレートフィ
ルタ22bの温度Tbが微粒子連続酸化温度TPよりも
高いか否かが判別される。これ以外の処理は本実施例の
NO還元処理Iにおける処理と同じである。
【0088】ところで、図6のステップ44では、降温
処理Iが要求されているか否か、すなわち、第1のパテ
ィキュレートフィルタ22aの温度を微粒子連続酸化温
度よりも高く維持しつつNO吸収温度範囲内に維持す
るために、第1のパティキュレートフィルタ22aの温
度を低下させることが要求されているか否かが判別され
る。ステップ44において、降温処理Iが要求されてい
ないと判別されたときには、ルーチンはステップ46に
進む。一方、ステップ44において、降温処理Iが要求
されていると判別されたときには、ルーチンはステップ
45に進んで、降温処理Iが実行される。この降温処理
Iでは、第1のパティキュレートフィルタ22aの温度
を微粒子連続酸化温度よりも高く維持しつつNO吸収
温度範囲内に収まるように、第1のパティキュレートフ
ィルタ22aの温度を低下させるための処理が実行され
る。
【0089】ステップ46では、降温処理IIが要求され
ているか否か、すなわち、第2のパティキュレートフィ
ルタ22bの温度を微粒子連続酸化温度よりも高く維持
しつつNO吸収温度範囲内に維持するために、第2の
パティキュレートフィルタ22bの温度を低下させるこ
とが要求されているか否かが判別される。ステップ46
において、降温処理IIが要求されていないと判別された
ときには、ルーチンは終了する。一方、ステップ46に
おいて、降温処理IIが要求されていると判別されたとき
には、ルーチン47はステップに進んで、降温処理IIが
実行される。この降温処理IIでは、第2のパティキュレ
ートフィルタ22bの温度を微粒子連続酸化温度よりも
高く維持しつつNO吸収温度範囲内に収まるように、
第2のパティキュレートフィルタ22bの温度を低下さ
せるための処理が実行される。
【0090】なお上述したフィルタ温度制御の代わり
に、図2に示した構成において、以下のようなフィルタ
温度制御を実行するようにしてもよい。すなわち本実施
例のフィルタ温度制御では、フィルタ温度がNO吸収
温度範囲の下限温度よりも低いか、或いは微粒子連続酸
化温度よりも低いときには、切換バルブ72の作動状態
を中立作動状態に切り換えた上で、フィルタ温度がNO
吸収温度範囲内において微粒子連続酸化温度よりも高
くなるように、燃焼式ヒータ74からヒータ排気ガスを
両パティキュレートフィルタ22a,22bに供給し、
両パティキュレートフィルタ22a,22bを加熱す
る。
【0091】これによれば、両パティキュレートフィル
タ22a,22bの温度がNO吸収温度範囲内におい
て微粒子連続酸化温度よりも高く維持される。したがっ
て本実施例によれば、全体として、排気浄化装置70の
微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルが高いレ
ベルに維持される。
【0092】なお本実施例のフィルタ温度制御におい
て、フィルタ温度がNO吸収温度範囲の上限温度より
も高いときには、フィルタ温度がNO吸収温度範囲内
において微粒子連続酸化温度よりも高くなるように、フ
ィルタ温度を制御する。
【0093】ところで上述したように、NO触媒は、
その温度がNO還元温度範囲内にあるときに、吸収し
ているNOを放出し、この放出されたNOをHCに
より還元することができる。したがって、NO還元効
率をより高くするためには、NO触媒に吸収されてい
るNOを還元するためにリッチ空燃比のヒータ排気ガ
スをパティキュレートフィルタに供給し始めたときに、
フィルタ温度が既にNO還元温度範囲内にあることが
望まれる。
【0094】もちろん、微粒子酸化除去効率をより高く
するためには、NO触媒に吸収されているNOを還
元するためにリッチ空燃比のヒータ排気ガスをパティキ
ュレートフィルタに供給し始めたときに、フィルタ温度
が既に微粒子連続酸化温度よりも高くなっていることが
望まれる。
【0095】そこで、図2に示した構成において、以下
のようなNO浄化処理を実行するようにしてもよい。
すなわち本実施例のNO浄化処理では、NO触媒に
吸収されているNOを還元浄化すべきであると判定さ
れたときに、フィルタ温度がNO還元温度範囲の下限
温度よりも低いか、或いは微粒子連続酸化温度よりも低
い場合には、NOを還元すべき状態にあると判定され
たNO触媒を備えた方のパティキュレートフィルタへ
の機関排気ガスの流入を抑制するように切換バルブ72
の作動状態を切り換えた上で、燃焼式ヒータ74からリ
ーン空燃比の排気ガスを当該パティキュレートフィルタ
に供給する。これによれば、NO触媒からNOが放
出せしめられることなく、当該パティキュレートフィル
タがヒータ排気ガスの熱により加熱される。
【0096】そして本実施例のNO浄化処理では、フ
ィルタ温度がNO還元温度範囲内において微粒子連続
酸化温度よりも高くなったときに、燃焼式ヒータ74か
らリッチ空燃比の排気ガスを当該パティキュレートフィ
ルタに供給する。
【0097】これによれば、リッチ空燃比のヒータ排気
ガスがパティキュレートフィルタに供給されるときに
は、既にフィルタ温度がNO還元温度範囲内において
微粒子連続酸化温度よりも高くなっている。したがって
本実施例によれば、全体として、排気浄化装置の微粒子
酸化除去レベルおよびNO浄化レベルがより高められ
る。
【0098】ところで、図2に示した構成において、以
下のようなNO浄化処理を実行するようにしてもよ
い。すなわち本実施例のNO浄化処理では、NO
媒に吸収されているNOを還元浄化すべきであると判
定されたときに、フィルタ温度がNO還元温度範囲の
下限温度よりも低いか、或いは微粒子連続酸化温度より
も低い場合には、NOを還元すべき状態にあると判定
されたNO触媒を備えた方のパティキュレートフィル
タへの機関排気ガスの流入を抑制するように切換バルブ
72の作動状態を切り換えた上で、リッチ度合が比較的
小さいリッチ空燃比であって且つ酸素濃度が予め定めら
れた酸素濃度よりも高いヒータ排気ガスをパティキュレ
ートフィルタに供給する。
【0099】すなわち、このときにパティキュレートフ
ィルタに供給されるヒータ排気ガスの空燃比のリッチ度
合が小さいので、NOx触媒からNOxがほとんど放出
されることはない。一方、このときにパティキュレート
フィルタに供給されるヒータ排気ガス中には比較的多く
の酸素とHCとが含まれており、これら酸素とHCとが
パティキュレートフィルタにて酸化反応し、熱が放出さ
れるので、パティキュレートフィルタの温度が素早く上
昇せしめられる。
【0100】そして本実施例のNOx浄化処理では、フ
ィルタ温度がNOx還元温度範囲内にあって微粒子連続
酸化温度よりも高くなったときに、リッチ度合が比較的
大きいリッチ空燃比であって且つ酸素濃度が上記予め定
められた酸素濃度よりも低いヒータ排気ガスをパティキ
ュレートフィルタに供給する。
【0101】すなわち、このときにパティキュレートフ
ィルタに供給されるヒータ排気ガスの空燃比のリッチ度
合は全体としては大きいので、NOx触媒からNOxが
放出される。そして、このときにパティキュレートフィ
ルタに供給されるヒータ排気ガス中に含まれている酸素
とHCとは比較的少ないので、これら酸素とHCとがパ
ティキュレートフィルタにて酸化反応することにより多
量の熱が放出されることがなく、したがってNOx触媒
からNOxが一気に放出されることが抑制される。
【0102】もちろん本実施例のNOx浄化処理では、
NOx触媒に吸収されているNOxを還元浄化すべきで
あると判定されたときに、フィルタ温度がNOx還元温
度範囲内において微粒子連続酸化温度よりも高い場合に
は、リッチ度合が比較的小さく且つ酸素濃度が上記予め
定められた酸素濃度よりも高いヒータ排気ガスをパティ
キュレートフィルタに供給せずに、即座に、リッチ度合
が比較的大きいリッチ空燃比であって且つ酸素濃度が上
記予め定められた酸素濃度よりも低いヒータ排気ガスを
パティキュレートフィルタに供給する。
【0103】これによれば、酸素濃度が比較的低いリッ
チ空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィルタ
に供給されたときには、既にフィルタ温度がNO還元
温度範囲内にあって微粒子連続酸化温度よりも高くなっ
ている。したがって本実施例によれば、全体として、排
気浄化装置の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化能
力が高いレベルに維持される。
【0104】なお、上記予め定められた酸素濃度はフィ
ルタ温度を所望の上昇率にて上昇させるために必要な酸
素濃度に設定される。
【0105】ところで、パティキュレートフィルタに担
持されたNO触媒には、排気ガス中の硫黄成分(以
下、S成分と称す)も吸収される。このように、NO
触媒にS成分が吸収されるとNO触媒のNO吸収能
力が低下してしまう。したがって、NO触媒のNO
吸収能力を高いレベルに維持し、結果としてNO触媒
のNO浄化能力を高いレベルに維持するためには、N
触媒に吸収されているS成分をNO触媒から放出
させることが望まれる。
【0106】S成分は、NO触媒の温度、すなわちフ
ィルタ温度が或る温度(例えば600℃)以上となり且
つパティキュレートフィルタ内の雰囲気がリッチ雰囲気
になると、NO触媒から放出される。したがって、S
成分をNO触媒から放出させるためには、フィルタ温
度をS成分がNO触媒から放出される温度(以下、S
成分放出温度と称す)以上とし且つパティキュレートフ
ィルタ内の雰囲気をリッチ雰囲気とすればよい。
【0107】そこで、本実施例では、図2に示した構成
において、次のようにS成分をNO 触媒から放出させ
るためのS成分放出制御を実行する。すなわち、本実施
例のS成分放出制御では、S成分をNO触媒から放出
させるべきであると判定されたときに、S成分を放出さ
せるべき状態にあると判定されたNO触媒を備えた方
のパティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を
抑制するように切換バルブ72の作動状態を切り換え、
当該パティキュレートフィルタにリーン空燃比のヒータ
排気ガスを供給する。これによれば、パティキュレート
フィルタはリーン空燃比のヒータ排気ガスの熱により加
熱され、フィルタ温度が上昇せしめられる。
【0108】そして、本実施例のS成分放出制御では、
フィルタ温度がS成分放出温度に達したときに、当該パ
ティキュレートフィルタにリッチ空燃比のヒータ排気ガ
スを供給する。これによれば、リッチ空燃比のヒータ排
気ガス中のHCによりその内部がリッチ雰囲気とされて
S成分がNO触媒から放出される。
【0109】したがって本実施例によれば、S成分がN
触媒から放出されるので、結果としてNO触媒の
NO浄化能力が高いレベルに維持される。なお、本実
施例において利用されているリーン空燃比のヒータ排気
ガスの代わりに、機関運転を制御することにより生成さ
れる高温でリーン空燃比の機関排気ガスを利用してもよ
い。
【0110】また、図2に示した構成において、次のよ
うなS成分放出制御を実行するようにしてもよい。すな
わち、本実施例のS成分放出制御では、S成分をNO
触媒から放出させるべきであると判定されたときに、機
関運転を制御して高温の機関排気ガスが機関本体1から
排出されるようにし、且つ、S成分を放出させるべき状
態にあると判定されたNO触媒を備えた方のパティキ
ュレートフィルタに機関排気ガスを流入させるように切
換バルブ72の作動状態を切り換える。これによれば、
S成分を放出させるべき状態にあると判定されたNO
触媒を備えた方のパティキュレートフィルタに高温の機
関排気ガスが流入するので、当該パティキュレートフィ
ルタは機関排気ガスの熱により加熱され、フィルタ温度
が上昇せしめられる。
【0111】そして、本実施例のS成分放出制御では、
フィルタ温度がS成分放出温度に達したときに、S成分
を放出させるべき状態にあるNO触媒を備えた方のパ
ティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を抑制
するように、切換バルブの作動状態を切り換えた上で、
燃焼式ヒータからリッチ空燃比の排気ガスを当該パティ
キュレートフィルタに供給する。これによれば、フィル
タ温度がS成分放出温度に達している状態において、パ
ティキュレートフィルタ内の雰囲気がリッチ雰囲気とさ
れるので、NO触媒からS成分が放出せしめられる。
【0112】なおこの実施例において、高温の機関排気
ガスを機関本体から排出させるために、内燃機関に後述
する低温燃焼を行わせるようにしてもよい。詳細は後述
するが、低温燃焼が行われているときに機関本体から排
出される排気ガスの温度は、通常の燃焼が行われている
ときに機関本体から排出される排気ガスの温度よりも高
い。したがってこれによれば、フィルタ温度をS成分放
出温度にまで上昇させることができる。
【0113】ところで、S成分をNO触媒から放出さ
せているときに、例えば機関運転がアイドリング運転と
なると、単位時間当たりにパティキュレートフィルタに
流入する排気ガスの量が少なくなる。したがってこのと
きには、パティキュレートフィルタから流出する排気ガ
ス中のS成分濃度が高くなり、排気エミッションが悪化
する。したがってこうした理由による排気エミッション
の悪化を抑制するためには、機関運転がアイドリング運
転になったときに、パティキュレートフィルタから流出
する排気ガス中のS成分濃度を一定レベル以下に抑制す
ることが望まれる。
【0114】そこで、図2に示した構成において、S成
分放出処理中に、次のような空燃比制御を実行するよう
にしてもよい。すなわち、本実施例の空燃比制御では、
S成分放出処理に従ってフィルタ温度がS成分放出温度
に達した後に、機関回転数が検出され、機関運転がアイ
ドリング運転か否か、より一般的には、機関回転数が所
定値よりも小さいか否かが定期的に判定される。ここ
で、機関回転数が所定値よりも大きいと判定されたとき
には、リッチ空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレー
トフィルタに供給される。この場合にはNO触媒から
S成分が比較的多い量ずつ放出せしめられる。一方、機
関回転数が所定値よりも小さくなったと判定されるとリ
ーン空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィル
タに供給される。この場合にはNO触媒からS成分は
ほとんど放出されない。
【0115】本実施例の空燃比制御によれば、リッチ空
燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィルタに供
給されるときには、NO触媒から放出されるS成分の
量は比較的多いが、このときには機関回転数が所定値よ
りも大きく、したがってパティキュレートフィルタから
流出する排気ガスの量が多いので、結果としてパティキ
ュレートフィルタから流出する排気ガス中のS成分濃度
は低いレベルにある。
【0116】一方、本実施例の空燃比制御によれば、リ
ーン空燃比の排気ガスがパティキュレートフィルタに供
給されるときには、機関回転数が所定値よりも小さく、
したがってパティキュレートフィルタから流出する排気
ガスの量が少ないが、このときにはNO触媒から放出
されるS成分はほぼ零であるので、結果としてパティキ
ュレートフィルタから流出する排気ガス中のS成分濃度
は低いレベルに維持される。
【0117】斯くして本実施例によれば、全体として、
パティキュレートフィルタから流出する排気ガス中のS
成分濃度が低いレベルに維持される。
【0118】また、リーン空燃比のヒータ排気ガスの温
度もリッチ空燃比のヒータ排気ガスの温度と同様に高い
ので、本実施例のように、リーン空燃比のヒータ排気ガ
スがパティキュレートフィルタに供給されたとしても、
フィルタ温度は低下せず、S放出温度以上に維持され
る。このため、パティキュレートフィルタに供給される
ヒータ排気ガスの空燃比がリーンからリッチに切り換え
られたときにも、フィルタ温度がS放出温度以上に維持
されているので、リッチ空燃比のヒータ排気ガスがパテ
ィキュレートフィルタに導入されるや否やS成分がNO
触媒から放出される。このため、燃焼式ヒータ74に
て消費される燃料量が少なくても短時間でNO触媒か
らS成分が放出される。
【0119】なお本実施例において、機関回転数が所定
値よりも小さい期間が一定期間以上に亘って継続したと
きにはパティキュレートフィルタへのヒータ排気ガスの
供給を中止してもよい。これによれば、燃焼式ヒータ7
4の燃費の悪化が抑制される。
【0120】なお本実施例において、機関回転数が所定
値よりも小さい間、リーン空燃比のヒータ排気ガスをパ
ティキュレートフィルタに供給する代わりに、リッチ空
燃比のヒータ排気ガスとリーン空燃比のヒータ排気ガス
とを交互にパティキュレートフィルタに供給するように
してもよい。これによれば、機関回転数が所定値よりも
小さく、したがってパティキュレートフィルタから流出
する排気ガスの量が少ないが、NO触媒から放出され
るS成分は比較的少ないので、結果としてパティキュレ
ートフィルタから流出する排気ガス中のS成分濃度は低
レベルに維持される。
【0121】もちろん、S成分放出温度は比較的高温で
あるので、S成分をNO触媒から放出されるためにフ
ィルタ温度をS成分放出温度にまで上昇させたときに
は、パティキュレートフィルタに堆積している微粒子が
急速に酸化除去される。したがって、S成分放出処理を
実行することによっても、排気浄化装置の微粒子酸化除
去能力が向上せしめられる。
【0122】本実施例の空燃比制御を含むS成分放出処
理を実行するためのフローの一例を図9に示した。図9
では、始めにステップ70において、第1のNO触媒
からS成分を放出するためのS成分放出処理Iが要求さ
れているか否かが判別される。ステップ70において、
S成分放出処理Iが要求されていると判別されたときに
は、ルーチンはステップ71に進んで、図10に示した
フローに従って、S成分放出処理Iが実行される。一
方、ステップ70において、S成分放出処理Iが要求さ
れていないと判別されたときには、ルーチンはステップ
72に進む。
【0123】ステップ72では、第2のNO触媒から
S成分を放出するためのS成分放出処理IIが要求されて
いるか否かが判別される。ステップ72において、S成
分放出処理IIが要求されていると判別されたときには、
ルーチンはステップ73に進んでS成分放出処理IIが実
行される。一方、ステップ72において、S成分放出処
理IIが要求されていないと判別されたときには、ルーチ
ンが終了する。
【0124】図10では、始めにステップ80におい
て、切換制御Iが実行される。この切換制御Iでは、第
1のパティキュレートフィルタ22aへの機関排気ガス
の流入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態
が第1の作動状態に切り換えられる。次いでステップ8
1において、逆流防止弁76が開弁され、次いでステッ
プ82において、燃焼式ヒータ74が作動される。
【0125】次いでステップ83において、第1のパテ
ィキュレートフィルタ22aの温度TaがS成分放出温
度Tsよりも高いか否かが判別される。ステップ83に
おいて、Ta≦Tsと判別されたときには、ルーチンは
ステップ83に戻る。したがって、ステップにおいてT
a>Tsであると判別されるまで、ステップ83が繰り
返される。ステップ83において、Ta>Tsであると
判別されたときには、ルーチンはステップ84に進ん
で、図11に示したフローに従って、空燃比制御が実行
される。
【0126】図11では、始めにステップ90におい
て、機関回転数Nが所定値Nsよりも大きいか否かが判
別される。ステップ90において、N>Nsであると判
別されたときには、ルーチンはステップ91に進んで空
燃比制御Iが実行される。この空燃比制御Iでは、燃焼
式ヒータ74から供給されるヒータ排気ガスの空燃比が
リッチとされ、ルーチンは図10のステップ85に進
む。一方、ステップ90において、N≦Nsであると判
別されたときには、ルーチンはステップ92に進んで、
空燃比制御IIが実行される。この空燃比制御IIでは、ヒ
ータ排気ガスの空燃比がリーンとされ、ルーチンは図1
0のステップ85に進む。
【0127】図10のステップ85では、S成分の放出
が完了したか否かが判別される。ステップ85におい
て、S成分の放出が完了していないと判別されたときに
は、ルーチンはステップ84に戻る。したがって、ステ
ップ84においてS成分の放出が完了したと判別される
までは、ステップ84,85が繰り返される。ステップ
85において、S成分の放出が完了したと判別されたと
きには、ルーチンはステップ86に進んで、燃焼式ヒー
タ74の作動が停止され、次いでステップ87におい
て、逆流防止弁76が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0128】本実施例のS成分放出処理IIは、以下で説
明する点を除いて、図10に示したフローに従って実行
される。本実施例のS成分放出処理IIでは、図10のス
テップ80では、切換制御IIが実行される。この切換制
御IIでは、第2のパティキュレートフィルタ22bへの
機関排気ガスの流入が抑制されるように、切換バルブ7
2の作動状態が第2の作動状態に切り換えられる。これ
以外の処理は本実施例のS成分放出処理Iにおける処理
と同じである。
【0129】ところで、S成分をNO触媒から放出さ
せるためにフィルタ温度をS成分放出温度以上に維持し
且つパティキュレートフィルタ内をリッチ雰囲気に保ち
続けると、フィルタ温度レベルやリッチ雰囲気レベルに
よっては、S成分が二酸化硫黄(SO2)としてではな
く、硫化水素(H2S)となってパティキュレートフィ
ルタから流出することがある。
【0130】硫化水素はNO触媒に吸着しやすく、い
ったん吸着すると脱離しづらいという性質を有する。硫
化水素がNO触媒に吸着すると、NO触媒のNO
吸収能力が低下し、結果としてNO触媒のNO浄化
能力も低下する。したがって、NO触媒のNO浄化
能力を高いレベルに維持するためには、S成分を硫化水
素の形ではなく、二酸化硫黄の形でNO触媒から放出
されることが望まれる。
【0131】そこで、図2に示した構成において、次の
ようなS成分放出処理を実行するようにしてもよい。す
なわち、本実施例のS成分放出制御では、S成分を放出
すべきであるときには、S成分を放出すべき状態にある
NO触媒を備えた方のパティキュレートフィルタへの
機関排気ガスの流入を抑制するように、切換バルブ72
の作動状態を切り換えた上で、燃焼式ヒータ74からリ
ーン空燃比の排気ガスを当該パティキュレートフィルタ
に供給する。これによれば、ヒータ排気ガスによりパテ
ィキュレートフィルタが加熱され、フィルタ温度が上昇
せしめられる。
【0132】そして、本実施例のS成分放出制御では、
フィルタ温度がS成分放出温度に達すると、リッチ空燃
比のヒータ排気ガスとリーン空燃比のヒータ排気ガスと
を交互にパティキュレートフィルタに供給する。このよ
うに、リッチ空燃比のヒータ排気ガスとリーン空燃比の
ヒータ排気ガスとが交互にパティキュレートフィルタに
供給されると、フィルタ温度が上昇しても一定温度以下
に維持され且つパティキュレートフィルタ内の雰囲気の
リッチ度合も一定度合以下に維持される。したがって本
実施例によれば、S成分が確実に二酸化硫黄の形でNO
触媒から放出され、結果としてNO触媒のNO
化能力が高いレベルに維持される。
【0133】なお本実施例において、リッチ空燃比のヒ
ータ排気ガスとリーン空燃比のヒータ排気ガスとを交互
にパティキュレートフィルタに供給する代わりに、リッ
チ空燃比のヒータ排気ガスを供給すると共に、切換バル
ブ72の開度を制御してリーン空燃比の機関排気ガスを
断続的にパティキュレートフィルタに供給するようにし
てもよい。これによっても、フィルタ温度が上昇しても
一定温度以下に維持され且つパティキュレートフィルタ
内の雰囲気のリッチ度合も一定度合以下に維持されるの
で、S成分が確実に二酸化硫黄の形でNO触媒から放
出され、結果としてNO触媒のNO浄化能力が高い
レベルに維持される。
【0134】ところで、NO還元処理中にあるパティ
キュレートフィルタへの機関排気ガスの流入は切換バル
ブ72により抑制されている。ここで、パティキュレー
トフィルタに供給されるヒータ排気ガス量は排気浄化装
置70に到来する機関排気ガス量よりも少ないので、N
還元処理中にあるパティキュレートフィルタ内の圧
力は当該パティキュレートフィルタ下流の機関排気通路
内の圧力よりも低くなる。この場合、当該パティキュレ
ートフィルタには他方のパティキュレートフィルタから
流出した機関排気ガスがその下流側から流入する。
【0135】この場合に当該パティキュレートフィルタ
内の雰囲気を所望の程度のリッチ雰囲気とするために
は、機関排気ガスが当該パティキュレートフィルタに全
く流入しない場合に比べて、ヒータ排気ガスのリッチ度
合を大きくしなければならず、この場合、燃焼式ヒータ
74の燃費が悪化する。したがって、こうした理由によ
る燃焼式ヒータ74の燃費の悪化を抑制するためには、
NO還元処理中にあるパティキュレートフィルタにそ
の下流から機関排気ガスが流入することを抑制すること
が望まれる。
【0136】そこで図12に示した構成を採用し、上述
したNO還元処理を実行するようにしてもよい。図1
2に示した構成では、下流側排気枝通路92a,92b
は集合せしめられずに、そのまま大気に解放されてい
る。これによれば、一方の下流側排気枝通路から排出さ
れる排気ガスが他方の下流側排気枝通路内に流入するこ
とが抑制され、NO還元処理中にあるパティキュレー
トフィルタにその下流から機関排気ガスが流入すること
が抑制される。したがって本実施例によれば、燃焼式ヒ
ータ74の燃費の悪化が抑制される。
【0137】なお、図13に示した構成によっても、図
12に示した構成から得られる効果と同様な効果が得ら
れる。図13に示した構成では、パティキュレートフィ
ルタ下流側において直ぐに下流側排気枝通路92a,9
2bは集合せしめられずに、比較的長い距離に亘って延
在し、その後、集合せしめられている。ここで、パティ
キュレートフィルタから下流側排気枝通路92a,92
bが集合せしめられる領域(以下、排気通路集合領域と
称す)までの距離は、一方のパティキュレートフィルタ
への機関排気ガスの流入が抑制されているときに、他方
のパティキュレートフィルタから流出した機関排気ガス
が排気通路集合領域を介して当該一方のパティキュレー
トフィルタにその下流から流入することが抑制される距
離に設定される。
【0138】また、NO還元処理中にあるパティキュ
レートフィルタにその下流から機関排気ガスが流入する
ことを抑制するための別の構成として、図14に示した
構成を採用してもよい。図14に示した構成では、各下
流側排気枝通路92a,92b内にそれぞれ排気バルブ
78a,78bが配置されており、これら排気バルブ7
8a,78bはそれぞれステップモータ79a,79b
に接続されている。これらステップモータ79a,79
bはそれぞれ対応する駆動回路38を介して出力ポート
36に接続される。
【0139】本実施例では、NO還元処理中において
機関排気ガスの流入が抑制されている方のパティキュレ
ートフィルタに接続された下流側排気枝通路92a,9
2b内に配置された排気バルブ78a,78bをステッ
プモータ79a,79bにより閉弁する。これによれ
ば、NO還元処理中にあるパティキュレートフィルタ
へのその下流からの機関排気ガスの流入が排気バルブ7
8a,78bにより抑制される。
【0140】また、NO還元処理中にあるパティキュ
レートフィルタに接続された下流側排気枝通路92a,
92bが排気バルブ78a,78bにより閉塞されるの
で、NO還元処理中にあるパティキュレートフィルタ
内の圧力が上昇する。これによっても、NO還元処理
中にあるパティキュレートフィルタへのその下流からの
機関排気ガスの流入が抑制される。
【0141】したがって本実施例によれば、燃焼式ヒー
タ74の燃費の悪化が抑制される。
【0142】もちろん以上説明した構成により、パティ
キュレートフィルタにその下流から機関排気ガスが流入
することを抑制することは、S成分除去処理を実行する
ときに、燃焼式ヒータ74の燃費の悪化を抑制するため
にも有効である。
【0143】ところで本実施例では、NO還元処理中
およびS成分放出処理中において、ヒータ排気ガスが供
給される方のパティキュレートフィルタはその上流側を
切換バルブ72により閉鎖され、その下流側を排気バル
ブ78aまたは78bにより閉鎖される。したがって、
単位時間当たりに当該パティキュレートフィルタに供給
されるヒータ排気ガスの量によっては、当該パティキュ
レートフィルタ内の圧力が高くなって、燃焼式ヒータ7
4からヒータ排気ガスを当該パティキュレートフィルタ
に供給しづらくなることがある。
【0144】したがって、燃焼式ヒータ74から所望通
りにヒータ排気ガスをパティキュレートフィルタに供給
するためには、燃焼式ヒータ74から当該パティキュレ
ートフィルタにヒータ排気ガスを供給しづらくならない
程度に、当該パティキュレートフィルタ内の圧力を抑制
することが望まれる。
【0145】そこで図14に示した構成を採用し、以下
のような排気バルブ開度制御を実行してもよい。すなわ
ち、図14に示した構成では、各パティキュレートフィ
ルタ22a,22b内の圧力を検出するための圧力セン
サ88a,88bが各パティキュレートフィルタ22
a,22b下流側の排気枝通路92a,92bに配置さ
れている。そして本実施例の排気バルブ開度制御では、
NO還元処理中およびS成分放出処理中において、ヒ
ータ排気ガスが供給されている方のパティキュレートフ
ィルタ内の圧力が圧力センサにより検出され、この検出
された圧力が所定圧力よりも高くなったときには、当該
パティキュレートフィルタ下流に配置されている排気バ
ルブの開度が大きくされ、逆に、検出圧力が所定圧力よ
りも低くなったときには、当該排気バルブの開度が小さ
くされる。ここで、所定圧力はヒータ排気ガスが所望通
りにパティキュレートフィルタに供給される圧力の上限
値に設定される。
【0146】これによれば、パティキュレートフィルタ
内の圧力はヒータ排気ガスが所望通りにパティキュレー
トフィルタに供給される圧力に維持される。
【0147】本実施例の排気バルブ開度制御を実行する
ためのフローの一例を図15に示した。図15では、始
めにステップ100において、ヒータ排気ガスが供給さ
れている方のパティキュレートフィルタ下流に配置され
ている圧力センサから検出される圧力Pが、所定圧力P
maxよりも高いか否かが判別される。ここで所定圧力
Pmaxはヒータ排気ガスが所望通りにパティキュレー
トフィルタに供給される圧力の上限値に設定されてい
る。
【0148】ステップ100において、P>Pmaxで
あると判別されたときには、ルーチンはステップ101
に進んで、ヒータ排気ガスが供給されている方のパティ
キュレートフィルタ下流に配置されている排気バルブの
開度が増大せしめられ、ルーチンが終了する。一方、ス
テップ100において、P<Pmaxであると判別され
たときには、ルーチンはステップ102に進んで、当該
排気バルブの開度が減少せしめられ、ルーチンが終了す
る。
【0149】また、NO還元処理中またはS成分放出
処理中のパティキュレートフィルタにその下流から機関
排気ガスが流入することを抑制するために、図14に示
した構成を採用し、次のような排気バルブ開度制御を実
行してもよい。すなわち、本実施例の排気バルブ開度制
御では、NO還元処理中またはS成分放出処理中にお
いて、圧力センサにより各パティキュレートフィルタ内
の圧力を検出し、これら検出圧力に基づいて、ヒータ排
気ガスが供給されている方のパティキュレートフィルタ
内の圧力が他方のパティキュレートフィルタ内の圧力よ
りも高くなるように、或いは少なくとも両パティキュレ
ートフィルタ内の圧力が等しくなるように、ヒータ排気
ガスが供給されている方のパティキュレートフィルタ下
流に配置されている排気バルブの開度を制御する。
【0150】これによれば、NO還元処理中またはS
成分放出中のパティキュレートフィルタにその下流から
機関排気ガスが流入することが抑制される。
【0151】なお、パティキュレートフィルタ内の圧力
に応じて排気バルブの開度を制御する代わりに、パティ
キュレートフィルタ内の圧力が予め定められた値よりも
高いと判定されたときには、燃焼式ヒータ74からパテ
ィキュレートフィルタに単位時間当たりに導入される排
気ガス量を少なくし、パティキュレートフィルタ内の圧
力が予め定められた値よりも低いと判定されたときに
は、燃焼式ヒータ74からパティキュレートフィルタに
単位時間当たりに導入される排気ガス量を多くすること
によっても、パティキュレートフィルタ内の圧力が予め
定められた値近傍に維持される。
【0152】ところで、図2に示した構成の代わりに、
図16に示した構成を採用してもよい。図16に示した
構成では、上流側排気枝通路71a,71b内にそれぞ
れ切換バルブ72a,72bが配置され、これら切換バ
ルブ72a,72bは対応するステップモータ73a,
73bに接続されている。また、排気供給管75は第1
の排気供給枝管75aと第2の排気供給枝管75bに分
岐し、これら排気供給枝管75a,75bはそれぞれ上
流側排気枝通路71a,71bに接続される。
【0153】本実施例では、パティキュレートフィルタ
22a,22bにヒータ排気ガスを供給していないとき
には、両切換バルブ72a,72bが全開とされ、機関
排気ガスが両パティキュレートフィルタ22a,22b
に流入せしめられる。
【0154】一方、第1のパティキュレートフィルタ2
2aにヒータ排気ガスを供給するときには、逆流防止弁
76を開弁して排気供給管75を開放し、第2の切換バ
ルブ72bを全開としたままで、第1の切換バルブ72
aを全閉とし、燃焼式ヒータ74を作動させる。
【0155】これによれば、第1のパティキュレートフ
ィルタ22aへの機関排気ガスの流入が抑制され、ほと
んど全ての機関排気ガスは第2のパティキュレートフィ
ルタ22bに流入せしめられる。したがって、第1の上
流側排気枝通路71a内の圧力は排気供給管75内の圧
力よりも低く、一方、第2の上流側排気枝通路71b内
の圧力は排気供給管75内の圧力よりも高い。このた
め、ヒータ排気ガスは第2の上流側排気枝通路71b内
にはほとんど流入せず、ほとんど全てのヒータ排気ガス
は第1の上流側排気枝通路71a内に流入する。斯くし
て第1のパティキュレートフィルタ22aにヒータ排気
ガスが供給される。
【0156】一方、第2のパティキュレートフィルタ2
2bにヒータ排気ガスを供給するときには、逆流防止弁
76を開弁して排気供給管75を開放し、第1の切換バ
ルブ72aを全開としたままで、第2の切換バルブ72
bを全閉し、燃焼式ヒータ74を作動させる。これによ
れば、第2のパティキュレートフィルタ22bにヒータ
排気ガスが供給される。
【0157】なお本実施例によれば、両パティキュレー
トフィルタ22a,22bに同時にヒータ排気ガスを供
給することができる。しかしながら両パティキュレート
フィルタ22a,22bに同時にヒータ排気ガスを供給
するために、両切換バルブ72a,72bを閉弁する
と、機関排気ガスがいずれのパティキュレートフィルタ
に流入することができず、背圧が極めて高くなり、内燃
機関の出力が低下してしまう。したがって本実施例にお
いては、両パティキュレートフィルタ22a,22bに
同時にヒータ排気ガスを供給しないようにするか、或い
は切換バルブ72a,72bを閉弁せずに両パティキュ
レートフィルタ22a,22bにヒータ排気ガスを供給
するようにする。
【0158】図16に示した構成を採用した実施例にお
けるNO還元処理を実行するためのフローの一例を図
17に示した。本実施例では、図3のフローに従ってN
浄化処理が実行され、図3のフローにおけるステッ
プ11のNO還元処理Iが図17のフローに従って実
行される。
【0159】図17では、始めにステップ120におい
て、第1の切換バルブ72aが閉弁され、次いでステッ
プ121において、逆流防止弁76が開弁され、次いで
ステップ122において、燃焼式ヒータ74が作動され
る。ここでは燃焼式ヒータ74からリッチ空燃比の排気
ガスが第1のパティキュレートフィルタ22aに供給さ
れ、第1のNO触媒22aに吸収されているNO
還元浄化される。
【0160】次いでステップ123では、第1のNO
触媒22aに吸収されているNOの還元浄化が完了し
たか否かが判別される。ステップ123において、NO
還元浄化が完了していないと判別されたときには、ル
ーチンはステップ123に戻る。したがって、ステップ
123においてNO還元浄化が完了したと判別される
までは、ステップ123が繰り返される。
【0161】ステップ123において、NO還元浄化
が完了したと判別されたときには、ルーチンはステップ
124に進んで、燃焼式ヒータ74の作動が停止され、
次いでステップ125において、逆流防止弁76が閉弁
され、次いでステップ126において、第1の切換バル
ブ72aが開弁され、ルーチンが終了する。
【0162】なお、本実施例では、図3のフローにおけ
るステップ13のNO還元処理IIは、以下で説明する
点を除いて、図17のフローに従って実行される。すな
わち、NO還元処理IIでは、図17のステップ120
において、第2切換バルブ71bが閉弁され、図17の
ステップ126において、第2切換バルブ72bが開弁
される。これ以外の処理は本実施例のNO還元処理I
における処理と同じである。
【0163】ところで、図16に示した構成を採用した
実施例において、燃焼式ヒータ74が作動されていると
きには、逆流防止弁76は開弁されている。したがって
図16に示した構成では、燃焼式ヒータ74の作動中に
おいて、排気供給管75は第1の排気供給枝管75aと
第2の排気供給枝管75bとを介して両上流側排気枝通
路71a,71bに開放せしめられている。ここで、燃
焼式ヒータ74の作動中においては、上流側排気枝通路
71a,71bのいずれか一方には機関排気ガスが流入
しているので、当該上流側排気枝通路内の圧力が高くな
って、当該上流側排気枝通路を介して燃焼式ヒータ74
に機関排気ガスが逆流する可能性がある。
【0164】この場合、排気供給管75,75a,75
b内に微粒子やHCなどが堆積し、その後の燃焼式ヒー
タ74の作動が不良となる可能性がある。したがって、
燃焼式ヒータ74の作動を常に安定させるためには、燃
焼式ヒータ74の作動中においても、燃焼式ヒータ74
への機関排気ガスの逆流を抑制することが望まれる。
【0165】そこで図16に示した構成では、切換バル
ブ72下流側の各上流側排気枝通路71a,71bにそ
れぞれ圧力センサ91a,91bが配置され、本実施例
では、燃焼式ヒータ74の作動中において、これら圧力
センサ91a,91bにより検出される圧力が所定圧力
よりも大きくなったときには、逆流防止弁76を閉弁
し、燃焼式ヒータ74の作動をいったん停止する。これ
によれば、燃焼式ヒータ74への機関排気ガスの逆流が
抑制されるので、燃焼式ヒータ74は常に安定して作動
する。なお、所定圧力は機関排気ガスが燃焼式ヒータ7
4に逆流し始める圧力に設定される。
【0166】本実施例に従って燃焼式ヒータ74の作動
中に逆流防止弁76の開閉弁作動を制御するためのフロ
ーの一例を図18に示した。図18では、始めにステッ
プ140において、第1の上流側排気枝通路71aに配
置された圧力センサ91aにより検出される圧力Paが
所定圧力Pmaxよりも低いか否かが判別される。ステ
ップ140において、Pa<Pmaxであると判別され
たときには、ルーチンはステップ141に進む。一方、
ステップ140において、Pa≧Pmaxであると判別
されたときには、ルーチンはステップ144に進んで、
逆流防止弁76が閉弁され、次いでステップ145にお
いて、燃焼式ヒータ74の作動が停止され、ルーチンが
終了する。
【0167】ステップ141では、第2の上流側排気枝
通路71bに配置された圧力センサ91bにより検出さ
れる圧力Pbが所定圧力Pmaxよりも低いか否かが判
別される。ステップ141において、Pb<Pmaxで
あると判別されたときには、ルーチンはステップ142
に進んで、逆流防止弁76が開弁され、次いでステップ
143において、燃焼式ヒータ74が作動され、ルーチ
ンが終了する。一方、ステップ141において、Pb≧
Pmaxであると判別されたときには、ルーチンはステ
ップ144に進んで、逆流防止弁76が閉弁され、次い
でステップ145において、燃焼式ヒータ74の作動が
停止され、ルーチンが終了する。
【0168】また、図16に示した構成に代えて、図1
9に示した構成を採用し、次のような逆流防止制御を実
行してもよい。すなわち、図19では、逆流防止弁76
は三方弁であり、この逆流防止弁76がパティキュレー
トフィルタ下流の機関排気通路92から延びる排気リリ
ーフ通路86に接続される。本実施例の逆流防止制御で
は、圧力センサ91a,91bにより検出される圧力が
所定圧力よりも高くなったときには、燃焼式ヒータ74
から排出される排気ガス(ヒータ排気ガス)が排気リリ
ーフ通路86を介して機関排気通路92に排出されるよ
うに、逆流防止弁76の作動状態が切り換えられ、2つ
の圧力センサ91a,91bにより検出される圧力が共
に所定圧力よりも低くなったときには、ヒータ排気ガス
が上流側排気枝通路71a,71bに排出されるよう
に、逆流防止弁76の作動状態が切り換えられる。
【0169】ところで、燃焼式ヒータ74は機関本体1
に供給される燃料と同じ燃料を燃焼させることにより排
気ガスを生成する。したがって燃焼式ヒータ74におい
ても、少なからず微粒子やNOが発生する。もちろ
ん、燃焼式ヒータ74から排出されるヒータ排気ガスは
大気に放出される前にパティキュレートフィルタを通る
ので、排気ガス中の微粒子やNOはパティキュレート
フィルタにより処理される。しかしながら、排気浄化装
置70の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベル
を高いレベルに維持するためには、燃焼式ヒータ74に
おける微粒子やNOの発生量を抑制することが望まれ
る。
【0170】そこで、図2に示した構成の代わりに、図
20に示した構成を採用し、次のような微粒子・NO
発生抑制制御を実行するようにしてもよい。すなわち、
図20に示した構成では、パティキュレートフィルタ2
2a,22b上流側の機関排気通路71と燃焼式ヒータ
74とが排気導入管80を介して接続され、この排気導
入管80内には燃焼式ヒータ74に導入される機関排気
ガスの量を制御するための導入量制御弁81が配置され
る。本実施例の微粒子・NO発生抑制制御では、燃焼
式ヒータ74の作動中に、導入量制御弁81の作動が制
御され、パティキュレートフィルタ22a,22b上流
側の機関排気通路71から燃焼式ヒータ74に所定量の
機関排気ガスが導入される。
【0171】本実施例の微粒子・NO発生抑制制御に
おいて、燃焼式ヒータ74に導入される機関排気ガスの
量は、燃焼式ヒータ74において後述するいわゆる低温
燃焼が行われる量に設定される。燃焼式ヒータ74にお
いて低温燃焼が行われるようにすれば、燃焼式ヒータ7
4における微粒子およびNOの発生量が極めて少なく
なる。
【0172】また、図20に示した構成の代わりに、図
21に示した構成を採用し、次のような微粒子・NO
発生抑制制御を実行するようにしてもよい。すなわち、
図21に示した構成では、排気導入管80を介してパテ
ィキュレートフィルタ下流側の機関排気通路92と空気
供給管89とが接続され、この排気導入管80内には燃
焼式ヒータ74に導入される機関排気ガスの量を制御す
るための導入量制御弁81が配置されている。そして、
本実施例の微粒子・NO発生抑制制御では、燃焼式ヒ
ータ74の作動中に、導入量制御弁81の作動が制御さ
れ、パティキュレートフィルタ22a,22b下流側の
機関排気通路92から燃焼式ヒータ74に所定量の機関
排気ガスが導入される。本実施例においても、燃焼式ヒ
ータ74に導入される機関排気ガスの量は、燃焼式ヒー
タ74において後述する低温燃焼が行われる量に設定さ
れる。
【0173】これによれば、パティキュレートフィルタ
により微粒子やHCが処理されている排気ガスが燃焼式
ヒータ74に導入される。したがって、燃焼式ヒータ7
4に導入される排気ガス中の微粒子やHCの濃度は極め
て低い。このため、図20に示した実施例から得られる
効果の他に、本実施例によれば、微粒子やHCが排気導
入管80内に付着することにより排気導入管が閉塞され
てしまうことが抑制される。
【0174】ところで、NO還元処理またはS成分放
出処理の実行中においては、パティキュレートフィルタ
に供給されるヒータ排気ガスの空燃比はリッチである。
したがって、パティキュレートフィルタから流出する排
気ガス中には少ないながらもHCが含まれている。ここ
で、図21に示した構成を採用した実施例では、燃焼式
ヒータ74の作動中において、パティキュレートフィル
タから流出する排気ガスが燃焼式ヒータ74に導入され
る。したがってこのとき、燃焼式ヒータ74に導入され
る排気ガス中のHCが排気導入管80や導入量制御弁8
1に堆積し、所定の量の排気ガスを燃焼式ヒータ74に
導入することができなくなることが考えられる。
【0175】したがって燃焼式ヒータ74の作動中にお
いて、所定量の排気ガスを燃焼式ヒータ74に導入する
ためには、燃焼式ヒータ74に導入する排気ガス中にH
Cが含まれていないことが望まれる。
【0176】そこで、図21に示した構成の代わりに、
図22に示した構成を採用し、次のような微粒子・NO
発生抑制制御を実行するようにしてもよい。すなわ
ち、図22に示した構成では、下流側排気枝通路92
a,92bは集合せしめられずに、そのまま大気に開放
せしめられ、第1の下流側排気枝通路92aには第1の
排気導入枝管80aが接続され、第2の下流側排気枝通
路92bには第2の排気導入枝管80bが接続され、こ
れら排気導入枝管80a,80bは共通の排気導入管8
0に接続されている。排気導入管80は空気供給管89
に接続される。また、排気導入管80内には導入量制御
弁81が配置され、第1の排気導入枝管80aにはその
流路を開放したり遮断したりするための第1の導入制御
弁90aが配置され、第2の排気導入枝管80bにはそ
の流路を開放したり遮断したりするための第2の導入制
御弁90bが配置される。
【0177】そして、本実施例の微粒子・NO発生抑
制制御では、切換バルブ72により機関排気ガスの流入
を抑制されていない方の下流側排気枝通路に接続された
排気導入枝管を介してのみ排気ガスが燃焼式ヒータ74
に導入される。すなわち、燃焼式ヒータ74の作動中に
おいて、機関排気ガスの流入が抑制されている方の下流
側排気枝通路に接続されている排気導入枝管内に配置さ
れた導入制御弁は閉弁されたままとされて、当該排気導
入枝管の流路が遮断されたままとされ、一方、機関排気
ガスの流入が抑制されていない方の下流側排気通路に接
続されている排気導入枝管内に配置された導入制御弁は
開弁されて、当該排気導入枝管の流路が開放され、導入
制御弁81を制御することにより燃焼式ヒータ74に導
入される排気ガスの量が制御されつつ排気ガスが燃焼式
ヒータ74に導入される。
【0178】これによれば、燃焼式ヒータ74からリッ
チ空燃比の排気ガスがパティキュレートフィルタに導入
されている場合において、燃焼式ヒータ74に導入され
る排気ガス中のHCの量は、排気通路集合領域下流の機
関排気通路から燃焼式ヒータ74に排気ガスを導入する
場合に比べて少なく、したがって、排気導入管80や導
入量制御弁81にHCが堆積することが抑制される。し
たがって本実施例によれば、燃焼式ヒータ74に所定量
の排気ガスが導入される。
【0179】図22に示した構成を採用した実施例にお
いてNO還元処理Iを実行するためのフローの一例を
図23に示した。本実施例のNO浄化処理は図3のフ
ローに従って実行され、図3のステップ11のNO
元処理Iは図23に示したフローに従って実行される。
【0180】図23のフローでは、始めにステップ16
0において、切換制御Iが実行される。この切換制御I
では、第1のパティキュレートフィルタ22aへの機関
排気ガスの流入が抑制されるように、切換バルブ72の
作動状態が第1の作動状態に切り換えられる。次いでス
テップ161において、逆流防止弁76が開弁され、次
いでステップ162において、第2導入制御弁90bが
開弁され、次いでステップ163において、燃焼式ヒー
タ74が作動される。ここでは燃焼式ヒータ74からリ
ッチ空燃比の排気ガスが第1のパティキュレートフィル
タ22aに供給され、第1のNO触媒に吸収されてい
るNOが還元浄化される。
【0181】次いでステップ164において、導入量制
御弁81の開弁量、すなわち、燃焼式ヒータ74に導入
される排気ガスの量が所望の量となるように制御され
る。次いでステップ165において、第1のNO触媒
に吸収されているNOの還元浄化が完了したか否かが
判別される。ステップ165において、NO還元浄化
が完了していないと判別されたときには、ルーチンはス
テップ164に戻る。したがって、ステップ165にお
いて、NO還元浄化が完了したと判別されるまで、ス
テップ164,165が繰り返される。
【0182】ステップ165において、NO還元浄化
が完了したと判別されたときには、ルーチンはステップ
166に進んで、燃焼式ヒータ74が停止され、次いで
ステップ167において、第2導入制御弁90bが閉弁
され、次いでステップ168において、逆流防止弁76
が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0183】また、本実施例において、図3のフローに
おけるステップ13のNO還元処理IIは、以下で説明
する点を除いて、図23のフローに従って実行される。
すなわち、NO還元処理IIでは、図23のステップ1
60において、切換制御IIが実行される。すなわち、図
23のステップ160において、第2のパティキュレー
トフィルタ22bへの機関排気ガスの流入が抑制される
ように、切換バルブ72の作動状態が第2作動状態に切
り換えられる。また、本実施例のNO還元処理IIで
は、図23のステップ162において、第1導入制御弁
90aが開弁され、図23のステップ167において、
第1導入制御弁90aが閉弁される。これ以外の処理は
本実施例のNO還元処理Iにおける処理と同じであ
る。
【0184】ところで、図20に示した構成の代わり
に、図24に示した構成を採用し、図20に示した構成
を採用した実施例における微粒子・NO発生抑制制御
を実行するようにしてもよい。すなわち、図24に示し
た構成では、排気導入管80が排気供給管75に接続さ
れている。これによれば、燃焼式ヒータ74の作動中に
おいて、燃焼式ヒータ74から排出されるヒータ排気ガ
スが燃焼式ヒータ74に導入せしめられる。
【0185】また、図20に示した構成の代わりに、図
25に示した構成を採用し、図20に示した構成を採用
した実施例における微粒子・NO発生抑制制御を実行
するようにしてもよい。すなわち、図25に示した構成
では、燃焼式ヒータ74に大気供給管が接続されておら
ず、排気導入管80は直接、燃焼式ヒータ74に接続さ
れている。これによれば、燃焼式ヒータ74の作動中に
おいて、燃焼式ヒータ74には機関排気ガスのみが導入
される。すなわち、燃焼式ヒータ74において、燃料は
機関排気ガス中の酸素により燃焼せしめられる。
【0186】このように燃焼式ヒータ74において、機
関排気ガス中の酸素により燃料を燃焼させるようにすれ
ば、図20に示した構成を採用した実施例から得られる
効果の他に、以下のような効果を得ることができる。す
なわち、機関排気ガス中の酸素濃度は大気中の酸素濃度
よりも低いので、燃焼式ヒータ74において燃料を燃焼
させるための酸素を供給するためのガスとして機関排気
ガスを導入するようにすれば、燃焼式ヒータ74に大気
を導入する場合に比べて、ヒータ排気ガスの空燃比をリ
ッチにするために必要な燃料の量が少なくてすむという
効果が得られる。
【0187】また、燃焼式ヒータ74において同じ量の
燃料によりリッチ空燃比のヒータ排気ガスを生成すると
燃焼式ヒータ74に導入される機関排気ガスの量は新気
を導入する場合における新気の量よりも多くなるので、
結果としてパティキュレートフィルタに導入されるヒー
タ排気ガスの量が多く、パティキュレートフィルタ内を
均等にリッチ雰囲気とすることができ、NO還元処理
効率が向上する。
【0188】もちろん本実施例において、パティキュレ
ートフィルタ上流側の機関排気通路から機関排気ガスを
燃焼式ヒータ74に導入するのではなく、パティキュレ
ートフィルタ下流側の機関排気通路から排気ガスを燃焼
式ヒータ74に導入してもよい。
【0189】ところで、燃焼式ヒータ74に機関排気ガ
スを導入するようにした場合、特に、図25に示した構
成を採用し、大気中の空気を燃焼式ヒータ74に導入せ
ずに燃焼式ヒータ74に機関排気ガスのみを導入するよ
うにした場合、機関排気ガス中の酸素濃度が燃焼式ヒー
タ74において燃焼を良好に行えないほど低いとパティ
キュレートフィルタに所望通りの高温のヒータ排気ガス
を供給することができない。
【0190】そこで図25に示した構成では、機関排気
ガス中の酸素濃度を検出することができる酸素濃度セン
サ82が上流側の機関排気通路71内に配置され、本実
施例では、燃焼式ヒータ74の作動中において、酸素濃
度センサ82の検出濃度を利用して機関排気ガス中の酸
素濃度を燃焼式ヒータ74において燃焼が十分に行われ
る程度の濃度以上に維持するように機関運転が制御され
る。これによれば、燃焼式ヒータ74が常に良好に作動
せしめられる。
【0191】ところで、このように大気中の空気を燃焼
式ヒータ74に導入せずに燃焼式ヒータ74に機関排気
ガスのみを導入するようにし、機関排気ガス中の酸素濃
度を燃焼式ヒータ74において燃焼が十分に行われる程
度の濃度以上に維持するように機関運転を制御するよう
にした場合において、機関運転の制御により機関排気ガ
ス中の酸素濃度を所定濃度以上に維持することができな
い場合、或いは機関排気ガス中の酸素濃度を所定濃度以
上に維持するために機関運転の制御を変更すべきではな
い場合には、別の手段により燃焼式ヒータ74に酸素を
供給すべきである。
【0192】そこで図25に示した構成の代わりに、図
26に示した構成を採用し、次のような酸素供給制御を
実行するようにしてもよい。すなわち、図26に示した
構成では、排気導入管80に大気中に開放する空気導入
管83が接続され、排気導入管80に導入する空気の量
を制御するための空気量制御弁84がこの空気導入管8
3に配置され、導入量制御弁81の上流側の排気導入管
80に機関排気ガス中の酸素濃度を検出するための酸素
濃度センサ82が配置されている。本実施例の酸素供給
制御では、燃焼式ヒータ74の作動中において、燃焼式
ヒータ74に導入される機関排気ガス中の酸素濃度が燃
焼式ヒータ74において燃焼が十分に行われる程度の濃
度に不足する場合に、その不足分を補う量の酸素が燃焼
式ヒータ74に導入される量の空気が燃焼式ヒータ74
に導入されるように、空気量制御弁84の開閉弁作動が
制御される。これによれば、燃焼式ヒータ74が常に良
好に作動せしめられる。
【0193】本実施例の酸素供給制御を実行するための
フローの一例を図27に示した。図27では、始めにス
テップ180において、機関排気ガス中の酸素濃度[O
]が所定濃度Aよりも小さいか否かが判別される。こ
こで所定濃度Aは燃焼式ヒータ74において燃焼が所望
通りに良好に行われるのに必要な酸素濃度に設定されて
いる。
【0194】ステップ180において、[O]<Aで
あると判別されたときには、ルーチンはステップ181
に進んで、空気量制御弁84が開弁され、ルーチンが終
了する。一方、ステップ180において、[O]≧A
であると判別されたときには、ルーチンはステップ18
2に進んで、空気量制御弁84が閉弁され、ルーチンが
終了する。
【0195】なお本実施例では、燃焼式ヒータ74に導
入される機関排気ガス中の酸素濃度を酸素濃度センサ8
2により検出しているが、その他に例えば燃焼式ヒータ
74に導入される機関排気ガスの空燃比から酸素濃度を
算出してもよい。また、本実施例では、燃焼式ヒータ7
4に導入される機関排気ガス中の酸素濃度に基づいて空
気量制御弁84の開閉弁作動が制御されているが、この
機関排気ガス中の酸素濃度と機関本体1に吸入される空
気量とに基づいて算出される単位時間当たりに燃焼式ヒ
ータ74に導入される酸素量に基づいて空気量制御弁8
4の開閉弁作動を制御するようにしてもよい。
【0196】ところで、上述した実施例において、NO
還元処理またはS成分放出処理を実行するために、リ
ッチ空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィル
タに供給され始まると、当該パティキュレートフィルタ
から流出する排気ガス(以下、流出排気ガスと称す)中
の酸素濃度が低下する。すなわち、図28(A)のタイ
ムチャートに示したように、時刻tsにおいてリッチ空
燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィルタに供
給され始まると、流出排気ガス中の酸素濃度[O
は、即座に低下して境界濃度LRよりも低くなる。ここ
での境界濃度LRは酸化雰囲気と還元雰囲気とを分ける
酸素濃度である。したがってこのときには、当該パティ
キュレートフィルタ内の雰囲気は還元雰囲気となってお
り、NO触媒中のNOが還元される。
【0197】NO還元またはS成分放出が進むにつれ
て、流出排気ガス中の酸素濃度[O ]はさらに低下
し、NO触媒に吸収されているほとんど全てのNO
が還元されると、或いはNO触媒に吸収されているほ
とんど全てのS成分が放出されると、流出排気ガス中の
酸素濃度[O]はほぼ零となる。
【0198】ところが上述したように、NO還元処理
中またはS成分放出処理中においてパティキュレートフ
ィルタへの機関排気ガスの流入を切換バルブ72のみに
より完全に抑制することはできない。すなわち、NO
還元処理中またはS成分放出処理中のパティキュレート
フィルタにも機関排気ガスが流入する。そして、当該パ
ティキュレートフィルタに流入する機関排気ガスの量
(以下、漏洩機関排気ガス量と称す)は、切換バルブ7
2の使用期間や排気浄化装置70上流側の機関排気ガス
の圧力などによって異なる。
【0199】このため、ヒータ排気ガスの空燃比のリッ
チ度合を一定の度合に維持している場合において、漏洩
機関排気ガス量が比較的多いときには、パティキュレー
トフィルタ内の雰囲気を還元雰囲気とすることができな
い。
【0200】すなわち、図28(B)のタイムチャート
に示したように、時刻tsにおいて、リッチ空燃比のヒ
ータ排気ガスが供給され始まると、流出排気ガス中の酸
素濃度[O]は即座に低下するが、境界濃度LRより
は低くならない。すなわち、当該パティキュレートフィ
ルタ内の雰囲気は還元雰囲気とはなっていない。このた
め、NO触媒からNOが放出されず、或いはNO
触媒からS成分が放出されず、時間が経過しても流出排
気ガス中の酸素濃度[O]はいっこうに低下しない。
この場合、燃焼式ヒータ74にて消費される燃料が無駄
となるだけでなく、NO触媒中のNOを還元浄化す
ることもできず、或いはNO触媒からS成分を放出さ
せることもできない。
【0201】一方、ヒータ排気ガスの空燃比のリッチ度
合を一定の度合に維持している場合において、漏洩機関
排気ガス量が比較的少ないときには、パティキュレート
フィルタ内の雰囲気が過剰に還元雰囲気としてしまう。
【0202】すなわち、図28(C)のタイムチャート
に示したように、時刻tsにおいて、リッチ空燃比のヒ
ータ排気ガスが供給され始まると、流出排気ガス中の酸
素濃度[O]は即座に低下して境界濃度LRを越え、
ほぼ零になってしまう。この場合、パティキュレートフ
ィルタに供給されたHCは無駄となり、パティキュレー
トフィルタ下流へと流出してしまう。
【0203】したがってNO還元処理中にNOを確
実に還元し、或いはS成分放出処理中にS成分を確実に
NO触媒から放出されるためには、パティキュレート
フィルタに供給されるヒータ排気ガスの空燃比を、NO
の浄化に必要な量のHC、或いはS成分の放出に必要
な量のHCが過不足なく供給されるような空燃比に制御
することが望まれる。
【0204】そこで、図2に示した構成の代わりに、図
29に示した構成を採用し、次のような空燃比制御を実
行するようにしてもよい。すなわち、図29に示した構
成では、パティキュレートフィルタから流出する排気ガ
スの空燃比を検出することができる空燃比センサ85
a,85b、より一般的には、パティキュレートフィル
タから流出する排気ガス中の酸素濃度を検出することが
できる酸素濃度センサ85a,85bがそれぞれ対応す
る排気枝通路71a,71b内に配置されている。
【0205】そして、本実施例の空燃比制御では、NO
還元処理中またはS成分放出中において、酸素濃度セ
ンサ85a,85bにより検出された酸素濃度(以下、
検出酸素濃度と称す)が境界濃度よりも低い目標濃度よ
りも高いときには、ヒータ排気ガスのリッチ度合を大き
くするか、或いは燃焼式ヒータ74から単位時間当たり
に排出される排気ガス量を多くし、一方、検出酸素濃度
が目標濃度よりも低いときには、ヒータ排気ガスのリッ
チ度合を小さくするか、或いは燃焼式ヒータ74から単
位時間当たりに排出される排気ガス量を少なくする。
【0206】このように本実施例の空燃比制御を実行し
た場合、例えば流出排気ガス中の酸素濃度は図30に示
したように変化する。例えば漏洩機関排気ガス量が比較
的多いときには、流出排気ガス中の酸素濃度は図30
(A)に示したように変化する。すなわち、時刻tsに
おいて、リッチ空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレ
ートフィルタに供給され始まると、流出排気ガス中の酸
素濃度[O]は即座に低下するが、境界濃度LRを越
えず、したがって目標濃度TOにも達しない。
【0207】このとき、本実施例の空燃比制御によれ
ば、ヒータ排気ガスのリッチ度合が徐々に増大せしめら
れる。したがって、流出排気ガス中の酸素濃度[O
は低下し、境界濃度LRを越えて目標濃度TOに達す
る。この場合、その後においては、NO還元またはS
放出が進行するので、酸素濃度[O]は徐々に低下し
て、ほぼ零となる。
【0208】一方、本実施例の空燃比制御を実行した場
合において、漏洩機関排気ガス量が比較的少ないときに
は、流出排気ガス中の酸素濃度は図30(B)に示した
ように変化する。すなわち、時刻tsにおいて、リッチ
空燃比のヒータ排気ガスがパティキュレートフィルタに
供給され始まると、流出排気ガス中の酸素濃度[O
は一気に低下し、境界濃度LRおよび目標濃度TOを越
えてほぼ零となる。
【0209】このとき、本実施例の空燃比制御によれ
ば、ヒータ排気ガスのリッチ度合が徐々に減少せしめら
れる。したがって、流出排気ガス中の酸素濃度[O
は上昇し、目標濃度TOに達する。この場合、その後に
おいては、NO還元またはS放出が進行するので、酸
素濃度[O]の変化は徐々に低下して、ほぼ零とな
る。
【0210】したがって本実施例によれば、パティキュ
レートフィルタに供給されるHC量が最大限にNO
還元する量に対して過不足がなくなるので、できるだけ
少ないHC消費量で素早くNOが還元浄化される。
【0211】なお、ヒータ排気ガスをパティキュレート
フィルタに導入してもほとんど検出酸素濃度が低下しな
いときには、切換バルブ72が故障しているために当該
パティキュレートフィルタに多量の機関排気ガスが流入
していると判断し、切換バルブ72が故障していること
を警告するようにしてもよい。
【0212】本実施例の空燃比制御を含むNO還元処
理Iを実行するためのフローの一例を図31および図3
2に示した。本実施例では、図3のフローに従ってNO
浄化処理が実行され、図3のフローにおけるステップ
11のNO還元処理Iが図31および図32に示した
フローに従って実行される。
【0213】図31では、始めにステップ200におい
て、切換制御Iが実行される。この切換制御Iでは、第
1のパティキュレートフィルタ22aへの機関排気ガス
の流入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態
が第1の作動状態に切り換えられる。次いでステップ2
01において、逆流防止弁76が開弁され、次いでステ
ップ202において、燃焼式ヒータ74が作動される。
ここでは燃焼式ヒータ74からリッチ空燃比の排気ガス
が第1のパティキュレートフィルタ22aに供給され
る。
【0214】次いでステップ203において、図32に
示したフローに従って空燃比制御が実行される。図32
では、始めにステップ220において、カウンタがカウ
ントアップされる。このカウンタは切換バルブ72が故
障しているか否かを判定するために用いられるパラメー
タである。次いでステップ221において、カウンタC
が所定値CTHよりも小さいか否かが判別される。ステ
ップ221において、C≧CTHであると判別されたと
き、すなわちNO還元処理が開始されてから一定期間
が経過したときには、ルーチンはステップ228に進ん
で、切換バルブ72が故障していることを知らせる警報
が表示される。したがって、所定値CTHは、NO
元処理が開始されてから完了するのに十分な期間に相当
する値に設定される。一方、ステップ221において、
C<CTHであると判別されたときには、ルーチンはス
テップ222に進む。
【0215】ステップ222では、当該パティキュレー
トフィルタから流出する排気ガス(流出排気ガス)中の
酸素濃度[O]が所定値TOよりも小さいか否か、す
なわち、当該パティキュレートフィルタから排出される
排気ガスのリッチ度合が、或る度合よりも小さいか否か
が判別される。ここでの或る値TOは、零に近い値であ
る。
【0216】ステップ222において、[O]≧TO
であると判別されたとき、すなわち、当該パティキュレ
ートフィルタから排出される排気ガスのリッチ度合が或
る度合よりも小さいと判別されたときには、ルーチンは
ステップ223に進んで、ヒータ排気ガスのリッチ度合
が増大される。一方、ステップ222において、
[O ]<TOであると判別されたとき、すなわち、当
該パティキュレートフィルタから排出される排気ガスの
リッチ度合が或る度合よりも大きいときには、ルーチン
はステップ223に進んで、ヒータ排気ガスのリッチ度
合が小さくされる。
【0217】ステップ224では、流出排気ガス中の酸
素濃度[O]がほぼ零であるか否かが判別される。ス
テップ224において、[O]≒0ではないと判別さ
れたとき、すなわち、NOの還元浄化が完了していな
いと判別されたときには、ルーチンはステップ220に
戻る。したがって、ステップ224において、[O
≒0であると判別されるまで、ステップ220〜22
4,228が繰り返される。
【0218】ステップ224において、[O]≒0で
あると判別されたとき、すなわち、NOの還元浄化が
完了したと判別されたときには、ルーチンはステップ2
25に進んで、カウンタが零にクリアされて、ルーチン
が終了する。
【0219】図32の空燃比制御が終了すると、ルーチ
ンは図31のステップ204に進んで、第1のNO
媒に吸収されているNOの還元浄化が完了したか否か
が判別される。ステップ204において、NO還元浄
化が完了していないと判別されたときには、ルーチンは
ステップ203に戻る。したがって、ステップ204に
おいてNO還元浄化が完了したと判別されるまでは、
ステップ203,204が繰り返される。
【0220】ステップ204において、NO還元浄化
が完了したと判別されたときには、ルーチンはステップ
205に進んで、燃焼式ヒータ74の作動が停止され、
次いでステップ206において、逆流防止弁76が閉弁
され、ルーチンが終了する。
【0221】なお、本実施例では、図3のフローにおけ
るステップ13のNO還元処理IIは、以下で説明する
点を除いて、図31のフローに従って実行される。すな
わち、本実施例のNO還元処理IIでは、図31のステ
ップ200において、切換制御IIが実行される。この切
換制御IIでは、第2のパティキュレートフィルタ22b
への機関排気ガスの流入が抑制されるように、切換バル
ブ72の作動状態が第2の作動状態に切り換えられる。
これ以外の処理はNO還元処理Iの処理と同じであ
る。
【0222】ところで、図2に示した構成を採用した実
施例において、NO還元処理中またはS成分放出処理
中にパティキュレートフィルタに供給されたHCの一部
がNOを還元するために消費されずに、パティキュレ
ートフィルタに付着し、NO 還元処理後またはS成分
放出処理後においてもパティキュレートフィルタ内に残
ることがある。
【0223】この場合、パティキュレートフィルタに付
着しているHCを除去することなく、NO還元処理ま
たはS成分放出処理がなされたパティキュレートフィル
タに機関排気ガスが流入するように切換バルブ72の作
動状態が切り換えられると、NO還元処理中またはS
成分放出処理中に単位時間当たりにパティキュレートフ
ィルタに流入していたヒータ排気ガス量よりも多い量の
機関排気ガスがパティキュレートフィルタに流入するの
で、この機関排気ガスによりパティキュレートフィルタ
に付着しているHCがパティキュレートフィルタからそ
のまま脱離せしめられ、パティキュレートフィルタから
流出し、排気エミッションが悪化する。
【0224】こうした理由による排気エミッションの悪
化を抑制するためには、NO還元処理後またはS成分
放出処理後に、パティキュレートフィルタに付着してい
るHCを燃焼除去することが望まれる。
【0225】そこで、図2に示した構成において、次の
ようなHC除去処理を実行するようにしてもよい。すな
わち、本実施例のHC除去処理では、NO還元または
S成分放出が完了したときに、燃焼式ヒータ74の作動
を停止せずに、燃焼式ヒータ74からパティキュレート
フィルタに供給する排気ガスの空燃比をリッチからリー
ンに切り換える。これによれば、ヒータ排気ガスの熱に
よりパティキュレートフィルタは加熱し続けられるの
で、フィルタ温度が高い温度に維持され、且つ、パティ
キュレートフィルタ内の雰囲気は酸化雰囲気となる。し
たがって、パティキュレートフィルタに付着しているH
Cがヒータ排気ガス中の酸素と反応して燃焼除去され
る。したがって本実施例によれば、排気エミッションの
悪化が防止される。
【0226】本実施例のHC除去処理を含むNO還元
処理Iを実行するためのフローの一例を図33と図34
に示した。本実施例では、図3のフローに従ってNO
浄化処理が実行され、図3のフローにおけるステップ1
1のNO還元処理Iが図33および図34に示したフ
ローに従って実行される。
【0227】図33では、始めにステップ240におい
て、切換制御Iが実行される。この切換制御Iでは、第
1のパティキュレートフィルタ22aへの機関排気ガス
の流入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態
が第1の作動状態に切り換えられる。次いでステップ2
42において、逆流防止弁76が開弁され、次いでステ
ップ244において、燃焼式ヒータ74が作動される。
ここでは燃焼式ヒータ74からリッチ空燃比の排気ガス
が第1のパティキュレートフィルタ22aに供給され
る。
【0228】次いでステップ246において、第1のN
触媒に吸収されているNOの還元浄化が完了した
か否かが判別される。ステップ246において、NO
還元浄化が完了していないと判別されたときには、ルー
チンはステップ246に戻る。したがって、NO還元
浄化が完了したと判断されるまで、ステップ246が繰
り返される。
【0229】ステップ246において、NO還元浄化
が完了したと判別されたときには、ルーチンはステップ
248に進んで、図34に示したフローに従って空燃比
制御が実行される。
【0230】図34では、始めにステップ260におい
て、ヒータ排気ガスの空燃比がリーンに切り換えられ
る。次いで、ステップ262において、パティキュレー
トフィルタに吸着しているHCのほとんど全ての燃焼除
去が完了したか否かが判別される。
【0231】ステップ262において、HC燃焼除去が
完了していないと判別されたときには、ルーチンはステ
ップ262に戻る。したがって、HC燃焼除去が完了し
たと判別されるまで、ステップ262が繰り返される。
ステップ262において、HC燃焼除去が完了したと判
別されたときには、ルーチンが終了する。
【0232】図34のHC除去処理が終了すると、図3
3のステップ250に進んで、燃焼式ヒータ74の作動
が停止され、次いでステップ251において、逆流防止
弁76が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0233】なお、本実施例では、NO還元処理II
は、以下で説明する点を除いて、図33に示したフロー
に従って実行される。すなわち、本実施例のNO還元
処理IIでは、図33のステップ240において、切換制
御IIが実行される。この切換制御IIでは、第2のパティ
キュレートフィルタ22bへの機関排気ガスの流入が抑
制されるように、切換バルブ72の作動状態が第2の作
動状態に切り換えられる。これ以外の処理は本実施例の
NO還元処理Iの処理と同じである。
【0234】ところで、図2に示した構成では、排気供
給管75に逆流防止弁76が配置されており、この逆流
防止弁76は、燃焼ヒータ74の作動が停止されている
ときには、排気供給管75を遮断しており、燃焼式ヒー
タ74が作動せしめられるときに、排気供給管75を開
放するようになっている。これによれば、燃焼式ヒータ
74の作動性能の悪化が抑制される。
【0235】すなわち、燃焼式ヒータ74の作動が停止
されている間に、例えば機関運転が高負荷運転に移行し
て機関排気ガスの圧力が高くなると、機関排気ガスの圧
力が排気供給管75内の圧力よりも高くなることがあ
る。ここで排気供給管75が遮断されていないと、機関
排気ガスが排気供給管75を介して燃焼式ヒータ74に
流入することがある。この場合、排気供給管75内や燃
焼式ヒータ74内に機関排気ガス中の微粒子やHCが堆
積し、燃焼式ヒータ74を作動させたときにその燃焼が
不安定になったり、所望通りにヒータ排気ガスをパティ
キュレートフィルタに供給することができなくなったり
し、結果として燃焼式ヒータ74の作動性能が悪化す
る。
【0236】ところが本実施例によれば、燃焼式ヒータ
74の作動が停止されているときには、排気供給管75
が逆流防止弁76により遮断されているので、機関排気
ガスが排気供給管75を介して燃焼式ヒータ74に流入
することが抑制され、結果として燃焼式ヒータ74の作
動性能の悪化が抑制される。
【0237】もちろん、図16に示した構成において
も、逆流防止弁76は、燃焼式ヒータ74の作動が停止
されているときに、排気供給管75を遮断している。
【0238】ところで、図16に示した構成において
は、燃焼式ヒータ74の作動中において、逆流防止弁7
6は開弁されて排気供給管75を開放している。このと
き、例えば機関運転が高負荷運転になったりして機関排
気ガスの圧力が高くなると、切換バルブが閉弁されてい
ない方の排気枝通路内の圧力が排気供給管75内の圧力
よりも高くなり、機関排気ガスが排気供給管75を介し
て燃焼式ヒータ74に逆流し、結果として燃焼式ヒータ
74の作動性能が悪化することがある。
【0239】したがって、こうした理由による燃焼式ヒ
ータの作動性能の悪化を抑制するためには、燃焼式ヒー
タ74の作動中においても、排気ガスが燃焼式ヒータに
逆流することを抑制することが望まれる。
【0240】そこで、図35に示した構成を採用し、次
のような逆流防止制御を実行するようにしてもよい。す
なわち、図35に示した構成では、逆流防止弁76は三
方弁であり、この三方弁タイプの逆流防止弁76からパ
ティキュレートフィルタ下流側の機関排気通路92まで
排気リリーフ通路86が延びる。また、パティキュレー
トフィルタ上流側の機関排気通路71には機関排気ガス
の圧力を検出するための圧力センサ87が配置される。
【0241】そして、本実施例の逆流防止制御では、燃
焼式ヒータ74の作動中において、圧力センサ87によ
り機関排気ガスの圧力を検出し、機関排気ガスの圧力が
排気供給管75a,75b内の圧力よりも高くなったか
否かを判定し、機関排気ガスの圧力が排気供給管75
a,75bの圧力よりも高くなったと判定されたときに
は、ヒータ排気ガスが排気リリーフ通路86を介してパ
ティキュレートフィルタ下流側の機関排気通路92に排
出されるように逆流防止弁76の作動状態を切り換え
る。
【0242】一方、機関排気ガスの圧力が排気供給管7
5a,75bの圧力よりも低くなったと判定されたとき
には、ヒータ排気ガスが排気枝通路71a,71bに排
出されるように逆流防止弁76の作動状態を切り換え
る。
【0243】したがって本実施例によれば、機関排気ガ
スが排気供給管75を介して燃焼式ヒータ74に流入す
ることが抑制されるので、燃焼式ヒータ74の作動性能
の悪化が抑制される。
【0244】ところで、パティキュレートフィルタはそ
の温度が少なくとも或る一定温度(以下、微粒子酸化開
始温度を称す)以上になってからでないと微粒子を酸化
除去しない。一方、NO触媒もその温度が少なくとも
或る一定温度(以下、NO吸収開始温度と称す)以上
になってからでないとNOを吸収しない。
【0245】ところが、機関運転が始動された直後のフ
ィルタ温度は比較的低いので、パティキュレートフィル
タは微粒子を酸化除去せず、NO触媒はNOを吸収
せず、或いは還元しない。この場合、全体として、排気
浄化装置の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベ
ルが低下してしまう。したがって、排気浄化装置の微粒
子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルを高いレベル
に維持するためには、機関始動後に即座にフィルタ温度
がNO吸収温度範囲の下限温度よりも高く且つ微粒子
酸化開始温度よりも高くされることが望まれる。
【0246】そこで本実施例では、機関始動後に即座に
フィルタ温度を微粒子酸化開始温度以上であってNO
吸収温度範囲の下限温度よりも高くするために、図2に
示した構成において、次のような機関始動時制御を実行
する。すなわち、本実施例の機関始動時制御では、機関
始動時に一方のパティキュレートフィルタへの機関排気
ガスの流入を抑制するように切換バルブ72の作動状態
を切り換え、当該パティキュレートフィルタに燃焼式ヒ
ータ74からリーン空燃比の排気ガスを供給する。ここ
で燃焼式ヒータ74はそこから排出されるヒータ排気ガ
スの温度が可能なかぎり高く且つその流量が可能なかぎ
り多くなるように作動せしめられる。
【0247】ここで、燃焼式ヒータ74から排出される
ヒータ排気ガスが単位時間当たりに当該パティキュレー
トフィルタにもたらす熱量は、機関排気ガスが両パティ
キュレートフィルタに流入せしめられているときに単位
時間当たりに当該パティキュレートフィルタにもたらす
熱量よりも多い。したがって本実施例によれば、機関始
動時において、当該パティキュレートフィルタの温度を
NO吸収温度範囲の下限温度よりも高く且つ微粒子酸
化開始温度よりも高くするまでに要する時間は、両パテ
ィキュレートフィルタを機関排気ガスにより加熱する場
合に比べて、短い。したがって本実施例によれば、全体
として、排気浄化装置の微粒子酸化除去レベルおよびN
浄化レベルが高いレベルに維持される。
【0248】さらに本実施例によれば、他方のパティキ
ュレートフィルタには機関排気ガスの半分ではなく全て
の機関排気ガスが流入する。したがって、当該パティキ
ュレートフィルタに単位時間当たりに機関排気ガスによ
りもたらされる熱量は、両パティキュレートフィルタに
機関排気ガスが流入せしめられている場合に比べて、多
い。したがって本実施例によれば、機関始動時におい
て、当該パティキュレートフィルタの温度をNO吸収
温度範囲の下限温度よりも高く且つ微粒子酸化開始温度
よりも高くするまでに要する時間は、両パティキュレー
トフィルタを機関排気ガスにより加熱する場合に比べ
て、短い。したがって本実施例によれば、全体として、
排気浄化装置の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化
レベルが高いレベルに維持される。
【0249】さらに本実施例では、機関排気ガスの流入
が抑制されている方、すなわちヒータ排気ガスが供給さ
れている方のパティキュレートフィルタの温度がNO
吸収温度範囲の下限温度に達し且つ微粒子酸化開始温度
に達したときには、機関排気ガスが流入せしめられてい
る方のパティキュレートフィルタの温度、すなわち他方
のパティキュレートフィルタの温度を検出し、この他方
のパティキュレートフィルタの温度がNO吸収温度範
囲の下限温度に達し且つ微粒子酸化開始温度に達してい
るか否かを判定する。
【0250】ここで、他方のパティキュレートフィルタ
の温度がNO吸収温度範囲の下限温度に達していない
と判定され、或いは微粒子酸化開始温度に達していない
と判定されたときには、他方のパティキュレートフィル
タへの排気ガスの流入を抑制するように切換バルブ72
の作動状態を切り換えた上で、燃焼式ヒータ74からリ
ーン空燃比の排気ガスを当該他方のパティキュレートフ
ィルタに供給する。これによれば、他方のパティキュレ
ートフィルタの温度も素早くNO吸収温度範囲の下限
温度よりも高く且つ微粒子酸化開始温度よりも高くなる
まで上昇せしめられる。したがって本実施例によれば、
排気浄化装置の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化
レベルが高いレベルに維持される。
【0251】一方、他方のパティキュレートフィルタの
温度がNO吸収温度範囲の下限温度に達し且つ微粒子
酸化開始温度に達していると判定されたときには、燃焼
式ヒータ74の作動を停止し、当該パティキュレートフ
ィルタへの機関排気ガスの流入を抑制し、一方のパティ
キュレートフィルタに機関排気ガスが流入するように切
換バルブ72の作動状態を切り換える。
【0252】もちろん、他方のパティキュレートフィル
タにヒータ排気ガスを供給しているときに、当該パティ
キュレートフィルタの温度がNO吸収温度範囲の下限
温度に達し且つ微粒子酸化開始温度に達したときにも、
同様に、燃焼式ヒータ74の作動を停止し、当該パティ
キュレートフィルタに機関排気ガスを流入せしめ、一方
のパティキュレートフィルタへの機関排気ガスの流入を
抑制するように切換バルブ72の作動状態を切り換え
る。
【0253】なおこの機関始動時制御において、内燃機
関に後述する低温燃焼を行わせるようにしてもよい。詳
細は後述するが、低温燃焼が行われているときに機関本
体から排出される排気ガスの温度は、通常の燃焼が行わ
れているときに機関本体から排出される排気ガスの温度
よりも高い。したがってこれによれば、他方のパティキ
ュレートフィルタに、より高温の機関排気ガスが流入す
るので、フィルタ温度をより素早くNO吸収温度範囲
の下限温度よりも高く且つ微粒子酸化開始温度よりも高
くすることができる。
【0254】本実施例の機関始動時制御を実行するため
のフローの一例を図36および図37に示した。図36
では、始めにステップ280において、切換制御Iが実
行される。この切換制御Iでは、第1のパティキュレー
トフィルタ22aへの機関排気ガスの流入が抑制される
ように、切換バルブ72の作動状態が第1の作動状態に
切り換えられる。次いでステップ281において、逆流
防止弁76が開弁され、次いでステップ282におい
て、燃焼式ヒータ74が作動せしめられる。ここでは燃
焼式ヒータ74からリーン空燃比の排気ガスが第1のパ
ティキュレートフィルタ22aに供給される。
【0255】次いでステップ283において、第1のパ
ティキュレートフィルタの温度TFaがNO吸収開始
温度TNLよりも高いか否かが判別される。ステップ2
83において、TFa≦TNLであると判別されたとき
には、ルーチンはステップ283に戻る。したがって、
ステップ283においてTFa>TNLであると判別さ
れるまでは、ステップ283が繰り返される。ステップ
283において、TFa>TNLであると判別されたと
きには、ルーチンはステップ284に進む。
【0256】ステップ284では、第1のパティキュレ
ートフィルタ22aの温度TFaが微粒子酸化開始温度
TPよりも高いか否かが判別される。ステップ284に
おいて、TFa≦TPであると判別されたときには、ル
ーチンはステップ283に戻る。したがって、ステップ
284においてTFa>TPであると判別されるまで
は、ステップ283,284が繰り返される。ステップ
284において、TFa>TPであると判別されたとき
には、ルーチンは図37のステップ285に進む。
【0257】図37のステップ285では、切換制御II
が実行される。この切換制御IIでは、第1のパティキュ
レートフィルタ22bに機関排気ガスが流入し、第2の
パティキュレートフィルタ22aへの機関排気ガスの流
入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態が第
2の作動状態に切り換えられる。
【0258】次いでステップ286において、第2のパ
ティキュレートフィルタ22bの温度TFbがNO
収開始温度TNLよりも高いか否かが判別される。ステ
ップ286において、TFb≦TNLであると判別され
たときには、ルーチンはステップ286に戻る。したが
って、ステップ286においてTFb>TNLであると
判別されるまでは、ステップ286が繰り返される。ス
テップ286において、TFb>TNLであると判別さ
れたときには、ルーチンはステップ287に進む。
【0259】ステップ287では、第2のパティキュレ
ートフィルタ22bの温度TFbが微粒子酸化開始温度
TPよりも高いか否かが判別される。ステップ287に
おいて、TFb≦TPであると判別されたときには、ル
ーチンはステップ286に戻る。したがって、ステップ
287においてTFb>TPであると判別されるまで
は、ステップ286,287が繰り返される。ステップ
287において、TFb>TPであると判別されたとき
には、ルーチンはステップ288に進む。
【0260】ステップ288では、燃焼式ヒータ74の
作動が停止され、次いでステップに289おいて、逆流
防止弁76が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0261】ところで上述したように、本実施例におい
ては、機関始動後において、フィルタ温度を早期にNO
吸収温度範囲の下限温度よりも高く且つ微粒子酸化開
始温度よりも高くするために、機関始動時制御を実行す
る。この機関始動時制御の実行中において、ヒータ排気
ガスにより加熱せしめられている方のパティキュレート
フィルタの温度が微粒子酸化開始温度に達していなくて
も、NO還元温度範囲の下限温度に達しているときに
は、当該パティキュレートフィルタにリッチ空燃比のヒ
ータ排気ガスを供給すれば、当該パティキュレートフィ
ルタのNO触媒に吸収されているNOをヒータ排気
ガス中のHCにより還元浄化することができる。これに
よれば、全体として、排気浄化装置のNO浄化レベル
が高められる。
【0262】もちろん、リッチ空燃比のヒータ排気ガス
によっても当該パティキュレートフィルタを加熱するこ
とはできるので、ヒータ排気ガスの空燃比をリーンから
リッチに切り換えたとしても、当該パティキュレートフ
ィルタは加熱され続けるので、やがてフィルタ温度は微
粒子酸化開始温度に達する。
【0263】すなわち、機関始動時制御の実行中におい
て、ヒータ排気ガスにより加熱せしめられている方のパ
ティキュレートフィルタの温度が微粒子酸化開始温度に
達していないがNO還元温度範囲の下限温度に達した
ときには、当該パティキュレートフィルタにリッチ空燃
比のヒータ排気ガスを供給しても、フィルタ温度をNO
還元温度範囲の下限温度よりも高く且つ微粒子酸化開
始温度よりも高くするまでに要する時間は、当該パティ
キュレートフィルタにリーン空燃比のヒータ排気ガスを
供給し続けた場合と変わらず、その上、当該パティキュ
レートフィルタにリーン空燃比のヒータ排気ガスを供給
し続けるよりも、リッチ空燃比のヒータ排気ガスを供給
した方が、全体として、より多くのNOをNO触媒
により還元浄化することができる。
【0264】そこで上述した機関始動時制御において、
一方のパティキュレートフィルタにヒータ排気ガスを供
給している間に、当該パティキュレートフィルタの温度
が微粒子酸化開始温度には達していないがNO還元温
度範囲の下限温度に達したときには、当該パティキュレ
ートフィルタに供給するヒータ排気ガスの空燃比をリー
ンからリッチに切り換えるようにしてもよい。
【0265】これによれば、当該パティキュレートフィ
ルタに供給されるヒータ排気ガスの空燃比がリーンから
リッチに切り換えられた後においても、当該パティキュ
レートフィルタは加熱し続けられ、やがてその温度は微
粒子酸化開始温度に達し、ヒータ排気ガスの空燃比がリ
ーンからリッチに切り換えられることにより、当該パテ
ィキュレートフィルタのNO触媒によりNOが還元
浄化せしめられる。したがってこれによれば、排気浄化
装置の微粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルが
さらに高められる。
【0266】本実施例の機関始動時制御を実行するため
のフローの一例を図38および図39に示した。図38
では、始めにステップ300において、切換制御Iが実
行される。この切換制御Iでは、第1のパティキュレー
トフィルタ22aへの機関排気ガスの流入が抑制される
ように、切換バルブ72の作動状態が第1の作動状態に
切り換えられる。次いでステップ301において、逆流
防止弁76が開弁され、次いでステップ302におい
て、燃焼式ヒータ74が作動せしめられる。ここでは燃
焼式ヒータ74からリーン空燃比の排気ガスが第1のパ
ティキュレートフィルタ22aに供給される。
【0267】次いでステップ303において、第1のパ
ティキュレートフィルタ22aの温度TFaがNO
収開始温度TNLよりも高いか否かが判別される。ステ
ップ303において、TFa>TNLであると判別され
たときには、ルーチンはステップ304に進んで、空燃
比制御IIが実行される。この空燃比制御IIでは、燃焼式
ヒータ74から排出される排気ガスの空燃比がリーンか
らリッチに切り換えられる。
【0268】一方、ステップ303において、TFa≦
TNLであると判別されたときには、ルーチンはステッ
プ306に進んで、空燃比制御Iが実行される。この空
燃比制御Iでは、燃焼式ヒータ74から排出される排気
ガスの空燃比がリーンであれば、そのまま空燃比がリー
ンに維持され、空燃比がリッチであればリーンに切り換
えられ、次いで、ステップ303に戻る。したがって、
ステップ303においてTFa>TNLであると判別さ
れるまでは、ステップ303,306が繰り返される。
【0269】ステップ305では、第1のパティキュレ
ートフィルタ22aの温度TFaが微粒子酸化開始温度
TPよりも高いか否かが判別される。ステップ305に
おいて、TFa≦TPであると判別されたときには、ル
ーチンはステップ303に戻る。したがって、ステップ
305においてTFa>TPであると判別されるまで
は、ステップ303,304,306が繰り返される。
ステップ305において、TFa>TPであると判別さ
れたときには、ルーチンは図39のステップ307に進
む。
【0270】図39のステップ307では、切換制御II
が実行される。この切換制御IIでは、第1のパティキュ
レートフィルタ22aに機関排気ガスが流入し、第2の
パティキュレートフィルタ22bへの機関排気ガスの流
入が抑制されるように、切換バルブ72の作動状態が第
2の作動状態に切り換えられる。
【0271】次いでステップ308において、空燃比制
御Iが実行される。すなわち、燃焼式ヒータ74から排
出される排気ガスの空燃比がリッチからリーンに切り換
えられる。
【0272】次いでステップ309において、第2のパ
ティキュレートフィルタ22bの温度TFbがNO
収開始温度TNLよりも高いか否かが判別される。ステ
ップ309において、TFb>TNLであると判別され
たときには、ルーチンはステップ310に進んで、空燃
比制御IIが実行される。すなわち、燃焼式ヒータ74か
ら排出される排気ガスの空燃比がリーンからリッチに切
り換えられる。
【0273】一方、ステップ309において、TFb≦
TNLであると判別されたときには、ルーチンはステッ
プ314に進んで、空燃比制御Iが実行される。すなわ
ち、燃焼式ヒータ74から排出される排気ガスの空燃比
がリーンであれば、そのまま空燃比がリーンに維持さ
れ、空燃比がリッチであればリーンに切り換えられ、次
いで、ステップ308に戻る。したがって、ステップ3
09においてTFb>TNLであると判別されるまで
は、ステップ309,314が繰り返される。
【0274】ステップ311では、第2のパティキュレ
ートフィルタ22bの温度TFbが微粒子酸化開始温度
TPよりも高いか否かが判別される。ステップにおい
て、TFb≦TPであると判別されたときには、ルーチ
ンはステップ309に戻る。したがって、ステップ31
1においてTFb>TPであると判別されるまでは、ス
テップ309,310,314が繰り返される。ステッ
プ311において、TFb>TPであると判別されたと
きには、ルーチンはステップ312に進む。
【0275】ステップ312では、燃焼式ヒータ74の
作動が停止され、次いでステップ313において、逆流
防止弁76が閉弁され、ルーチンが終了する。
【0276】次にパティキュレートフィルタについて詳
細に説明する。以下の説明では第1のパティキュレート
フィルタ22aについて説明する。第2のパティキュレ
ートフィルタ22bについては第1のパティキュレート
フィルタ22aと同じであるので、その説明は省略す
る。
【0277】図40にパティキュレートフィルタ22a
の構造を示す。なお図40において(A)はパティキュ
レートフィルタ22aの正面図であり、(B)はパティ
キュレートフィルタ22aの側面断面図である。図40
(A)および(B)に示したようにパティキュレートフ
ィルタ22aはハニカム構造をなしており、互いに平行
をなして延びる複数個の排気流通路50,51を具備す
る。これら排気流通路は下流端が栓52により閉塞され
た排気ガス流入通路50と、上流端が栓53により閉塞
された排気ガス流出通路51とにより構成される。
【0278】図40(A)においてハッチングを付した
部分は栓53を示している。したがって排気ガス流入通
路50および排気ガス流出通路51は薄肉の隔壁54を
介して交互に配置される。云い換えると排気ガス流入通
路50および排気ガス流出通路51は各排気ガス流入通
路50が四つの排気ガス流出通路51により包囲され、
各排気ガス流出通路51が四つの排気ガス流入通路50
により包囲されるように配置される。
【0279】パティキュレートフィルタ22aは例えば
コージライトのような多孔質材料から形成されており、
したがって排気ガス流入通路50内に流入した排気ガス
は図40(B)において矢印で示したように周囲の隔壁
54内を通って隣接する排気ガス流出通路51内に流出
する。
【0280】本発明の実施例では各排気ガス流入通路5
0および各排気ガス流出通路51の周壁面、すなわち各
隔壁54の両側表面上、栓53の外端面および栓52,
53の内端面上には、全面に亘って例えばアルミナから
なる担体の層が形成されており、この担体上に貴金属触
媒と、周囲に過剰酸素が存在すると酸素を取り込んで酸
素を保持し且つ周囲の酸素濃度が低下すると保持してい
る酸素を活性酸素の形で放出する活性酸素放出剤とが担
持されている。上述した酸化物質はこの活性酸素放出剤
である。
【0281】本発明の実施例では貴金属触媒として白金
Ptが用いられており、活性酸素放出剤としてカリウム
K、ナトリウムNa、リチウムLi、セシウムCs、ル
ビジウムRbのようなアルカリ金属、バリウムBa、カ
ルシウムCa、ストロンチウムSrのようなアルカリ土
類金属、ランタンLa、イットリウムY、セリウムCe
のような希土類、鉄Feのような遷移金属、およびスズ
Snのような炭素族元素から選ばれた少なくとも一つが
用いられている。
【0282】なお活性酸素放出剤としてはカルシウムC
aよりもイオン化傾向の高いアルカリ金属またはアルカ
リ土類金属、すなわちカリウムK、リチウムLi、セシ
ウムCs、ルビジウムRb、バリウムBa、ストロンチ
ウムSrを用いることが好ましい。
【0283】次にパティキュレートフィルタ22aによ
る排気ガス中の微粒子除去作用について担体上に白金P
tおよびカリウムKを担持させた場合を例にとって説明
するが他の貴金属、アルカリ金属、アルカリ土類金属、
希土類、遷移金属を用いても同様な微粒子除去作用が行
われる。
【0284】図1に示したような圧縮着火式内燃機関で
は空気過剰のもとで燃焼が行われ、したがって排気ガス
は多量の過剰空気を含んでいる。すなわち吸気通路およ
び燃焼室5内に供給された空気と燃料との比を排気ガス
の空燃比と称すると図1に示したような圧縮着火式内燃
機関では排気ガスの空燃比はリーンとなっている。また
燃焼室5内ではNOが発生するので排気ガス中にはNO
が含まれている。また燃料中には硫黄成分(S成分)が
含まれており、このS成分は燃焼室5内で酸素と反応し
てSO2となる。したがって排気ガス中にはSO2が含ま
れている。このため過剰酸素、NOおよびSO2を含ん
だ排気ガスがパティキュレートフィルタ22aの排気ガ
ス流入通路50内に流入することになる。
【0285】図41(A)および(B)は排気ガス流入
通路50の内周面上に形成された担体層の表面の拡大図
を模式的に表わしている。なお図41(A)および
(B)において60は白金Ptの粒子を示しており、6
1はカリウムKを含んでいる活性酸素放出剤を示してい
る。
【0286】上述したように排気ガス中には多量の過剰
酸素が含まれているので排気ガスがパティキュレートフ
ィルタ22aの排気ガス流入通路50内に流入すると図
41(A)に示したようにこれら酸素O2がO2 -または
2-の形で白金Ptの表面に付着する。一方、排気ガス
中のNOは白金Ptの表面上でO2 -またはO2-と反応
し、NO2となる(2NO+O2→2NO2)。次いで生
成されたNO2の一部は白金Pt上で酸化されつつ活性
酸素放出剤61内に吸収され、カリウムKと結合しなが
ら図41(A)に示したように硝酸イオンNO3 -の形で
活性酸素放出剤61内に拡散し、硝酸カリウムKNO3
を生成する。
【0287】一方、上述したように排気ガス中にはSO
2も含まれており、このSO2もNOと同様なメカニズム
により活性酸素放出剤61内に吸収される。すなわち上
述したように酸素O2がO2 -またはO2-の形で白金Pt
の表面に付着しており、排気ガス中のSO2は白金Pt
の表面でO2 -またはO2-と反応してSO3となる。次い
で生成されたSO3の一部は白金Pt上でさらに酸化さ
れつつ活性酸素放出剤61内に吸収され、カリウムKと
結合しながら硫酸イオンSO4 2-の形で活性酸素放出剤
61内に拡散し、硫酸カリウムK2SO4を生成する。こ
のようにして活性酸素放出剤61内には硝酸カリウムK
NO3および硫酸カリウムK2SO4が生成される。
【0288】一方、燃焼室5内においては主にカーボン
Cからなる微粒子が生成され、したがって排気ガス中に
はこれら微粒子が含まれている。排気ガス中に含まれて
いるこれら微粒子は排気ガスがパティキュレートフィル
タ22aの排気ガス流入通路50内を流れているとき、
或いは排気ガス流入通路50から排気ガス流出通路51
に向かうときに図41(B)において62で示したよう
に担体層の表面、例えば活性酸素放出剤61の表面上に
接触し、付着する。
【0289】このように微粒子62が活性酸素放出剤6
1の表面上に付着すると微粒子62と活性酸素放出剤6
1との接触面では酸素濃度が低下する。酸素濃度が低下
すると酸素濃度の高い活性酸素放出剤61内との間で濃
度差が生じ、斯くして活性酸素放出剤61内の酸素が微
粒子62と活性酸素放出剤61との接触面に向けて移動
しようとする。その結果、活性酸素放出剤61内に形成
されている硝酸カリウムKNO3がカリウムKと酸素O
とNOとに分解され、酸素Oが微粒子62と活性酸素放
出剤61との接触面に向かい、その一方でNOが活性酸
素放出剤61から外部に放出される。外部に放出された
NOは下流側の白金Pt上において酸化され、再び活性
酸素放出剤61内に吸収される。
【0290】またこのとき活性酸素放出剤61内に形成
されている硫酸カリウムK2SO4もカリウムKと酸素O
とSO2とに分解され、酸素Oが微粒子62と活性酸素
放出剤61との接触面に向かい、その一方でSO2が活
性酸素放出剤61から外部に放出される。外部に放出さ
れたSO2は下流側の白金Pt上において酸化され、再
び活性酸素放出剤61内に吸収される。ただし硫酸カリ
ウムK2SO4は安定で分解しづらいので硫酸カリウムK
2SO4は硝酸カリウムKNO3よりも活性酸素を放出し
づらい。
【0291】また活性酸素放出剤61は上述したように
NOXを硝酸イオンNO3 -の形で吸収するときにも酸素
との反応過程において活性な酸素を生成し放出する。同
様に活性酸素放出剤61は上述したようにSO2を硫酸
イオンSO4 2-の形で吸収するときにも酸素との反応過
程において活性な酸素を生成し放出する。
【0292】ところで微粒子62と活性酸素放出剤61
との接触面に向かう酸素Oは硝酸カリウムKNO3や硫
酸カリウムK2SO4のような化合物から分解された酸素
である。化合物から分解された酸素Oは高いエネルギを
有しており、極めて高い活性を有する。したがって微粒
子62と活性酸素放出剤61との接触面に向かう酸素は
活性酸素Oとなっている。同様に活性酸素放出剤61に
おけるNOXと酸素との反応過程、或いはSO2と酸素と
の反応過程にて生成される酸素も活性酸素となってい
る。これら活性酸素Oが微粒子62に接触すると微粒子
62は短時間(数秒〜数十分)のうちに輝炎を発するこ
となく酸化せしめられ、微粒子62は完全に消滅する。
したがって微粒子62がパティキュレートフィルタ22
a上に堆積することはほとんどない。
【0293】従来のようにパティキュレートフィルタ2
2a上に積層状に堆積した微粒子が燃焼せしめられると
きにはパティキュレートフィルタ22aが赤熱し、火炎
を伴って燃焼する。このような火炎を伴う燃焼は高温で
ないと持続せず、したがってこのような火炎を伴う燃焼
を持続させるためにはパティキュレートフィルタ22a
の温度を高温に維持しなければならない。
【0294】これに対して本発明では微粒子62は上述
したように輝炎を発することなく酸化せしめられ、この
ときパティキュレートフィルタ22aの表面が赤熱する
こともない。すなわち云い換えると本発明では従来に比
べてかなり低い温度でもって微粒子62が酸化除去せし
められている。したがって本発明による輝炎を発しない
微粒子62の酸化による微粒子除去作用は火炎を伴う従
来の燃焼による微粒子除去作用と全く異なっている。
【0295】ところで白金Ptおよび活性酸素放出剤6
1はパティキュレートフィルタ22aの温度が高くなる
ほど活性化するのでパティキュレートフィルタ22a上
において単位時間当りに輝炎を発することなく酸化除去
可能な微粒子の量(単位微粒子連続酸化量)はパティキ
ュレートフィルタ22aの温度が高くなるほど増大す
る。
【0296】図43の実線は単位時間当りに輝炎を発す
ることなく酸化除去可能な微粒子の量(単位微粒子連続
酸化量)Gを示している。なお図43において横軸はパ
ティキュレートフィルタ22aの温度TFを示してい
る。単位時間当りにパティキュレートフィルタ22aに
流入する微粒子の量を単位流入微粒子量Mと称すると、
単位流入微粒子量Mが単位微粒子連続酸化量Gよりも少
ないとき、すなわち図43の領域Iにあるときには燃焼
室5から排出された全ての微粒子がパティキュレートフ
ィルタ22aに接触すると短時間(数秒から数十分)の
うちにパティキュレートフィルタ22a上において輝炎
を発することなく酸化除去せしめられる。
【0297】これに対し、単位流入微粒子量Mが単位微
粒子連続酸化量Gよりも多いとき、すなわち図43の領
域IIにあるときには全ての微粒子を酸化するには活性酸
素量が不足している。図42(A)〜(C)はこのよう
な場合の微粒子の酸化の様子を示している。すなわち全
ての微粒子を酸化するには活性酸素量が不足している場
合には図42(A)に示したように微粒子62が活性酸
素放出剤61上に付着すると微粒子62の一部のみが酸
化され、十分に酸化されなかった微粒子部分が担体層上
に残留する。次いで活性酸素量が不足している状態が継
続すると次から次へと酸化されなかった微粒子部分が担
体層上に残留し、その結果、図42(B)に示したよう
に担体層の表面が残留微粒子部分63により覆われるよ
うになる。
【0298】担体層の表面が残留微粒子部分63により
覆われると白金PtによるNO,SO2の酸化作用およ
び活性酸素放出剤61による活性酸素の放出作用が行わ
れなくなるために残留微粒子部分63は酸化されること
なくそのまま残り、斯くして図42(C)に示したよう
に残留微粒子部分63の上に別の微粒子64が次から次
へと堆積する。すなわち微粒子が積層状に堆積すること
になる。このように微粒子が積層状に堆積すると微粒子
64はもはや活性酸素Oにより酸化されることがなく、
したがってこの微粒子64上にさらに別の微粒子が次か
ら次へと堆積する。すなわち単位流入微粒子量Mが単位
微粒子連続酸化量Gよりも多い状態が継続するとパティ
キュレートフィルタ22a上には微粒子が積層状に堆積
し、斯くして排気ガス温を高温にするか、或いはパティ
キュレートフィルタ22aの温度を高温にしない限り、
堆積した微粒子を着火燃焼させることができなくなる。
【0299】このように図43の領域Iでは微粒子はパ
ティキュレートフィルタ22a上において輝炎を発する
ことなく短時間のうちに酸化せしめられ、図43の領域
IIでは微粒子がパティキュレートフィルタ22a上に積
層状に堆積する。したがって微粒子がパティキュレート
フィルタ22a上に積層状に堆積しないようにするため
には単位流入微粒子量Mを常時、単位微粒子連続酸化量
Gよりも少なくしておく必要がある。
【0300】図43から判るように本発明の実施例で用
いられているパティキュレートフィルタ22aではパテ
ィキュレートフィルタ22aの温度TFがかなり低くて
も微粒子を酸化させることが可能であり、したがって図
1に示した圧縮着火式内燃機関において単位流入微粒子
量Mおよびパティキュレートフィルタ22aの温度TF
を単位流入微粒子量Mが単位微粒子連続酸化量Gよりも
常時、少なくなるように維持することが可能である。こ
のように、単位流入微粒子量Mが単位微粒子連続酸化量
Gよりも常時、少ないとパティキュレートフィルタ22
a上に微粒子がほとんど堆積せず、斯くして背圧がほと
んど上昇しない。したがって機関出力はほとんど低下し
ない。
【0301】一方、前述したように一旦、微粒子がパテ
ィキュレートフィルタ22a上において積層状に堆積す
るとたとえ単位流入微粒子量Mが単位微粒子連続酸化量
Gよりも少なくなったとしても活性酸素Oにより微粒子
を酸化させることは困難である。しかしながら酸化され
なかった微粒子部分が残留し始めているとき、すなわち
微粒子が一定限度以下しか堆積していないときに排気微
粒子量Mが単位微粒子連続酸化量Gよりも少なくなると
この残留微粒子部分は活性酸素Oにより輝炎を発するこ
となく酸化除去される。
【0302】ところでこのように、単位流入微粒子量M
およびパティキュレートフィルタ22aの温度TFを制
御していたとしてもパティキュレートフィルタ22a上
に微粒子が積層状に堆積する場合がある。このような場
合には排気ガスの一部または全体の空燃比を一時的にリ
ッチにすることによりパティキュレートフィルタ22a
上に堆積した微粒子を輝炎を発することなく酸化させる
ことができる。
【0303】すなわち排気ガスの空燃比がリーンである
状態が一定期間に亘って継続すると白金Pt上に酸素が
多量に付着し、このために白金Ptの触媒作用が低下し
てしまう。ところが排気ガスの空燃比をリッチにして排
気ガス中の酸素濃度を低下させると白金Ptから酸素が
除去され、斯くして白金Ptの触媒作用が回復する。こ
れにより排気ガスの空燃比をリッチにすると活性酸素放
出剤61から外部に活性酸素Oが一気に放出されやすく
なる。斯くして一気に放出された活性酸素Oにより堆積
している微粒子が酸化されやすい状態に変質せしめられ
ると共に微粒子が活性酸素により輝炎を発することなく
燃焼除去される。斯くして排気ガスの空燃比をリッチと
すると全体として単位微粒子連続酸化量Gが増大する。
【0304】なおこの場合、パティキュレートフィルタ
22a上において微粒子が積層状に堆積したときに排気
ガスの空燃比をリッチにしてもよいし、微粒子が積層状
に堆積しているか否かに係わらず周期的に排気ガスの空
燃比をリッチにしてもよい。
【0305】排気ガスの空燃比をリッチにする方法とし
ては例えば機関負荷が比較的低いときにEGR率(EG
Rガス量/(吸入空気量+EGRガス量))が65パー
セント以上となるようにスロットル弁17の開度および
EGR制御弁25の開度を制御し、このとき燃焼室5内
における平均空燃比がリッチになるように噴射量を制御
する方法を用いることができる。
【0306】ところで燃料や潤滑油はカルシウムCaを
含んでおり、したがって排気ガス中にカルシウムCaが
含まれている。このカルシウムCaはSO3が存在する
と硫酸カルシウムCaSO4を生成する。この硫酸カル
シウムCaSO4は固体であって高温になっても熱分解
しない。したがって硫酸カルシウムCaSO4が生成さ
れるとこの硫酸カルシウムCaSO4によってパティキ
ュレートフィルタ22aの細孔が閉塞されてしまい、そ
の結果、排気ガスがパティキュレートフィルタ22a内
を流れづらくなる。
【0307】この場合、活性酸素放出剤61としてカル
シウムCaよりもイオン化傾向の高いアルカリ金属また
はアルカリ土類金属、例えばカリウムKを用いると活性
酸素放出剤61内に拡散するSO3はカリウムKと結合
して硫酸カリウムK2SO4を形成し、カルシウムCaは
SO3と結合することなくパティキュレートフィルタ2
2aの隔壁54を通過して排気ガス流出通路51内に流
出する。したがってパティキュレートフィルタ22aの
細孔が目詰まりすることがなくなる。したがって前述し
たように活性酸素放出剤61としてはカルシウムCaよ
りもイオン化傾向の高いアルカリ金属またはアルカリ土
類金属、すなわちカリウムK、リチウムLi、セシウム
Cs、ルビジウムRb、バリウムBa、ストロンチウム
Srを用いることが好ましいことになる。
【0308】また本発明はパティキュレートフィルタ2
2aの両側面上に形成された担体の層上に白金Ptのよ
うな貴金属のみを担持した場合にも適用することができ
る。ただしこの場合には単位微粒子連続酸化量Gを示す
実線は図43に示す実線に比べて若干、右側に移動す
る。この場合には白金Ptの表面上に保持されるNO2
またはSO3から活性酸素が放出される。
【0309】また活性酸素放出剤としてNO2またはS
3を吸着保持し、これら吸着されたNO2またはSO3
から活性酸素を放出しうる触媒を用いることもできる。
【0310】なお、上述した活性酸素放出剤はパティキ
ュレートフィルタに流入する排気ガスの空燃比がリーン
であるときに、排気ガス中のNOを吸収し、流入する
排気ガスの空燃比がリッチとなると、吸収しているNO
を放出する。したがって活性酸素放出剤はNO吸収
剤としても機能する。そして、このときに放出されたN
は排気ガス中のHCにより還元浄化される。したが
って本実施例のNO触媒はこのNO吸収剤を具備す
る触媒である。
【0311】最後に燃焼式ヒータに排気ガスを導入させ
つつ燃料を燃焼させた場合に、燃焼式ヒータ内にて行わ
れる低温燃焼について説明する。図44はEGR率、す
なわち燃焼式ヒータに吸入される空気の量に対する燃焼
式ヒータに導入される排気ガスの量の割合を変化させる
ことにより空燃比A/F(図44の横軸)を変化させた
ときのスモーク、HC,CO,NOxの排出量の変化を
示した実験例を表している。図44からわかるようにこ
の実験例では空燃比A/Fが小さくなるほどEGR率が
大きくなり、理論空燃比(≒14.6)以下のときには
EGR率は65パーセント以上となっている。
【0312】図44に示したようにEGR率を増大する
ことにより空燃比A/Fを小さくしていくとEGR率が
40パーセント付近となり空燃比A/Fが30程度にな
ったときにスモークの発生量が増大を開始する。次いで
さらにEGR率を高め、空燃比A/Fを小さくするとス
モークの発生量が急激に増大してピークに達する。次い
でさらにEGR率を高め、空燃比A/Fを小さくすると
今度はスモークが急激に低下し、EGR率を65パーセ
ント以上とし、空燃比A/Fが15.0付近になるとス
モークがほぼ零となる。すなわち煤がほとんど発生しな
くなる。このとき機関の出力トルクは若干低下し、また
NOx の発生量がかなり低くなる。一方、このときH
C,COの発生量は増大し始める。
【0313】図45(A)は空燃比A/Fが21付近で
スモークの発生量が最も多いときの燃焼式ヒータの燃焼
室内の燃焼圧変化を示しており、図45(B)は空燃比
A/Fが18付近でスモークの発生量がほぼ零のときの
燃焼式ヒータの燃焼室内の燃焼圧の変化を示している。
図45(A)と図45(B)とを比較すればわかるよう
にスモークの発生量がほぼ零である図45(B)に示し
た場合はスモークの発生量が多い図45(A)に示した
場合に比べて燃焼圧が低いことがわかる。
【0314】図44および図45に示した実験結果から
次のことが言える。すなわちまず第1に空燃比A/Fが
15.0以下でスモークの発生量がほぼ零のときには図
44に示したようにNOx の発生量がかなり低下する。
NOx の発生量が低下したということは燃焼式ヒータの
燃焼室内の燃焼温度が低下していることを意味してお
り、したがって煤がほとんど発生しないときには燃焼式
ヒータの燃焼室内の燃焼温度が低くなっていると言え
る。同じことが図45からも言える。すなわち煤がほと
んど発生していない図45(B)に示した状態では燃焼
圧が低くなっており、したがってこのとき燃焼式ヒータ
の燃焼室内の燃焼温度は低くなっていることになる。
【0315】第2にスモークの発生量、すなわち煤の発
生量がほぼ零になると図44に示したようにHCおよび
COの排出量が増大する。このことは炭化水素が煤まで
成長せずに排出されることを意味している。すなわち燃
料中に含まれる図46に示したような直鎖状炭化水素や
芳香族炭化水素は酸素不足の状態で温度上昇せしめられ
ると熱分解して煤の前駆体が形成され、次いで主に炭素
原子が集合した固体からなる煤が生成される。この場
合、実際の煤の生成過程は複雑であり、煤の前駆体がど
のような形態をとるかは明確ではないがいずれにしても
図46に示したような炭化水素は煤の前駆体を経て煤ま
で成長することになる。したがって上述したように煤の
発生量がほぼ零になると図44に示したようにHCおよ
びCOの排出量が増大するがこのときのHCは煤の前駆
体またはその前の状態の炭化水素である。
【0316】図44および図45に示した実験結果に基
づくこれらの考察をまとめると、燃焼式ヒータの燃焼室
内の燃焼温度が低いときには、煤の発生量がほぼ零にな
り、このとき煤の前駆体またはその前の状態の炭化水素
が燃焼式ヒータの燃焼室から排出されることになる。こ
のことについてさらに詳細に実験研究を重ねた結果、燃
焼式ヒータの燃焼室内における燃料およびその周囲のガ
ス温度が或る温度以下である場合には煤の成長過程が途
中で停止してしまい、すなわち煤が全く発生せず、燃焼
式ヒータの燃焼室内における燃料およびその周囲の温度
が或る温度以上になると煤が生成されることが判明した
のである。
【0317】ところで煤の前駆体の状態で炭化水素の生
成過程が停止するときの燃料およびその周囲の温度、す
なわち上述の或る温度は燃料の種類や空燃比の圧縮比等
の種々の要因によって変化するので何度であるかという
ことは言えないがこの或る温度はNOx の発生量と深い
関係を有しており、したがってこの或る温度はNOxの
発生量から或る程度規定することができる。すなわちE
GR率が増大するほど燃焼時の燃料およびその周囲のガ
ス温度は低下し、NOx の発生量が低下する。このとき
NOx の発生量が10p.p.m. 前後またはそれ以下にな
ったときに煤がほとんど発生しなくなる。したがって上
述の或る温度はNOx の発生量が10p.p.m. 前後また
はそれ以下になったときの温度にほぼ一致する。
【0318】いったん煤が生成されるとこの煤は酸化機
能を有する触媒を用いた後処理でもって浄化することは
できない。これに対して煤の前駆体またはその前の状態
の炭化水素は酸化機能を有する触媒を用いた後処理でも
って容易に浄化することができる。このように酸化機能
を有する触媒による後処理を考えると炭化水素を煤の前
駆体またはその前の状態で燃焼式ヒータの燃焼室から排
出させるか、或いは煤の形で燃焼式ヒータの燃焼室から
排出させるかについては極めて大きな差がある。
【0319】低温燃焼は燃焼式ヒータの燃焼室内におい
て煤を生成させることなく炭化水素を煤の前駆体または
その前の状態の形でもって燃焼室5から排出させ、この
炭化水素を酸化機能を有する触媒により酸化せしめるこ
とを核としている。
【0320】さて、煤が生成される前の状態で炭化水素
の成長を停止させるには燃焼式ヒータの燃焼室内におけ
る燃焼時の燃料およびその周囲のガス温度を煤が生成さ
れる温度よりも低い温度に抑制する必要がある。この場
合、燃料およびその周囲のガス温度を抑制するには燃料
が燃焼した際の燃料周りのガスの吸熱作用が極めて大き
く影響することが判明している。
【0321】すなわち燃料周りに空気しか存在しないと
蒸発した燃料は直ちに空気中の酸素と反応して燃焼す
る。この場合、燃料から離れている空気の温度はさほど
上昇せず、燃料周りの温度のみが局所的に極めて高くな
る。すなわちこのときには燃料から離れている空気は燃
料の燃焼熱の吸熱作用をほとんど行わない。この場合に
は燃焼温度が局所的に極めて高くなるためにこの燃焼熱
を受けた未燃炭化水素は煤を生成することになる。
【0322】一方、多量の不活性ガスと少量の空気の混
合ガス中に燃料が存在する場合には若干状況が異なる。
この場合には蒸発燃料は周囲に拡散して不活性ガス中に
混在する酸素と反応し、燃焼することになる。この場合
には燃焼熱は周りの不活性ガスに吸収されるために燃焼
温度はさほど上昇しなくなる。すなわち燃焼温度を低く
抑えることができることになる。すなわち燃焼温度を抑
制するには不活性ガスの存在が重要な役割を果してお
り、不活性ガスの吸熱作用によって燃焼温度を低く抑え
ることができることになる。
【0323】この場合、燃料およびその周囲のガス温度
を煤が生成される温度よりも低い温度に抑制するにはそ
うするのに十分な熱量を吸収しうるだけの不活性ガス量
が必要となる。したがって燃料量が増大すれば必要とな
る不活性ガス量はそれに伴って増大することになる。な
おこの場合、不活性ガスの比熱が大きいほど吸熱作用が
強力となり、したがって不活性ガスは比熱の大きなガス
が好ましいことになる。この点、CO2やEGRガスは
比較的比熱が大きいので不活性ガスとしてEGRガスを
用いることは好ましいと言える。
【0324】図47は不活性ガスとしてEGRガスを用
い、EGRガスの冷却度合を変えたときのEGR率とス
モークとの関係を示している。すなわち図47において
曲線AはEGRガスを強力に冷却してEGRガス温をほ
ぼ90℃に維持した場合を示しており、曲線Bは小型の
冷却装置でEGRガスを冷却した場合を示しており、曲
線CはEGRガスを強制的に冷却していない場合を示し
ている。
【0325】図47の曲線Aで示したようにEGRガス
を強力に冷却した場合にはEGR率が50パーセントよ
りも少し低いところで煤の発生量がピークとなり、この
場合にはEGR率をほぼ55パーセント以上にすれば煤
がほとんど発生しなくなる。
【0326】一方、図47の曲線Bで示したようにEG
Rガスを少し冷却した場合にはEGR率が50パーセン
トよりも少し高いところで煤の発生量がピークとなり、
この場合にはEGR率をほぼ65パーセント以上にすれ
ば煤がほとんど発生しなくなる。
【0327】また図47の曲線Cで示したようにEGR
ガスを強制的に冷却していない場合にはEGR率が55
パーセントの付近で煤の発生量がピークとなり、この場
合にはEGR率をほぼ70パーセント以上にすれば煤が
ほとんど発生しなくなる。
【0328】図48は不活性ガスとしてEGRガスを用
いた場合において燃焼時の燃料およびその周囲のガス温
度を煤が生成される温度よりも低い温度にするために必
要なEGRガスと空気の混合ガス量、およびこの混合ガ
ス量中の空気の割合、およびこの混合ガス中のEGRガ
スの割合を示している。なお図48において縦軸は燃焼
式ヒータの燃焼室内に吸入される全吸入ガス量を示して
おり、鎖線Yは過給が行われないときに燃焼式ヒータの
燃焼室内に吸入しうる全吸入ガス量を示している。また
横軸は要求トルクを示している。
【0329】図48を参照すると空気の割合、すなわち
混合ガス中の空気量は噴射された燃料を完全に燃焼せし
めるのに必要な空気量を示している。すなわち図48に
示した場合では空気量と噴射燃料量との比は理論空燃比
となっている。一方、図48においてEGRガスの割
合、すなわち混合ガス中のEGRガス量は噴射燃料が燃
焼せしめられたときに燃料およびその周囲のガス温度を
煤が形成される温度よりも低い温度にするのに必要最低
限のEGRガス量を示している。このEGRガス量はE
GR率で表すとほぼ55パーセント以上であり、図48
に示した実施例では70パーセント以上である。すなわ
ち燃焼式ヒータの燃焼室内に吸入された全吸入ガス量を
図48において実線Xとし、この全吸入ガス量Xのうち
の空気量とEGRガス量との割合を図48に示したよう
な割合にすると燃料およびその周囲のガス温度は煤が生
成される温度よりも低い温度となり、斯くして煤が全く
発生しなくなる。またこのときのNOx 発生量は10p.
p.m. 前後、またはそれ以下であり、したがってNOx
の発生量は極めて少量となる。
【0330】燃料噴射量が増大すれば燃料が燃焼した際
の発熱量が増大するので燃料およびその周囲のガス温度
を煤が生成される温度よりも低い温度に維持するために
はEGRガスによる熱の吸収量を増大しなければならな
い。したがって図48に示したようにEGRガス量は噴
射燃料量が増大するにつれて増大せしめなければならな
い。すなわちEGRガス量は要求トルクが高くなるにつ
れて増大する必要がある。なお、過給が行われていない
場合には燃焼式ヒータの燃焼室内に吸入される全吸入ガ
ス量Xの上限はYである。
【0331】前述したように図48は燃料を理論空燃比
のもとで燃焼させる場合を示しているが空気量を図48
に示した空気量よりも少なくしても、すなわち空燃比を
リッチにしても煤の発生を阻止しつつNOx の発生量を
10p.p.m. 前後またはそれ以下にすることができ、ま
た空気量を図48に示した空気量よりも多くしても、す
なわち空燃比の平均値を17から18のリーンにしても
煤の発生を阻止しつつNOx の発生量を10p.p.m. 前
後またはそれ以下にすることができる。
【0332】すなわち空燃比がリッチにされると燃料が
過剰となるが、燃焼温度が低い温度に抑制されているた
めに過剰な燃料は煤まで成長せず、斯くして煤が生成さ
れることがない。またこのときNOx も極めて少量しか
発生しない。一方、平均空燃比がリーンのとき、或いは
空燃比が理論空燃比のときでも燃焼温度が高くなれば少
量の煤が生成されるが、本発明では燃焼温度が低い温度
に抑制されているので煤は全く生成されない。さらにN
Ox も極めて少量しか発生しない。
【0333】このように低温燃焼が行われているときに
は空燃比にかかわらずに、すなわち空燃比がリッチであ
ろうと、或いは理論空燃比であろうと、或いは平均空燃
比がリーンであろうと煤が発生されず、且つNOx の発
生量が極めて少量となる。したがって燃料消費率の向上
を考えるとこのとき平均空燃比をリーンにすることが好
ましいと言える。
【0334】ところで燃焼室内における燃焼時の燃料お
よびその周囲のガス温度を炭化水素の成長が途中で停止
する温度以下に抑制しうるのは燃焼による発熱量が比較
的少ない燃焼式ヒータ中低負荷運転時に限られる。した
がって実施例では燃焼式ヒータ高負荷運転時には第1の
燃焼、すなわち従来より普通に行われている燃焼を行う
ようにし、燃焼式ヒータ中低負荷運転時には燃焼時の燃
料およびその周囲のガス温度を炭化水素の成長が途中で
停止する温度以下に抑制して第2の燃焼、すなわち低温
燃焼を行うようにしている。
【0335】実際には、燃焼式ヒータに要求される負荷
は比較的小さいので、ほとんど全ての運転領域におい
て、第2の燃焼、すなわち低温燃焼を実行することがで
きる。
【0336】なおここで第2の燃焼、すなわち低温燃焼
とはこれまでの説明から明らかなように煤の発生量がピ
ークとなる不活性ガス量よりも燃焼室内の不活性ガス量
が多く煤がほとんど発生しない燃焼のことを言い、第1
の燃焼、すなわち従来より普通に行われている燃焼とは
煤の発生量がピークとなる不活性ガス量よりも燃焼室内
の不活性ガス量が少ない燃焼のことを言う。また通常の
燃焼、すなわち普通に行われている燃焼は内燃機関の要
求トルクと機関回転数とに基づいて制御される燃焼であ
る。
【0337】なお、低温燃焼を行ったときに燃焼式ヒー
タから排出される排気ガスの温度が通常燃焼を行ったと
きに燃焼式ヒータから排出される排気ガスの温度よりも
高い理由は次の通りである。図49(A)の実線は低温
燃焼が行われたときの燃焼室内の平均ガス温度Tgとク
ランク角との関係を示し、図49(A)の破線は通常の
燃焼が行われたときの燃焼室内の平均ガス温度Tgとク
ランク角との関係を示す。また、図49(B)の実線は
低温燃焼が行われたときの燃料およびその周囲のガス温
度Tfとクランク角との関係を示し、図49(B)の破
線は通常の燃焼が行われたときの燃料およびその周囲の
ガス温度Tfとクランク角との関係を示す。
【0338】低温燃焼が行われているときには通常の燃
焼が行われているときに比べてEGRガス量が多く、し
たがって図49(A)に示したように圧縮上死点前、す
なわち圧縮行程中は実線で示した低温燃焼時における平
均ガス温度Tgのほうが破線で示した通常の燃焼時にお
ける平均ガス温度Tgよりも高くなっている。なおこの
とき図49(B)に示したように燃料およびその周囲の
ガス温度Tfは平均ガス温度Tgと略等しい温度になっ
ている。
【0339】次いで圧縮上死点付近において燃焼が開始
されるがこの場合、低温燃焼が行われているときには図
49(B)の実線で示したように燃料およびその周囲の
ガス温度Tfはさほど高くならない。これに対して通常
の燃焼が行われている場合には燃料周りに多量の酸素が
存在するために図49(B)の破線で示したように燃料
およびその周囲のガス温度Tfは極めて高くなる。この
ように通常の燃焼が行われた場合には燃料およびその周
囲のガス温度Tfは低温燃焼が行われている場合に比べ
てかなり高くなるが大部分を占めるそれ以外のガスの温
度は低温燃焼が行われている場合に比べて通常の燃焼が
行われている場合のほうが低くなっており、したがって
図49(A)に示したように圧縮上死点付近における燃
焼室内の平均ガス温度Tgは低温燃焼が行われている場
合のほうが通常の燃焼が行われている場合に比べて高く
なる。その結果、図49(A)に示したように燃焼が完
了した後の燃焼室内の平均ガス温度は低温燃焼が行われ
た場合のほうが通常の燃焼が行われた場合に比べて高く
なり、斯くして低温燃焼を行うと排気ガスの温度が高く
なる。
【0340】したがって低温燃焼は、通常の燃焼(通常
の機関運転)が行われたときに燃焼室から排出される排
気ガスの温度よりも温度が高い排気ガスを燃焼室から排
出する燃焼であるとも言える。
【0341】
【発明の効果】本発明によれば、パティキュレートフィ
ルタに流入する機関排気ガスの量が少なくされた状態に
て、燃焼装置からの排気ガスによりパティキュレートフ
ィルタの温度が上昇せしめられ、パティキュレートフィ
ルタの温度がNO還元温度範囲内において微粒子連続
酸化温度よりも高く維持される。ここで、本発明の燃焼
装置から排出される排気ガスがパティキュレートフィル
タの温度を上昇させる昇温能力は機関排気ガスの昇温能
力よりも高い。したがって本発明によれば、機関排気ガ
スによりパティキュレートフィルタの温度を上昇させる
場合に比べてパティキュレートフィルタの温度を素早く
上昇させることができる。しかも本発明によれば、パテ
ィキュレートフィルタの温度を上昇させるために燃焼装
置からパティキュレートフィルタに排気ガスを供給する
ときには、パティキュレートフィルタに流入する機関排
気ガスの量が少なくされている。したがって本発明によ
れば、機関排気ガスによりパティキュレートフィルタか
ら奪われる熱量が少ないので、このことからもパティキ
ュレートフィルタの温度を素早く上昇させることができ
る。したがって、全体として本発明の排気浄化装置の微
粒子酸化除去レベルおよびNO浄化レベルが高められ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】内燃機関を示す図である。
【図2】排気浄化装置を示す図である。
【図3】NO浄化処理を実行するためのフローチャー
トである。
【図4】NO還元処理Iを実行するためのフローチャ
ートである。
【図5】NO還元処理IIを実行するためのフローチャ
ートである。
【図6】フィルタ温度制御を実行するためのフローチャ
ートである。
【図7】昇温処理Iを実行するためのフローチャートで
ある。
【図8】温度判定を実行するためのフローチャートであ
る。
【図9】S成分放出処理を実行するためのフローチャー
トである。
【図10】S成分放出処理Iを実行するためのフローチ
ャートである。
【図11】空燃比制御を実行するためのフローチャート
である。
【図12】別の実施例の排気浄化装置を示す図である。
【図13】別の実施例の排気浄化装置を示す図である。
【図14】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図15】排気バルブ制御を実行するためのフローチャ
ートである。
【図16】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図17】NO還元処理Iを実行するためのフローチ
ャートである。
【図18】逆流防止弁制御を実行するためのフローチャ
ートである。
【図19】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図20】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図21】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図22】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図23】NO還元処理Iを実行するためのフローチ
ャートである。
【図24】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図25】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図26】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図27】空気量制御弁制御を実行するためのフローチ
ャートである。
【図28】酸素濃度の変化を示すタイムチャートであ
る。
【図29】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図30】酸素濃度の変化を示すタイムチャートであ
る。
【図31】NO還元処理Iを実行するためのフローチ
ャートである。
【図32】空燃比制御を実行するためのフローチャート
である。
【図33】HC除去処理を含むNO還元処理Iを実行
するためのフローチャートである。
【図34】HC除去処理を実行するためのフローチャー
トである。
【図35】さらに別の実施例の排気浄化装置を示す図で
ある。
【図36】機関始動時制御を実行するためのフローチャ
ートの一部である。
【図37】機関始動時制御を実行するためのフローチャ
ートの一部である。
【図38】機関始動時制御を実行するためのフローチャ
ートの一部である。
【図39】機関始動時制御を実行するためのフローチャ
ートの一部である。
【図40】パティキュレートフィルタを示す図である。
【図41】微粒子の酸化作用を説明するための図であ
る。
【図42】微粒子の堆積作用を説明するための図であ
る。
【図43】単位微粒子連続酸化量とパティキュレートフ
ィルタの温度との関係を示す図である。
【図44】スモークおよびNOの発生量などを示す図
である。
【図45】燃焼圧を示す図である。
【図46】燃料分子を示す図である。
【図47】スモークの発生量とEGR率との関係を示す
図である。
【図48】燃料噴射量と吸入ガス量との関係を示す図で
ある。
【図49】低温燃焼が行われるときに排出される排気ガ
スの温度について説明するための図である。
【符号の説明】
1…機関本体 22a,22b…パティキュレートフィルタ 71,92…機関排気通路 72,72a,72b…切換バルブ 74…燃焼式ヒータ 75…排気供給管 76…逆流防止弁 77a,77b…温度センサ 78a,78b…排気バルブ 83…空気導入管 84…空気量制御弁 85a,85b…空燃比センサ 88a,88b…圧力センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F01N 3/02 321 F01N 3/02 321J 3/08 A 3/08 3/20 E 3/20 N R 3/28 301C 3/28 301 F02D 41/04 355 F02D 41/04 355 45/00 312Z 45/00 312 B01D 53/36 103C 103B (72)発明者 田中 俊明 愛知県豊田市トヨタ町1番地 トヨタ自動 車株式会社内 Fターム(参考) 3G084 AA01 BA08 BA09 BA20 CA01 DA10 EA11 FA02 FA27 FA30 FA33 3G090 AA03 BA01 3G091 AA10 AA11 AA18 AB02 AB06 AB11 AB13 BA11 BA14 CA01 CA12 CA13 CA27 DA01 DA02 DB10 EA01 EA15 EA17 EA32 EA34 FA01 FB02 FB10 FB12 FC02 FC07 GB02Y GB03Y GB04Y GB06W HA11 HA14 HA36 HA37 HB02 3G301 HA02 HA11 HA13 HA18 JA15 JA25 KA01 MA01 NA08 NE01 NE06 NE13 NE15 PA10Z PD03Z PD08Z PD11Z PD14Z PE01Z 4D048 AA06 AA14 AB01 AB02 AB07 AC06 BA14X BA30X BB02 BB14 BC01 CC21 CC25 CC53 CC61 CD05 CD08 DA01 DA02 DA03 DA06 DA07 DA10 DA13 DA20 EA04

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 機関排気通路に並列して配置された一対
    のパティキュレートフィルタと、機関から排出される機
    関排気ガスのほとんど全てをいずれのパティキュレート
    フィルタに流入させるかを切り換えるための排気流切換
    手段と、パティキュレートフィルタの温度を上昇させる
    ことができる機関排気ガスの昇温能力よりも高い昇温能
    力を有する排気ガスをパティキュレートフィルタに供給
    するための燃焼装置とを具備し、流入する排気ガスの空
    燃比がリーンであるときに排気ガス中のNOを吸収し
    且つ流入する排気ガスの空燃比がリッチになると吸収し
    たNOを放出して排気ガス中の炭化水素によりNO
    を還元浄化することができるNO触媒と、微粒子を連
    続的に酸化除去することができる酸化物質とをパティキ
    ュレートフィルタに担持させ、上記NO触媒はその温
    度がNO還元温度範囲内にあるときにNOを放出し
    て還元することができ、一方、上記酸化物質の温度が微
    粒子連続酸化温度よりも高いときに該酸化物質が流入す
    るほとんど全ての微粒子を連続的に酸化除去することが
    できる内燃機関の排気浄化装置において、NO触媒に
    吸収されているNOを還元すべきか否かを判定するた
    めの還元判定手段を具備し、該還元判定手段によりNO
    触媒に吸収されているNO を還元すべきであると判
    定されたときには、上記排気流切換手段により当該NO
    を還元すべきであると判定されたNO触媒を担持し
    ている方のパティキュレートフィルタへの機関排気ガス
    の流入を抑制し、当該パティキュレートフィルタの温度
    がNO還元温度範囲内において微粒子連続酸化温度よ
    りも高く維持されるように、当該パティキュレートフィ
    ルタに燃焼装置からリッチ空燃比の排気ガスを供給する
    ようにしたことを特徴とする内燃機関の排気浄化装置。
  2. 【請求項2】 上記還元判定手段によりNO触媒に吸
    収されているNOを還元すべきであると判定されたと
    きに、該NOを還元すべきであると判定されたNO
    触媒を担持している方のパティキュレートフィルタの温
    度がNO還元温度範囲の下限温度よりも低いときに
    は、上記排気流切換手段により当該パティキュレートフ
    ィルタへの機関排気ガスの流入を抑制し、上記燃焼装置
    から酸素濃度が予め定められた濃度よりも高いリッチ空
    燃比の排気ガスを当該パティキュレートフィルタに供給
    して当該パティキュレートフィルタの温度をNO還元
    温度範囲内にまで上昇させ、当該パティキュレートフィ
    ルタの温度がNO還元温度範囲内となったときには、
    上記燃焼装置から酸素濃度が上記予め定められた濃度よ
    りも低いリッチ空燃比の排気ガスを当該パティキュレー
    トフィルタに供給するようにしたことを特徴とする請求
    項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  3. 【請求項3】 上記還元判定手段によりNO触媒に吸
    収されているNOを還元すべきであると判定されたと
    きに、該NOを還元すべきであると判定されたNO
    触媒を備えた方のパティキュレートフィルタの温度がN
    還元温度範囲の下限温度よりも低いときには、上記
    排気流切換手段により当該一方のパティキュレートフィ
    ルタへの機関排気ガスの流入を抑制し、上記燃焼装置か
    ら当該パティキュレートフィルタにリーン空燃比の排気
    ガスを供給して当該パティキュレートフィルタの温度を
    NO還元温度範囲内にまで上昇させ、当該パティキュ
    レートフィルタの温度がNO還元温度範囲内となった
    ときには、上記燃焼装置から当該パティキュレートフィ
    ルタにリッチ空燃比の排気ガスを供給するようにしたこ
    とを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装
    置。
  4. 【請求項4】 NO触媒に吸収されているNOの還
    元が完了したときに、上記燃焼装置から当該パティキュ
    レートフィルタにリーン空燃比の排気ガスを供給するよ
    うにしたことを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の
    排気浄化装置。
  5. 【請求項5】 パティキュレートフィルタから流出する
    排気ガスの空燃比を検出することができる空燃比センサ
    を具備し、該空燃比センサの出力に基づいて上記燃焼装
    置から当該パティキュレートフィルタに供給される排気
    ガスの空燃比を制御するようにしたことを特徴とする請
    求項1〜4のいずれか1つに記載の内燃機関の排気浄化
    装置。
  6. 【請求項6】 機関始動時において上記排気流切換手段
    により一方のパティキュレートフィルタへの機関排気ガ
    スの流入を抑制し、上記燃焼装置から当該一方のパティ
    キュレートフィルタに排気ガスを供給して当該一方のパ
    ティキュレートフィルタの温度を上昇させるようにした
    ことを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化
    装置。
  7. 【請求項7】 要求トルクと機関回転数とに基づいて機
    関運転が制御される第1の機関運転と、該第1の機関運
    転が実行されたときに機関から排出される機関排気ガス
    の温度よりも温度が高い機関排気ガスを機関から排出さ
    せる第2の機関運転とを選択的に実行するための機関運
    転制御手段を具備し、機関始動時においては該機関運転
    制御手段により第2の機関運転制御を実行して他方のパ
    ティキュレートフィルタの温度を上昇させるようにした
    ことを特徴とする請求項6に記載の内燃機関の排気浄化
    装置。
  8. 【請求項8】 上記NO触媒は流入する排気ガスの空
    燃比がリーンであるときに排気ガス中の硫黄成分を吸収
    し且つ流入する排気ガスの空燃比がリッチになったとき
    にその温度が吸収している硫黄成分を放出することがで
    きる硫黄成分放出温度よりも高いと吸収している硫黄成
    分を放出することができ、さらにNO 触媒に吸収され
    ている硫黄成分をNO触媒から放出すべきか否かを判
    定するための硫黄成分放出判定手段を具備し、該硫黄成
    分放出判定手段によりNO触媒に吸収されている硫黄
    成分を放出させるべきであると判定されたときに、当該
    硫黄成分を放出すべきであると判定された方のパティキ
    ュレートフィルタの温度が硫黄成分放出温度よりも低い
    ときには、当該パティキュレートフィルタの温度を硫黄
    成分放出温度にまで上昇させ、当該パティキュレートフ
    ィルタの温度が硫黄成分放出温度に達したときに、上記
    排気流切換手段により当該パティキュレートフィルタへ
    の機関排気ガスの流入を抑制し、上記燃焼装置から当該
    パティキュレートフィルタにリッチ空燃比の排気ガスを
    供給するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の
    内燃機関の排気浄化装置。
  9. 【請求項9】 上記NO触媒は流入する排気ガスの空
    燃比がリーンであるときに排気ガス中の硫黄成分を吸収
    し且つ流入する排気ガスの空燃比がリッチになったとき
    にその温度が吸収している硫黄成分を放出することがで
    きる硫黄成分放出温度よりも高いと吸収している硫黄成
    分を放出することができ、さらにNO 触媒に吸収され
    ている硫黄成分をNO触媒から放出すべきか否かを判
    定するための硫黄成分放出判定手段を具備し、該硫黄成
    分放出判定手段によりNO触媒に吸収されている硫黄
    成分を放出させるべきであると判定されたときに、当該
    硫黄成分を放出すべきであると判定された方のパティキ
    ュレートフィルタの温度が硫黄成分放出温度よりも低い
    ときには、当該パティキュレートフィルタの温度を硫黄
    成分放出温度にまで上昇させ、当該パティキュレートフ
    ィルタの温度が硫黄成分放出温度に達したときに、上記
    排気流切換手段により当該パティキュレートフィルタへ
    の機関排気ガスの流入を抑制し、上記燃焼装置から当該
    パティキュレートフィルタにリッチ空燃比の排気ガスと
    リーン空燃比の排気ガスとを交互に供給するようにした
    ことを特徴とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化
    装置。
  10. 【請求項10】 NO触媒から硫黄成分が放出されて
    いるときに機関回転数が予め定められた値よりも小さく
    なったときには上記燃焼装置からパティキュレートフィ
    ルタに供給される排気ガスの空燃比をリーンに維持する
    ことを特徴とする請求項9に記載の内燃機関の排気浄化
    装置。
  11. 【請求項11】 要求トルクと機関回転数とに基づいて
    機関運転が制御される第1の機関運転と、該第1の機関
    運転が実行されたときに機関から排出される機関排気ガ
    スの温度よりも温度が高い機関排気ガスを機関から排出
    させる第2の機関運転とを選択的に実行するための機関
    運転制御手段を具備し、上記硫黄成分放出判定手段によ
    りNO触媒に吸収されている硫黄成分を放出させるべ
    きであると判定されたときに、上記機関運転制御手段に
    より第2の機関運転を実行し、当該硫黄成分を放出させ
    るべきであると判定された方のパティキュレートフィル
    タの温度を硫黄成分放出温度まで上昇させるようにした
    ことを特徴とする請求項8または9に記載の内燃機関の
    排気浄化装置。
  12. 【請求項12】 上記燃焼装置が機関排気ガスを取り込
    んで該機関排気ガス中の酸素により燃料を燃焼せしめる
    ことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つに記載
    の内燃機関の排気浄化装置。
  13. 【請求項13】 上記燃焼装置が取り込んだ機関排気ガ
    ス中に空気を供給するための空気供給手段を有すること
    を特徴とする請求項12に記載の内燃機関の排気浄化装
    置。
  14. 【請求項14】 上記燃焼装置が空気を取り込むと共に
    排気ガスを取り込むことを特徴とする請求項1〜11の
    いずれか1つに記載の内燃機関の排気浄化装置。
  15. 【請求項15】 上記燃焼装置がパティキュレートフィ
    ルタから流出した排気ガスを取り込むことを特徴とする
    請求項14に記載の内燃機関の排気浄化装置。
  16. 【請求項16】 各パティキュレートフィルタ下流から
    の排気ガスの流出を抑制するための流出抑制手段を具備
    し、上記排気流切換手段により一方のパティキュレート
    フィルタへの機関排気ガスの流入を抑制しているとき
    に、上記流出制御手段により当該一方のパティキュレー
    トフィルタ下流への排気ガスの流出を抑制するようにし
    たことを特徴とする請求項1〜11のいずれか1つに記
    載の内燃機関の排気浄化装置。
  17. 【請求項17】 パティキュレートフィルタ内の圧力を
    検出するための圧力センサを具備し、上記排気流切換手
    段により一方のパティキュレートフィルタへの機関排気
    ガスの流入を抑制し且つ上記流出抑制手段により当該一
    方のパティキュレートフィルタ下流からの排気ガスの流
    出を抑制しているときに、当該一方のパティキュレート
    フィルタ内の圧力を上記圧力センサにより検出し、当該
    一方のパティキュレートフィルタ内の圧力が燃焼装置の
    作動を阻害するほど高い圧力を超えないように上記流出
    抑制手段による流出抑制度合を制御するようにしたこと
    を特徴とする請求項16に記載の内燃機関の排気浄化装
    置。
  18. 【請求項18】 各パティキュレートフィルタ下流側の
    機関排気通路がそれぞれ予め定められた距離以上に亘っ
    て各パティキュレートフィルタから別個に延在し、上記
    排気流切換手段により一方のパティキュレートフィルタ
    への機関排気ガスの流入を抑制してほとんど全ての機関
    排気ガスを他方のパティキュレートフィルタに流入させ
    たときに、他方のパティキュレートフィルタから流出す
    る機関排気ガスが一方のパティキュレートフィルタにそ
    の下流から流入することがないような距離に上記予め定
    められた距離を設定したことを特徴とする請求項1に記
    載の内燃機関の排気浄化装置。
  19. 【請求項19】 上記燃焼装置から排気ガスをパティキ
    ュレートフィルタに供給するための排気供給通路内に、
    パティキュレートフィルタから燃焼装置への排気ガスの
    逆流を防止するための逆流防止弁を配置したことを特徴
    とする請求項1に記載の内燃機関の排気浄化装置。
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