JP2003110079A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents

半導体装置およびその製造方法

Info

Publication number
JP2003110079A
JP2003110079A JP2001305501A JP2001305501A JP2003110079A JP 2003110079 A JP2003110079 A JP 2003110079A JP 2001305501 A JP2001305501 A JP 2001305501A JP 2001305501 A JP2001305501 A JP 2001305501A JP 2003110079 A JP2003110079 A JP 2003110079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tab
resin
back surface
semiconductor chip
semiconductor device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001305501A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeki Tanaka
茂樹 田中
Seiichi Tomihara
誠一 冨原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Northern Japan Semiconductor Technologies Inc
Original Assignee
Hitachi Ltd
Northern Japan Semiconductor Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Northern Japan Semiconductor Technologies Inc filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2001305501A priority Critical patent/JP2003110079A/ja
Publication of JP2003110079A publication Critical patent/JP2003110079A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/3201Structure
    • H01L2224/32012Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad
    • H01L2224/32014Structure relative to the bonding area, e.g. bond pad the layer connector being smaller than the bonding area, e.g. bond pad
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • H01L2224/48472Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄形の半導体装置における温度サイクル性の
向上を図る。 【解決手段】 半導体チップ2を支持するチップ支持面
1iと裏面1jと側面1nとを有するとともに4つの側
面1nに開口する溝部1pが裏面1jに格子状に形成さ
れたタブ1eと、複数のリード1aと、半導体チップ2
の表面電極とリード1aとを接続する複数のワイヤと、
半導体チップ2および複数の前記ワイヤを樹脂封止し、
かつタブ1eの側面1n側に配置される側部樹脂部3b
と溝部1p内に配置される溝部内樹脂部3cとを有する
とともに、側部樹脂部3bと溝部内樹脂部3cとが一体
に繋がって形成された樹脂封止部3とから構成され、タ
ブ1eの裏面1jから側面1nに亘る封止用樹脂とタブ
1eとの密着性を向上させて温度サイクル評価時のQF
N7のパッケージクラックを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造技術に
関し、特に、樹脂封止形の半導体装置の温度サイクル性
の向上に適用して有効な技術に関する。
【0002】
【従来の技術】小形化・薄形化を図るとともにリードフ
レームを用いて製造される半導体装置として、QFN
(Quad Flat Non-leaded Package) と呼ばれる半導体パ
ッケージが開発されている。
【0003】QFNでは、半導体チップの表面電極とこ
れに対応するインナリード(リード)とがボンディング
用のワイヤによって電気的に接続される。その際、ワイ
ヤとして金線を用いる場合が多く、また、インナリード
は、例えば、銅(Cu)、鉄(Fe)、あるいは、鉄と
ニッケルとの合金(Fe−Ni)などであるため、イン
ナリードのワイヤ接合部にワイヤとの接合力を増加させ
るために銀めっきが形成される。
【0004】なお、インナリードのワイヤ接合部に銀め
っきを形成した際の銀めっきのタブの側面への付着を防
止するために、QFNでは、タブの周囲にめっき阻止用
ダムを形成した構造のものも考案されている。
【0005】すなわち、銀めっきと封止用樹脂(例え
ば、熱硬化性のエポキシ樹脂)は、その密着性が悪いた
め、めっき阻止用ダムを形成して銀めっきのタブの側面
への付着を防止するものである。
【0006】ここで、小形化・薄形化の要求に応える技
術として、特開平11−74440号公報に、半導体チ
ップを支持するタブがアップセット処理(タブ上げ加
工)された樹脂封止形の半導体装置とその製造方法が開
示されている。
【0007】特開平11−74440号公報に記載され
た半導体装置は、樹脂封止部の裏面(半導体装置実装側
の面)の周縁部に複数のリードが配置されるとともに、
タブを支持する吊りリードの曲げによってタブをリード
より高い位置に配置し、これにより、タブの裏面にも封
止用樹脂を回り込ませてタブを封止用樹脂内に埋め込む
構造のものであり、高信頼性と薄形化の達成を目的とす
るものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記めっき
阻止用ダムを形成した構造の半導体装置では、タブの側
面への銀めっきの付着は防げるものの、QFN構造であ
るため、タブの裏面側の封止用樹脂の厚さが非常に薄
い。
【0009】同様に、特開平11−74440号公報に
記載された半導体装置においても、タブの裏面側に配置
される封止用樹脂の厚さが非常に薄い。
【0010】したがって、このような構造の半導体装置
では、温度サイクル評価を行うと、タブとタブの裏面側
の封止用樹脂との間で剥離が発生し、これにより、タブ
の側面下方角部に応力が集中して、タブの裏面の封止用
樹脂にパッケージクラックが形成されることが問題とな
る。
【0011】本発明の目的は、温度サイクル性の向上を
図る半導体装置およびその製造方法を提供することにあ
る。
【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0013】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0014】すなわち、本発明は、チップ支持面と裏面
と側面とを有するとともに前記側面に開口する凹部が前
記裏面に形成されたタブと、前記タブの周囲から外部に
向かって延在する複数のリードと、半導体チップの表面
電極と前記リードとを接続するボンディング用の複数の
ワイヤと、前記半導体チップおよび前記ワイヤを封止
し、かつ前記タブの側面側に配置される側部樹脂部と前
記凹部内に配置される凹部内樹脂部とを有するととも
に、前記側部樹脂部と前記凹部内樹脂部とが一体に形成
された樹脂封止部とを有するものである。
【0015】また、本発明は、チップ支持面と裏面と側
面とを有するタブと、前記タブの周囲に設けられた複数
のリードとを備え、前記タブの側面に開口する凹部が前
記裏面に形成されたリードフレームを準備する工程と、
前記タブのチップ支持面と前記半導体チップとを接合す
る工程と、前記半導体チップの表面電極と前記リードと
をボンディング用のワイヤによって接続する工程と、前
記リードの一部を露出させるとともに、前記タブの側面
側に配置される側部樹脂部と前記凹部内に配置される凹
部内樹脂部とを一体で形成して前記半導体チップおよび
前記ワイヤを樹脂封止して樹脂封止部を形成する工程
と、複数の前記リードおよび前記タブを前記リードフレ
ームの枠部から分離する工程とを有するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において、同一の機能を有する部材には同
一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【0017】図1は本発明の実施の形態のQFNに用い
られるリードフレームの構造の一例を示す部分平面図、
図2は本発明の半導体装置であるQFNの構造の一例を
示す図であり、(a)は平面図、(b)は側面図、図3
は図2に示すQFNの構造を示す図であり、(a)は図
2のC−C線に沿った断面図、(b)は(a)のA部を
示す部分拡大断面図、(c)は(a)のB部を示す部分
拡大断面図、図4は図2に示すQFNの内部構造を示す
図であり、(a)は樹脂封止部と半導体チップを透過し
て内部構造を示す平面図、(b)は(a)のD−D線に
沿った断面図、(c)は(a)のE−E線に沿った断面
図、図5は図2に示すQFNの製造方法の一例を示す製
造プロセスフロー図、図6〜図8はそれぞれ本発明の変
形例のQFNの内部構造を示す図であり、(a)は樹脂
封止部と半導体チップを透過して内部構造を示す平面
図、(b)および(c)はそれぞれの断面図、図9は本
発明の変形例のQFNにおける樹脂封止部と半導体チッ
プを透過して内部構造を示す平面図である。
【0018】図1に示す本実施の形態のリードフレーム
1は、薄形(小形)・樹脂封止形で、かつ面実装形の半
導体装置の組み立てに用いられるものであり、本実施の
形態ではこの半導体装置の一例として、図2、図3およ
び図4に示すQFN7を取り上げて説明する。
【0019】本実施の形態のQFN7は、樹脂モールド
によって形成された樹脂封止部3の裏面3a(半導体装
置実装側の面)の周縁部に外部端子である複数のリード
1aの被実装面(一部)1bが露出して配置されたペリ
フェラル形のものである。
【0020】図2、図3および図4に示す本実施の形態
のQFN7(半導体装置)の構成について説明すると、
主面2bに半導体集積回路が形成された半導体チップ2
と、半導体チップ2を支持するチップ支持面1iと、こ
のチップ支持面1iの反対側の裏面1jと、チップ支持
面1iおよび裏面1jに接する側面1nとを有するとと
もに4つの側面1nに開口する溝部(凹部)1pが裏面
1jに格子状に形成されたタブ1eと、タブ1eの周囲
に配置され、かつタブ1eの周囲から外部に向かって延
在する複数のリード1aと、半導体チップ2の電極パッ
ドである表面電極2aとこれに対応するリード1aとを
電気的に接続するボンディング用のワイヤ4と、半導体
チップ2、複数のワイヤ4および複数のリード1aのワ
イヤ接合側を樹脂封止し、かつタブ1eの側面側に配置
される側部樹脂部3bと溝部1p内に配置される溝部内
樹脂部(凹部内樹脂部)3cとを有するとともに、側部
樹脂部3bと溝部内樹脂部3cとが一体に繋がって形成
された樹脂封止部3と、タブ1eとリード1aのワイヤ
接合側端部1cとの間に配置され、かつリード1aのワ
イヤ接合部1dへの銀めっき形成時に、銀めっき6のタ
ブ1eへの付着を阻止するめっき阻止用ダム部1kとか
ら構成されている。
【0021】なお、QFN7は、各リード1aの配置箇
所よりタブ1eの配置箇所を高くする構造(これをタブ
上げともいう)のものであり、したがって、図3(a)
に示すように、タブ1eの裏面1j側にも樹脂封止部3
が形成されている。
【0022】さらに、QFN7は薄形のものであるた
め、このタブ1eの裏面1j側の樹脂封止部3の厚さ
も、例えば、0.14mm程度であり、非常に薄い。
【0023】そこで、本実施の形態のQFN7は、図4
(c)に示すように、タブ1eの4つの側面1nそれぞ
れに開口する溝部(凹部)1pがタブ1eの裏面1jに
形成されたことにより、樹脂モールドによってタブ1e
の側面1n側に形成される側部樹脂部3bとタブ1eの
溝部1p内に配置される溝部内樹脂部3cとがモールド
時に一体に繋がって形成され、したがって、タブ1eの
裏面1jから側面1nに亘る封止用樹脂とタブ1eとの
密着性を向上させるものである。
【0024】また、タブ1eの裏面1jと封止用樹脂と
の接合面積が増えるため、タブ1eの裏面1jと封止用
樹脂との密着性をさらに向上できる。
【0025】その結果、QFN7の温度サイクル評価時
のタブ1eの裏面1jから側面1nに亘る封止用樹脂と
タブ1eとの剥離を防止することができ、温度サイクル
評価時のQFN7のパッケージクラックを防止すること
ができる。
【0026】さらに、タブ1eの裏面1jにおいて、図
4(a)に示すように、溝部1pが格子状に形成されて
おり、したがって、タブ1eの裏面1jは、格子状の溝
部1pによって略均等に複数の領域に分割された状態と
なる。
【0027】これにより、タブ1eの裏面1j側で発生
する封止用樹脂とタブ1eとの熱膨張係数の差による応
力をタブ1eの裏面1jにおいて分散できる。
【0028】また、タブ1eの裏面1jの溝部1pが格
子状に形成されていることにより、四角形のタブ1eの
各辺において複数箇所で側部樹脂部3bと溝部内樹脂部
3cとを一体に繋げることができる。
【0029】その結果、タブ1eと樹脂封止部3との間
で剥離が発生した際にも剥離の進展を抑制することがで
き、温度サイクル性を向上できる。
【0030】なお、タブ1eの溝部1pは、リードフレ
ーム1の加工工程においてタブ1eの裏面1jに、例え
ば、ハーフエッチングによって形成することが好まし
い。
【0031】したがって、溝部1pの深さは、リードフ
レーム1の板厚の1/2程度であり、タブ1eの厚さの
1/2程度である。
【0032】また、本実施の形態のめっき阻止用ダム部
1kは、図4(a)に示すようにタブ1eの外周に沿っ
て細長いバー状に形成され、隣あった2本のタブ吊りリ
ード1lによって支持されるとともに、隣あった2本の
タブ吊りリード1l間で繋がった形状となっている。
【0033】なお、銀めっき形成によって、図3(a),
(b),(c)に示すように各リード1aのワイヤ接合部
1dと、めっき阻止用ダム部1kの外側側面とには銀め
っき6が形成されるが、タブ1eの外周に沿って設けら
れためっき阻止用ダム部1kを十分に幅の狭い細長いバ
ー状とすることにより、このめっき阻止用ダム部1kの
銀めっき6の付着箇所から発生するパッケージクラック
は防止できる。
【0034】また、本実施の形態のQFN7は、タブ1
eが半導体チップ2よりも遙かに小さく形成された小タ
ブ構造のものである。
【0035】したがって、めっき阻止用ダム部1kを、
タブ吊りリード1lによって支持された幅の狭い細長い
バー状とし、このめっき阻止用ダム部1kをタブ1eの
外周にほぼ沿って配置することにより、図3(a)に示
すように、半導体チップ2をタブ1eに搭載した際に
は、めっき阻止用ダム部1kが半導体チップ2の裏面2
cと対向して配置される。
【0036】その際、本実施の形態では、タブ1e上に
ペ付け材5を介して半導体チップ2を固定した際に、Q
FN7では、めっき阻止用ダム部1kと半導体チップ2
とは接合しない構造とし、半導体チップ2とめっき阻止
用ダム部1kとを独立させた構造とする。
【0037】これにより、めっき阻止用ダム部1kに伸
縮時の自由度を持たせることができ、その結果、めっき
阻止用ダム部1kに応力がかかった際の樹脂封止部3へ
のクラック形成を緩和できる。
【0038】ただし、めっき阻止用ダム部1kと半導体
チップ2とをペ付け材5などを用いて接合してもよい。
【0039】なお、半導体チップ2とめっき阻止用ダム
部1kとを接合せずに両者を独立の構造とした際には、
両者間に僅かな間隙が形成されるため、この構造でモー
ルドによる樹脂封止が行われると、タブ1eとめっき阻
止用ダム部1kとの間には封止用樹脂が入り込み、モー
ルド終了後、図3(a)に示すように、タブ1eとめっ
き阻止用ダム部1kとの間に封止用樹脂が介在される。
【0040】また、QFN7における各リード1aは、
インナリードの機能とアウタリードの機能との両者を兼
ね備えたものである。
【0041】すなわち、リード1aのうちワイヤ接合部
1dを有する樹脂封止部3内に埋め込まれた領域は、ワ
イヤ4と接続するインナリード領域であり、一方、樹脂
封止部3の裏面3aにおいてこの樹脂封止部3から露出
した被実装面1bを備える領域は、アウタリード領域で
ある。
【0042】したがって、各リード1aの被実装面1b
は、樹脂封止部3の裏面3aとほぼ同一の面に配置され
る。
【0043】つまり、本実施の形態のQFN7は、樹脂
封止部3の裏面3aとほぼ同一面に配置された複数のリ
ード1aを有するとともに、これらリード1dを樹脂封
止部3から外部に水平方向に突出させることなく、樹脂
封止部3の裏面3aの周縁部に配置したペリフェラル形
のものである。
【0044】また、各リード1aのワイヤ接合部1dに
は、図3(c)に示すように、銀めっき6が形成され、
そこにボンディング用のワイヤ4がワイヤボンディング
されるため、銀めっき6によってワイヤ4との接合力が
高められている。
【0045】なお、QFN7で用いられるボンディング
用のワイヤ4は、例えば、金線である。
【0046】また、本実施の形態のQFN7には、リー
ド1aの被実装面1bに半田めっきが施されている。半
田めっきは、QFN7を実装基板(図示せず)などに半
田実装した際の半田接続強度を高めるためのものであ
り、モールドによる樹脂封止を行った後に、半田めっき
処理が行われて形成される。
【0047】また、タブ1e、タブ吊りリード1l、め
っき阻止用ダム部1kおよび各リード1aは、例えば、
Cu、FeまたはFe−Niなどによって形成され、そ
の厚さは、例えば、0.1〜0.2mm程度の薄板材であ
る。
【0048】さらに、樹脂封止部3は、モールド方法に
よる樹脂封止によって形成され、その際用いられる封止
用樹脂は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などであ
る。
【0049】次に、図1〜図4を用いて、図1に示すリ
ードフレーム1の構成について説明すると、半導体チッ
プ2を支持可能なようにほぼ四角形に形成され、かつ半
導体チップ2を支持するチップ支持面1iと裏面1jと
チップ支持面1iおよび裏面1jに接する側面1nとを
有するとともに側面1nに開口する溝部1pが裏面1j
に格子状に形成されたタブ1eと、タブ1eの周囲に配
置され、かつ樹脂封止部3の裏面3aの周縁部に露出す
る被実装面1bを備えるとともに、半導体チップ2の表
面電極2aと電気的に接続される複数のリード1aと、
タブ1eをその4つの角部で支持するタブ吊りリード1
lと、タブ1eとリード1aのワイヤ接合側端部1cと
の間に配置され、かつリード1aのワイヤ接合部1dへ
のめっき形成時に、前記めっきのタブ1eへの付着を阻
止するめっき阻止用ダム部1kと、4本のタブ吊りリー
ド1lおよび複数のリード1aを支持する枠部1fとか
らなる薄板状の金属板である。
【0050】なお、リードフレーム1は、図1に示すよ
うに、1枚のリードフレーム1から複数個のQFN7を
製造することが可能な長尺状の細長い多連のものであ
る。
【0051】つまり、1枚のリードフレーム1には、1
個のQFN7に対応したパッケージ領域が複数個形成さ
れており、さらに、その枠部1fには、チップマウント
(ダイボンディング)時やワイヤボンディング時にリー
ドフレーム1を搬送する際の複数のガイド用長孔1gお
よび位置決め孔1hが形成されている。
【0052】なお、リードフレーム1の材料は、例え
ば、銅(Cu)、鉄(Fe)、または、鉄とニッケルと
の合金(Fe−Ni)などであり、その厚さは、例え
ば、0.1〜0.2mm程度であるが、前記材料や前記厚さ
などは、これらに限定されるものではない。
【0053】ここで、本実施の形態のQFN7に用いら
れるリードフレーム1には、そのタブ1eに、図1に示
すように、側面1nに開口する溝部1pが裏面1jにハ
ーフエッチングによって格子状に形成されている。
【0054】なお、溝部1pの深さは、板厚(タブ1e
の厚さ)のほぼ1/2である。
【0055】また、リードフレーム1には、リード1a
のワイヤ接合部1dへのめっき形成時に、前記めっきの
タブ1eへの付着を阻止するめっき阻止用ダム部1k
が、タブ1eとリード1aのワイヤ接合側端部1cとの
間に配置されており、さらに、このめっき阻止用ダム部
1kは、図1に示すようにタブ1eの外周に沿って細長
いバー状に形成されるとともに、隣あった2本のタブ吊
りリード1lによって支持され、かつ隣あった2本のタ
ブ吊りリード1l間で繋がった形状となっている。
【0056】したがって、タブ1eとめっき阻止用ダム
部1kとの間には、タブ1eの外周に沿った細長い隙間
1mが形成されている。
【0057】なお、めっき阻止用ダム部1kにおける封
止用樹脂との接触面積は少ない方が好ましいため、めっ
き阻止用ダム部1kは、その幅を十分に狭く形成するこ
とが好ましい。
【0058】また、リードフレーム1のタブ1eは、半
導体チップ2の裏面2cの大きさよりも遙かに小さく形
成されており、所謂小タブ構造のQFN7に対応したも
のである。
【0059】ここで、本実施の形態では、ワイヤボンデ
ィング用のワイヤ4として金線を用いるとともに、前記
めっきとして図3に示す銀めっき6を用いる場合を説明
する。この銀めっき6は、金線であるワイヤ4と、鉄と
ニッケルの合金などからなるリード1aとのワイヤ接合
部1dにおける接合力を増加させるためのものであり、
したがって、リード1aのワイヤ接合部1dに形成され
ている。
【0060】なお、この銀めっき6は、リードフレーム
1において、リード1aやタブ1eおよびタブ吊りリー
ド1lなどの各形状パターンをエッチング加工などによ
って形成した後、リード1aのワイヤ接合部1dに形成
するものである。
【0061】その際、タブ1eの外周に沿ってタブ1e
とリード1aとの間にめっき阻止用ダム部1kが設けら
れていることにより、リード1aのワイヤ接合部1dに
銀めっき6を吹き付けた(噴流させた)際のタブ1eの
側面への銀めっき6の付着を防止できる。
【0062】したがって、本実施の形態のQFN7に用
いられるリードフレーム1では、タブ1eの側面1nに
は銀めっき6は付着していない。
【0063】また、リードフレーム1は、QFN7とし
て組み立てられた際に、図3(a)に示すように、タブ
1eが樹脂封止部3内に埋め込まれるタイプのものであ
るため、タブ1eは各リード1aより高い箇所に配置さ
れている。
【0064】すなわち、タブ吊りリード1lの中央付近
にタブ上げ用の曲げ加工が施され、これによってQFN
7が組み立てられた際には、タブ1eが各リード1aよ
り上方の位置に配置されるとともに、タブ1eの裏面1
j側にも樹脂封止部3が形成される。
【0065】次に、本実施の形態のQFN7の製造方法
を図5に示す製造プロセスフロー図にしたがって説明す
る。
【0066】なお、前記QFN7の製造方法は、図1に
示すリードフレーム1を用いて行うものである。
【0067】まず、ステップS1により、半導体チップ
2を支持可能なチップ支持面1iとその反対側の裏面1
jとチップ支持面1iおよび裏面1jに接する側面1n
とを有するタブ1eと、タブ1eの周囲に配置された複
数のリード1aとが設けられ、さらにタブ1eの側面1
nに開口する溝部1pが格子状にタブ1eの裏面1jに
形成された図1に示すリードフレーム1を準備する。
【0068】なお、リードフレーム1には、タブ1eと
その周囲に設けられた複数のリード1aのワイヤ接合側
端部1cとの間に配置されためっき阻止用ダム部1kが
形成され、かつリード1aのワイヤ接合部1dへの銀め
っき形成時の銀めっき6のタブ1eへの付着がめっき阻
止用ダム部1kによって阻止されたものである。
【0069】したがって、本実施の形態のQFN7の製
造では、タブ1eの側面1nに銀めっき6が付着してい
ないリードフレーム1を用いることができ、このリード
フレーム1を用いてQFN7を組み立てる。
【0070】なお、図1に示すリードフレーム1は、1
枚のリードフレーム1から複数個のQFN7を製造する
ことが可能な長尺状の細長い多連のものである。
【0071】つまり、1枚のリードフレーム1には、1
個のQFN7に対応したパッケージ領域が複数個形成さ
れている。
【0072】一方、図3(a)に示すような主面2bに
半導体集積回路が形成された半導体チップ2を準備し、
続いて、ステップS2によって半導体チップ2の供給を
行う。
【0073】その後、ステップS3により、リードフレ
ーム1のタブ1eと半導体チップ2の裏面2cとを接合
する。
【0074】すなわち、図3に示すように、リードフレ
ーム1のタブ1eのみにペ付け材5を塗布し、主面2b
を上方に向けて半導体チップ2を固定するチップマウン
ト(ダイボンディングまたはペレットボンディングとも
いう)を行う。
【0075】その際、QFN7では、めっき阻止用ダム
部1kにはペ付け材5を塗布せずに半導体チップ2をタ
ブ1eのチップ支持面1iのみに固定する。
【0076】さらに、QFN7は、小タブ構造であるた
め、半導体チップ2をタブ1eに搭載した際には、めっ
き阻止用ダム部1kは半導体チップ2の裏面2c側にこ
れと対向して配置される。ただし、半導体チップ2とめ
っき阻止用ダム部1kとは接合されずに配置されてい
る。
【0077】その後、半導体チップ2の表面電極2aと
これに対応する各リード1aのワイヤ接合部1dとを金
線であるボンディング用のワイヤ4を用いてワイヤボン
ディング(ステップS4)し、これにより、半導体チッ
プ2の表面電極2aと各リード1aとを電気的に接続す
る。
【0078】この際、リード1aのワイヤ接合部1dに
は銀めっき6が形成されているため、ワイヤ4とリード
1aとの接合力を増加させることができる。
【0079】その後、ステップS5に示すように、モー
ルドによる半導体チップ2の樹脂封止を行う。
【0080】ここでは、封止用樹脂を使用したモールド
によって半導体チップ2を樹脂封止する。その際、各リ
ード1aのワイヤ接合部1d側を樹脂封止するととも
に、各リード1aの一部である被実装面1bが、樹脂封
止部3の裏面3aの周縁部にこの裏面3aとほぼ同一面
となって露出するように樹脂封止して樹脂封止部3を形
成する。
【0081】さらに、樹脂封止部3のうち、タブ1eの
側面1n側に配置される側部樹脂部3bと溝部1p内に
配置される溝部内樹脂部3cとを一体で繋げて形成す
る。
【0082】また、樹脂封止時は、半導体チップ2の裏
面2cに対向して配置されためっき阻止用ダム部1kと
タブ1eとの間に封止用樹脂を通過させながら樹脂封止
する。
【0083】すなわち、半導体チップ2とめっき阻止用
ダム部1kとは接合していないため、封止用樹脂の注入
時には両者の間隙に封止用樹脂が入り込んだ状態とな
り、その結果、封止用樹脂の硬化後には、図3(a)に
示すように、半導体チップ2とめっき阻止用ダム部1k
との間に封止用樹脂が介在した構造となる。
【0084】なお、図4(a)は、樹脂封止後の樹脂封
止部3と半導体チップ2を透過して樹脂封止部3の内部
構造を示したものである。
【0085】その後、樹脂封止部3の裏面3aに露出し
た各リード1aの被実装面1bに半田めっき層を形成す
る半田めっき(ステップS6)を行う。
【0086】続いて、各リード1aおよびタブ吊りリー
ド1lをリードフレーム1の枠部1fから切断によって
切り離すリード切断(ステップS7)を行って、リード
フレーム1の枠部1fから樹脂封止部3を含む各リード
1aを分離して図2(a),(b) に示す形状とする。
【0087】これにより、図2、図3および図4に示す
QFN7を完成させる(ステップS8)。
【0088】本実施の形態のQFN7では、タブ1eの
側面1nに開口する溝部1pがタブ1eの裏面1jに形
成されたことにより、樹脂封止部3において、タブ1e
の側面1n側に配置される側部樹脂部3bと溝部1p内
に配置される溝部内樹脂部3cとが一体に繋がって形成
されるため、タブ1eの裏面1jから側面1nに亘る封
止用樹脂とタブ1eとの密着性を向上できる。
【0089】特に、タブ1eの裏面1jと封止用樹脂と
の接合面積が増えるため、タブ1eの裏面1jと封止用
樹脂との密着性を向上できる。
【0090】したがって、QFN7において温度サイク
ル評価時のタブ1eの裏面1jから側面1nに亘る封止
用樹脂とタブ1eとの剥離を防止することができる。
【0091】すなわち、タブ1eの裏面1jの封止用樹
脂との剥離およびタブ1eの側面1nの封止用樹脂との
剥離を防止することができる。
【0092】その結果、温度サイクル評価時のQFN7
のパッケージクラックを防止してその温度サイクル性の
向上を図ることができる。
【0093】さらに、タブ1eの裏面1jに溝部1pが
設けられたことにより、溝部1p内に封止用樹脂が埋め
込まれて溝部内樹脂部3cが形成されるため、タブ1e
の裏面1j側の樹脂封止部3の一部(溝部内樹脂部3c
のこと)の厚さを厚くすることができ、したがって、タ
ブ1eの裏面1jの剥離をさらに防止することができ
る。
【0094】その結果、温度サイクル評価時のQFN7
のパッケージクラックのマージンを増やすことができ、
パッケージクラックをさらに防止できる。
【0095】また、タブ1eの裏面1jから側面1nに
亘る封止用樹脂とタブ1eとの密着性を向上でき、かつ
タブ1eの裏面1j側の樹脂封止部3の一部(溝部内樹
脂部3cのこと)の厚さを厚くすることができるため、
タブ1eの裏面1jの剥離を抑制でき、その結果、QF
N7の耐リフロー性を向上させることもできる。
【0096】また、タブ1eの溝部1pが、裏面1jに
格子状に形成され、これにより、溝部1pが裏面1jを
ほぼ均等な領域に分割することにより、タブ1eの裏面
1j側で発生する封止用樹脂とタブ1eとの熱膨張係数
の差による応力をタブ1eの裏面1jにおいて分散させ
ることができる。
【0097】これにより、QFN7の耐リフロー性をさ
らに向上できる。
【0098】また、タブ1eの裏面1jの溝部1pが格
子状に形成されていることにより、四角形のタブ1eの
各辺において複数箇所で側部樹脂部3bと溝部内樹脂部
3cとを一体に繋げることができる。
【0099】その結果、タブ1eと樹脂封止部3との間
で剥離が発生した際にも剥離の進展を抑制することがで
き、QFN7の温度サイクル性を向上できる。
【0100】次に、図6〜図9に示す変形例のQFN7
の構造について説明する。
【0101】図6(a),(b),(c)に示す変形例のQ
FN7は、タブ1eの裏面1jにおいて、複数の異なっ
た大きさの円形の溝部1pを同心円上に形成したもので
ある。
【0102】これにより、図4に示すQFN7に比較し
て、溝部1pの面積をさらに大きくすることができるた
め、封止用樹脂とタブ1eの裏面1jとの密着面積を大
きくすることができ、温度サイクル性および耐リフロー
性をさらに向上できる。
【0103】図7〜図9に示す変形例のQFN7は、め
っき阻止用ダム部1kが設けられていない構造のもので
ある。
【0104】図7(a),(b),(c)に示す変形例のQ
FN7は、小タブ構造において、タブ1eの4つの側面
1nそれぞれに各々の側面1nから突出する突出部1r
が設けられたものである。
【0105】これにより、図4に示すQFN7に比較し
て、パッケージクラックが発生した際にも、タブ1eの
裏面1jの各辺に沿って進展しようとするパッケージク
ラックをこの突出部1rによって抑制することができ、
その結果、QFN7の温度サイクル性を向上できる。
【0106】なお、図7に示す変形例のQFN7におい
ても、そのタブ1eの裏面1jに、側面1nに開口する
細長い凹部である溝部1pと、タブ1eの裏面1jの内
方に配置された短い凹部である窪み1qとが設けられて
いる。
【0107】図8(a),(b),(c)に示す変形例のQ
FN7は、同じく小タブ構造において、タブ1eの4つ
の側面1nそれぞれに各々の側面1nから突出する突出
部1rが設けられ、かつタブ1eの裏面1jの周縁部に
溝部1pや窪み1qなどの凹部が形成されているもので
ある。
【0108】これにより、タブ1eの側面1n側の側部
樹脂部3bとタブ1eの裏面1j側の封止用樹脂との樹
脂の繋がりをさらに強化でき、したがって、タブ1eの
裏面1jの剥離の進展を抑制できる。
【0109】その結果、図8に示すQFN7の温度サイ
クル性を向上できる。
【0110】なお、図8に示す変形例のQFN7におい
ても、そのタブ1eの裏面1jに、側面1nに開口する
細長い凹部である溝部1pが周縁部に設けられている。
【0111】図9に示す変形例のQFN7は、図4に示
すQFN7からめっき阻止用ダム部1kを取り除いた構
造のものであり、めっき阻止用ダム部1k以外の構造
は、図4に示すQFN7と同じである。
【0112】なお、図7〜図9に示す変形例のQFN7
のその他の構造と、その他の効果と、さらに図7〜図9
に示す変形例のQFN7の製造方法とについては、図4
に示すQFN7と同様であり、その重複説明は省略す
る。
【0113】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言う
までもない。
【0114】例えば、前記実施の形態では、タブ1eの
裏面1jに形成される凹部である溝部1pや窪み1q
が、ハーフエッチングによって形成される場合を説明し
たが、前記凹部は、ハーフエッチング以外の、例えばコ
イニングなどの加工方法で形成されてもよく、その際の
前記凹部の深さは、タブ1eの板厚の1/2に限定され
るものではなく、種々変更可能である。
【0115】また、ワイヤボンディングに用いられるワ
イヤ4は、金線に限らず、例えば、銅線などであっても
よく、その際、リード1aのワイヤ接合部1dに形成さ
れるめっきは、銀めっき6ではなく、銅線用の他のめっ
きとなる。
【0116】さらに、前記実施の形態や変形例では、Q
FN7が小タブ構造の場合について説明したが、QFN
7は小タブ構造ではなく、半導体チップ2とほぼ同等の
大きさのタブ1eを有したものであってもよい。
【0117】また、前記実施の形態および変形例では、
半導体装置がQFN7の場合について説明したが、前記
半導体装置は、タブ1eの裏面1jに、その側面1nに
開口する凹部が形成されたものであれば、比較的薄形
の、例えば、TSOP(Thin Small Outline Package)
などであってもよい。
【0118】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0119】タブの側面に開口する凹部が裏面に形成さ
れたことにより、タブの側面側の側部樹脂部と凹部内の
凹部内樹脂部とが一体に繋がって形成されるため、タブ
の裏面から側面に亘る封止用樹脂とタブとの密着性を向
上できる。その結果、温度サイクル評価時のタブと封止
用樹脂の剥離を防止することができ、半導体装置のパッ
ケージクラックを防止して温度サイクル性の向上を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の半導体装置であるQFN
に用いられるリードフレームの構造の一例を示す部分平
面図である。
【図2】(a),(b) は本発明の半導体装置であるQF
Nの構造の実施の形態の一例を示す図であり、(a)は
平面図、(b)は側面図である。
【図3】(a),(b),(c)は図2に示すQFNの構造
を示す図であり、(a)は図2のC−C線に沿った断面
図、(b)は(a)のA部を示す部分拡大断面図、
(c)は(a)のB部を示す部分拡大断面図である。
【図4】(a),(b),(c)は図2に示すQFNの内部
構造を示す図であり、(a)は樹脂封止部と半導体チッ
プを透過して内部構造を示す平面図、(b)は(a)の
D−D線に沿った断面図、(c)は(a)のE−E線に
沿った断面図である。
【図5】図2に示すQFNの製造方法の実施の形態の一
例を示す製造プロセスフロー図である。
【図6】(a),(b),(c)は本発明の変形例のQFN
の内部構造を示す図であり、(a)は樹脂封止部と半導
体チップを透過して内部構造を示す平面図、(b)は
(a)のF−F線に沿った断面図、(c)は(a)のG
−G線に沿った断面図である。
【図7】(a),(b),(c)は本発明の変形例のQFN
の内部構造を示す図であり、(a)は樹脂封止部と半導
体チップを透過して内部構造を示す平面図、(b)は
(a)のH−H線に沿った断面図、(c)は(a)のI
−I線に沿った断面図である。
【図8】(a),(b),(c)は本発明の変形例のQFN
の内部構造を示す図であり、(a)は樹脂封止部と半導
体チップを透過して内部構造を示す平面図、(b)は
(a)のJ−J線に沿った断面図、(c)は(a)のK
−K線に沿った断面図である。
【図9】本発明の変形例のQFNにおける樹脂封止部と
半導体チップを透過して内部構造を示す平面図である。
【符号の説明】
1 リードフレーム 1a リード 1b 被実装面(一部) 1c ワイヤ接合側端部 1d ワイヤ接合部 1e タブ 1f 枠部 1g ガイド用長孔 1h 位置決め孔 1i チップ支持面 1j 裏面 1k めっき阻止用ダム部 1l タブ吊りリード 1m 隙間 1n 側面 1p 溝部(凹部) 1q 窪み(凹部) 1r 突出部 2 半導体チップ 2a 表面電極 2b 主面 2c 裏面 3 樹脂封止部 3a 裏面(半導体装置実装側の面) 3b 側部樹脂部 3c 溝部内樹脂部(凹部内樹脂部) 4 ワイヤ 5 ペ付け材 6 銀めっき 7 QFN(半導体装置)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 冨原 誠一 北海道亀田郡七飯町字中島145番地 日立 北海セミコンダクタ株式会社内 Fターム(参考) 5F067 AA01 AA04 AB04 BD05 BE02 DA16 DC12 DC13 DC16 DC17 EA02 EA04

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するチップ支持面と、この面の反対
    側の裏面と、前記チップ支持面および前記裏面に接する
    側面とを有し、前記側面に開口する凹部が前記裏面に形
    成されたタブと、 前記タブの周囲に配置され、前記タブの周囲から外部に
    向かって延在する複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとを接続するボンディング用の複数のワイヤと、 前記半導体チップおよび前記ワイヤを封止し、前記タブ
    の側面側に配置される側部樹脂部と前記凹部内に配置さ
    れる凹部内樹脂部とを有するとともに、前記側部樹脂部
    と前記凹部内樹脂部とが一体に形成された樹脂封止部と
    を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するチップ支持面と、この面の反対
    側の裏面と、前記チップ支持面および前記裏面に接する
    側面とを有し、前記側面に開口する凹部が前記裏面を均
    等な領域に分割するように前記裏面に形成されたタブ
    と、 前記タブの周囲に配置され、前記タブの周囲から外部に
    向かって延在する複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとを接続するボンディング用の複数のワイヤと、 前記半導体チップおよび前記ワイヤを封止し、前記タブ
    の側面側に配置される側部樹脂部と前記凹部内に配置さ
    れる凹部内樹脂部とを有するとともに、前記側部樹脂部
    と前記凹部内樹脂部とが一体に形成された樹脂封止部と
    を有することを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するチップ支持面と、この面の反対
    側の裏面と、前記チップ支持面および前記裏面に接する
    側面とを有し、前記側面に開口する溝部が前記裏面に格
    子状に形成されたタブと、 前記半導体チップを封止し、前記タブの側面側に配置さ
    れる側部樹脂部と前記凹部内に配置される凹部内樹脂部
    とを有するとともに、前記側部樹脂部と前記凹部内樹脂
    部とが一体に形成された樹脂封止部と、 前記タブの周囲に配置され、一部が前記樹脂封止部の半
    導体装置実装側の面の周縁部に露出して配置された複数
    のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとを接続するボンディング用の複数のワイヤとを有す
    ることを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】 樹脂封止形の半導体装置であって、 半導体チップを支持するチップ支持面と、この面の反対
    側の裏面と、前記チップ支持面および前記裏面に接する
    側面とを有し、前記側面に開口する凹部が前記裏面に形
    成されたタブと、 前記タブの周囲に配置され、前記タブの周囲から外部に
    向かって延在する複数のリードと、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとを接続するボンディング用の複数のワイヤと、 前記半導体チップおよび前記ワイヤを封止し、前記タブ
    の側面側に配置される側部樹脂部と前記凹部内に配置さ
    れる凹部内樹脂部とを有するとともに、前記側部樹脂部
    と前記凹部内樹脂部とが一体に形成された樹脂封止部と
    を有し、 前記タブの側面にこの面より突出する突出部が設けられ
    ていることを特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】 樹脂封止形の半導体装置の製造方法であ
    って、 半導体チップを支持可能なチップ支持面とこの面の反対
    側の裏面と前記チップ支持面および前記裏面に接する側
    面とを有するタブと、前記タブの周囲に設けられた複数
    のリードとを備え、前記タブの側面に開口する凹部が前
    記裏面に形成されたリードフレームを準備する工程と、 前記リードフレームの前記タブのチップ支持面と前記半
    導体チップとを接合する工程と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記リー
    ドとをボンディング用のワイヤによって接続する工程
    と、 前記リードの一部を露出させるとともに、前記タブの側
    面側に配置される側部樹脂部と前記凹部内に配置される
    凹部内樹脂部とを一体で形成して前記半導体チップおよ
    び前記ワイヤを樹脂封止して樹脂封止部を形成する工程
    と、 複数の前記リードおよび前記タブを前記リードフレーム
    の枠部から分離する工程とを有することを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
JP2001305501A 2001-10-01 2001-10-01 半導体装置およびその製造方法 Pending JP2003110079A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001305501A JP2003110079A (ja) 2001-10-01 2001-10-01 半導体装置およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001305501A JP2003110079A (ja) 2001-10-01 2001-10-01 半導体装置およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003110079A true JP2003110079A (ja) 2003-04-11

Family

ID=19125282

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001305501A Pending JP2003110079A (ja) 2001-10-01 2001-10-01 半導体装置およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003110079A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7964942B2 (en) 2003-05-28 2011-06-21 Yamaha Corporation Lead frame having a die stage smaller than a semiconductor device and a semiconductor device using the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7964942B2 (en) 2003-05-28 2011-06-21 Yamaha Corporation Lead frame having a die stage smaller than a semiconductor device and a semiconductor device using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6841854B2 (en) Semiconductor device
JP2003023134A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4091050B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH11195742A (ja) 半導体装置及びその製造方法とそれに用いるリードフレーム
JP2003309242A (ja) リードフレーム部材とリードフレーム部材の製造方法、及び該リードフレーム部材を用いた半導体パッケージとその製造方法
JP3470111B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置の製造方法
CN106876359A (zh) 引线架及其制造方法、半导体装置
JP4547086B2 (ja) 半導体装置
JP2004363365A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3502377B2 (ja) リードフレーム、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP3575945B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2003110079A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4066050B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2954108B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP3013810B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2006216993A (ja) 樹脂封止型半導体装置
JP2001077285A (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置の製造方法
JP4109995B2 (ja) 半導体装置
JP2009231322A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2001044351A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2007080889A (ja) 半導体装置
JP3891772B2 (ja) 半導体装置
JP2005135938A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH11233709A (ja) 半導体装置およびその製造方法ならびに電子装置
JP2001015669A (ja) リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法