JP2003110028A - データ処理装置 - Google Patents
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Abstract
く高速動作と低消費電力を両立させ、かつ動作中の消費
電力をきめ細かく制御する手段を提供する。 【解決手段】システムLSIに集積された各機能モジュ
ールの基板バイアスを互いに独立に生成する基板バイア
ス発生回路と、該基板バイアス発生回路を制御する基板
バイアス制御回路と、該基板バイアス発生回路への制御
値を格納する基板バイアス制御値格納部を備え、前記基
板バイアス制御値格納部の内容を所定の操作により設定
する。
Description
し、特にCMOS技術を利用した半導体装置から構成さ
れる半導体データ処理装置に関する。
した携帯情報機器市場が拡大しており、これらの機器を
小型かつ安価に提供するため、より高性能・高機能で低
消費電力のデータ処理装置が求められている。半導体微
細加工技術の発展を背景に、高速動作するより多くのト
ランジスタを単一チップ上に集積することが可能にな
り、単一チップ上で機能モジュールを組み合わせてシス
テムを構成するシステムLSIが高性能・高機能化に対
する現実的な選択肢となりつつある。
LSI全体を低電源電圧化するのが有効であるが、高速
動作を維持するため電源電圧の低下に応じてMOS型F
ETのしきい電圧を下げるとトランジスタが完全にはオ
フしなくなり、いわゆるサブスレッショルド電流が増大
するという問題が生じる。これはシステムLSIの動作
状態、スタンバイ状態によらず消費電力が増大すること
に相当し、とりわけ電池駆動のデータ処理装置において
は、駆動時間延長のためサブスレッショルド電流による
電力消費を削減することが重要な課題となっている。
電力を両立させるための手段として、例えば特開平8−
204140号公報(以下、第1の従来技術とする)が
開示されている。以下本特開平で提案されている内容の
概要を示す。LSIの動作時にはN型MOSトランジス
タのP型領域を接地電位より高くかつPN接合の順方向
電圧より低い電圧にバイアスする。P型MOSトランジ
スタのN型領域は電源電圧より低くかつ電源電圧からP
N接合の順方向電圧を減じた電圧より高い電圧にバイア
スする。これによりしきい電圧を下げて高速動作を可能
とする。さらに、スタンバイ時にはN型MOSトランジ
スタのP型領域を接地電位にバイアス、またP型MOS
トランジスタのN型領域を電源電圧にバイアスすること
でしきい電圧を上げてサブスレッショルド電流を低減す
るという方式である。
機能モジュールごとにバイアス電圧発生回路を備え、機
能モジュールの動作時にはMOSトランジスタのしきい
電圧を特定の電圧まで下げて高速動作を実現し、スタン
バイ時にはしきい電圧を特定の電圧まで上げることによ
りサブスレッショルド電流を低減することができる。本
技術では動作時のしきい電圧を設定するための基板バイ
アス電圧に任意性がある。一般に、しきい電圧を低下さ
せると動作速度が向上するが、同時に消費電力が増大す
る。動作時の消費電力を最小とするため、所望の動作速
度および動作速度マージンを達成する最も高いしきい電
圧となるように基板バイアス電圧を設定する必要があ
る。しかし、例えばこのバイアス電圧をバイアス電圧発
生回路によって固定値に設定する場合、低電源電圧時に
顕著なプロセスばらつきに起因するしきい電圧のばらつ
きにより、設定値によっては最高動作周波数の低下や、
サブスレッショルド電流の増加による消費電力の増大に
より、チップの歩留まりが極端に低下するという問題が
ある。そのため、システムLSIにはチップごと、機能
モジュールごとに最適な基板バイアスを設定する手段を
備えることが望ましい。
下、第2の従来技術とする)では、主回路の基板バイア
スと基板バイアスを共有する基板バイアス依存型の発振
回路と、動作モードによって発振周波数が変化する発振
回路を接続し、2つの発振回路の発振出力を用いて基板
バイアス制御回路によって両発振出力が同期するように
比較制御することにより、主回路の基板バイアスを動作
周波数に応じて最適に制御する方式が提案されている。
た基板バイアス依存型発振回路の出力を、該機能モジュ
ールの動作クロックに対応する入力クロックに同期させ
ることで、動作クロックに応じて一意に決定される最適
な基板バイアス電圧を得ることができる。しかしなが
ら、例えば機能は同一だが互いに動作周波数マージンが
異なるシステムLSIを実現する場合、本技術では必要
とされるマージンに応じて基板バイアス依存型発振回路
を再設計する必要があるという問題がある。
は、MOSトランジスタで構成されるシステムLSIに
おいて、歩留まりを低下させることなく高速動作と低消
費電力を両立させ、かつ動作中の消費電力をきめ細かく
制御できるシステムLSIを提供することである。
に起因するシステムLSI間の動作周波数および消費電
力のばらつきを補償し、歩留まりを向上させる手段を提
供することである。
ムLSIから任意の動作周波数マージンをもつシステム
LSIを実現する手段を提供することである。
一般に特定のデータ処理速度および利用率の異なる2つ
以上の機能モジュールから構成される。機能モジュール
とは、特に限定はしないが、例えばCPU、FPU、D
SP、キャッシュメモリ、バスステートコントローラ、
リアルタイムクロック、タイマ、通信インタフェース、
AD変換器、DA変換器、デジタル回路、アナログ回路
などであり、各機能モジュールが内部でさらに複数のサ
ブモジュールに分割されていてもよい。この構成上の特
徴から、システムLSIの低消費電力化のためには、機
能モジュールごとにきめ細かな電力管理を行うことによ
り不要な電力消費を削減することが重要である。
ムLSIは各機能モジュールの基板バイアスを互いに独
立に発生する基板バイアス発生回路と、基板バイアス発
生回路を制御する基板バイアス制御回路と、基板バイア
ス制御回路への制御値を格納する基板バイアス制御値格
納部を備えることを特徴とする。
れぞれ動作状態およびスタンバイ状態の少なくとも2つ
の動作モードをもち、該機能モジュールの基板バイアス
は、動作状態においては前記不揮発性メモリまたはレジ
スタに格納された制御値に対応した値に制御され、スタ
ンバイなどの低消費電力状態においては該不揮発性メモ
リまたはレジスタの制御値に対応しない所定の値に制御
されることを特徴とする。
機能モジュールのディレイを測定するディレイ測定回路
を備え、該ディレイ測定回路による該機能モジュールの
ディレイテスト結果を用いて、前記不揮発性メモリまた
はレジスタの格納値を決定する処理を含むことを特徴と
する。
との通信インタフェースを備え、該通信インタフェース
を介した所定の手続きにより、特に限定はしないが前記
機能モジュールの基板バイアス・動作モード・クロック
供給制御および初期化、前記不揮発性メモリまたはレジ
スタの検査および初期化、各機能モジュールのディレイ
測定、基板バイアス発生回路への制御値の計算、該制御
値の基板バイアス制御値格納部への格納、インタフェー
ス回路を通した基板バイアス制御値格納部に格納されて
いる内容およびディレイ測定結果の読み出しなどの処理
動作を指示することを特徴とする。
基板バイアス制御値格納部として少なくとも不揮発性メ
モリまたはレジスタを備え、該不揮発性メモリまたは該
レジスタのいずれかに格納された制御値により該機能モ
ジュールに対応した基板バイアスが制御され、該機能モ
ジュール各々に与えられることを特徴とする。
の命令を実行することにより、前記不揮発性メモリまた
はレジスタを読み書き可能であり、前記レジスタに格納
された制御値を不揮発性メモリに格納し、または所定の
手続きにより前期不揮発性メモリに格納された制御値を
前記レジスタに格納することが可能であり、ソフトウエ
アにより柔軟な消費電力管理を実現することを特徴とす
る。
モジュールのクロック信号を互いに独立に生成するクロ
ック発振回路を備え、各機能モジュールのクロック信号
の周波数は各機能モジュールの基板バイアス値に対応し
た周波数に制御されることを特徴とする。
態の機能モジュールにはあらかじめレジスタまたは不揮
発性メモリなどからなる基板バイアス制御値格納部に格
納された基板バイアス制御値を用いてチップごとに最適
な基板バイアス電圧を供給することで、動作周波数マー
ジンを任意に設定しつつ高速動作を実現する。またスタ
ンバイ状態など低消費電力状態の機能モジュールには基
板バイアス制御値格納部に格納された制御値とは異なる
所定の制御値を用いてMOSトランジスタのスレッショ
ルド電圧を上げるような基板バイアス電圧を供給するこ
とで、サブスレッショルド電流を低減し消費電力を抑え
ることができる。
モジュール制御回路を制御することにより、個々のシス
テムLSIごとに、各機能モジュール内に備えたディレ
イ測定回路を用いてディレイを測定する。その測定結果
に基づき不揮発性メモリをプログラムすることにより、
製造プロセスのばらつきによるMOSトランジスタの特
性ばらつきを補償した基板バイアス制御を実現でき、チ
ップの歩留まりを向上させることができる。
システムLSIの実施例を説明する。
例におけるシステムLSIのブロック図を示す。図1に
おいて、100は本発明のシステムLSIであり、11
0は外部バス120と内部バス121をインタフェース
するバスインタフェースである。200〜201は2つ
以上の機能モジュールであり、特に限定はしないが、例
えばCPU、FPU、DSP、キャッシュメモリ、バス
ステートコントローラ、リアルタイムクロック、タイ
マ、通信インタフェース、AD変換器、DA変換器、デ
ジタル回路、アナログ回路などである。ちなみにこれら
は、内部バス121により相互に、またバスインタフェ
ース110を介してシステムLSI100外部と接続さ
れる。
200〜201のディレイを測定するディレイ測定回路
であり、ディレイ測定回路制御インタフェース220〜
221からディレイ測定開始信号を受け、所定のディレ
イ測定を実行し、ディレイ測定結果を1ビット以上のデ
ジタル値もしくはアナログ値としてディレイ測定回路制
御インタフェース220〜221に出力する。
200〜201の動作モードを制御する動作モード制御
インタフェースであり、特に限定しないが、該機能モジ
ュールが動作状態またはスタンバイなど低消費電力状態
のいずれの動作モードであるかを識別する動作モード信
号を含む。
200〜201の基板バイアスを出力する基板バイアス
発生回路である。1ビット以上のデジタル値もしくはア
ナログ値の基板バイアス制御信号410〜411から一
意に決定される基板バイアス電圧310n〜311n、
310p〜311pをそれぞれ該機能モジュールを構成
するP型MOSトランジスタのN型ウェル、N型MOS
トランジスタのP型ウェルへ供給する。
システムLSI100外部との通信インタフェース50
0、または図示しないシステムLSI内部からの要求信
号に基づき、特に限定はしないが、ディレイ測定回路制
御インタフェース220〜221によるディレイ測定お
よび測定結果の収集、動作モード制御インタフェース2
30〜231による各機能モジュールの動作モード設定
および動作モード収集、基板バイアス制御信号410〜
411に所定の制御値を出力することによる各機能モジ
ュールの基板バイアス制御を行う。
された通信制御回路であり、通信インタフェース500
上のコマンドを所定の手続きに従って解釈し、特に限定
はしないが、システムLSI100が例えばチップ検査
モードなどの特定のチップモードにあることを示すチッ
プモード信号424、およびコマンド解釈結果に基づき
機能モジュール制御回路400を構成する各制御回路と
の間で所定の信号を授受する制御インタフェース421
をもつ。
はレジスタ440および不揮発性メモリ450の読み書
きおよび検査、各機能モジュールのディレイ測定とその
結果出力など、基板バイアスの校正に係る操作を含む。
422は機能モジュール制御回路400内のレジスタ制
御回路430と基板バイアス制御回路460の間の制御
インタフェースであり、所定の制御信号およびデータを
授受する。
の動作モード制御回路470と基板バイアス制御回路4
60の間の制御インタフェースであり、所定の制御信号
およびデータを授受する。430は基板バイアス制御値
格納部であり、内部バス121および制御インタフェー
ス421、422からの所定の制御信号およびデータに
応答し、レジスタ440および不揮発性メモリ450に
対するアクセス制御およびテストを行う。
気的消去可能なプログラマブルROM(EEPROM)
や、1回のみ書き込み可能なROM(OTPROM)な
どが、当該データ処理装置の機能や用途などによって用
いられる。
御インタフェース422から読み出したレジスタ440
の内容、および制御インタフェース423から読み出し
た各機能モジュール200〜201の動作モード信号の
状態をもとに、基板バイアス発生回路300〜301へ
の基板バイアス制御信号410〜411を出力する。ま
た、各機能モジュール200〜201内のディレイ測定
回路210〜211により、各機能モジュールのディレ
イを該機能モジュールの基板バイアスを所定の手続きに
より変化させながら測定し、あらかじめ定められた目標
ディレイとの大小を比較し比較結果を生成するととも
に、特に限定はしないが、制御インタフェース421上
の制御信号に基づき、前記比較結果を制御インタフェー
ス421に出力、あるいは不揮発性メモリ450の内容
を更新する。
以下のタイミングで1回以上、各データ処理装置毎に行
われる。 データ処理装置のパッケージ封止後、またはバーンイ
ン後に実行される データ処理装置のパワーオン時に自動的に実行される 所定の命令を実行することにより実行される 通信インタフェースを介した所定の手続きにより実行
される 470は動作モード制御回路であり、機能モジュール2
00〜201の動作モードを制御する動作モード制御イ
ンタフェース230〜231上の動作モード情報を収集
するとともに、制御インタフェース423を介して基板
バイアス制御回路460に出力する。
ェース421または図示しないシステムLSI100内
部からの要求に基づき、動作モード制御インタフェース
230〜231を介して、特定の機能モジュールが動作
状態あるいはスタンバイなどの低消費電力状態に遷移す
るように制御する。
システムLSI100外部との通信インタフェースであ
り、所定の手続きにより機能モジュール制御回路400
の動作を制御する。
ジスタ440および不揮発性メモリ450の構成図を示
す。441〜442はそれぞれ機能モジュール200〜
201の基板バイアス設定フィールドであり、それぞれ
基板バイアス電圧と一対一に対応するビット幅1以上の
デジタル値を格納する。
特定アドレスへのロード・ストア命令または専用命令を
実行することにより読み書き可能であり、各機能モジュ
ールの基板バイアスをソフトウエアで制御できる。ま
た、システムLSI100の電源投入時には、特に限定
はしないが、各機能モジュール200〜201が所定の
動作周波数マージンをもち、最小の消費電力かつ仕様上
の最高動作周波数で動作可能となる値に初期化される。
200〜201の基板バイアス設定フィールドであり、
特に限定はしないが、各機能モジュールが所定の動作周
波数マージンをもち、最小の消費電力かつ仕様上の最高
動作周波数で動作可能となる基板バイアス電圧と一対一
に対応するビット幅1以上のデジタル値を格納する。不
揮発性メモリ450は、特に限定はしないが、チップ検
査モードなどの特定のチップモード下でのみ読み書き可
能である。
板バイアス設定フィールドに格納された基板バイアス制
御信号の制御値と基板バイアス電圧との関係を示す。R
0は基板バイアス制御信号の制御値の設定可能範囲であ
り、C1は制御値の下限、C2は制御値の上限、V1は
制御値C1に対する基板バイアス電圧、V2は制御値C
2に対する基板バイアス電圧である。特に限定はしない
が、前記V1およびV2はN型ウェル、P型ウェルに対
してそれぞれ異なる好適な値をとる。
〜442および451〜452に格納される制御値は、
特定の基板バイアス電圧に対して同一である必要はな
く、制御値と基板バイアス電圧が一対一に対応していれ
ばよい。例えば、基板バイアス設定フィールド441〜
442のビット幅は基板バイアス設定フィールド451
〜452のビット幅より狭くてもよい。
0の動作を説明する。
が存在する。
らの所定の入力により、製品検査時のみ遷移可能なモー
ドである。通信インタフェース500を介して各機能モ
ジュール200〜201のディレイを測定する。各機能
モジュール200〜201の基板バイアスがそれぞれ仕
様上要求される最高動作周波数および動作周波数マージ
ンを満たしかつ消費電力が最小となるように、不揮発性
メモリ450の基板バイアス設定フィールド451〜4
52に好適な制御値をプログラム可能かどうか判定す
る。前記好適な制御値がプログラム可能な場合にはプロ
グラムするとともに、システムLSI100の動作につ
いて所定の検査を実施する。
らの所定の入力、所定の命令の実行、または電源投入ご
とに自動的に遷移可能なモードである。通信インタフェ
ース500を介さずに各機能モジュール200〜201
の基板バイアスがそれぞれ仕様上要求される最高動作周
波数および動作マージンを満たしかつ消費電力が最小と
なるように、不揮発性メモリ450の基板バイアス設定
フィールド451〜452に好適な制御値をプログラム
するとともに、システムLSI100について所定の校
正を実施する。また、特に限定はしないが、チップ校正
モードにおいて実行可能な機能は前記チップ検査モード
において実行可能な機能に対して制限されていてもよ
い。
〜201に関して、該機能モジュールが仕様上の最高動
作周波数で動作可能な状態であり、基板バイアスを制御
するレジスタ440内にある該機能モジュールの基板バ
イアス設定フィールドの制御値は、例えば不揮発性メモ
リ450内にある該機能モジュールの基板バイアス設定
フィールドの制御値と同一の値、または不揮発性メモリ
450内にある該機能モジュールの基板バイアス設定フ
ィールドの制御値に変換可能な値をとる。
0〜201に関して、該機能モジュールが仕様上の最高
動作周波数より低周波数で動作可能である、または動作
を停止することにより通常動作モード時より消費電力の
削減された状態であり、該機能モジュールの基板バイア
スを制御するレジスタ440内にある基板バイアス設定
フィールドの制御値は、例えば不揮発性メモリ450内
にある該機能モジュールの基板バイアス設定フィールド
の制御値に対して該機能モジュールのしきい電圧が大き
くなる方向に異なる値、または不揮発性メモリ450内
にある該機能モジュールの基板バイアス設定フィールド
の制御値に対して該機能モジュールのしきい電圧が大き
くなる方向に異なる値に変換可能な値をとる。また、該
機能モジュールが動作モード制御インタフェース230
〜231上でスタンバイ状態を示す場合は、基板バイア
ス設定フィールドの制御値によらずしきい電圧が最大と
なる制御値、またはしきい電圧が最大となる制御値に変
換可能な値をとる。
ドであるか、非チップ検査モード・チップ校正モードで
あるかはチップモード信号424により識別する。ま
た、通常動作モードおよびモジュールスタンバイ状態を
除く低消費電力モードであるか、モジュールスタンバイ
状態であるかは動作モード制御インタフェース230〜
231により識別する。
モジュール200〜201は、内部バス121により相
互に、またバスインタフェース110を介して外部バス
120と接続され、内部バス121から入力される命令
列などの所定の手続きに従い、データ演算、データ転送
などの処理を行う。
は、CPU、FPU、DSP、キャッシュメモリ、バス
ステートコントローラ、リアルタイムクロック、タイ
マ、通信インタフェース、AD変換器、DA変換器、デ
ジタル回路、アナログ回路などである。但し、一般的に
それぞれのモジュールに要求される最大の処理性能は異
なり、また要求される処理内容と処理時間に応じて処理
に必要とされる動作周波数は時間的に変化する。
アスをソフトウエアによりきめ細かく制御することによ
り、命令実行時における動的な処理性能と消費電力の制
御を図る。また、製造プロセスの微細化によるプロセス
ばらつきに起因する製造歩留まりの低下をチップ毎、機
能モジュール毎に基板バイアスの設定値を変化させるこ
とにより補償し、製造歩留まりの向上を図る。
I100の動作を説明する。
ードにおけるシステムLSI100の動作を説明する。
これらの動作モードにおいて、各機能モジュール200
〜201の基板バイアス電圧は、それぞれレジスタ44
0内にある該機能モジュールの基板バイアス設定フィー
ルドにより決定される。レジスタ440は、特に制限は
しないが、例えばシステムLSI100への電源投入、
リセットなどの所定の手続きにより不揮発性メモリ45
0と同一の値、または不揮発性メモリ450の値に変換
可能な値に初期化される。
板バイアス発生回路への基板バイアス制御信号の制御値
と、該機能モジュールの最高動作周波数との関係を示
す。チップ1、チップ2はプロセスばらつきにより互い
に周波数特性の異なるシステムLSI、R0は基板バイ
アス制御信号の設定可能範囲、F0は該機能モジュール
の仕様上の最高動作周波数、C1、C2はそれぞれ制御
値の下限および上限、C10、C20はそれぞれチップ
1、チップ2が仕様上の最高動作周波数で動作するため
に必要な基板バイアス制御信号の制御値を示す。
0内にある該機能モジュールの基板バイアス設定フィー
ルドには、基板バイアス制御信号の制御値としてそれぞ
れC10、C20が設定されているものとする。また、
C3は動作モード制御インタフェースにより該機能モジ
ュールがスタンバイ状態であるときの基板バイアス制御
信号の制御値であり、設定可能範囲R0のうち該機能モ
ジュールのしきい値が最も高く、最高動作周波数が最も
低い制御値であるC1と一致する。
ある該機能モジュールの基板バイアス設定フィールドに
は、基板バイアス制御値として、例えば設定可能範囲R
0のうちそれぞれC3〜C10、C3〜C20の範囲の
制御値のみ設定可能である。従って、レジスタ440へ
の書き込み命令を実行するなどの所定の手段により前記
範囲外の制御値が設定要求された場合は、レジスタ制御
回路430の動作により前記設定要求は無視される。な
お、ソフトウエアによる基板バイアス制御を簡易にする
ため、図5に示すように、チップ1、チップ2の設定可
能範囲C3〜C10、C3〜C20のうち、制御値C1
0およびC20から所定の演算により計算される代表
値、すなわちチップ1においてはC10、C11、C1
2、チップ2においてはC20、C21、C22を定義
し、前記代表値を選択するコードをレジスタ440内の
基板バイアス制御値として利用してもよい。
路440内で所定の手続きにより基板バイアス制御信号
の制御値に変換され、制御インタフェース422により
基板バイアス制御回路460に転送される。
動作モード情報は動作モード制御インタフェース230
〜231により動作モード制御回路470に集約され、
続いて制御インタフェース423を介して基板バイアス
制御回路460に転送される。基板バイアス制御回路4
60は、それぞれ機能モジュール200〜201の基板
バイアスを発生させる基板バイアス発生回路300〜3
01に対して、前期制御インタフェース422、423
により転送される基板バイアス制御信号の制御値および
動作モード情報から例えば以下のように生成した基板バ
イアス制御信号410〜411を出力する。すなわち、
各モジュール200〜201について、該モジュールの
動作モード情報がスタンバイ状態を要求しない場合に
は、該モジュールの基板バイアスを発生させる基板バイ
アス発生回路への基板バイアス制御信号として制御イン
タフェース422から転送された制御値を出力する。
イ状態を要求する場合には、該モジュールの基板バイア
スを発生させる基板バイアス発生回路への基板バイアス
制御信号として制御インタフェース422から転送され
た制御値とは異なり、設定可能な制御値のうち該機能モ
ジュールのしきい値が最も高くなる制御値を出力する。
続いて、図6を用いてチップ検査モード、校正モードに
おけるシステムLSI100のチップ検査・校正動作フ
ローを説明する。
連の手続きを通信インタフェース500により逐次的、
または自動的に、もしくは基板バイアス回路460によ
り自動的に実行することにより、不揮発性メモリ450
に格納される各機能モジュール200〜201の基板バ
イアス制御に必要な制御値を決定し、その内容を更新す
ることができる。
〜201のうち基板バイアスを制御すべきモジュールの
数であり、システムLSI100に集積される機能モジ
ュール数以下の整数である。
からシステムLSI100への所定の入力、電源投入、
によりそれぞれチップ検査モード、チップ校正モードへ
の遷移が発生(S100,S101)し、チップモード
信号424は所定の値を示す。この状態において、
(1)通信制御回路420による通信インタフェース5
00上の所定のコマンドをデコード、または(2)校正
動作を指示する命令を実行することにより、システムL
SI100はチップ検査・校正動作動作を開始(S11
0、S120)する。なお、所定のモード遷移要求、チ
ップ検査・校正動作要求がない場合はチップ検査・校正
に係る動作は行われない(S130)。
機能モジュールk(kは1からNまでの整数)ごとに通
信インタフェース500上のコマンドに従い、または前
記校正動作を指示する命令実行を受け自動的に、以下の
処理が実行される。
ジュールkの基板バイアス発生回路を制御する制御値と
して、例えば機能モジュールkのしきい値が最も高くな
る値、すなわち図4におけるC3に対応する値を設定
(S140)したのち、ディレイ測定回路制御インタフ
ェースを介してディレイ測定回路を起動し、測定結果を
1ビット以上のビット幅のデジタル値、またはアナログ
値として前記ディレイ測定回路制御インタフェースから
収集(S150)する。ディレイ測定結果が所定の目標
ディレイおよび目標ディレイマージンを満足する場合、
現在の制御値を機能モジュールkの基板バイアス発生回
路への制御値として決定し、機能モジュール(k+1)
に対するチップ検査・校正動作フローへ移行(S16
0、S170、S171)する。
よび目標ディレイマージンを満たさない場合、機能モジ
ュールkのしきい値がより低くなりかつチップが熱破壊
しない安全な範囲で、基板バイアス発生回路への制御値
を規定量変化(S180、S181)させ、再度ディレ
イ測定を行う。N個の機能モジュールすべてについて基
板バイアス発生回路の制御値を決定できた場合は、不揮
発性メモリ450の内容を更新(S172)し、例えば
制御インタフェース421、通信制御回路420および
通信インタフェース500を介し、所定の手続きにより
基板バイアス制御に係る回路の動作が正常である旨を通
知(S173)する。
イ測定結果が所定の目標ディレイおよび目標ディレイマ
ージンを満足せず、かつチップが熱破壊しない安全な範
囲で基板バイアス発生回路への制御値を決定できない場
合は、不揮発性メモリ450の内容を更新せず、チップ
検査・校正動作を中止し、例えば制御インタフェース4
21、通信制御回路420および通信インタフェース5
00を介し、所定の手続きにより基板バイアス制御に係
る回路の動作が異常である旨を通知(S182)する。
なお、チップ検査・校正結果は、制御インタフェース4
21、通信制御回路420および通信インタフェース5
00によらず、システムLSI100内部に設けられた
所定のレジスタ(図1には図示せず)に格納してもよ
い。
通常動作時における熱破壊を防止するため、システムL
SI100のチップ温度測定手段、あるいは消費電流測
定手段(図1には図示せず)をシステムLSI100内
部または外部のいずれかに設けてもよい。
り、チップを熱破壊することなく、最小限の消費電力で
動作し、目標ディレイおよび目標ディレイマージン、す
なわち仕様上の最高動作周波数および動作周波数マージ
ンを満たすように、各システムLSIの機能モジュール
の基板バイアスを設定することができる。さらに、本フ
ローをチップ検査時、特にチップのパッケージ封止後ま
たはバーンイン後に各システムLSIについて適用する
ことにより、チップ製造時のプロセスばらつきを補償
し、製造歩留まりを向上させることができる。
例におけるレジスタ440および不揮発性メモリ450
の構成図を示す。なお、本第2の実施例におけるシステ
ムLSIのブロック図は、図1と同一である。図7にお
いて、441〜442はそれぞれ機能モジュール200
〜201の基板バイアス制御コード設定フィールドであ
り、ビット幅1以上のデジタル値を格納する。レジスタ
440は特定アドレスへのロード・ストア命令または専
用命令を実行することにより読み書き可能であり、シス
テムLSIチップ100の電源投入時には、特に限定は
しないが、機能モジュール200〜201がそれぞれ仕
様上の最高動作周波数で動作可能となる値に初期化され
るという、第1の実施例と同一の特徴を備える。
における不揮発性メモリ450を、前記基板バイアス制
御コードと一対一に対応するよう拡張した複数の不揮発
性メモリであり、451−1〜451−2はそれぞれ不
揮発性メモリ450−1〜450−2の機能モジュール
200に対する基板バイアス制御値、452−2〜45
2−2はそれぞれ不揮発性メモリ450−1〜450−
2の機能モジュール201に対する基板バイアス設定値
である。
−2は4本の不揮発性メモリから構成され、それぞれ全
機能モジュールが最高動作周波数で動作可能となる設定
値、全機能モジュールが最高動作周波数の2分の1で動
作可能となる設定値、全機能モジュールが最高動作周波
数の8分の1で動作可能となる設定値、および全機能モ
ジュールが最高動作周波数の32分の1で動作可能とな
る設定値が格納されており、第1の実施例におけるチッ
プ検査・校正動作フローを4回反復することで初期化さ
れている。不揮発性メモリ450−1〜450−2は、
特に限定はしないが、チップ検査モードなどの特定のチ
ップモード下でのみ読み書き可能であるという、第1の
実施例と同一の特徴を備える。
1〜450−2との対応関係は以下のとおりである。機
能モジュール200に関して、基板バイアス制御コード
441が第1の値のときは第1の不揮発性メモリ450
−1内の該機能モジュールに対応する基板バイアス設定
値451−1が選択され、基板バイアス制御コード44
1が第2の値のときは第2の不揮発性メモリ450−2
内の該機能モジュールに対応する基板バイアス設定値4
51−2が選択される。機能モジュール201に関して
も同様である。
50の容量およびチップ検査・校正動作手順が最小化さ
れているのに対し、本第2の実施例では、基板バイアス
制御コードと各機能モジュールの最大動作周波数との対
応づけにより、ソフトウエアで各機能モジュールの使用
率をもとに基板バイアス制御を行う際の制御性を向上さ
せていることを特徴とする。
例におけるシステムLSIのブロック図を示す。レジス
タ440および不揮発性メモリ450の構成は、図2に
示す第1の実施例または図7に示す第2の実施例のいず
れかと同一である。
施例との相違点は、基板バイアス発生回路を共通とし、
その基板バイアス発生回路を各機能モジュールの基板バ
イアスに対応した少なくとも1出力以上を可能とした回
路方式とした点にある。例えば、基板バイアス発生回路
の出力部を抵抗分圧などの簡便な多電圧出力回路方式で
構成する事により、基板バイアス発生回路を安価に実現
できる。
例におけるシステムLSIのブロック図を示す。レジス
タ440および不揮発性メモリ450の構成は、図2に
示す第1の実施例または図7に示す第2の実施例のいず
れかと同一である。
4の実施例との相違点は、各機能モジュールのクロック
信号490〜491を生成するクロック発振回路48
0、および基板バイアス制御回路460、クロック発振
回路480間の制御インタフェース425が、機能モジ
ュール制御回路400内に追加されたことである。
インタフェース425を介して基板バイアス制御回路4
60と所定の協調動作を行う。すなわち、各機能モジュ
ールへ供給されるクロック信号490〜491の周波数
が、レジスタ440で設定され基板バイアス制御回路4
60により制御される基板バイアス下での最高動作周波
数以下の所定の周波数となるように制御される。
低消費電力状態にある機能モジュールについて、前記第
1、第2または第3の実施例に比較してさらなる消費電
力の削減が可能となる。
施例におけるシステムLSIのブロック図を示す。レジ
スタ440および不揮発性メモリ450の構成は、図2
に示す第1の実施例または図7に示す第2の実施例のい
ずれかと同一である。
違点は、基板バイアス発生回路300〜301を、機能
モジュール制御回路400の中の1回路として構成して
いる点にある。
施例におけるシステムLSIのブロック図を示す。レジ
スタ440および不揮発性メモリ450の構成は、図2
に示す第1の実施例または図7に示す第2の実施例のい
ずれかと同一である。
との相違点は、各機能モジュール200〜201に対応
して、機能モジュール制御回路400〜401を設けた
点にある。
ステムLSIチップを構成する各機能モジュールの基板
バイアスを互いに独立に制御できる基板バイアス発生回
路および基板バイアスをプログラムする手段を備えるこ
とにより、歩留まりを低下させることなく高速動作と低
消費電力を両立させ、かつ動作中の消費電力をきめ細か
く制御できる。
に起因するシステムLSIチップ間の最高動作周波数の
ばらつきを補償し、歩留まりを向上させるとともに、任
意の動作周波数マージンをもつシステムLSIを実現で
きる。
のブロック図である。
不揮発性メモリの構成図である。
アス電圧との関係図である。
ュールの最高動作周波数との関係図である。
バイアス制御値との関係図である。
である。
不揮発性メモリの構成図である。
のブロック図である。
のブロック図である。
Iのブロック図である。
Iのブロック図である。
ス、 230〜231:動作モード制御インタフェース、 300〜301:基板バイアス発生回路、 310p〜311p:P型ウェルへの基板バイアス電
圧、 310n〜311n:N型ウェルへの基板バイアス電
圧、 400:機能モジュール制御回路、 410〜412:基板バイアス制御信号、 410A、411B:基板バイアス制御信号、 420:通信制御回路、 421〜423A、423B:制御インタフェース、 424:チップモード信号、 425、425A、425B:制御インタフェース、 430:レジスタ制御回路、 440:レジスタ、 450:不揮発性メモリ、 460:基板バイアス制御回路、 470:動作モード制御回路、 480:クロック発振回路、 490〜491:クロック信号、 500:通信インタフェース。
Claims (7)
- 【請求項1】それぞれ所定の処理を行う複数個の機能モ
ジュールと、該機能モジュールの基板バイアスを互いに
独立に発生する基板バイアス発生回路と、該基板バイア
ス発生回路を制御する基板バイアス制御回路と、該機能
モジュール毎に基板バイアスを独立に制御するために必
要な制御値を格納する基板バイアス制御値格納部を備
え、該基板バイアス制御値格納部に格納された該機能モ
ジュールに対応した制御値により該機能モジュールに対
応した基板バイアスが制御されることを特徴とするデー
タ処理装置。 - 【請求項2】前記各機能モジュールはそれぞれ動作状態
およびスタンバイ状態の少なくとも2つの動作モードを
もち、該機能モジュールの基板バイアスは、動作状態に
おいては前記基板バイアス制御値格納部に格納された制
御値に対応した値に制御され、スタンバイ状態において
は該基板バイアス制御値格納部に格納された制御値には
対応しない所定の値に制御され、スタンバイ状態におけ
る該機能モジュールの消費電力は動作状態における該機
能モジュールの消費電力より小さいことを特徴とする、
請求項1に記載された半導体データ処理装置。 - 【請求項3】前記各機能モジュールは該機能モジュール
のディレイを測定するディレイ測定回路を備え、該ディ
レイ測定回路による該機能モジュールのディレイテスト
結果を用いて、前記基板バイアス制御値格納部に格納す
る制御値を決定する処理を含むことを特徴とする、請求
項1から請求項2のいずれかに記載されたデータ処理装
置。 - 【請求項4】前記基板バイアス制御値格納部に格納する
制御値及び格納されている制御値の読み書きを含む所定
の処理を外部からの指示により実行するための通信イン
タフェースを備えることを特徴とする、請求項1から請
求項3のいずれかに記載されたデータ処理装置。 - 【請求項5】機能モジュール毎に基板バイアスを独立に
制御するために必要な制御値を格納する基板バイアス制
御値格納部として少なくとも不揮発性メモリまたはレジ
スタを備え、該不揮発性メモリまたは該レジスタのいず
れかに格納された該機能モジュールに対応した制御値に
より該基板バイアス制御回路にて制御され該基板バイア
ス発生回路より発生した該機能モジュールに対応した基
板バイアスが、該機能モジュール各々に与えられること
を特徴とする、請求項1から請求項4のいずれかに記載
された半導体データ処理装置。 - 【請求項6】所定の手続きにより前記レジスタに格納さ
れた制御値を不揮発性メモリに格納し、または所定の手
続きにより前記不揮発性メモリに格納された制御値を前
記レジスタに格納することを特徴とする、請求項5に記
載された半導体データ処理装置。 - 【請求項7】前記機能モジュールのクロック信号を互い
に独立に生成するクロック発振回路を備え、該機能モジ
ュールの該クロック信号の周波数は該機能モジュールの
基板バイアス値に対応した周波数に制御されることを特
徴とする、請求項1から請求項6のいずれかに記載され
たデータ処理装置。
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